TW201629470A - 光學檢驗中的可分離的多個照射源 - Google Patents

光學檢驗中的可分離的多個照射源 Download PDF

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諾瑪 葛頓
伊泰 寇漢
阿米爾 提茲后瑞
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康代影像科技(蘇州)有限公司
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
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Abstract

本申請涉及光學檢驗中的可分離的多個照射源。檢驗物件的系統可包括感測模組;分束器;物鏡;明場照射模組,配置為生成第一預定義參數的明場光束且將明場光束導向分束器;暗場照射模組,配置為生成第二預定義參數的第一暗場光束且將第一暗場光束導向物件;第一預定義參數和第二預定義參數有差別;分束器配置為(a)向物件反射明場光束;(b)接收明場光束的反射,(c)將明場光束的反射導向物鏡,(d)接收第一暗場光束的反射,(e)將第一暗場光束的反射導向物鏡;物鏡配置為將第一暗場光束的反射和明場光束的反射導向感測模組;感測模組配置為基於第一預定義參數和第二預定義參數的差別區分第一暗場光束的反射和明場光束的反射。

Description

光學檢驗中的可分離的多個照射源
本申請要求2014年12月18日提交的美國臨時專利62/093,477的優先權,其以引用的方式併入本文。
本發明係有關於光學檢驗中的可分離的多個照射源。
許多光學和視覺檢驗系統對被檢驗物件使用多個照射源。顯微鏡中的常見示例,AOI機器和驗證系統使用暗場源和明場源二者,其中暗場源從斜角或從側面照射物件,並且明場源從上方(即,與成像路徑同軸)照射物件。有時它們一起使用來形成具有寬的角度覆蓋範圍的均勻照明。一些其他時間,僅其中一個源被使用,以便顯示某些方面,例如,暗場照射只強調表面的不規則,而明場強調變色,諸如銅氧化。
在另一個示例中,照射PCB層中的光亮的金屬導體形成高度依賴於入射光角度和局部表面法線方向的鏡面反射。明場光主要從導體的水平面上平坦的部分被反射,而暗場光主要從它的斜邊和由表面的不規則被反射。
因此遵循的是,存在包括在選擇性照射影像中的每一 個中的、關於被檢驗物件的幾何形狀、形貌、材料和可能的缺陷的潛在豐富資訊。
然而,為了最大化吞吐量且確保物件的完全覆蓋,AOI系統通常在單個掃描中同時使用全部照射源,丟失一些只來自選擇性照射影像的可用資訊。
因此,對於AOI系統將有利的是,其能夠同時生成多個這樣的影像同時仍然執行僅單個掃描。
可以提供系統和方法。
該系統可以包括感測模組、分束器、物鏡、明場照射模組和暗場照射模組,該明場照射模組被配置為生成第一預定義參數的明場光束並將明場光束導向光學模組,該光學模組包括分束器和物鏡;該暗場照射模組被配置為生成第二預定義參數的第一暗場光束並且將第一暗場光束導向物件;其中第一預定義參數和第二預定義參數之間有差別;其中光學模組被配置為(a)朝向物件反射明場光束;(b)接收明場光束的反射,(c)接收第一暗場光束的反射,(d)將第一暗場光束的反射和明場光束的反射導向感測模組;並且其中感測模組被配置為基於第一預定義參數和第二預定義參數之間的差別區分第一暗場光束的反射和明場光束的反射。
該系統可以用於檢驗物件,該系統可以包括感測模組、分束器、物鏡、明場照射模組和暗場照射模組,該明場照射模組可以被配置為生成第一預定義參數的明場光束 並且將該明場光束導向分束器;該暗場照射模組可以被配置為生成第二預定義參數的第一暗場光束並且將該第一暗場光束導向物件;其中第一預定義參數和第二預定義參數之間可有差別;其中分束器可以被配置為(a)朝向物件反射明場光束;(b)接收明場光束的反射,(c)將明場光束的反射導向物鏡,(d)接收第一暗場光束的反射,(e)將第一暗場光束的反射導向物鏡;其中物鏡可以被配置為將第一暗場光束的反射和明場的光束的反射導向感測模組;並且其中感測模組可以被配置為基於第一預定義參數和第二預定義參數之間的差別而區分第一暗場光束的反射和明場光束的反射。
感測模組可以包括偏振照相機,並且其中,對於偏振的第一預定義參數和第二預定義參數彼此不同。
感測模組可以包括照相機,分析器可在所述照相機之前,並且其中,對於偏振的第一預定義參數和第二預定義參數彼此不同。
感測模組可以包括分析器;其中分析器可以包括至少第一類型和第二類型的多個分析器區域;其中第一類型的分析器區域經過明場光束的反射;並且其中第二類型的分析器區域經過第一暗場光束的反射。
多個分析器區域可以是條帶狀。
多個分析器區域可以是矩形。
分析器區域中的兩個或更多個分析器區域的形狀和/ 或大小可以彼此不同。
暗場照射模組可以被配置為生成第三預定義參數的第二暗場光束並且將第二暗場光束導向物件;其中第三預定義參數與第一和第二預定義參數的每一個可以都不同;其中分束器還可以被配置為接收第二暗場光束的反射並且將第二暗場光束的反射導向分束器;其中物鏡還可以被配置為將第二暗場光束的反射導向感測模組;並且其中感測模組可以被配置為基於第一預定義參數、第二預定義參數和第三預定義參數之間的差別而區分第一暗場光束的反射、第二暗場光束的反射以及明場光束的反射。
感測模組可以包括分析器;其中分析器可以包括至少第一類型和第二類型的多個分析器區域;其中第一類型的分析器區域使明場光束的反射通過;並且其中第二類型的分析器區域使第一暗場光束的反射通過。
感測模組可以包括多個照相機、分配模組以及多個分析器,其中分析器可在每個照相機之前;並且其中分配模組可以被配置為將第一暗場光束的反射、第二暗場光束的反射以及明場光束的反射分配到多個分析器。
多個分析器中的每個分析器可以包括至少第一類型和第二類型的多個分析器區域;其中第一類型的分析器區域使明場光束的反射通過;並且其中第二類型的分析器區域使第一暗場光束的反射通過。
多個分析器區域可以是條帶狀。
多個分析器區域可以是矩形。
分析器區域中的兩個或更多個分析器區域的形狀和/或大小彼此不同。
多個分析器中的不同分析器可以被配置為使出自第一暗場光束的反射、第二暗場光束的反射以及明場光束的反射的不同的光束通過。
該方法可以包括由明場照射模組生成第一預定義參數的明場光束並且將明場光束導向包括分束器和物鏡的光學模組;由暗場照射模組生成第二預定義參數的第一暗場光束並且將第一暗場光束導向物件;其中第一預定義參數和第二預定義參數之間有差別;由光學模組朝向物件反射明場光束;由光學模組接收明場光束的反射;由光學模組將明場光束的反射導向感測模組;由光學模組接收第一暗場光束的反射;由光學模組將第一暗場光束的反射導向感測模組;以及由感測模組基於第一預定義參數和第二預定義參數之間的差別來區分第一暗場光束的反射和明場光束的反射。
該方法可以包括由明場照射模組生成第一預定義參數的明場光束並且將明場光束導向分束器;由暗場照射模組生成第二預定義參數的第一暗場光束並且將第一暗場光束導向物件;其中第一預定義參數和第二預定義參數之間可以有差別;由分束器朝向物件反射明場光束;由分束器接收明場光束的反射;由分束器將明場光束的反射導向物鏡;由分束器接收第一暗場光束的反射;由分束器將第一 暗場光束的反射導向物鏡;由物鏡將第一暗場光束的反射和明場光束的反射導向感測模組;由感測模組基於第一預定義參數和第二預定義參數之間的差別來區分第一暗場光束的反射和明場光束的反射。
感測模組可包括偏振照相機,並且其中,對於偏振的第一預定義參數和第二預定義參數可以彼此不同。
感測模組可包括照相機,分析器在照相機之前,並且其中對於偏振的第一預定義參數和第二預定義參數可彼此不同。
感測模組可包括分析器;其中分析器可包括至少第一類型和第二類型的多個分析器區域;其中第一類型的分析器區域使明場光束的反射通過;並且其中第二類型的分析器區域使第一暗場光束的反射通過。
多個分析器區域可以是條帶狀。
多個分析器區域可以是矩形。
在方法中,其中分析器區域中的兩個或更多個分析器區域的形狀和/或大小彼此不同。
該方法可以包括由暗場照射模組生成第三預定義參數的第二暗場光束;將第二暗場光束導向物件;其中第三預定義參數與第一和第二預定義參數中的每一個之間可以有差別;由分束器接收第二暗場光束的反射;將第二暗場光束的反射導向分束器;由物鏡將第二暗場光束的反射導向感測模組;以及,由感測模組基於第一預定義參數、第二 預定義參數以及第三預定義參數之間的差別來區分第一暗場光束的反射、第二暗場光束的反射和明場光束的反射。
感測模組可包括分析器;其中分析器可包括至少第一類型和第二類型的多個分析器區域;其中第一類型的分析器區域使明場光束的反射通過;並且其中第二類型的分析器區域使第一暗場光束的反射通過。
感測模組可以包括多個照相機、分配模組以及多個分析器,其中分析器在每個照相機之前;並且其中該方法可以包括由分配模組將第一暗場光束的反射、第二暗場光束的反射以及明場光束的反射分配到多個分析器。
在方法中,其中多個分析器中的每個分析器可以包括至少第一類型和第二類型的多個分析器區域;其中第一類型的分析器區域使明場光束的反射通過;並且其中第二類型的分析器區域使第一暗場光束的反射通過。
多個分析器區域可以是條帶狀。
多個分析器區域可以是矩形。
分析器區域中的兩個或更多個分析器區域的形狀和/或大小可以彼此不同。
該方法還可以包括由多個分析器中的不同分析器使出自第一暗場光束的反射、第二暗場光束的反射以及明場光束的反射之外的不同的光束通過。
1‧‧‧桌子或載物台
2‧‧‧物件、物品
3‧‧‧照相機
4‧‧‧物鏡
5‧‧‧明場源、明場光源
6‧‧‧分束器
8‧‧‧紅色濾色器、明場修調節器
15、16、18‧‧‧照相機
17‧‧‧分析器、液晶調製器
71‧‧‧暗場源、第一暗場光源
72‧‧‧暗場源、第二暗場光源
91‧‧‧濾光器、第一暗場濾光器或偏光器
92‧‧‧濾光器、第二暗場濾光器或偏光器
101‧‧‧明場光束、第一明場光束
102‧‧‧暗場光束、第一暗場光束
103‧‧‧暗場光束、第二暗場光束
111、112、113‧‧‧反射
141‧‧‧影像處理器、第一附加分 束器
142‧‧‧控制器、第二附加分束器
171、172、173、200、210‧‧‧分析器
201、202、203、204‧‧‧細長條帶、盒
211、212、213、214‧‧‧矩形區域、盒
400‧‧‧方法
410~460‧‧‧步驟
從以下結合附圖的詳細描述中,將會更全面地理解和 領會本發明,在附圖中:圖1A示出了根據本發明的實施例的檢驗系統;圖1B示出了根據本發明的實施例的檢驗系統;圖1C示出了根據本發明的實施例的檢驗系統;圖2示出了根據本發明的各個實施例的分析器;以及圖3示出了根據本發明的實施例的方法。
因為實現本發明的裝置在大多數情況下由本領域技術人員所熟知的電子組件和電路組成,因此為了本發明的基本概念的理解和領會並且為了不混淆或轉移本發明的教導,相比於如上所說明的所考慮的必要性將不在任何更大程度上解釋電路細節。
在以下說明書中,將參考本發明的實施例的具體示例來對本發明進行描述。然而,明顯的是,在不背離如在所附申請專利範圍中闡述的本發明的廣泛的精神和範圍的情況下可以在其中做出各種修改和改變。
術語“和/或”的意思是另外的或可選的。尤其是──A和/或B的意思是只是A、只是B或者是A和B二者。
提供了可以將不同的光學性質(例如,使用濾色器或LED的顏色)分配到各種照射源,並且使用能夠在這些性質之間進行區分的照相機(例如,彩色照相機)的方法和系統。
在圖1A、1B和1C中,分束器被示出為放置在物件和物 鏡之間。這不一定必須如此並且物鏡可以放置在物件和分束器之間。分束器和物鏡可以形成光學模組。
在一個實施例中,如在圖1A中所示,RGB彩色線掃描照相機3掃描物品2,其中還有三個線照射源──來自側面的兩個暗場源71和72,以及通過分束器6照明的明場源5。用紅色濾色器8覆蓋明場源5,而用綠色濾光器91和92分別覆蓋暗場源71和72。這裡通過舉例的方式來選擇顏色並且可以按照對應用的適合性來不同地選擇顏色。
照相機輸出RGB彩色影像以用於分析。每個輸出像素的顏色構成表示來自不同選定的顏色的光源中的每一個的反射光的量和平衡。
可選地,濾光器91和92還可以是不同的顏色,如,綠色和藍色。這允許進一步區分從右側反射的光和從左側反射的光,從而提供每個像素位置中的關於表面取向的更多資訊。
在圖1A-1C中,存在對各個反射的引用。這些反射光譜可以是鏡面反射和/或漫反射。反射的類型(漫反射或鏡面反射)可以取決於被照射物件的範圍的區域的取向。例如,圖1A-1C示出了大體上水平的範圍的照射。在這種情況中,給出明場源和暗場源的照射角度,物鏡4收集明場光束101的鏡面反射並且可以接收暗場光束102和103的漫反射。
例如,如果被照射的範圍包括具有大約45度的取向的區域,則物鏡將收集第一暗場光束102的鏡面反射並且可以接收明場光束101和第二暗場光束103的漫反射。
例如,如果被照射的範圍包括具有大約負45度的取向的區域,則物鏡將收集第二暗場光束103的鏡面反射並且可以接收明場光束101和第一暗場光束102的漫反射。
在圖1A中,檢驗的物件(物件)被表示為2,並且系統包括:
a.用於支撐和/或移動物件2的桌子或載物台1。
b.包括明場光源5和明場修調節器(諸如,濾光器或偏光器和/或減速器)8的明場照射模組。
c.包括第一暗場光源71、第一暗場濾光器或偏光器91、第二暗場光源72、第二暗場濾光器或偏光器92的暗場照射模組。
d.分束器6。
e.物鏡4。
f.照相機3。
g.影像處理器141。
h.用於控制系統的控制器142。
照相機3可以是偏振照相機。相應地──照相機3可以包括分析器或可調的濾色器。因此,照相機3可以接收不同偏振的光並且可以在不同偏振分量之間進行區分。
物鏡4被放置在照相機3和分束器6之間。分束器6被放置在物件2和物鏡4之間。
第一預定義參數1(顏色和/或偏振)的第一明場光束101由明場照射模組產生並且被導向分束器6。
分束器6以第一角度範圍將第一明場光束101反射到物件2上。第一角範圍包括物件2的法線。
第一明場光束101的反射111通過分束器6且通過物鏡4並且照射到照相機3上。
第二預定義參數(顏色和/或偏振)的第一暗場光束102由第一暗場光源71和第一暗場濾光器或偏光器91形成並且以與第一角度範圍不同的第二角度範圍被導向物件。
第一暗場光束102的反射112通過分束器6且通過物鏡4並且照射到照相機3上。
第二預定義參數(顏色和/或偏振)的第二暗場光束103由第二暗場光源72和第二暗場濾光器或偏光器92形成並且以與第一和第二角度範圍不同的第三角度範圍被導向物件。
第二暗場光束103的反射113通過分束器6且通過物鏡4並且照射到照相機3上。
第一、第二和第三參數彼此不同並且照相機3能夠區分第一、第二和第三參數的光,並且由此照相機3可以在物件2的同個掃描期間接收由三個不同的光束(101、102和103)照射物件2產生的資訊並且區分由這些光束中的每一個照射物件2產生的反射光。
圖1A的系統可以執行物件2的線掃描──在此期間第一明場光束101以及第一和第二暗場光束102和103以幾條光線照射到物件2上。
可選地,圖1A的系統可以執行物件2的面掃描-在此期間第一明場光束101以及第一和第二暗場光束102和103以光的二維區域照射到物件2上。
使用面掃描RGB彩色照相機、具有第一濾色器的同軸明場光源、以及圍繞光軸的、具有與第一濾色器不同的顏色的第二濾色器的暗場光環也可以實現面掃描系統。
除了顏色之外的其它光學性質可以用來區分,諸如偏振取向。光源利用具有不同(優選垂直)取向的線性偏光器來覆蓋,然而使用能夠利用不同分析器取向獲取多個影像的照相機系統。
圖1B示出了根據本發明的實施例的系統。
圖1B的系統不同於圖1A的系統,其還包括在照相機3之前──在照相機3和物鏡4之間的分析器(或液晶光學調製器)17。
圖1A的偏振照相機3或圖1B的液晶調製器17可以包括任意設置的分析器,如在圖2中所述的但不限於這些設置。
圖2示出了根據本發明的各個實施例的兩種設置的分析器200和210。
分析器200和210可以被用在諸如圖1C的系統的系統中並且可以被用在諸如在圖1B中示出的具有單個照相機的系統中。
換句話說,任何數量的照相機可以被用在系統中,不是如在圖1A中所描述的僅一個偏振照相機3,或不是僅一個 非偏振照相機1B,或其任何組合。
圖2示出了具有不同區域的分析器,它們的偏振性質彼此不同(例如──偏振取向可以彼此不同)。
相同分析器的不同區域可以具有相同的形狀和大小,但也可以彼此形狀和/或大小不同。
圖2的分析器200具有細長條帶201、202、203和204,細長條帶的偏振參數彼此不同。該分析器可以適合線照射,在該線照射中,用光線來掃描檢驗的物品並且因此(假設有分析器的4個不同的區域)──單個掃描導致獲得了檢驗物品的四個不同的影像──每個具有其自己的偏振參數。
圖2的分析器210包括四種不同類型的矩形區域(211、212、213和214),它們以可以類似於RGB像素陣列的貝爾(Bayer)圖案的重複(馬賽克樣)圖案佈置。這個佈置可以適合面照射。
在圖2中,包括不同取向的線的盒的偏振參數彼此不同。例如,盒201和211可以表示45度取向的線性偏振,盒202和212可以表示90度取向的線性偏振,盒203和213可以表示0度取向的線性偏振,以及盒204和214可以表示分析器的非偏振部分。應該注意的是,偏振取向可以與該示例中的不同並且不同的線可表示其他偏振參數之間的差異。
不同的區域類型的數目可以不同於四個。
圖1C示出了根據本發明的實施例的系統。
圖1C的系統包括三個照相機15、16和18,而不是圖1A和1B中的單個照相機。
圖1C的系統還包括分配模組(第一和第二附加分束器141和142),用於將來自物件的光在三個照相機15、16和18之間分配。
三個分析器171、172和173在照相機15、16和18之前──每個照相機前一個分析器。
第一和第二附加分束器141和142將來自物件的光分到照相機15、16和18之間。
應該注意的是,分析器171、172和173可以具有可調節的取向(或任何其他可調節的偏振參數),並且分析器171、172和173的取向可以彼此不同──允許每個照相機接收來自單個光源的光。
圖1A、1B和1C的系統中的任何一個可以包括控制器(諸如圖1A和1C的控制器142),該控制器被佈置為協調桌子移動和照相機影像捕捉,調節光源和偏光器,等等。
系統可以包括附加部分,諸如移動載物台/桌子、控制器、具有幀抓取器、影像處理(參見圖1A和1C的影像處理器141)以及GUI的電腦等等。
可以提供使用如上示出的系統來檢驗被檢驗物品的方法。
圖3示出了根據本發明的實施例的方法400。
方法400可以由步驟410和415開始。
步驟410可以包括由明場照射模組生成第一預定義參數的明場光束並且將明視場光束導向分束器。
步驟410之後可以是由分束器朝向物件反射明場光束的步驟420。
步驟420之後可以是由分束器接收明場光束的反射的步驟430。
步驟430之後可以是由分束器將明場光束的反射光導向物鏡的步驟440。
步驟415可以包括由暗場照射模組生成第二預定義參數的第一暗場光束並且將第一暗場光束導向物件。第一預定義參數和第二預定義參數之間有差別。
步驟415之後可以是由分束器接收第一暗場光束的反射的步驟425。
步驟425之後可以是由分束器將第一暗場光束的反射導向物鏡的步驟435。
步驟440和435之後可以是由物鏡將第一暗場光束的反射和明場光束的反射導向感測模組的步驟450。
步驟450之後可以是由感測模組基於第一預定義參數和第二預定義參數之間的差別,來區分在第一暗場光束的反射和明場光束的反射的步驟460。
此外,本領域的技術人員將意識到以上所描述的操作的功能之間的界限僅僅是說明性的。多個操作的功能可以組合成單個操作,和/或單個操作的功能可以分配在附加的 操作中。此外,可選的實施例可以包括特定操作的多個實例,並且操作的順序可以在各個其它的實施例中變化。
因此,應該理解的是,本文所描繪的結構僅僅是示例性的,並且事實上,完成相同功能的許多其他結構也可以被實現。在理論上,但仍然確定的是,完成相同功能的組件的任何佈置是有效地“關聯的”,使得完成期望的功能。因此,本文中為完成特定功能所組合的任何兩個組件可以被視為彼此“相關聯的”從而完成期望的功能,而不考慮結構或中間組件。同樣地,任何兩個如此關聯的組件也可以被視作彼此“操作地連接”或“操作地耦合”以完成期望的功能。
然而,其它的修改、變型和替換也是可能的。因此,說明書和附圖被視為是說明性的意義而不是限制性的意義。
詞語“包括”不是排除之後列在請求項中的那些其他元件或步驟的存在。應該理解的是,這樣使用的術語在適合的情況中是可交換的,使得本文所描述的本發明的實施例,例如,除了本文所示出或以其他方式描述的取向之外,能夠在其他取向上操作。對術語“包括(comprising)”、“包括(comprises)”的任何引用也應該被解讀為對術語“包括(consisting)”(排除其他元件的存在)和/或對術語“大體上包括(essentially consisting)”(排除其他材料或重要元件的存在)的引用。
此外,本文所使用的術語“一(a)”或“一(an)”被 定義為一個或多於一個。還有,請求項中的介紹性短語的使用,諸如“至少一個”和“一個或多個”不應該被解釋為意味著:通過不定冠詞“一(a)”或“一(an)”介紹另一個請求項元素將包含如此介紹的請求項元素的任意特定請求項限制為包含僅一個這樣元素的發明,即使當相同的請求項包括介紹性短語“一個或多個”或“至少一個”以及不定冠詞諸如“一(a)”或“一(an)”。同樣適用於定冠詞的使用。除非另有說明,諸如“第一”和“第二”的術語被用於任意地在這樣的術語描述的元素之間進行區分。
因此,這些術語並不必須旨在表明這樣的元件的時間或其它優先順序。某些措施在相互不同的請求項中被陳述的單純事實並不指示這些措施的組合不能有利地被使用。
1‧‧‧桌子或載物台
2‧‧‧物件、物品
3‧‧‧照相機
4‧‧‧物鏡
5‧‧‧明場源、明場光源
6‧‧‧分束器
8‧‧‧紅色濾色器、明場修調節器
71‧‧‧暗場源、第一暗場光源
72‧‧‧暗場源、第二暗場光源
91‧‧‧濾光器、第一暗場濾光器或偏光器
92‧‧‧濾光器、第二暗場濾光器或偏光器
101‧‧‧明場光束、第一明場光束
102‧‧‧暗場光束、第一暗場光束
103‧‧‧暗場光束、第二暗場光束
111、112、113‧‧‧反射
141‧‧‧影像處理器、第一附加分束器
142‧‧‧控制器、第二附加分束器

Claims (30)

  1. 一種檢驗物件的系統,所述系統包括:感測模組;分束器;物鏡;明場照射模組,其被配置為生成第一預定義參數的明場光束並且將所述明場光束導向包括所述分束器和所述物鏡的光學模組;暗場照射模組,其被配置為生成第二預定義參數的第一暗場光束並且將所述第一暗場光束導向所述物件;其中所述第一預定義參數和所述第二預定義參數之間存在差別;其中,所述光學模組被配置為:(a)朝向所述物件反射所述明場光束,(b)接收所述明場光束的反射,(c)接收所述第一暗場光束的反射,(d)將所述第一暗場光束的反射和所述明場光束的反射導向所述感測模組;以及其中,所述感測模組被配置為基於所述第一預定義參數和所述第二預定義參數之間的所述差別,區分所述第一暗場光束的反射和所述明場光束的反射。
  2. 如請求項1所述的系統,其中所述感測模組包括偏振照相機,並且其中,對於偏振的所述第一預定義參數和所述第二預定義參數彼此不同。
  3. 如請求項1所述的系統,其中所述感測模組包括照相機,分析器在所述照相機之前,並且其中,對於偏振的所述第一預定義參數和所述第二預定義參數彼此不同。
  4. 如請求項1所述的系統,其中所述感測模組包括分析器;其中所述分析器包括至少第一類型和第二類型的多個分析器區域;其中所述第一類型的分析器區域使所述明場光束的反射通過;並且其中所述第二類型的分析器區域使所述第一暗場光束的反射通過。
  5. 如請求項4所述的系統,其中所述多個分析器區域是條帶狀。
  6. 如請求項4所述的系統,其中所述多個分析器區域是矩形。
  7. 如請求項4所述的系統,其中所述分析器區域中的兩個或更多個分析器區域在形狀和/或大小上彼此不同。
  8. 如請求項1所述的系統,其中所述暗場照射模組還被配置為生成第三預定義參數的第二暗場光束並且將所述第二暗場光束導向所述物件;其中所述第三預定義參數與所述第一預定義參數和所述第二預定義參數中的每一個存在差別;其中,所述分束器還被配置為接收所述第二暗場光束的反射並且將所述第二暗場光束的反射導向所述分束器;其中,所述物鏡還被配置為將所述第二暗場光束的反射導向所述感測模組;以及 其中,所述感測模組被配置為基於所述第一預定義參數、所述第二預定義參數和第三預定義參數之間的所述差別區分所述第一暗場光束的反射、所述第二暗場光束的反射以及所述明場光束的反射。
  9. 如請求項8所述的系統,其中,所述感測模組包括分析器;其中所述分析器包括至少第一類型和第二類型的多個分析器區域;其中所述第一類型的分析器區域使所述明場光束的反射通過;並且其中所述第二類型的分析器區域使所述第一暗場光束的反射通過。
  10. 如請求項8所述的系統,其中,所述感測模組包括多個照相機、分配模組和多個分析器,其中有分析器在每個照相機之前;並且其中所述分配模組被配置為將所述第一暗場光束的反射、所述第二暗場光束的反射以及所述明場光束的反射分配到所述多個分析器。
  11. 如請求項10所述的系統,其中,所述多個分析器中的每個分析器包括至少第一類型和第二類型的多個分析器區域;其中所述第一類型的分析器區域使所述明場光束的反射通過;並且其中所述第二類型的分析器區域使所述第一暗場光束的反射通過。
  12. 如請求項11所述的系統,其中,所述多個分析器區域是條帶狀。
  13. 如請求項12所述的系統,其中,所述多個分析器區域是矩形。
  14. 如請求項13所述的系統,其中,所述分析器區域中的兩 個或更多個分析器區域在形狀和/或大小上彼此不同。
  15. 如請求項10所述的系統,其中,所述多個分析器中的不同分析器被配置為使出自所述第一暗場光束的反射、所述第二暗場光束的反射以及所述明場光束的反射的不同的光束通過。
  16. 一種方法,包含:藉由明場照射模組,生成第一預定義參數的明場光束並且將所述明場光束導向包括分束器和物鏡的光學模組;藉由暗場照射模組,生成第二預定義參數的第一暗場光束並且將所述第一暗場光束導向物件;其中所述第一預定義參數和所述第二預定義參數之間存在差別;藉由所述光學模組,朝向所述物件來反射所述明場光束;藉由所述光學模組,接收所述明場光束的反射;藉由所述光學模組,將所述明場光束的反射導向感測模組;藉由所述光學模組,接收所述第一暗場光束的反射;藉由所述光學模組,將所述第一暗場光束的反射導向所述感測模組;以及藉由所述感測模組,基於所述第一預定義參數和所述第二預定義參數之間的所述差別,區分所述第一暗場光束的反射和所述明場光束的反射。
  17. 如請求項16所述的方法,其中所述感測模組包括偏振照相機,並且其中對於偏振的所述第一預定義參數和所述第二預定義參數彼此不同。
  18. 如請求項16所述的方法,其中所述感測模組包括照相機,而分析器在所述照相機之前,並且其中對於偏振的所述第一預定義參數和所述第二預定義參數彼此不同。
  19. 如請求項16所述的方法,其中所述感測模組包括分析器;其中所述分析器包括至少第一類型和第二類型的多個分析器區域;其中所述第一類型的分析器區域使所述明場光束的反射通過;並且其中所述第二類型的分析器區域使所述第一暗場光束的反射通過。
  20. 如請求項19所述的方法,其中所述多個分析器區域是條帶狀。
  21. 如請求項19所述的方法,其中所述多個分析器區域是矩形。
  22. 如請求項19所述的方法,其中所述分析器區域中的兩個或更多個分析器區域在形狀和/或大小上彼此不同。
  23. 如請求項16所述的方法,包含:藉由所述暗場照射模組,生成第三預定義參數的第二暗場光束;將所述第二暗場光束導向所述物件;其中所述第三預定義參數與所述第一預定義參數和所述第二預定義參數中的每一個存在差別;藉由所述分束器,接收所述第二暗場光束的反射;將所述第二暗場光束的反射導向所述分束器; 藉由所述物鏡,將所述第二暗場光束的反射導向所述感測模組;以及藉由所述感測模組,基於所述第一預定義參數、所述第二預定義參數和第三預定義參數之間的所述差別,區分所述第一暗場光束的反射、所述第二暗場光束的反射以及所述明場光束的反射。
  24. 如請求項23所述的方法,其中所述感測模組包括分析器;其中所述分析器包括至少第一類型和第二類型的多個分析器區域;其中所述第一類型的分析器區域使所述明場光束的反射通過;並且其中所述第二類型的分析器區域使所述第一暗場光束的反射通過。
  25. 如請求項23所述的方法,其中所述感測模組包括多個照相機、分配模組和多個分析器,其中有分析器在每個照相機之前;並且所述方法包含:藉由所述分配模組,將所述第一暗場光束的反射、所述第二暗場光束的反射以及所述明場光束的反射分配到所述多個分析器。
  26. 如請求項25所述的方法,其中所述多個分析器中的每個分析器包括至少第一類型和第二類型的多個分析器區域;其中所述第一類型的分析器區域使所述明場光束的反射通過;並且其中所述第二類型的分析器區域使所述第一暗場光束的反射通過。
  27. 如請求項26所述的方法,其中所述多個分析器區域是條帶狀。
  28. 如請求項27所述的方法,其中所述多個分析器區域是矩 形。
  29. 如請求項28所述的方法,其中所述分析器區域中的兩個或更多個分析器區域在形狀和/或大小上彼此不同。
  30. 如請求項25所述的方法,其中包含:藉由所述多個分析器中的不同分析器,使出自所述第一暗場光束的反射、所述第二暗場光束的反射以及所述明場光束的反射的不同的光束通過。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI743660B (zh) * 2019-02-22 2021-10-21 大陸商上海微電子裝備(集團)股份有限公司 缺陷檢測裝置

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102017115658A1 (de) * 2017-07-12 2019-01-17 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Flackern bei Winkel-variabler Beleuchtung
CN109030495A (zh) * 2018-06-26 2018-12-18 大连鉴影光学科技有限公司 一种基于机器视觉技术的光学元件缺陷检测方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101283297A (zh) * 2005-11-28 2008-10-08 日东电工株式会社 附有光学补偿层的偏振片以及使用其的图像显示装置
US7567344B2 (en) * 2006-05-12 2009-07-28 Corning Incorporated Apparatus and method for characterizing defects in a transparent substrate
KR101697240B1 (ko) * 2008-04-04 2017-01-17 난다 테크놀로지스 게엠베하 광학 검사 시스템 및 방법
CN203490180U (zh) * 2013-09-13 2014-03-19 楚天科技股份有限公司 自动灯检机异物检测装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI743660B (zh) * 2019-02-22 2021-10-21 大陸商上海微電子裝備(集團)股份有限公司 缺陷檢測裝置

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