TW202139525A - 片狀連接器、片狀套組、電檢查裝置與電檢查方法 - Google Patents

片狀連接器、片狀套組、電檢查裝置與電檢查方法 Download PDF

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Abstract

本發明的片狀連接器，具有：第一絕緣層，具有位於厚度方向的一側的第一表面、位於另一側的第二表面、以及貫通所述第一表面與所述第二表面之間的多個第一貫通孔；以及多個第一導電層，被配置於所述第一貫通孔的內壁面；其中在所述第一表面側的所述第一導電層的第一端部相較於所述第一表面突出。

Description

片狀連接器、片狀套組、電檢查裝置與電檢查方法
本發明是有關一種片狀連接器、片狀套組、電檢查裝置與電檢查方法。
搭載於電子產品的印刷電路板等的半導體裝置通常會進行電檢查。通常，電檢查被以使電檢查裝置的(具有電極的)基板與半導體裝置等成為檢查對象物的端子進行電性接觸，並讀取在檢查對象物的端子間施加預定的電壓時的電流等之方法進行。而且，為了確實地進行電檢查裝置的基板的電極與檢查對象物的端子之電性接觸，在電檢查裝置的基板與檢查對象物之間配置有異方性導電片。
異方性導電片是在厚度方向具有導電性、在表面方向具有絕緣性的片，被作為在電檢查中的探測器(接觸器)使用。而且，為了確實地進行電檢查裝置的基板的電極與檢查對象物的端子之電性連接，在電檢查裝置的基板與檢查對象物之間配置異方性導電片，並按壓使用。
作為這樣的異方性導電片，具有具有在厚度方向貫通的多個貫通孔的片、以及藉由電鍍被形成於貫通孔的內壁面的多個電導部之異方性導電片為已知的(參考例如專利文獻1以及2)。
另一方面，當重複在這樣的異方性導電片的表面壓接檢查對象物的動作時，則易於產生由壓接露出於異方性導電片的表面的導電路徑所致的永久的變形、由磨耗所致的變形。藉此，有於多個導電路徑之間發生電阻值的差異之情形，並有無法進行精度高的電檢查之情形。
對於此，研究了在異方性導電片的表面配置片狀連接器並進行電檢查。作為那樣的片狀連接器，建議有具有絕緣片以及配置於其厚度方向的多個電極構造體之片狀連接器 (例如專利文獻3)。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2007-220512號公報 [專利文獻2]日本專利特開2010-1153263號公報 [專利文獻3]日本專利特開2010-062155號公報
[發明欲解決之課題]
近幾年，自更高精度地進行電檢查的觀點、除了電檢查以外也用於與各種對象物的電性接觸的觀點等來看，如專利文獻3所示的片狀連接器需要能夠更確實地進行與對象物的電性接觸。
本發明為鑑於上述課題而完成，以提供能夠一邊保護異方性導電片的表面的導電路徑，一邊更確實地進行與對象物的電性接觸之片狀連接器、片狀套組、電檢查裝置以及電檢查方法為目的。 [為解決課題之手段]
上述課題能夠藉由以下的結構來解決。
本發明的片狀連接器具有：第一絕緣層，具有位於厚度方向的一側的第一表面、位於另一側的第二表面、以及貫通所述第一表面與所述第二表面之間的多個第一貫通孔；以及多個第一導電層，被配置於所述多個第一貫通孔的各個的內壁面；其中在所述第一表面側的所述第一導電層的第一端部相較於所述第一表面突出。
本發明的片狀連接器具有：第一絕緣層，具有位於厚度方向的一側的第一表面、位於另一側的第二表面、以及貫通所述第一表面與所述第二表面之間的多個第一貫通孔；多個第一導電層，在所述多個第一貫通孔的各個被連續配置於所述第一貫通孔的內壁面以及所述第一表面上的所述第一貫通孔的開口部的周圍；以及多個凹道，在所述第一表面上被配置於所述多個第一導電層之間並用於將其絕緣。
本發明的片狀套組具有：本發明的片狀連接器；以及異方性導電片，用於被配置於所述片狀連接器的所述第二表面；其中所述異方性導電片更包括具有第二絕緣層以及多個導電路徑的異方性導電片，其中所述第二絕緣層具有位於厚度方向的一側的第三表面以及位於另一側的第四表面，所述多個導電路徑在所述第二絕緣層內以在所述厚度方向延伸般地被配置，且分別露出於所述第三表面以及所述第四表面的外部；且所述片狀連接器的在所述第一表面側的所述多個第一貫通孔的開口部的中心間隔距離p1相較於所述異方性導電片的在所述第三表面側的所述多個導電路徑的中心間隔距離p2小。
本發明的電檢查裝置具有：檢查用基板，具有多個電極；以及本發明的片狀連接器或本發明的片狀套組的堆疊物，被配置於配置有所述檢查用基板的所述多個電極的表面上；其中在所述片狀連接器的所述第一表面上配置有所述檢查對象物。
本發明的電檢查方法具有：將具有多個電極的檢查用基板以及具有端子的檢查對象物，通過本發明的片狀連接器或本發明的片狀套組的堆疊物進行堆疊，將所述檢查用基板的所述電極以及所述檢查對象物的所述端子通過所述片狀連接器進行電性連接的工序；其中在所述片狀連接器的所述第一表面上配置有所述檢查對象物。 [發明效果]
根據本發明，能夠提供能夠一邊保護異方性導電片的表面，一邊更確實地進行與檢查對象物的電性接觸之片狀連接器、片狀套組、電檢查裝置以及電檢查方法。
以下，對於本發明的實施型態參照圖式並進行詳細說明。
[實施型態一] 圖1A是依照實施型態一的片狀連接器10的平面圖(第一表面11a側的平面圖)，圖1B是圖1A的片狀連接器10的1B-1B線的局部放大剖面圖。圖2是圖1B的放大圖。
如圖1A以及B所示地，片狀連接器10具有：絕緣層11(第一絕緣層)，具有多個貫通孔12(第一貫通孔)；以及多個導電層13(第一導電層)，被配置於多個貫通孔12的各個的內壁面12c。這樣的片狀連接器10具有藉由導電層13所包圍的多個空腔12’。
於本實施型態中，較佳為在絕緣層11的第一表面11a配置有檢查對象物。
1-1.絕緣層11(第一絕緣層) 絕緣層11具有位於厚度方向的一側的第一表面11a、位於厚度方向的另一側的第二表面11b、以及貫通第一表面11a與第二表面11b之間的多個貫通孔12(參照圖1B)。
貫通孔12將導電層13保持於其內壁面，且可提高絕緣層11的可撓性，使其在絕緣層11的厚度方向易於彈性變形(變形)。
貫通孔12的形狀並無特別限制，為圓柱狀亦可，為角柱狀亦可。於本實施型態中，貫通孔12的形狀為圓柱狀。又，與貫通孔12的軸方向正交的剖面的圓等效直徑在軸方向為固定亦可，為不同亦可。軸方向是所謂將貫通孔12的第一表面11a側的開口部以及第二表面11b側的開口部的中心彼此連接的線的方向。
在第一表面11a側的貫通孔12的開口部的圓等效直徑D1被以多個貫通孔12的開口部的中心間隔距離(間距)p1成為稍後將要說明的範圍般地設定即可，並無特別限制，例如較佳為1~330 μm，更佳為3~50 μm(參照圖2)。在第一表面11a側的貫通孔12的開口部的圓等效直徑D1是所謂自第一表面11a側沿著貫通孔12的軸方向觀察時的、貫通孔12的開口部的圓等效直徑。
在第一表面11a側的貫通孔12的開口部的圓等效直徑D1與在第二表面11b側的貫通孔12的開口部的圓等效直徑D2為相同亦可，為不同亦可。在貫通孔12的開口部的圓等效直徑於第一表面11a側與第二表面11b側不同的情況下，它們的比(第一表面11a側的開口部的圓等效直徑D1/第二表面11b側的開口部的圓等效直徑D2)為例如0.7~1.5，較佳為0.8~1.2。
在第一表面11a側的多個貫通孔12的開口部的中心間隔距離p1並無特別限制，可與檢查對象物的端子的間距對應而被適當設定。因為作為檢查對象物的HBM(High Bandwidth Memory)的端子的間距為55 μm、PoP(Package on Package)的端子的間距為400~650 μm等，所以在第一表面11a側的多個貫通孔12的開口部的中心間隔距離p1可為例如5~650 μm。其中，以不需檢查對象物的端子的位置對準(使其免對準)的觀點來看，在第一表面11a側的多個貫通孔12的開口部的中心間隔距離p1為5~55 μm更佳。
在第一表面11a側的多個貫通孔12的開口部的中心間隔距離p1是所謂在第一表面11a側的、多個貫通孔12的開口部的中心間隔距離之中的最小值。貫通孔12的開口部的中心為開口部的重心。又，多個貫通孔12的開口部的中心間隔距離在軸方向為固定亦可，為不同亦可。
貫通孔12的軸方向的長度L與在第一表面11a側的貫通孔12的開口部的圓等效直徑D1的比(L/D1)雖然並無特別限制，但是較佳為3~20(參照圖2)。
絕緣層11至少具有藉由第一樹脂組合物所構成的基材層11A(第一基材層)，並視需要更具有其他的層(例如黏著層11B)亦可。亦即，絕緣層11以單層被構成亦可，以多層被構成亦可。於本實施型態中，絕緣層11具有包括第一表面11a的基材層11A、以及包括第二表面11b的黏著層11B(參照圖1B)。
(基材層11A(第一基材層)) 基材層11A為包括配置有檢查對象物的第一表面11a的層，藉由第一樹脂組合物而被構成。
基材層11A不具有黏著性。具體而言，在基材層11A的第一表面11a的於25℃下的探針黏性值較佳為1 N/5 mmφ以下。探針黏性值能夠遵照ASTM D 2979:2016，於25℃進行測量。
同樣地，具體而言，基材層11A的對於SUS表面的在25℃的黏著力較佳為1 N/25 mm以下。黏著力能夠遵照JIS 0237:2009作為於剝離角度90°下的黏著力進行測量。
構成基材層11A的第一樹脂組合物為探針黏性值或黏著力符合上述範圍且能夠將多個導電層13之間絕緣之物即可，並無特別限制。
以一邊使基材層11A的探針黏性值或黏著力易於符合上述範圍，一邊使絕緣層11適度堅硬而使細節距(Fine Pitch)的導電層13易於形成的觀點來看，構成基材層11A的第一樹脂組合物的貯藏彈性係數G1或玻璃轉化溫度，較佳為相較於構成黏著層11B的第三樹脂組合物的貯藏彈性係數G3或玻璃轉化溫度高。
又，(構成片狀連接器10的基材層11A的)第一樹脂組合物的貯藏彈性係數G1或玻璃轉化溫度，較佳為相較於(構成異方性導電片40的絕緣層41的)第二樹脂組合物的貯藏彈性係數G2或玻璃轉化溫度高。
例如，以使其免對準為可能的細節距的貫通孔12易於形成的觀點來看，基材層11A較佳為不過於變形(適度堅硬)，並較佳為藉由不包括彈性體的樹脂組合物而被構成(態樣一)。另一方面，在將片狀連接器10單獨作為異方性導電片使用的情況下，基材層11A在壓接檢查對象物時，較佳為易於變形，並較佳為藉由包括彈性體以及交聯劑的第一彈性體組合物的交聯物而被構成(態樣二)。
亦即，基材層11A的易於變形度可藉由構成基材層11A的第一樹脂組合物的玻璃轉化溫度、貯藏彈性係數、或基材層11A的型態(是否為多孔質等)被調整。
關於態樣一： 以使基材層11A不過於變形(使其適度堅硬)的觀點來看，第一樹脂組合物的玻璃轉化溫度較佳為120℃以上，更佳為150℃以上。第一樹脂組合物的玻璃轉化溫度能夠遵照JIS K 7095:2012進行測量。
又，第一樹脂組合物較佳為具有相較於構成黏著層11B的第三樹脂組合物低的線膨脹係數。具體而言，第一樹脂組合物的線膨脹係數較佳為60 ppm/K以下，更佳為50 ppm/K以下。線膨脹係數能夠遵照JIS K 7197:1991進行測量。
又，第一樹脂組合物的在25℃的貯藏彈性係數G1較佳為1.0×106 ~1.0×1010 Pa，更佳為1.0×108 ~1.0×1010 Pa。第一樹脂組合物的貯藏彈性係數G1能夠遵照JIS K 7244-1:1998/ISO 6721-1:1994進行測量。
第一樹脂組合物的探針黏性值、黏著力、貯藏彈性係數、玻璃轉化溫度可藉由樹脂、交聯劑或填料的添加量等被調整。
以使第一樹脂組合物的貯藏彈性係數、玻璃轉化溫度在上述範圍內的觀點來看，第一樹脂組合物較佳為包括除了彈性體以外的樹脂且為不包括彈性體的樹脂組合物或其硬化物。
在不是彈性體的樹脂的例中，包括有聚醯胺、聚碳酸酯、聚芳香酯、聚碸、聚醚碸、聚硫化苯、聚醚醚酮、聚醯亞胺、聚醚醯亞胺等之工程塑膠、聚乙炔、聚氮化硫(Polythiazyl)等的導電性樹脂、感光性聚苯並㗁唑、感光性聚醯亞胺等的感光性樹脂、丙烯酸樹脂、胺甲酸乙酯樹脂、環氧樹脂、烯烴樹脂。
第一樹脂組合物視需要也更具有交聯劑、矽烷偶合劑、填料等的其他的成分亦可。例如，在除了彈性體以外的樹脂為硬化性樹脂的情況下，較佳為更具有交聯劑。
關於態樣二： 以使基材層11A易於變形(使其適度柔軟)的觀點來看，第一樹脂組合物的玻璃轉化溫度較佳為-40℃以下，更佳為-50℃以下。第一樹脂組合物的玻璃轉化溫度能夠以與前述同樣的方法進行測量。
又，第一樹脂組合物的在25℃的貯藏彈性係數G1較佳為1.0×107 Pa以下，更佳為1.0×105 ~1.0×107 Pa。第一樹脂組合物的貯藏彈性係數能夠以與前述同樣的方法進行測量。
第一樹脂組合物的探針黏性值、黏著力、貯藏彈性係數、玻璃轉化溫度與前述同樣地，可藉由彈性體的種類、交聯度(或凝膠分率)、填料的添加量等被調整。
以使第一樹脂組合物的貯藏彈性係數、玻璃轉化溫度在上述範圍內的觀點來看，第一樹脂組合物較佳為包括彈性體(基底聚合物)以及交聯劑的組合物(第一彈性體組合物)的交聯物。再者，交聯物為部分交聯物亦可(以下，同樣適用)。
彈性體雖然為顯示絕緣性之物即可，並無特別限制，但是在其例中，較佳為矽橡膠、胺甲酸乙酯橡膠(胺甲酸乙酯類聚合物)、丙烯酸橡膠(丙烯酸類聚合物)、乙烯-丙烯-二烯共聚物(EPDM)、氯丁二烯橡膠、苯乙烯-丁二烯共聚物、丙烯腈-丁二烯共聚物、聚丁二烯橡膠、天然橡膠、聚酯熱可塑性彈性體、烯烴熱可塑性彈性體、氟橡膠等的彈性體。其中，較佳為矽橡膠。
交聯劑可按照彈性體的種類被適當選擇。例如，在矽橡膠的交聯劑的例中，包括有過氧化苯甲醯、雙-2,4-二氯過氧化苯甲醯、過氧化二異丙苯、過氧化二(三級丁基)等的有機過氧化物。在丙烯酸橡膠(丙烯酸類聚合物)的交聯劑的例中，包括有環氧化合物、三聚氰胺化合物、異氰酸酯化合物等。
第一彈性體組合物視需要更包括與前述同樣的其他的成分亦可。
其中，在將片狀連接器10配置於異方性導電片的表面使用的情況下，因為片狀連接器10較佳為具有細節距的貫通孔12，所以以使那樣的貫通孔易於形成的觀點來看，基材層11A較佳為難以變形，並較佳為藉由不包括彈性體的樹脂組合物而被構成。
基材層11A的厚度ta與黏著層11B的厚度tb的比(tb/ta)以成為例如4/1~1/2、較佳為3/1~2/3般地被設定(參照圖2)。當基材層11A的厚度ta為一定以上時，則易於良好地保持絕緣層11的形狀，當基材層11A的厚度ta為一定以下時，則因為黏著層11B的厚度tb不變得過薄，所以第一表面11b的黏著性難以被損害。厚度的比(tb/ta)，例如，能夠自以各種顯微鏡觀察片狀連接器的剖面時的各層之厚度計算出。
(黏著層11B) 黏著層11B為包括第二表面11b的層，藉由第三樹脂組合物而被構成。
黏著層11B具有黏著性。藉此，例如僅藉由將片狀連接器10以其黏著層11B接觸般地配置於異方性導電片的表面，而能夠容易地將片狀連接器10固定於異方性導電片的表面。
在黏著層11B的第二表面11b的於25℃下的探針黏性值較佳為相較於在基材層11A的第一表面11a的於25℃下的探針黏性值高。具體而言，黏著層11B的於25℃下的探針黏性值較佳為3 N/5 mmφ以上。當黏著層11B的於25℃下的探針黏性值為3 N/5 mmφ以上時，則因為可發現充分的黏著性，所以即使不使用特別的固定方法，僅藉由放置於異方性導電片40上(參照稍後將要說明的圖4)，也能夠容易地固定片狀連接器10。自上述觀點來看，黏著層11B的於25℃下的探針黏性值更佳為5~50 N/5 mmφ，進一步較佳為7~50 N/5 mmφ。探針黏性值能夠以與前述同樣的方法進行測量。
黏著層11B的對於SUS表面的在25℃的黏著力，較佳為相較於基材層11A的對於SUS表面的在25℃的黏著力高。具體而言，黏著層11B的對於SUS表面的於25℃下的黏著力較佳為0.8~10 N/25 mm，更佳為5~10 N/25 mm。黏著力能夠以與前述同樣的方法進行測量。
自使探針黏性值以及黏著力易於符合上述範圍的觀點來看，構成黏著層11B的第三樹脂組合物的在25℃的貯藏彈性係數G3較佳為相較於構成基材層11A的第一樹脂組合物的在25℃的貯藏彈性係數G1低。具體而言，第三樹脂組合物的貯藏彈性係數G3與第一樹脂組合物的貯藏彈性係數G1的比G3/G1較佳為0.001~0.9。第三樹脂組合物的貯藏彈性係數G3雖然符合上述關係即可，並無特別限制，但是例如較佳為1.0×104 ~1.0×106 Pa。第三樹脂組合物的貯藏彈性係數G3能夠以與前述同樣的方法進行測量。
自使探針黏性值以及黏著力易於符合上述範圍的觀點來看，構成黏著層11B的第三樹脂組合物的玻璃轉化溫度較佳為相較於構成基材層11A的第一樹脂組合物的玻璃轉化溫度低。具體而言，第三樹脂組合物的玻璃轉化溫度較佳為-40℃以下。第三樹脂組合物的玻璃轉化溫度能夠以與前述同樣的方法進行測量。
第三樹脂組合物的探針黏性值、黏著力、貯藏彈性係數、玻璃轉化溫度可藉由稍後將要說明的彈性體的種類、重量平均分子量、交聯度(或凝膠分率)等被調整。
以使探針黏性值、黏著力、貯藏彈性係數、玻璃轉化溫度易於符合上述關係的觀點來看，第三樹脂組合物與第一樹脂組合物同樣地，較佳為包括彈性體(基底聚合物)以及交聯劑的組合物(以下，也稱為「第三彈性體組合物」)的交聯物。
作為包括於第三彈性體組合物的彈性體，能夠使用與列舉作為包括於第一彈性體組合物的彈性體之物同樣之物。包括於第三彈性體組合物的彈性體的種類與包括於第一彈性體組合物的彈性體的種類相同亦可，不同亦可。
例如，在基材層11A藉由第一彈性體組合物的交聯物而被構成的情況下，以使基材層11A與黏著層11B的密接性易於提高的觀點來看，包括於第三彈性體組合物的彈性體的種類較佳為與包括於第一彈性體組合物的彈性體的種類相同。具體而言，在包括於第一彈性體組合物的彈性體為矽橡膠的情況下，較佳為包括於第三彈性體組合物的彈性體也為矽橡膠。
包括於第三彈性體組合物的彈性體的重量平均分子量雖然並無特別限制，但是以使探針黏性值、黏著力、貯藏彈性係數、玻璃轉化溫度易於符合上述關係的觀點來看，例如可使其相較於包括於第一彈性體組合物的彈性體的重量平均分子量低。彈性體的重量平均分子量能夠藉由凝膠滲透層析法(GPC)以聚苯乙烯換算來進行測量。
包括於第三彈性體組合物的交聯劑可按照彈性體的種類被適當選擇。作為包括於第三彈性體組合物的交聯劑能夠使用與列舉作為包括於第一彈性體組合物的交聯劑之物同樣之物。第三彈性體組合物中的交聯劑的含量雖然並無特別限制，但是以使探針黏性值、黏著力、貯藏彈性係數或玻璃轉化溫度易於符合上述關係的觀點來看，較佳為相較於第一彈性體組合物中的交聯劑的含量少。
第三彈性體組合物與前述同樣地，視需要更包括膠黏劑、矽烷偶合劑、填料等的其他的成分亦可。
以使探針黏性值、黏著力、貯藏彈性係數、玻璃轉化溫度易於符合上述關係的觀點來看，構成黏著層11B的第三彈性體組合物的交聯物的交聯度較佳為相較於構成基材層11A的第一彈性體組合物的交聯物的交聯度低。亦即，構成黏著層11B的第三彈性體組合物的交聯物的凝膠分率較佳為相較於構成基材層11A的第一彈性體組合物的交聯物的凝膠分率低。
黏著層11B與基材層11A之間的在25℃的剝離強度(層間剝離強度)較佳為5 N/25 mm以上，更佳為7~30 N/25 mm。剝離強度(層間剝離強度)能夠藉由遵照ISO 29862:2007(JIS Z 0237:2009)的180°剝離試驗，以25℃、剝離速度300 mm/min的條件進行測量。
黏著層11B的厚度tb較佳為基材層11A與黏著層11B的厚度的比(ta/tb)以成為上述範圍般地被設定。
(共同事項) 絕緣層11的厚度較佳為3~250 μm。其中，在將片狀連接器10與異方性導電片40併用的情況下，(構成片狀連接器10的)絕緣層11的厚度T1較佳為相較於(構成異方性導電片40的)絕緣層41的厚度T2薄，絕緣層11的厚度較佳為例如3~20 μm。另一方面，在不將片狀連接器10與異方性導電片40併用而單獨使用的情況下，片狀連接器10的絕緣層11的厚度較佳為50~250 μm。
1-2.導電層13(第一導電層) 導電層13被配置於多個貫通孔12(或空腔12’)的各個的內壁面12c(參照圖1B)。而且，以虛線包圍的單位的導電層13作為一個導電路徑發揮功能(參照圖1B)。
第一導電層13具有露出於第一表面11a側的第一端部13a以及露出於第二表面11b側的第二端部13b。而且，第一導電層13的第一端部13a相較於第一表面11a突出(參照圖1B)。藉此，能夠提高與配置於第一表面11a的檢查對象物130的電性接觸。
第一導電層13的第一端部13a的自第一表面11a的突出長度l1 (參照圖2)雖然並無特別限制，但是較佳為在放置檢查對象物130時不崩塌的程度，並較佳為例如1~7 μm。
構成導電層13的材料的體積電阻率雖然為能夠得到充分的電導的程度即可，並無特別限制，但是較佳為例如1.0×10×10-4 Ω•cm以下，更佳為1.0×10×10-6 ~1.0×10-9 Ω•cm。構成導電層13的材料的體積電阻率能夠以ASTM D 991中記載的方法進行測量。
構成導電層13的材料為體積電阻率符合上述範圍之物即可。在構成導電層13的材料的例中，包括有銅、金、鉑、銀、鎳、錫、鐵或這些之中一種的合金等之金屬材料、或碳黑等之碳材料。
導電層13的厚度為能夠得到充分的電導的範圍即可。具體而言，導電層13的厚度可為0.1~5 μm。當導電層13的厚度為一定以上時，則易於得到充分的電導，當為一定以下時，則貫通孔12難以被堵住、或檢查對象物的端子難以由於與導電層13的接觸而損傷。再者，導電層13的厚度t是相對於絕緣層11的厚度方向正交的方向之厚度(參照圖2)。
在第一表面11a側的藉由導電層13所包圍的空腔12’的圓等效直徑雖然能夠自貫通孔12的開口部的圓等效直徑D1減去導電層13的厚度部分而求得，但是可為例如1~330 μm。
2.片狀連接器的製造方法 圖3A~I是表示依照本實施型態的片狀連接器10的製造方法的剖面圖。
片狀連接器10能夠以任意的方法製造。例如，片狀連接器10經過下列工序而被製造：1)準備具有基材層21A以及黏著層21B的堆疊片21的工序(參照圖3A)；2)將遮罩22配置於堆疊片21的基材層21A上，並在未以遮罩22覆蓋的部分形成多個貫通孔12的工序(參照圖3B以及C)；3)除去遮罩22且以保護片24覆蓋黏著層21B露出的表面(參照圖3D)，在已形成有多個貫通孔12的堆疊片21的表面形成導電層23的工序(參照圖3E)；4)除去保護片24且除去絕緣片21的第一表面21a側的一部分(參照圖3F)，而形成多個導電層13的工序(參照圖3G)；以及5)更除去堆疊片21的第一表面21a側的一部分(參照圖3H)，而使在第一表面11a側的導電層13的第一端部13a突出的工序(參照圖3I)。
關於1)的工序 首先，準備具有基材層21A以及黏著層21B的堆疊片21作為絕緣片21(參照圖3A)。
這樣的絕緣片21在基材片(基材層21A)上塗布或流鑄構成黏著層21B的第三樹脂組合物而形成亦可，將基材片與黏著片熱壓接合而形成亦可。
關於2)的工序 接著，在堆疊片21的表面形成貫通孔12。於本實施型態中，將遮罩22配置為圖案狀，並在未以遮罩22覆蓋的部分(應形成貫通孔12的部分)形成多個貫通孔12(參照圖3B以及C)。
貫通孔12的形成能夠以任意的方法進行。例如，能夠藉由機械性地形成孔的方法(例如沖壓加工、沖孔加工)、雷射加工法、電漿蝕刻法等來進行。其中，自對於大面積的絕緣片21也易於形成貫通孔12的觀點來看，貫通孔12的形成更佳為藉由電漿蝕刻法來進行(參照圖3B)。
電漿蝕刻能夠使用例如高頻電漿蝕刻裝置或微波電漿蝕刻裝置來進行。
關於3)的工序 接著，自形成有多個貫通孔12的堆疊片21的表面除去遮罩22且以保護片24覆蓋黏著層21B露出的表面(參照圖3D)。
保護片24若為可保護黏著層21B之物的話並無特別限制，可為玻璃板、樹脂膜、黏著膜等。樹脂膜為脫模膜等亦可。那樣的脫模膜(到使用時為止)能夠作為片狀連接器10的黏著層11B的保護片使用。
而且，在形成有多個貫通孔12的堆疊片21的整體表面形成一個連續的導電層23(參照圖3E)。具體而言，在堆疊片21的多個貫通孔12的內壁面12c以及其開口部的周圍的第一表面21a連續形成導電層23。
導電層23的形成雖然能夠以任意的方法進行，但是自不堵住貫通孔12、並可形成薄且均一厚度的導電層23的點來看，較佳為以電鍍法(例如無電解電鍍法、電解電鍍法)進行。
關於4)的工序 接著，除去絕緣片21的第一表面21a側的一部分(參照圖3F)，而形成多個導電層13(參照圖3G)。第一表面21a側的一部分的除去藉由例如切削等物理性地進行亦可，藉由化學蝕刻等化學性地進行亦可。
關於5)的工序 而且，更除去所得到的絕緣片21的第一表面21a側的一部分(參照圖3H)。第一絕緣層11被蝕刻而得到導電層13的第一端部13a突出的形狀(參照圖3I)。藉由使其為這樣的形狀，在將檢查對象物130(參照圖6)配置於片狀連接器10上之際，電阻值易於下降，並易於得到穩定的電性連接。
除去絕緣片21的第一表面21a側的一部分的方法並無特別限制，可為例如電漿處理。
再者，片狀連接器10的製造方法視需要更包括其他的工序亦可。例如，在2)與3)的工序之間，進行6)用於使導電層23易於形成的前處理亦可。
關於6)的工序 對於形成有多個貫通孔12的堆疊片21，較佳為進行用於使導電層23易於形成的去汙處理(前處理)。
去汙處理是除去於雷射加工產生的汙跡之處理，較佳為氧電漿處理。例如在絕緣片藉由矽酮類彈性體組合物的交聯物而被構成的情況下，藉由氧電漿處理絕緣片21，不僅可灰化/蝕刻，並能夠氧化矽酮的表面，形成二氧化矽薄膜。藉由形成二氧化矽薄膜而可使電鍍液易於滲入到貫通孔12內、或提高導電層23與貫通孔12的內壁面的密接性。
氧電漿處理能夠使用例如電漿灰化器、高頻電漿蝕刻裝置、微波電漿蝕刻裝置來進行。
所得到的片狀連接器10能夠與作為電檢查的探測器使用的異方性導電片一同、或作為其替代品而使用。
(效果) 本實施型態的片狀連接器10具有藉由導電層13所包圍的多個空腔12’(源自於貫通孔12的空腔)。藉此，在厚度方向按壓片狀連接器10之際能夠使其良好地變形。又，導電層13的第一表面11a側的第一端部13a相較於第一表面11a突出。藉此，能夠使其也易於與檢查對象物130接觸，並降低接觸電阻。結果，在電檢查之際，藉由在片狀連接器10上壓接檢查對象物，而能夠確實地進行電性接觸。
又，藉由將片狀連接器10配置於異方性導電片40的表面進行使用，能夠保護異方性導電片40的表面。藉此，能夠減少於異方性導電片40的多個導電路徑42間的電阻的差異。
3.片狀套組 圖4是表示依照本實施型態的片狀套組30的製造方法的剖面圖。
如圖4所示地，依照本實施型態的片狀套組30具有異方性導電片40、以及用於配置於其上的片狀連接器10。再者，因為片狀連接器10與依照上述實施型態的片狀連接器10相同，所以其說明省略。
3-1.異方性導電片40 圖5A是異方性導電片40的平面圖，圖5B是圖5A的異方性導電片40的5B-5B線的局部放大剖面圖。
如圖5A以及B所示地，異方性導電片40具有絕緣層41(第二絕緣層)、以及在其厚度方向延伸的多個導電路徑42。於本實施型態中，較佳為在絕緣層41的第三表面41a以片狀連接器10的第二表面11b接觸般地被配置(參照圖4)。
3-1-1.絕緣層41(第二絕緣層) 絕緣層41具有位於厚度方向的一側的第三表面41a以及位於厚度方向的另一側的第四表面41b(參照圖5B)。而且，將多個導電路徑42彼此之間絕緣。
絕緣層41至少具有藉由第二樹脂組合物所構成的基材層(第二基材層)，並視需要更具有其他的層(例如黏著層)亦可。亦即，絕緣層41以單層被構成亦可，以多層被構成亦可。於本實施型態中，絕緣層41由藉由第二樹脂組合物所構成的基材層組成。
第二樹脂組合物若為能夠將多個導電路徑42間絕緣之物的話並無特別限制，與構成片狀連接器10的絕緣層11的第一樹脂組合物相同亦可，不同亦可。其中，以使絕緣層41易於變形的觀點來看，構成絕緣層41的第二樹脂組合物較佳為第二彈性體組合物的交聯物。作為包括於第二彈性體組合物的彈性體、交聯劑，能夠使用與列舉作為包括於前述的第一彈性體組合物的彈性體、交聯劑之物同樣之物。
(構成異方性導電片40的絕緣層41的)第二樹脂組合物的貯藏彈性係數G2較佳為相較於(構成片狀連接器10的絕緣層11的)第一樹脂組合物的貯藏彈性係數G1低。因為於已承載檢查對象物的狀態下進行壓接時，因異方性導電片40可充分變形，所以能夠充分進行電性連接。具體而言，G2/G1可為1×10-5 ~1×10-3 。
(構成異方性導電片40的)絕緣層41的厚度T2較佳為相較於(構成片狀連接器10的)絕緣層11的厚度T1厚(參照圖4)。具體而言，較佳為T1/T2=0.01~0.4。因為通常異方性導電片40相較於片狀連接器10導電性高。絕緣層11以及41的厚度能夠遵照ASTM D 6988進行測量。
3-1-2.導電路徑42 導電路徑42貫通於絕緣層41的厚度方向，並具有露出於第三表面41a側的第三端部42a、以及露出於第四表面41b側的第四端部42b(參照圖5B)。
自使厚度方向的導電性易於確保的觀點來看，在第三表面41a側的多個導電路徑42的中心間隔距離p2(間距)較佳為相較於在第一表面11a側的片狀連接器10的多個貫通孔12的開口部的中心間隔距離p1(間距)大(參照圖5B)。具體而言，異方性導電片40的多個導電路徑42的第三端部42a的中心間隔距離p2可為例如55~650 μm。
再者，多個導電路徑42的第三端部42a的中心間隔距離p2與第四端部42b的中心間隔距離為相同亦可，為不同亦可。於本實施型態中，多個導電路徑42的第三端部42a的中心間隔距離p2與第四端部42b的中心間隔距離為相同，這些也稱為多個導電路徑42的中心間隔距離的中心間隔距離。
構成導電路徑42的材料能夠使用與列舉作為構成導電層13的材料之物同樣之物(金屬材料、碳材料)，較佳為能夠使用金屬材料。導電路徑42可為例如金屬線。
在第三表面41a側的導電路徑42的第三端部42a的圓等效直徑為可電導的程度即可，可為例如20~200 μm左右。
4.電檢查裝置以及電檢查方法 (電檢查裝置) 圖6表示依照本實施型態的電檢查裝置100的一個例子的剖面圖。
電檢查裝置100為使用圖4的片狀套組30之物，例如為檢查檢查對象物130的端子131間(測量點間)的電特性(電導等)之裝置。再者，自說明電檢查方法的觀點，於同一圖中也一併圖示檢查對象物130。
如圖6所示地，電檢查裝置100具有保持容器(套筒)110、檢查用基板120、以及片狀套組30的堆疊物(亦即，異方性導電片40以及片狀連接器10)。
保持容器(套筒)110為保持檢查用基板120、異方性導電片10等的容器。
檢查用基板120被配置於保持容器110內，並在面對著檢查對象物130的表面具有面對著檢查對象物130的各個測量點之多個電極121。
片狀套組30的堆疊物在配置有檢查用基板120的電極121的表面上，配置有異方性導電片40、片狀連接器10以及檢查對象物130(以此順序)。亦即，在片狀連接器10的第一表面11a上配置有檢查對象物130。而且，檢查用基板120的電極與檢查對象物130的端子通過異方性導電片40的導電路徑42以及片狀連接器10的導電層13而被電性連接。
檢查對象物130雖然並無特別限制，但是可列舉例如HBM、PoP等的各種半導體裝置(半導體封裝)或電子零件、印刷基板等。在檢查對象物130為半導體封裝的情況下，測量點可為凸塊(端子)。又，在檢查對象物130為印刷基板的情況下，測量點可為設置於導電圖型的測量用焊盤、零件安裝用的焊盤。
(電檢查方法) 對於使用圖6的電檢查裝置100的電檢查方法進行說明。
如圖6所示地，依照本實施型態的電檢查方法具有：將具有電極121的檢查用基板120以及檢查對象物130，通過異方性導電片40以及片狀連接器10進行堆疊，使檢查用基板120的電極121以及檢查對象物130的端子131通過這些片進行電性連接的工序。
在進行上述工序之際，自使檢查用基板120的電極121以及檢查對象物130的端子131通過異方性導電片40以及片狀連接器10而易於充分電導的觀點來看，視需要進行按壓檢查對象物130等而進行加壓、或使其於加熱氛圍下接觸亦可。
如前述，片狀連接器10具有藉由貫通孔12以及導電層13所形成的多個空腔12’。藉此，在配置檢查對象物130並按壓時，片狀連接器10易於在厚度方向良好地變形。又，導電層13的第一表面11a側的第一端部13a相較於第一表面11a突出。藉此，能夠使其也易於與檢查對象物130接觸，並可更降低與檢查對象物130的接觸電阻。藉此，藉由異方性導電片40以及片狀連接器10的堆疊物，能夠良好地電性連接電檢查裝置100的檢查用基板120的電極121與檢查對象物130的端子131。
更進一步，因為能夠藉由片狀連接器10保護異方性導電片40的電極面(第三表面41a)，所以能夠抑制異方性導電片40的電阻值每導電路徑42地不一。
[實施型態二] 1.片狀連接器 圖7A是依照實施型態二的片狀連接器10的平面圖(第一表面11a側的平面圖)，圖7B是圖7A的片狀連接器10的7B-7B線的局部放大剖面圖。圖8是圖7B的放大圖。
如圖7A以及B所示地，依照本實施型態的片狀連接器10除了導電層13(第一導電層)不僅貫通孔12的內壁面12c，也被連續配置於第一表面11a上，且更具有用於與其他導電層13絕緣的多個凹道14以外，與依照上述實施型態一的片狀連接器10同樣地被構成。
亦即，依照本實施型態的片狀連接器10具有：絕緣層11(第一絕緣層)，具有多個貫通孔12(第一貫通孔)；多個導電層13(第一導電層)(例如，在圖7B以虛線包圍的二個導電層13)，與多個貫通孔12的各個對應配置；以及多個凹道14，被配置於多個導電層13彼此之間。這樣的片狀連接器10具有藉由導電層13所包圍的多個空腔12’。又，與上述實施型態一同樣地，較佳為在絕緣層11的第一表面11a配置有檢查對象物。
1-1.絕緣層11(第一絕緣層) 絕緣層11具有位於厚度方向的一側的第一表面11a、位於厚度方向的另一側的第二表面11b、以及貫通第一表面11a與第二表面11b之間的多個貫通孔12(參照圖7B)。
絕緣層11的層結構、厚度、構成材料等皆與上述實施型態一為同樣的。貫通孔12的形狀、開口部的圓等效直徑D1以及D2、軸方向的長度L、中心間隔距離p1{間距}等也與上述實施型態一為同樣的。
1-2.導電層13(第一導電層) 導電層13與貫通孔12(或空腔12’)對應配置(參照圖7B)。具體而言，導電層13被連續配置於貫通孔12的內壁面12c以及第一表面11a上的貫通孔12的開口部的周圍。而且，以虛線包圍的單位的導電層13作為一個導電路徑發揮功能(參照圖7B)。而且，彼此相鄰的二個導電層13以及13(例如，於圖7B為以虛線a1包圍的導電層13以及以虛線a2包圍的13)藉由凹道14而被絕緣(參照圖7B)。
導電層13的構成材料、其體積電阻率與依照上述實施型態一的片狀連接器10的導電層13的構成材料、其體積電阻率同樣地被構成。
導電層13的厚度為能夠得到充分的電導，且在絕緣層11的厚度方向按壓時多個導電層13彼此隔著凹道14而不接觸的範圍即可。具體而言，導電層13的厚度較佳為相較於凹道14的厚度以及深度小。
具體而言，導電層13的厚度可為0.1~5 μm。當導電層13的厚度為一定以上時，則易於得到充分的電導，當為一定以下時，則貫通孔12難以被堵住、或檢查對象物的端子難以由於與導電層13的接觸而損傷。再者，導電層13的厚度t於第一表面11a上是與絕緣層11的厚度方向平行的方向之厚度，於貫通孔12的內壁面12c上是相對於絕緣層11的厚度方向正交的方向之厚度(參照圖8)。
在第一表面11a側的藉由導電層13所包圍的空腔12’的圓等效直徑也與依照上述實施型態一的片狀連接器10為同樣的。
1-3.凹道14(第一凹道) 凹道14為形成於片狀連接器10的絕緣層11的第一表面11a的溝槽。具體而言，凹道14在第一表面11a上被配置於彼此相鄰的二個導電層13之間，並將它們之間絕緣。
凹道14的相對於延伸方向正交的方向之剖面形狀並無特別限制，為矩形、半圓形、U字型、V字型的任一者亦可。於本實施型態中，凹道14的剖面形狀為矩形。
凹道14的寬度w以及深度d較佳為被設定為在厚度方向按壓片狀連接器10時，通過凹道14而一側的導電層13與另一側的導電層13不接觸的範圍。
具體而言，當在厚度方向按壓片狀連接器10時，則通過凹道14而一側的導電層13與另一側的導電層13接近並易於接觸。因而，凹道14的寬度w較佳為相較於導電層13的厚度大，並較佳為相對於導電層13的厚度為2~20倍。
凹道14的寬度w是在第一表面11a相對於延伸凹道14的方向正交的方向之最大寬度(參照圖8)。凹道14的寬度w雖然相對於延伸凹道14的方向為固定亦可，為不同亦可，但是較佳為固定。
凹道14的深度d與導電層13的厚度相同亦可，較其大亦可。亦即，凹道14的最深部位於絕緣層11的第一表面11a亦可，位於絕緣層11的內部亦可。其中，自使其易於設定為一方的導電層13與另一方的導電層13隔著凹道14而不接觸之範圍的觀點來看，凹道14的深度d較佳為相較於導電層13的厚度大，更佳為相對於導電層13的厚度為1.5~20倍(參照圖7B)。
凹道14的深度d是所謂在與絕緣層11的厚度方向平行的方向，自導電層13的表面到最深部為止的深度(參照圖8)。凹道14的深度d雖然相對於延伸凹道14的方向為固定亦可，為不同亦可，但是較佳為固定。
凹道14的寬度w以及深度d為互相相同亦可，為不同亦可。
2.片狀連接器的製造方法 圖9A~G是表示依照本實施型態的片狀連接器10的製造方法的剖面圖。
依照本實施型態的片狀連接器10能夠以任意的方法製造。例如，片狀連接器10經過下列工序而被製造：1)準備具有基材層21A以及黏著層21B的堆疊片21的工序(參照圖9A)；2)將遮罩22配置於堆疊片21的基材層21A上，並在未以遮罩22覆蓋的部分形成多個貫通孔12的工序(參照圖9B以及C)；3)除去遮罩且以保護片24覆蓋黏著層21B露出的表面(參照圖9D)，在已形成有多個貫通孔12的堆疊片21的表面形成導電層23的工序(參照圖9E)；以及4)除去保護片24且形成具有自堆疊片21的導電層23的表面到基材層21A的表層部的深度之凹道14(參照圖9F)，並形成多個導電層13的工序(參照圖9G)。
關於1)~3)的工序，與上述實施型態一的1)~3)的工序為同樣的(參照圖9A~C)。
關於4)的工序 在堆疊片21的第一表面21a形成多個凹道14(參照圖9G)。藉此，藉由凹道14分開導電層23，而使其為對每個貫通孔12設置的多個導電層13(參照圖9G)。
凹道14的形成能夠以任意的方法進行。例如，凹道14的形成較佳為藉由雷射加工法進行。於本實施型態中，於第一表面21a，多個凹道14可被形成為交叉狀。
再者，片狀連接器10的製造方法與上述實施型態一同樣地，視需要更包括其他的工序(例如在上述實施型態一中的6)的工序等)亦可。
所得到的片狀連接器10與前述同樣地，能夠與作為電檢查的探測器使用的異方性導電片一同、或作為其替代品而使用。
依照本實施型態的片狀連接器與上述實施型態一同樣地，在電檢查裝置以及電檢查方法中，能夠與異方性導電片40一同作為片狀套組30而使用(參照前述的圖4~6)。
3.效果 根據依照本實施型態的片狀連接器10，除了前述的效果以外，還具有以下的效果。亦即，依照本實施型態的片狀連接器10因為導電層13不僅貫通孔12的內壁面12c，也被配置於第一表面11a上，所以可更降低與檢查對象物130的接觸電阻。藉此，藉由異方性導電片40以及片狀連接器10的堆疊物，能夠良好地電性連接電檢查裝置100的檢查用基板120的電極121與檢查對象物130的端子131。
[變形例] 再者，於上述實施型態中，雖然示出片狀連接器10的絕緣層11具有黏著層11B的例子，但是並不限於此，不具有黏著層11B亦可(參照圖10A以及11A)。
又，於上述實施型態一中，雖然示出僅第一導電層13的第一端部13a自第一表面11a突出，而第二端部13b不自第二表面11b突出的例子(參照圖1B)，但是並不限於此，第一導電層13的第一端部13a以及第二端部13b的兩方分別自第一表面11a以及第二表面11b突出亦可(參照圖10B)。
第一導電層13的第一端部13a的突出長度l1 較佳為相較於第二端部13b的突出長度l2 大(參照圖10B)。第一端部13a的突出長度l1 以及第二端部13b的突出長度l2 可分別為與上述實施型態一同樣的範圍。
又，於上述實施型態二中，雖然示出導電層13被連續配置於貫通孔12的內壁面12c以及第一表面11a上的貫通孔12的開口部的周圍，而未被配置於第二表面11b上的貫通孔12的開口部的周圍的例子，但是並不限於此。例如，導電層13除了貫通孔12的內壁面12c以及第一表面11a上的貫通孔12的開口部的周圍以外，也更被連續配置於第二表面11b上的貫通孔12的開口部的周圍亦可(參照圖11B)。在此情況下，在第二表面11b上的多個導電層13之間更配置有凹道15(第二凹道)(參照圖11B)。
具有這樣的結構的片狀連接器10不僅與檢查對象物的端子的電性連接，與檢查用基板的電極的電性連接也易於高度地進行。因此，不僅能夠作為與異方性導電片併用的片狀連接器而使用，也能夠作為異方性導電片的替代品而單獨使用。
又，於上述實施型態中，雖然示出不具有空腔的異方性導電片40的例子，但是並不限於此，與片狀連接器10同樣地，為具有空腔的異方性導電片40亦可。
圖12是表示依照變形例的異方性導電片40的局部剖面圖。
如圖12所示地，構成異方性導電片40的絕緣層41(第二絕緣層)更具有貫通第三表面41a與第四表面41b之間的多個貫通孔43(第二貫通孔)亦可。而且，多個導電路徑42的各個可為在多個貫通孔43的各個被連續配置於貫通孔43的內壁面43c以及第三表面41a上的貫通孔43的開口部的周圍之多個導電層44(第二導電層)。又，異方性導電片40具有配置於第三表面41a上的凹道45、以及配置於第四表面41b上的凹道46(第二凹道)。而且，多個導電路徑42的各個通過第三表面41a上的凹道45以及第四表面41b上的凹道46(第二凹道)而被互相絕緣。
又，於上述實施型態中，雖然示出將異方性導電片用於電檢查的例子，但是並不限於此，也能夠用於二個電子部件間的電性連接，例如玻璃基板與可撓性印刷基板之間的電性連接、基板與進一步安裝的電子零件之間的電性連接等。
本申請主張基於2019年11月22日申請的日本專利特願2019-211817的優先權。記載於此申請說明書的內容皆被援用於本申請說明書中。 [產業上的利用可能性]
根據本發明，能夠提供能夠一邊保護異方性導電片的表面的導電路徑，一邊更確實地進行與對象物的電性接觸之片狀連接器、片狀套組、電檢查裝置以及電檢查方法。
10:片狀連接器 1B-1B、5B-5B、7B-7B:線 11:絕緣層 11a、21a:第一表面 11b、21b:第二表面 11A、21A:基材層 11B、21B:黏著層 12、43:貫通孔 12’:空腔 12c、43c:內壁面 13、44:導電層 13a:第一端部 13b:第二端部 14、45:凹道(第一凹道) 15、46:凹道(第二凹道) 21:堆疊片 22:遮罩 23:導電層 24:保護片 30:片狀套組 40:異方性導電片 41:絕緣層(第二絕緣層) 41a:第三表面 41b:第四表面 42:導電路徑 42a:第三端部 42b:第四端部 100:電檢查裝置 110:保持容器 120:檢查用基板 121:電極 130:檢查對象物 131:(檢查對象物的)端子 a1、a2:虛線 d:深度 D1、D2:圓等效直徑 l1 、l2 :突出長度 L:長度 p1、p2:中心間隔距離(間距) t、ta、tb、T1、T2:厚度 w:寬度
[圖1]圖1A是表示依照實施型態一的片狀連接器的平面圖，圖1B是圖1A的1B-1B線的局部放大剖面圖； [圖2]圖2是圖1B的放大圖； [圖3-1]圖3A~F是表示依照實施型態一的片狀連接器的製造方法的局部剖面圖； [圖3-2]圖3G~I是表示依照實施型態一的片狀連接器的製造方法的局部剖面圖； [圖4]圖4是表示依照實施型態一的片狀套組的剖面圖； [圖5]圖5A是在實施型態一中的異方性導電片的平面圖，圖5B是圖5A的異方性導電片的5B-5B線的剖面圖； [圖6]圖6表示依照實施型態一的電檢查裝置的剖面圖； [圖7]圖7A是表示依照實施型態二的片狀連接器的平面圖，圖7B是圖7A的7B-7B線的局部放大剖面圖； [圖8]圖8是圖7B的放大圖； [圖9-1]圖9A~D是表示依照實施型態二的片狀連接器的製造方法的局部剖面圖； [圖9-2]圖9E~G是表示依照實施型態二的片狀連接器的製造方法的局部剖面圖； [圖10]圖10A以及B是表示依照變形例的片狀連接器的局部剖面圖； [圖11]圖11A以及B是表示依照變形例的片狀連接器的局部剖面圖；以及 [圖12]圖12是表示依照變形例的異方性導電片的局部剖面圖。
10:片狀連接器
11:絕緣層
11a:第一表面
11b:第二表面
11A:基材層
11B:黏著層
12:貫通孔
12’:空腔
12c:內壁面
13:導電層
13a:第一端部
13b:第二端部

Claims (21)

  1. 一種片狀連接器，具有： 第一絕緣層，具有位於厚度方向的一側的第一表面、位於另一側的第二表面、以及貫通所述第一表面與所述第二表面之間的多個第一貫通孔；以及 多個第一導電層，被配置於所述多個第一貫通孔的各個的內壁面；其中 在所述第一表面側的所述第一導電層的第一端部相較於所述第一表面突出。
  2. 如請求項1所述的片狀連接器，其中在所述第二表面側的所述第一導電層的第二端部相較於所述第二表面突出。
  3. 如請求項1所述的片狀連接器，其中所述第一絕緣層具有包括所述第一表面的第一基材層、以及包括所述第二表面的黏著層。
  4. 如請求項1所述的片狀連接器，其中 所述第一絕緣層具有藉由第一樹脂組合物所構成的第一基材層；且 所述第一樹脂組合物的玻璃轉化溫度為150℃以上。
  5. 如請求項1所述的片狀連接器，其中 所述第一絕緣層具有藉由第一樹脂組合物所構成的第一基材層；且 所述第一樹脂組合物的線膨脹係數為60 ppm/K以下。
  6. 如請求項1所述的片狀連接器，其中在所述第一表面側的所述第一導電層的所述第一端部的突出長度相較於在所述第二表面側的所述第一導電層的所述第二端部的突出長度大。
  7. 如請求項6所述的片狀連接器，其中所述第一端部的突出長度以及所述第二端部的突出長度分別為1~7 μm。
  8. 一種片狀連接器，具有： 第一絕緣層，具有位於厚度方向的一側的第一表面、位於另一側的第二表面、以及貫通所述第一表面與所述第二表面之間的多個第一貫通孔； 多個第一導電層，在所述多個第一貫通孔的各個被連續配置於所述第一貫通孔的內壁面以及所述第一表面上的所述第一貫通孔的開口部的周圍；以及 多個凹道，在所述第一表面上被配置於所述多個第一導電層之間並用於將其絕緣。
  9. 如請求項8所述的片狀連接器，其中所述凹道的寬度相較於所述第一導電層的厚度大。
  10. 如請求項8所述的片狀連接器，其中所述凹道的深度相較於所述第一導電層的厚度大。
  11. 如請求項8所述的片狀連接器，其中所述第一絕緣層具有包括所述第一表面的第一基材層、以及包括所述第二表面的黏著層。
  12. 如請求項3或11所述的片狀連接器，其中 所述黏著層的所述第二表面的、遵照ASTM D 2979:2016所測量的在25℃下的探針黏性值相較於所述第一基材層的所述第一表面的所述探針黏性值高；且 所述黏著層的所述探針黏性值為3 N/5 mmφ以上。
  13. 如請求項1所述的片狀連接器，其中在所述第一表面側的所述多個第一貫通孔的開口部的中心間隔距離p1為5~55 μm。
  14. 如請求項1所述的片狀連接器，是用於檢查對象物的電檢查之片狀連接器，其中所述檢查對象物被配置於所述片狀連接器的所述第一表面上。
  15. 一種片狀套組，具有： 如請求項1所述的片狀連接器；以及 異方性導電片，用於被配置於所述片狀連接器的所述第二表面；其中 所述異方性導電片具有第二絕緣層以及多個導電路徑，其中所述第二絕緣層具有位於厚度方向的一側的第三表面以及位於另一側的第四表面，所述多個導電路徑在所述第二絕緣層內以在所述厚度方向延伸般地被配置，且分別露出於所述第三表面以及所述第四表面的外部；且 所述片狀連接器的在所述第一表面側的所述多個第一貫通孔的開口部的中心間隔距離p1相較於所述異方性導電片的在所述第三表面側的所述多個導電路徑的中心間隔距離p2小。
  16. 如請求項15所述的片狀套組，其中 所述第二絕緣層更具有貫通所述第三表面與所述第四表面之間的多個第二貫通孔；且 所述多個導電路徑的各個是在所述多個第二貫通孔的各個被連續配置於所述第二貫通孔的內壁面以及所述第三表面上的所述第二貫通孔的開口部的周圍之多個第二導電層。
  17. 如請求項15所述的片狀套組，其中所述第一絕緣層的厚度相較於所述第二絕緣層的厚度薄。
  18. 如請求項15所述的片狀套組，其中 所述第一絕緣層具有藉由第一樹脂組合物所構成的第一基材層； 所述第二絕緣層具有藉由第二樹脂組合物所構成的第二基材層；且 所述第二樹脂組合物的貯藏彈性係數相較於所述第一樹脂組合物的貯藏彈性係數低。
  19. 如請求項15所述的片狀套組，是用於檢查對象物的電檢查之片狀套組，其中所述檢查對象物被配置於所述片狀連接器的所述第一表面上。
  20. 一種電檢查裝置，具有： 檢查用基板，具有多個電極；以及 如請求項1所述的片狀連接器或如請求項15所述的片狀套組的堆疊物，被配置於配置有所述檢查用基板的所述多個電極的表面上；其中 在所述片狀連接器的所述第一表面上配置有所述檢查對象物。
  21. 一種電檢查方法，具有：將具有多個電極的檢查用基板以及具有端子的檢查對象物，通過如請求項1所述的片狀連接器或如請求項15~19中任一項所述的片狀套組的堆疊物進行堆疊，將所述檢查用基板的所述電極以及所述檢查對象物的所述端子通過所述片狀連接器進行電性連接的工序；其中 在所述片狀連接器的所述第一表面上配置有所述檢查對象物。
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