4324-69 A7 _ B7 五、發明説明（ί ) [發明所屬之技術領域] 本發明係關於能夠將所希望的圖案曝光至液晶及半導 體的基板等的投影曝光裝置/ [習知技術] 圖ί顯示使用於液晶顯示器（liciuid crystal display)(LCD)的製造的以往的投影曝光裝置1的構成°此 投影曝光裝置1係爲步進重複(steP and rePeat)方式的投影 曝光裝置。此處，係由照明光學系統2來對被形成於標線 (reticule)或是光罩(mask)(以下，稱之爲「標線」）3的LCD 圖案進行照射，並由投影光學系統4來對被置於XY台 (stage)5之上的係爲角形的玻璃(glass)基板的面板ό的特定 的曝光區域來進行曝光。而若是由於此曝光而使圖案被轉 寫，則藉由移動ΧΥ台5便能夠使面板6移動特定的距離 ，而能夠使LCD圖案被曝光至其他的曝光區域，而能夠對 此LCD圖案重複的被曝光特定的次數。此後，標線交換機 構10會使標線3與其他的標線交換，並進行特定次數的曝 光而依序使被交換了的標線上的LCD圖案被曝光至特定的 曝光區域，而將複數的標線的圖案被轉寫至面板6全體。 在此種步進重複方式的曝光裝置中，可由雷射(laser) 千擾計7來正確的監視(monitor)面板6在XY台5上的位 置'，並特定出其位置座標。再者，標線3的位置重合係由 標線校準(reticule alignment)系統8所進行，而標線6的位 置重合則係由標線校準系統9所進行。 I.l·:--L-----裝-- (請先閱讀背面之注意事項再广^本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
4324 69 A7 B7 五、發明説明（>) 圖2顯示由LCD用投影曝光裝置1所轉寫至面板6的 LCD圖案的例子。如此圖所示的，在LCD圖案的轉寫中 ，圖案係，譬如說，被分割爲八、；6、0：、〇、£、？的6個 圖案，並在各個圖案的接續部以微小量的重合來進行曝光 ，並係在6個位置來進行曝光（由6個圖案來取出6個面） 。此6個圖案係分別形成於與其對應的6片標線上，並係 藉由一邊進行標線.交換一邊進行重複的曝光來合成6個圖 案，而形成如此圖所示的LCD圖案全體。 在使用這種畫面合成法的曝光中，在如圖3A、3B及 3C所示的圖案間的接續部會由於標線3及面板6的校準誤 差、及、投影光學系統4的失真(distortion)等而產生偏差 。即是，在圖案合成時所轉寫的圖案具有旋轉誤差的場合 、及、在所轉寫的圖案A及B的位置會具有由圖案偏差所 產生的誤差的場合，在其所曝光了的圖案的接續部也會產 生如圖3A及3B所示的偏差。再者’如圖3C所示的’在 第1層(layer)的曝光所形成的圖案A及B(點線)之上分別重 合了圖案A’及B’(實線)來做爲第2層的場合，也是在各圖 案具有旋轉誤差及位置誤差的場合，則在第1層及第2層 之間的重合便會產生偏差。而且’此外投影透鏡(lens)的失 真也會產生接續部的偏差及重合誤差’再者’在將圖案圖 案化(patterning)至標線時，也可能會由於圖案化誤差而產 生偏差° 若是由於上述的各種原因而產生誤差，則便會造成會 有無法由曝光所製成的LCD基板獲致與設計一樣的特性的 ___________5____ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS > A4規格（2l〇X：297公釐〉 —^^1. V Γ *—^1 »—^1 I 1^1^1 (請先閱讀背面之注意事項本買) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 432469 A7 __ _____ΒΊ_____ 五、發明説明（今） 問題。爲了要解決這種問題，可以是使用在圖案曝光時會 使用以抵銷(cancel)各種誤差的補正量(補正値)最佳化的方 法。在此方法中’從測試(tesl)曝光所獲致的轉寫像測定出 圖案偏差量，.並由此而推導出補正値’並使用此補正値而 在實際的圖案曝光時進行補正，以去除掉其偏差。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 爲了要進行這種補正，必須要設定用以評估圖案的接 續及重合的偏差量的評估位置（評估點），並且也需要知道 此在評估位置在標線上或者是在圖案的投影面上（面板上） 的座標。而且，在補正圖3B的接續部的誤差時，相對於 在以圖案A爲基準的場合，係在上方對具有圖案B的標線 進行位置補正；在以圖案B爲基準的場合，則必須要在下 方對具有圖案A的標線來進行位置補正。如此，在接續部 的誤差補正會是非常的複雜。但是，以往的裝置並不具有 此種計算出此評估位置座標的功能，而是由操作員以手作 業而對在面板上的複數的評估位置讀取出其座標。以此作 業來設定座標會需要非常多的時間，而且會是非常麻煩的 作業，特別是，在面板很大的場合，由於會需要約100點 左右的評估點，因此在基板做成上，此作業會是一項很大 的負擔。 此種問題不僅僅是會發生在LCD用的步進重複方式投 影曝光裝置而已，而且也會發生在半導體元件、攝影元件 (CCD等）、及、薄膜磁氣讀取頭(head)等用的步進重複方式 的投影曝光裝置。 再者’此種問題也會發生在其他的投影曝光裝置。在 -----6_ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公餐） 4 3 24 6 9 A7 B7 五、發明説明（叱） 投影曝光裝置中’除了步進重複方式的投影曝光裝置之外 ，還有掃描方專的投影曝光裝置、電子束(Electron Beam ; EB)投影曝光裝置等。 / 本發明係用以解決此種問題，而其目的係在於：能夠 在短時間內正確的指定出評估點，並在短時間內正確的在 標線上或是在面板上設定其座標，而能夠改善圖案曝光作 業的效率。 [發明之說明] 爲了要解決上述的課題，若是使用顯示一實施例的圖 4~圖6及圖11、圖13來做說明，則申請專利範圍第1項 所記載之曝光裝置係爲將標線(3)上的圖案曝光至基板(6)的 曝光區域的曝光裝置，並係具備了 ：將顯示前述的曝光區 域的攝影圖加以顯示的顯示手段(22)、及、指定此攝影圖 上的任意的位置的指定手段(23)、及、輸出與對應於前述 的指定了的位置的標線(3)的位置有關的資訊的輸出手段 (21 、 22)。 申請專利範圍第2項所記載之曝光裝置則係具備了： 支撐複數的標線(3)的標線交換機構（10)、及、重複的將複 數的標線(3)的圖案的一部份曝光至基板(6)的曝光控制手段 (21)。 ‘申請專利範圍第3項所記載之曝光裝置則係：在前述 的指定了的位置係爲前述的重複了的部分時，輸出手段(21 、22)會複數的輸出與標線(3)的位置有關的資訊。 -------7____ 本紙浪尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） A 3 2 4 6 9 A7 B7 五、發明説明（f ) 申請專利範圍第4項所記載之曝光裝置則係具備了：
It——-----裝— 請先閱讀背面之注意事項本頁 在前述的指定了的位置係爲前述的重複了的部分時，會從 對應於該當重複了的部分的Λ數的標線之中，選擇與其中 一個標線的置有關的資訊的選擇手段(23)。 申請專利範圍第5項所記載之曝光裝置則係：與標線 (3)的位置有關的資訊會至少是距離標線(3)的中心的位置、 及、距離圖案的中心的位置之一。 申請專利範圍第6項所記載之曝光裝置則係爲將標線 (3)上的圖案曝光至基板(6)的複數的曝光區域的曝光裝置， -訂 線 並係具備了：將顯示前述的複數的曝光區域的攝影圖加以 .顯示的顯示手段(22)、及、指定前述的複數的攝影圖上的 任意的位置的指定手段(23)、及、使與前述的曝光的誤差 有關的資訊會與前述的·複數的曝光區域對應，並會進行記 錄的記錄手段(25)、及、依據前述的記錄手段(25)所記錄的 前述的資訊，而輸出與前述的指定了的位置的前述的曝光' 的誤差有關的資訊的輸出手段(21、22)。 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製 申請專利範圍第7項所記載之曝光裝置則係爲步進重 複方式或者是掃描方式的曝光裝置。 申請專利範圍第8項所記載之曝光方法係爲將標線(3) 上的圖案曝光至基板(6)的曝光區域的曝光方法，並係包含 了：將顯示前述的曝光區域的攝影圖加以顯示的步驟 (step_)(Sl ' Sll、S21)、及、指定前述的攝影圖上的任意的 位置的步驟（S2、S12、S22)、及、輸出與對應於前述的指 定了的位置的標線(3)的位置有關的資訊的步驟(S6、S18、 ___8_____ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4规格（210X 297公釐） 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4 3 24 6 9 A7 B7 五、發明説明（k) S29)。 申請專利範圍第9項所記載之曝光方法則係包含了： 重複的將複數的標線(3)的圖案的一部份曝光至基板(6)的步 驟。 申請專利範圍第10項所記載之曝光方法則係包含了： 在前述的指定了的位置係爲前述的重複了的部分時，會複 數的輸出與標線(3)的位置有關的資訊的步驟。 申請專利範圍第11項所記載之曝光方法則係包含了： 在前述的指定了的位置係爲前述的重複了的部分時，會從 對應於該當重複了的部分的複數的標線之中，選擇與其中 一個標線的位置有關的資訊的步驟(S16、S26)。 申請專利範圍第I2項所記載之曝光方法則係：與標線 (3)的位置有關的資訊會至少是距離標線(3)的中心的位置、 及、距離圖案的中心的位置之一。 申請專利範圍第13項所記載之曝光方法係爲將標線 (3)上的圖案曝光至基板(6)的複數的曝光區域的曝光方法， 並係包含了：將顯示前述的曝光區域的攝影圖加以顯示的 步驟(SI、Sll、S21)、及、指定前述的攝影圖上的任意的 位置的步驟（S2、S12、S22)、及、使與前述的曝光的誤差 有關的資訊會與前述的複數的曝光區域對應，並會進行記 錄的步驟、及、依據前述的記錄了的資訊，而輸出與前述 的指定了的位置的前述的曝光的誤差有關的資訊的步驟。 再者，本發明的記錄媒體係爲記錄了可將標線上的圖 案曝光至基板的曝光區域的曝光方法的電腦程式（computer 9 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 1t-------裝-------訂------線 . - . - Η - (請先聞讀背面之注意事項反、"本頁) ' ,.L3 24 6 9 A7 B7_________________ 五、發明説明（q ) program)，並係能夠由電腦讀取的記錄媒體，並係記錄了 :可執行上述的申請專利範圍第8~13項所記載之方法的各 個步驟的電腦程式。藉由使角電腦來執行此程式，便能夠 迅速的處理上述的作業。此記錄媒體可被實現爲R〇M ' RAM、硬碟(hard disk)等的內部記錄媒體，或者是被實現 爲CDROM、軟碟(floppy disk)、MD等的外部記錄媒體。 [附圖說明] 第1圖係顯示以往的曝光裝置的構成的圖。 第2圖係顯示面板上的圖案配置的例子的圖。 第3A圖、第3B圖、及、第3C圖係用以說明圖案的 接續的圖。 第4圖係顯示本發明的曝光裝置的實施形態的構成的 圖。 第5圖係顯示本發明的曝光裝置的控制裝置及顯示裝 置及指示裝置的構成的圖。 第6圖係顯示本發明的評估點確定的基本處理的流程 圖（flow chart)。 第7圖係顯示攝影圖的顯示例及評估點的指定的圖。 第8圖係顯示面板上的評估點的座標筹出方法的圖。 第9圖係顯示評估點確定結果的顯示例的圖。 •第10A圖、及、第10B圖係顯示在圖案具有重合的場 合的評估點的設定方法的圖。 第11圖係顯示本發明的評估點確定處理的第2例的流 ---1ΰ___ 本紙張尺度適用中國國家標準{ CNS ) Α4規格（210X297公釐） ---.------裝------訂------線 - - - . (请先閱讀背面之注意事項灰3^本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 43 24 6 9 A7 B7 --—- — 五 '發明説明（乃） 程圖。 第12圖係顯示本發明的指定圖案邊境附近的2點的方 法的圖。 / 第Π圖係顯示本發明的評估點確定處理的第3例的流 程圖。 第U圖係說明倒立縮小系統掃描方式的投影曝光裝置 的投影光學系統的圖。 第15圖係說明等倍正立正像系統掃描方式的投影曝光 裝置的投影光學系統的圖。 [發明之較佳實施形態] 以下，依據附圖來說明本發明的實施形態。 ® 4顯示本發明的曝光裝置的構成。在此圖中，對與 ® 1所示的裝置的構成要素係爲相同要素的部分附上同樣 的參煦圖號，並省略其說明。 本實施形態的曝光裝置20係使用液晶顯示(display)用 投影曝光裝置(LCD步進機(stepper))爲例。此曝光裝置2〇 係除了圖1所示的以往的曝光裝置1之外，更具備了控制 裝置21及顯示裝置22及指示裝置23。圖5顯示此控制裝 置21及顯示裝置22及指示裝置U的具體的構成。如圖所 示的’控制裝置21具備了：由CPU等所構成的資料(data) 處理部24、及、儲存各種資料的記憶體(memory)25、及' 記錄媒體用的驅動器(driver)26»處理部24會進行如以下 所述的處理，而記憶體25則儲存了用以執行處理的程式及 本紙張尺度適用'準（CNS ) A4规格（210X2^公釐] 請先閲讀背面之注意事項'本頁 裝 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 432469 A7 五、發明説明（1 ) 執行處理所需要的資料。再者，驅動器26則係用以將被儲 存於外部記錄媒體的程式及資料導入至處理部24及記憶體 25 ;而由鍵盤(keyboard)及滑鼠(mouse)等所構成的指示裝 置23則係被操作員使用於做爲用以執行處理所需要的輸入 〇 控制裝置21則執行由標線交換機構10所進行的標線 交換的控制、由標線校準系統8所進行的標線校準的控制 、由雷射(laser)干渉計7所進行的面板位置的控制、及、 由面板校準系統9所進行的面板校準的控制；使複數的標 線進行微小量重合，並控制對所希望的LCD圖案進行曝光 的晝面合成曝光全體。此畫面合成已經被記載於本專利申 請人於1995年2月21日向美國專利局所申請的申請號碼 08/391588號專利申請書；而本專利申請書則係也包含了 申請號碼〇8门91588號專利申請書所記載的內容，並將其 視爲本專利申請書的記載的一部份。控制裝置21的記憶體 25儲存了顯示各圖案的面板6上的曝光區域的位置的攝影 圖資料。再者，記憶體25也儲存了相對於標線3的位置及 旋轉(rotation)、及、投影光學系統4的投射倍率、及、面 板縮尺(plate scaling)等的誤差資訊及補正値。通常’此誤 差資訊及補正値係在曝光裝置20進行大量的面板曝光之前 ，藉由對1片或者是複數片的面板進行曝光而獲致。此在 量產之前對一開始的1片或者是複數片的面板進行曝光係 被稱之爲測試曝光。在製作LCD時’需要對精確度要求較 高的層進行測試曝光，來測量各攝影(shot)間的接續偏差量 本紙張尺度適用中國國家榇準（CNS ) A4规格（2〖〇X297公釐） 432469 A7 B7 五、發明説明（i〇 ) 及對各攝影的下方層的重合偏差量，以獲致誤差資訊。雖 然若是偏差量係在LCD設計上的偏差的容許量內即可，但 是爲了要提高其良率，對精確度要求較•的層而言，最好 是調整攝影的·位置而使其盡量的接近於其目標値。此處， 爲了要調整攝影的位置，而從所記錄的誤差資訊計算出相 對於計測點的補正値。在曝光裝置20進行液晶基板量產時 ，便會從記憶體25讀取出對應於所指定的圖案上的評估點 的補正値。圖所未示的標線台(reticule stage)則會使標線3 旋轉而對標線3的旋轉誤差進行補正。再菩，標線3及投 影光學系統4的倍率誤差則可藉由使構成投影光學系統4 的透鏡在投影光學系統4的光軸方向移動、及、調節透鏡 室的壓力來進行補正。 其次，說明本實施形態的曝光裝置所進行的評倍|占:^ 定處理。通常，本實施形態的曝光裝置係位置於構成1 _ LCD的各攝影的接續邊上。通常，每1個接續邊都會具有 複數個的評估點。但是，在構成LCD的攝影數目很多、& '在面板上具有複數個的LCD的場合，由於評估點的數目 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 會增加，因此會需要較長的評估時間，主要是計測日寺_。. 因此，有時候會需要考慮到曝光層所需要的精確度; 經驗，而減少所評估的面板上的LCD的數目，或智极產 $免键對 面板上的1個LCD進行詳細的評估，而儘量的減少商 的其他的LCD的評估點，而來縮短評估時間。以卞 ^ 說日a 著眼於某1點，在評估點確定時所進行的處理。 a 圖6係顯示本實施形態的曝光裝置的.評估點; * 13 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4规格（2ί〇><297公釐） 4 3 24 6 9 A7 B7 五、發明説明（) 本處理的流程圖。在處理開始時，首先在顯示裝置22顯示 出攝影圖（步驟S1) ’而操作員則使用滑鼠等的指示裝置23 來指定攝影圖上的1點以做爲評估點（步驟S2)。圖7係顯 示被顯示於顯'示裝置Μ的攝影圖、及、操作員在其上所指 定的評估點P的例子。若是如此而指定出評估點p，則控 制裝置21的處理部24便會計算出此評估點P在攝影圖上 的座標P(x，y)(步驟S3)。 若是選擇了圖案，則處理部24便會如以下所示的來計 算出對應於評估點P的面板6上的點Pp的位置(步驟S4) 。如圖S所示的，在計算出此面板6上的點pp的位置的工 程中，處理部24會在面板6上求出圖案A的中心相對於 面板6中心的座標、及、對應於評估點P的面板6上的點 Pp的相對於圖案A中心的座標*並藉由向量(vector)的加 上此座標而求出面板6上的點Pp距離面板6中心的座標。 處理部24也會計算出具有圖案A的標線在對應於面板6 上的點Pp座標的PR座標(步驟S5)。藉由這些處理，便可 計算出與操作員所指定的評估點對應的，標線上的測定點( 點PR)的位置。處理部24也會將如此而計算出的標線上的 點PR的位置顯示於顯示裝置22(步驟S6)。 再者，評估點的指定並不僅限於1點，而也可以是指 定2點以上。在指定2點以上的評估點的場合，係在步 驟S2 —倂進行指定。而且，在步驟S6也會將所指定了的 2點以上的評估點的位置一併顯示。或者也可以是將上述 的一連串的評估點的確定處理重複的進行所想要指定的評 (請先閱讀背面之注意事項本頁) W-50 經濟部智慧財產荀員工消赀合作社印製
本紙張尺度適用中國國家標準（CNS〉Λ4規格（210X297公釐） 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4 ^ 2 4 6 9 A7 '___ Β7_ __ 五、發明説明（丨_ν) 估點的數目那麼多次。 圖9係由顯示裝置22來顯示對應於評估點Ρ的標線 上的點PR的顯示例。如此gf所示的，在顯示裝置22顯示 了做爲評估點.的確定結果的攝影圖及評估點P的座標、及 、對應於評估點P的標線3上的點PR的座標。再者，此 顯示係做爲顯示方法的一例，對點PR而言，也可以僅僅 是顯示其座標値。再者，在上述的處理之後，接著處理部 24也能夠從記憶體25讀取出對應於標線3上的點PR的補 正値，並能夠將所讀取出的補正値輸出至顯示裝置22。 如此，在本實施形態的曝光裝置中，操作員只要在所 顯示的攝影圖上指定評估點P，便能夠自動的獲致標線3 上的對應的點PR的座標資料。因此，便能夠很快的找出 對應於所獲致的座標的補正値，而能夠在短時間內正確的 完成對基板的圖案曝光。 其次，說明由本實施形態的曝光裝置所進行的第2 評估點確定處理。 在製作液晶基板而在進行畫面合成時’各個圖案在其 接續部附近均有少量的重合的來進行曝光。圖10A及圖 10B分別係顯示在進行畫面合成的場合，在攝影圖上指定 評估點P、及、與評估點P對應的標線3上的點PRA、 PRB的位置。如此圖10所示的（此處係僅以圖案A及圖案 B來做說明），在此場合，由於在圖案A及圖案B的接續的 部份係具有圖案重疊的部份，因此在此重疊的部份指定評 估點的場合，與評估點對應的點在圖案A及圖案B之中會 请 先 間 讀 背 意 項 訂 線 15 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Λ4規格（210 X 297公釐） 4 3 24 6 9 A7 B7 五、發明説明（0) 分別被顯不爲PRA、PRB(參照圖i〇g)。在此動作例中，操 作員會從包含了所指定的評估點P的圖案A及圖案B之中 選擇其中之一 ’並求出在所選擇的圖案上的對應於標線3 的點的座標。·這是爲了要以其中一方的圖案爲基準來爲具 有其他圖案的標線的位置進行補正 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖Π係也考慮了此第2評估點確定處理的流程圖。如 此圖所示的，在處理開始時’首先在顯示裝置22顯示出攝_ 影圖（步驟S11)，操作員則使用滑鼠等的指示裝置23來指 定攝影圖上的1點以做爲評估點（步驟S12)。其次，控制裝 置的處理部24則計算出此評佶點p在攝影圖上的座標 P(x，Y)(步驟S13) ’並將包含了此評估點P的圖案列表 (list up)(步驟S14)。接著，處理部24會判斷出所列表了的 標線3的圖案的數目（步驟S 15)，在圖案的數目係爲〇的場 合(步驟S15 : 0)，由於這表示所指定評估點並不在圖案上 ，因此會再一次的進行評估點的指定(步驟S12)。在此場合 ，顯示裝置22會對操作員顯示出評估點並不在圖案上，或 者是經由圖所未示的裝置來發出警告聲音等的通知。操作 員便可藉由此通知等而獲知需要再一次的進行評估點的指 定。而在所判定的圖案的數目係爲1的場合(步驟S15 : υ ，由於並不需要進行圖案的選擇，因此會進入求取標線3 上的對應點的座標的處理(步驟S17) °在圖案的數目係爲複 數的場合(步驟S15 :複數），操作員則從所列表了的複數的 圖案之中選擇1個圖案(步驟S16)。若是考慮圖10Α及圖 10Β所示的例子，則會列表出包含了評倍點Ρ的2個的圖 ___16 一 ---- 本紙張尺度適用中國國家標隼（CNS ) Α4规格（210X297公釐） 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4 3 24 6 9 A7 B7 五、發明説明（\ψ) 案Α及圖案Β，並由操作員選擇出其中的—個圖案。 若是選擇了圖案，則處理部24便會計算出在投影面上 (面板6上)對應於評估點P的點PP(PPA或者是pPB)的位 置，並會依據此計算出的位置而求出標線3的對應的位置（ 步驟S17)。並會將標線3的對應的位置PKA、PRB顯示於 顯示裝置22(步驟S18)。由於此點Pp的計算方法及顯示方 法係與在圖6所說明者相同，因此省略其說明。再者，在 此處理中，在步驟S15判斷出係爲複數的圖案的場合，也 可以是對此複數的圖案均計算出其對應點PP的位置’並顯 示出所有的位置座標，或者也可以是計算出2個對應點間 的相對位置的差並將其顯示。再者’也可以是由操作員在 複數的圖案之中，指定主圖案及副圖案，並有區分的顯示 出其對應點Pp的座標。而且’在此場合，也可以是計算並 顯示出從主圖案的對應點PRA看過去的副圖案上的對應點 PRB的偏差量。 在製作實際的液晶基板時，會在面板6上對第1層的 標線的圖案進行曝光(第1層(layer))，並在其上更曝光形成 複數的圖案。在評估此種液晶基板時，通常在第1層，其 圖案的接續精確度（鄰接圖案間的偏差量）會是一個問題， 而在其上的第2層以後，其重合精確度(第1層的圖案及重 合於其上的第2層的圖案間的偏差量）、及、重合差精確度 (第2層的鄰接圖案間的相對的偏差量)也會是一個問題。 雖然這些評估係在圖案的邊境或者是在其附近來進行，但 是接續精確度的問題是可以藉由依據上述的處理方法求出 _17_ 本紙張尺度適用中國國家標準( CNS ) A4规福^ΰΐ〇Χ297公釐） 一 I.—, - 批衣 H ^ I (I Λ&, - -. ' (请先閱讀背面之注意事項<_>?本頁) 4 3 24 δ 9 Α7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 B7 五、發明説明 2個對應的點PpA(x，y)及PpB(x，y)的座標，並求出笋_ 對的位置的差來進行補正。 在測定重合精確度及重合差精確度的場合，或者瘴在 圖案並沒有重合的部份而在測定接續精確度的場合，裹必 '須要在鄰接圖案的邊境(接續部）的2邊來進行評估。本實 施形態的曝光裝置係具備有能夠很容易便指定出此種在圖 案的邊境附近的2點的功能。 圖12係用以說明本實施形態的曝光裝置的指定圖案邊 境附近的2點的功能的圖。如此圖所示的，若是指定出位 於圖案A及圖案B的邊境的某一點P，則便可從點P特定 出距離圖案A側爲a的點PA及距離圖案B側爲b的點PB ，並可求出對應於這些點的面板上的點的位置(PpA(X，y) 及ΡρΒ(χ，y))。再者，同樣的，若是在圖案A及t)的邊境 指定出點Q，則便可從點Q特定出距離圖案A側爲c的點 QA及距離圖案D側爲d的點QB，並可求出對應於這些點 的位置(QpA(x，y)及 QpD(x，y))。 .此時，操作員通常很少也很難將所指定的點p及點Q 完全正確的剛剛好引導至其邊境上夂在此場合，在本實施 形態中，操作員可將其所指示的點附近的邊境上的點確定 爲點P及Q。再者，雖然操作員也是可以指定距離邊境的 距離a、b、c ' d，但是操作員通常可藉由指定a=b或者是 將此’距離固定爲特定的値來減少所必須要指定的値。再者 ，邊境的並不一定會是直線。有時候要製成如圖10A及圖 10B所示的重合曝光的攝影圖。在這種場合’若是製作出 18 I i ,ί- - I -I —-I- I.....-- 广禮^間该背面之注意事項^-^^本頁} -訂 線 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Λ4規格（210X297公釐） A7 B7 五、 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 假想的邊境線便能夠將其視爲係與真正的邊境線相同。口 要將設置可將重合適當的細分的參數(parameter)，便能^ 自由的變更此假想的邊境線； ^ 其次，說明在以本實施形態的曝光裝置2〇來指定此 境附近點的場合的處理(第3評估點確定處理）。 ' 圖I3係顯示此第3評估點確定處理的流程的流程圖。 如此圖所示的，在處理開始時，首先在顯示裝置22顯^ 攝影圖(步驟s2i)，操作員則使用滑鼠等的指示裝釐來 指定攝影圖上的1點以做爲評估點(步驟S22)。其次，處理 部24會判斷此處理是否係被設定爲是要評估接續部附近的 2點的模式(mode)(步驟S23) ’並在不是被設定爲此模式的 場合(步驟S23 : No)，則進行在此時所設定的模式的處理 ’而在是被設定爲此模式的場合(步驟S23 : Yes)'，則進入 下一個步驟S24。 在操作員所指定的點並不是位於圖案的接續的位置(邊 境上)的場合，在步驟S24會將此點的位置修正至最接近包 含所指定的點的圖案的一邊，並且也會更進一步的將此點 的位置修正至邊境線上。而在沒有邊境線的場合，即是’ 在只有圖案的端的場合，則重新進行評估點的指定。 其後，處理部24會判斷邊境線上的點係對應於多少個 圖案(接續圖案的數目）(步驟S25)。此處，在邊境線上的點 係如圖12的點一般的位於2個圖案的邊境線上的場合’會 判定接續圖案的數目爲2(步驟S25 : 2)，並會進入步驟 S27的處理；而如點L 一般的，在位於周圍的邊境線上的 19 本紙法尺度適用中國國家標準（CNS ) Λ4規格（210><297公釐.） 請 聞 背 意 裝 線 432469 A7 B7 五、發明説明（q) 場合及在係爲沒有圖案的部份的點的場合，則會判定接續 圖案的數目在1以下(步驟S25 : 1以下），會回到步驟S22 的處理並重新進行評估點的指定。在此場合，顯示裝置22 會對操作員顯··示出接續圖案的數目在1以下。或者是經由 圖所未示的裝置來發出警告聲音等的通知。操作員便可藉 由此通知等而獲知需要再一次的進行評估點的指定。再者 ，在此點係位於如Μ及N的位置的場合，則會判定接續圖 案的數目係分別爲3及4(步驟S25 : 3以上），並會進入步 驟S26的處理，操作員會在此處從其中選擇出2個圖案。 操作員會在步驟S27會對被選擇了的2個圖案指定主 圖案及副圖案。其次，處理部24會計算出標線的對應於上 述的2點(ΡΑ及ΡΒ或者是QA及QB)的點(PRA及PRB或 者是QRA及QRB)的位置(步驟S28)，計算出從主圖案上 的點看過去的副圖案上的點的位置，並將其輸出至顯示裝 置22(步驟S29)。此時，也可以顯示出所計算出的2點的 位置座標，或者也可以一起顯示出所選擇了的圖案。 以上，雖然是說明了本發明的實施形態，但是本發明 並不會被僅限制於上述的實施例，而是在本發明的技術的 思想的範圍內，可以是有其他種種的變更。 譬如說，在上述的各實施形態中，雖然是說明了 LCD 用步進重複方式的投影曝光裝置，但是本發明的適用範圍 並不僅限定於此。而是本發明也能夠被適用於半導體元件 、攝影元件(CCD等）、原板用標線、及、薄膜磁氣讀取頭 等用的步進重複方式的投影曝光裝置。特別是’半導體元 20 (請先閱讀背面之注意事項^一、；寫本頁) U3- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS )八4规格（210X 297公釐） 4 3 24 6 9 A7 B7 五、發明説明（丨g) 件用的步進重複方式的投影曝光裝置已經被開示於 USP4,74S，478，而此開示也可被包含爲本專利申請書的— 部份。 再者，除了步進重複方式的投影曝光裝置之外，本發 明也能夠被適用於掃描方式的投影曝光裝置等的曝光裝置 。在步進重複方式的投影曝光裝置中，XY台會移動特定 的距離而將圖案曝光至曝光區域。另一方面，在掃描方式 的投影曝光裝置中，標線及XY台會同步的移動而將圖案 曝光至曝光區域。對掃描方式的投影曝光裝置而言，又有 倒立縮小系統及等倍正立正像系統。倒立縮小系統掃描方 式的投影曝光裝置已被廣泛的使用於半導體元件用的曝光 裝置。等倍正立正像系統則已被廣泛的使用於LCD用的曝 .光裝置。LCD用的掃描方式的投影曝光裝置已經被開示於 USP5,579，147，而半導體元件用的的掃描方式的投影曝光 裝置則已經被開示於USP5,473,410。而這些開示也分別可 被包含於本專利申請書來做爲本專利毕請書的一部份。 圖14係著眼於倒立縮小系統掃描方式的投影曝光裝置 的投影光學系統的圖。如圖14所示的，以長邊方向係爲垂 直於標線3的掃描方向(Y軸方向）的長方形(狹縫(slit)狀)的 照明區域IAR來對標線3進行照明，在曝光時，標線3會 以速度VR在Y軸的-方向進行掃描。照明區域IAR(中心 係實質上與光軸AX —致)則會經由投影光學系統4而被投 影至面板6上，而形成係爲與照明區域IAR共役的狹縫狀 的投影區域的曝光區域IA。由於面板6與標線係爲倒立結 21 (#先閲讀背面之注意事項<3寫本頁) 、τ 經濟部智慧財產局R工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS〉Λ4规格（2丨0X297公釐） 432469 A7 _ B7 五、發明説明（丨y) 像關係’因此，面板6會與標線3同步的以速度VP在與 速度VR的方向相反的方向來進行掃描，而能夠使面板6 上的攝影區域SA曝光。掃褚速度的比VP/VR係實質上對 應於投影光學·系統的縮小倍率 <=標線3的圖案區域PA的 圖案便會正確的被縮小轉寫至面板6上的攝影區域SA上 。照明區域IAR的長邊方向的寬度係被設定爲會大於標線 3上的圖案區域PA，也小於遮光區域ST的最大寬度，藉 由對標線3進行掃描便可全面的對圖案區域PA進行照明 〇 圖15係著眼於等倍正立正像系統掃描方式的投影曝光 裝置的投影光學系統的圖。如圖15所示的，以長邊方向係 爲垂直於標線3的掃描方向(Y軸方向）的長方形(狹縫狀)的 照明區域IAR來對標線3進行照明，在曝光時，標線3會 以速度VR在Y軸的-方向進行掃描。與上述的倒立縮小系 統掃描方式的投影曝光裝置不同之處在於：由於面板6與 標線3係爲等倍正立正像關係，因此，面板6會與標線3 同步的以速度VP在與速度VR的方向相同的方向（Y軸的-方向）來進行掃描。因此，掃描速度VP及VR係實質上相 等。標線3的圖案區域PA的圖案便會正確的被等倍轉寫 至面板6上的攝影區域SA上。 藉由將與對應於曝光裝置的方式的標線及投影光學系 統等有關的資訊儲存至本發明的控制裝置的記憶體，便能 夠將本發明適用於上述的掃描方式的投影曝光裝置。 與步進重複方式的投影曝光裝置相同的，本發明也能 22 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（2I0X297公釐） --Μ —I--.-f--------- (請先閱讀背面之注^|^項(^}:寫本買) -°. 經濟部智慧財產局R工消費合作社印製 A7 43^469· 五、發明説明（>°) 夠被適用於LCD、半導體元件、攝影元件(CCD等）、原板 用標線、及、薄膜磁氣讀取頭等用的掃描方式的投影曝光 裝置。 - 再者，譬如說，在上述的實施形態中係以高溫高壓水 銀曝光裝置來做了說明。但是本發明的適用範圍並不僅限 定於此。而是也能夠被適用於ArF曝光裝置、EB曝光裝置 。以EB曝光裝置而言，已經被開示於USP5,260，151，而 此開示也可被包含於本專利申請書來做爲本專利申請書的 一部份。而且，本發明也能夠被適用於使用F2雷射光（波
長157nm)等的真空紫外域光來做爲曝光用照明光的VUV 曝光裝置、及、以波長5到15nm的光來做爲曝光用照明 光的EUV曝光裝置、及、X光曝光裝置、及、如離子束 (ion beam)曝光裝置等的使用帶電粒子束的曝光裝置等。再 者，本發明的腔體(chamber)內也可以是充滿了空氣，而且 本發明也可以是被適用於使用KrF準分子雷射（excimer laser)光及g線、I線來做爲曝光用照明光的DUV曝光裝置 〇 而且’藉由除了將由複數的透鏡所構成的照明光學系 統及投影光學系統（或者是電子光學系統）組裝至曝光裝置 本體並進行光學調整之外，也將標線台（標線交換機構）、 XY台、及、與本發明有關的控制裝置、顯示裝置即指示 裝置安裝至曝光裝置本體並進行配線及配管的接線，而且 也更進一步的來進行綜合調整（電性調整.動作確認等）， 便能夠製造出上述的各實施形態的曝光裝置。再者，曝光 ______ 23 本紙張尺度適用中國囤家襟牟（CNS )八4规格（21〇χ 公釐） !-----裝---—--訂------線 - - - (請先閲讀背面之注意事項寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4 3 24 6 9 a? Β7 五、發明説明（>ί) 裝置的製造最好是在溫度及潔淨(clean)度等受到控制了的 無麈室（clean room)內來進行。 再者’ LCD元件及半導If元件等係經由：設計元件的 功能、性能的步驟、依照此設計步驟來製作標線的步驟、 製作玻璃基板及晶圓（wafer)的步驟、藉由上述的各實施形 態的曝光裝置而將特定的圖案轉寫至玻璃基板及晶圓的步 驟、組裝兀件（晶粒切割（dicing)工程、接合(bonding)工程 、封裝(package)工程)的步驟、檢查的步驟而被製造出來。 [產業上利用之可能性] 在本發明中，由於操作員能夠在圖形化(graphical)了 的攝影圖顯示畫面上指定任意的評估點，而且也很容易便 能夠自動而正確的求出此評估點在標線的位置，因此很容 易便能夠獲知此點的補正値，而此評估點在短時間內進行 LCD基板等的精密的製造。再者，由於評估點的指定及座 標的讀取並不是以手來進行而是能夠在顯示畫面上進行’ 而很容易便能夠進行變更及訂正，因此也能夠大幅的改善 操作員的作業效率。 而且，由於一次便能夠指定複數的評估點，並能夠自 動的獲知所對應的圖案，因此能夠更進一步的改善其作業 效率。 ______24_
本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210Χ29<7公麓T --ill-----裝------訂------線 . - . .- 丨 (請先閲讀背面之注意事項(，&寫本頁)