TW202133931A - 觸媒製造用組合物、觸媒製造用組合物之製造方法、及製造氧化物觸媒之製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明係一種觸媒製造用組合物，其係製造氣相接觸氧化反應用觸媒或氣相接觸氨氧化反應用觸媒時所使用者，上述觸媒製造用組合物係包含鈮化合物及過氧化氫且任意地包含有機酸之水溶液，上述有機酸濃度相對於Nb濃度之莫耳比(有機酸/Nb)為0.00以上2.00以下，上述過氧化氫相對於Nb濃度之莫耳比(過氧化氫/Nb)為0.01以上50以下。

Description

觸媒製造用組合物、觸媒製造用組合物之製造方法、及製造氧化物觸媒之製造方法
本發明係關於一種觸媒製造用組合物、觸媒製造用組合物之製造方法、及製造氧化物觸媒之製造方法。
先前，作為製造丙烯腈時所使用之觸媒，應用有包含鉬、釩等複數種金屬之複合金屬氧化物。作為複合金屬氧化物觸媒之一般製造方法，例如可例舉包括如下步驟之方法：製備包含構成觸媒之金屬鹽之漿料，將其進行噴霧乾燥，並加以焙燒。此時，若包含金屬鹽之漿料不均勻，則所獲得之觸媒亦會變得不均勻，而導致無法獲得具有所需組成之複合金屬氧化物。因此，期望製備出均勻地溶解有金屬鹽之漿料。
金屬鹽有時會因該金屬鹽中之金屬種而顯現出難溶性，從而需要在由漿料獲得複合金屬氧化物時使該難溶性之金屬鹽充分地溶解。例如用作觸媒原料之金屬中，已知鈮(Nb)會形成觸媒中成為活性部位之骨架，又，於將包含鈮之觸媒用於反應之情形時，亦有助於抑制產物之分解等。作為觸媒原料之Nb源，普遍使用價格便宜且穩定之氧化鈮(Nb2 O5 )。然而，由於Nb2 O5 為水難溶性，故於觸媒原料漿料中添加能夠足以提高觸媒性能之量之Nb2 O5 之情形時，難以獲得均勻之漿料。因此，為了製造複合金屬氧化物觸媒，業界正在研究用以獲得包含鈮之均勻漿料之方法。
例如，於專利文獻1中揭示有一種藉由使用如下製造裝置來製備含鈮化合物之水溶液之方法，上述製造裝置具備：混合槽，其具有耐腐蝕性，且設置有攪拌機構、加熱機構及冷卻機構；及過濾器，其用以過濾未溶解之Nb化合物及析出之二羧酸，且該製造裝置係於加壓下進行過濾。專利文獻1之方法中，使用如下方法，即，將Nb2 O5 與包含草酸等羧酸作為螯合劑之水溶液一同進行加熱，形成草酸Nb錯合物，並以草酸Nb錯合物水溶液之形式獲得，自該草酸Nb錯合物水溶液獲得漿料。根據專利文獻1之方法，業界認為所獲得之Nb化合物與二羧酸之水性混合液能夠減少Nb化合物之未溶解或析出，而可提高Nb之回收率及混合液之生產性。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]國際公開第2012/105543號
[發明所欲解決之問題]
專利文獻1中，關於可用於觸媒製造之固體鈮原料與草酸之水性混合液，如上所述，係將包含草酸等酸物質作為螯合劑之水溶液與作為固體鈮原料之Nb2 O5 一同進行加熱，形成草酸Nb錯合物，並以草酸鈮錯合物水溶液之形式獲得。此處，草酸係作為還原劑發揮作用，因此有由上述水溶液所獲得之複合金屬氧化物觸媒變為過度還原之狀態之虞，而有使觸媒活性降低之顧慮。因此，需要極力控制草酸之使用量，但若控制草酸相對於鈮量之使用量，則會導致Nb化合物之溶解性降低。
於專利文獻1中，具體而言，首先，一面加熱一面製備包含草酸之水溶液，向其中添加Nb2 O5 並一面加熱一面進行攪拌，藉此獲得水性混合液。然後，使該水性混合液經過自然放置冷卻、靜置、進一步之冷卻及靜置之步驟，而使過量存在之草酸作為固體析出。進而藉由過濾去除所析出之固體，藉此獲得草酸鈮錯合物水溶液。
根據上述方法，可去除過量存在之草酸，但依然存在以下問題，即，草酸Nb錯合物水溶液以冷卻步驟溫度下之飽和狀態包含草酸，而無法充分除盡無用之草酸。又，由於以固體形式被去除之草酸會被廢棄，故要想降低成本、減小環境負荷，而要求控制草酸之使用量，且草酸係有害物質，就此方面考慮，亦要求控制其使用量。
進而，草酸Nb錯合物水溶液之製造步驟包括冷卻及去除固體之步驟，由於其製造過程繁雜，故要求有可簡便地獲得草酸鈮錯合物水溶液之方法。
因此，本發明之課題在於提供一種包含鈮化合物之同時控制了草酸等酸物質之使用量之觸媒製造用組合物、及能夠有效率地獲得該觸媒製造用組合物之製造方法、以及使用該觸媒製造用組合物來製造氧化物觸媒之製造方法。 [解決問題之技術手段]
本發明人等為了解決上述課題而反覆銳意研究，結果發現，藉由使用固體鈮原料及過氧化氫，能夠在控制草酸等酸物質之使用量之同時，有效率地獲得包含鈮化合物之水溶液，從而完成本發明。
即，本發明包括以下態樣。 [1] 一種觸媒製造用組合物，其係製造氣相接觸氧化反應用觸媒或氣相接觸氨氧化反應用觸媒時所使用者， 上述觸媒製造用組合物係包含鈮化合物及過氧化氫且任意地包含有機酸之水溶液， 上述觸媒製造用組合物中之上述有機酸濃度相對於Nb濃度之莫耳比(有機酸/Nb)為0.00以上2.00以下， 上述觸媒製造用組合物中之上述過氧化氫相對於Nb濃度之莫耳比(過氧化氫/Nb)為0.01以上50以下。 [2] 如[1]所記載之觸媒製造用組合物，其中 上述有機酸係選自由二羧酸、二羧酸之酸酐、二羧酸之水合物、及羥基羧酸所組成之群中之1種以上之羧酸化合物。 [3] 如[1]或[2]中任一項所記載之觸媒製造用組合物，其中 於上述觸媒製造用組合物之利用拉曼光譜法所得之拉曼光譜中， 在890 cm-1 以上1000 cm-1 以下之範圍內所觀察到之最大峰之強度Y相對於在500 cm-1 以上650 cm-1 以下之範圍內所觀察到之最大峰之強度X的比之比(Y/X)為0以上1.0以下。 [4] 如[1]至[3]中任一項所記載之觸媒製造用組合物，其中 於上述觸媒製造用組合物之利用拉曼光譜法所得之拉曼光譜中，於685 cm-1 以上785 cm-1 以下之範圍具有波峰。 [5] 一種觸媒製造用組合物，其係製造氣相接觸氧化反應用觸媒或氣相接觸氨氧化反應用觸媒時所使用者， 上述觸媒製造用組合物係包含鈮化合物及過氧化氫且任意地包含有機酸之水溶液， 於上述觸媒製造用組合物之利用拉曼光譜法所得之拉曼光譜中， 在890 cm-1 以上1000 cm-1 以下之範圍所觀察到之最大峰之強度Y相對於在500 cm-1 以上650 cm-1 以下之範圍所觀察到之最大峰之強度X的比之比(Y/X)為0以上1.0以下。 [6] 如[5]所記載之觸媒製造用組合物，其中 上述觸媒製造用組合物中上述有機酸濃度相對於Nb濃度之莫耳比(有機酸/Nb)為0.00以上2.00以下， 上述觸媒製造用組合物中上述過氧化氫相對於Nb濃度之莫耳比(過氧化氫/Nb)為0.01以上50以下。 [7] 一種氧化物觸媒之製造方法，其係製造不飽和酸或不飽和腈時所使用之氣相接觸氧化反應用觸媒或氣相接觸氨氧化反應用觸媒之製造方法，該製造方法包括： 製備包含Mo原料、V原料及Sb原料之水性混合液之步驟； 將如[1]至[6]中任一項所記載之觸媒製造用組合物與上述水性混合液加以混合而製備前驅物漿料之步驟； 使用上述前驅物漿料，對其加以乾燥而獲得乾燥粒子之乾燥步驟；及 將上述乾燥粒子加以焙燒而獲得焙燒粒子之焙燒步驟。 [8] 一種觸媒製造用組合物之製造方法，其係製造氣相接觸氧化反應用觸媒或氣相接觸氨氧化反應用觸媒時所使用之觸媒製造用組合物之製造方法，該製造方法包括： 混合步驟，其將固體鈮原料與過氧化氫水加以混合而製備固體鈮原料分散液；及 溶解步驟，其使上述固體鈮原料分散液中之上述固體鈮原料溶解而製備含鈮化合物之水溶液； 上述含鈮化合物之水溶液中過氧化氫相對於鈮化合物之Nb濃度之莫耳比(過氧化氫/Nb)為0.01以上50以下， 上述溶解步驟之溫度為40℃以上70℃以下。 [9] 如[8]所記載之觸媒製造用組合物之製造方法，其中於上述混合步驟進而混合有機酸， 上述含鈮化合物之水溶液中之上述有機酸濃度相對於上述鈮化合物之Nb濃度之莫耳比(有機酸/Nb)為0.00以上2.00以下。 [10] 如[8]或[9]所記載之觸媒製造用組合物之製造方法，其中 上述固體鈮原料包含鈮酸。 [11] 如[8]至[10]中任一項所記載之觸媒製造用組合物之製造方法，其中 上述有機酸包含選自由二羧酸、二羧酸之酸酐、二羧酸之水合物、及羥基羧酸所組成之群中之1種以上之羧酸化合物。 [12] 一種製造不飽和酸或不飽和腈時所使用之氣相接觸氧化反應用觸媒或氣相接觸氨氧化反應用觸媒之製造方法，其包括： 藉由如[8]至[11]中任一項所記載之觸媒製造用組合物之製造方法來製備上述觸媒製造用組合物之步驟； 製備包含Mo原料、V原料及Sb原料之水性混合液之步驟； 將上述觸媒製造用組合物與上述水性混合液加以混合而製備前驅物漿料之步驟； 使用上述前驅物漿料，對其加以乾燥而獲得乾燥粒子之乾燥步驟；及 將上述乾燥粒子加以焙燒而獲得焙燒粒子之焙燒步驟。 [發明之效果]
根據本發明，能夠提供一種包含鈮化合物之同時控制了草酸等酸物質之使用量之觸媒製造用組合物、及能夠有效率地獲得該觸媒製造用組合物之製造方法、以及使用該觸媒製造用組合物來製造氧化物觸媒之製造方法。
以下，對本發明之實施之形態(以下稱為「本實施方式」)詳細地進行說明。再者，本發明並不受以下之本實施方式限制，可於其主旨之範圍內進行各種變化而實施。
[觸媒製造用組合物之製造方法] 本實施方式之觸媒製造用組合物之製造方法係製造氣相接觸氧化反應用觸媒或氣相接觸氨氧化反應用觸媒時所使用之觸媒製造用組合物之製造方法，該製造方法包括：混合步驟，其將固體鈮原料及過氧化氫加以混合而製備固體鈮原料分散液；溶解步驟，其使固體鈮原料分散液中之固體鈮原料溶解而製備含有鈮化合物之水溶液(以下，有時稱為「含鈮化合物之水溶液」)；含鈮化合物之水溶液中過氧化氫相對於Nb濃度之莫耳比(過氧化氫/Nb)為0.01以上50以下，溶解步驟之溫度為40℃以上70℃以下。
本實施方式中之觸媒製造用組合物係指作為用以製作氣相接觸氧化反應用觸媒或氣相接觸氨氧化反應用觸媒之材料的組合物，係藉由上述步驟所獲得之含有鈮化合物之水溶液。
此處，於本說明書中，「固體鈮原料」係指獲得觸媒製造用組合物時，與過氧化氫水溶液進行混合前之粉末狀鈮原料等鈮原料之固體物。「固體鈮原料分散液」係只是將固體鈮原料及過氧化氫混合在一起之狀態的分散液，係指過氧化氫水使固體鈮原料溶解之前之狀態。
又，「鈮化合物」係指含鈮化合物之水溶液或觸媒製造用組合物中固體鈮原料已溶解之狀態之鈮原料，例如可例舉：鈮-過氧化氫-草酸錯合物、鈮-過氧化氫錯合物、鈮-草酸錯合物及包含其等中之2種以上之凝集體等。
本實施方式之製造方法中，由固體鈮原料及過氧化氫獲得含有鈮化合物之水溶液。藉由使用過氧化氫水來製備含鈮化合物之水溶液，不過量使用草酸等酸物質便可獲得含有鈮化合物之水溶液。又，藉由本實施方式之製造方法，可省去先前製備含鈮化合物之水溶液時所進行之使剩餘之酸物質析出並將之去除的步驟。因此，根據本實施方式之製造方法，不過量使用酸物質便能夠有效率地獲得含鈮化合物之水溶液。
作為固體鈮原料，並無特別限定，只要為包含鈮元素之化合物即可。作為固體鈮原料，例如可例舉：草酸氫鈮、草酸鈮銨、NbCl3 、NbCl5 、Nb2 (C2 O4 )5 、氧化鈮(亦記為Nb2 O5 )、鈮酸、Nb(OC2 H5 )5 、鈮之鹵化物、鈮之鹵化銨鹽等，但並不限定於此。其等可單獨使用1種，亦可將2種以上組合使用。
其中，於向觸媒製造用組合物中添加其他金屬之情形時，要想減小對其他金屬之影響，較佳為Nb2 O5 、鈮酸及草酸氫鈮。再者，鈮酸可包含氫氧化鈮及氧化鈮(Nb2 O5 )。作為固體鈮原料，可使用剛製造固體鈮原料後所得者，亦可使用包含因長期保存或脫水進行而發生了變質之固體鈮原料者。
製備觸媒製造用組合物時，固體鈮原料可為固體，亦可為懸浮液之形態。例如，於使用鈮酸之情形時，要想進一步提高溶解性，較佳為粒徑較小之鈮酸。鈮酸亦可於使用前藉由氨水及/或水進行洗淨。
於本實施方式之製造方法中，固體鈮原料之粒徑較佳為0.2 μm以上20 μm以下。藉由使粒徑為0.2 μm以上，有由於固體鈮原料之微粒子彼此之黏著性變大，而使得固體鈮原料之表面之乾燥得到抑制，故而溶解性之提高傾向。藉由使粒徑為20 μm以下，有由於固體鈮原料之表面積變大，故可提高溶解性之傾向。固體鈮原料之粒徑更佳為0.7 μm以上15.0 μm以下，進而較佳為2.0 μm以上10.0 μm以下。
於本實施方式之製造方法中，含鈮化合物之水溶液中之過氧化氫相對於Nb濃度之莫耳比(過氧化氫/Nb)為0.01以上50以下，較佳為0.5以上10以下。藉由使莫耳比(過氧化氫/Nb)為0.01以上，有固體鈮原料對水之溶解性提高之傾向。藉由使莫耳比(過氧化氫/Nb)為50以下，有不會影響所獲得之觸媒之功能性而可提高溶解性之傾向。
莫耳比(過氧化氫/Nb)之下限較佳為0.5以上，更佳為1.0以上，進而較佳為2.0以上。另一方面，莫耳比(過氧化氫/Nb)之上限較佳為45.0以下，更佳為30.0以下。
於本實施方式之製造方法中，可於獲得含鈮化合物之水溶液時進而添加有機酸。因此，作為一個本實施方式之製造方法包括如下情況，即於獲得含鈮化合物之水溶液之步驟中，進而混合有機酸。藉由將有機酸混合至含鈮化合物之水溶液中，有可進一步提高固體鈮原料對水之溶解性之傾向。
作為本實施方式中之有機酸，並無特別限定，例如可例舉：選自由二羧酸、二羧酸之酸酐、二羧酸之水合物、及羥基羧酸所組成之群中之1種以上之羧酸化合物等。作為二羧酸，例如可例舉：草酸、丙二酸、琥珀酸、戊二酸等。其等可單獨使用1種，亦可將2種以上組合使用。其中，要想抑制製造觸媒時金屬氧化物之過度還原，較佳為草酸。草酸較佳為草酸酐、草酸二水合物。
上述羥基羧酸係指1分子中具有羥基及羧基之化合物。作為羥基羧酸，例如可例舉：2-羥基丙二酸、DL-蘋果酸、L-蘋果酸、D-蘋果酸、酒石酸、檸檬酸、異檸檬酸等。
於本實施方式之製造方法中，於製備包含有機酸之固體鈮原料分散液之情形時，含鈮化合物之水溶液中有機酸之添加量相對於Nb濃度之莫耳比(有機酸/Nb)的上限並無特別限制，較佳為2.50以下，進而較佳為2.30以下，更佳為2.00以下，進而更佳為1.80以下，更進一步較佳為1.50以下，特佳為1.00以下。另一方面，莫耳比(有機酸/Nb)之下限為0.00以上。所謂莫耳比(有機酸/Nb)為0.00，即，0係指不添加有機酸之情形。
本實施方式之製造方法中，可控制草酸等作為還原劑發揮作用之有機酸之使用量。認為由控制了草酸等之量之含鈮化合物之水溶液獲得的複合金屬氧化物觸媒其成為過度還原之狀態得到控制，觸媒之活性提高，而有助於提高反應產物之產率。因此，例如於尤其是使用草酸等作為還原劑發揮作用之有機酸作為有機酸之情形時，有藉由減少有機酸之含量，可提高由該含鈮化合物之水溶液獲得之複合金屬氧化物觸媒之活性，從而提高反應產物之產率的傾向。
本實施方式之製造方法包括：將固體鈮原料與過氧化氫加以混合而製備固體鈮原料分散液之混合步驟。於混合步驟中，亦可視需要添加有機酸而製備包含有機酸之固體鈮原料分散液。混合步驟之溫度並無特別限定，通常為常溫，又，亦可與下述溶解步驟之溫度同樣地設為40℃以上70℃以下。本說明書中，「常溫」係指15℃以上25℃以下之範圍程度之溫度。
本實施方式之製造方法包括溶解步驟，該步驟係為了獲得含鈮化合物之水溶液，而將固體鈮原料、過氧化氫、水、及視需要添加之有機酸加以混合，並於40℃以上70℃以下之條件下使固體鈮原料進行溶解。藉由將溫度設為40℃以上，有促進固體鈮原料之溶解之傾向。又，藉由將溫度設為70℃以下，有抑制過氧化氫之分解之傾向，又，於混合物包含有機酸等添加劑之情形時，有於觸媒製造用組合物中所形成之有機酸與Nb之錯合物穩定，即便Nb濃度較高亦可進一步確保充分之分散性的傾向。溫度更佳為60℃以下。
於本實施方式之溶解步驟中，加熱方法並無特別限定。較佳為於加熱時與加熱一同進行攪拌。
於本實施方式之製造方法中，要想使固體鈮原料充分地溶解，較理想的是使混合後經過之時間充分。要想即便於含鈮化合物之水溶液中Nb濃度較高之情形時亦可確保充分之分散性，較佳為實施0.2小時以上20小時以下之溶解步驟，更佳為實施0.3小時以上15小時以下，進而較佳為實施0.5小時以上10小時以下。
作為本實施方式之混合步驟中所使用之水之溫度，並無特別限定，較佳為10℃以上50℃以下。藉由使水之溫度為10℃以上，有於溶解步驟中固體鈮原料之溶解更容易進行之傾向。藉由使水之溫度為50℃以下，可防止投入口之周圍被水蒸氣潤濕，而變得容易投入固體鈮原料。
添加固體鈮原料、過氧化氫、視需要添加之有機酸時之溫度亦無特別限定，出現與上述相同之原因，較佳為於50℃以下之溫度下進行添加。
本實施方式之製造方法只要可獲得含鈮化合物之水溶液，則無特別限定，以任意順序調配固體鈮原料、過氧化氫、水、及視需要添加之有機酸即可。
要想防止固體鈮原料未溶解，較佳為於存在水之系統內，一面添加固體鈮原料、過氧化氫、及可任意添加之有機酸一面進行攪拌。較佳為之後將所獲得之混合物升溫至40℃以上70℃以下之範圍。升溫速度並無特別限定，通常設為1℃/hr以上60℃/hr以下即可。
於加熱至超過40℃之情形時，較佳為將加熱後之混合物降溫至40℃以下，此時之降溫速度較佳為0.002℃/min以上3℃/min以下。藉由使降溫速度為0.002℃/min以上，有可抑制鈮再析出之傾向。藉由使降溫速度為3℃/min以下，有可防止由突然降溫導致之鈮之析出，而獲得均質之液體之傾向。
於本實施方式之製造方法中，可將混合固體鈮原料、過氧化氫及水所獲得之含鈮化合物之水溶液作為觸媒製造用組合物，亦可將以如下方式獲得之含有鈮化合物之水溶液作為觸媒製造用組合物，該含有鈮化合物之水溶液係將固體鈮原料、過氧化氫及水加以混合而獲得含Nb之混合物，將該含Nb之混合物供給至過濾機進行過濾後所得。具體而言，較佳為具有將上述含Nb之混合物供給至過濾器來進行過濾之步驟。藉此，可去除混合物中之鈮之未溶解分、有機酸之未溶解分、析出成分等固形物成分。所使用之濾紙只要為5種A以上細網之濾紙，便適宜使用，例如，可使用安雲濾紙股份有限公司製造之A No3250。於過濾步驟，較佳為針對上述混合物，藉由過濾以1 kg/hr以上100 kg/hr以下之速度將析出物過濾分離，而獲得均勻之溶液。過濾期間，為了將濾液之溫度保持固定，亦可使冷卻水通過設置在過濾器外側之夾套。
於本實施方式之製造方法中，較佳為以含鈮化合物之水溶液中Nb濃度成為0.10 mol/kg以上之方式添加固體鈮原料。藉由使Nb濃度為0.10 mol/kg以上，有對於觸媒製造用組合物而言充分之Nb濃度得到確保之傾向。要想抑制含鈮化合物之水溶液中之鈮之析出以提高保存性，Nb濃度較佳為1.00 mol/kg以下。自該等方面考慮，Nb濃度更佳為0.20 mol/kg以上1.00 mol/kg以下，進而較佳為0.20 mol/kg以上0.70 mol/kg以下。
又，於本實施方式之製造方法中，含鈮化合物之水溶液中過氧化氫濃度(H2 O2 濃度)並無特別限定，只要滿足上述莫耳比(過氧化氫/Nb)即可，通常為0.3 mol/kg以上9.0 mol/kg以下。含鈮化合物之水溶液中過氧化氫濃度之上限較佳為10.0 mol/kg以下，更佳為9.0 mol/kg以下。另一方面，過氧化氫濃度之下限較佳為0.2 mol/kg以上，更佳為0.3 mol/kg以上。
[觸媒製造用組合物] 如上所述，本發明人等發現，於製造含鈮化合物之水溶液時，藉由使用過氧化氫水，可不使用有機酸而使固體鈮原料溶解，而獲得含鈮化合物之水溶液，從而首次得到控制了有機酸等酸物質之使用量之含有鈮化合物之水溶液。
在製備含鈮化合物之水溶液時藉由使用過氧化氫，可使有機酸/Nb降低至2.00以下並且增大水溶液中之Nb濃度。
因此，本實施方式觸媒製造用組合物之一種係製造氣相接觸氧化反應用觸媒或氣相接觸氨氧化反應用觸媒時所使用者，觸媒製造用組合物係包含鈮化合物及過氧化氫且任意地包含有機酸之水溶液，並且觸媒製造用組合物中有機酸量相對於Nb濃度之莫耳比(有機酸/Nb)為0.00以上2.00以下，觸媒製造用組合物中過氧化氫相對於Nb濃度之莫耳比(過氧化氫/Nb)為0.01以上50以下。
本實施方式之觸媒製造用組合物中之莫耳比(有機酸/Nb)較佳為1.80以下，更佳為1.50以下，進而較佳為1.00以下，特佳為未達1.00。又，莫耳比(有機酸/Nb)之下限為0.00以上。所謂莫耳比(有機酸/Nb)為0.00，即，係指包括有機酸之含量為0之情形。藉由使莫耳比(有機酸/Nb)為2.00以下，有控制有機酸之量之同時可獲得包含Nb之水溶液的傾向。
再者，本實施方式之觸媒製造用組合物中之莫耳比(有機酸/Nb)及莫耳比(過氧化氫/Nb)係分別基於觸媒製造用組合物中之Nb濃度、有機酸濃度(Ox濃度)及過氧化氫濃度(H2 O2 濃度)來計算。測定各者之濃度時，使用製備該組合物後經過任意時間者來進行測定即可，例如於靜置1天後進行測定。再者，即便在靜置1天後，各莫耳比亦未見有意差。
上述各濃度具體而言，可藉由下述實施例所記載之方法進行測定。 又，作為使莫耳比(有機酸/Nb)為2.00以下之方法，例如可例舉藉由上述本實施方式之觸媒製造用組合物之製造方法來進行調整之方法。
於本實施方式之觸媒製造用組合物中，過氧化氫相對於Nb濃度之莫耳比(過氧化氫/Nb)為0.01以上50以下。莫耳比(過氧化氫/Nb)之下限較佳為0.5以上，更佳為1.0以上，進而較佳為2.0以上。另一方面，莫耳比(過氧化氫/Nb)之上限較佳為45.0以下，更佳為30.0以下。藉由使莫耳比(過氧化氫/Nb)為0.01以上，有控制有機酸量之同時可獲得包含Nb之水溶液的傾向。又，藉由使莫耳比(過氧化氫/Nb)為50以下，有不會影響藉由觸媒製造所獲得之觸媒之功能性而可提高溶解性之傾向。
本實施方式之觸媒製造用組合物中，Nb濃度並無特別限定，只要滿足上述莫耳比(有機酸/Nb)及莫耳比(過氧化氫/Nb)即可，通常為0.2 mol/kg以上1.0 mol/kg以下。觸媒製造用組合物之Nb濃度之上限較佳為1.2 mol/kg以下，更佳為1.0 mol/kg以下。另一方面，Nb濃度之下限較佳為0.1 mol/kg以上，更佳為0.2 mol/kg以上。
本實施方式之觸媒製造用組合物中，過氧化氫濃度(H2 O2 濃度)並無特別限定，只要滿足上述莫耳比(過氧化氫/Nb)即可，通常為0.3 mol/kg以上9.0 mol/kg以下。觸媒製造用組合物中過氧化氫濃度之上限較佳為10.0 mol/kg以下，更佳為9.0 mol/kg以下。另一方面，過氧化氫濃度之下限較佳為0.2 mol/kg以上，更佳為0.3 mol/kg以上。
本實施方式之觸媒製造用組合物中，有機酸濃度(Ox濃度)並無特別限定，只要滿足上述莫耳比(有機酸/Nb)即可，通常為0 mol/kg以上1.5 mol/kg以下。觸媒製造用組合物中之有機酸濃度之上限較佳為1.6 mol/kg以下，更佳為1.5 mol/kg以下。另一方面，有機酸濃度之下限較佳為0 mol/kg以上，更佳為0.1 mol/kg以上。
本實施方式之觸媒製造用組合物及藉由本實施方式之製造方法所獲得之觸媒製造用組合物藉由在製成固體鈮原料之水溶液時使用過氧化氫，可提高固體鈮原料之溶解性。作為其原因之一，認為藉由使用過氧化氫，形成與僅使用有機酸之情形不同之錯合物，該錯合物有助於提高溶解性。
作為本實施方式中所形成之錯合物，例如可例舉以下之式(I)～(III)所表示之錯合物等(參照Inorg. Chem., Vol.43 (19), 5999, 2004、ACS Catal., vol.8, 4645, 2018等)。
[化1]
Figure 02_image001
Figure 02_image003
(Ox表示有機酸之配位基) 上述式(I)～(III)之結構如以下所說明。 式(I)：配位有草酸1個分子及過氧化氫2個分子之鈮錯合物 式(II)：配位有草酸1個分子之鈮錯合物 式(III)配位有過氧化氫1個分子之鈮錯合物
本實施方式之觸媒製造用組合物於不含有機酸之情形時，可包含上述式(III)所表示之錯合物或其他結構之錯合物。於包含有機酸之情形時，本實施例形態之觸媒製造用組合物可包含上述式(I)～(III)中之至少一者或其他結構之錯合物。
實際上，當利用拉曼光譜法來測定本實施方式之觸媒製造用組合物及藉由本實施方式之製造方法所獲得之觸媒製造用組合物時，會取得與僅使用有機酸之情形之錯合物不同之拉曼光譜(參照圖1)。因此，本實施方式之觸媒製造用組合物之利用拉曼光譜法之測定可視為本實施方式之觸媒製造用組合物的一種鑑定方法。
根據上述觀點，本實施方式之一觸媒製造用組合物係製造氣相接觸氧化反應用觸媒或氣相接觸氨氧化反應用觸媒時所使用者，觸媒製造用組合物係包含鈮化合物及過氧化氫且任意地包含有機酸之水溶液，於利用拉曼光譜法測定該觸媒製造用組合物時所獲得之拉曼光譜中，在890 cm-1 以上1000 cm-1 以下之範圍所觀察到之最大峰之強度Y相對於在500 cm-1 以上650 cm-1 以下之範圍所觀察到之最大峰之強度X的比之比(Y/X)較佳為0以上1.0以下。
藉由使比(Y/X)為1.0以下，有可提高Nb對於水之溶解性之傾向。比(Y/X)較佳為0.8以下，更佳為0.6以下，進而較佳為0.4以下，特佳為0.3以下。比(X/Y)之下限並無特別限制，通常為0.0以上。所謂比(X/Y)為0.0，即，0.0係指不包含僅使用有機酸之情形時之錯合物之情形。
又，本實施方式之觸媒製造用組合物較佳為於其利用拉曼光譜法所得之拉曼光譜中，於685 cm-1 以上785 cm-1 以下之範圍內具有波峰。於685 cm-1 以上785 cm-1 以下之範圍具有波峰意味著存在較多Nb-O-Nb之結構。由於在Nb濃度較高之水溶液中易形成Nb-O-Nb之結構，故可根據在685 cm-1 以上785 cm-1 以下之範圍內之波峰來確認上述情況。並且，如上所述Nb濃度較高之水溶液由於在觸媒之製造步驟容易調整至適當條件，故較為理想。尤其是若於乾燥步驟中Nb濃度較高，則所製造之觸媒粒子之形狀會接近球形，變得良好。
再者，關於Y之波峰，其係與配位有草酸之Nb中所產生之Nb=O鍵之振動對應者，關於X之波峰，其係不論是否配位草酸均與Nb-O鍵之振動對應者(參照J. Raman. Spec., Vol.22, 83-89, 1991等)。
再者，本實施方式之觸媒製造用組合物亦可同時具有基於莫耳比(有機酸/Nb)及莫耳比(過氧化氫/Nb)之構成、及基於比(Y/X)之構成。
又，關於觸媒製造用組合物中之鈮化合物及有機酸，可例舉與上述觸媒製造用組合物之製造方法中所述之鈮化合物及有機酸相同者。
[觸媒之製造方法] 一個本實施方式係製造不飽和酸或不飽和腈時所使用之氣相接觸氧化反應用或氣相接觸氨氧化反應用的氧化物觸媒之製造方法。本實施方式之氧化物觸媒之製造方法只要使用本實施方式之觸媒製造用組合物，或者包括本實施方式之觸媒製造用組合物之製造方法之步驟，則無特別限定。即，本實施方式之氧化物觸媒之製造方法係製造不飽和酸或不飽和腈時所使用之氧化物觸媒之製造方法，該製造方法包括使用本實施方式之觸媒製造用組合物而獲得氧化物觸媒之步驟。又，本實施方式之氧化物觸媒之製造方法係製造不飽和酸或不飽和腈時所使用之氧化物觸媒之製造方法，該製造方法包括本實施方式之觸媒製造用組合物之製造方法之步驟。
作為本實施方式之觸媒之製造方法，具體而言，較佳為包括：製備包含Mo原料、V原料及Sb原料之水性混合液之步驟；將觸媒製造用組合物與水性混合液加以混合而製備前驅物漿料之步驟；對前驅物漿料加以乾燥而獲得乾燥粒子之乾燥步驟；及將乾燥粒子加以焙燒而獲得焙燒粒子之焙燒步驟。
又，作為本實施方式之觸媒之製造方法，較佳為包括：藉由本實施方式之觸媒製造用組合物之製造方法製備觸媒製造用組合物之步驟；製備包含Mo原料、V原料及Sb原料之水性混合液之步驟；將觸媒製造用組合物與水性混合液加以混合而製備前驅物漿料之步驟；對前驅物漿料加以乾燥而獲得乾燥粒子之乾燥步驟；及將乾燥粒子加以焙燒而獲得焙燒粒子之焙燒步驟。
作為藉由該等方法所獲得之觸媒，較佳為含有Mo、V、Sb及Nb之丙烯腈製造用觸媒。以下對各步驟進行說明，但在本實施方式之觸媒製造用組合物之製造方法中製備觸媒製造用組合物之步驟如上文所述前述，因此省略相關說明。
(前驅物漿料製備步驟) 關於本實施方式之觸媒之製造方法，作為最初之步驟，可包括製備前驅物漿料之前驅物漿料製備步驟，上述前驅物漿料包含本實施方式之觸媒製造用組合物及/或藉由本實施方式之觸媒製造用組合物之製造方法所獲得之觸媒製造用組合物。
前驅物漿料製備步驟包括：製備包含Mo原料、V原料及Sb原料之水性混合液之步驟；及將觸媒製造用組合物與水性混合液加以混合而製備前驅物漿料之步驟。
此處，作為除固體鈮原料及可任意包含有機酸以外之用以製備前驅物漿料之原料，並無特別限定，例如可使用下述化合物。作為Mo之原料，例如可例舉：氧化鉬、二鉬酸銨、七鉬酸銨、磷鉬酸、矽鉬酸，其中，適宜使用七鉬酸銨。作為V之原料，例如可例舉五氧化釩、偏釩酸銨、硫酸氧釩，其中，適宜使用偏釩酸銨。作為Sb之原料，適宜使用銻氧化物。
以下，例舉製備包含Mo、V、Nb、Sb之前驅物漿料之情形作為一例來具體地進行說明。首先，將七鉬酸銨、偏釩酸銨、三氧化二銻粉末添加至水中，加熱至80℃以上而製備水性混合液。此時，例如於觸媒包含Ce之情形時，可同時混合包含Ce之化合物。作為包含Ce之化合物，例如適宜使用硝酸鈰-六水合物
繼而，視目標組成，將事先製備好之本實施方式之觸媒製造用組合物與水性混合液加以混合而獲得前驅物漿料。例如於觸媒包含W或Ce之情形時，將包含W之化合物或包含Ce之化合物適當加以混合而獲得前驅物漿料。
作為包含W之化合物，例如適宜使用偏鎢酸銨。作為包含Ce之化合物，例如適宜使用硝酸鈰-六水合物。包含W或Ce之化合物可添加至水性混合液之中，亦可在將觸媒製造用組合物與水性混合液加以混合時同時添加。
於觸媒為將複合金屬氧化物擔載於二氧化矽載體上而成之觸媒的情形時，可以包含二氧化矽原料之方式製備前驅物漿料，於此情形時，二氧化矽原料適宜添加。作為二氧化矽原料，例如適宜使用矽溶膠。
又，於使用銻之情形時，較佳為向水性混合液或調製過程中包含水性混合液之成分之液體中添加過氧化氫。此時，H2 O2 /Sb(莫耳比)較佳為0.01以上5以下，更佳為0.05以上4以下。又，此時，較佳為於30℃以上70℃以下之溫度下持續攪拌30分鐘以上2小時以下。如此獲得之前驅物漿料亦有時為均勻之混合液，但通常為漿料。
(乾燥步驟) 於乾燥步驟中，對上述步驟中所獲得之前驅物漿料加以乾燥，獲得乾燥粒子。乾燥可利用公知之方法來進行，例如，可藉由噴霧乾燥或蒸乾來進行，較佳為藉由噴霧乾燥獲得微小球狀之乾燥粒子。噴霧乾燥法中之噴霧化可利用離心方式、二流體噴嘴方式、或高壓噴嘴方式來進行。乾燥熱源可使用蒸氣、經電熱器等加熱之空氣。噴霧乾燥裝置之乾燥機入口溫度較佳為150℃以上300℃以下，乾燥機出口溫度較佳為100℃以上160℃以下。
(焙燒步驟) 於焙燒步驟中，將乾燥步驟中所獲得之乾燥粒子加以焙燒，獲得焙燒粒子。作為焙燒裝置，可使用旋轉爐(旋轉窯)。焙燒器之形狀並無特別限定，若為管狀，則可實施連續之焙燒，故而較佳。焙燒管之形狀並無特別限定，較佳為圓筒。加熱方式較佳為外熱式，適宜使用電爐。
焙燒管之大小、材質等可根據焙燒條件或製造量而選擇適合者，焙燒管之內徑較佳為70 mm以上2000 mm以下，更佳為100 mm以上1200 mm以下，焙燒管之長度較佳為200 mm以上10000 mm以下，更佳為800 mm以上8000 mm以下。關於焙燒器之壁厚，要想於焙燒器受到衝擊之情形時具有不會因衝擊而破損之程度之充分厚度，較佳為2 mm以上，更佳為4 mm以上，又，要想使衝擊充分地傳遞至焙燒器內部，較佳為100 mm以下，更佳為50 mm以下。作為焙燒器之材質，只要具有耐熱性且具有不會因衝擊而破損之強度即可，並無特別限定，適宜使用SUS。
於焙燒管中，亦可與粒子流向垂直地設置在中心部具有用以供粒子通過之孔之堰板，從而將焙燒管區隔出2個以上之區域。藉由設置堰板，而變得易於確保焙燒管內滯留時間。堰板之數量可為1個亦可為複數個。堰板之材質較佳為金屬，適宜使用與焙燒管相同材質者。堰板之高度可根據應確保之滯留時間來進行調整。例如於具有利用內徑150 mm、長1150 mm之SUS製焙燒管之旋轉爐以250 g/hr之速度供給粒子之情形時，堰板較佳為5 mm以上50 mm以下，更佳為10 mm以上40 mm以下，進而較佳為13 mm以上35 mm以下。堰板之厚度並無特別限定，較佳為視焙燒管之大小來進行調整。例如於旋轉爐具有內徑150 mm、長度1150 mm之SUS製焙燒管之情形時，焙燒管之厚度較佳為0.3 mm以上30 mm以下，更佳為0.5 mm以上15 mm以下。
為了防止乾燥粒子之破裂、皸裂等並且均勻地進行焙燒，較佳為使焙燒管旋轉。焙燒管之轉速較佳為0.1 rpm以上30 rpm以下，更佳為0.5 rpm以上20 rpm以下，進而較佳為1 rpm以上10 rpm以下。
焙燒乾燥粒子時，較佳為將乾燥粒子之加熱溫度自低於400℃之溫度起開始升溫，連續或間斷性地升溫至處於550℃以上800℃以下之範圍內之溫度。
關於焙燒氣體氛圍，可於空氣氛圍下亦可於空氣流通下，較佳為一面使氮氣等實質上不含氧氣之惰性氣體流通一面實施至少一部分焙燒。關於惰性氣體之供給量，每1 kg乾燥粒子為50 NL以上，較佳為50 NL以上5000 NL以下，更佳為50 NL以上3000 NL以下(NL係指於標準溫度及壓力條件下，即於0℃、1氣壓下所測得之L)。此時，惰性氣體與乾燥粒子可對流亦可並流，若考慮到乾燥粒子所產生之氣體成分或與乾燥粒子一同微量混入之空氣，較佳為對流接觸。
焙燒步驟以1個階段便可實施，但較佳為焙燒包括前段焙燒及正式焙燒，於250℃以上400℃以下之溫度範圍進行前段焙燒，於550℃以上800℃以下之溫度範圍進行正式焙燒。可連續實施前段焙燒及正式焙燒，亦可在先完成前段焙燒後再實施正式焙燒。又，前段焙燒及正式焙燒各自亦可分為數個階段。
前段焙燒較佳為於惰性氣體流通下，且於加熱溫度250℃以上400℃以下進行，較佳為於300℃以上400℃以下之範圍內進行。較佳為於250℃以上400℃以下之溫度範圍內之一定溫度進行保持，但於250℃以上400℃以下之範圍內溫度可產生變動，或者緩慢地升溫、降溫。加熱溫度之保持時間較佳為30分鐘以上，更佳為3小時以上12小時以下。
達到前段焙燒溫度之前之升溫圖案可呈直線地上升，亦可呈向上或向下凸出之弧而升溫。
達到前段焙燒溫度之前之升溫時之平均升溫速度並無特別限定，通常約為0.1℃/min以上15℃/min以下，較佳為0.5℃/min以上5℃/min以下，更佳為1℃/min以上2℃/min。
正式焙燒較佳為於惰性氣體流通下，且於550℃以上800℃以下、較佳為580℃以上750℃以下、更佳為600℃以上720℃以下、進而較佳為620℃以上700℃以下之溫度下實施。較佳為於620℃以上700℃以下之溫度範圍內之一定溫度進行保持，但於620℃以上700℃以下之範圍內溫度可產生變動，或者緩慢地升溫、降溫。正式焙燒之時間為0.5小時以上20小時以下，較佳為1小時以上15小時以下。
於利用堰板來對焙燒管進行區隔之情形時，乾燥粒子及/或複合氧化物觸媒連續通過至少2個、較佳為2個以上20個以下、更佳為4個以上15個以下之區域。溫度之控制可使用1個以上之控制器來進行，為了獲得所需之焙燒圖案，較佳為對該等被堰板區隔出之每個區域分別設置加熱器及控制器來進行控制。例如，以將焙燒管之供進入到加熱爐內之部分之長度進行8等分的方式設置7片堰板而區隔出8個區域，於使用此種焙燒管之情形時，較佳為針對8個區域，在每個區域都設置加熱器及控制器，藉此來控制各區域之設定溫度，以使乾燥粒子及/或複合氧化物觸媒之溫度成為所需之焙燒溫度圖案。再者，亦可視需要向惰性氣體流通下之焙燒氣體氛圍中添加氧化性成分(例如氧)或還原性成分(例如氨)。
達到正式焙燒溫度之前之升溫圖案可呈直線地上升，亦可呈向上或向下地凸出之弧而升溫。
達到正式焙燒溫度之前之升溫時之平均升溫速度並無特別限定，通常為0.1℃/min以上15℃/min以下，較佳為0.5℃/min以上10℃/min以下，更佳為1℃/min以上8℃/min以下。
正式焙燒完成後之平均降溫速度較佳為0.05℃/min以上100℃/min以下，更佳為0.1℃/min以上50℃/min以下。又，亦較佳為於較正式焙燒溫度低之溫度下暫時保持。所保持之溫度係較正式焙燒溫度低10℃、較佳為低50℃、更佳為低100℃之溫度。所保持之時間為0.5小時以上，較佳為1小時以上，更佳為3小時以上，進而較佳為10小時以上。
於先完成前段焙燒後再實施正式焙燒之情形時，較佳為於正式焙燒時進行低溫處理。
關於低溫處理所需之時間，即，使乾燥粒子及/或複合氧化物觸媒之溫度降低後進行升溫而達到焙燒溫度所需之時間，可根據焙燒器之大小、壁厚、材質、觸媒生產量、連續地焙燒乾燥粒子及/或複合氧化物觸媒之整個期間、固著速度、固著量等來適當調整。例如，於使用內徑500 mm、長度4500 mm、壁厚20 mm之SUS製焙燒管之情形時，於連續地焙燒觸媒之整個期間中較佳為30天以內，更佳為15天以內，進而較佳為3天以內，特佳為2天以內。
例如，一面以6 rpm使具有內徑500 mm、長度4500 mm、壁厚20 mm之SUS製焙燒管之旋轉爐旋轉一面以35 kg/hr之速度供給乾燥粒子，將正式焙燒溫度設定為645℃之情形時，可進行1天左右如下步驟，即，使溫度降低至400℃後，再進行升溫而達到645℃。於1年間連續地加以焙燒之情形時，以1個月1次之頻率來實施此種低溫處理，藉此可一面穩定地維持氧化物層溫度一面進行焙燒。
[觸媒] 藉由本實施方式之觸媒之製造方法所獲得之觸媒例如包含式(1)所表示之複合金屬氧化物。 Mo1 Va Nbb Sbc Yd On (1) (式中，Y表示選自Mn、W、B、Ti、Al、Te、鹼金屬、鹼土類金屬及稀土類金屬中之至少1種以上之元素，a、b、c、d及n分別表示V、Nb、Sb、Y相對於1個鉬(Mo)原子之原子比，0.1≦a≦1、0.01≦b≦1、0.01≦c≦1、0≦d≦1，n表示由氧以外之構成元素之原子價所決定之氧原子之數)
相對於1個Mo原子之原子比a、b、c、d分別較佳為0.1≦a≦1、0.01≦b≦1、0.01≦c≦1、0≦d≦1，更佳為0.1≦a≦0.5、0.01≦b≦0.5、0.1≦c≦0.5、0.0001≦d≦0.5，進而較佳為0.15≦a≦0.3、0.05≦b≦0.2、0.15≦c≦0.3、0.0002≦d≦0.2。
於以流體床使用觸媒之情形時，由於要求充分之強度，故觸媒較佳為於二氧化矽載體上擔載有金屬複合氧化物之觸媒。本實施方式中，相對於複合金屬氧化物與二氧化矽載體之合計總質量，二氧化矽載體之質量以SiO2 換算計，較佳為10質量%以上80質量%以下，更佳為20質量%以上60質量%以下，進而較佳為30質量%以上55質量%以下。關於作為載體之二氧化矽之質量，自強度及防止粉化、使用觸媒時之穩定運轉之容易性及減少損耗之觸媒之補充之方面考慮，相對於複合金屬氧化物與二氧化矽之合計總質量，較佳為10質量%以上，自達成充分之觸媒活性之方面考慮，相對於複合金屬氧化物與二氧化矽之合計總質量，較佳為80質量%以下。尤其是以流體床使用觸媒之情形時，若二氧化矽之量為80質量%以下，則二氧化矽擔載觸媒(複合金屬氧化物＋二氧化矽載體)之比重適當，易形成良好之流動狀態。
[丙烯腈之製造方法] 一個本實施方式係一種丙烯腈之製造方法，該製造方法使用藉由本實施方式之觸媒之製造方法所獲得之觸媒。本實施方式之丙烯腈之製造方法較佳為如下方法，即，藉由上述方法製備觸媒，使丙烷、氨及氧(分子狀氧)以氣相之形式與所獲得之觸媒進行接觸(氣相接觸氨氧化反應)，從而製造丙烯腈。
丙烷及氨之供給原料未必需要高純度，可使用工業級之氣體。作為供給氧源，可使用空氣、純氧氣或經純氧氣富化之空氣。進而，還可供給作為稀釋氣體之氦氣、氖氣、氬氣、二氧化碳、水蒸氣、氮氣等。
於氨氧化反應之情形時，供給至反應系統之氨相對於丙烷之莫耳比為0.3以上1.5以下，較佳為0.8以上1.2以下。氧化反應及氨氧化反應中，供給至反應系統內之分子狀氧相對於丙烷之莫耳比均為0.1以上6以下，較佳為0.1以上4以下。
又，氧化反應及氨氧化反應之任者中，反應壓力為0.5 atm以上5 atm以下，較佳為1 atm以上3 atm以下，反應溫度為350℃以上500℃以下，較佳為380℃以上470℃以下，接觸時間為0.1 sec・g/cc以上10 sec・g/cc以下，較佳為0.5 sec・g/cc以上5 sec・g/cc以下。
本實施方式中，接觸時間係以下式來定義。 接觸時間(sec・g/cc)＝(W/F)×273/(273＋T)×P 此處， W＝觸媒之質量(g)， F＝標準狀態(0℃、1 atm)下之原料混合氣體流量(Ncc/sec)， T＝反應溫度(℃)， P＝反應壓力(atm)。 丙烷轉化率及丙烯腈產率分別依據以下之定義。 丙烷轉化率(%)＝(經反應之丙烷之莫耳數)/(所供給之丙烷之莫耳數)×100 丙烯腈產率(%)＝(所生成之丙烯腈之莫耳數)/(所供給之丙烷之莫耳數)×100
反應方式可採用固定床、流體床、移動床等先前之方式，但較佳為流體床反應，其原因在於：反應熱之除熱較為容易且觸媒層之溫度可大致保持均一；能夠在運轉時自反應器中抽出觸媒；可追加觸媒等。 [實施例]
以下，例舉實施例對本實施方式更具體地進行說明，但本實施方式不受該等實施例任何限定。
[實施例1] (觸媒製造用組合物之製備) 向混合槽內加入水137.49 kg後，將水加熱至50℃。繼而，一面攪拌，一面投入草酸二水合物[H2 C2 O4 ・2H2 O]1.14 kg，並使其溶解。進而，投入過氧化氫水(35.5質量%水溶液)5.74 kg，然後添加鈮酸(以Nb2 O5 換算計為75.0質量%)5.3 kg。藉由於50℃下將該液體加熱攪拌6小時，獲得均勻之混合液。將藉此獲得之水溶性混合液作為實施例1之觸媒製造用組合物。
(觸媒製造用組合物中之Nb濃度、草酸濃度、及過氧化氫濃度) 首先，將10 g觸媒製造用組合物精秤至坩堝中，於120℃下乾燥2小時後，於600℃下進行2小時熱處理，根據所獲得之固體Nb2 O5 之重量，以下述方式算出觸媒製造用組合物之Nb濃度。 [焙燒後所獲得之固體之重量(單位：g)]÷(265.8÷2)÷[精秤所得之觸媒製造用組合物之重量(單位：kg)]＝[觸媒製造用組合物之Nb濃度(單位：mol/kg)] 再者，265.8係Nb2 O5 之分子量(單位：g/mol)。
又，將3 g觸媒製造用組合物精秤至300 mL之玻璃燒杯中，加入約80℃之熱水20 mL，然後加入1：1硫酸10 mL。一面於水浴中將藉由如上方式獲得之混合液保持為液溫70℃，一面於攪拌下，使用1/4當量濃度之KMnO4 進行滴定。以因KMnO4 產生之微弱淡桃色持續約30秒以上之時作為終點。草酸及過氧化氫之合計濃度係根據滴定量依照下式算出。 2KMnO4 ＋3H2 SO4 ＋5H2 C2 O4 →K2 SO4 ＋2MnSO4 ＋10CO2 ＋8H2 O 2KMnO4 ＋3H2 SO4 ＋5H2 O2 →K2 SO4 ＋2MnSO4 ＋5O2 ＋8H2 O
再者，上述測定中，於觸媒製造用組合物中發現沈澱之情形時，藉由傾析法分離沈澱物與上清液，測定該上清液部分之濃度。 草酸濃度係藉由離子層析法來定量。
離子層析法係使用東曹公司之離子層析法系統IC-2010，以抑制因子方式使用管柱TSKgel SuperIC-AZ(4.6 mmI.D.×15 cm)來進行分析。注入30 μL稀釋至500倍之試料，利用絕對校準曲線法分析濃度。 過氧化氫之濃度係根據藉由滴定所求出之草酸與過氧化氫之合計濃度與藉由離子層析法所求出之草酸濃度的差量算出。
根據上述要點，測定所獲得之觸媒製造用組合物之Nb濃度、過氧化氫濃度、及草酸濃度，算出莫耳比(草酸/Nb，表中記為「Ox/Nb」；過氧化氫/Nb，表中記為「H2 O2 /Nb」)。
針對以如下方式製備而成之實施例2～5及比較例1～3之觸媒製造用組合物，亦與實施例1同樣地測定各成分之濃度。
[實施例2] 將水之量設為57.95 kg，將過氧化氫水之添加量設為86.03 kg，將草酸二水合物[H2 C2 O4 ・2H2 O]之添加量設為0.38 kg，除此以外，與實施例1同樣地獲得均勻之混合液。將藉此獲得之水溶性混合液作為實施例2之觸媒製造用組合物。
[實施例3] 將水之量設為15.32 kg，將過氧化氫水之添加量設為129.05 kg，且不添加草酸二水合物，除此以外，與實施例1同樣地獲得均勻之混合液。將藉此獲得之水溶性混合液作為實施例3之觸媒製造用組合物。
[實施例4] 將鈮酸之添加量設為12.20 kg，將草酸二水合物[H2 C2 O4 ・2H2 O]之添加量設為13.09 kg，將水之量設為98.00 kg，將過氧化氫水之量設為26.38 kg，除此以外，與實施例1同樣地獲得均勻之混合液。將藉此獲得之水溶性混合液作為實施例4之觸媒製造用組合物。
[實施例5] 將鈮酸之添加量設為12.20 kg，將草酸二水合物[H2 C2 O4 ・2H2 O]之添加量設為13.09 kg，將水之量設為111.19 kg，將過氧化氫水之添加量設為13.19 kg，除此以外，與實施例1同樣地獲得均勻之混合液。將藉此獲得之水溶性混合液作為實施例5之觸媒製造用組合物。
[實施例6] 將鈮酸之添加量設為12.20 kg，將草酸二水合物[H2 C2 O4 ・2H2 O]之添加量設為0.87 kg，將水之量設為4.68 kg，將過氧化氫水之添加量設為131.92 kg，除此以外，與實施例1同樣地獲得均勻之混合液。將藉此獲得之水溶性混合液作為實施例6之觸媒製造用組合物。
[實施例7] 將鈮酸之添加量設為17.24 kg，將草酸二水合物[H2 C2 O4 ・2H2 O]之添加量設為12.33 kg，將水之量設為82.82 kg，將過氧化氫水之添加量設為37.28 kg，除此以外，與實施例1同樣地獲得均勻之混合液。將藉此獲得之水溶性混合液作為實施例7之觸媒製造用組合物。
[實施例8] 將鈮酸之添加量設為18.61 kg，將水之量設為10.68 kg，將過氧化氫水之添加量設為120.71 kg，且不添加草酸二水合物，除此以外，與實施例1同樣地獲得均勻之混合液。將藉此獲得之水溶性混合液作為實施例8之觸媒製造用組合物。
[實施例9] 將鈮酸之添加量設為18.61 kg，將草酸二水合物[H2 C2 O4 ・2H2 O]之添加量設為6.65 kg，將水之量設為24.15 kg，將過氧化氫水之添加量設為100.59 kg，除此以外，與實施例1同樣地獲得均勻之混合液。將藉此獲得之水溶性混合液作為實施例9之觸媒製造用組合物。
[實施例10] 將鈮酸之添加量設為18.61 kg，將草酸二水合物[H2 C2 O4 ・2H2 O]之添加量設為19.96 kg，將水之量設為101.38 kg，將過氧化氫水之添加量設為10.06 kg，除此以外，與實施例1同樣地獲得均勻之混合液。將藉此獲得之水溶性混合液作為實施例10之觸媒製造用組合物。
[實施例11] 將鈮酸之添加量設為18.61 kg，將草酸二水合物[H2 C2 O4 ・2H2 O]之添加量設為21.29 kg，將水之量設為9.51 kg，將過氧化氫水之添加量設為100.59 kg，除此以外，與實施例1同樣地獲得均勻之混合液。將藉此獲得之水溶性混合液作為實施例11之觸媒製造用組合物。
[實施例12] 將鈮酸之添加量設為18.61 kg，將草酸二水合物[H2 C2 O4 ・2H2 O]之添加量設為22.62 kg，將水之量設為98.72 kg，將過氧化氫水之添加量設為10.06 kg，除此以外，與實施例1同樣地獲得均勻之混合液。將藉此獲得之水溶性混合液作為實施例12之觸媒製造用組合物。
[實施例13] 將鈮酸之添加量設為18.61 kg，將草酸二水合物[H2 C2 O4 ・2H2 O]之添加量設為23.95 kg，將水之量設為97.39 kg，將過氧化氫水之添加量設為10.06 kg，除此以外，與實施例1同樣地獲得均勻之混合液。將藉此獲得之水溶性混合液作為實施例13之觸媒製造用組合物。
[實施例14] 將鈮酸之添加量設為18.57 kg，將草酸二水合物[H2 C2 O4 ・2H2 O]之添加量設為26.55 kg，將水之量設為99.56 kg，將過氧化氫水之添加量設為5.02 kg，除此以外，與實施例1同樣地獲得均勻之混合液。將藉此獲得之水溶性混合液作為實施例14之觸媒製造用組合物。
[比較例1] (觸媒製造用組合物之製備) 向混合槽內加入水83.12 kg後，將水加熱至40℃。繼而，一面攪拌，一面投入草酸二水合物[H2 C2 O4 ・2H2 O]52.27 kg，然後投入作為Nb2 O5 之含有75.0質量%之鈮酸14.62 kg，於水中將兩者加以混合。一面對藉由在95℃下將該液體加熱攪拌4小時所獲得之水性混合液進行攪拌，一面藉由自然放置冷卻而冷卻至40℃。之後，以-10℃/hr之條件冷卻至2℃，並放置1小時。接下來，向過濾機中注入所析出之固體與混合液之混合體，過濾所析出之固體，藉此獲得均勻之混合液。將藉此獲得之水溶性混合液作為比較例1之觸媒製造用組合物。
[比較例2] (觸媒製造用組合物之製備) 向混合槽內加入水75.14 kg後，將水加熱至50℃。繼而，一面攪拌，一面投入草酸二水合物[H2 C2 O4 ・2H2 O]57.4 kg，然後投入作為Nb2 O5 之含有76.3質量%之鈮酸17.49 kg，於水中將兩者加以混合。一面對藉由在90℃下將該液體加熱攪拌6小時所獲得之水性混合液進行攪拌，一面藉由自然放置冷卻而冷卻至40℃。之後，以-10℃/hr之條件冷卻至2℃，並放置1小時。接下來，向過濾機中注入所析出之固體與混合液之混合體，過濾所析出之固體，藉此獲得均勻之混合液。將藉此獲得之水溶性混合液作為比較例2之觸媒製造用組合物。
[比較例3] (觸媒製造用組合物之製備) 向混合槽內加入水76.38 kg後，將水加熱至50℃。繼而，一面攪拌，一面投入草酸二水合物[H2 C2 O4 ・2H2 O]54.74 kg，然後投入作為Nb2 O5 之含有76.0質量%之鈮酸18.89 kg，於水中將兩者加以混合。一面對藉由在95℃下將加熱攪拌該液體3小時所獲得之水性混合液進行攪拌，一面藉由自然放置冷卻而冷卻至40℃。之後，以-10℃/hr之條件冷卻至2℃，並放置1小時。接下來，向過濾機中注入所析出之固體與混合液之混合體，過濾所析出之固體，藉此獲得均勻之混合液。將藉此獲得之水溶性混合液作為比較例3之觸媒製造用組合物。
[比較例4] (觸媒製造用組合物之製備) 向混合槽內加入水4.08 kg及過氧化氫水(35.5質量%水溶液)79.04g後，將水加熱至40℃。繼而，一面攪拌，一面投入草酸二水合物[H2 C2 O4 ・2H2 O]52.3 kg，然後投入作為Nb2 O5 之含有75.0質量%之鈮酸14.62 kg，於水中將兩者加以混合。一面對藉由在95℃下將該液體加熱攪拌4小時所獲得之水性混合液進行攪拌，一面藉由自然放置冷卻而冷卻至40℃。之後，以-10℃/hr之條件冷卻至2℃，並放置1小時。接下來，向過濾機中注入所析出之固體與混合液之混合體，過濾所析出之固體，藉此獲得均勻之混合液。將藉此獲得之水溶性混合液作為比較例4之觸媒製造用組合物。
(觸媒之製造) [觸媒製造例1] 使用實施例1之觸媒製造用組合物，並以如下所述，複合金屬氧化物之組成成為Mo1 V0.24 Nb0.15 Sb0.27 W0.03 Ce0.005 On(n由氧以外之構成元素之原子價決定)之方式來製造觸媒。 (前驅物漿料之製備) 向24.27 kg水中加入七鉬酸銨[(NH4 )6Mo7 O24 ・4H2 O]4.03 kg、偏釩酸銨[NH4 VO3 ]0.64 kg、三氧化二銻[Sb2 O3 ]0.89 kg、及硝酸鈰0.05 kg，一面攪拌一面於95℃下加熱1小時，從而製備水性混合液(B1)。
將所獲得之水性混合液(B1)冷卻至70℃後，向該水性混合液(B1)中添加含有34.0質量%之SiO2 之矽溶膠7.04 kg，進而，添加含有35.5質量%之H2 O2 之過氧化氫水1.78 kg，於55℃下持續攪拌30分鐘。進而向該液體中依序添加：實施例1中所獲得之觸媒製造用組合物17.01 kg(以換算為氧化鈮(Nb2 O5 )之重量計含有0.45 kg之氧化鈮)、使粉體二氧化矽(日本艾羅技公司製造、商品名「艾羅技200」)2.4 kg分散於21.6 kg水中所得之分散液、及以氧化鎢計包含50.2重量%之偏鎢酸銨液0.319 kg，之後，於50℃下攪拌2.5小時，從而獲得前驅物漿料(D1)。
(乾燥粒子(E1)之製備) 繼而，將以如上所述之方式獲得之前驅物漿料(D1)供給至離心式噴霧乾燥器而加以乾燥，獲得微小球狀且平均粒徑為51 μm之乾燥粒子(E1)。乾燥器之入口溫度為210℃，出口溫度為120℃。
(乾燥粒子(E1)之焙燒) 將以上述之方式獲得之乾燥粒子(E1)500 g填充至內徑3英吋(76 mm)、長度300 mm、壁厚3 mm之SUS製焙燒管中，於5.0 NL/min之氮氣流通下，一面使焙燒管以其長度方向為軸來旋轉，一面進行前段焙燒及正式焙燒。於前段焙燒中，以升溫速度0.75℃/分自室溫升溫至340℃，於340℃下焙燒1小時。然後，於正式焙燒中，以升溫速度3℃/分自340℃升溫至670℃，於670℃下保持2小時，之後，以降溫速度1℃/分降溫至350℃，藉此加以焙燒而獲得焙燒體(F1)。
(突起物之去除) 利用下述方法去除存在於觸媒粒子表面之突起物。向垂直管(內徑41.6 mm、長度70 cm)中投入焙燒體(F1)50 g，該垂直管其底部具備直徑1/64英吋之開有3個孔之開孔圓盤，且於上部設置有濾紙。在此時氣流流動之方向上氣流長度為52 mm，氣流之平均線速度為310 m/s。於24小時後所獲得之複合氧化物觸媒(G1)中並無突起物。
[觸媒製造例2～3] 使用實施例2～3之觸媒製造用組合物17.01 kg代替實施例1之觸媒製造用組合物17.01 kg，除此以外，與觸媒製造例1同樣地，分別製造觸媒製造例2～3之觸媒。
[觸媒製造例4～6] 使用鈮氧化物重量相當於0.45 kg之實施例4～6之觸媒製造用組合物7.40 kg來代替鈮氧化物重量相當於0.45 kg之實施例1之觸媒製造用組合物17.01 kg，除此以外，與觸媒製造例1同樣地，分別製造觸媒製造例4～6之觸媒。
[觸媒製造例7] 使用鈮氧化物重量相當於0.45 kg之實施例7之觸媒製造用組合物5.24 kg來代替鈮氧化物重量相當於0.45 kg之實施例1之觸媒製造用組合物17.01 kg，除此以外，與觸媒製造例1同樣地，分別製造觸媒製造例7之觸媒。
[觸媒製造例8～14] 使用鈮氧化物重量相當於0.45 kg之實施例8～14之觸媒製造用組合物4.86 kg來代替鈮氧化物重量相當於0.45 kg之實施例1之觸媒製造用組合物17.01 kg，除此以外，與觸媒製造例1同樣地，分別製造觸媒製造例8～14之觸媒。
[比較觸媒製造例1] 使用鈮氧化物重量相當於0.45 kg之比較例1之觸媒製造用組合物4.54 kg來代替鈮氧化物重量相當於0.45 kg之實施例1之觸媒製造用組合物17.01 kg，除此以外，與觸媒製造例1同樣地，製造比較觸媒製造例1之觸媒。
[比較觸媒製造例2] 使用鈮氧化物重量相當於0.45 kg之比較例2之觸媒製造用組合物3.78 kg來代替鈮氧化物重量相當於0.45 kg之實施例1之觸媒製造用組合物17.01 kg，除此以外，與觸媒製造例1同樣地，製造比較觸媒製造例2之觸媒。
[比較觸媒製造例3] 使用鈮氧化物重量相當於0.45 kg之比較例3之觸媒製造用組合物4.73 kg來代替鈮氧化物重量相當於0.45 kg之實施例1之觸媒製造用組合物17.01 kg，除此以外，與觸媒製造例1同樣地，製造比較觸媒製造例3之觸媒。
[比較觸媒製造例4] 使用鈮氧化物重量相當於0.45 kg之比較例4之觸媒製造用組合物4.48 kg來代替鈮氧化物重量相當於0.45 kg之實施例1之觸媒製造用組合物17.01 kg，除此以外，與觸媒製造例1同樣地，製造比較觸媒製造例4之觸媒。
[觸媒製造例15] 於觸媒製造例10中，將前驅物漿料之製備以如下方式變更，除此以外，與觸媒製造例10同樣地，以複合金屬氧化物之組成成為Mo1 V0.17 Nb0.14 Sb0.27 W0.03 Ce0.005 On (n由氧以外之構成元素之原子價決定)之方式，製造觸媒製造例15之觸媒。 (前驅物漿料之製備) 向水22.13g中加入七鉬酸銨[(NH4 )6Mo7 O24 ・4H2 O]4.17 kg、偏釩酸銨[NH4 VO3 ]0.47 kg、三氧化二銻[Sb2 O3 ]0.93 kg、及硝酸鈰0.05 kg，一面進行攪拌一面於95℃下加熱1小時，從而製備水性混合液(B1)。
將所獲得之水性混合液(B1)冷卻至70℃後，向該水性混合液(B1)中添加含有34.0質量%之SiO2 之矽溶膠7.04 kg，進而，添加含有35.5質量%之H2 O2 之過氧化氫水1.78 kg，於55℃下持續攪拌30分鐘。進而向該液體中依序添加：實施例10中獲得之觸媒製造用組合物4.70 kg(以換算為氧化鈮(Nb2 O5 )之重量計含有0.44 kg之氧化鈮)、使粉體二氧化矽(日本艾羅技公司製造、商品名「艾羅技200」)2.4 kg分散於21.6 kg水中所得之分散液、及以氧化鎢計包含50.2重量%之偏鎢酸銨液0.325 kg，之後，於50℃下攪拌2.5小時，獲得前驅物漿料(D1)。
[比較觸媒製造例5] 使用於比較例2中獲得之觸媒製造用組合物4.90 kg(以換算為氧化鈮(Nb2 O5 )之重量計含有0.44 kg之氧化鈮)來代替實施例10之觸媒製造用組合物，除此以外，與觸媒製造例15同樣地，製造比較觸媒製造例5之觸媒。
[觸媒製造例16] 於觸媒製造例10中，將前驅物漿料之製備以如下方式變更，除此以外，與觸媒製造例10同樣地，以複合金屬氧化物之組成成為Mo1 V0.24 Nb0.19 Sb0.18 W0.005 Ce0.005 On (n由氧以外之構成元素之原子價決定)之方式，製造觸媒製造例16之觸媒。
(前驅物漿料之製備) 向水20.91g中加入七鉬酸銨[(NH4 )6Mo7 O24 ・4H2 O]4.28 kg、偏釩酸銨[NH4 VO3 ]0.68 kg、三氧化二銻[Sb2 O3 ]0.63 kg、及硝酸鈰0.05 kg，一面進行攪拌一面於95℃下加熱1小時，從而製備水性混合液(B1)。
將所獲得之水性混合液(B1)冷卻至70℃後，向該水性混合液(B1)中添加含有34.0質量%之SiO2 之矽溶膠7.04 kg，進而，添加含有35.5質量%之H2 O2 之過氧化氫水1.78 kg，於55℃下持續攪拌30分鐘。進而向該液體中依序添加：實施例10中獲得之觸媒製造用組合物6.54 kg(以換算為氧化鈮(Nb2 O5 )之重量計含有0.61 kg之氧化鈮)、使粉體二氧化矽(日本艾羅技公司製造、商品名「艾羅技200」)2.4 kg分散於21.6 kg水中所得之分散液、及以氧化鎢計包含50.2重量%之偏鎢酸銨液0.056 kg，之後，於50℃下攪拌2.5小時，獲得前驅物漿料(D1)。
[比較觸媒製造例6] 使用比較例2所獲得之觸媒製造用組合物6.83 kg(以換算為氧化鈮(Nb2 O5 )之重量計含有0.61 kg之氧化鈮)來代替實施例10之觸媒製造用組合物，除此以外，與觸媒製造例16同樣地，製造比較觸媒製造例6之觸媒。
[觸媒製造例17] 於觸媒製造例10中，將前驅物漿料之製備以如下方式變更，除此以外，與觸媒製造例10同樣地，以複合金屬氧化物之組成成為Mo1 V0.25 Nb0.1 Sb0.27 W0.05 Ce0.005 On (n由氧以外之構成元素之原子價決定)之方式，製造觸媒製造例17之觸媒。
(前驅物漿料之製備) 向水23.99g中加入七鉬酸銨[(NH4 )6Mo7 O24 ・4H2 O]4.05 kg、偏釩酸銨[NH4 VO3 ]0.67 kg、三氧化二銻[Sb2 O3 ]0.90 kg、及硝酸鈰0.05 kg，一面進行攪拌一面於95℃下加熱1小時，從而製備水性混合液(B1)。
將所獲得之水性混合液(B1)冷卻至70℃後，向該水性混合液(B1)中添加含有34.0質量%之SiO2 之矽溶膠7.04 kg，進而，添加含有35.5質量%之H2 O2 之過氧化氫水1.78 kg，於55℃下持續攪拌30分鐘。進而向該液體中依序添加：實施例10中獲得之觸媒製造用組合物3.26 kg(以換算為氧化鈮(Nb2 O5 )之重量計含有0.30 kg之氧化鈮)、使粉體二氧化矽(日本艾羅技公司製造、商品名「艾羅技200」)2.4 kg分散於21.6 kg水中所得之分散液、及以氧化鎢計包含50.2重量%之偏鎢酸銨液0.526 kg，之後，於50℃下攪拌2.5小時，獲得前驅物漿料(D1)。
[比較觸媒製造例7] 使用比較例2中所獲得之觸媒製造用組合物3.40 kg(以換算為氧化鈮(Nb2 O5 )之重量計含有0.30 kg之氧化鈮)來代替實施例10之觸媒製造用組合物，除此以外，與觸媒製造例17同樣地，製造比較觸媒製造例7之觸媒。
[觸媒製造例18] 於觸媒製造例10中，將前驅物漿料之製備以如下方式變更，除此以外，與觸媒製造例10同樣地，以複合金屬氧化物之組成成為Mo1 V0.25 Nb0.14 Sb0.26 W0.05 Ti0.05 Mn0.03 Ce0.01 On (n由氧以外之構成元素之原子價決定)之方式，製造觸媒製造例18之觸媒。
(前驅物漿料之製備) 向水25.45g中加入七鉬酸銨[(NH4 )6Mo7 O24 ・4H2 O]3.97 kg、偏釩酸銨[NH4 VO3 ]0.65 kg、三氧化二銻[Sb2 O3 ]0.85 kg、草酸氧鈦銨一水合物0.328 kg、硝酸錳六水合物0.192 kg及硝酸鈰0.10 kg，一面進行攪拌一面於95℃下加熱1小時，從而製備水性混合液(B1)。
將所獲得之水性混合液(B1)冷卻至70℃後，向該水性混合液(B1)中添加含有34.0質量%之SiO2 之矽溶膠7.04 kg，進而，添加含有35.5質量%之H2 O2 之過氧化氫水1.78 kg，於55℃下持續攪拌30分鐘。進而向該液體中依序添加：實施例10中所獲得之觸媒製造用組合物4.47 kg(以換算為氧化鈮(Nb2 O5 )之重量計含有0.42 kg之氧化鈮)、使粉體二氧化矽(日本艾羅技公司製造、商品名「艾羅技200」)2.4 kg分散於21.6 kg水中所得之分散液、及以氧化鎢計包含50.2重量%之偏鎢酸銨液0.516 kg，之後，於50℃下攪拌2.5小時，從而獲得前驅物漿料(D1)。
[比較觸媒製造例8] 使用比較例2中獲得之觸媒製造用組合物4.67 kg(以換算為氧化鈮(Nb2 O5 )之重量計含有0.42 kg之氧化鈮)來代替實施例10之觸媒製造用組合物，除此以外，與觸媒製造例18同樣地，製造比較觸媒製造例7之觸媒。
(丙烯腈產率之測定) 使用於各觸媒製造例及比較觸媒製造例中獲得之觸媒，以如下之方式製造丙烯腈。將結果示於表-1至表-5。
向內徑25 mm之維柯玻璃流體床型反應管中填充氧化物觸媒35 g，將反應溫度設為440℃，將反應壓力設定為常壓，以接觸時間2.8(sec・g/cc)供給丙烷：氨：氧：氦＝1：1：3：18之莫耳比之混合氣體。
[表1]
   觸媒 觸媒製造用組合物之原料組成 觸媒製造用組合物之完成液之組成 被廢棄之草酸相對於原料草酸之比率(wt%) 觸媒AN產率(%) 拉曼光譜峰之強度比 (Y/X)※ 2
Nb濃度 (mol/kg) Ox※ 1 濃度 (mol/kg) H2 O2 /Nb比 Nb濃度 (mol/kg) Ox濃度 (mol/kg) Ox/Nb比 Ox/Nb比 (靜置1天後) H2 O2 濃度 (mol/kg) H2 O2 /Nb比
實施例1 觸媒製造例1 0.20 0.06 2.0 0.20 0.06 0.3 0.3 0.4 2.0 0 57 0.2
實施例2 觸媒製造例2 0.20 0.02 30.0 0.20 0.02 0.1 0.1 6 30.0 0 57.1 0.1
實施例3 觸媒製造例3 0.20 0 45.0 0.20 0 0.0 0.0 9 45.0 0 57.0 0.0
實施例4 觸媒製造例4 0.46 0.69 4.0 0.46 0.69 1.5 1.5 1.84 4.0 0 56.6 0.4
實施例5 觸媒製造例5 0.46 0.69 2.0 0.46 0.69 1.5 1.5 0.92 2.0 0 56.7 0.4
實施例6 觸媒製造例6 0.46 0.046 20.0 0.46 0.046 0.1 0.1 9.2 20.0 0 57.1 0.0
實施例7 觸媒製造例7 0.65 0.65 4.0 0.65 0.65 1.0 1.0 2.60 4.0 0 56.9 0.3
實施例8 觸媒製造例8 0.70 0 12.0 0.70 0 0.0 0.0 8.40 12.0 0 57.1 0.0
實施例9 觸媒製造例9 0.70 0.35 10.0 0.70 0.35 0.5 0.5 7.00 10.0 0 56.9 0.2
實施例10 觸媒製造例10 0.70 1.05 1.0 0.70 1.05 1.5 1.5 0.70 1.0 0 56.6 0.4
實施例11 觸媒製造例11 0.70 1.12 10.0 0.70 1.12 1.6 1.6 7.00 10.0 0 56.5 0.5
實施例12 觸媒製造例12 0.70 1.19 1.0 0.70 1.19 1.7 1.7 0.70 1.0 0 56.5 0.6
實施例13 觸媒製造例13 0.70 1.26 1.0 0.70 1.26 1.8 1.8 0.70 1.0 0 56.4 0.7
實施例14 觸媒製造例14 0.70 1.40 0.5 0.70 1.40 2.0 2.0 0.35 0.5 0 56.3 0.8
比較例1 比較觸媒製造例1 0.55 2.75 0 0.75 1.79 2.39 2.39 0 0 52.2 55.6 2.1
比較例2 比較觸媒製造例2 0.67 3.02 0 0.90 2.01 2.23 2.23 0 0 50.4 55.7 1.8
比較例3 比較觸媒製造例3 0.72 2.88 0 0.72 1.82 2.52 2.52 0 0 37 55.0 2.5
比較例4 比較觸媒製造例4 0.55 2.75 10 0.76 1.76 2.31 2.31 7.6 10 50.5 55.7 2.0
※1 Ox=草酸 ※2 在890 cm-1以上1000 cm-1以下之範圍所觀察到之最大峰之強度Y相對於在500 cm-1以上650 cm-1以下之範圍所觀察到之最大峰之強度X的比(Y/X)
[表2]
   觸媒製造用組合物 觸媒製造用組合物之原料組成 觸媒製造用組合物之完成液之組成 被廢棄之草酸相對於原料草酸之比率(Wt%) 觸媒AN收 率(%) 拉曼光譜峰之強度比 (Y/X)※ 2
Nb濃度 (mol/kg) Ox※ 1 濃度 (mol/kg) H2 O2 /Nb比 Nb濃度 (mol/kg) Ox濃度 (mol/kg) Ox/Nb比 Ox/Nb比 (靜置1天後) H2 O2 濃度 (mol/kg) H2 O2 /Nb比
觸媒製造例15 實施例10 0.70 1.05 1.0 0.70 1.05 1.5 1.5 0.70 1.0 0 56.7 0.4
比較觸媒製造例5 比較例2 0.67 3.02 0 0.90 2.01 2.23 2.23 0 0 50.4 55.8 1.8
觸媒製造例16 實施例10 0.70 1.05 1.0 0.70 1.05 1.5 1.5 0.70 1.0 0 56.5 0.4
比較觸媒製造例6 比較例2 0.67 3.02 0 0.90 2.01 2.23 2.23 0 0 50.4 55.5 1.8
觸媒製造例17 實施例10 0.70 1.05 1.0 0.70 1.05 1.5 1.5 0.70 1.0 0 56.6 0.4
比較觸媒製造例7 比較例2 0.67 3.02 0 0.90 2.01 2.23 2.23 0 0 50.4 55.6 1.8
觸媒製造例18 實施例10 0.70 1.05 1.0 0.70 1.05 1.5 1.5 0.70 1.0 0 56.4 0.4
比較觸媒製造例8 比較例2 0.67 3.02 0 0.90 2.01 2.23 2.23 0 0 50.4 55.4 1.8
※1 Ox=草酸 ※2 在890 cm-1以上1000 cm-1以下之範圍所觀察到之最大峰之強度Y相對於在500 cm-1以上650 cm-1以下之範圍所觀察到之最大峰之強度X的比(Y/X)
＜利用拉曼光譜法所進行之解析＞ 使用藉由上述各例所獲得之觸媒製造用組合物，利用拉曼光譜法來進行測定。使用拉曼分光裝置RENISHAW in Via Qontor，以激發雷射波長532 nm、雷射輸出27.1 mW、曝光時間5 sec、累計次數10次之條件進行測定。將藉由測定所得之實施例4及比較例2之拉曼光譜示於圖1。
根據於500 cm-1 以上650 cm-1 以下之範圍所觀察到之最大峰之強度X、及於890 cm-1 以上1000 cm-1 以下之範圍所觀察到之最大峰之強度Y而算出Y/X。又，確認於685 cm-1 以上785 cm-1 以下之範圍內有無波峰。再者，於在上述激發雷射波長下試料發出螢光之情形時，無法實現精確之測定，因此自不同之激發雷射波長(例如735 nm或405 nm)中選擇不會發出螢光之波長來使用。又，峰強度Y/X之比係指相應波峰之拉曼信號強度之比，即波峰高度之比。但是，若於該範圍內作為背景之源自其他化合物之信號發生重疊，則進行峰分離，分離相應波峰後，將自相應波峰之高度減去背景強度所得者作為該峰強度。
圖1係上半部分表示不使用過氧化氫而使用了有機酸(草酸)之含鈮化合物之水溶液(比較例2之觸媒製造用組合物)的利用拉曼光譜法所得之拉曼光譜；下半部分表示使用了過氧化氫及有機酸(草酸)之含鈮化合物之水溶液(實施例4之觸媒製造用組合物)的利用拉曼光譜法所得之拉曼光譜的圖。

Claims (12)

  1. 一種觸媒製造用組合物，其係製造氣相接觸氧化反應用觸媒或氣相接觸氨氧化反應用觸媒時所使用者， 上述觸媒製造用組合物係包含鈮化合物及過氧化氫且任意地包含有機酸之水溶液， 上述觸媒製造用組合物中上述有機酸濃度相對於Nb濃度之莫耳比(有機酸/Nb)為0.00以上2.00以下， 上述觸媒製造用組合物中上述過氧化氫相對於Nb濃度之莫耳比(過氧化氫/Nb)為0.01以上50以下。
  2. 如請求項1之觸媒製造用組合物，其中 上述有機酸係選自由二羧酸、二羧酸之酸酐、二羧酸之水合物、及羥基羧酸所組成之群中之1種以上之羧酸化合物。
  3. 如請求項1或2之觸媒製造用組合物，其中 於上述觸媒製造用組合物之利用拉曼光譜法所得之拉曼光譜中， 在890 cm-1 以上1000 cm-1 以下之範圍所觀察到之最大峰之強度Y相對於在500 cm-1 以上650 cm-1 以下之範圍所觀察到之最大峰之強度X的比之比(Y/X)為0以上1.0以下。
  4. 如請求項1至3中任一項之觸媒製造用組合物，其中 於上述觸媒製造用組合物之利用拉曼光譜法所得之拉曼光譜中，於685 cm-1 以上785 cm-1 以下之範圍具有波峰。
  5. 一種觸媒製造用組合物，其係製造氣相接觸氧化反應用觸媒或氣相接觸氨氧化反應用觸媒時所使用者， 上述觸媒製造用組合物係包含鈮化合物及過氧化氫且任意地包含有機酸之水溶液， 於上述觸媒製造用組合物之利用拉曼光譜法所得之拉曼光譜中， 在890 cm-1 以上1000 cm-1 以下之範圍所觀察到之最大峰之強度Y相對於在500 cm-1 以上650 cm-1 以下之範圍所觀察到之最大峰之強度X的比之比(Y/X)為0以上1.0以下。
  6. 如請求項5之觸媒製造用組合物，其中 上述觸媒製造用組合物中上述有機酸濃度相對於Nb濃度之莫耳比(有機酸/Nb)為0.00以上2.00以下， 上述觸媒製造用組合物中上述過氧化氫相對於Nb濃度之莫耳比(過氧化氫/Nb)為0.01以上50以下。
  7. 一種氧化物觸媒之製造方法，其係製造不飽和酸或不飽和腈時所使用之氣相接觸氧化反應用觸媒或氣相接觸氨氧化反應用觸媒之製造方法，該製造方法包括： 製備包含Mo原料、V原料及Sb原料之水性混合液之步驟； 將如請求項1至6中任一項之觸媒製造用組合物與上述水性混合液加以混合而製備前驅物漿料之步驟； 使用上述前驅物漿料，對其加以乾燥而獲得乾燥粒子之乾燥步驟；及 將上述乾燥粒子加以焙燒而獲得焙燒粒子之焙燒步驟。
  8. 一種觸媒製造用組合物之製造方法，其係製造氣相接觸氧化反應用觸媒或氣相接觸氨氧化反應用觸媒時所使用之觸媒製造用組合物之製造方法，該製造方法包括： 將固體鈮原料與過氧化氫水加以混合而製備固體鈮原料分散液之混合步驟；及 使上述固體鈮原料分散液中之上述固體鈮原料溶解而製備含鈮化合物之水溶液之溶解步驟； 上述含鈮化合物之水溶液中過氧化氫相對於鈮化合物之Nb濃度之莫耳比(過氧化氫/Nb)為0.01以上50以下， 上述溶解步驟之溫度為40℃以上70℃以下。
  9. 如請求項8之觸媒製造用組合物之製造方法，其中 於上述混合步驟中，進而混合有機酸， 上述含鈮化合物之水溶液中上述有機酸濃度相對於上述鈮化合物之Nb濃度之莫耳比(有機酸/Nb)為0.00以上2.00以下。
  10. 如請求項8或9之觸媒製造用組合物之製造方法，其中 上述固體鈮原料包含鈮酸。
  11. 如請求項8至10中任一項之觸媒製造用組合物之製造方法，其中 上述有機酸包含選自由二羧酸、二羧酸之酸酐、二羧酸之水合物、及羥基羧酸所組成之群中之1種以上之羧酸化合物。
  12. 一種製造不飽和酸或不飽和腈時所使用之氣相接觸氧化反應用觸媒或氣相接觸氨氧化反應用觸媒之製造方法，其包括： 藉由如請求項8至11中任一項之觸媒製造用組合物之製造方法來製備上述觸媒製造用組合物之步驟； 製備包含Mo原料、V原料及Sb原料之水性混合液之步驟； 將上述觸媒製造用組合物與上述水性混合液加以混合而製備前驅物漿料之步驟； 使用上述前驅物漿料，對其加以乾燥而獲得乾燥粒子之乾燥步驟；及 將上述乾燥粒子加以焙燒而獲得焙燒粒子之焙燒步驟。
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