TW202235235A - 控制系統、控制裝置及外部裝置 - Google Patents

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畑田将伸
綾戸健祐
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日商發那科股份有限公司
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Abstract

本發明之控制系統具備使用互不相同之獨立座標系統予以驅動控制之機械及工具、以及控制機械及工具之至少一者之控制裝置，且具備：轉換部，其轉換座標系統；及記憶部，其利用機械與工具所共通之共通座標系統之座標值，記憶機械與工具之間未共用之特定位置及姿勢之至少一者。

Description

控制系統、控制裝置及外部裝置
本發明係關於一種控制技術，尤其關於一種使用互不相同之獨立座標系統進行控制之控制系統、控制裝置及外部裝置。
於使用互不相同之獨立座標系統進行控制之控制系統中，如何共用未被共用之特定位置成為問題。例如，於由機器人及檢流計掃描器構成之普通遠程雷射加工系統中，機器人與檢流計掃描器係使用互不相同之獨立座標系統進行驅動控制。機器人控制裝置具有固定於空間上之座標系統之座標值，另一方面，檢流計掃描器控制裝置具有固定於檢流計掃描器殼體上之座標系統之座標值。機器人控制裝置與檢流計掃描器控制裝置未共用座標系統，因此，無法將例如工件上之雷射照射位置於同一座標系統中記憶或顯示，或者於同一座標系統中移動，從而缺乏便利性。關於本案相關之背景技術，公知有以下文獻。
於專利文獻1中記載有如下雷射加工系統，其具備機器人、安裝於機器人前端之雷射照射裝置、以及控制機器人及雷射照射裝置之動作之機器人控制裝置，機器人控制裝置具備雷射光掃描控制部，雷射光掃描控制部將由與工件相同之座標系統之座標表示的加工用圖案之加工點中心座標及由與該加工點中心座標之偏移量所規定的複數個點列座標，轉換為機器人之座標系統之座標。
於專利文獻2中揭示有，在機器人之基準座標系統、於機器人前端之凸緣表面設定原點之凸緣座標系統、及於作業工具上之任意位置配置原點之工具座標系統之間進行座標轉換。關於作業工具，記載有手形部、弧焊工具、密封工具等。
於專利文獻3中揭示有如下雷射加工裝置，其具備：加工頭，其以掃描方式照射雷射光而加工對象物；機器人，其搭載於加工頭；機器人控制裝置，其按照機器人程式來控制機器人之動作；及頭控制裝置，其按照掃描程式來控制加工頭之掃描動作；且根據機器人之當前位置及姿勢以及指定偏移量來變更機器人之位置及姿勢相關之資訊，當變更後之資訊及掃描動作超出針對加工頭預先規定之可動範圍時，輸出警報信號。
於專利文獻4中記載有，具備：雷射照射裝置，其對工件照射雷射光；工件移動裝置，其使工件移動；雷射照射控制裝置，其控制雷射照射裝置而控制雷射光之照射位置；及工件移動控制裝置，其控制工件移動裝置而控制工件之位置及姿勢中之至少一者；且工件移動控制裝置將工件之位置及姿勢中之至少一者相關之資訊發送至雷射照射控制裝置，雷射照射控制裝置根據從工件移動控制裝置接收之資訊來修正雷射光之照射位置。
於專利文獻5中記載有，在單細胞操作支援機器人用細胞培養器具中，利用成為細胞培養器具之培養皿中所形成之第一、第二特徵點及單細胞操作支援機器人自身所具有之平台之各軸之當前位置檢測功能，求出用於將平台座標系統轉換為培養皿座標系統之轉換矩陣，對以平台座標系統為基準而檢測出的各細胞之位置乘以轉換矩陣而求出培養皿座標系統上之各細胞位置，將該等細胞位置與用於特定出培養皿之識別名對應地登記在檔案中。又，亦記載有，求出將以培養皿座標系統為基準登記在檔案中之座標值替換為平台座標系統上之座標值的逆轉換矩陣，對以培養皿座標系統為基準之座標值乘以逆轉換矩陣，求出相當於平台座標系統上之座標值的細胞位置，即，按照平台座標系統來驅動控制平台以此進行細胞定位所需的絕對移動目標位置。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2008-229662號公報 [專利文獻2]日本專利特開2019-69500號公報 [專利文獻3]日本專利特開2020-44564號公報 [專利文獻4]日本專利特開2020-59054號公報 [專利文獻5]日本專利特開2005-326341號公報
[發明所欲解決之問題]
本發明係鑒於先前之問題，目的在於在使用互不相同之獨立座標系統進行控制之技術中提高便利性。 [解決問題之技術手段]
本發明之一態樣提供一種控制系統，其具備使用互不相同之獨立座標系統予以驅動控制之機械及工具、以及控制機械及工具之至少一者之控制裝置，且具備：轉換部，其轉換座標系統；及記憶部，其利用機械與工具所共通之共通座標系統之座標值，記憶機械與工具之間未共用之特定位置及姿勢之至少一者。 本發明之另一態樣提供一種控制裝置，其控制使用互不相同之獨立座標系統予以驅動控制之機械及工具之至少一者，且具備：轉換部，其轉換座標系統；及記憶部，其利用機械與工具所共通之共通座標系統之資訊，記憶機械與工具之間未共用之特定位置及姿勢之至少一者。 本發明之又一態樣提供一種外部裝置，其係可連接於控制裝置者，該控制裝置控制使用互不相同之獨立座標系統予以驅動控制之機械及工具之至少一者，且該外部裝置具備：轉換部，其轉換座標系統；及記憶部，其利用機械與工具所共通之共通座標系統之資訊，記憶機械與工具之間未共用之特定位置及姿勢之至少一者。 [發明之效果]
根據本發明之一態樣，可於使用互不相同之獨立座標系統進行控制之技術中提高便利性。
以下，參照附圖對本發明之實施方式詳細地進行說明。各附圖中，對相同或類似之構成要素標註相同或類似之符號。又，以下記載之實施方式並不限定申請專利範圍所記載之發明之技術範圍及用語之含義。
以下，對第一實施方式之控制系統1進行說明。圖1係第一實施方式之控制系統1之構成圖。第一實施方式之控制系統1具備機械2、安裝於機械2之前端之工具3、控制機械2之機械控制裝置4、及控制工具3之工具控制裝置5。機械2搬送工具3，工具3對配置於固定點之工件W進行作業(例如加工、測量、觀察等)。控制系統1亦可進而具備可通信地連接於機械控制裝置4之教導裝置7。使用者經由教導裝置7來操作機械控制裝置4。機械控制裝置4與工具控制裝置5分別具備包含執行程式之CPU(central processing unit，中央處理單元)等處理器、RAM(random access memory，隨機存取記憶體)、ROM(read only memory，唯讀記憶體)等記憶體等之電腦裝置(未圖示)。本說明書中之用語「～部」係由例如處理器所執行之程式模組而構成，但亦可作為不執行程式之一個以上之半導體積體電路或其他硬體而構成。
機械控制裝置4具備控制機械2之控制部40，工具控制裝置5具備控制工具3之控制部50。控制部40係使用第一座標系統S1來控制機械2之動作，控制部50係使用第二座標系統S2來控制工具3之動作。機械2與工具3係使用互不相同之獨立座標系統進行驅動控制。即，機械2使用第一座標系統S1進行驅動控制，工具3使用第二座標系統S2進行驅動控制。控制系統1具備如下功能，即，將機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢之至少一者利用機械2與工具3所共通之共通座標系統進行記憶、顯示、或輸入。
第一座標系統S1係用於控制機械2之座標系統。例如，第一座標系統S1係固定於機械2之基準位置之機械座標系統，但亦可為固定於空間上之大地座標系統(world coordinate system)、使用者固定於空間上之使用者座標系統等。又，於第一實施方式之控制系統1中，由於工件W配置於固定點，因此，第一座標系統S1亦可為固定於工件W之基準位置之工件座標系統。以下，將第一座標系統S1作為機械座標系統進行說明。
第二座標系統S2係用於控制工具3之座標系統。例如，第二座標系統S2係固定於工具3之基準位置之工具座標系統，但亦可為使用者固定於工具3上之使用者座標系統等。又，於第一實施方式之控制系統1中，由於工具3安裝於機械2之前端，因此，第二座標系統S2亦可為固定於機械2之前端之凸緣座標系統。以下，將第二座標系統S2作為工具座標系統進行說明。
共通座標系統係固定於空間上之座標系統。例如，共通座標系統係第一座標系統S1，但於將工具3安裝於固定點之下述實施方式中，共通座標系統亦可為第二座標系統S2。以下，將共通座標系統作為第一座標系統S1進行說明。本說明書中之用語「座標系統」係指由相互正交之X軸、Y軸及Z軸表示之正交座標系統，但亦可為斜交座標系統、極座標系統(球座標系統)等其他種類之座標系統。
機械控制裝置4具有第一座標系統S1之資訊，工具控制裝置5具有第二座標系統S2之資訊。由於共用座標系統，因此，機械控制裝置4與工具控制裝置5分別可通信地連接於其他裝置。機械控制裝置4具備與其他裝置之間收發各種資訊之通信部41，工具控制裝置5具備與其他裝置之間收發各種資訊之通信部51。
於第一實施方式之控制系統1中，工具控制裝置5具備轉換座標系統之轉換部52，機械控制裝置4具備記憶轉換後之座標系統之記憶部42。轉換部52將機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢之至少一者的座標系統轉換或逆轉換為共通座標系統。記憶部42利用共通座標系統之資訊來記憶特定位置及姿勢之至少一者。藉此，可利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊來共用機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢之至少一者，因此，使用互不相同之獨立座標系統進行控制之控制系統1之便利性提高。
教導裝置7具備顯示各種資訊之顯示部70、及輸入各種資訊之輸入部71。顯示部70及輸入部71係由處理器所執行之程式模組而構成，但顯示部70亦可為例如顯示器裝置，輸入部71亦可為例如鍵盤。顯示部70利用共通座標系統之資訊來顯示機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢之至少一者。藉此，使用者可利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊來確認機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢之至少一者，因此，使用互不相同之獨立座標系統進行控制之控制系統1之便利性進一步提高。
輸入部71利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊來輸入使機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢之至少一者移動的移動指令(例如目標位置及目標姿勢之至少一者)。例如，移動指令包含直線移動指令、圓弧移動指令等各種指令。藉此，可利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊來輸入機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢之至少一者的移動指令(例如目標位置及目標姿勢)，因此，使用互不相同之獨立座標系統進行控制之控制系統1之便利性更進一步提高。
對第一實施方式之控制系統1之實施例進行說明。例如，控制系統1係雷射加工系統，機械2係垂直多關節機器人，機械控制裝置4係機器人控制裝置。機械2例如係機器人，具備可相對運動地連結之複數個連桿20～24、及分別驅動連桿21～24之複數個馬達(未圖示)。例如，連桿20係設置於被設置面之基底，連桿21係可圍繞沿與被設置面正交之方向延伸之第一軸線而相對於基底旋轉地被支持之迴轉體。又，例如，連桿22係可圍繞沿與第一軸線正交之方向延伸之第二軸線而相對於迴轉體旋轉地被支持之第一臂，連桿23係可圍繞與第二軸線平行之第三軸線而相對於第一臂旋轉地被支持之第二臂，連桿24係可相對於第二臂旋轉地被支持之三軸手腕單元。
機械控制裝置4根據逆運動學將第一座標系統S1中之機械2之位置及姿勢轉換為複數個連桿20～24之各關節部之關節座標系統中之馬達位置，以此來控制馬達。例如，機械2之位置及姿勢係機械座標系統中之工具座標系統或凸緣座標系統之位置及姿勢。
例如，工具3係雷射加工工具，工具控制裝置5係加工工具控制裝置。圖2係表示工具3之一例之立體圖。例如，工具3具備輸出光束之輸出部(未圖示)。輸出部例如係雷射振盪器。又，工具3亦可具備將光束聚焦之聚焦部31a、及掃描光束之掃描部31b。聚焦部31a與掃描部31b例如收容在加工頭31中，加工頭31例如安裝於機械2之前端。例如，聚焦部31a具備將從連接於雷射振盪器之光纖30輸出之光束聚焦之聚焦透鏡、及向第二座標系統S2之Z軸方向驅動聚焦透鏡之馬達(未圖示)，從而使光束之焦點位置F移動。例如，掃描部31b係檢流計掃描器，具備在第二座標系統S2之X軸及Y軸之方向上掃描光束之兩個掃描鏡、及分別驅動兩個掃描鏡之兩個馬達，從而使工件W上之光束之照射位置P移動。光束之焦點位置F及焦點姿勢或光束之照射位置P及照射姿勢係機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢之一例。即，工具控制裝置5具有光束之焦點位置F、焦點姿勢、照射位置P、照射姿勢等中之至少一者作為第二座標系統S2之資訊，但機械控制裝置4不具有該等特定位置及姿勢作為第一座標系統S1之資訊。
工具控制裝置5向輸出部(未圖示)指示光束之輸出條件。光束之輸出條件例如包含光束之功率、振盪頻率、工作比等。教導裝置7之輸入部71亦可根據使用者之操作而輸入光束之輸出條件。又，工具控制裝置5將第二座標系統S2中之光束之焦點位置F及焦點姿勢之至少一者之動作指令(例如目標位置及目標姿勢之至少一者)轉換為聚焦部31a之馬達之動作指令(例如目標位置)及掃描部31b之兩個馬達之動作指令(例如目標位置)之至少一者，以此來控制聚焦部31a與掃描部31b之至少一者。進而，工具控制裝置5將第二座標系統S2中之光束之照射位置P及照射姿勢之至少一者之動作指令(例如目標位置及目標姿勢之至少一者)轉換為掃描部31b之兩個馬達之動作指令(例如目標位置)，以此來控制掃描部31b。
例如，當機械2移動工具3時(例如，修正了機械2之教導時)，工具3之位置及姿勢之至少一者會發生變化，因此，必須變更第二座標系統S2中之光束之照射位置P及照射姿勢之至少一者。因此，當機械2移動工具3時，工具控制裝置5從機械控制裝置4接收第一座標系統S1中之工具3之位置及姿勢，將第一座標系統S1中之工具3之位置及姿勢轉換為第二座標系統S2之資訊，並基於第二座標系統S2中之工具3之位置及姿勢與第二座標系統S2中之工件W之位置及姿勢，生成第二座標系統S2中之光束之照射位置P及照射姿勢之至少一者之動作指令(例如目標位置及目標姿勢之至少一者)。又，工具控制裝置5將第二座標系統S2中之光束之照射位置P及照射姿勢之至少一者之動作指令(例如目標位置及目標姿勢之至少一者)轉換為掃描部31b之兩個馬達之動作指令(例如目標位置)，以此來控制掃描部31b。因此，工具控制裝置5始終具有第二座標系統S2中之光束之當前照射位置P及照射姿勢之至少一者。
應當注意的是，控制系統1之上述構成為一例，可進行各種變更。例如，控制系統1亦可並非雷射加工系統，而是使用電子束、離子束、微波束、X射束、超音波射束、噴水束等各種射束之加工系統、測量系統、觀察系統等。即，控制系統1只要為使用互不相同之獨立座標系統進行控制之系統即可。
又，例如，機械2亦可並非垂直多關節機器人，而是水平多關節機器人、平行連桿機器人、正交機器人、仿人型機器人(humanoid)、機床等其他機械。又，例如，工具3亦可並非雷射加工工具，而是使用電子束、離子束、微波束、X射束、超音波射束、噴水束等其他射束之加工工具、測量工具、觀察工具等。即，機械2與工具3只要利用互不相同之獨立座標系統進行驅動控制即可。
又，例如，聚焦部31a中，當為電子束、離子束、微波束、X射束等時，聚焦透鏡為電子透鏡，當為超音波射束時，聚焦透鏡為聲頻透鏡，當為噴水束時，可代替聚焦透鏡而具備聚焦噴嘴。又，例如，掃描部31b亦可並非檢流計掃描器，而是MEMS(micro electro mechanical systems，微機電系統)掃描器。又，例如，掃描部31b中，當為電子束、離子束、微波束、X射束、超音波射束等時，可代替掃描鏡而具備掃描探針，當為噴水束時，可代替掃描鏡而具備掃描噴嘴。
圖3係第一實施方式之控制系統1之動作圖。步驟s1中，機械控制裝置4向工具控制裝置5發送座標轉換所需之資訊。座標轉換所需之資訊例如包含第一座標系統S1中之工具3之位置及姿勢(例如工具座標系統之位置及姿勢(x offset，y offset，z offset，ϕ，θ，ψ))。此處，x offset，y offset，z offset係第一座標系統S1中之工具3之位置(例如工具座標系統之原點)，ϕ，θ，ψ係第一座標系統S1中之工具3之姿勢(例如繞工具座標系統之X軸、Y軸及Z軸之各旋轉量)。
步驟s2中，工具控制裝置5利用第二座標系統S2之資訊(x S2，y S2，z S2，w S2，p S2，r S2)來獲取機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)之至少一者。此處，x S2，y S2，z S2係第二座標系統S2中之特定位置(例如光束之照射位置P)，w S2，p S2，r S2係第二座標系統S2中之特定姿勢(例如光束之照射姿勢(繞X軸、Y軸及Z軸之各旋轉量))。
步驟s3中，工具控制裝置5根據從機械控制裝置4接收之座標轉換所需之資訊(例如第一座標系統S1中之工具3之位置及姿勢(x offset，y offset，z offset，ϕ，θ，ψ))，將第二座標系統S2中之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢(x S2，y S2，z S2，w S2，p S2，r S2))之至少一者轉換為機械2與工具3所共通之共通座標系統(例如第一座標系統S1)之資訊(x，y，z，w，p，r)。座標轉換式如下。此處，x，y，z係共通座標系統中之特定位置(例如光束之照射位置P)，w，p，r係共通座標系統中之特定姿勢(例如光束之照射姿勢(繞X軸、Y軸及Z軸之各旋轉量))。
[數1]
Figure 02_image001
式1
此處，轉換矩陣E如下。
[數2]
Figure 02_image003
式2
[數3]
Figure 02_image005
式3
步驟s4中，工具控制裝置5利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊來將機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢(x，y，z，w，p，r))之至少一者發送至機械控制裝置4。機械控制裝置4利用共通座標系統之資訊來記憶從工具控制裝置5接收之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢(x，y，z，w，p，r))之至少一者。藉此，可利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)來共用機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)之至少一者，因此，使用互不相同之獨立座標系統進行控制之控制系統1之便利性提高。例如，當機械2移動工具3時(例如，修正了機械2之教導時)，工具3之位置及姿勢之至少一者會發生變化，因此，第二座標系統S2中之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)之至少一者亦發生變化，但只要執行步驟s1～s4之處理，則可利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)來共用機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)之至少一者。
步驟s5中，教導裝置7利用共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)來顯示從機械控制裝置4接收之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)之至少一者。藉此，使用者於教導裝置7中，可利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)來確認機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢之至少一者。例如，當機械2移動工具3時(例如，修正了機械2之教導時)，工具3之位置及姿勢之至少一者會發生變化，因此，第二座標系統S2中之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)之至少一者亦發生變化，但只要執行步驟s1～s5之處理，則使用者於教導裝置7中，可利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)來確認機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)之至少一者。
圖4係第一實施方式之控制系統1之另一動作圖。步驟s1中，教導裝置7利用機械2與工具所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)來輸入使機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之照射位置P及照射姿勢)之至少一者移動的移動指令(例如目標位置及目標姿勢之至少一者)，並將其發送至機械控制裝置4。
步驟s2中，機械控制裝置4向工具控制裝置5發送共通座標系統中之特定位置及姿勢(例如光束之照射位置P及照射姿勢)之至少一者之移動指令(例如目標位置及目標姿勢(x，y，z，w，p，r)之至少一者)、及座標轉換所需之資訊(例如第一座標系統S1中之工具3之位置及姿勢(x offset，y offset，z offset，ϕ，θ，ψ))。
步驟s3中，工具控制裝置5根據從機械控制裝置4接收的座標轉換所需之資訊(例如第一座標系統S1中之工具3之位置及姿勢(x offset，y offset，z offset，ϕ，θ，ψ))，將共通座標系統(例如第一座標系統S1)中之特定位置及姿勢(例如光束之照射位置P及照射姿勢)之至少一者的移動指令(例如目標位置及目標姿勢(x，y，z，w，p，r)之至少一者)轉換為第二座標系統S2之資訊(x S2，y S2，z S2，w S2，p S2，r S2)。座標轉換式如下。
[數4]
Figure 02_image007
式4
此處，逆轉換矩陣E -1係式2之轉換矩陣E之轉置矩陣。 [數5]
Figure 02_image009
式5
[數6]
Figure 02_image011
式6
步驟s4中，工具控制裝置5按照第二座標系統S2中之特定位置及姿勢(例如光束之照射位置P及照射姿勢)之至少一者的移動指令(例如目標位置及目標姿勢(x S2，y S2，z S2，w S2，p S2，r S2)之至少一者)來控制工具3。例如，工具控制裝置5將第二座標系統S2中之光束之照射位置P及照射姿勢之至少一者的移動指令(例如目標位置及目標姿勢(x S2，y S2，z S2，w S2，p S2，r S2)之至少一者)轉換為掃描部31b之兩個馬達之動作指令(例如目標位置)，以此來控制掃描部31b。
步驟s5中，掃描部31b按照馬達之動作指令(例如目標位置)使光束之照射位置P移動。根據以上所述，教導裝置7可利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)來教導機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之照射位置P及照射姿勢)之至少一者的移動指令(例如目標位置及目標姿勢之至少一者)，因此，使用互不相同之獨立座標系統進行控制之控制系統1之便利性更進一步提高。
應當注意的是，控制系統1之上述動作為一例，可進行各種變更。例如，機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢，亦可為光束之焦點位置F及焦點姿勢。即，亦可為，機械控制裝置4利用共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)，記憶從工具控制裝置5接收到之光束之當前焦點位置F及焦點姿勢之至少一者，教導裝置7利用共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)，顯示從機械控制裝置4接收到之光束之當前焦點位置F及焦點姿勢之至少一者。
又，亦可為，教導裝置7利用機械2與工具所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)，輸入將機械2與工具3之間未共用之光束之焦點位置F及焦點姿勢之至少一者移動的移動指令(例如目標位置及目標姿勢之至少一者)，工具控制裝置5將已轉換為第二座標系統S2的光束之焦點位置P及焦點姿勢之至少一者之移動指令(例如目標位置及目標姿勢(x S2，y S2，z S2，w S2，p S2，r S2)之至少一者)轉換為聚焦部31a之馬達之動作指令(例如目標位置)及掃描部31b之兩個馬達之動作指令(例如目標位置)中之至少一者，而控制聚焦部31a及掃描部31b之至少一者。
以下，對第二實施方式之控制系統1進行說明。圖5係第二實施方式之控制系統1之構成圖。第二實施方式之控制系統1與第一實施方式之控制系統1之不同點在於，機械控制裝置4具備轉換座標系統之轉換部52。即，於第二實施方式之控制系統1中，並非在工具控制裝置5之側進行座標轉換，而是在機械控制裝置4之側進行座標轉換。第二實施方式之控制系統1之其他構成與第一實施方式之控制系統1之構成相同，故省略說明。
圖6係第二實施方式之控制系統1之動作圖。步驟s1中，工具控制裝置5利用第二座標系統S2之資訊(x S2，y S2，z S2，w S2，p S2，r S2)，獲取機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)之至少一者。
步驟s2中，工具控制裝置5利用第二座標系統S2之資訊，將機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢(x S2，y S2，z S2，w S2，p S2，r S2))之至少一者發送至機械控制裝置4。
步驟s3中，機械控制裝置4根據座標轉換所需之資訊(例如第一座標系統S1中之工具3之位置及姿勢(x offset，y offset，z offset，ϕ，θ，ψ))，將第二座標系統S2中之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢(x S2，y S2，z S2，w S2，p S2，r S2))之至少一者轉換為機械2與工具3所共通之共通座標系統(例如第一座標系統S1)之資訊(x，y，z，w，p，r)，並加以記憶。座標轉換式例如可使用上述之式1～式3。藉此，可利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)，而共用機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)之至少一者，因此，使用互不相同之獨立座標系統進行控制之控制系統1之便利性提高。例如，當機械2移動工具3時(例如，修正過機械2之教導時)，工具3之位置及姿勢之至少一者會發生變化，因此，第二座標系統S2中之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)之至少一者亦發生變化，但只要執行步驟s1～s3之處理，則可利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)，而共用機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)之至少一者。
步驟s4中，教導裝置7利用共通座標系統之資訊來顯示從機械控制裝置4接收之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢(x，y，z，w，p，r))之至少一者。藉此，使用者可利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)來確認機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢。例如，當機械2移動工具3時(例如，修正了機械2之教導時)，工具3之位置及姿勢之至少一者會發生變化，因此，必須變更第二座標系統S2中之特定位置及姿勢(例如光束之照射位置及照射姿勢)之至少一者，但若執行步驟s1～s4之處理，則使用者於教導裝置7中，可利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)來確認機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)之至少一者。
圖7係第二實施方式之控制系統1之另一動作圖。步驟s1中，教導裝置7利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)來輸入使機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之照射位置P及照射姿勢)之至少一者移動的移動指令(例如目標位置及目標姿勢之至少一者)，並將其發送至機械控制裝置4。
步驟s2中，機械控制裝置4根據座標轉換所需之資訊(例如第一座標系統S1中之工具3之位置及姿勢(x offset，y offset，z offset，ϕ，θ，ψ))，將共通座標系統(例如第一座標系統S1)中之特定位置及姿勢(例如光束之照射位置P及照射姿勢)之至少一者的移動指令(例如目標位置及目標姿勢(x，y，z，w，p，r)之至少一者)轉換為第二座標系統S2之資訊(x S2，y S2，z S2，w S2，p S2，r S2)。座標轉換式例如可使用上述之式4～式6。
步驟s3中，機械控制裝置4向工具控制裝置5發送第二座標系統S2中之特定位置及姿勢(例如光束之照射位置P及照射姿勢)之至少一者的移動指令(例如目標位置及目標姿勢(x S2，y S2，z S2，w S2，p S2，r S2)之至少一者)。
步驟s4中，工具控制裝置5按照從機械控制裝置4接收的第二座標系統S2中之特定位置及姿勢(例如光束之照射位置P及照射姿勢)之至少一者的移動指令(例如目標位置及目標姿勢(x S2，y S2，z S2，w S2，p S2，r S2)之至少一者)來控制工具3。例如，工具控制裝置5將第二座標系統S2中之光束之照射位置P及照射姿勢之至少一者的移動指令(例如目標位置及目標姿勢(x S2，y S2，z S2，w S2，p S2，r S2)之至少一者)轉換為掃描部31b之兩個馬達之動作指令(例如目標位置)，以此來控制掃描部31b。
步驟s5中，掃描部31b按照馬達之動作指令(例如目標位置)使光束之照射位置P移動。根據以上所述，教導裝置7可利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)來教導機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之照射位置P及照射姿勢)之至少一者的移動指令(例如目標位置及目標姿勢之至少一者)，因此，使用互不相同之獨立座標系統進行控制之控制系統1之便利性更進一步提高。
以下，對第三實施方式之控制系統1進行說明。圖8係第三實施方式之控制系統1之構成圖。第三實施方式之控制系統1與第一實施方式之控制系統1之不同點在於，具備控制機械2及工具3之兩者之控制裝置6。即，於第三實施方式之控制系統1中，機械控制裝置4與工具控制裝置5合併為單個控制裝置6，控制機械2及工具3之兩者之控制裝置6(以下簡稱為「控制裝置6」)使用互不相同之獨立座標系統來控制機械2及工具3。控制裝置6具備使用互不相同之獨立座標系統來控制機械2及工具3之兩者之控制部60、及與其他裝置之間收發各種資訊之通信部61。又，控制裝置6具備轉換座標系統之轉換部52、及記憶各種資訊之記憶部42。第三實施方式之控制系統1之其他構成與第一實施方式之控制系統1之構成相同，故省略說明。
圖9係第三實施方式之控制系統1之動作圖。步驟s1中，控制裝置6利用第二座標系統S2之資訊(x S2，y S2，z S2，w S2，p S2，r S2)來獲取機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)之至少一者。
步驟s2中，控制裝置6根據座標轉換所需之資訊(例如第一座標系統S1中之工具3之位置及姿勢(x offset，y offset，z offset，ϕ，θ，ψ))，將第二座標系統S2中之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢(x S2，y S2，z S2，w S2，p S2，r S2))之至少一者轉換為機械2與工具3所共通之共通座標系統(例如第一座標系統S1)之資訊(x，y，z，w，p，r)，並加以記憶。座標轉換式例如可使用上述之式1～式3。藉此，可利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)來共用機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)，因此，使用互不相同之獨立座標系統進行控制之控制系統1之便利性提高。例如，當機械2移動工具3時(例如，修正了機械2之教導時)，工具3之位置及姿勢之至少一者會發生變化，因此，第二座標系統S2中之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)之至少一者亦發生變化，但只要執行步驟s1～s2之處理，則可利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)來共用機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)之至少一者。
步驟s3中，教導裝置7利用共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)來顯示從控制裝置6接收之特定位置及姿勢(例如光束之當前之照射位置P及照射姿勢)之至少一者。藉此，使用者於教導裝置7中，可利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)來確認機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢之至少一者。例如，當機械2移動工具3時(例如，當修正了機械2之教導時)，工具3之位置及姿勢之至少一者會發生變化，因此，第二座標系統S2中之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)之至少一者亦發生變化，但只要執行步驟s1～s3之處理，則使用者於教導裝置7中，可利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)來確認機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)之至少一者。
圖10係第三實施方式之控制系統1之另一動作圖。步驟s1中，教導裝置7利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)來輸入使機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之照射位置P及照射姿勢)之至少一者移動的移動指令(例如目標位置及目標姿勢之至少一者)，並將其發送至控制裝置6。
步驟s2中，控制裝置6根據座標轉換所需之資訊(例如第一座標系統S1中之工具3之位置及姿勢(x offset，y offset，z offset，ϕ，θ，ψ))，將共通座標系統(例如第一座標系統S1)中之特定位置及姿勢(例如光束之照射位置P及照射姿勢)之至少一者的移動指令(例如目標位置及目標姿勢(x，y，z，w，p，r)之至少一者))轉換為第二座標系統S2之資訊(x S2，y S2，z S2，w S2，p S2，r S2)。座標轉換式例如可使用上述之式4～式6。
步驟s3中，控制裝置6按照第二座標系統S2中之特定位置及姿勢(例如光束之照射位置P及照射姿勢)之至少一者的移動指令(例如目標位置及目標姿勢(x S2，y S2，z S2，w S2，p S2，r S2)之至少一者)來控制工具3。例如，控制裝置6將第二座標系統S2中之光束之照射位置P及照射姿勢之至少一者的動作指令(例如目標位置及目標姿勢(x S2，y S2，z S2，w S2，p S2，r S2)之至少一者)轉換為掃描部31b之兩個馬達之動作指令(例如目標位置)，以此來控制掃描部31b。
步驟s4中，掃描部31b按照馬達之動作指令(例如目標位置)使光束之照射位置P移動。根據以上所述，教導裝置7可利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)來教導機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之照射位置P及照射姿勢)之至少一者的移動指令(例如目標位置及目標姿勢之至少一者)，因此，使用互不相同之獨立座標系統進行控制之控制系統1之便利性更進一步提高。
以下，對第四實施方式之控制系統1進行說明。圖11係第四實施方式之控制系統1之構成圖。第四實施方式之控制系統1與第一實施方式之控制系統1之不同點在於，具備可連接於機械控制裝置4及工具控制裝置5之至少一者之外部裝置8。即，於第四實施方式之控制系統1中，外部裝置8具備轉換座標系統之轉換部52、記憶各種資訊之記憶部42、及與其他裝置之間收發各種資訊之通信部80。又，外部裝置8亦可具備顯示各種資訊之顯示部70、及輸入各種資訊之輸入部71。外部裝置8之輸入部71亦可藉由使用者之操作而輸入光束之輸出條件(例如光束之功率、振盪頻率、工作比等)。
外部裝置8具備包含執行程式之CPU(central processing unit)等處理器、RAM(random access memory)、ROM(read only memory)等記憶體等之電腦裝置(未圖示)。外部裝置8內之「～部」例如係由處理器所執行之程式模組構成，但亦可作為不執行程式之一個以上之半導體積體電路或其他硬體而構成。第四實施方式之控制系統1之其他構成與第一實施方式之控制系統1之構成相同，故省略說明。
圖12係第四實施方式之控制系統1之動作圖。步驟s1中，機械控制裝置4向外部裝置8發送座標轉換所需之資訊(例如第一座標系統S1中之工具3之位置及姿勢(x offset，y offset，z offset，ϕ，θ，ψ))。
步驟s2中，工具控制裝置5利用第二座標系統S2之資訊(x S2，y S2，z S2，w S2，p S2，r S2)來獲取機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)之至少一者。
步驟s3中，工具控制裝置5利用第二座標系統S2之資訊(x S2，y S2，z S2，w S2，p S2，r S2)將機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之當前之照射位置P及照射姿勢)之至少一者發送至外部裝置8。
步驟s4中，外部裝置8根據從機械控制裝置4接收之座標轉換所需之資訊(例如第一座標系統S1中之工具3之位置及姿勢(x offset，y offset，z offset，ϕ，θ，ψ))，將從工具控制裝置5接收之第二座標系統S2中之特定之位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢(x S2，y S2，z S2，w S2，p S2，r S2))轉換為機械2與工具3所共通之共通座標系統(例如第一座標系統S1)之資訊(x，y，z，w，p，r)，並加以記憶。座標轉換式例如可使用上述之式1～式3。藉此，可利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)來共用機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)，因此，使用互不相同之獨立座標系統進行控制之控制系統1之便利性提高。例如，當機械2移動工具3時(例如，修正了機械2之教導時)，工具3之位置及姿勢之至少一者會發生變化，因此，第二座標系統S2中之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)之至少一者亦發生變化，但只要執行步驟s1～s4之處理，則可利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)來共用機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之照射位置P及照射姿勢)之至少一者。
步驟s5中，外部裝置8利用共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)來顯示所記憶之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)之至少一者。藉此，使用者於外部裝置8中，可利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)來確認機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢之至少一者。例如，當機械2移動工具3時(例如，修正了機械2之教導時)，工具3之位置及姿勢之至少一者會發生變化，因此，第二座標系統S2中之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)之至少一者亦發生變化，但只要執行步驟s1～s5之處理，則使用者於外部裝置8中，可利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)來確認機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)之至少一者。
圖13係第四實施方式之控制系統1之另一動作圖。步驟s1中，外部裝置8利用機械2與工具所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)來輸入使機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之照射位置P及照射姿勢)之至少一者移動的移動指令(例如目標位置及目標姿勢之至少一者)，並根據座標轉換所需之資訊(例如第一座標系統S1中之工具3之位置及姿勢(x offset，y offset，z offset，ϕ，θ，ψ))，將共通座標系統(例如第一座標系統S1)中之特定位置及姿勢(例如光束之照射位置P及照射姿勢)之至少一者的移動指令(例如目標位置及目標姿勢(x，y，z)之至少一者)轉換為第二座標系統S2之資訊(x S2，y S2，z S2，w S2，p S2，r S2)。座標轉換式例如可使用上述之式4～式6。
步驟s2中，外部裝置8向工具控制裝置5發送第二座標系統S2中之特定位置及姿勢(例如光束之照射位置P及照射姿勢)之至少一者的移動指令(例如目標位置及目標姿勢(x S2，y S2，z S2，w S2，p S2，r S2)之至少一者)。
步驟s3中，工具控制裝置5按照第二座標系統S2中之特定位置及姿勢(例如光束之照射位置P及照射姿勢)之至少一者的移動指令(例如目標位置及目標姿勢(x S2，y S2，z S2，w S2，p S2，r S2)之至少一者)來控制工具3。例如，工具控制裝置5將第二座標系統S2中之光束之照射位置P及照射姿勢之至少一者的移動指令(例如目標位置及目標姿勢(x S2，y S2，z S2，w S2，p S2，r S2)之至少一者)轉換為掃描部31b之兩個馬達之動作指令(例如目標位置)，以此來控制掃描部31b。
步驟s4中，掃描部31b按照馬達之動作指令(例如目標位置)使光束之照射位置P移動。根據以上所述，外部裝置8可利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)來輸入機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之照射位置P及照射姿勢)之至少一者的移動指令(例如目標位置及目標姿勢之至少一者)，因此，使用互不相同之獨立座標系統進行控制之控制系統1之便利性更進一步提高。
以下，對第五實施方式之控制系統1進行說明。圖14係第五實施方式之控制系統1之構成圖。第五實施方式之控制系統1與第一實施方式之控制系統1之不同點在於，具備具有工件W之機械2、及安裝於固定點(例如頂壁、側壁、構造體等)之工具3。機械2搬送工件W，工具3對配置於機械2之前端之工件W進行作業(例如加工、測量、觀察等)。
例如，當機械2移動工件W時(例如，修正了機械2之教導時)，工件W之位置及姿勢之至少一者會發生變化，因此，必須變更第二座標系統S2中之光束之當前照射位置P及照射姿勢之至少一者。因此，當機械2移動工件W時，工具控制裝置5從機械控制裝置4接收第一座標系統S1中之工件W之位置及姿勢，將第一座標系統S1中之工件W之位置及姿勢轉換為第二座標系統S2之資訊，根據第二座標系統S2中之工件W之位置及姿勢與第二座標系統S2中之工具3之位置及姿勢，生成第二座標系統S2中之光束之照射位置P及照射姿勢之至少一者的動作指令(例如目標位置及目標姿勢之至少一者)。又，工具控制裝置5將第二座標系統S2中之光束之照射位置P及照射姿勢之至少一者的動作指令(例如目標位置及目標姿勢之至少一者)轉換為掃描部31b之兩個馬達之動作指令(例如目標位置)，以此來控制掃描部31b。因此，工具控制裝置5始終具有第二座標系統S2中之光束之當前照射位置P及照射姿勢之至少一者。第五實施方式之控制系統1之其他構成與第一實施方式之控制系統1之構成相同，故省略說明。
圖15係第五實施方式之控制系統1之動作圖。步驟s1中，機械控制裝置4向工具控制裝置5發送座標轉換所需之資訊(例如第一座標系統S1中之工具3之位置及姿勢(例如工具座標系統之位置及姿勢(x offset，y offset，z offset，ϕ，θ，ψ))。
步驟s2中，工具控制裝置5利用第二座標系統S2之資訊(x S2，y S2，z S2，w S2，p S2，r S2)來獲取機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)之至少一者。
步驟s3中，工具控制裝置5根據從機械控制裝置4接收到之座標轉換所需之資訊(例如第一座標系統S1中之工具3之位置及姿勢(x offset，y offset，z offset，ϕ，θ，ψ))，將第二座標系統S2中之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢(x S2，y S2，z S2，w S2，p S2，r S2))之至少一者轉換為機械2與工具3所共通之共通座標系統(例如第一座標系統S1)之資訊(x，y，z，w，p，r)。座標轉換式例如可使用上述之式1～式3。
步驟s4中，工具控制裝置5利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)，將機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)之至少一者發送至機械控制裝置4。機械控制裝置4利用共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)，記憶從工具控制裝置5接收到之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)之至少一者。藉此，可利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)，而共用機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢，因此，使用互不相同之獨立座標系統進行控制之控制系統1之便利性提高。例如，當機械2移動工件W時(例如，修正過機械2之教導時)，工件W之位置及姿勢之至少一者會發生變化，因此，第二座標系統S2中之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)之至少一者亦發生變化，但只要執行步驟s1～s4之處理，則可利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)，而共用機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)。
步驟s5中，教導裝置7利用共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)，顯示從機械控制裝置4接收到之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)之至少一者。藉此，使用者於教導裝置7中，可利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)來確認機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢。例如，當機械2移動工件W時，工件W之位置及姿勢之至少一者會發生變化，因此，第二座標系統S2中之特定位置及姿勢(例如光束之照射位置P及照射姿勢)之至少一者亦發生變化，但只要執行步驟s1～s5之處理，則使用者於教導裝置7中，可利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)，確認機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之當前照射位置P及照射姿勢)之至少一者。
圖16係第五實施方式之控制系統1之另一動作圖。步驟s1中，教導裝置7利用機械2與工具所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)，輸入使機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之照射位置P及照射姿勢)之至少一者移動的移動指令(例如目標位置及目標姿勢)，且將其發送至機械控制裝置4。
步驟s2中，機械控制裝置4向工具控制裝置5發送共通座標系統(例如第一座標系統S1)中之特定位置及姿勢(例如光束之照射位置P及照射姿勢)之至少一者的移動指令(例如目標位置及目標姿勢(x，y，z，w，p，r))、及座標轉換所需之資訊(例如第一座標系統S1中之工具3之位置及姿勢(x offset，y offset，z offset，ϕ，θ，ψ))。
步驟s3中，工具控制裝置5根據從機械控制裝置4接收之座標轉換所需之資訊(例如第一座標系統S1中之工具3之位置及姿勢(x offset，y offset，z offset，ϕ，θ，ψ))，將共通座標系統(例如第一座標系統S1)中之特定位置及姿勢(例如光束之照射位置P及照射姿勢)之至少一者的移動指令(例如目標位置及目標姿勢(x，y，z，w，p，r)之至少一者)轉換為第二座標系統S2之資訊(x S2，y S2，z S2，w S2，p S2，r S2)。座標轉換式例如可使用上述之式4～式6。
步驟s4中，工具控制裝置5按照第二座標系統S2中之特定位置及姿勢(例如光束之照射位置P及照射姿勢)之至少一者的移動指令(例如目標位置及目標姿勢(x S2，y S2，z S2，w S2，p S2，r S2)之至少一者)來控制工具3。例如，工具控制裝置5將第二座標系統S2中之光束之照射位置P及照射姿勢之至少一者的動作指令(例如目標位置及目標姿勢(x S2，y S2，z S2，w S2，p S2，r S2)之至少一者)轉換為掃描部31b之兩個馬達之動作指令(例如目標位置)，以此來控制掃描部31b。
步驟s5中，掃描部31b按照馬達之動作指令(例如目標位置)使光束之照射位置P移動。根據以上所述，教導裝置7可利用機械2與工具3所共通之共通座標系統之資訊(x，y，z，w，p，r)來教導機械2與工具3之間未共用之特定位置及姿勢(例如光束之照射位置P及照射姿勢)之至少一者的移動指令(例如目標位置及目標姿勢之至少一者)，因此，使用互不相同之獨立座標系統進行控制之控制系統1之便利性更進一步提高。
根據以上實施方式，可於使用互不相同之獨立座標系統進行控制之技術中提高便利性。
上述處理器所執行之程式可記錄於電腦可讀取之非暫時記錄媒體、例如CD-ROM(compact disc read-only memory，壓縮光碟唯讀記憶體)等中而提供，或者亦可經由有線或無線從WAN(wide area network，廣域網路)或LAN(local area network，區域網路)上之伺服器裝置發佈而提供。
本說明書中對各種實施方式進行了說明，但應當理解的是，本發明並不限定於上述實施方式，可於申請專利範圍所記載之範圍內進行各種變更。
1:控制系統 2:機械 3:工具 4:機械控制裝置(控制裝置) 5:工具控制裝置(控制裝置) 6:控制機械及工具之兩者之控制裝置(控制裝置) 7:教導裝置 8:外部裝置 20～24:連桿 30:光纖 31:加工頭 31a:聚焦部 31b:掃描部 40:控制部 41:通信部 42:記憶部 50:控制部 51:通信部 52:轉換部 60:控制部 61:通信部 70:顯示部 71:輸入部 80:通信部 F:焦點位置 P:照射位置 S1:第一座標系統 S2:第二座標系統 W:工件
圖1係第一實施方式之控制系統之構成圖。 圖2係表示工具之一例之立體圖。 圖3係第一實施方式之控制系統之動作圖。 圖4係第一實施方式之控制系統之另一動作圖。 圖5係第二實施方式之控制系統之構成圖。 圖6係第二實施方式之控制系統之動作圖。 圖7係第二實施方式之控制系統之另一動作圖。 圖8係第三實施方式之控制系統之構成圖。 圖9係第三實施方式之控制系統之動作圖。 圖10係第三實施方式之控制系統之另一動作圖。 圖11係第四實施方式之控制系統之構成圖。 圖12係第四實施方式之控制系統之動作圖。 圖13係第四實施方式之控制系統之另一動作圖。 圖14係第五實施方式之控制系統之構成圖。 圖15係第五實施方式之控制系統之動作圖。 圖16係第五實施方式之控制系統之另一動作圖。
1:控制系統
2:機械
3:工具
4:機械控制裝置(控制裝置)
5:工具控制裝置(控制裝置)
7:教導裝置
20~24:連桿
40:控制部
41:通信部
42:記憶部
50:控制部
51:通信部
52:轉換部
70:顯示部
71:輸入部
P:照射位置
S1:第一座標系統
S2:第二座標系統
W:工件

Claims (11)

  1. 一種控制系統，其具備使用互不相同之獨立座標系統予以驅動控制之機械及工具、以及控制上述機械及上述工具之至少一者之控制裝置，且具備： 轉換部，其轉換座標系統；及 記憶部，其利用上述機械與上述工具所共通之共通座標系統之資訊，記憶上述機械與上述工具之間未共用之特定位置及姿勢之至少一者。
  2. 如請求項1之控制系統，其中上述工具具備輸出光束之輸出部，上述特定位置及姿勢係上述光束之照射位置及照射姿勢。
  3. 如請求項1或2之控制系統，其中上述工具具備掃描光束之掃描部，上述特定位置及姿勢係上述光束之照射位置及照射姿勢。
  4. 如請求項1至3中任一項之控制系統，其中上述工具具備將光束聚焦之聚焦部，上述特定位置及姿勢係上述光束之焦點位置及焦點姿勢。
  5. 如請求項1至4中任一項之控制系統，其進而具備顯示部及輸入部中之至少一者，該顯示部係利用上述共通座標系統之資訊而顯示上述特定位置及姿勢之至少一者，該輸入部係利用上述共通座標系統之資訊而輸入上述特定位置及姿勢之至少一者的移動指令。
  6. 如請求項5之控制系統，其具備可連接於上述控制裝置之教導裝置，上述教導裝置具備上述顯示部及上述輸入部中之至少一者。
  7. 如請求項5或6之控制系統，其中上述工具具備輸出光束之輸出部，上述輸入部進而輸入上述光束之輸出條件。
  8. 如請求項1至7中任一項之控制系統，其中上述控制裝置具備上述轉換部。
  9. 如請求項1至8中任一項之控制系統，其具備可連接於上述控制裝置之外部裝置，上述外部裝置具備上述轉換部。
  10. 一種控制裝置，其控制使用互不相同之獨立座標系統予以驅動控制之機械及工具之至少一者，且具備： 轉換部，其轉換座標系統；及 記憶部，其利用上述機械與上述工具所共通之共通座標系統之資訊，記憶上述機械與上述工具之間未共用之特定位置及姿勢之至少一者。
  11. 一種外部裝置，其係可連接於控制裝置者，該控制裝置控制使用互不相同之獨立座標系統予以驅動控制之機械及工具之至少一者，且該外部裝置具備： 轉換部，其轉換座標系統；及 記憶部，其利用上述機械與上述工具所共通之共通座標系統之資訊，記憶上述機械與上述工具之間未共用之特定位置及姿勢之至少一者。
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