TW202031365A - 清掃裝置 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種即便為使用高黏度之塗佈液之塗佈器，亦能夠去除附著於塗佈器之附著物等之清掃裝置。 本發明之清掃裝置構成為：其係清掃附著於塗佈器之附著物者，該塗佈器形成於與基板對向之基板對向面且沿一方向延伸，且上述清掃裝置具備：清掃單元，其抵接於塗佈器；及移動裝置，其於清掃單元抵接於塗佈器之狀態下使上述清掃單元沿塗佈器之長度方向相對地移動；清掃單元具備配置於清掃移動方向前側之第1清掃部及配置於較該第1清掃部更靠後側之第2清掃部，第1清掃部具有抵接於塗佈器之基板對向面及與該基板對向面連續之傾斜側面的第1清掃構件，第2清掃部具有抵接於塗佈器之基板對向面及傾斜側面的第2清掃構件，第1清掃構件由與第2清掃構件相比不易沿著所抵接之對象面變形之高剛性材料所形成。

Description

清掃裝置

本發明係關於一種於塗佈器中對狹縫噴嘴附近之前端部分進行清掃之清掃裝置，該塗佈器自狹縫噴嘴噴出塗佈液而於基板上形成塗佈膜。

於液晶顯示器或電漿顯示器等平板顯示器中，使用在玻璃等基板上塗佈抗蝕液等塗佈液而成者(稱為塗佈基板)。該塗佈基板係藉由將塗佈液均一地塗佈之塗佈裝置形成。塗佈裝置具有供載置基板之載台、及對所載置之基板噴出塗佈液之塗佈單元，藉由一面自塗佈單元之塗佈器噴出塗佈液一面使基板與塗佈器相對地移動，而於基板上形成塗佈膜。

於該塗佈器形成有於與基板對向之基板對向面上沿一方向延伸之狹縫噴嘴，可遍及狹縫噴嘴之長度方向均一地噴出塗佈液。然而，於狹縫噴嘴附著有塗佈液乾燥而成之乾燥殘留液或異物(統一稱為附著物)之狀態下，因該附著物等導致塗佈液之噴出狀態不均一化，從而導致於塗佈膜形成條紋不均等乾燥不均。因此，為了保持塗佈膜之均一性，塗佈器係藉由清掃裝置定期清掃，而被初始化(例如參照專利文獻1)。

如圖7所示，清掃裝置100構成為具有清掃單元101、以及使該清掃單元101移動之移動裝置(未圖示)，藉由使清掃單元101沿塗佈器102之長度方向移動，而去除附著於塗佈器102之附著物P(參照圖8(b))。具體而言，於清掃單元101設置有抵接於塗佈器102之狹縫噴嘴102a周邊部之清掃構件103，藉由在使該清掃構件103抵接於塗佈器102之狀態下使清掃單元101移動，可擦拭附著於塗佈器102之附著物P。即，如圖7、圖8(a)所示，藉由在使清掃構件103抵接於形成狹縫噴嘴102a之基板對向面104及傾斜側面105之狀態下使清掃單元101移動，可去除附著於基板對向面104、傾斜側面105之附著物P。 [先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2012-200614號公報

[發明所欲解決之問題]

近年來，正在開發軟性顯示器，於形成用於軟性顯示器之塗佈基板時使用黏度較高之塗佈液。因此，存在以下問題：一旦附著於塗佈器102之塗佈液固化，則利用上述清掃裝置100無法去除附著於塗佈器102之附著物P。即，上述清掃裝置100中所使用之清掃構件103主要使用橡膠等，於清掃時，藉由將橡膠製之清掃構件103壓抵於塗佈器102而使之密接並移動。於塗佈液之黏度較低之情形時，藉由清掃構件103沿著所抵接之對象面變形，可將附著物P剝離而去除，但於高黏度之塗佈液之情形時，由於該附著物P變為硬質，故而藉由先前之清掃構件103之壓抵力無法去除。即，存在以下問題：如圖8(b)所示，當清掃構件103抵接於附著物P時，最初設定之清掃構件103與塗佈器102之接觸姿勢以避開該附著物P之方式彈性地變化，因此在清掃構件103與塗佈器102之間產生間隙，因該間隙而導致形成條紋狀之擦拭殘留。若使清掃構件103之壓抵力增大，則存在以下問題：橡膠製之清掃構件103之剛性較低，抵接於基板對向面104及傾斜側面105之清掃構件103以翹曲之方式變形，因此於基板對向面104及傾斜側面105與清掃構件103之間產生間隙，而於基板對向面104及傾斜側面105整體形成擦拭殘留。

本發明係鑒於上述問題點而完成者，目的在於提供一種即便為使用高黏度之塗佈液之塗佈器亦能夠去除附著於塗佈器之附著物等的清掃裝置。 [解決問題之技術手段]

為了解決上述問題，本發明之清掃裝置之特徵在於：其係清掃附著於塗佈器之附著物者，該塗佈器係自形成於與基板對向之基板對向面且沿一方向延伸之狹縫噴嘴噴出塗佈液而於基板上形成塗佈膜，且上述清掃裝置具備：清掃單元，其以與上述狹縫噴嘴對向之狀態抵接於上述塗佈器；及移動裝置，其於上述清掃單元抵接於上述塗佈器之狀態下使上述清掃單元沿上述塗佈器之長度方向相對地移動；上述清掃單元具備配置於清掃移動方向前側之第1清掃部及配置於較該第1清掃部更靠後側之第2清掃部，第1清掃部及第2清掃部具有抵接於上述塗佈器之上述基板對向面及與該基板對向面連續之傾斜側面的清掃構件，上述第1清掃部之清掃構件由與上述第2清掃部之清掃構件相比不易沿著所抵接之對象面變形之剛性較高之材料所形成，第2清掃部之清掃構件由沿著所抵接之對象面彈性變形之材料所形成。

為了解決上述問題，根據本發明，第1清掃構件形成為較第2清掃構件而言剛性更高，因此藉由首先利用第1清掃部之清掃構件將附著於塗佈器之附著物刮落，然後利用第2清掃構件進行擦拭，可去除附著物。即，第1清掃構件由於由相較於第2清掃構件而言更不易沿著抵接部分彈性變形之材料所形成，故而即便於在清掃動作時與黏性較高之塗佈液附著而成之附著物接觸之情形時，亦不進行如回避該附著物之彈性變形，從而可極力抑制最初設定之清掃構件與塗佈器接觸之姿勢因與附著物之接觸而發生變化。因此，可將使清掃單元移動之力作為刮取附著物之力充分地發揮作用，即便為硬質之附著物等，亦可刮取。並且，接下來之第2清掃構件沿著所抵接之對象面彈性變形而進行擦拭動作，故而可確實地擦拭利用第1清掃構件刮落後所殘留之附著物，從而可將附著於基板對向面及傾斜側面之附著物乾淨地去除。

又，可設為如下構成：作為第1清掃構件、第2清掃構件之具體態樣，例如上述第1清掃構件由樹脂所形成，上述第2清掃構件由橡膠所形成。

又，亦可設為如下構成：上述第1清掃部設置於將第1清掃構件壓抵於塗佈器之第1基座部上，上述第2清掃部設置於將第2清掃構件壓抵於塗佈器之第2基座部上，且上述第1基座部與上述第2基座部獨立地設置。

根據該構成，由於第1基座部與第2基座部獨立地設置，故而第1清掃構件與第2清掃構件可分別獨立地享有壓抵於塗佈器之壓抵力，因此第1清掃構件、第2清掃構件之安裝之調節變得容易，又，可使第1清掃構件、第2清掃構件之擦拭性能穩定。

又，亦可設為如下構成：上述第1清掃部之清掃構件分開地形成有抵接於上述基板對向面之對向抵接部、及抵接於上述傾斜側面之側面抵接部，上述對向抵接部與上述側面抵接部被獨立地固定，且以上述對向抵接部沿著上述基板對向面進行抵接，上述側面抵接部沿著上述傾斜側面進行抵接之方式分別可調節抵接狀態地被固定。

由於第1清掃構件之對向抵接部與側面抵接部係分開地形成，且分別可相對於基板對向面、傾斜側面調節抵接狀態，故而與對向抵接部與側面抵接部一體地形成之情形相比，可調節對向抵接部與基板對向面、側面抵接部與傾斜側面各自之間隙。藉此，例如可抑制因對向抵接部之安裝狀態導致於側面抵接部與傾斜側面之間形成間隙而形成擦拭殘留之情況。 [發明之效果]

根據本發明，即便為使用高黏度之塗佈液之塗佈器，亦能夠去除附著於塗佈器之附著物等。

以下，基於圖式對本發明之實施形態進行說明。

圖1係概略性地表示具備本發明之清掃裝置之塗佈裝置的立體圖，圖2係概略性地表示本發明之清掃裝置之圖，圖3係自長度方向觀察清掃裝置所得之圖。

如圖1～圖3所示，塗佈裝置1係於基板10上形成藥液或抗蝕液等液狀物(以下稱為塗佈液)之塗佈膜者，且具備用以載置基板10之載台21、及構成為可相對於該載台21沿特定方向移動之塗佈單元3。

再者，於以下說明中，將塗佈單元3移動之方向設為X軸方向，將與X軸方向在水平面上正交之方向設為Y軸方向，將與X軸及Y軸方向兩者正交之方向設為Z軸方向進行說明。

載台21係供載置由機械手等搬入之基板10者。於該載台21設置有基板保持器件，藉由該基板保持器件來保持基板10。具體而言，形成有形成於載台21之表面之複數個抽吸孔，藉由使該抽吸孔產生抽吸力，可使基板10吸附並保持於載台21之表面。

又，塗佈單元3係向基板10上噴出塗佈液而形成塗佈膜者。該塗佈單元3如圖1、圖2所示，具有噴出塗佈液之塗佈器30、及保持該塗佈器30之支架部35，且形成為可沿X軸方向移動。即，設置有使塗佈單元3移動之驅動單元，藉由控制該驅動單元，可使支架部35沿X軸方向移動。具體而言，驅動單元具有設置於載台21之Y軸方向端部且沿X軸方向延伸之軌道、及驅動安裝於腳部35a之支架部35之線性馬達，且支架部35被滑動自如地安裝於軌道。並且，藉由對該線性馬達進行驅動控制，可使塗佈單元3沿X軸方向移動並在任意位置停止。於本實施形態中，可移動至載台21、及設置於載台21之外側之清掃裝置5。

又，於支架部35設置有使塗佈器30升降之升降機構。具體而言，藉由使升降機構作動，可使塗佈器30相對於基板10相接/分離。藉此，於塗佈動作中，可相對於載台21上之基板10位於適當之高度位置。又，亦可相對於下述清掃裝置5進行升降動作，藉由使升降機構作動，可相對於清掃裝置5相接/分離。

又，塗佈器30係噴出塗佈液而於基板10上形成塗佈膜者。該塗佈器30係具有沿一方向延伸之形狀之柱狀構件，且設置成與塗佈單元3之移行方向(X軸方向)大致正交。該塗佈器30具有與基板10對向之基板對向面31、及相對於基板10具有規定角度之傾斜側面32，且於基板對向面31形成有狹縫噴嘴30a。具體而言，基板對向面31與基板10對向且形成為沿Y軸方向延伸之平坦面，自該平坦面之X軸方向端部連續地以規定角度形成有傾斜側面32。即，塗佈器30係以呈傾斜側面32、基板對向面31連續之方式形成為朝向基板10前端變細之形狀。又，於基板對向面31，以沿Y軸方向延伸之方式形成有以微小間隙形成之狹縫噴嘴30a。並且，當對塗佈器30供給塗佈液時，塗佈液經由狹縫噴嘴30a遍及長度方向(Y軸方向)被均勻地噴出。因此，藉由在自該狹縫噴嘴30a噴出塗佈液之狀態下使塗佈單元3沿X軸方向移行，而於基板10上形成固定厚度之塗佈膜。

又，於塗佈裝置1具備用以進行塗佈器30之維護、初始化之清掃裝置5。該清掃裝置5係對塗佈器30去除已乾燥之乾燥殘留液或異物(統一稱為附著物)者。如圖5所示，清掃裝置5具有去除附著於塗佈器30之附著物之清掃單元50、使清掃單元50移動之移動裝置、及承收所去除之附著物之托盤部6，藉由在清掃單元50抵接於塗佈器30之狀態下使清掃單元50移動，而去除附著於塗佈器30之附著物。

清掃裝置5於本實施形態中被配置於載台21之X軸方向端部側，於維護、初始化動作時(稱為清掃時)，塗佈器30移動至托盤部6上，於托盤部6上進行維護、初始化處理(稱為清掃處理)。托盤部6具有沿一方向延伸之形狀，且以沿著Y軸方向之姿勢配置。即，托盤部6以覆蓋塗佈器30之程度形成為較塗佈器30大，且形成為能夠承收在托盤部6上進行清掃處理時所去除之附著物之程度。

又，形成為：於托盤部6內設置有清掃單元50、及移動裝置，藉由對移動裝置進行驅動控制，可使清掃單元50沿著托盤部6之長度方向進行移動。於本實施形態中，移動裝置具有附件基台部8、以及使該附件基台部8移動之線性馬達，線性馬達由控制裝置(未圖示)控制。即，構成為：於清掃時，當在托盤部6上配置有塗佈器30之狀態下控制裝置對線性馬達進行驅動控制時，附件基台部8自塗佈器30之長度方向一端部朝向另一端部移動。並且，於該附件基台部8上設置有清掃單元50，藉由對線性馬達進行驅動控制，可使附件基台部8上之清掃單元50沿著塗佈器30之狹縫噴嘴30a移動。再者，於本發明中，將在清掃單元50之清掃時使附件基台部8移動之方向特別稱為清掃移動方向。

清掃單元50配置於附件基台部8上，且具有第1清掃部51及第2清掃部52。該等第1清掃部51及第2清掃部52係抵接於塗佈器30而去除附著物者，第1清掃部51配置於較第2清掃部52更靠清掃移動方向前側。並且，藉由在該等第1清掃部51與第2清掃部52抵接於塗佈器30之狀態下使附件基台部8移動，使得第1清掃部51與第2清掃部52以抵接之狀態移動，從而在刮取附著於塗佈器30之附著物之同時進行擦拭。即，藉由第1清掃部51刮取附著物，藉由第2清掃部52擦拭由第1清掃部51刮取之附著物之殘留物，藉此自塗佈器30去除附著物。

第1清掃部51具有抵接於塗佈器30之第1清掃構件7、及支持該第1清掃構件7之第1基座部53，第1清掃構件7以較第1基座部53更向上方突出之狀態固定於第1基座部53。第1基座部53係供安裝第1清掃構件7之基座，且被安裝於附件基台部8上。於本實施形態中，第1基座部53形成為具有供安裝第1清掃構件7之清掃安裝部54之塊體，且經由彈簧81安裝於附件基台部8。即，第1基座部53構成為藉由該彈簧81在鉛直方向上受到彈推力。又，第1基座部53之清掃安裝部54具有傾斜之平面，可利用清掃構件固定部57(於本實施形態中為螺栓55)將第1清掃構件7固定於該傾斜平面。即，於第1清掃構件7安裝於清掃安裝部54之狀態下，第1清掃構件7之前端部分被固定為朝向清掃移動方向之傾斜姿勢，且該前端部分以較第1基座部53更向上方突出之狀態被固定。因此，當於將第1清掃構件7安裝於第1基座部53之狀態下使第1清掃構件7抵接於配置在上方之塗佈器30時，第1清掃構件7以傾斜姿勢抵接於塗佈器30，藉由進一步自抵接之狀態向上方位移而使得彈簧81收縮，藉此彈簧81之彈推力作用於第1清掃構件7，而可將第1清掃構件7以規定之按壓力壓抵於塗佈器30。

再者，第2清掃部52之第2基座部56亦具有相同之構成，當於將第2清掃構件9安裝於第2基座部56之狀態下使第2清掃構件9抵接於配置在上方之塗佈器30時，第2清掃構件9以傾斜姿勢抵接於塗佈器30，藉由進一步自抵接之狀態向上方位移而使得彈簧81收縮，藉此彈簧81之彈推力作用於第2清掃構件9，而可將清掃構件以規定之按壓力壓抵於塗佈器30。

如此，於第1清掃部51、第2清掃部52中，分別將第1基座部53、第2基座部56介隔彈簧81與附件基台部8獨立地設置，故而第1清掃構件7、第2清掃構件9可獨立地獲得壓抵於塗佈器30之力，因此可使第1清掃構件7、第2清掃構件9之擦拭性能穩定。

又，如圖4所示，第1清掃構件7係抵接於塗佈器30而去除附著物者，且由平板狀構件所形成。第1清掃構件7於本實施形態中由樹脂所形成，且由與下述第2清掃構件9相比不易變形之高剛性材料所形成。即，由以下材料所形成：即便於第1清掃構件7抵接於塗佈器30之情形時，亦幾乎不彈性變形，而維持原本之姿勢。於本實施形態中，第1清掃構件7使用聚縮醛樹脂。

又，第1清掃構件7由3片平板狀構件所形成，由抵接於塗佈器30之基板對向面31之對向抵接部71、及抵接於傾斜側面32之側面抵接部72所形成。具體而言，對向抵接部71、側面抵接部72分別由矩形之平板構件所形成，可藉由清掃構件固定部57而固定於第1基座部53之清掃安裝部54。於本實施形態中，清掃構件固定部57構成為利用螺栓55進行固定。即，對向抵接部71及側面抵接部72形成有供螺栓55貫通之貫通孔，藉由將螺栓55插通至該貫通孔並螺合於第1基座部53之螺栓孔，可將對向抵接部71及側面抵接部72固定於第1基座部53。並且，於對向抵接部71及側面抵接部72被固定之狀態下，如圖4(a)所示，對向抵接部71之緣端部分抵接於基板對向面31，側面抵接部72之緣端部分抵接於傾斜側面32。並且，如圖4(b)所示，於對向抵接部71及側面抵接部72被固定之狀態下，其等以相互抵接之方式配置，對向抵接部71之緣端部分、及側面抵接部72之緣端部分以形成大致連續之直線之方式與基板對向面31及傾斜側面32接觸。即，若僅以對向抵接部71接觸，則存在由對向抵接部71刮取之附著物自基板對向面31溢出並移動至傾斜側面32而殘留之情形，同樣地，若僅以側面抵接部72接觸，則存在由側面抵接部72刮取之附著物自傾斜側面32溢出並移動至基板對向面31而殘留之情形。即，若僅以對向抵接部71、側面抵接部72抵接，則可觀察到應去除之附著物殘留之現象，但如上所述，藉由極力地將對向抵接部71之緣端部分、側面抵接部72之緣端部分呈連續之直線狀配置，可抑制刮取時溢出之附著物移動而殘留於基板對向面31或傾斜側面32之情況。

又，清掃構件固定部57分別具有能夠調節與塗佈器30之抵接狀態之抵接調節機構。於本實施形態中，可藉由將對向抵接部71及側面抵接部72之貫通孔58形成為圓角矩形來進行調節。即，對向抵接部71之貫通孔58形成為朝基板對向面31延伸之圓角矩形，側面抵接部72之貫通孔58形成為朝向傾斜側面32延伸之圓角矩形。藉此，對向抵接部71可以能夠相對於基板對向面31相接/分離之方式調節安裝狀態，側面抵接部72可以能夠相對於傾斜側面32相接/分離之方式調節安裝狀態，因此對向抵接部71及側面抵接部72分別可調節對塗佈器30之抵接狀態。藉此，藉由以對向抵接部71及側面抵接部72之前端部之緣端部分整體抵接於塗佈器30之方式進行調節，可調節成對向抵接部71沿著基板對向面31抵接，側面抵接部72沿著傾斜側面32抵接。並且，由於第1清掃構件7由可幾乎不彈性變形而維持原本之姿勢之材料所形成，故而即便於清掃時使其沿清掃移動方向掃描之情形時，亦能夠維持其抵接姿勢。因此，於清掃時，可極力抑制在第1清掃構件7與基板對向面31、傾斜側面32之間形成間隙，從而可遍及塗佈器30之長度方向刮取並去除附著於基板對向面31、傾斜側面32之附著物。

又，第2清掃部52如圖5(a)、圖5(b)所示，具有抵接於塗佈器30之第2清掃構件9、及支持該第2清掃構件9之第2基座部56，且清掃構件以較第2基座部56更向上方突出之狀態固定於第2基座部56。該第2基座部56如上所述，具有與第1基座部53相同之構成，故而省略其說明。

第2清掃構件9係抵接於塗佈器30而去除附著物者，由較第1清掃構件7更有厚度之板狀構件所形成。第1清掃構件7於本實施形態中由橡膠所形成，例如使用腈橡膠、矽酮橡膠等容易彈性變形之材料。即，於第2清掃構件9抵接於塗佈器30之情形時，沿著所抵接之塗佈器30之對象面彈性變形。

第2清掃構件9係1片板狀構件，於其前端部分形成有V字狀槽。即，形成為當V字槽91使抵接於塗佈器30之狹縫噴嘴30a時，V字槽91沿著塗佈器30之基板對向面31、傾斜側面32。並且，第2清掃構件9與第1基座部53同樣地被安裝於第2基座部56之清掃構件固定部57，且可利用螺栓55固定於第2基座部56之清掃安裝部54。即，於第2清掃構件9被安裝於第2基座部56之狀態下，維持向清掃移動方向傾斜之傾斜姿勢，第2清掃構件9之V字槽91以較第2基座部56更向上方突出之狀態被固定。因此，當於將第2清掃構件9安裝於第2基座部56之狀態下使第2構件抵接於配置在上方之塗佈器30時，第2清掃構件9之V字槽91以傾斜姿勢抵接於塗佈器30之狹縫噴嘴30a，藉由進一步自抵接之狀態向上方位移而使得彈簧81收縮，藉此彈簧81之彈推力作用於第2清掃構件9，而可將第2清掃構件9以規定之按壓力壓抵於塗佈器30。並且，第2清掃構件9係由橡膠所形成，因此當狹縫噴嘴30a抵接於V字槽91時，V字槽91彈性變形，可以與基板對向面31、傾斜側面32密接之方式進行變形。藉此，可於利用第1清掃構件7將附著於塗佈器30之附著物刮取後，以最終刮取殘留於塗佈器30之附著物之方式利用第2清掃構件9進行擦拭。藉此，即便於塗佈液為高黏度而附著有硬質之附著物之情形時，亦能夠將殘留於基板對向面31、傾斜側面32之附著物去除。

如此，於上述實施形態中，由於第1清掃構件7形成為相較於第2清掃構件9而言剛性更高，故而藉由首先利用第1清掃部51之清掃構件將附著於塗佈器30之附著物刮落，其後利用第2清掃構件9進行擦拭，可去除附著物。即，第1清掃構件7由相較於第2清掃構件9而言更不易沿著抵接部分彈性變形之材料所形成，因此即便於清掃動作時與黏性較高之塗佈液附著而成之附著物接觸之情形時，亦不進行如迴避該附著物之彈性變形，從而可極力抑制最初設定之第1清掃構件7與塗佈器30接觸之姿勢因與附著物之接觸而發生變化。因此，可將使清掃單元50移動之力作為刮取附著物之力充分地發揮作用，即便為硬質之附著物等，亦能夠刮取。並且，接下來之第2清掃構件9係沿著所抵接之對象面彈性變形而進行擦拭動作，因此可確實地擦拭利用第1清掃構件7刮落後所殘留之附著物，從而可將附著於基板對向面31及傾斜側面32之附著物乾淨地去除。

又，於上述實施形態中，對第1清掃構件7之對向抵接部71、側面抵接部72分開由3片平板狀構件所形成之例進行了說明，但亦可如圖6所示，側面抵接部72成為一體型，對向抵接部71與側面抵接部72由2片平板狀構件所形成。若為側面抵接部72成為一體型之構成，則與由2片平板狀構件所形成之情形相比，向第1基座部53之安裝一次便可完成，因此可使安裝作業變得容易。

又，於上述實施形態中，對第1清掃部51、第2清掃部52分別設置1個之例進行了說明，但只要於清掃移動方向前方配置第1清掃部51，於後方配置第2清掃部52，則第1清掃部51及第2清掃部52亦可分別具備複數個。即，自清掃移動方向前方起，可為第1清掃部51、第2清掃部52、第2清掃部52，亦可為第1清掃部51、第1清掃部51、第2清掃部52，還可為第1清掃部51、第1清掃部51、第2清掃部52、第2清掃部52。若如此般具備複數個第1清掃部51、第2清掃部52，則可提高擦拭性能。

又，於上述實施形態中，對第1清掃部51具備1個第1清掃構件7且第2清掃部52具備1個第2清掃構件9之例進行了說明，但亦可為1個第1清掃部51(或第2清掃部52)具備複數個第1清掃構件7(或第2清掃構件9)。

1:塗佈裝置 3:塗佈單元 5:清掃裝置 6:托盤部 7:第1清掃構件 8:附件基台部 9:第2清掃構件 10:基板 21:載台 30:塗佈器 30a:狹縫噴嘴 31:基板對向面 32:傾斜側面 35:支架部 35a:腳部 50:清掃單元 51:第1清掃部 52:第2清掃部 53:第1基座部 54:清掃安裝部 55:螺栓 56:第2基座部 57:清掃構件固定部 58:貫通孔 71:對向抵接部 72:側面抵接部 81:彈簧 91:V字槽 100:清掃裝置 101:清掃單元 102:塗佈器 102a:狹縫噴嘴 103:清掃構件 104:基板對向面 105:傾斜側面 P:附著物

圖1係概略性地表示具備本發明之一實施形態中之清掃裝置之塗佈裝置的立體圖。 圖2係概略性地表示上述塗佈裝置之塗佈器之圖。 圖3係表示上述清掃裝置之圖，(a)係表示清掃構件自塗佈器離開之狀態之圖，(b)係表示清掃構件抵接於塗佈器之狀態之圖。 圖4係表示上述實施形態中之第1清掃部之圖，(a)係自Y軸方向觀察所得之圖，(b)係自X軸方向觀察所得之圖。 圖5係表示上述實施形態中之第2清掃部之圖，(a)係自Y軸方向觀察所得之圖，(b)係第2清掃構件之立體圖。 圖6係表示另一實施形態中之第1清掃部之圖。 圖7係表示先前之清掃裝置之圖。 圖8係表示先前之清掃構件與塗佈器之接觸狀態之圖，(a)係表示正常接觸之狀態之圖，(b)係表示與附著物接觸之狀態之圖。

10:基板

30:塗佈器

30a:狹縫噴嘴

31:基板對向面

32:傾斜側面

Claims (4)

1. 一種清掃裝置，其特徵在於：其係清掃附著於塗佈器之附著物者，該塗佈器係自形成於與基板對向之基板對向面且沿一方向延伸之狹縫噴嘴噴出塗佈液而於基板上形成塗佈膜，且上述清掃裝置具備： 清掃單元，其以與上述狹縫噴嘴對向之狀態抵接於上述塗佈器；及 移動裝置，其於上述清掃單元抵接於上述塗佈器之狀態下使上述清掃單元沿上述塗佈器之長度方向相對地移動；且 上述清掃單元具備配置於清掃移動方向前側之第1清掃部及配置於較該第1清掃部更靠後側之第2清掃部，第1清掃部具有抵接於上述塗佈器之上述基板對向面及與該基板對向面連續之傾斜側面的第1清掃構件，第2清掃部具有抵接於上述塗佈器之上述基板對向面及上述傾斜側面的第2清掃構件， 上述第1清掃構件由與上述第2清掃構件相比不易沿著所抵接之對象面變形之剛性較高之材料所形成，第2清掃構件由沿著所抵接之對象面彈性變形之材料所形成。
2. 如請求項1之清掃裝置，其中上述第1清掃構件由樹脂所形成，上述第2清掃構件由橡膠所形成。
3. 如請求項1或2之清掃裝置，其中上述第1清掃部設置於將第1清掃構件壓抵於塗佈器之第1基座部上，上述第2清掃部設置於將第2清掃構件壓抵於塗佈器之第2基座部上，且上述第1基座部與上述第2基座部獨立地設置。
4. 如請求項1或2之清掃裝置，其中上述第1清掃構件係分開地形成有抵接於上述基板對向面之對向抵接部、及抵接於上述傾斜側面之側面抵接部，上述對向抵接部與上述側面抵接部被獨立地固定，且以上述對向抵接部沿著上述基板對向面抵接，上述側面抵接部沿著上述傾斜側面抵接之方式分別可調節抵接狀態地被固定。

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