TW201825069A - 下肢用按摩機 - Google Patents

Abstract

下肢用按摩機中，也可對位在膝部以上的大腿等施療部施行有效的按摩。

本發明的下肢用按摩機(1)具備膝下按摩機構(2)，其具有：一對筒構件(6)，使用者的膝部以下施療部可從設成開口的上部插入其中，並且側面視圖係形成L字形；氣囊(10)，設於筒構件(6)，且對插入的膝部以下的施療部施行推壓按摩；及泵(7)，對該氣囊(10)供給空氣；該膝下按摩機構(2)的上方設有對位於使用者膝部以上的大腿進行施療的膝上按摩機構(3)，且具備可使膝上按摩機構(3)朝前後方向擺動地連結於膝下按摩機構(2)的連結機構(5)。

Description

下肢用按摩機

本發明係有關適於按摩下肢的下肢用按摩機。

往昔技術中，可按摩人體下肢的下肢用按摩機業已開發出來。這種下肢用按摩機中，有例如專利文獻1所揭示的機型。

專利文獻1揭露了一種下肢用按摩機，其具有：一對筒構件，使用者的下肢可從設成開口的上部插入其中，側面視圖形成為L字形；氣囊，設於前述筒構件，且對插入筒構件的前述下肢進行推壓按摩；及泵，對該氣囊供給空氣；其中，前述筒構件係左右並排地支持在外殼體的內部，而前述筒構件的前面、左右方向側面、及後面的至少一面係作為藉以支持在外殼體的支持面。

先前技術文獻 專利文獻

專利文獻1 日本特開2016-89號公報

專利文獻1的下肢用按摩機很容易裝套於下肢，並且可對從腳尖到小腿肚間進行非常有效的按摩。

然而，因為近年來由於需求的多樣化，在使用專利文獻1的下肢用按摩機時，會接收到不僅是從腳尖按摩到小腿肚，還希望能按摩到位於上方之大腿的要求。

因此，本發明係有鑑於上述問題而研發者，其目的在提供一種可對腳尖到小腿肚間進行按摩的下肢用按摩機，其不僅可對位於膝部以下的施療部進行按摩，還可對位於膝部以上的大腿等施療部進行有效按摩的下肢用按摩機。

為達成上述目的，本發明係採取以下的手段。

本發明的下肢用按摩機係為具備對位在使用者膝部以下的腳部及/或小腿肚施行按摩的膝下按摩機構，其特徵為：前述膝下按摩機構的上方設有按摩位在使用者膝部以上之大腿的膝上按摩機構；且具備將前述膝上按摩機構可朝前後方向擺動地連結於膝下按摩機構的連結機構。

較佳為，前述連結機構係以前述膝下按摩機構與膝上按摩機構之距離可改變的方式連結前述膝下按摩機構和膝上按摩機構。

較佳為，前述連結機構具備：連結臂，連結前述膝下按摩機構和膝上按摩機構；及下樞支部，使前述連結臂對於前述膝下按摩機構朝前後方向擺動。

較佳為，前述連結機構具備使前述膝上按摩機構對於前述連結臂朝前後方向擺動的上樞支部。

較佳為，前述連結機構具備調整前述膝下按摩機構與膝上按摩機構之間的距離的距離調整部。

較佳為，前述連結臂具有：上臂，經由前述上樞支部連結於膝上按摩機構；及下臂，經由前述距離調整部連結於膝下按摩機構；前述上臂與下臂係經由前述下樞支部相連結。

較佳為，前述下臂設有前述距離調整部；前述距離調整部具備滑動機構，前述下臂則經由該滑動機構連結於膝下按摩機構。

較佳為，前述下臂設有前述距離調整部；前述距離調整部具備棘輪機構，且前述下臂係經由該棘輪機構連結於膝下按摩機構。

較佳為，前述膝上按摩機構具有：推壓部，對前述大腿施行推壓按摩；及支持體，支持前述推壓部。

較佳為，前述膝上按摩機構具有：環套帶，作為前述推壓部而設在前述支持體，且可捲繞膝部以上的施療部；及氣囊，設於前述環套帶，且利用空氣膨脹。

較佳為，前述環套帶係作成配合前述大腿的外形而彎曲的形狀，且以彈性構件形成，俾可在前述膝部以上插入時變形。

較佳為，前述推壓部具有：左推壓部，對使用者的左膝部以上進行施療；及右推壓部，對使用者的右膝部以上進行施療；前述支持體係設成以左右並排的狀態支持前述左推壓部及右推壓部的構成。

較佳為，前述膝下按摩機構具有：一對筒構件，使用者膝部以下的施療部可從設成開口的上部插入其中，並且側面視圖係形成L字狀；氣囊，設在前述筒構件，且對插入的前述膝部以下的施療部施行推壓按摩；及泵，對該氣囊供給空氣。

若使用本發明的下肢用按摩機，不僅可對位於膝部以下的小腿肚或腳尖等施療部進行按摩，還可對位於膝部以上的大腿等施療部進行有效按摩。

1‧‧‧下肢用按摩機

2‧‧‧膝下按摩機構

3‧‧‧膝上按摩機構

4‧‧‧本體部

5‧‧‧連結機構

6‧‧‧筒構件

6a‧‧‧水平筒構件

6b‧‧‧垂直筒構件

7‧‧‧泵(壓縮機)

8‧‧‧外殼體(殼體)

9‧‧‧插入凹部

10‧‧‧氣囊

10a‧‧‧第1氣囊

10b‧‧‧第2氣囊

10c‧‧‧第3氣囊

11‧‧‧電磁閥

12‧‧‧軟管

13‧‧‧環套帶

13L‧‧‧左環套帶

13R‧‧‧右環套帶

14‧‧‧膝上氣囊

14L‧‧‧左側膝上氣囊

14R‧‧‧右側膝上氣囊

15‧‧‧支持體

16‧‧‧連結臂

17‧‧‧上樞支部

18‧‧‧下樞支部

19‧‧‧距離調整部

20‧‧‧上臂

21‧‧‧下臂

22‧‧‧滑動體

23‧‧‧底座

24‧‧‧軌道設置板

25‧‧‧階差

26‧‧‧引導片

F‧‧‧腳

H‧‧‧大腿

U‧‧‧使用者

圖1為本實施形態下肢用按摩機的立體圖。

圖2為本實施形態下肢用按摩機之內部構造(對氣囊供給空氣的構造)的前方立體圖。

圖3為膝上按摩機構係相對於膝下按摩機構被設在豎起姿勢的本實施形態下肢用按摩機的剖面立體圖。

圖4為膝上按摩機構係相對於膝下按摩機構被設在收容姿勢的本實施形態下肢用按摩機的剖面立體圖。

圖5為膝上按摩機構係相對於膝下按摩機構被設在傾斜動作姿勢的本實施形態下肢用按摩機的剖面立體圖。

圖6為從正面觀看設在收容姿勢的膝上按摩機構的圖示。

圖7為膝上按摩機構相對於膝下按摩機構被設在收容姿勢的本實施形態下肢用按摩機的使用樣態圖。

圖8為膝上按摩機構係相對於膝下按摩機構被設在豎起姿勢的本實施形態下肢用按摩機的使用樣態圖。

圖9為膝上按摩機構係相對於膝下按摩機構被設在傾斜動作姿勢的本實施形態下肢用按摩機的使用樣態圖。

發明的實施形態

以下，依據附圖說明本發明下肢用按摩機1的實施形態。

圖1至圖9係揭示本發明下肢用按摩機1的構成及使用樣態。

此外，本說明書中，「小腿肚」係指人體下肢中，膝部以下且腳踝以上的部分，「腳F」係指人體下肢中，膝部以下且腳踝以下的部分。此外，「大腿H」係指人體下肢中，膝部以上且腰部以下的部分。

再者，下文說明中，圖6的左右方向係稱為實際裝置的左右方向，圖6的上下方向則稱為實際裝置的上下方向。圖6的貫通紙面方向稱為實際裝置的前後方向或寬度方向。這些方向係和下肢插入下肢用按摩機1的使用者U觀看的方向一致，代表圖中係以箭號標示。

如圖1所示，下肢用按摩機1具有：膝下按摩機構2，對使用者U的膝部以下施療部施行按摩；及膝上按摩機構3，對使用者U的膝部以上施療部(意即，位於使用者U膝部以上的大腿H)施行施療。具體而言，下肢用按摩機1具備內部設有上述膝下按摩機構2的本體部4。

如圖2所示，下肢用按摩機1的本體部4可對例如就座於椅子的使用者U之下肢中的小腿肚、腳跟、腳背等進行按摩。本體部4之內部搭載有對使用者U之下肢進行推壓按摩的氣囊10(空氣袋)。

同時，下肢用按摩機1一併設有膝上按摩機構3，其係經由連結機構5連結於本體部4，並且捲套於使用者U的大腿H，藉以對該大腿H施行推壓按摩。

首先，就下肢用按摩機1的本體部4加以說明。

本體部4具有：一對筒構件6，使用者U的下肢可從設成開口的上部插入其中，側面視圖形成為L字形；氣囊10，設於該筒構件6，且可對插入的下肢施行推壓按摩；及泵7(壓縮機)，對該氣囊10供給加壓空氣。

如圖1及圖2所示，該下肢用按摩機1具有側面視圖呈大致三角狀的外殼體(殼體)8，該外殼體8之內部左右並排配設有一對筒構件6(施療部)。本實施形態的下肢用按摩機1中，一對筒構件6與外殼體8係構成為一體。

本實施形態的下肢用按摩機1中，因筒構件6係設於外殼體8的背面側，而成為使用者U得將其下肢從筒構件6的後方上側(背面上方)向前方下側插入的構造。

如圖1所示，外殼體8係為收容上述的筒構件6及泵7等的筐體，其具有除了筒構件6的上方、側方的一部分、及後方的一部分之外，可覆蓋筒構件6周圍的構成。意即，在前視圖中，該外殼體8係作成橫 向較長或縱向較長的長方形或正方形，側面視圖則成為和筒構件6的形狀大致相同的L字形(靴子狀)。

在外殼體8的背面側，左右方向隔開預定間隔形成有一對插入凹部9，其係從外殼體8的下部側到外殼體8的上端連續設成開口。筒構件6即嵌入該左右插入凹部9中。

如圖1所示，筒構件6係由對應使用者U腳尖而朝向水平方向的水平筒構件6a、及對應小腿肚而朝向垂直方向的垂直筒構件6b組合形成為L字形，並且以大致直立狀態支持在上述外殼體8的插入凹部9。筒構件6係以具可撓性且可配合氣囊10的膨脹-收縮而變形的布材等製成，而且，形成為具有預定厚度，可耐承受使用者U下肢的重量。意即，形成水平筒構件6a可覆蓋腳背到腳尖，並且垂直筒構件6b可覆蓋腳跟到小腿肚，對於膝部以下的施療部可對應上下方向之廣範圍的構成。

上述筒構件6的外周圍具備對膝部以下的施療部進行推壓按摩的複數個氣囊10。並且，這些複數個氣囊10也構成膝下按摩機構2。

例如，若在本實施形態膝下按摩機構2的情況中，在筒構件6之水平筒構件6a的上側面、垂直筒構件6b下側的左右兩側面、及垂直筒構件6b上側的左右兩側面均分別具備氣囊10。

如圖2所示，上述的複數個氣囊10係形成為可儲留來自泵7之加壓空氣的袋體。

具體而言，該第1氣囊10a中，係藉由從泵7供給空氣使第1氣囊10a膨脹，俾對插入水平筒構件6a的腳背及其周邊(腳尖等)施以推壓按摩。再者，第2氣囊10b及第3氣囊10c中，係藉由從泵7供給空氣使各個氣囊10b、10c膨脹，而對插入垂直筒構件6b的小腿肚H施以推壓按摩。

另外，對上述氣囊10供給加壓空氣的泵7(壓縮機)、對向氣囊10導入空氣及從氣囊10排出空氣的動作進行切換的電磁閥11、及控制該電磁閥11的控制裝置均收納於外殼體8的內部。該泵7係設在左右配設一對的筒構件6之中央，並經由軟管12連接於電磁閥11。泵7係將加壓空氣送到電磁閥11，並經由該電磁閥11向各氣囊10供給加壓空氣。再者，電磁閥11係配設於本體部4的底側，且連接於通向各氣囊10的軟管12。該電磁閥11係藉控制裝置施行控制，將從泵7送出的空氣導向預定的氣囊10a至10c。

另外，上述的膝下按摩機構2也可在左右一對的筒構件6、6之下部，設置對插入其中的下肢腳底施以推壓按摩的按摩構件，例如圓筒狀的轉動滾筒(機械式的按摩機)等。

此外，本發明的下肢用按摩機1在膝下按摩機構2的上方具備對位於使用者U之膝部以上的大腿H(膝上施療部)進行施療的膝上按摩機構3。而且，本發明的下肢用按摩機1係以可前後方向擺動並且可自由改變長度的連結機構5連結該膝下按摩機構2及膝上按摩機構3為特徵。

接著，詳細說明有關作為本發明下肢用按摩機1之特徵的膝上按摩機構3及連結機構5。膝上按摩機構3係為對使用者U下肢中的大腿H(膝部以上的施療部)進行施療的按摩機構。該膝上按摩機構3係以可改變相對位置的方式安裝於上述膝下按摩機構2，而可依需要對大腿H進行按摩。該膝上按摩機構3對大腿H的按摩可和對膝部以下施療部的按摩同時進行，也可不對膝部以下進行施療而只對膝部以上進行施療。

具體而言，膝上按摩機構3具有：環套帶13，作成可捲繞膝部以上的施療部；膝上氣囊14(推壓部)，設於環套帶13，且藉空氣進行膨脹-收縮而對施療部進行推壓按摩；及支持體15，用以支持環套帶13及膝上氣囊14。該環套帶13具有對使用者U之左膝部以上進行施療的左環套帶13L、及對使用者U之右膝部以上進行施療的右環套帶13R。再者，左環套帶13L的內周側設有對使用者U左側的大腿H進行施療的左側膝上氣囊14L，並且右環套帶13R的內周側設有對使用者U右側的大腿H進行施療的右側膝上氣囊14R，支持體15係作成可以左右並排的狀態支持左右一對的環套帶13L、13R及膝上氣囊14L、14R。意即，這些左右膝上氣囊14L、14R係構成為對膝部以上施療部進行推壓按摩的推壓部。

環套帶13係為用合成樹脂等形成長且厚的片體捲繞成捲筒狀而成的構件，且以使捲繞形成的開口朝向前後方向的方式配設。形成於該捲繞狀態的環套帶 13的開口具備比大腿H的外徑更大的內徑。意即，上述的環套帶13係配合大腿H的外形形狀而設成彎曲的形狀，使大腿H可順利無阻礙地插入。

再者，為了使圓弧狀部分伸展俾讓大腿H容易插入，上述的環套帶13係以容易彈性變形的合成樹脂等形成。具體而言，從前方觀看時，右環套帶13R係以自固定於支持體15右端的起點端(右環套帶13R的一方端)順時針描繪圓弧的方式延伸，而且繞著大腿H周圍捲繞1圈，使終點端(右環套帶13R的另一方端)位於起點端內側。再者，從前方觀看時，左環套帶13L係捲繞成和右環套帶13R左右相反的形狀。

膝上氣囊14係以可將壓縮空氣充填於內部的袋構件所構成，透過供給空氣反覆膨脹-收縮即可對施療部進行施療。此外，該膝上氣囊14係配設於上述環套帶13的內側(捲繞狀態的內周側)。

另外，關於膝上氣囊14的個數或配置，亦可以將環套帶13的內周面涵蓋大致整圈圍繞起來的方式只配設1個，內周面中也可分為左側面、上面、右側面等而配設複數個。

再者，各個膝上氣囊14連接有和上述之膝下按摩機構2的軟管12同樣的軟管12(但圖示已省略)，且通過電磁閥11以泵7(壓縮機)供給壓縮空氣。

支持體15為支持上述的左環套帶13L及右環套帶13R成為左右並排狀態的構件，其係用比構成環套帶13之材質更硬質的合成樹脂等所形成。該支持體15為沿著 水平方向配設的帶板狀構件，並形成左右方向的尺寸比前後方向的尺寸更長的樣態，且作成可將左右並排的環套帶13L、13R從一端至另一端充分覆蓋的尺寸。

上述的環套帶13係以捲繞的狀態(帶圓弧的狀態)安裝在支持體15的下面。具體而言，各個環套帶13係以帶圓弧部分的最上端側接觸支持體15下面的方式安裝成懸空狀態。

連結機構5係為將膝下按摩機構2與膝上按摩機構3連結的構成，其作成為可前後方向擺動，並且兩機構間的長度可加以改變。換言之，連結機構5係為以膝上按摩機構3得以在前後方向及/或上下方向改變位置的方式連結於設置在地面上使用的膝下按摩機構2的構件。

本發明的下肢用按摩機1之所以採用可依此方式朝前後方向及/或上下方向改變位置的連結機構5，係基於以下的理由。

亦即，相對於載置在地面等並且可插入腳尖進行施療的膝下按摩機構2，對大腿H等膝上施療部進行施療的膝上按摩機構3係以連結機構5的長度的量位於上方。此處，在連結機構5的長度或傾斜度無法改變的情況下，膝上按摩機構3只能以連結機構5的長度之量位在地面的上方位置，可施療的大腿H的高度(位置)也已決定。

另外，就座於椅子的使用者U的大腿H位置係依使用者U的體格而有不同，該高度並非一定。意即，為了對因性別、人種、個體差異而變化位置的大腿 H施療部進行施療，膝上按摩機構3的高度必須可加以改變。

另一方面，就座於椅子的使用者U的姿勢也依使用者的需求而有各種變化。例如，想藉由按摩獲得放鬆的情況中，依使用者會有喜歡以淺座於椅子將身體倒臥的姿勢(傾斜動作姿勢)接受施療的情形，依使用者U也有喜歡以深座於椅子豎起身體的姿勢(豎起姿勢)接受施療的情形，所喜好的膝上按摩機構3姿勢會因使用者U而有各種變化。因此，關於上述的連結機構5，以長度或傾斜度可自由改變為佳。

此處，本發明的下肢用按摩機1中，係採用可調節長度或調整擺動角度的連結機構5，俾可對各個年齡層的使用者U進行施療，施療時的姿勢也可自由改變。

接著，詳細說明有關連結機構5的構成。

如圖3至圖5所示，連結機構5具備：連結臂16，連結膝下按摩機構2與膝上按摩機構3；上樞支部17，使膝上按摩機構3相對於連結臂16朝前後方向擺動；下樞支部18，使連結臂16相對於膝下按摩機構2朝前後方向擺動；及距離調整部19，調整膝下按摩機構2與膝上按摩機構3之間的距離。意即，本實施形態的連結機構5可使用2個部位的樞支部17、18及1個部位的距離調整部19來調整連結機構5本身的長度或傾斜角度。

另外，本實施形態中，係舉在連結臂16上端設有上樞支部17、在連結臂16下端設有距離調整部 19、在連結臂16中的上下方向的中途側設有下樞支部18的連結機構5為例。但，本發明的下肢用按摩機1也可使用在連結臂16上端設有上樞支部17、在連結臂16下端設有下樞支部18、在連結臂16中的上下方向中途側設有距離調整部19作為連結機構5的構成。此外，也可使用在連結臂16上端設有距離調整部19、在連結臂16下端設有下樞支部18、在連結臂16中的上下方向的中途側設有上樞支部17作為連結機構5的構成。

以下詳細說明有關構成連結機構5的連結臂16、上樞支部17、下樞支部18、及距離調整部19。

連結臂16係為配設於膝上按摩機構3與膝下按摩機構2之間的長型構件，用以將膝上按摩機構3與膝下按摩機構2間相互連接。再者，連結臂16係由上臂20及下臂21的兩組構件上下組合構成。

上臂20係為將上樞支部17及下樞支部18連接且形成長型的桿狀構件。上臂20的上端及下端係形成為較上下方向的中途側更粗大，形成為較粗大的上端設有上述上樞支部17，而且，和上端同樣的，形成為較中途側更粗大的下端設有下樞支部18。

另一方面，下臂21雖為和上臂20同樣形成長型的桿狀構件，和上臂20相比，其長度係形成為1/2至2/3左右的短尺度。下臂21的上端係經由上述的下樞支部18而連結於上臂20。再者，下臂21的前面設有後述距離調整部19之滑動體22。意即，下臂21係經由距離調整部19連結於膝下按摩機構2。

上樞支部17係設於上述膝上按摩機構3之支持體15的左右方向中途側，從前方觀看時，係連接成大致T字形。上樞支部17係將上臂20的上端與支持體15連結成可繞著朝左右方向的軸擺動自如(轉動自如)。另外，該上樞支部17的厚度係形成為其左右方向寬度達上述環套帶13外徑的1/3至1/2左右，其中已考量到即使配設於左右大腿H之間也不會讓使用者U感到不快或難以使用的需求。

而且，下樞支部18係為將上臂20之下端與下臂21之上端連結成可繞著朝左右方向之軸擺動自如(轉動自如)的構件。該下樞支部18也和上樞支部17同樣使用左右方向寬度較薄的構件(和上樞支部17相同的鉸鏈構件)。

距離調整部19係為以可調整連結臂16之長度，換言之，以可調整膝上按摩機構3與膝下按摩機構2的相對距離的方式連結膝下按摩機構2與下臂21的組件。

具體而言，在配設有膝下按摩機構2的底座23上以豎起狀態設有軌道設置板24。該軌道設置板24係配設成板面朝向左右方向。而且，軌道設置板24之後部係形成左右方向的寬度比軌道設置板24的前部更寬闊的形態，且軌道設置板24的前部與後部係透過階差25相鄰接。再者，軌道設置板24設成寬闊狀的後面係沿著上下方向形成垂直且平坦，藉由使滑動體22沿著該軌道設置板24之後面滑動於上下方向，即可沿著上下方向引導滑動體22。意即，軌道設置板24之後面係構成了引導滑動體22的導軌。

另一方面，在下臂21的前面設有沿著上述導軌滑動的滑動體22。意即，該滑動體22係由向後方突出的左右一對引導片26、26所構成。該左右一對的引導片26、26係配設成在上述軌道設置板24後面於左右方向上隔著稍微寬的寬幅，而設成可容許沿著軌道設置板24的上下方向移動。

再者，左右一對引導片26、26之前端係以比後端更彼此接近的方式朝寬度方向內側彎曲，使背端側的彎曲部分能鈎卡於軌道設置板24的階差25，藉以限制下臂21從軌道設置板24向前方脫離。

意即，在具備上述構成的距離調整部19中，若設成使滑動體22從軌道設置板24的後方接觸時，軌道設置板24的後面會嵌入左右一對的引導片26之間，使軌道設置板24與滑動體22沿著左右方向的相對移動受到限制。再者，在軌道設置板24的後面嵌入左右一對的引導片26之間的狀態下，軌道設置板24及滑動體22可朝上下方向相對移動。因此，上述距離調整部19中，係在朝左右方向的移動受限制的狀態下沿著軌道設置板24之後面朝上下方向引導滑動體22。

另外，設於上述軌道設置板24的階差25係從上下方向的下端側直線式上下延伸到中途側(上端的稍下側)，但到上端側時，階差25已向前方彎曲，故在下部軌道無法再往上方引導。意即，該向前方彎曲的階差25係成為定位手段27，藉以將滑動體22對軌道設置板24後面的卡合位置定位在導軌最上端。

在使用上述連結機構5的下肢用按摩機1中，可依如下方式改變膝上按摩機構3與膝下按摩機構2的位置關係。

例如，使上臂20以下樞支部18為起點相對於下臂21向前方擺動時，上臂20會在前後方向伸展，而可如圖4所示地使膝上按摩機構3移動到膝下按摩機構2的前方上側。在該圖4的姿勢(收容姿勢)中，因膝上按摩機構3移動到膝下按摩機構2的前方上側，亦即不會妨礙膝下按摩機構2之按摩動作的位置，所以可適用於只用膝下按摩機構2施行按摩的情況。

另一方面，上樞支部17及下樞支部18擺動成使下臂21與上臂20排成上下一直線時，若再使距離調整部19往上下方向伸展，即可如圖5所示地使膝下按摩機構2至膝上按摩機構3的距離比圖3的狀態更長。在該圖5的姿勢(傾斜動作姿勢)時，因可將膝下按摩機構2至膝上按摩機構3的距離擴大，故即使在對體格碩大的使用者U進行膝上按摩的情況，或不以膝蓋彎曲狀態而是以膝蓋伸直的狀態進行膝上按摩的情況，都能適用。

使用上述的下肢用按摩機1不僅按摩使用者U的膝下施療部，也按摩膝上施療部的情況中，可依下文所揭示的順序進行按摩。

首先，如圖7所示，在不使用膝上按摩機構3的狀態(只使用膝下按摩機構2的狀態)中，使下樞支部18擺動成開啟角度大致為90°。在該狀態下，從左方觀看下 肢用按摩機1時，連結臂16係以下樞支部18為起點從下臂21上端擺動到上臂20向前方伸展的擺動姿勢。於是，可使膝上按摩機構3以上臂20朝前後方向的伸展量位在膝下按摩機構2的前方上側。意即，向前方上側擺動的膝上按摩機構3不會碰觸到圖中以假想線表示的使用者U下肢，處於收容姿勢的膝上按摩機構3不會造成膝下按摩機構2進行按摩時的妨礙。

接著，考量在使用者U就座於椅子等的狀態(膝上按摩機構3為豎起姿勢的狀態)對膝上施療部(大腿H)進行施療的情況。另外，在該豎起姿勢中，使用者U係以膝部以下與膝部以上交叉大致90°的角度就座。

如圖8所示，在豎起姿勢中，首先是擺動下樞支部18，使張開角度達大致180°。於是，上樞支部17變成位於下樞支部18的上方，因被設成下臂21及上臂20沿著上下方向排成一直線的狀態，故相較於圖7的收容姿勢，可將膝上按摩機構3移動到更上方的位置。

再者，在圖8的狀態中，因上樞支部17擺動成使環套帶13的開口朝向前後方向，故可將大腿H插入開口，並使用膝上按摩機構3對處於就座姿勢的使用者U之膝上施療部施以按摩。

具體而言，係使用上述的泵7(壓縮機)時而將壓縮空氣經由軟管12供給到氣囊10或膝上氣囊14，時而使用電磁閥11將氣囊10或膝上氣囊14內的空氣排出。於是，位在環套帶13與施療部之間的氣囊10或膝上氣囊14即可反覆膨脹收縮，而對膝上及膝下的施療部(大腿H及腳F)進行按摩。

另外，圖8的狀態中，下臂21的滑動體22係位在沿著上下方向配設的導軌的中途側，可沿著導軌往上方或下方移動。意即，距離調整部19係成為可再將距離拉長或縮短的狀態。

因此，對體格碩大的使用者進行膝上施療部的按摩時，若使滑動體22沿著導軌移動到比圖8的狀態更上方，連結臂16的長度就會更長，使膝上按摩機構3的位置再升高，而可對體型碩大的使用者U之大腿H進行按摩。此外，對於小型體格的使用者U，若使滑動體22沿著導軌移動到比圖8的狀態更下方，即可將膝上按摩機構3的位置再降低，對小型體格使用者U的大腿H也可進行按摩。

最後，因膝蓋彎曲的就座姿勢很受拘束等理由，而希望以伸展膝蓋的狀態(傾斜動作姿勢)進行按摩時，可如圖9所示地將下肢用按摩機1的姿勢改變為相對於水平呈傾斜的姿勢。

換言之，在下樞支部18的擺動角度保持大致180°的姿勢下，使滑動體22移動到導軌的上端，並將藉距離調整部19調整的距離設在最大。再進而以腳跟側(後端側)為中心將下肢用按摩機1的腳趾側(前端側)向後方上拉。於是，連結臂16的長度會伸長，同時相對於水平方向的傾斜角(傾斜到圖9所示的角度θ)會縮小，而可使用下肢用按摩機1以膝部伸展的狀態進行按摩。

意即，在上述的下肢用按摩機1中，不僅可使用膝下按摩機構2對膝部以下位置的小腿肚或腳尖 等施療部進行施療，也可對膝部以上位置的大腿H等施療部進行有效的按摩。

而且，若使用長度或傾斜角度可改變自如的連結機構5，不僅可以膝蓋彎曲的狀態，也可以膝蓋伸展的狀態對大腿H進行施療，而可大幅提升下肢用按摩機1的便利性。

不過，本說明書揭露的實施形態在所有各點上均應視為例示性而非制限性。本發明的範圍非依上述的說明界定，而是依據申請專利範圍來表示，和申請專利範圍有均等意義及專利範圍內的所有變更均應包含在本發明範圍內。

例如，在上述實施形態中，係舉由導軌與滑動體構成的組件(滑動機構)作為距離調整部。但，距離調整部也可採用其他方式，例如可藉棘輪機構調整距離的方式。也可將下樞支部設在該棘輪部的上端。

此外，本實施形態中，係例示具備空氣式按摩機構的單元作為膝下按摩機構2。然而，膝下按摩機構2也可採用機械式的按摩機構而不會造成問題。也可採用空氣式機構與機械式機構的組合機構作為膝下按摩機構2。

Claims (13)

1. 一種下肢用按摩機，具備對位在使用者膝部以下的腳部及/或小腿肚施行按摩的膝下按摩機構，其特徵為：前述膝下按摩機構的上方設有按摩位在使用者膝部以上之大腿的膝上按摩機構；且具備將前述膝上按摩機構可朝前後方向擺動地連結於膝下按摩機構的連結機構。
2. 如請求項1之下肢用按摩機，其中，前述連結機構係以可改變前述膝下按摩機構與膝上按摩機構之距離的方式連結前述膝下按摩機構和膝上按摩機構。
3. 如請求項2之下肢用按摩機，其中前述連結機構具備：連結臂，連結前述膝下按摩機構和膝上按摩機構；及下樞支部，使前述連結臂對於前述膝下按摩機構朝前後方向擺動。
4. 如請求項3之下肢用按摩機，其中，前述連結機構具備使前述膝上按摩機構對於前述連結臂朝前後方向擺動的上樞支部。
5. 如請求項4之下肢用按摩機，其中，前述連結機構具備調整前述膝下按摩機構與膝上按摩機構之間的距離的距離調整部。
6. 如請求項5之下肢用按摩機，其中前述連結臂具有：上臂，經由前述上樞支部連結於膝上按摩機構；及下臂，經由前述距離調整部連結於膝下按摩機構； 前述上臂與下臂係經由前述下樞支部相連結。
7. 如請求項6之下肢用按摩機，其中前述下臂設有前述距離調整部；前述距離調整部具備滑動機構，前述下臂則經由該滑動機構連結於膝下按摩機構。
8. 如請求項6之下肢用按摩機，其中前述下臂設有前述距離調整部；前述距離調整部具備棘輪機構，且前述下臂係經由該棘輪機構連結於膝下按摩機構。
9. 如請求項1至8中任一項之下肢用按摩機，其中前述膝上按摩機構具有：推壓部，對前述大腿施行推壓按摩；及支持體，支持前述推壓部。
10. 如請求項9之下肢用按摩機，其中前述膝上按摩機構具有：環套帶，作為前述推壓部而設在前述支持體，且可捲繞膝部以上的施療部；及氣囊，設於前述環套帶，且利用空氣膨脹。
11. 如請求項10之下肢用按摩機，其中前述環套帶係作成配合前述大腿的外形而彎曲的形狀，且以彈性構件形成，俾可在前述膝部以上插入時變形。
12. 如請求項11之下肢用按摩機，其中前述推壓部具有：左推壓部，對使用者的左膝部以上進行施療；及右推壓部，對使用者的右膝部以上進行施療；前述支持體係設成以左右並排的狀態支持前述左推壓部及右推壓部的構成。
13. 如請求項1之下肢用按摩機，其中前述膝下按摩機構具有：一對筒構件，使用者膝部以下的施療部可從設成開口的上部插入其中，並且側面視圖係形成L字狀；氣囊，設在前述筒構件，且對插入的前述膝部以下的施療部施行推壓按摩；及泵，對該氣囊供給空氣。