TW202011047A

TW202011047A - 一種輻射檢測裝置

Info

Publication number: TW202011047A
Application number: TW108128738A
Authority: TW
Inventors: 曹培炎; 劉雨潤
Original assignee: 大陸商深圳幀觀德芯科技有限公司
Priority date: 2018-09-07
Filing date: 2019-08-13
Publication date: 2020-03-16
Also published as: EP3847482A4; US11826192B2; WO2020047838A1; EP3847482A1; CN112639531A; TWI826502B; CN112639531B; US20210161499A1

Abstract

本文公開一種裝置，其包括：平台，其配置成在所述平台的第一表面上支撐人體；第一組輻射檢測器，其佈置在第一層中，其中所述第一組輻射檢測器連接到所述平台中與所述第一表面相對的第二表面；其中所述第一組輻射檢測器配置成檢測來自人體內輻射源的輻射。

Description

一種輻射檢測裝置

本發明涉及一種輻射檢測裝置。

輻射檢測器是可用於測量輻射的通量、空間分佈、光譜或其他性質的裝置。輻射檢測器可用於許多應用，其中一個重要的應用是成像。輻射成像是一種射線照相技術，可用於揭示非均勻組成和不透明物體（例如，人體）的內部結構。

用於成像的早期輻射檢測器包括攝影板和攝影膠片。攝影板可以是具有光敏乳劑塗層的玻璃板。雖然攝影板被攝影膠片取代，但由於它們提供的優質品質和極端穩定性，使得它們仍可用於特殊情況。攝影膠片可以是具有光敏乳劑塗層的塑膠薄膜（例如，條或片）。

在20世紀80年代，可光激發的磷光板（PSP板）開始可用。PSP板在其晶格中包含具有色心的磷光體材料。當所述PSP板曝露於輻射時，由輻射激發的電子被捕獲在色心中，直到它們被在所述PSP板表面上掃描的雷射光束刺激。當鐳射掃描所述PSP板時，被捕獲的激發電子發出光，這些光被光電倍增管收集，收集的光被轉換成數位圖像。與攝影板和攝影膠片相比，PSP版可重複使用。

另一種輻射檢測器是輻射圖像增強器。輻射圖像增強器的元件通常在真空中密封。與攝影板、攝影膠片和PSP板相比，輻射圖像增強器可產生即時圖像，即，不需要曝光後處理來產生圖像。輻射首先撞擊輸入磷光體（例如，碘化銫）並被轉換成可見光。然後所述可見光撞擊光電陰極（例如，含有銫和銻化合物的薄金屬層）並引起電子發射。發射的電子數目與入射輻射的強度成正比。發射的電子通過電子光學器件投射到輸出磷光體上並使輸出磷光體產生可見光圖像。

閃爍體在某種程度上與輻射圖像增強器的操作類似，因為閃爍體（例如，碘化鈉）吸收輻射並發射可見光，然後可通過合適的圖像感測器檢測到可見光。在閃爍體中，可見光在所有方向上擴散和散射，從而降低空間解析度。減小閃爍體厚度有助於改善空間解析度，但也減少了輻射的吸收。因此，閃爍體必須在吸收效率和解析度之間達成折衷。

半導體輻射檢測器通過將輻射直接轉換成電信號很大程度上克服了上述問題。半導體輻射檢測器可包括吸收感興趣波長的輻射的半導體層。當在半導體層中吸收輻射粒子時，產生多個載流子（例如，電子和空穴）並在電場下朝向半導體層上的電觸點掃過。

本發明公開一種輻射檢測裝置，其包括：平台，其配置成在所述平台的第一表面上支撐人體；第一組輻射檢測器，其佈置在第一層中，其中所述第一組輻射檢測器連接到所述平台中與第一表面相對的第二表面；其中所述第一組輻射檢測器配置成檢測來自人體內輻射源的輻射。

根據實施例，所述第一組輻射檢測器中的每個輻射檢測器均配置成檢測所述輻射的圖像。

根據實施例，所述第一組輻射檢測器包括兩個輻射檢測器，所述兩個輻射檢測器之間的第一層的區域沒有任何輻射檢測器。

根據實施例，所述輻射是β射線或γ射線。

根據實施例，所述第一組輻射檢測器中至少有一個輻射檢測器包括第一輻射吸收層，所述第一輻射吸收層配置成吸收所述輻射並從所述輻射產生電信號。

根據實施例，所述第一輻射吸收層包括矽或砷化鎵。

根據實施例，所述裝置進一步包括佈置在第二層中的第二組輻射檢測器；其中所述第二組輻射檢測器比所述第一組輻射檢測器更遠離所述平台的第二表面；其中所述第二組輻射檢測器配置成檢測來自所述輻射源的輻射。

根據實施例，所述第二組輻射檢測器中的每個輻射檢測器均與所述平台的第二表面間隔開相同的距離。

根據實施例，所述第二組輻射檢測器中的每個輻射檢測器均配置成檢測所述輻射的圖像。

根據實施例，所述第二組輻射檢測器包括兩個輻射檢測器，所述兩個輻射檢測器之間的第二層的區域沒有任何輻射檢測器。

根據實施例，所述第二組輻射檢測器包括第二輻射吸收層，所述第二輻射吸收層配置成吸收所述輻射並從所述輻射產生電信號。

根據實施例，所述第二輻射吸收層包括矽或砷化鎵。

根據實施例，所述裝置進一步包括處理器，所述處理器配置成基於由所述第一組輻射檢測器檢測到的所述輻射確定所述人體中的所述輻射源的空間分佈。

根據實施例，所述第一輻射吸收層包括電觸點。

根據實施例，其中至少一個輻射檢測器包括：第一電壓比較器，其配置成將所述電觸點的電壓與第一閾值進行比較；第二電壓比較器，其配置成將所述電壓與第二閾值進行比較；計數器，其配置成記錄入射在至少一個所述輻射檢測器的像素上的輻射粒子的數目；控制器；其中所述控制器配置成從所述第一電壓比較器確定所述電壓的絕對值等於或超過所述第一閾值的絕對值時啟動時間延遲；其中所述控制器配置成在所述時間延遲期間啟動所述第二電壓比較器；其中所述控制器配置成當所述第二電壓比較器確定所述電壓的絕對值等於或超過所述第二閾值的絕對值時，使所述數目增加一。

本發明公開了一種方法，其包括：使用佈置在第一層中的第一組輻射檢測器檢測來自人體內的輻射源的輻射；使用佈置在第二層中的第二組輻射檢測器檢測來自所述輻射源的輻射；基於所述第一組輻射檢測器檢測到的所述輻射和所述第二組輻射檢測器檢測到的所述輻射確定所述輻射源的空間分佈；其中所述第一層和所述第二層與所述人體的距離不同。

根據實施例，使用所述第一組輻射檢測器檢測來自所述輻射源的所述輻射，包括檢測所述輻射的圖像。

根據實施例，所述第一組輻射檢測器包括第一輻射吸收層，所述第一輻射吸收層配置成吸收所述輻射並從所述輻射產生電信號。

根據實施例，所述第一輻射吸收層包括矽或砷化鎵。

根據實施例，使用所述第二組輻射檢測器檢測來自所述輻射源的輻射，包括檢測所述輻射的圖像。

根據實施例，所述第二組輻射檢測器中的每個輻射檢測器均與所述第一層間隔開相同的距離。

根據實施例，所述第二組輻射檢測器包括輻射吸收層，所述輻射吸收層配置成吸收所述輻射並從所述輻射產生電信號。

根據實施例，所述輻射吸收層包括矽或砷化鎵。

根據實施例，所述輻射是β射線或γ射線。

圖1A、圖1B和圖2各自示意示出來自不同視圖的裝置500。圖1A示出所述裝置500的平台530的第一表面531。所述平台530的所述第一表面531可支撐人體。圖1B示意示出所述平台530的第二表面532。所述第二表面532與所述第一表面531相對。如圖1B和圖2所示，所述裝置500具有佈置在第一層510中的第一組輻射檢測器521。所述第一組輻射探測器521連接到所述第二表面532。所述第一組輻射探測器521可包括至少兩個輻射探測器521。所述輻射探測器521之間的所述第一層510的區域可沒有任何輻射探測器。

圖1B和圖2中示意示出，根據實施例，所述裝置500具有佈置在第二層520中的第二組輻射檢測器522。所述第二組輻射檢測器522比所述第一組輻射檢測器521更遠離所述第二表面532。所述第二組輻射檢測器522中的每一個輻射檢測器可與所述第二表面532間隔開相同的距離。即，所述第二層520可平行於所述第二表面532。所述第二組輻射檢測器522可包括至少兩個輻射檢測器522。所述輻射檢測器522之間的所述第二層520的區域可沒有任何輻射檢測器。所述平台530位於所述人體和所述輻射檢測器521和522之間。所述輻射檢測器521和522可檢測來自所述人體內的輻射源的輻射。所述輻射檢測器521和522可檢測所述輻射的圖像。所述輻射可以是β射線或γ射線。

如圖2所示，所述第一層510和所述第二層520是堆疊的。所述第二層520中的所述第二組輻射檢測器521可對準所述第一層510的沒有任何輻射檢測器的區域。

人體內的輻射源可以是為了醫療目的而引入人體的放射性物質。所述放射性物質的例子可包括碘-131（¹³¹ I），碘-123（¹²³ I）和碘-125（¹²⁵ I）。在一個實例中，¹³¹ I用於治療甲狀腺毒症（甲亢）和某些類型的甲狀腺癌，因為甲狀腺可吸收碘。在一個實例中，131I用作某些放射性藥物的放射性標記物（例如131I -間碘苯甲醯胍（131I-MIBG）用於成像和治療嗜鉻細胞瘤和神經母細胞瘤）。因此，瞭解放射性物質的空間分佈可有助於使用放射性物質來診斷或治療某些疾病。所述裝置500可具有處理器550，所述處理器550可基於由所述第一組輻射檢測器521或所述第二組輻射檢測器522檢測到的輻射來確定所述輻射源的空間分佈。

圖3示意示出根據實施例的輻射檢測器100（其是所述輻射檢測器521和522之一）可具有像素陣列150。所述像素150的陣列可以是矩形陣列、蜂窩陣列、六邊形陣列或任何其他合適的陣列。所述輻射檢測器100可對在一段時間內入射在所述像素150上的輻射粒子的數目進行計數。所述輻射粒子的一個例子是伽馬射線（β射線）光子。每個所述像素150可配置成測量其暗電流，比如在每個輻射粒子入射到其上之前或同時測量其暗電流。所述像素150可配置成平行作業。例如，所述輻射檢測器100可在所述輻射檢測器100對另一個像素150上的另一個輻射粒子進行計數之前、之後或同時對入射在一個像素150上的一個輻射粒子進行計數。所述像素150可以是單獨可定址的。

圖4A示出根據實施例的輻射檢測器100的橫截面示意圖。所述輻射檢測器100可包括輻射吸收層110和電子層120（例如，ASIC），用於處理或分析在所述輻射吸收層110中產生的入射輻射粒子的電信號。所述輻射檢測器100可包括或不包括閃爍。所述輻射吸收層110可包括半導體材料比如單晶矽。所述半導體對於感興趣的輻射能量可具有高的品質衰減係數。

如圖4B中根據實施例的輻射檢測器100的更詳細的橫截面示意圖所示，所述輻射吸收層110可包括由第一摻雜區111、第二摻雜區113的一個或多個離散區114 組成的一個或多個二極體（例如，p-i-n或p-n）。所述第二摻雜區113可通過可選的本徵區112而與所述第一摻雜區111分離。所述離散區114通過所述第一摻雜區111或所述本徵區112而彼此分離。所述第一摻雜區111和所述第二摻雜區113具有相反類型的摻雜（例如，區域111是p型並且區域113是n型，或者區域111是n型並且區域113是p型）。在圖4B中的示例中，所述第二摻雜區113的每個離散區114與所述第一摻雜區111和所述可選的本徵區112一起組成一個二極體。即，在圖4B的示例中，所述輻射吸收層110包括多個二極體，其具有所述第一摻雜區111作為共用電極。所述第一摻雜區111還可具有離散部分。所述輻射吸收層110可具有與所述第一摻雜區域111電接觸的電觸點119A。所述輻射吸收層110可具有多個離散的電觸點119B，每個所述電觸點119B都與所述離散區域114電接觸。

在輻射粒子撞擊所述輻射吸收層110（包括二極體）時，所述輻射粒子可被吸收並通過若干機制產生一個或多個載流子。所述載流子可在電場下向電觸點119A和電觸點119B漂移。所述電場可以是外部電場。在實施例中，所述載流子可向不同方向漂移，使得由單個輻射粒子產生的所述載流子大致未被兩個不同的離散區114共用。（“大致未被共用”在這裡意指這些載流子中不到2%、不到0.5%、不到0.1%或不到0.01%流向與餘下載流子不同的所述離散區114）。由入射在所述離散區域114的其中一個的足跡周圍的輻射粒子產生的載流子大致未被這些離散區域114中的另一個共用。與一個離散區域114相關聯的像素150可以是所述離散區域114周圍的一個區域，由在其中入射的輻射粒子所產生的載流子大致全部（超過98％、超過99.5％、超過99.9％或超過99.99％）流向所述離散區114。即，這些載流子中的不到2％、不到1％、不到0.1％或不到0.01％流到所述像素150外。

如圖4C中根據實施例的輻射檢測器100的替代詳細橫截面示意圖所示，輻射吸收層110可包括半導體材料（例如，單晶矽）電阻器，但不包括二極體。所述半導體對於感興趣的輻射能量可具有高的品質衰減係數。所述輻射吸收層110可具有在所述半導體的一個表面上與所述半導體電接觸的電觸點119A。所述輻射吸收層110可在所述半導體的另一個表面上具有多個電觸點119B。

在輻射粒子撞擊包括電阻器但不包括二極體的輻射吸收層110時，所述輻射粒子可被吸收並通過若干機制產生一個或多個載流子。一個輻射粒子可產生10到100000個載流子。所述載流子可在電場下向所述電觸點119A和119B漂移。所述電場可以是外部電場。在實施例中，所述載流子可向不同方向漂移，使得由單個輻射粒子產生的所述載流子大致未被兩個電觸點119B共用（“大致未被共用”在這裡意指這些載流子中不到2%、不到0.5%、不到0.1%或不到0.01%流向與餘下載流子不同的離散部分）。由入射在一個電觸點119B的足跡周圍的輻射粒子產生的載流子大致未被另一個電觸點119B共用。與電觸點119B之一相關聯的像素150可以是其周圍的區域，由入射在其中的一個輻射粒子產生的載流子大致全部（大於98％，大於99.5％，大於99.9％或大於99.99％）流向所述電觸點119B。即，小於2％，小於0.5％，小於0.1％或小於0.01％的所述載流子流到與所述電觸點119B相關聯的像素之外。

所述電子層120可包括電子系統121，其適於處理或解釋由入射在所述輻射吸收層110上的輻射產生的信號。所述電子系統121可包括類比電路比如濾波器網路、放大器、積分器、比較器等，和數位電路比如微處理器，以及記憶體。所述電子系統121可包括一個或多個ADC。所述電子系統121可包括由專用於單個像素的元件或由像素共用的元件。例如，電子系統121可包括可專用於每個像素150的放大器和在所有像素150之間共用的微處理器。所述電子系統121可通過通孔131電連接到像素。所述通孔之間的空間可用填充材料130填充，以增加所述電子層120到所述輻射吸收層110的連接的機械穩定性。其他鍵合技術可在不使用通孔的情況下將電子系統121連接到像素。

圖5A和圖5B各自示出根據實施例的電子系統121的元件圖。所述電子系統121可包括第一電壓比較器301、第二電壓比較器302、計數器320、開關305、可選的電壓表306和控制器310。

所述第一電壓比較器301配置成將至少一個電觸點119B的電壓與第一閾值進行比較。所述第一電壓比較器301可配置成直接監測電壓，或者通過對在一段時間內流過電觸點119B的電流積分來計算電壓。所述第一電壓比較器301可由所述控制器310可控地啟動或停用。所述第一電壓比較器301可以是連續比較器。即，第一電壓比較器301可被配置為連續被啟用並監視電壓。所述第一電壓比較器301可以是鐘控比較器。所述第一閾值可以是一個入射輻射粒子可在所述電觸點119B上產生的的最大電壓的1-5％、5-10％、10％-20％、20-30％、30-40％或40-50％。最大電壓可取決於入射輻射粒子的能量、輻射吸收層110的材料和其他因素。例如，第一閾值可以是50mV，100mV，150mV或200mV。

所述第二電壓比較器302配置成將所述電壓與第二閾值進行比較。所述第二電壓比較器302可配置成直接監測所述電壓，或者通過對一段時間內流過所述二極體或電觸點的電流積分來計算電壓。所述第二電壓比較器302可以是連續比較器。所述第二電壓比較器302可由所述控制器310可控地啟動或停用。在停用所述第二電壓比較器302時，所述第二電壓比較器302的功耗可以是啟動所述第二電壓比較器302時的功耗的不到1％、不到5％、不到10％或不到20%。所述第二閾值的絕對值大於所述第一閾值的絕對值。如本文中所使用的，術語實數x 的“絕對值”或“模數”| x |是x的非負值而不考慮它的符號。即，|x|=x, if x≥0; |x|=-x, if x≤0。所述第二閾值可以是所述第一閾值的200％-300％。所述第二閾值可以是一個入射輻射粒子可在電觸點119B上產生的最大電壓的至少50%。例如，所述第二閾值可以是100mV、150mV、200mV、250mV或300mV。所述第二電壓比較器302和所述第一電壓比較器301可以是相同部件。即，所述系統121可具有一個電壓比較器，其可在不同時間將電壓與兩個不同的閾值進行比較。

所述第一電壓比較器301或所述第二電壓比較器302可包括一個或多個運算放大器或任何其他適合的電路。所述第一電壓比較器301或所述第二電壓比較器302可具有高的速度以允許系統121在高的入射輻射通量下操作。然而，具有高的速度通常以功耗為代價。

所述計數器320配置成記錄入射在圍繞電觸點119B的像素150上的至少一個輻射粒子。所述計數器320可以是軟體元件（例如，存儲在電腦記憶體中的數位）或硬體元件（例如，4017IC和7490IC）。

所述控制器310可以是硬體部件比如微控制器和微處理器。所述控制器310配置成從所述第一電壓比較器301確定所述電壓的絕對值等於或超過所述第一閾值的絕對值（例如，所述電壓的絕對值從所述第一閾值的絕對值以下增加到等於或超過所述第一閾值的絕對值的值）時啟動時間延遲。在這裡因為電壓可以是負的或正的而使用絕對值，這取決於是使用二極體的的陰極還是陽極的電壓或使用哪個電觸點。所述控制器310可配置成在所述第一電壓比較器301確定所述電壓的絕對值等於或超過所述第一閾值的絕對值之前，保持停用所述第二電壓比較器302、所述計數器320和所述第一電壓比較器301的操作中不需要的任何其他電路。在所述電壓變得穩定（即，所述電壓的變化率大致為零）之前或之後，時間延遲可終止。短語“變化率大致為零”意指時間變化小於0.1％/ns。短語“變化率大致為非零”意指電壓的時間變化至少為0.1％/ns。

所述控制310可配置成在時間延遲期間（其包括開始和終止）啟動所述第二電壓比較器。在實施例中，所述控制器310配置成在所述時間延遲開始時啟動所述第二電壓比較器。術語“啟動”意指使部件進入操作狀態（例如，通過發送信號比如電壓脈衝或邏輯電平，通過提供電力等）。術語“停用”意指使部件進入非操作狀態（例如，通過發送信號比如電壓脈衝或邏輯電平，通過切斷電力等）。操作狀態可具有比非操作狀態更高的功耗（例如，高10倍、高100倍、高1000倍）。所述控制器310本身可被停用直到所述第一電壓比較器301的輸出電壓的絕對值等於或超過所述第一閾值的絕對值時才啟動所述控制器310。

如果在所述時間延遲期間，所述第二電壓比較器302確定所述電壓的絕對值等於或超過所述第二閾值的絕對值，所述控制器310可配置成使所述計數器320的其中一個計數器記錄的數目增加一。

所述控制器310可配置成使得可選的所述電壓表306在所述時間延遲期滿時測量電壓。所述控制器310可配置成使所述電觸點119B連接到電接地，以使電壓重置並使所述電觸點119B上累積的任何載流子放電。在實施例中，所述電觸點119B在所述時間延遲終止後連接到電接地。在實施例中，所述電觸點119B連接到電接地並持續有限的重置時段。所述控制器310可通過控制開關305而使所述電觸點119B連接到電接地。所述開關可以是電晶體比如場效應電晶體（FET）。

在實施例中，所述系統121沒有類比濾波器網路（例如，RC網路）。在實施例中，所述系統121沒有類比電路。

所述電壓表306可將其測量的電壓作為類比或數位信號饋送給所述控制器310。

所述電子系統121可包括電連接到所述電觸點119B的積分器309，其中所述積分器配置成從所述電觸點119B收集載流子。所述積分器309可在放大器的回饋路徑中包括電容器。如此配置的放大器稱為電容跨阻放大器（CTIA）。所述 CTIA通過防止運算放大器飽和而具有高的動態範圍，並通過限制信號路徑中的頻寬來提高信噪比。來自所述電觸點119B的載流子在一段時間（“積分期”）內累積在電容器上。在積分期終止後，對電容器電壓進行採樣，然後通過重置開關進行重置。所述積分器309可包括直接連接到所述電觸點119B的電容器。

圖6示意示出流過所述電觸點119B的，由入射在圍繞電觸點119B的像素150的輻射粒子產生的載流子所引起的電流的時間變化（上曲線）和所述電觸點119B電壓的對應時間變化（下曲線）。所述電壓可以是電流相對於時間的積分。在時間t0，所述輻射粒子撞擊像素150，載流子開始在像素150中產生，電流開始流過所述電觸點119B，並且所述電觸點119B的電壓的絕對值開始增加。在時間t1，所述第一電壓比較器301確定所述電壓的絕對值等於或超過所述第一閾值V1的絕對值，所述控制器310啟動時間延遲TD1並且所述控制器310可在所述TD1開始時停用所述第一電壓比較器301。如果所述控制器310在t1之前被停用，在t1啟動所述控制器310。在所述TD1期間，所述控制器310啟動所述第二電壓比較器302。如這裡使用的術語在時間延遲“期間”意指開始和終止（即，結束）和中間的任何時間。例如，所述控制器310可在所述TD1終止時啟動所述第二電壓比較器302。如果在所述TD1期間，所述第二電壓比較器302確定在時間t2電壓的絕對值等於或超過所述第二閾值的絕對值，則所述控制器310等待使電壓穩定。所述電壓在時間te穩定，這時輻射粒子產生的所有載流子漂移出所述輻射吸收層110。在時間ts，所述時間延遲TD1終止。在時間te或te之後，所述控制器310使所述電壓表306使電壓數位化並確定輻射粒子的能量落在哪個倉中。然後控制器310使對應於倉的計數器320記錄的數目增加一。在圖6的示例中，時間ts在時間te之後；即TD1在輻射粒子產生的所有載流子漂移出輻射吸收層110之後終止。如果無法輕易測量時間te，TD1可根據經驗選擇以允許有足夠的時間來收集由輻射粒子產生的大致上全部的載流子，但TD1不能太長，否則會有另一個入射輻射粒子產生的載流子被收集的風險。即，TD1可根據經驗選擇使得ts根據經驗在時間te之後。因為一旦達到第二閾值V2，控制器310可忽視TD1並且等待時間te，時間ts不一定在時間te之後。因此，電壓和暗電流對電壓的貢獻之間的差異的變化率在te大致為零。所述控制器310可配置成在TD1終止時或在t2或中間的任何時間停用第二電壓比較器302。

在時間te的電壓與由輻射粒子產生的載流子的數目成正比，所述數目與輻射粒子的能量有關。所述控制器310可配置成使用所述電壓表306來確定輻射粒子的能量。

在TD1終止或被所述電壓表306數位化後（以較遲者為准），所述控制器310使所述電觸點119B連接到電接地並持續一個重置時段RST，以允許所述電觸點119B上累積的載流子流到地面並重置電壓。在RST之後，所述系統121已準備好檢測另一個入射輻射粒子。如果所述第一電壓比較器301被停用，所述控制器310可在RST終止之前的任何時間啟動它。如果所述控制器310被停用，可在RST終止之前啟動它。

圖7示意示出根據實施例的方法的流程圖。在步驟801中，由第一組輻射檢測器521檢測來自人體內的輻射源發射的輻射。在步驟802中，由第二組輻射檢測器522檢測所述輻射。在步驟803中，基於由第一組輻射檢測器521檢測的輻射和由第二組輻射檢測器521檢測的輻射，確定所述人體內所述輻射源的空間分佈。

儘管本文已經公開了各個方面和實施例，但是其他方面和實施例對於本領域技術人員而言將是顯而易見的。本文公開的各個方面和實施例是為了說明的目的而不是限制性的，其真正的範圍和精神應該以本文的申請專利範圍為准。

100:輻射檢測器 110:輻射吸收層 111:第一摻雜區 112:本徵區 113:第二摻雜區 114:離散區 119A、119B:電觸點 120:電子層 121:電子系統、系統 130:填充材料 131:通孔 150:像素 301:第一電壓比較器 302:第二電壓比較器 305:開關 306:電壓表 309:積分器 310:控制器 320:計數器 500:裝置 510:第一層 520:第二層 521:第一組輻射檢測器、輻射檢測器 522:第二組輻射檢測器、輻射檢測器 530:平台 531:第一表面 532:第二表面 550:處理器 801、802:步驟 t0、t1、t2、te、ts:時間 TD1:時間延遲 RST:重置時段 V1:第一閾值 V2:第二閾值

圖1A、圖1B和圖2各自示意示出根據實施例的裝置的視圖。圖3示意示出根據實施例的裝置具有帶有像素陣列的輻射檢測器。圖4A示出根據實施例的輻射檢測器的橫截面示意圖。圖4B示出根據實施例的輻射檢測器的詳細橫截面示意圖。圖4C示出根據實施例的輻射檢測器的替代詳細橫截面示意圖。圖5A和圖5B各自示出根據實施例的輻射檢測器的電子系統的元件圖。圖6示意示出流過輻射檢測器輻射吸收層的電觸點的電流的時間變化（上曲線），以及電觸點的電壓的相應時間變化（下曲線）。圖7示意示出根據實施例的方法的流程圖。

500:裝置

510:第一層

520:第二層

530:平台

531:第一表面

532:第二表面

550:處理器

Claims

一種裝置，其包括：平台，配置以支撐人體在所述平台的第一表面上；第一組輻射檢測器，佈置在第一層中，其中所述第一組輻射檢測器連接到所述平台相對於所述第一表面的第二表面；其中所述第一組輻射檢測器配置成檢測來自人體內輻射源的輻射。
如申請專利範圍第1項所述的裝置，其中所述第一組輻射檢測器中的每個輻射檢測器均配置成檢測所述輻射的圖像。
如申請專利範圍第1項所述的裝置，其中所述第一組輻射檢測器包括兩個輻射檢測器，在所述兩個輻射檢測器之間的所述第一層的區域沒有任何輻射檢測器。
如申請專利範圍第1項所述的裝置，其中所述輻射是β射線或γ射線。
如申請專利範圍第1項所述的裝置，其中所述第一組輻射檢測器中至少一輻射檢測器包括第一輻射吸收層，所述第一輻射吸收層配置成吸收所述輻射並從所述輻射產生電信號。
如申請專利範圍第5項所述的裝置，其中所述第一輻射吸收層包括矽或砷化鎵。
如申請專利範圍第1項所述的裝置，更包括佈置在第二層中的第二組輻射檢測器，其中所述第二組輻射檢測器比所述第一組輻射檢測器更遠離所述平台的所述第二表面，其中所述第二組輻射檢測器配置成檢測來自所述輻射源的輻射。
如申請專利範圍第7項所述的裝置，其中所述第二組輻射檢測器中的每個輻射檢測器均與所述平台的所述第二表面間隔開相同的距離。
如申請專利範圍第7項所述的裝置，其中所述第二組輻射檢測器中的每個輻射檢測器均配置成檢測所述輻射的圖像。
如申請專利範圍第7項所述的裝置，其中所述第二組輻射檢測器包括兩個輻射檢測器，在所述兩個輻射檢測器之間的所述第二層的區域沒有任何輻射檢測器。
如申請專利範圍第7項所述的裝置，其中所述第二組輻射檢測器包括第二輻射吸收層，所述第二輻射吸收層配置成吸收所述輻射並從所述輻射產生電信號。
如申請專利範圍第11項所述的裝置，其中所述第二輻射吸收層包括矽或砷化鎵。
如申請專利範圍第1項所述的裝置，更包括處理器，所述處理器配置成基於由所述第一組輻射檢測器檢測到的所述輻射來確定所述人體中的所述輻射源的空間分佈。
如申請專利範圍第5項所述的裝置，其中所述第一輻射吸收層包括電觸點。
如申請專利範圍第14項所述的裝置，其中所述至少一輻射檢測器包括：第一電壓比較器，配置成將所述電觸點的電壓與第一閾值進行比較；第二電壓比較器，配置成將所述電壓與第二閾值進行比較；計數器，配置成記錄入射在所述至少一輻射檢測器的像素上的輻射粒子的數目；以及控制器，其中所述控制器配置成從所述第一電壓比較器確定所述電壓的絕對值等於或超過所述第一閾值的絕對值時啟動時間延遲；其中所述控制器配置成在所述時間延遲期間啟動所述第二電壓比較器，其中所述控制器配置成當所述第二電壓比較器確定所述電壓的絕對值等於或超過所述第二閾值的絕對值時，使所述數目增加一。
一種方法，其包括：使用佈置在第一層中的第一組輻射檢測器檢測來自人體內的輻射源的輻射；使用佈置在第二層中的第二組輻射檢測器檢測來自所述輻射源的輻射；以及基於所述第一組輻射檢測器檢測到的所述輻射和所述第二組輻射檢測器檢測到的所述輻射確定所述輻射源的空間分佈，其中所述第一層和所述第二層與所述人體的距離不同。
如申請專利範圍第16項所述的方法，其中使用所述第一組輻射檢測器檢測來自所述輻射源的所述輻射，包括檢測所述輻射的圖像。
如申請專利範圍第16項所述的方法，其中所述第一組輻射檢測器包括兩個輻射檢測器，所述兩個輻射檢測器之間的所述第一層的區域沒有任何輻射檢測器。
如申請專利範圍第16項所述的方法，其中所述第一組輻射檢測器包括第一輻射吸收層，所述第一輻射吸收層配置成吸收所述輻射並從所述輻射產生電信號。
如申請專利範圍第19項所述的方法，其中所述第一輻射吸收層包括矽或砷化鎵。
如申請專利範圍第16項所述的方法，其中使用所述第二組輻射檢測器檢測來自所述輻射源的所述輻射，包括檢測所述輻射的圖像。
如申請專利範圍第16項所述的方法，其中所述第二組輻射檢測器中的每個輻射檢測器均與所述第一層間隔開相同的距離。
如申請專利範圍第16項所述的方法，其中所述第二組輻射檢測器包括兩個輻射檢測器，在所述兩個輻射檢測器之間的所述第二層的區域沒有任何輻射檢測器。
如申請專利範圍第16項所述的方法，其中所述第二組輻射檢測器包括輻射吸收層，所述輻射吸收層配置成吸收所述輻射並從所述輻射產生電信號。
如申請專利範圍第24項所述的方法，其中所述輻射吸收層包括矽或砷化鎵。
如申請專利範圍第16項所述的方法，其中所述輻射是β射線或γ射線。