TW474969B - Photopolymerizable composition - Google Patents
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經濟部中央標準局貝工消費合作社印裝 474969 A7 B7 五、發明説明(1 ) 發明昔晉 發明頜诚 本發明係關於一種可光聚合之組成物,其係改良由於 游離基被氧去活化所造成固化阻礙(h ί n d「a n c e 〇 f c n rM n g ) ,且其也具有特優可固化性,而且也關於一種藉由將組 成物曝露於可見雷射光而從組成物形成抗蝕圖(resist pattern)之方法° 先前抟jg夕敘沭 欲形成例如印刷線路板之導電線路,其係將光敏性光 阻塗覆在基材上,將所獲得之光阻薄膜加K曝光和顯影 K形成抗蝕圖,並將抗蝕圖加Μ蝕刻Μ移除基材之不必 要的部份。 上述之曝光是藉由例如經由光掩模(Photomask)曝光 或利用電射光直接繪圖(direct drawing)來進行。經由 光掩模曝光之難題是例如需要相當長時間用於光掩模之 定位,旦當光阻具有表面膠黏性時是不易將光掩模定位 的。 利用雷射光直接繪圖需要高度敏感性光阻,因為施用 雷射之時間非常短暫。因此,在光阻中藉由施用雷射所 產生的活性游離基是不會被空氣中的氧去活化,且光阻 可維持高敏感性,其通常是將光阻之表面以氧屏蔽層 (oxygen-shielding layer)(譬如一種遮蓋塗層或一種 遮蓋薄膜層)加以覆蓋。 本發明者根據欲開發一種可使用於利用可見雷射光直 -3- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
474969 A7 B7 五、發明説明(2 ) 接繪圖之光阻的觀點而進行研究工作,因為光阻施用雷 射所產生的活性游離基是幾乎不會被空氣中之氧去活化 ,且因而可維持光阻之敏感性。结果其發現上述目的是 可藉由讓光阻含有一種特殊的防護游離基(radical-protecting) 化合物 來達到 。根據 此發現 已經完 成本發 明。 發明摘沭 根據本發明係提供一種可光聚合之組成物,係含有至 一種防護游離基化合物選自一種磷酸酯化合物和一種具 有Ν,Ν-二甲基胺基鐽结到碳原子形成芳環之芳族化合物。 根據本發明,也提供一種形成抗蝕圖之方法,其係包 含在基材上形成一種製自上述可光聚合之組成物之光阻 薄膜,然後pattern-vise施用可見雷射光到光阻薄膜上 ,並將經可見雷射光曝光之光阻薄膜加K顯影。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 根據本發明,也提供一種形成抗蝕圖之方法,其係包 含在基材上形成一種製自上述可光聚合組成物之光阻薄 膜,在光阻薄膜上形成氧屏蔽層,然後pattern-wise胞 用可見雷射光經由氧屏蔽層到光阻薄膜上,並將經可見 雷射光曝光之光阻薄膜加K顯影。 發明註钿敘沭 本發明之可光聚合組成物(於此文在某些個例中是指 「光阻組成物」)可為在曝光(譬如可見雷射光)時固 化之任何負型光阻組成物,若本可光聚合組成物所包含 之防護游離基化合物是不包括在内。本組成物可為一種 -4- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 474969 A7 ____ B7 五、發明説明(3 ) 液態光阻或一種乾式薄膜光阻。 本光阻組成物之代表實例是藉由添加特定的防護游雛 基化合物到一種包含:具有在曝光時可交聯化题τ聚合的 光敏性基之光固化(photocuring)樹脂、對可見光有效 的聚合起始劑,和乙烯系(ethyleneically)不飽和化合 物(如果需要的話)之系統中所獲得者。 光固化樹脂之光敏性基包括:例如丙烯醯基(acryloyl) 、甲基丙烯醯基(methacryl〇yl)、肉桂醯基(cinnamoyl) 、烯丙基(allyl)、叠氮基(azido)和亞肉桂基 (cinnafflylidene)。光固化樹脂之較佳的分子量通常為 1,000至100,〇〇〇,較佳為3,000至50,000。光固化樹脂 之光敏性基之較佳的含量是0.2至5莫耳/公斤樹脂,特 佳為3—庄5莫耳/公斤樹脂。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 光固化樹脂之光敏性基較佳為丙烯醯基(aery 1^" & 甲基丙烯醯基q具有此等光敏性基之光固化樹脂是可11 由例如添加一種含縮水甘油Ulycidyl)基之可聚合不飽 和化合物(譬如甲基丙烯酸縮水甘油酯或丙烯酸縮 油酷)到一種具有高酸價(acid value)較'佳為約土 760 ,更佳為約1〇〇至700之含羧基樹脂中,以將 acryloy 1基或methacry l〇yl基到樹脂中。高酸價之胃西旨 包括:例如高酸價之丙烯酸樹脂和高酸價之聚醅樹8旨° 特佳為高酸價之丙烯酸樹脂。 對可見光有效的可光聚合之起始劑包括;例如>®# 有六芳基雙咪哇(hexaarylbisimidazole)與對 一 5 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) 474969 A7 B7 五、發明説明(4 ) 胺基笨亞甲基酮(p-dialkylaminobenzylidene ketone) 或二烷基胺基查耳嗣(dialkylarainochalcone)之組合 〔日本專利申請公開公報第1 5 529 2/ 1 9 7 9號(相對應於 美國專利第4,1 6 2 , 1 6 2號)〕,一種含有丨章腦匿 (c a m P h 〇 r <1 u i η ο n e )與杀料之組合〔日本專利申請公開 公報第84783/1973號(相對應於美國專利第3, 756, 827 號)〕,一種含有二苯基碘鏺鹽與米蚩(MichUr)酮之 組合(英國專利第A-2020297號),一種含有S-三嗪 (S-triazine)型化合物與部花青(merocyanine)染料之 組合(日本專利申請公開公報第1 5 1 024/ 1 979號),一 種含有S-三曉型化合物與Ϊ富喃鏺鹽(thiapyrylium salt) 之組合(日本專利申請公開公報第40 30 2/ 1 98 3號),一 種含有3 -苯并二氫呋喃酮(3-ketocoumarin)與二茂鈦 (t i t a η 〇 c e n e )化合物之組合〔日本專利申請公開公報第 1 0602/ 1 988號《相對應於歐洲專利第A-242 33 0號)〕, 一種含有如下列通式所代表之化合物:
經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) (其中R是一種低级二烷胺基(例如二乙胺基或其類似 基)、一種低级二烯胺基或一種脂環族胺基)與一種二 茂鈦(t i t a η 〇 c e n e )化合物之組合(日本專利申請公開公 報第239703/1991號),一種含有如下列通式所代表之 二院基胺基香豆素(dialkylaroinocoumarin)型敏化劑: -6- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 474969 A7 B7 五、發明説明(5
(其中可為相同或不同之R1和R2是各為低級烷基; R3昃氫原子、低级烷基、烷氧基、羥烷氧基或烷氧基 羰基烷基)與一種鐵-丙二烯(iron-allene)錯合物或一 種二茂鈦(t i t a η 〇 c e n e )化合物之組合〔日本專利申請公 開公報第223759/1991號(栢對應於美國專利第 5,045,434號)〕,一種含有如下列通式所代表之化合 物: (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
1 之代 R 原式 中碳通 其個列 ί 3 下 和 經濟部中央標準局員工消費合作社印製
至如 fll 1 種 有一 具為 種或 一) 為基 地似 固 鈦之 3茂合Μ ^ a 二組 一 上 與有 } 含 il 基種 似一 類及 其 , 或合 基組 甲之 如物 和譬合 9 {化 R 基e) 、烷en R8之OC 中子 a 其原it ί 碳(t 有 具 種1 為 地 立 獨 自 各 10 唑三 并 苯 如 譬 ( ο 物合 合組 化之 氮 } 含物 種fel 一 類 與其 或 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 474969 Α7 Β7 五、發明説明(6 ) 所使用聚合起始劑之適當的用量通常為0.1至10重量 份,特佳為0 . 5至5重量份(Μ全部光固化樹脂和如下所 述乙烯糸不飽和化合物之總量為基準)。 可選擇性地使用於本發明之乙烯系不飽和化合物是一 種具有至少1個,較佳為1至4個乙烯系不飽和雙鐽之 化合物,且其包括單體、二聚體、三聚體或其他寡聚合 體(oligomer)皆能藉由曝光而引起加成聚合作用,致使 光阻之曝光部份無法溶解。此等化合物之特定實例是丙 烯酸、甲基丙烯酸、二(甲基)丙烯酸乙二醇酯、二(甲 基)丙烯酸二乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸三乙二醇酯、 二(甲基)丙烯酸四至十六乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸丙 二醇、三(甲基)丙烯酸三羥甲基丙醇酯 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) [trimethylolpropane tri(ineth)acrylate]、四(甲基) 丙烯酸異戊四醇酯、二分解鳥頭酸乙二醇酯、二順丁烯 二酸乙二醇酯、二(甲基)丙輝酸氫匿醋[hydroquinone di(meth)acrylate]、二(甲基)丙_酸間苯二酷酯 [resorcinol di(meth)acrylate]、(甲基)丙婦酸五倍 子酿醋[pyrogallol (meth)acrylate]、寡丙婦酸胺基 甲酸醋(oligourethane acrylate)、寡丙稀酸環氧酯 (〇1丨8〇69〇¥7 30”13七6)和二乙婦基苯。在本說明書中 ,「(甲基)」丙烯酸酯是指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。 所使用乙烯系不飽和化合物之用量通常為200重量份 或更少,較佳為1至100重量份,更佳為3至50重量份 (Μ 1 0 0重量份之光固化光阻為基準)。乙烯系不飽和 -8 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210 X 297公釐) 474969 A7 B7 五、發明説明(7 ) 化合物可單獨使用或呈兩種或更多化合物之姐合來使用。 使用於本發明組成物之防護游雛基化合物係當薄膜曝 露於固化用之可見雷射光時,可阻礙由於氧而使得光阻 薄膜中所產生的游離基去活化,藉此致使光阻薄膜即使 在氧之存在下亦具有優良光敏性。在本發明中,使用作 為防護游離基化合物是選自:磷酸酯化合物和具有Ν,Ν-二甲基胺基鐽结到碳原子Μ形成芳環之芳族化合物的至 少一種化合物。 當可光聚合之組成物曝光時會產生游離基;然而在氧 之存在下,游離基會與氧反應形成過氧基游離基且此等 過氧基游離基分子通常會彼此反應,结果導致游離基去 活化。其時,當可光聚合組成物含有一種根據本發明之 防護游雛基化合物時,其可假定大多數的上述過氧基游 離基分子會與防護游離基化合物反應而形成不同的游雛 基,且此不同的游離基有助於光阻薄膜之固化反應;有 鑑於此本發明可光聚合組成物即使在氧之存在下也可維 持高度敏感性。 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 磷酸酯化合物之代表實例可為:亞磷酸二烷基(Ci-20) 酯、二芳酯或二芳烷基酯,例如亞磷酸二甲酯、亞磷酸 二乙酯、亞磷酸二丙酷、亞磷酸二丁酯、亞磷酸雙(2 -乙己基酯)、亞磷酸二苯酯、亞磷酸二苯甲酯及其類似 物;亞磷酸三烷基(Ci- 20)酯、三芳基酯或三芳烷基酯, 例如亞磷酸三甲酯、亞磷酸三乙酯、亞磷酸三異丙酯、 亞磷酸三丁酯、亞磷酸三月桂酯、亞磷酸三苯酯、亞磷 -9- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) 474969 A7 B7 五、發明説明(8 ) 酸三異癸酯、亞磷酸參(三癸基酯)及其類似物;亞磷酸 芳燒基(C ι-ίο )醋(aralkyl dialkyl (c 1—ίο )phosphites) ,例如亞磷酸苯甲基二乙酯及其類似物;和亞磷酸三 (鹵综基酯)[tri(haloalkyl)phosphites],例如亞鱗酸 參(2,2,2 -三氟乙基酯)、亞磷酸參(2 -氯乙基酯)及其類 似物。 具有N , N-二甲基胺基鐽结到碳原子K形成芳環之芳族 化合物的代表實例可為:Ν,Ν-二甲基苯胺衍生物,例如 Ν,Ν -二甲基苯胺、4-溴-Ν,Ν-二甲基苯胺、4-第三丁基-Η,Ν-二甲基苯胺、2, 6-二異丙基-Ν,Ν -二甲基苯胺、4,4’ -亞乙烯基雙(Ν,Ν-二甲基苯胺)、4,4’ _亞甲基雙(Ν,Ν- 二甲基苯胺)、4,41-亞甲基雙(2,6-二異丙基-Ν,Ν-二甲 基苯胺)、Ν,Ν,2,4,6 -五甲基苯胺、Ν,Ν -二甲基-間-甲 苯胺、4-(2-咐啶基偶氮)-Ν,Ν-二甲基苯胺、Η,Ν-二甲 基-4-硝基苯胺及其類似物。 在上述芳族化合物中,從彼等與光阻樹脂之相容性和 所獲得光阻對可見光之敏感性而言,特佳為具有分子量 為120至400者。 經濟部中央標準局負工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 防護游離基化合物之用量並無特殊的限制,且可視例 如所使用可光聚合起始劑之用量而定;然而,當從光阻 薄膜之光敏性、經固化薄膜之強度等觀點來看,適當的 用量通常為0.1至30重量份,較佳為0.5至20重量份,更 佳為1至10重量份(Μ 100重量份之光阻組成物之固態 含量為基準)。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210 X 297公釐) 474969 A7 B7 五、發明説明(9 ) 本發明光阻組成物可進一步包含(如果需要的話): 黏著性促進劑、對紫外光有效的可光聚合起始劑和敏化 劑兩者、聚合起始劑(例如氫酲、2, 6 -二-第三丁基甲 苯酚(BHT)、N,N_二苯基-對伸苯基二胺或其類似物)、 有機樹脂微粒、顔料(例如著色顏料、染色增效劑或其 類似物)、金屬氧化物(例如氧化鈷或其類似物)、塑 化劑(例如苯二甲酸二丁酯、苯二甲酸二辛酯、磷酸三 甲苯氧基酯(tricresyl phosphate)、聚乙二醇、聚丙 二醇或其類似物)、有機溶劑等。 黏著性促進劑是用於提高樹脂薄膜對基杼之黏著性。 關於黏著性促進劑,可提及者為:例如四唑類(t e t r a ζ ο 1 e s ) (譬如四唑、1-苯基唑、5 -胺基四唑、5 -胺基-1-甲基 四唑、5 -胺基-2-苯基四唑、5 -氫硫基-1-苯基四唑、5-氫硫基-1-甲基四唑、5-甲基硫代四唑、5-氯_1_苯基-1 Η -四唑及其類似物。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 關於對紫外光有效的可光聚合起始劑,可提及者為: 例如乙醯苯類(acetophenones)(例如二乙氧基乙醯苯 、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、苯甲基二甲基縮 酮、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-卜酮、4-(2-羥基乙氧基)苯基(2-羥基-2-丙基)_、1-羥基環己 基苯基酮、1-苯基-1,2-丙二酮-2-(郯-乙氧基羰基)肟 、2-甲基-2 -嗎啉代-U-硫代甲基苯基)丙烷-1-酮、2-笨基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉代苯基)丁嗣及其類似物 •,苯偶姻類(b e η ζ 〇 i η ),例如苯偶姻、苯偶姻甲基醚、 一11- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210Χ297公釐) 474969 A7 B7 五、發明説明(10 ) 苯偶姻乙基醚、笨偶姻異丙基醚、苯偶姻異丁基醚及其 類似物;二苯甲酮類(benzophenones),例如二苯甲銅 、苯甲酸甲基鄰-苯甲 _ 酯(methylo-benzoylbenzoate) 、4-苯基-二苯甲嗣、4,4’-二氯二苯甲酮、羥基二苯甲 酮、硫化4 -苯甲醯基-4’-甲基二苯基、烷基二苯甲酮、 3,3 ’,4,4’-四(第三丁基過氧基羰基)-二苯甲嗣、溴化 4-苯甲藤基- Ν,Ν-二甲基-N - [2 -(1-氧基-2-丙婦基氧基) 乙基]苯甲銨、氯化(4-苯甲醯基苯甲基)三甲基銨、氯 化2-羥基- 3-(4-苯甲醯基苯氧基)-Ν,Ν,Ν-三甲基_1-丙 烷銨單水合物及其類似物;硫®類(t h i ο X a n t h ο n e s ), 例如2-異丙基硫®嗣、2,4-二甲基硫、2,4 -二乙基 硫憩_、2,4-二氯硫蒽_、氯化2-羥基-3 -(3,4-二甲基 -9_氧基-9H -硫蒽-基氧基)-Ν,Ν,Ν-三甲基-1-丙鞍及 其類似物;氧化2, 4,6 -三甲基苯甲醯基二苯基亞磷酸; 2,2’-雙((鄰-氯苯基)-4,5,4、四苯基-1,2-雙咪唑 (bimidazole) ; 10 -丁基-2-氯 ff丫陡 _ (acridone) ; 2-乙 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 基蒽酲;1,2 -二苯基乙烷;9, 10 -菲酲(9,10-phenanthrenequinone) ; Bi ^ (camphor q u i η ο n e ); 和甲基苯基乙醛酸Ulyoxy)酯。此等化合物可單獨使用 或呈兩種或更多化合物之混合物來使用。 在某些情況下,上述可光聚合起始劑可與敏化劑 (sensitizer)組合併用,藉此可獲得對紫外光具有較高 之敏感性。關於此等敏化劑,可使用之已知的敏化劑為 :例如三乙醇胺、甲基二乙醇胺、三異丙醇胺、4 -二甲 -12 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210 X 297公釐) 474969 A7 B7 五、發明説明(11 ) 基胺基苯甲酸甲酯、4-二甲基胺基苯甲酸乙酯、4-二甲 基胺基苯甲酸異戊酯、苯甲酸(2-二甲基胺基)乙酷、4-二甲基胺基苯甲酸(正-丁氧基)乙酯、4_二甲基胺基苯 甲酸2-乙基己酯、米蚩“丨(^10「’5)酮、4,4’-二乙基胺 基二苯甲酮(4,4’-diethylaminobenzophenone)及其類 似物。 本發明可光阻組成物可藉由例如將上述各成份在適當 的溶劑中加K均勻地混合來製得。 其次,本敘述是針對從本光阻組成物形成抗蝕圖之方 法,係在基材上從組成物形成可見雷射光可固化之光阻 薄膜並將光阻薄膜pattern-wise加Μ固化。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 將本光阻組成物加Μ塗覆或黏著於其上之基材並無特 殊的限制,衹要可將光阻組成物塗覆或黏著上即可。基 材之代表實例是:玻璃板,基材係藉由在玻璃板上形成 一種金屬或金屬氧化物(絪-氧化錫(I TO)、鉻、銅或其 類似物)之薄膜所獲得;金屬板,例如鋁板、銅板或其 類似物;塑膠板,例如聚碳酸酯板、丙烯酸(壓克力)樹 脂板、玻璃纖維-環氧樹脂板或其類似物;積層板,具 有金屬層作為表層,例如鍍銅或包鋦玻璃孅維環氧樹脂 鍍或其類似物;和一種藉由在上述積層板中製成通孔 (throughholes)所獲得之積層板。 使用本光阻組成物在基材上形成可見雷射光可固化之 光阻薄膜是如下所述來進行。當本光阻組成物是液態光 阻組成物,組成物是藉由噴敷塗覆法、靜電塗覆法、輥 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) 474969 A7 B7 五、發明説明(12 ) (roll)塗覆法、幕流(curtain flow)塗覆法、旋轉塗覆 法、絲網(s i 1 k s c「e e η )印刷法、浸漬塗覆法、電澱積 (electrodeposition)法或其類似法而塗覆在基材上, 並將所獲得之光阻薄膜加K乾燥。當光阻組成物是乾膜 光阻時,將防護游離基且將所獲得之乾膜光阻加熱黏接 到基材上K形成光阻薄膜。乾膜光阻並不需要具有覆蓋 膜層,但是如果需要的話可具有覆蓋膜層。光阻薄膜之 厚度並無特殊的限制,且可適當地視所獲得抗蝕圖之應 用來決定。對乾膜厚度而言,較佳的厚度是0.5至50微 米,特別是1至40微米,更佳為3至30微米。 從本光阻組成物形成乾膜光阻是可藉由下列方法來進 行,例如使用輥(roll)塗覆器、刮刀(blade)塗覆器、 幕(curtain)塗器或其類似物將本光阻組成物塗覆在透 明薄膜(譬如聚酷薄膜)(此薄膜Μ後將變成一種覆蓋 膜層),將所獲得之光阻薄膜加Μ乾燥,並將防護薄膜 黏附在經乾燥之光阻薄膜之光阻層上。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 在本形成抗蝕圖之方法中,可見雷射光可固化之光阻 薄膜是Κ上述方法形成於基材上;如果需要的話,在光 阻薄膜上形成一種氧屏蔽層;然後將光阻薄膜pattern -wise曝露於可見雷射光;然後進行顯影K形成抗蝕圖。 形成氧屏蔽層致使將在光阻薄膜中經曝光所產生的游 離基與空氣中的氧隔離,且防止被氧去活化,藉此使得 光阻藉由曝光之固化可順利地進行。氧屏蔽層可為一種 藉由塗覆在光阻薄膜上所形成之覆蓋塗層,或為一種藉 -14- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 474969 A7 B7 五、發明説明(I3 ) 由黏附薄膜於光阻薄膜上所形成之覆蓋薄膜。當使用一
I 種乾膜光阻時,僅藉由黏附一種具有覆蓋膜層之乾膜光 阻到基材上,覆蓋膜層是可簡單地形成。 氧屏蔽層是由1種非光敏性、在室溫下幾乎完全無膠 黏性、具有'氧屏蔽性且對所施用光透明之材料所製成。 因此,較佳的材料具有玻璃轉移溫度(Tg)為20 °C或更高 ,較佳為30至801C,更佳為40至70亡。 氧屏蔽層之氧屏蔽性較佳為5 X 1 (T12 c c · c m / c m 2 · s e c · cmHg 或更少,特佳為 lxl (Γ12 cc.cm/cm2 .sec.croHg 或更 少(Μ薄膜之氧可滲透性來表示)。氧可滲透性是根據 ASTM D 1434-82(1986)所敘述方法所測得之數值。 在曝光後將氧屏蔽層從光阻薄膜上加以剝離,然後進 行顯影。然而,當不易剝離時並不加以剝離(當氧屏蔽 層是一種覆蓋塗層,通常是不易剝離的),因此氧屏蔽 層在顯影時必須加Μ溶解且移除。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 作為可形成在顯影時具有可溶和可移除且滿足上述氧 屏蔽層之要求條件的氧屏蔽層,可提及者例如:聚乙烯 醇、部分皂化之聚乙酸乙烯_及其混合物,和聚乙烯乙 醇與乙酸酯之混合物。此等樹脂是較佳的,因為彼等具 有特優成膜性且充分溶解於水性顯影劑(譬如水、稀釋 鹼性水溶液或稀釋酸性水溶液)。將上述可形成薄膜之 樹脂溶液(譬如一種水性溶液)塗覆在樹脂薄膜上,藉 此可形成覆蓋塗層。較佳的覆蓋塗層厚度通常為0.5至5 微米,特佳為1至3微米。 -15- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) 474969 A7 B7 五、發明説明(14 ) 覆蓋薄膜層是可藉由將上述可形成薄膜之樹脂之未被 固定薄膜附到樹脂薄膜之表面。當在曝光後但是在顯影 前將覆蓋薄膜層從樹脂薄膜之表面剝離時,覆蓋薄膜層 並不需要能溶解於所使用之顯影劑,且不僅可由上述可开多 成薄膜之樹脂所製成,而且也可製自聚酯(譬如聚對苯 二甲酸乙二酯)、丙烯酸糸樹脂、聚乙烯、聚氯乙烯或 其類似物。較佳的覆蓋塗層厚度通常為1至微米,特 佳為2至40微米。 從含有防護游離基組成物之本光阻組成物所形成之光 阻薄膜,即使並無氧肩:蔽層形成在其上,也可相當大地 緩和由於氧所造成抑制固化之作用,可維持優良的光敏 性。然而,形成氧哥蔽層可進一步提高對可見雷射光之 敏感性。 將可見雷射光Patten-wise施用到光阻薄膜之方法, 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 可例如藉由使用可見雷射光直接繪圖,譬如根據預先所 製備之CAD數據進行可見雷射光掃瞄。可見雷射光之光 源包括氩(Ar)離子雷射、激光Uxcimer)雷射、二氧化 碳雷射等。可見雷射光之適當的曝光度通常為0.1至50 m J / c m 2 ,較佳為0.3至30mJ/cro2 ,更佳為0.5至10 mj/qm2. 施用雷射將光阻薄膜之經曝光部份固化(負型),而未 曝光部份是藉由顯影加Μ移除。在施用雷射後但是在顯 影前,如果需要的話可將光阻薄膜加熱Μ讓光阻薄膜之 應力鬆弛或促進所產生之游離基後固化反應(ρ 〇 s t - -16- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 474969 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明 (β 1 1 I re a c t i on )( 此加熱是利用熱板在短時間内進行C ) 1 1 1 在 施 用 雷 射 後 之 顯 影 是 可 藉 由 將 經 曝 光 之 光 阻 m 膜 加 1 I 以 沖 洗 來 進 行 9 例 如 將 光 阻 薄 膜 浸 沒 於 適 合 光 阻 薄 膜 類 請 λ 1 i 別 之 顯 影 劑 ( 例 如 酸 性 顯 影 劑 鹼 性 顯 影 劑 水 Λ 有 機 閱 讀 背 1 ί 溶 劑 或 其 類 似 物 ) 中 或 藉 由 將 上 述 顯 影 劑 噴 敷 在 光 阻 冬 1 I 薄 膜 上 〇 顯 影 劑 之 條 件 並 無 特 殊 的 限 制 > 但 是 通 常 為 在 注 意 事 1 Γ 15 至 40 為 期 約 1 5秒 鐘 至 5 分 鐘 〇 在 顯 影 後 $ 視 需 要 進 項 再 1 填 1 行 水 沖 洗 〇 顯 影 步 驟 將 光 阻 薄 膜 之 未 曝 光 部 份 加 以 移 除 馬 本 i 頁 1 9 藉 此 形 成 抗 蝕 圖 〇 在 顯 影 步 驟 後 $ 如 果 需 要 的 話 可 將 ν^* 1 抗 蝕 圖 加 熱 或 曝 露 於 紫 外 光 下 Μ 進 一 步 固 化 〇 當 採 用 曝 1 1 露 於 紫 外 光 Κ 進 一 步 固 化 時 > 其 較 佳 為 讓 光 阻 組 成 物 預 1 Ι 先 含 有 對 紫 外 光 有 效 的 可 光 聚 合 之 起 始 劑 和 敏 化 劑. 兩 者0 1 訂 根 據 上 述 本 方 法 所 形 成 之 抗 蝕 圖 本 身 可 用 於 室 内 裝 璜 1 I 或 其 他 巨 的 > 但 是 也 可 用 作 為 一 種 蝕 刻 (e t C hi n g ) 光 阻 1 1 I 或 一 種 軟 焊 (sol d e r) 光 阻 〇 1 1 抗 蝕 圖 可 用 於 例 如 形 成 印 刷 電 路 板 之 導 電 線 路 圖 樣 〇 1 • 在 此 個 例 中 f 抗 蝕 圖 是 根 據 本 方 法 形 成 於 包 含 基 材 和 1 由 銅 或 其 類 似 物 所 製 成 之 導電層( 作 為 表 層 ) 之 積 層 板 的 導 1 ί 電 層 使 用 此 抗 蝕 圖 作 為 一 種 蝕 刻 光 阻 時 9 將 導 電 層 之 1 曝 光 部 份 ( 並 無 抗 蝕 圖 在 其 上 之 部 份 ) 加 Μ 蝕 刻 \ 藉 此 1 1 1 可 形 成 電 路 圖 樣 0 r 1 此 蝕 刻 是 可 利 用 一 種 選 白 衹 要 能 配 合 導 電 層 之 種 類 的 1 I 蝕 刻 劑 來 進 行 〇 例 如 當 導 電 層 是 m 時 9 可 使 用 酸 性 蝕 刻 1 1 劑 ( 譬 如 氯 化 铜 ) 氨 型 蝕 刻 劑 或 其 類 U 劑 作 為 蝕 刻 劑0 1 I - 17- 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210 X 297公釐) 474969 A7 B7 五、發明説明(16 ) 在蝕刻步驟後,將剩餘的光阻薄膜加K移除Μ獲得印 刷電路板。剩餘光阻薄膜之移除是藉由將光阻薄膜加Μ 溶解或剝離,且可使用一種對基材和形成在其上之電路 圖樣(亦即剩餘之導電層)幾乎完全惰性的溶劑。溶劑 可為例如鹼性水溶液(譬如氫氧化納)、酸性水溶液或 各種不同有機溶劑之一種。 本發明在此後將藉由下列實施例特別地加Κ敘述。在 下面之份和%分別是重量份和重量。 製浩例1 (光可固化樹脂夕製诰) 經濟部中央標準局貝工消費合作社印褽 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 將一種由40份甲基丙烯酸甲酯、40份丙烯酸丁酯、20 份丙 ® 酸和 2 份偶氮二異丁腈(azobisisobutyronitrile) 所組成之混合物,在3小時內逐滴添加在9 0 °C和氮氣大 氣下之9 0份丙二醇單甲基醚中。讓所獲得之混合物陳化 1小時。然後將一種由1份偶氮雙二甲基戊腈 (azobisdimethylvaleronitrile)和 10份丙二醇單甲醚 所組成之混合物在1小時内逐滴添加入。將所獲得之混 合物陳化5小時,K獲得一種高酸價丙烯酸樹脂之溶液 (樹脂酸價=155毫克Κ0Η/克)。將24份甲基丙烯酸縮水 甘油酯、0·12份氫醇(hydroquinone)和0.6份溴化四乙 基銨添加到溶液中。讓所獲得之混合物在ηου同時吹 空氣於其中下進行反應5小時,Κ獲得一種具有固態含 量為約5 5 . 4S;之光可固化之樹脂溶液。光可固化樹脂之 樹脂酸價為約50毫克Κ0Η/克,可聚合不飽和基含量為 1.35莫耳/公斤、Tg為2010且數量平均分子量為約20,000。 一 18- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210 X :297公釐) 474969 A7 B7 _ 五、發明説明(17 ) 靱诰例2 (光可固化榭fl旨夕製诰) 將一種由6 0份苯乙烯、1 0份丙烯酸丁酯、3 0份丙烯酸 和3份偶氮二異丁腈所組成之混合物,在3小時内逐滴 添加到保持在9 Ο Ό和氮氣大氣下之9 0份乙二醇單甲基醚 中。讓所獲得之混合物陳化1小時。然後將一種由1份 偶氮雙二甲基戊腈和10份乙二醇單甲醚所組成之混合物 在1小時内逐滴添加入。將所獲得之混合物陳化5小時 ,Μ獲得一種高酸價丙烯酸樹脂之溶液(樹脂酸價=233 毫克Κ0Η/克)。將35份甲基丙烯酸縮水甘油酯、0. 13份 氫_和0 . 6份溴化四乙基銨添加到溶液中。讓所獲得之 混合物在ηου同時吹空氣於其中下進行反應5小時, Κ獲得一種具有固態含量為約57.4¾之光可固化之樹脂 溶液。光可固化樹脂之樹脂酸價為約70毫克Κ0Η/克,可 聚合不飽和基含量為1.83莫耳/公斤、Tg為45它且數量 平均分子量為約1 5 , 0 0 0。 靱诰例3 (光可因化樹脂夕靱诰) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 將一種由25份甲基丙烯酸甲酯、15份丙烯酸丁酯、15 份丙烯酸、45份甲基丙烯酸2-羥基乙酯和3份偶氮二異 丁腈所組成之混合物,在3小時內逐滴添加到保持在8 0 1C 和氮氣大氣下之100份Ν,Ν-二甲基甲醯胺(Ν,Ν -dimethylformamide)中。讓所獲得之混合物陳化1小時 。然後將一種由1份偶氮雙二甲基戊腈和5份N , N-二甲 基甲醯胺所組成之混合物在1小時內逐滴添加入。將所 獲得之混合物陳化5小時,K獲得一種高酸價丙烯酸樹 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 474969 A7 B7 五、發明説明(18 ) 脂之溶液(樹脂酸價=11 5毫克KOH/克)。將120份吡啶 (P y r i d i n e )添加到2 0 0份之溶液。然後將2 0 7份之一種 含有1 5 0份N , N -二甲基甲醯胺溶解於5 7份氯化桂皮酸 (cinnamic acid chloride)之溶液在10 °C或更低下逐滴 加入。將所獲得之混合物在5 ο υ下攪拌K進行反應4小 時。將反應混合物倒入5 0 0份甲醇中从沉澱出聚合物。 將沉澱物加以純化且在抽真空下乾燥Μ獲得聚合物。聚 合物是一種具有桂皮基作為光敏性基的光可固化樹脂, 且具有樹脂酸價為約81克Κ0Η/克,桂皮基含量為3. 69莫 耳/公斤、Tg為5no且數量平均分子量為約2 0 , 0 0 0。將 100份此聚合物溶解於一種由50份丙二醇單甲基醚和50 份正-丁醇所組成之混合溶劑中,Μ獲得一種光可固化 樹脂溶液。 當旆例1 將1 8 1份(固態含量為1 0 0份)在製造例1所獲得之 光可固化樹脂溶液溶解於2 9 0份乙酸乙酯中。接著在攪 拌下,將一種含有1份LS-1 (敏化劑)(參閱附註1 ) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 溶解於5份苯甲醇(benzyl alcohol)之溶液添加到其中 。接著在攪拌下,將一種含有1份T-1 (聚合起始劑) (參閲附註2 )溶解於5份苯甲醇之溶液添加到其中。 接著在攪拌下,將一種含有3份Ν,Ν-二甲基苯胺(防護 游離基化合物)溶解於1 0份苯甲醇之溶液添加到其中, 以獲得一種均勻的光阻組成物。 附註1 : L S - 1是一種如下式所代表之香豆素(c 〇 u m a r ί η )型 敏化劑: -20 一 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210 X 297公釐) 474969 A7 B7 五、發明説明(19 )
附註2:T-1是一種如下式所代表之二茂駄(titanocene) 型聚合起始劑:
將上面所獲得之光阻組成物使用桿塗覆器塗覆在2毫 米(厚度)X 3 5 0毫米X 460毫米具有18微米厚_層於表 面上之包銅玻璃纖維補強之環氧樹脂基材上。將塗覆之 組成物在601C乾燥10分鐘,K獲得具有厚度為10微米之 乾燥光阻薄膜。 ~ 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 將上面所獲得之具有光阻薄膜形成於其上之基材經由 一 21階躍式光楔薄膜(step-wedge film),利用可見雷 射光(波長為488納米之氬雛子雷射)加以掃瞄曝光, 致使曝光度為3毫焦耳/平方公分(inJ/cm2 )。將所獲得 之材料在6〇υ為期10分鐘,然後浸沒於在301C之U水性 碳酸納溶液中,加以顯影以移除光阻薄膜之未固化部份 。在顯影後,光阻之敏感性為階段7 (根據使用21階躍 式光楔薄膜所測得)。在此光阻之敏感性是根據下述所 測得。將光阻經由具有許多逐漸變化光滲透性之區域 -21- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210 X :297公釐) 474969 A7 B7 五、發明説明(2〇 ) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 ( 在 本 發 明 中 係 使 用 21 階 躍 式 光 楔 薄 膜 ) 進 行 曝 光 9 妖 後 加 以 顯 影 $ 可 提 供 優 良 抗 蝕 圖 之 最 低 光 滲 透 性 的 階 數 是 用 作 為 光 阻 之 敏 感 度 〇 因 為 較 大 階 數 之 薄 膜 區 域 具 有 較 低 之 光 滲 透 性 可 提 供 優 良 抗 訑 圖 之 最 低 光 滲 透 性 的 較 大 階 數 是 表 示 較 高 之 敏 感 性 〇 實 m 例 2 根 據 與 實 施 例 1 相 同 方 法 進 行 作 業 y 例 外 的 是 • 實 施 例 1 所 獲 得 之 具 有 一 種 光 阻 薄 膜 形 成 在 其 上 之 基 材 上 的 光 阻 薄 膜 9 使 用 桿 塗 覆 器 將 一 種 含 有 12¾ 聚 乙 烯 醇 ( 聚 合 度 =1 ,70 0 , Tg =6 5 υ , 氧可滲透性= 2 X 1 O'14 c c , C扭 / C ffl 2 .S e c .C in H g ) 之水性溶液加Κ塗覆, 在乾燥後薄膜 厚 度 為 3 微 米 然 後 在 60 1C 進 行 乾 燥 為 期 10分 鐘 9 在 光 阻 薄 膜 上 形 成 - 種 覆 蓋 塗 膜 層 1 將 所 獲 得 之 材 料 加 以 曝 光 Ο 在 顯 影 後 光 阻 之 敏 感 性 階 數 為 8 〇 筲 拖 例 3 根 據 與 實 施 例 1 相 同 方 法 進 行 作 業 9 例 外 的 是 • 將 曝 光 後 之 材 料 利 用 熱 板 在 60Π 加 熱 1 分 鐘 〇 在 顯 影 後 9 光 阻 之 敏 感 性 階 數 為 7 〇 實 m 例 4 根 據 與 實 施 例 1 相 同 方 法 進 行 作 業 > 例 外 的 是 : 所 使 用 之 光 阻 組 成 物 是 根 據 下 述 所 獲 得 0 將 122 份 ( 固 態 含 量 為 70份 ) 獲 白 製 造 例 2 之 光 可 固 化 光 阻 溶 液溶解於2 9 0 份 乙 酸 乙 酯 中 〇 將 所 獲 得 之 溶 液 與 30份 三 丙 烯 酸 三 羥 甲 基 丙 酯 (t Γ 1 m e ! t h y 1 ο 1 Ρ Γ 0 Ρ a η e t r i a c Γ y 1 a t e ) 相 混 合 〇 將 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) 474969 A7 B7 五、發明説明(2丄) 混合物與一種含有1份LS-2(敏化劑)(參閲附註3 )溶解 於5份苯甲醇之溶液相混合。將混合物與一種含有7份 二第三丁基過氧基異苯二甲酸酷(di - tert - butyl P e r ο X y i s 〇 p h t h a U t e )(聚合起始劑)溶解於1 0份苯甲醇 之溶液相混合。將混合物與一種含有3份Ν,Ν, 2, 4, 6-五 甲基苯胺(Ν,Ν,2,4,6-pentamethylaniline)(防護游雛 基化合物)溶解於10份苯甲醇之溶液相混合,K獲得一 種均勻的光阻組成物。在顯影後,光阻之敏感性階數為 6 〇 附註3:LS-2是一種如下式所代表之香豆素型敏化劑: (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
、1T 管餱例5 si 根據與實施例1相同方法進行作業,例外的是:將敏 化劑LS-1改變為LS-3(參関附註4 )。在顯影後,光阻之 敏感性階數為6 。 附註4:LS-3是一種如下式所代表之香豆素型敏化劑:
經濟部中央標準局員工消費合作社印褽 管嫵例fi 根據與實施例1相同方法進行作業,例外的是:將實 施例1所使用之1 8 1份獲自製造例1之光可固化樹脂溶 液改變為200份(固態含量為100份)獲自製造例3之 -23 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210X297公釐) 474969 A7 B7 五、發明説明(22 ) 光可固化樹脂溶液。在顯影後,光阻之敏感性階數為6 。 t:h較例1 根據與實施例2相同方法進行作業,例外的是··並未 使用作為防護游雛基化合物N , N -二甲基苯胺。在顯影後 ,光姐之敏感性階數為7 。 啻瓶例7 卒1 5和卜上較例2 各作業是根據與實施例4相同之方法,例外的是:使 用於光阻組成物之防護游離基化合物之種類和數量為如 表1所示,且在比較例2中並未使用防護游離基化合物 。在顯影後,各光阻之敏感性(階數)是展示於表1 。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、11 · 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210X297公釐) 474969 五、發明説明(23 ) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 表1 防護游離基化合物 21階躍式 光楔薄膜 之階數 種 類 數量(份) 實施例7 Ν,Ν-二甲基苯胺 10 6 實施例8 Ν,Ν-2,4,6-五甲基苯胺 1 5 實施例9 Ν,Ν - 2,4,6-五甲基苯胺 5 .6 實施例10 H,N-2,4,6-五甲基苯胺 10 . 6 實施例11 Ν,Η-二甲基-間-甲苯胺 5 6 實施例12 4-溴-Ν,Ν-二甲基苯胺 5 6 實施例13 2,6-二異丙基-Ν,Ν-二甲基苯胺 5 6 實施例U 亞磷酸三乙酯 5 5 實施例15 亞磷酸三笨酯 5 5 比較例2 並未使用 - 3 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐) -25- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 474969 A7 B7 五、發明説明(24) 啻确例1 6 將實施例1所使用之光阻組成物利用刮刀塗覆器塗覆 在厚度為25微米之聚酯薄膜上(K後會變成覆蓋膜層) 。將所獲得之材料在i 〇 〇 1C乾燥為期4分鐘,K形成一 種厚度為50微米的可見光可固化之可光聚合組成物層。 將一種厚度為30微米之聚乙烯薄膜層疊在此組成物層上 作為防護層,以獲得一種乾膜光阻。將防護膜剝離,並 將所獲得材料之光阻組成物層加熱層疊在與實施例1所 使用相同的包銅玻璃纖維補強環氧樹脂基材上,以獲得 一種具有順序為光阻薄膜和覆蓋薄膜在其上之基材。將 材料K與實施例1相同方法進行曝光;然後將覆蓋薄膜 剝離;將所獲得之具有光阻薄膜在其上之基材在60它乾 燥為期10分鐘,然後K與實施例1相同方法加K顯影。 在顯影後,光阻之敏感性階數為6 。 如上所述,從本發明之光阻組成物所形成的光阻薄膜 ,當曝露於可見雷射光時會產生游離基;然而,因為光 阻組成物含有一種特殊的防護游離基化合物,游離基並 不會被氧去活化,且有鑑於此,光阻薄膜可防止由於游 離基被氧去活化而造成固化阻礙。因此,可藉由使用本 光阻組成物形成一種高敏感性之光阻薄膜,且即使並未 形成一種塗覆覆蓋層或一種覆蓋薄膜在其上,光阻薄膜 可在高敏感性下加以固化。藉由形成一種塗|覆蓋層或 覆蓋薄膜層在其上,光阻薄膜可在高敏感性下加K固化。 一般而言,當光阻薄膜中由於氧之存在下發生固化阻 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 474969 修正 補充印年丨,B 五、 發明說明 (25 ) 礙 時 9 在光 阻薄膜表面附近之固化程度會不 足夠;結果 導 致 所 形成 抗蝕圖具有半圓筒形斷面形狀。然而,使用 本光 阻 組成 物時,因爲可防止游離基被氧去 活化所造成 的 固 化 阻礙 ,因此可形成一種具有長方形斷 面形狀的抗 蝕 圖 Ο 亶 施 例 17-26 除以下列基材取代實施例 1中,做爲基材 之用的包銅 玻 璃 纖 維補 強之環氧樹脂基材外,根據與實施例1相同方 法 進 行 作業 ,製得具有光阻薄膜形成於其上之基材的同 時 並 測試 其光阻之敏感性階數。實施例17 〜2 6的製 品 5 其 顯影 後之光阻敏感性階數皆爲7。 實 施 例 1 7〜 2 6所使用之基材種類 實 施 例 17 : 玻璃板表面蒸鍍銦-氧化錫(I TO )之基材 實 施 例 18 : 玻璃板表面蒸鍍鉻之基材 實 施 例 19 ·· 玻璃基材 實 施 例 20 ·· 璃板板表面依序蒸鍍鉻/銅/鉻之 基材 實 施 例 21 : 陶瓷基材 實 施 例 22 : 聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)板表面蒸鍍銦-氧 化錫(IT0)之基材 實 施 例 23 : 聚醯亞胺板表面蒸鍍銦-氧化錫(I TO )之基材 實 施 例 24 : 矽晶圓基材 實 施 例 25 : 聚醯亞胺基材 實 施 例 26 : 鍍銅錦輥筒 - 27 -
Claims (1)
- 474969 _公告本 六、申請專河範圍 第 86 1 1 3 597 號 7\申請專利範圍: 可光聚合之組成物」專_利案 11日修正 補見 1 · 一種可光聚合組成物,係含有一種光固化樹脂具有 在曝光時可交聯化或可聚合的光敏性基;一種對可 見光有效的聚合起始劑;及至少一種選自:一種磷 酸酯化合物和一種具有N,N -二甲基胺基鍵結到碳原 子形成芳環之芳族化合物的防護游離基化合物,其 中磷酸酯化合物是選自由亞磷酸二Ci_6烷酯、二 <:6-1()芳酯或二C7_16芳烷酯,或亞磷酸三c^6烷 酯或三C6_1G芳酯,亞磷酸(:7_16芳烷基二(:丨_6烷 酯和亞磷酸三(鹵Ci-6烷酯)所組成者,具有N,N-二甲基胺基鍵結到碳原子形成芳環之芳族化合物是 N,N -二甲基苯胺衍生物,含有防護游離基化合物數 量爲0.1至30重量份(對每100重量份(固態含量) 之組成物而言),及光固化樹脂是一種已經將(甲基) 丙烯醯基引介入作爲光敏性基之具有高酸價的丙烯 酸或聚酯樹脂。 2.如申請專利範圍第1項之可光聚合組成物,其中 N,N-二甲基苯胺衍生物是選自由N,N-二甲基苯胺、 4-溴- N,N-二甲基苯胺、4-第三丁基- N,N-二甲基苯 胺、2,6-二異丙基^-二甲基苯胺、4,4’-亞乙烯 基雙(N,N -二甲基苯胺)、4,4、亞甲基雙(^1二甲 474969 六、申請專利範圍 基苯胺)、4,4,-亞甲基雙(2,6-二異丙基^,1二甲 基苯胺)、N,N,2,4,6-五甲基苯胺、N,N-二甲基_間-甲苯胺、4-(2-吡啶基偶氮)-N,N -二甲基苯胺和 N,N-二申基-4-.硝基苯胺。 3 ·如申請專利範圍第1項之可光聚合組成物,其中防 護游離基化合物是一種分子量爲120至4 00,具有 N,N-二甲基胺基鍵結到碳原子形成芳環之芳族化合 物。 4 .如申請專利範圍第1項之可光聚合組成物,除了防 護游離基化合物以外,係包含一種具有在曝光時可 交聯化或可光聚合之光敏性基的光可固化樹脂,和 一種對可見光有效的可光聚合起始劑。 5·如申請專利範圍第4項之可光聚合組成物,進一步 包含一種乙烯系不飽和化合物。 6 .如申請專利範圍第5項之可光聚合組成物,其包含 可光聚合起始劑數量爲0.1至10重量份(對每100 重量份之全部光固化樹脂和乙烯系不飽和化合物總 量而言)。 7. —種形成抗蝕圖之方法,其係包含:在選自玻璃 板,在玻璃板上形成一種金屬或金屬氧化物薄膜的 基材,金屬板,塑膠板,樹脂板,矽晶圓,具有金 屬層作爲表層的積層板和藉由在上述積層板中製成 通孔所獲得之積層板之基材上形成一種由申請專利 474969 六、申請專利範圍 範圍第1項之可光聚合組成物所製成的光阻薄膜, 然後pat tern-wi se施用可見雷射光到光阻薄膜上, 並將經可見雷射光曝光之光阻薄膜加以顯影。 8. —種形成抗蝕圖之方法,其係包含:在選自玻璃 板,在玻璃板上形成一種金屬或金屬氧化物薄膜的 基材,金屬板,塑膠板,樹脂板,矽晶圓,具有金 屬層作爲表層的積層板和藉由在上述積層板中製成 通孔所獲得之積層板之基材上形成一種由申請專利 範圍第1項之可光聚合組成物所製成的光阻薄膜, 在光阻薄膜上形成一種氧屏蔽層,然後pattern-wise施用可見雷射光經由氧屏蔽層到光阻薄膜上, 並將經可見雷射光曝光之光阻薄膜加以顯影。 9 . 一種從申請專利範圍第1項之可光聚合組成物所形 成的光阻薄膜。
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