TW201044405A - Two pass erase for non-volatile storage - Google Patents

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TW201044405A
TW201044405A TW099110910A TW99110910A TW201044405A TW 201044405 A TW201044405 A TW 201044405A TW 099110910 A TW099110910 A TW 099110910A TW 99110910 A TW99110910 A TW 99110910A TW 201044405 A TW201044405 A TW 201044405A
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TW
Taiwan
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voltage
erase
volatile storage
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read
Prior art date
Application number
TW099110910A
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English (en)
Inventor
Dana Lee
Nima Mokhlesi
Anubhav Khandelwal
Original Assignee
Sandisk Corp
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    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
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    • G11C16/14Circuits for erasing electrically, e.g. erase voltage switching circuits
    • G11C16/16Circuits for erasing electrically, e.g. erase voltage switching circuits for erasing blocks, e.g. arrays, words, groups
    • GPHYSICS
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Description

201044405 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於用於非揮發性儲存之技術。 【先前技術】 半導體記憶體愈來愈普遍地用於各種電子裝置中。舉例 而言’非揮發性半導體記憶體用於個人導航裝置、蜂巢式 電話、數位相機、個人數位助理、行動計算裝置、非行動 計算裝置及其他裝置中。電可抹除可程式化唯讀記憶體 (EEPROM)及快閃記憶體係最受歡迎的非揮發性半導體記 憶體。 ° EEPROM與快閃記憶體兩者皆利用一浮動閘極,該浮動 閘極定位於一半導體基板中之一通道區域上面並與該通道 區域絕緣。該浮動閘極及通道區域定位於源極區域與汲極 區域之間。一控制閘極提供於該浮動閘極上方並與該浮動 閘極絕緣。電晶體之臨限電壓由該浮動閘極上所保持之電 何量控制。亦即,在接通電晶體以准許其源極與汲極之間 的傳導之前所必須施加至控制閘極的最小電壓量由該浮動 閘極上的電荷位準控制。 某些EEPROM或快閃記憶體裝置具有稱為_ ΝΑΝ〇組態 之一組態,在該NAND組態中記憶體單元係分組為若干 NAND串’其中每一 NAND串與一位元線相關聯。當程式 化- EEPROM或快閃記憶體裝置(例如一 ναν〇快閃:憶體 裝置)時’通常向控制閘極施加—程式化電壓且將位元線 接地。來自通道之電子注入至該浮動閘極中。當電子在浮 147409.doc 201044405 動閘極中累積B守’ δ亥浮動開極變成帶負電荷,且記憶體軍 70之臨限電麼升高,以使得該記憶體單元處於一經程式化 狀態中。可在以下專利令發現更多關於程式化之資訊··標 題為 Source Slde Self Boosting Technique for Νοη-
Voladie Memory」之美國專利M59,397 ;標題為「仏⑽如§
Over Pr〇grammed Mem〇ryj 之美國專利 69i7 542 ;及標題 為「Programming Non_v〇iatile Mem〇ry」之美國專利 M88,758 ’所有三個所引述之專利皆以全文引用的方式併 〇 入本文中。 在諸多情形下,程式化電壓係作為一連举脈衝(稱為程 式化脈衝)施加至控制閘極,其中該等脈衝之量值隨著每 -脈衝增加。在程式化脈衝之間,執行—組―個或多個驗 也作業以確定正被程式化之(―個或多個)記憶體單元是否
已達到其目標位準。若一記憶體單元已達到其目標位準, 則停止對彼記憶體單元之程式化。若—記憶體單元尚未達 到其目標位準,則將繼續對彼記憶體單元之程式化。 在某些實施方案中,於程式化之前抹除該等記憶體單 元。可對整個記憶體陣列、對個別區塊或另一單元單位執 行抹除。在-個實施方案中,藉由將記憶體單元之P井升 高至-抹除電壓後達4夠時間週期來抹除__群組記憶體 單元。-抹除脈衝使該等記憶體f元之臨限電壓移向(或 超過)一抹除目標位準(其可係低於0伏)。在某些實施方案 中,在施加該抹除脈衝之i,執彳一抹除驗證作業以確定 該等記憶體單元之臨限電壓是否已至少達_抹除目標位 147409.doc 201044405 二使用-較高振福抹除脈衝隨著每一循環重複抹除脈衝 及抹除驗證直至抹除驗證通過為止。 在抹除該等記憶體單元之後,某些記憶體單元可係過度 =除的。亦即’某些記憶體單元之臨限電壓被推動超過目 払位準。舉例而言,該臨限電屋比所需要的更負。此外, 該等記憶體單元之臨限電壓之範圍可比所需要的寬,此可 =地影響稍後程式化之品質。為使抹除分佈變緊且對抗 ^又抹除’彳「軟程式化」該等記憶體單元,「軟程式 =係藉由增加經抹除記憶體單元之最低臨限電壓同時不 ::地增加經抹除記憶體單元之最高臨限電壓來壓縮臨限 έ分佈。軟程式化可以與切所闡述程式化類似之一方 式來執行’但❹具有比正常程式化低之電壓量值之程式 =衝。在—個實施方案中’在其中每—連續更高振福軟 “化脈衝後跟—軟程式化驗證作業之循環中執行該軟程 式化。 抹除s亥等記憶體單元及驗證該抹除之過程具有以下缺 .L包含所花費之時間量及所消耗之功率。在某些實施方 ’該等抹除脈衝中之每一者施偏 壓於記憶體裝置之實 ^刀口此,斜升至最終抹除電壓花費大量時間。舉例 而5 ’斜升至最終抹除電壓可花費數百微秒。此外,由於 $長持續日守間期間施加此高電壓脈衝,因此消耗大量功 在某二μ形下,需要藉由抹除驗證或軟程式化驗證進行 驗證之目標位準係-負值。在一個實施方案中,藉由將位 147409.doc 201044405 元線預放電至接地且然後向共同源極線施加一高於零之電 塵(例如,2.2V)來感測負臨限電慶。此致使電流自源極流 向位元線從而致使位元線朝向源極線電壓充電。當體效應 關斷-NAND鏈中之記憶體單元中之至少—者時,對位元 線之充電停止。使用此技術,可量測接近於·乘以體效 應因數(例如’ 2.2M.5,其中2.2V係卿幻5係體效應因 數)之負臨限電壓。然❿,一單個抹除驗證或軟程式化驗 證可花費約100微秒。 Ο Ο 用於感測一記憶體單元_之一負臨限電麼之另一種技術 係向5己憶體單TL之控制閘極施加—負電壓。然而,產生及/ 或遞送該等必需負電麼可係困難的。此外,欲產生之電塵 越負,產生該電壓即越困難。將負電壓遞送至字線可極為 困難,此乃因其在解碼器中可需要多於一種類型(η型對p 型)之電晶體。此可導致極大且昂貴之字線解碼器或甚至 無法匹配記憶體陣列之小間距之解碼器。 種用於增加效能之技術係藉由使用大抹除電壓步長大 小而使用較少抹除脈衝。舉例而言,不是隨著每一連續抹 除脈衝使抹除電壓脈衝升高〇.5伏,而是可使該抹除電壓 步進1.0伏。然而,使用大電壓步長大小可導致過度抹 除。在某些實施方案中,使用10伏之一步長大小可導致 過度抹除某些記憶體單元約1.0伏》在一個實施方案中, 藉助單個極高電壓抹除脈衝來完成抹除過程。然而,使 用單個極高量值抹除脈衝可導致極端過度抹除。 為在使用一單個抹除脈衝時校正該過度抹除,可使用大 147409.doc 201044405 量軟程式化脈衝。在一個實施方案中,使用約丨5至2〇個軟 程式化脈衝及軟驗證作業。由於每一軟程式化驗證可花費 約100微秒,因此在該軟程式化期間可使用大量時間。 【發明内容】 本文中揭示用於抹除非揮發性儲存裝置之技術。在一個 實施方案中,用一試驗抹除脈衝來抹除該等非揮發性儲存 裝置。然後,基於該試驗抹除脈衝之量值及關於該試驗抹 除之後的臨限電壓分佈所收集之資料確定一第二抹除脈衝 之-適合量值。然後,使用該第二抹除脈衝來抹除記憶體 單元。在-個實施方案中,在該第二抹除之後不驗證該等 記憶體單元之臨限電壓。可執行該第二抹除之後的軟程式 化但並非必需。若執行軟程式化,則可基於該試驗抹除 脈衝確定該軟程式化脈衝之量值。在—個實施方案中,在 该軟程式化之後不驗證該等記憶體單元之臨限電 =抹除脈衝之數目,節省時間及功率。此外,藉㈣定 除脈衝之一適當量值’可最小化或消除過度抹 夂此外,错由限制軟程式化脈衝之數目,節省時間及功 -個實施例包含用一第一抹除電壓 揮發性儲存元件之一笙A 耵群組之非 …Γ 抹除。在該第-抹除之後,該等 非揮發性儲存元件具有一臨限電备 分佈上之一夂考雷m 確疋该臨限電壓 .^ 少電壓。基於该第一抹除電壓及嗲I老雷厭 確定-第二抹除„ 及為參考電壓 之非揮發性辟存元件之^2除電物行對該群組 147409.doc 201044405 在個實施例中,基於今筮_ 電壓。在執彳…χ第一抹除電壓確定一軟程式化 件施加該軟程式化電麗。 料組之非揮發性錯存元 個實施例係一種用於操— 法。該方法包括程式化非揮發’:館存裝置之方 用一篦,, 褚存兀件具有某一臨限電壓。 第-抹除電壓來抹除該等 除電壓進行抹险夕銘沙— 且在用δ亥第抹 Ο 、 疋該等NAND串之一臨限電壓分佈 該電壓喊2電壓。基於該第—抹除電壓及該上尾上之 等NAND^。帛—抹除電壓。用該第二抹除電壓來抹除該 、、y個實施㈣-種用於操作—非揮發㈣存裝置之方 法— '方法包括預調節—群組之非揮發性儲存元件以促進 確疋與料组之非揮發性儲存元件在抹除該群組之非揮發 陡儲存7L件之後將具有的—抹除臨限值分佈之—上尾相關 聯之-臨限電壓。將該群組之非揮發性儲存S件抹除為具 有該上尾之該抹除臨限值分佈。在該程式化之後用-第一 抹除電壓來執行抹除。確定與該抹除臨限值分佈之該上尾 相關聯之該臨限電壓。基於被允許具有大於該群組中之其 他非揮發性儲存元件之臨限電㈣臨限電壓之—定數目個 «亥等非揮發性館存元件來定義該臨限電壓。基於該第一抹 除電壓及與該上尾相關聯之該臨限電壓確定一第二抹除電 壓。用該第二抹除電壓來抹除該群組之非揮發性儲存元 件。 147409.doc 201044405 與::了例性實施方案包含-群組之非揮發性儲存元件及 :該::之非揮發性儲存元件通信之-個或多個管理; 發性儲存元件之:二Γ電壓來執行對該群組之非揮 該第 纟除、亥等非揮發性儲存元件由於 °" 未矛、而具有一臨限電壓分 限電壓分佈上之—參考—朦……里電路讀“臨 電壓及該參考電壓路基於該第一抹除 第2除電壓來執行對該群組之非揮發性儲存元件之 一採除。 不 及包括非揮發性儲存元件之複數個職D串 =了_串逯信之一管理電路的—非揮 存裝置。該㈣電路程式 NAND串以使得大# ^ $丨料70件U複數個 M 體上所有非揮發性儲存元件具有至少草 性儲:電t 4皆理電路用—第-抹除電壓來抹除非揮發 件之該複數個嶋串。該管理電路在用該第一 除之後確定非揮發性儲存元件之該複數個 MAND串之一臨限電壓 路基於該第-抹除電 —㈣。該管理電 除電壓。該管理電路第上之6亥電壓確定一第二抹 存元件之該複數個NAZ串弟—抹除電壓來抹除非揮發性儲 【實施方式】 一快閃記憶體系統之—個實例使用ΝΑΝ〇結構,其包含 串聯配置夹在兩個選摆 電晶體及該㈣擇ΖΓΓ個電㈣。該等串聯 1極%為一 NAND串。圖J係顯示一個 I47409.doc -10- 201044405 NAND串之一俯視圖。圖2係其一等效電路。圖1及圖2中所 繪示之NAND串包含四個電晶體100、102、104及106,其 等為串聯且夾在一第一(或汲極側)選擇閘極120與一第二 (或源極側)選擇閘極122之間。選擇閘極120經由位元線觸 - 點126將該NAND串連接至一位元線。選擇閘極122將該 . NAND串連接至源極線128。藉由向選擇線SGD施加適當電 壓來控制選擇閘極120。藉由向選擇線SGS施加適當電壓 來控制選擇閘極122。晶體管100、102、104及106中之每 〇 一者皆具有一控制閘極及一浮動閘極。舉例而言,電晶體 100具有控制閘極100CG及浮動閘極100FG。電晶體102包 含控制閘極102CG及一浮動閘極102FG。電晶體104包含控 制閘極104CG及浮動閘極104FG。電晶體106包含一控制閘 極106CG及一浮動閘極106FG。控制閘極100CG連接至字 線WL3,控制閘極102CG連接至字線WL2,控制閘極 104CG連接至字線WL1,且控制閘極106CG連接至字線 WL0。 〇 注意,雖然圖1及圖2顯示該NAND串中之四個記憶體單 元,但使用四個電晶體僅係作為一實例而提供。一 NAND • 串可具有少於四個之記憶體單元或多於四個之記憶體單 . 元。舉例而言,某些NAND串將包含8個記憶體單元、16個 記憶體單元、32個記憶體單元、64個記憶體單元、128個 記憶體單元等等。本文中之論述並不限於一 NAND串中任 一特定數目個記憶體單元。 用於使用一 NAND結構之一快閃記憶體系統之一典型架 147409.doc -11 - 201044405 構將包含數個NAND串。每一NAND串藉由其由選擇線SGS 控制之源極選擇閘極連接至源極線,且藉由其由選擇線 SGD控制之汲極選擇閘極連接至其相關聯位元線。每一位 兀線及經由一位元線觸點連接至彼位元線之各別nand串 構成s己憶體單元陣列之行。位元線由多個NAND串共享。 通常,位元線沿垂直於字線之一方向在該等NAND串之頂 部上延伸且連接至一個或多個感測放大器。 每一記憶體單元可儲存資料(類比或數位)。當儲存一個 數位資料位元時,將記憶體單元之可能臨限電壓範圍劃分 為兩個範圍,該兩個範圍被指派邏輯資料「丨」及「〇」。 = 類型㈣記憶體之―個實财,在抹除記憶體 早凡之後臨限㈣為負^定義為邏輯「1」。在程式化之 後臨限電壓為正且定義為邏輯「〇」。當臨限電壓為負且 藉由向控制閘極施加G伏來嘗試―讀取時,記憶體單元將 =通以指不正在儲存邏輯】。當臨限電壓為正且藉由向控 制問極施加0伏來嘗試―讀取作業時,記憶體單元將不合 接通’此指示儲存邏輯〇。 曰 在儲存多個資料位階之情形 八A皆粗仞舭+ & …跟限!:壓範匿 刀為貝科位階之數目。舉例而言, 一 念儲存四個資Sfl付 (兩個貢料位元),則將在 )則將存在指派給資料值「u , 1〇」、01」及「00」之四個臨限電懕ρ μ ^ ^ 限电壓範圍。在一ΝΑ: 矢員型ό己隐體之一個貧似Φ,A ,, 貧例中’在一祙除作 員且疋義4 11」。正臨限電壓用於「W 、厂
「〇〇」之資料狀態。若儲存八個 J 01 J 貝巩位階(或狀態)(例如 147409.doc -12- 201044405 對於三個資料位兀) 「001」、「010」、「011」、「1〇〇 「111」之八個臨限電壓範圍。 W將存在指派給資料值「〇〇〇 101 110」及 程式化至§己憶體單元中之資料盘兮留一 之間的具體關係相依於針對該等單元所電壓位準 案。舉例而言,美國專利第6,222 7 :::料編瑪方 ’ Z就及美國真丨由· 開案第2004/0255090號(此兩者皆 申^ ❹ Ο 王又Ή用的方式併入太 文中)闡述了用於多狀態快閃記悻 不 —μ〜 %之各種資料編碼 方案。在一個貫施例中,使用—格φ α 格雷(Gray)碼指派將資料 值指派給該等臨限電壓範圍,以 、 電壓錯誤地移位至其相鄰實體狀之臨限 鄰貫體狀悲,則將僅影響一個位 在某些實施财,資料編碼方案可針對不同字線而改 變,資料編碼方案可隨時間而改變,或者可反轉或以其他 方式隨機化隨機字線之眘姻i 、
Mu減少資料型樣靈敏度及 甚至對記憶體單元之抹寫。 在下列美國專利/專利申請案中提供nand類型快閃記憶 體及其作業之相關實例,所有該等美國專利/專利申請案 =乂引用方式併入本文中··美國專利第5,別,⑴號;美國 利第5’774,397號;美國專利第6,046,935號;美國專利第 M56,528號;及美國專利公開案第仍細綱㈣傾。除 NAND之外’本文中之論述亦可應用於其他類型之快閃記 憶體以及其他類型之非揮發性記憶體。 矛、and &閃憶體之外,亦可使用其他類型之非揮發 性館存裝置。舉例而言,—所謂的TAN0S結構(由在一石夕 147409.doc •13- 201044405 基板上之TaN-Al2〇3_SiN_Si〇2之一堆疊層構成)亦可盘本發 明-起使用,該TAN0S結構基本上係使用電荷在—氮化物 層(替代-浮動閘極)中之陷獲之—記憶體單元。適用於快 閃EEPROM系統中之另一類型之記憶體單元利用—非傳導 介電材料取代-傳導浮動閘極來以—_發性方式儲存電 荷。此一單元闡述於Chan等人之一文章「八^如咖_
Transistor Oxide-Nitride-Oxide EEPROM Device」(IEEE
Electron Device Letters,卷 EDL_8,第 3期,i987年 3 月, ρρ· 93_95)中。由氧化石夕、氮化梦及氧化珍形成之一三層 電介質(「ΟΝΟ」)夾在記憶體單元通道上面之一傳導控制 閘極與-半傳導基板之一表面之間。藉由將來自單元通道 之電子注人至該氮化物中來程式化單元,#中電子被陷獲 並儲存於一有限區域中。然後,此所儲存之電荷以一可偵 測方式改變該單元之通道之一部分之臨限電壓。藉由將熱 電洞注入至該氮化物中來抹除記憶體單元。亦參見 等人之「A 1-Mb EEPR〇M with MON〇s Me_y CeU &
Semiconductor Disk APPlication」(IEEE J〇urnal 〇f s〇Ud_ State Circuits,卷 26,第 4期,1991 年 4 月,pp. 497·5()1), 其闡述呈一分裂閘極組態之一類似記憶體單元,其中一經 摻雜多晶矽閘極延伸越過記憶體單元通道之一部分以形成 一單獨選擇電晶體。以上兩篇文章皆以全文引用的方式併 入本文中。在William D. Brown及joe E Brewer所編輯之
「Nonvolatile Semiconductor Memory Technology」(IEEE
Press,1998)之章節1.2中所提及之程式化技術亦在彼章節 147409.doc -14- 201044405 中闡述為適用於電介質電荷陷獲裝置,該文以引用方式併 入本文中亦可使用其他類型之記,(·咅I#裝詈。 圖3圖解說明可包含-個或多個或晶片212之 -非揮發性儲存裝置21〇。記憶體晶粒212包含—記憶體單 兀陣列(一維或二維)2〇〇、控制電路22〇以及讀取/寫入電路 230A及23GB。在-個實施例中,各種周邊電路對記憶體 陣列200之存取係以一對稱方式在該陣列之相對側上實· 施,以使得每一側上之存取線及電路之密度減半。讀取/ © 寫入電路230八及23⑽包含多個感測區塊mo,該等感測區 塊允許平行地讀取或程式化一記憶體單元頁。記憶體陣列 1 〇〇可經由列解碼器240八及240B藉由字線以及經由行解碼 器242A及242B藉由位元線來定址。在一典型實施例中, 一控制器244與一個或多個記憶體晶粒212包含於相同記憶 體裝置210(例如,一可抽換儲存卡或封裝)中。命令及資料 經由線232在主機與控制器244之間傳送且經由線234在該 控制器與一個或多個記憶體晶粒212之間傳送。一個實施 方案可包含多個晶片212。 控制電路220與讀取/寫入電路230A及230B協作以對記憶 體陣列200執行記憶體作業。控制電路220包含一狀態機 222、一晶片上位址解碼器224及一功率控制模組226。狀 態機222提供對記憶體作業之晶片級控制。晶片上位址解 碼器224提供一位址介面以在主機或一記憶體控制器所使 用之位址與解碼器240A、240B、242A及242B所使用之硬 體位址之間進行轉換。功率控制模組226控制在記憶體作 147409.doc 15- 201044405 業期間供應至字線及位元線之功率及電壓。在一個實施例 中,功率控制模組226包含可產生大於供應電壓之電壓之 一個或多個電荷幫浦。 在—個實施例中’控制電路22〇、功率控制電路226、解 碼益電路224、狀態機電路222、解碼器電路242 A、解碼器 電路242B、解碼器電路24〇A、解碼器電路24〇b、讀取/寫 入電路230A、讀取/寫入電路23〇8及/或控制器244之—個 組合或任一組合可稱為一個或多個管理電路。 圖4繪示記憶體單元陣列2〇〇之一例示性結構。在—個實 施例中,該記憶體單元陣列被劃分為“個記憶體單元區 鬼通對於快閃EEPROM系統而言,區塊係抹除單位。 亦即每一區塊含有一起抹除之最小數目個記憶體單元。 每-區塊通常被劃分為若干個頁。一頁係一程式化單位。 在一個記憶體單元列中通常儲存一個或多個資料頁。一頁 :儲存-個或多個磁區。一磁區包含使用者資料及附加項 資料。附加項資料通常包含已依據該磁區之使用者資料計 算之-錯誤校正碼(ECC)。_器(下文所闡述)之_部分 在資料正被程式化至陣列中時計算咖,且亦在正自該陣 歹K賣取貝料時檢查Ecc。另一選擇為,將及/或其他附 項負料錯存在與其所從屬之使S者資料*同之頁甚或不 -16- 201044405 在另一實施例中,將位元線劃分為奇數位元線及偶數位 元線。在一奇數/偶數位元線架構中,在一個時間程式化 沿一共同字線且連接至奇數位元線之記憶體單元,而在另 一時間程式化沿一共同字線且連接至偶數位元線之記憶體 單兀。 圖4顯示記憶體陣列200之區塊丨之更多細節。區塊丨包含 X+1個位元線及X+1個NAND串。區塊i亦包含64個資料字線 (WL0至WL63)、兩個虛擬字線(WL_d〇&WL—dl)、一汲極 〇 側選擇線(SGD)及一源極側選擇線(SGS)。每_ NAND串之 一個端子經由一汲極選擇閘極(連接至選擇線SGd)連接至 一對應位元線,且另一端子經由一源極選擇閘極(連接至 選擇線SGS)連接至源極線。由於存在64個資料字線及兩個 虛擬字線,因此每一 NAND串包含64個資料記憶體單元及 兩個虛擬a己憶體單元。在其他實施例中,nand串可具有 夕於或少於64個資料記憶體單元及兩個虛擬記憶體單元。 Q 貝料^憶體單兀可儲存使用者或系統資料。虛擬記憶體單 几通常不用於儲存使用者或系統資料。某些實施例不包含 虛擬記憶體單元。 圖5係分割為一核心部分(稱為一感測模組)48〇及一共同 邛勿490之一個別感測區塊3〇〇之一方塊圖。在一個實施例 中,將存在用於每一位元線之一單獨感測模組48〇及用於 一組多個感測模組480之一個共同部分490。在一個實例 中,一感測區塊300將包含一個共同部分49〇及八個感測模 組480。一群組中之感測模組480中之每一者將經由一資料 I47409.doc 17 201044405 匯流排472與相關聯共同部分49〇通信。對於進一步細節, 參照美國專利申請公開案2006/0140007,其以全文引用的 方式併入本文中。 感測模組480包括確定一所連接位元線中之一傳導電流 係高於還是低於一預定臨限位準之感測電路47〇。在某些 實施例中,感測模組480包含通常稱為一感測放大器之一 電路。感測模組480亦包含一位元線鎖存器482,其用於設 定所連接位元線上之一電壓狀況。舉例而言,鎖存於位元 線鎖存器482中之-預定狀態將導致將所連接位^線被拉 至指定程式化抑制之一狀態(例如,vdd)。 共同部分490包括一處理器492、一組資料鎖存器例及 耦合於該組資料鎖存器494與資料匯流排42〇之間的一1/〇 介面496。處理器492執行計算。舉例而言,其功能之一係 確定儲存於所感測記憶體單元中之資料並將所確定之資料 儲存到該組資料鎖存器中。在—讀取作業期間該組資料 鎖存器494用於儲存由處理器竹2所確定之資料位元。在一 程式作業期間,其亦用於儲存自f料匯流排咖導入之資 料位7L、左導入貝料位兀表示意欲程式化至記憶體中之寫 :貝料I/Oφ 496在資料鎖存器494與資料匯流排42〇之 間提供一介面。 在讀取或感測期間,马奂& 期间忒系統之作業在狀態機222之控制 下’該狀態機控制不同控制閉極電壓至經定址單元之供 應。當感測模組_步進穿過對應於該記憶體所支援之各 種記㈣狀態之各種預定義控制閘極電壓時,感測模組 H7409.doc -18- 201044405 480可在此等電壓中之一者處跳閘且將經由匯流排472將一 輸出自感測模組480提供至處理器492。此時,處理器492 藉由考量該感測模組之跳閘事件及關於經由輸入線493自 狀態機施加之控制閉極電壓之資訊來確定所得記憶體狀 態。然後,其計算用於該記憶體狀態之一二進制編碼且將 所得資料位元儲存至資料鎖存器494中。在該核心部分之 另實細例中,位元線鎖存器482有兩個用途:既作為用
於鎖存感測模組48G之輸出之—鎖存器且亦作為如上文所 闡述之一位元線鎖存器。 ,1 κ施方案將包含多個處理器々Μ。在一個實施 例:,母-處理器492將包含一輸出線(在圖5中未繪示)以 使得輸出線中之每—去_总& Γ斗、 母者係線或」連接在一起。在某些實 =中,該等輸出線在連接至經線「或」連接之線之前被 組態實現在程式化驗證過程期間對該
St成之一快速確定,此乃因接收線「或」線之狀態 \被程式化之所有位元何時已達到所需位階。舉 …母-位元已達到其所需 線發送彼位元之一邏鳋㈣“ 吟⑯向線或」 出-資料〇(或經反轉之—資料D :=兀輸 該程式化過程。在其中每一 “邊以知曉終止 實施例中,益與八個感測模組通信之 r 5亥狀態機可(在某此眘始w丄 「或」線八-欠,二貫施例中)需要讀取線 -人或者向處理器492添如、s访 位元線之社果以你a '、、、輯以累積相關聯 次。、…使传該狀態機僅需讀取該線「或」線一 147409.doc -19- 201044405 在程式化或驗證期間,將來自資料匯流排42〇之欲程式 化之資料儲存於該組資料鎖存器494中。在該狀態機之控 制下之程式化作業包括施加至經定址記憶體單元之控制閘 極之一連串程式化電壓脈衝(具有增加之量值)。每一程式 化脈衝後跟-驗證過程以確定該記憶體單元是否已程式化 為所舄狀態。處理器492相對於所需記憶體狀態監控經驗 心己憶體狀態。當二者—致時’處理器492設定位元線鎖 存器482 ’以便致使該位元線被拉至指^程式化抑制之— 狀態。此抑制耦合至該位元線之單元免遭進一步程式化, 即使在其經受在其控制閘極上之程式化脈衝時亦係如此。 在其他實施例中,該處理器首先載入位元線鎖存器482且 在驗證過程期間感測電路將其設定為—抑制值。 。。資料鎖存器堆疊494含有對應於感測模組之一資料鎖存 态堆疊。在一個實施例中每感測模組_存在3至5個(或 Γ數目)之資料鎖存器。在一個實施例中,_存器 :位元。在某些實施方案中(但並非必需),將該 尊貝㈣存器實施為-移位暫存器,以使得將其中所儲存 之平行資料轉換為用於資料匯流排420之争列資料,且反 之二在一個較佳實施例中,可將對應於爪個記憶體單 :/寫入區塊之所有資料鎖存器鏈接在-起以形成 輸定二使得一區塊可藉由串_來 h出特疋而§,調適讀取/寫入模組庫,以 其資料鎖存器組中之每—者將依序將資料移入或移出資: 匯-排,仿佛其係用於整個讀取/寫入區塊之—移位暫存 147409.doc -20- 201044405 器之一部分。 可在以下專利中發現關於讀取作業及感測放大器之額外 資訊:(1)2004年3月25曰公開之美國專利申請公開案第 2004/0057287號「Non-Volatile Memory And Method With Reduced Source Line Bias Errors」;(2)2004年 6 月 10 曰公 - 開之美國專利申請公開案第20〇4/0109357號「Non-Volatile
Memory And Method with Improved Sensing」;(3)美國專 利申請公開案第20050169082號;(4)2006年10月5日公開之 ❹ 美國專利申請公開案2006/0221692「Compensating for Coupling During Read Operations of Non-Volatile Memory」; 及(5)2006年7月20日公開之美國專利申請公開案第 2006/0158947 號「Reference Sense Amplifier For Non_
Volatile Memory」。剛剛上文所列示之所有五個專利文檔 皆以全文引用的方式併入本文中。 在一成功程式化過程(具有驗證)結束時,視情況,記憶 體單元之臨限電壓應在一個或多個臨限電壓分佈内(對於 經程式化記憶體單元而言),或在一臨限電壓分佈内(對於 經抹除記憶體單元而言)。圖6 A圖解說明當每一記憶體單 - 元儲存四個資料位元時對應於記憶體單元陣列之資料狀態 . 之實例性Vt分佈。然而,其他實施例每記憶體單元可使用 多於或少於四個資料位元。圖6 A顯示對應於資料狀態〇至 15之16個Vt分佈。在一個實施例中,狀態〇中之臨限電壓 為負且狀態1至15中之臨限電壓為正。然而,狀態1至15中 之一者或多者中之臨限電壓可為負。 147409.doc -21 - 201044405 在資料狀態〇至15中之每—者之間的係用於自記憶體單 元讀取資料之讀取參考電壓。舉例而言,圖6Α顯示資料狀 態〇與資料狀態1之間的讀取參考電壓Vrl及資料狀態丨與資 料狀悲2之間的Vr2。藉由測試一給定記憶體單元之臨限電 壓係咼於還疋低於各別讀取參考電壓,該系統可確定該記 憶體單元處於何種狀態中。 在每一資料狀態0至15之下邊緣處或接近該下邊緣的係 驗證參考電壓。舉例而言,圖6A顯示狀態1之vvl及狀態2 之Vv2。當將記憶體單元程式化至一給定狀態時,該系統 將測試彼等記憶體單元是否具有大於或等於該驗證參考電 壓之一臨限電壓。 圖6B圖解說明對應於資料狀態〇至丨5之Vt分佈之另一實 施例可部分地重疊’此乃因校正演算法可處置某一百分比 之錯誤之單元。應注意之一點係,與所繪示之丨6個狀態之 相等間隔/寬度相反,各種狀態可具有不同之寬度/間隔以 適應對資料保持丟失之變化的敏感度量。在某些實施例 中,狀態0及/或15寬於其他狀態。 亦應注意,當使用透過源極之體效應或體偏壓來將負臨 限電壓移位至可量測之正範圍中時,Vt軸可自施加至控制 閘極之實際電壓偏移。用於量測一負臨限電壓之一種技術 係下文執行之將稱為「源極隨耦器感測」的技術。首先, 將位元線放電至接地。然後,向共同源極線施加一高於零 之電壓(例如,2.2V)。然而,將記憶體單元之本體保持處 於接地。電流自源極流向位元線從而致使位元線朝向源極 147409.doc -22- 201044405 線電壓充電。當體效應關斷一 NAND鏈中之記憶體單元中 ,至少一者時,對位元線之充電停止。感測當該NAND鏈 停止充電時位元線上之電壓以確定關斷之記憶體單元之臨 限電壓,其將係該NAND鏈上之最高臨限電壓。使用此技 術,可量測接近於Vdd之負臨限電壓。可使用其他技術來 感測負臨限電壓,例如向控制閘極施加一負電壓。 圖7係閣述用於抹除及程式化記憶體單元之一過程之一 個實施例之一流程圖。由上文所闡述之一個或多個管理電 路執行圖7之過程。在步驟7〇2中’系統將接收對抹除資料 之一凊求。在一個實施例中,可能將不存在一專用抹除命 ^ 而係,系統將回應於對程式化之一請求而進行抹除 (在程式化之前)。在步驟7〇4中,選擇欲抹除之區塊。在步 驟706中,抹除記憶體單元。圖8繪示抹除記憶體單元之一 個實施例。 在圖7之步驟7〇8中,系統將接收對程式化資料之一請 Q 求°續'不—虛線來將步驟706連接至步驟708,此乃因在該 個v驟之間可能存在一長時間流逝。在步驟710中,將 程式化6己憶體單元。可根據在此項技術中已知之各種程式 '^匕 、、士__ , 法甲之諸多方法在步驟71〇中程式化記憶體單元。在 一個實施例中,記憶體單元經程式化以導致不偏向於任一 °己憶體狀態。舉例而言,若存在四個資料狀態,則約25% 之記憶體單元係矛呈式化為資料狀態中之每-者而不論所正 儲存之資料如何。圖1〇A繪示此「隨機化」之一實例。 圖8纷不抹除記憶體單元之一過程800之一個實施例。圖 147409.doc -23- 201044405 8之過程800係一種用於實施圖7中之步驟706之技術。在可 選步驟802中,將記憶體單元程式化至某一最小臨限電 遂。作為一實例’將大體上所有記憶體單元程式化至高於 可$測Vt窗口之至少1伏之一 Vt。可量測Vt窗口係用於將 有效資料儲存於特定記憶體裝置上之Vt之範圍。該窗口之 底部相依於例如是否採用負vt感測等因素而不同。在未使 用負vt感測之一實施方案中,可量測vt窗口之開始係約〇 v。在使用負感測之一實施方案中,可量測Vt窗口之開始 可變為幾乎與-Vdd—樣的負性。舉例而言,使用負感測, 在Vdd為2.2V之情形下可量測%窗口之開始係約_16¥。在 個實施方案中,如下執行負感測。將源極及P井保持在 uv下。將汲極保持在UV+Vb^,其中Vbl係將位元線 預充電至的電壓。作為一實例,Vbl係〇 4V。在此類型之 負感測中,當源極及P井保持在相同電壓下時不存在體效 應。在一個實施例中,藉由向控制閘極施加一負電壓來執 行負Vt感測。 在—個實施例中’為程式化超過最小Vt,將區塊(或其 他單位)中之所有字線升高至一中等程式化電壓(例如16 V)。圖9A繪示在施加步驟8〇2之一程式化脈衝之前記憶體 早疋之四個Vt分佈。每一 %分佈對應於此實例中所使用之 四個資料狀態中之一個狀態。注意,某些資料狀態具有大 於其他資料狀態之一記憶體單元數目。在圖9A中,舉例而 5,最低可量測Vt可係且最高可量測Vt可係6V。圖9B 繪不施加步驟802之脈衝之後的Vt分佈,其中已將大體上 147409.doc -24- 201044405 所有記憶體單元程式化至至少一最小汛。在圖犯中,彼最 小vt係高於最低可量測vt至少某一電壓。作為一實例,將 δ己憶體皁元程式化至焉於最低可量測Vt至少約1 V。 執行步驟802之一個原因係在試驗抹除之前預調節記憶 _ 體單元以允許對試驗抹除之後臨限值分佈上之一參考點之 • 1精確確定。在-個實施方案中,該參考點在本文中稱為 「上尾vt」,此乃因該參考點通常位於Vt分佈之最上端 上。過程800之稍後步驟基於在已執行—試驗抹除之後有 〇 多少記憶體單元具有高於施加至該等記憶體單元之讀取參 考電壓的Vt來確定計數。在一個實施方案中,在一 NAND 串基礎上進行該等計數。亦即,若一 NAND串中之一個或 多個記憶體單元滿足一條件,則計數該NAND串。然而, 並非必須在一 NAND串基礎上執行計數。在施加步驟8〇2之 脈衝之後,大體上所有記憶體單元之最低vt應高於讀取參 考電壓以確保稍後計數之記憶體單元將係已藉由試驗抹除 脈衝抹除之記憶體單元。 〇 步驟802並非係一要求。若一已知合理分率之該等記憶 體單元係處於一未抹除狀態中,則可不必執行步驟8〇2。 ' 舉例而言,若記憶體單元係如圖10A中所繪示那樣經程式 • 化,則可假定約25%之記憶體單元將被程式化至每一狀 態。注意,使某一百分比之記憶體單元處於經抹除狀態中 係可接受的,只要知曉彼百分比即可。 在步驟804中,執行對記憶體單元之一試驗抹除。在一 個實施例中,試驗抹除電壓之量值足夠低以確保抹除分佈 147409.doc -25- 201044405 之上部係在可量測vt窗口中,以使得可向記憶體單元施加 某些讀取參考電壓以確定有多少記憶體單元具有高於該等 =取參考電Μ之vt。注意,vt分佈之—部分可低於最低可 罝測vt,只要該上部在可量測Vt窗口中即可。過程綱之 稍後步驟將施加讀取電壓並確定對有多少财鼎串且有高 於讀=電壓之vt的計數。將基於彼等計數來確定上尾vt。 注意’隨著時間推移抹除某些記憶體裝置會變得更加困 難。因此,試驗抹除脈衝之特性(例如,量值)可隨記憶體 裝置之使用(例如,抹除/程式化循環)而變。對於某些裝置 而言,抹除記憶體單元之困難之增加可大約成對數增加。 =此’舉例而言,可在刚個循環、1K個循環、服個循 %時進行對試驗抹除脈衝之調整。在某些實施例中,追縱 抹除/程式化循環之數目並基於此調整試驗抹除脈衝。追 蹤可係在逐區塊基礎上,但此並非必需。注意,由於平均 抹寫程序,在產品壽命期間之任一給定時間,可對一給定 裝置中之所有區塊使用相同試驗抹除脈衝,此乃因可假定 在每一區塊中有一類似抹寫程度。 圖9C縿示針對其中已施加步驟8〇2之程式化脈衝 (參見_)在試驗抹除之後的一抹除臨限值分佈。 分佈之上端之—點。可基於忽略—定數目個離群 來疋義上尾Vt。舉例而言’約31個記憶體單元具有在上 尾vt右邊之V卜可基於除31以外的任一數目來定義上尾 vt。若在-NAND串基礎上執行計數,則忽略—定數目2 NAND串。作為—實例,檢查咖〇串以確定—給定να助 147409.doc 201044405 串是否具有至少一個具有高於一讀取參考電壓之一%的記 憶體單元。調整該讀取參考電壓直至NAND串中之約31個 具有至少-個具有高於該讀取參考電壓之_vt的記憶體單 元。因此,約_NAND串具有至少一個具有高於上尾^ 之一vt的記憶體單元。注意,在區塊中可存在約75,000個 NAND串。亦可基於統計來定義上尾%。舉例而言,若藉 ❹ 由平均值及一標準偏差來表徵Vt分佈,則上尾可係定 義為高於該平均值之一定實數個標準偏差。 如先前所論述,並不需要施加步驟802之程式化脈衝。 圖10B繪示當不使用步獅2之程式化脈衝時在試驗抹除之 後的一實例性Vt分佈。舉例而言’最低可量測%可係約〇 V且最高可量測vt可係約6 v。在此實例中,作為正常程式 化過程之結果,已將約25%之記憶體單元程式化至四個不 同狀態中之每一者(參見圖10A)。如圖10B中所繪示,在試 驗抹除之後Vt分佈之下部可係不均勻的。然而,Vt分佈之 上部相對平滑。更重要地,可預測在試驗抹除之後vt分佈 之上部將具有之近似形狀,此允許基於一最小讀取量來精 痛地確定上尾Vt。下文論料定上尾Vt之進-步細節。 個貫把例中’藉由將P井升高至一抹除電磨後達一 足夠時間週期並在源極及位元線浮動時將一選定區塊之字 線接地來it成試驗抹除。由於f容㈣合,亦將未選字 良位元線、選擇線及共同源極線升高至該抹除電壓之一 相當大分率。_強電場因此施加至選定記憶體單元之随道 氧化物層,且在浮動閘極之電子通常藉由Fowler- 147409.doc -27- 201044405
Nordheim隧穿機制發射至其 ^ , 土板側時抹除選定記憶體單元之 貝料。當電子自浮動間極傳 1得送至P井區域時,一選定單元 之V t降低。可對整個_愔雜t, 固°己隐體陣歹,卜對個別區塊或另-單元 單位執行抹除。 在步驟806中,以草_路, 呆所關注位元等級確定一上尾Vt。 所關注位元等級係指有多少如& 喇夕夕Vt被忽略。舉例而言,由於可 預期在一 Vt分佈中存在芒+ M丧 于隹右干離群Vt,因此可忽略一定數目 個離群值。如先前所論述 1 ’返可針對一整個NAND串確定一 早個Vt °因此’在—個實施方案巾’所關注位元等級係指 有多少NAND串被允許具有至少—個具有高於上尾^之一
Vt的記憶體單元。上尾vt用作稍後計算之一參考點。 在一個實施方案中,所關注位元等級係基於在一抹除驗 證期間儲存裝置210「忽略」2NAND串之數目。亦即,即 使疋數目個NAND串具有一個或多個具有大於目標位準 之一 Vt的記憶體單元,抹除驗證亦通過。作為一實例,儲 存裝置210可允許每一區塊中之31個NAND串具有一個或多 個具有高於目標位準之一 Vt的記憶體單元。通常,裝置在 一 NAND串基礎上執行抹除驗證。亦即,向區塊中之每一 字線施加一抹除驗證電壓。一給定NAND串中之每一記憶 體早元應接通以使抹除驗證通過。在·—個實施例中,假如 不多於一定數目個NAND串未通過驗證,則抹除驗證通 過。雖然可檢查未通過驗證之彼等NAND串中之個別記憶 體單元之Vt以確定是否有多個記憶體單元致使驗證未通 過’但此並非必需。注意,具有一定數目個具有高於目標 147409.doc -28- 201044405 位準之vt的記憶體單元並不引起—資料完整性問題,此乃 因ECC可校正此等值。亦即,若—_後讀取作業發現某些 記憶體單元實際上係處於—較高狀態中,則Ecc將校正該 問題。然而,可使用其他技術來確定上尾Vt。 欲用作參考點之上尾上之準確點並不關鐽。此外,雖然 圖9C及圖1GB將參考點繪示為在電壓分佈之最上部處⑼ 即,一上尾)’但參考點並非必需在最上端處。舉例而 言,可選擇較靠近於平均值之一參考點
然而’出於論述 之目的’所論述之參考點將位於上尾上。 UD、12A及12B來論述確 下文參照圖11A、11B、11C 定上尾Vt之進一步細節。 在步驟808中,基於試驗抹除電壓及上尾%確定一第二 抹除電壓。在一個實施例中,基於以下方程式確定第二抹 除電壓(VE2)。 方程式1
VE2=VE1 + (VU1/S)+M
S=AVT/AVE
在方程式1中 方程式2 VE1係來自步驟804之試驗抹除電壓 且 VU1係在步驟806中所確定之上尾心。參數「S」係基於記 憶體單元對抹除電壓之回應性。亦即,§係基於預期上尾 Vt每單位抹除電壓增加移位多遠。方程式2將8定義為每】 V抹除電壓增加上尾vt之移位。在一個實施方案中,參數s 係基於對一樣本ό己憶體裝置之測試而計算且可用於所有類 似記憶體裝置。因此,在實踐中不需要確定s。然而,在 實踐中可確疋或修改S。此外,S之一不同值可用於具有相 147409.doc -29- 201044405 同設計之不同記憶體裝置。舉例而言,可微調s以計及不 同批次之記憶體裝置中之半導體製程變化。甚至可針對每 一記憶體裝置微調參數s。舉例而言’當製造記憶體裝置 時,可執行一測試以確定彼特定記憶體裝置上之記憶體單 元對抹除脈衝之敏感度。可基於測試結果將s之一值程式 化至該特定記憶體裝置中。 注意’記憶體單元對抹除電壓之敏感度可存在某一變 化。此變化可係記憶體單元間、區塊間、記憶體晶粒間、 批間等變化。方程式i中之參數「M」係一裕量數值用以❹ 碟保第二抹除強至足以計及可能之變化。選擇Μ之值以碟 保將充分抹除對抹除電壓較不敏感之彼等記憶體單元。可 發生以下情形:將在一小程度上過度抹除某些記憶體單 兀舉例而§,可過度抹除比一般記憶體單元對抹除電壓 更敏感之記憶體單元。然而,過度抹除某些記憶體單元係 可接受的。 ' 注意,正如參數S—樣,可在一逐裝置基礎上、在—逐 批次基礎上等微調參數M。此外,雖然可在製造時將參數❹ Μ程式化至記憶體襄置中時,但可在實踐中確定μ之一適 合值。此外’可在實踐中微調在製造時程式化至裝 值。 < . ’主思,可藉由計算或表查找來執行對第二抹 壓之實際確定。叛办,丨& _ ^ /磲疋舉例而吕’在一個實施方案中,該表 入係上尾電壓及續,臨_ Ψη,] 壓。 及忒驗抹除電壓。該表之輸出係第二抹除電 147409.doc -30. 201044405 —在^驟810巾’使用在步驟繼巾所確定之抹除電壓來執 行一第二抹除。在—個實施例甲,藉由將Ρ井升高至-抹 除電壓後達-足夠時間週期並在源極及位元線浮動時將一 選定區塊之字線接地來達成第二抹除。在一個實施例中, ^寺完成該抹除而不進行抹除驗證作f。因此,可藉助一 早個抹除脈衝來完成該第二抹除。驗證抹除臨限值分佈並 非係S| ,然而’可視情況執行—抹除驗證。若如此, Ο Ο 則可執行圖之過程膽。注意,㈣行—抹除驗證作 業,則可必需感測-負Vt'然而,在其中不驗證最終抹除 Vt分佈之實施方案中,無需執行負^感測。 在執行抹除之後,某些記憶體單元可能處於比所必需的 深之一經抹除狀態令。可使用係一小程式化脈衝之軟程式 化向上輕推某些經抹除記憶體單元之Vt。特定而言,軟程 式化輕推經最深程度抹除記憶體單元之vt以使得壓縮抹除 臨限值分佈。 在可選步驟812中,其:^ @ Ψ基於第二抹除電壓確定一軟程式化 電壓。在抹除記憶體單元所需要之電壓與程式化彼等記情 體單元所需要之電壓之間存在—相關性,此乃因一區塊係 循環的。在某些實施方案中,隨著更多的程式化/抹除循 极,抹除變得更加困難而程式化變得更加容易。因此,知 曉將區塊抹除至-足夠深位準所需之抹除電壓之值允許叶 算可使抹除分佈變緊之軟程式化脈衝之正確值。在一個* 施方案中’基於以下絲式來確錄程式化電壓:"
Vsp=Vref-Ve2*K 方程式3 147409.doc -31 - 201044405 在方程式3中,Ve2係第二抹除電整之量值。參數^係 —參考電壓且K係、-常數。可基於對樣本裝置所執行之測 試確定之適合值。在—個實施例中,藉由應用一 方程式(例如方程式3)來確定軟程式化電壓。在—個實施例 中,基於第二抹除電壓,使用一查找表來獲得軟程式化脈 衝之值。 注意二若軟程式化脈衝太弱則其將不幫助使抹除分佈變 緊,且若軟程式化脈衝太強則其可將記憶體單元程式化出 經抹除狀態且將記憶體單元程式化至經程式化狀態中之一 者或多者中。然而,具有適當振福之—軟程式化脈衝將使 抹除分佈變緊。前述内容之_可能原因在於具有較高麵合 比率之記憶體單元比具有較低麵合比率之記憶體單元既易 於抹除又易於程式化。具有較高耦合比率之單元在一抹除 脈衝之後將終止於抹除分佈之下部處。具有適當振福之一 軟程式化脈衝將在剩餘記憶體單元開始程式化之前輕推此 等單元之Vt,藉此使抹除分佈變緊。但若軟程式化脈衝太 強,則所有記憶體單元將開始程式化,且失去變緊效應。 在可選步驟814中,使用軟程式化電壓來壓縮抹除臨限 值分佈。在某些實施方案中,不存在對軟程式化之驗證。 由於不存在驗證,因此僅施加一單個軟程式化脈衝。然 而,可執行對軟程式化之驗證。若如此,則可執行圖丨4之 過程1400。 在一個實施例中,使用一單個抹除脈衝而不使用圖8之 過程800來抹除具有一低循環計數之新區塊。在抹除變得 147409.doc •32· 201044405 更加困難且—單個脈衝不再足以抹除區塊之後,使用圖8 之過程800。 圖11A纷示P井電壓對時間之一圖表及字線電壓對時間 之一圖表° p井電壓之圖表繪示施加至P井用以抹除記憶體 〇〇 一 早7L之兩個不同抹除電壓脈衝。另一圖表繪示在用以尋找 上尾Vt之一掃描期間施加至字線之電壓。簡言之,該等圖 表綠不施加一試驗抹除脈衝後跟執行對上尾Vt之一二進制
搜索°該二進制搜索涉及向字線施加一第一讀取電壓後跟 其中基於有多少記憶體單元未能回應於該讀取電壓而接通 來進行一計數之一位元掃描作業。基於彼計數,上下調整 該讀取電壓且將其重新施加至字線。在一個實施方案中, 每一讀取花費約20微秒且每一位元掃描花費約12微秒。基 於一進制搜索之結果確定上尾乂【。基於上尾確定第二抹 除脈衝。然後將第二抹除電壓施加至記憶體單元之p井。 圖11B繪示執行對一區塊(或其他單位)中之記憶體單元 之一掃描以確定一試驗抹除之後—上尾%的一過程ιι〇〇之 個實施例。過程1100係一種用於實施圖8之步驟之技 術。下文將參照圖11A來論述過程i 1〇〇。特定而t,圖 中之下部圖表緣示在對上尾力之一二進制搜索:間施 加至字線之實例性電壓。 在步驟n〇2中’基於其中將執行該二進制搜索之一窗口 確定-第-讀取電Μ。用於該二進制搜索之窗口足夠寬以 使得預期上尾vt位於該窗口内。左 如— n在—個實施方案中,該窗 口介於0伏至4伏之範圍内。在—個 调霄施方案中,該窗口介 147409.doc •33- 201044405 於〇伏至6伏之範圍内。不需要該窗口在〇伏處開始,但該 窗口應在位於可量測Vt窗口内之一電壓處開始。舉例而 言,若使用負Vt感測,則可量測Vt窗口可低於〇伏而開 始。在圖11B中所繪示之實例中,第一讀取電壓基於介於〇 伏至4伏之範圍内之一窗口而係2伏。
在步驟1104中,向記憶體單元之字線施加一第一讀取電 壓。可同時向每一字線施加該第一讀取電壓。因此,與對 一 NAND串上之每一記憶體單元讀取一條件相反,第—讀 取意欲針對每一整個NAND串讀取一個條件。然而,不需 要同時向每一字線施加該第一讀取電壓。因此,可個別^ 讀取每一記憶體單元。
在步驟1106中,一位元掃描開始計數有多少NAND串具 有—個或多個具有高於該讀取電壓之_vt的記憶體單元: 該位元掃描確定有多少NAND串具有未能回應於該第_讀 :電壓而接通之至少一個記憶體單元。在一個實施例中, -旦達到某-計數’該位元掃描即停止。舉例而言,若上 物係基於允許31儲纏串具有—個或多個具有高於某 即的記憶體單元來定義,則-旦到達彼位準該計數 …T:串基礎上執行該計數。在圖 行該計數之週期。j、」之時間週期係指其中正達 心=執:該位元掃描之另—種技術係自'點(例如,中 轉變為:且:離彼點交替進行。該掃描繼續直至到達-。基於有多少NAND串未能接通來定義—轉變。 W409.doc -34· 201044405 作為一實例,該轉變係基於是否有31個或更少nand串未 戒接通。為圖解說明,施加以下電壓序列。 2·0 , 2.1 , 1.9 , 2.2 , 1.8 , 2.3 , 1.7 , 2.4 , 1.6 注w 母一連續電屋係在開始點之相反側上。在上述實 例中,當施加1.6伏時發生一轉變。因此,確定上尾係介 於1.6伏與1.7伏之間。作為—進—步實例,若在施加^伏 夺杳生π亥轉I,則上尾將介於2 · 3伏與2.4伏之間。注意, ❹
在此實施例中,基於對上尾可能所在位置之一預期來選擇 中心點。因此’此掃描可極為有效。 在個實施例中,「在晶片上」執行計數。因此,並不 需要將資料自記憶體晶粒212傳送至控制器244來執行計 數。藉由避免此資料傳送,可極快速地執行計數。在一個 實施例中,在晶片上所執行之計數可僅達到一有限值。舉 例而言,晶片i電路可能夠計數高達32、64或某一其他 值。在達到彼計數之後,計數器溢出。^義上尾%所根據 的計數可位料數器溢出之點處。然而,上尾柯定義為 一更小數值。 在一個實施例中,在兩個階段中執行該晶片上計數。在 第-階段中’⑨查不同_串群組。基於在一給定 NAND串群組中是否存在至少—個具有高於當前讀取電壓 之- vt的記憶體單元來為每一 NAND串群組確定】或〇之一 值。若NAND串群組計數超過極限,則掃描停止。在第二 階段中,檢查具有1之-值之群組中之每—者以確定有多 少NAND串具有具有-個或多個高於當前讀取之―^的記 147409.doc -35- 201044405 憶體單元。若計數器在第二階段期間溢出,則計數停止。 因此,若計數溢出(步驟U08),則停止位元掃描 (m〇)。否則,位元掃描繼續直至讀取所有NAND串為 止。 _ 喟·电您 < —確 定。舉例而言,參照圖11Α,施加五個讀取電壓。搜索可 使用或多或少反覆以達成一不同解析度。若在搜索窗口内 未找到上尾vt,則可擴展搜索窗口且重複過程ιι〇〇。舉例 而§,上尾vt可能高於4伏。然而,選擇步驟之試驗抹除 電壓以將上尾vt分佈置於自可量測vt窗口之開始處開始之 V範圍巾。4伏窗口應係一足夠範圍以覆蓋任一循環 =處區塊間、晶粒間、晶圓間及批間變化。若上㈣確實 落在該4 口之外,則可將該窗口擴展至(例如)6V。 若不再存在欲施加之讀取電壓,則在步驟⑴种儲存上 尾Vt。,主思,由於最後兩個讀取電壓「騎跨」上尾^,因 此所館存之值可係該最後兩個讀取電壓中之任一者或盆之 間的任一值。在—個實施例中,獲得騎跨上尾Vt之兩個值 之平均值且將其用作卜里Vt# ^ BI 毛t值。右尚未達到所需解析度, 則控制轉至步驟1116。 在步驟111 6中,做屮卜厉β _ 出上尾Vt疋鬲於還是低於最後一個讀 取電塵之一確定。太苴此_ 在某二貫苑例中,來自位元掃描之計數 將係最大值(例如,32)或小 亥取大值之某一值。在此等 貫施例中,小於32 一計 1 °r歡尨不,上尾Vt小於所施加之最 後一個讀取電壓。因t, u此減小讀取電壓(例如,自2 V減小 J47409.doc -36 - 201044405 至1 V)。在減小讀取電魔(步驟1118)之後,控制轉至步驟 1 1 04以向字線施加新的讀取電麼。 另方面,若已超過計數,則增加讀取電壓(例如,自立 V增加至1.5 V)。在增加讀取電壓之後(步驟ιΐ2〇),控制傳 至步驟11 0 4以向字線施加新的讀取電壓。 在-個實施例中,執行對上尾vt之一線性搜索。圖加 繪示針對施加至P井以抹除記憶體單元之兩個不同抹除電 壓之p井電壓及在對上尾%之一線性掃描期間施加至記憶 ❹冑單元之字線電壓。簡言之,施加試驗抹除脈衝後跟執行 對上尾Vt之一線性搜索。然後向記憶體單元之p井施加第 二抹除電壓。該線性搜索涉及向字線施加一第一讀取電壓 後跟其中對有多少NAND串具有至少一個未能回應於該讀 取電壓而接通之記憶體單元進行一計數之一位元掃描作 業。在所繪示實施例中,在確定該計數之前施加下一讀取 電麗。增加讀取電壓直至找到上尾Vt為止。 ◎ 圖11D繪示執行對一區塊中之記憶體單元之一掃描以確 定—試驗抹除之後一上尾Vt之一過程118〇之一個實施例。 該過程係一種用於實施圖8之步驟8〇6之技術。將參照圖 • 11C來論述圖11 d。 • 在步驟1182中,向記憶體單元之字線施加一讀取電壓。 可同時向每一字線施加第一讀取電壓。因此,與對一 NAND串上之每一記憶體單元讀取一條件相反,第一讀取 意欲針對每一整個NAND串讀取一個條件。然而,不需要 同時向每一字線施加該第一讀取電壓。因此,可個別地讀 147409.doc -37- 201044405 取每一記憶體單元。 … 84中,開始基於第—讀取之結果的一位元掃 ' 開始對具有一個或多個具有高於該讀取電壓之 一 vt的記㈣單元之臓D串數目之計數。注意,可在該 計數繼續之同昧& Λ ^ ^ 旦 時施加下一讀取電壓,此乃因下一讀取電壓 之量值並不相依於該計數。此缚示於圖11C中,其中將第 一位元掃料示為在第二讀取期間發生。在過程1180期 間此在步驟1192中繪示為將讀取電壓增加步長大小且返 回至步驟⑽。在步驟⑽中,位元掃描完成。若對 NAND串之計數達到某一位準,則位元掃描停止。舉例而 言,若發現31個副0串具有一具有高於讀取電壓之—^ 的5己憶體單元,則停止位元掃描。 在步驟1188巾,做㈣於是否已輯需解析度找到上尾
Vt之-確定。參照圖11C,最初讀取電壓位於窗口之下端 處。因此,預期在第一讀取時將達到最大計數。亦即,預 期上尾Vt高於第-讀取電壓。當讀取電麼大於上尾^時, 將達不到該計數,從而指示上尾vt係介於此讀取與先前讀 取之間。若需要-更大解析度’則選擇最後兩個讀取電壓
之間的某-讀取電壓且控制轉至步驟1182以施加新的讀取 電壓。 D 否則,在步驟1190甲,基於最後兩個讀取電壓確定—上 尾電壓。此外’由於可在位元掃描開始時開始一新的讀 取,因此可_止最後一個讀取。 圖12A繪示施加至記憶體單元之抹除脈衝與施加至記憶 147409.doc •38- 201044405 Ο 〇 體單元用以收集資料以確定第二抹除脈衝之一適合量值之 明取電歷之間的時序關係之_個實施例。首先,向欲抹除 之:?!·意體單TL之Ρ井施加—試驗抹除脈衝。然後,向記憶 體單7L之予線施加—第―讀取電壓及ϋ取電壓。在 施加讀取電壓之後’將來自該讀取之資料發送至控 制^ 244。控制器244確定對具有至少—個具有與讀取電壓 至少一樣高之一 Vt的記憶體單元之NAND串之一第一計數 及一第二計數。基於該等計數,控制器244確定一第二抹 除脈衝之量值。在此實施例中’基於抹除臨限值分佈之預 期統什確定上尾Vt。在—個實施例中,基於—經修改韋伯 (Wfull)函數來敎上尾力,如下文所論述。注意,在控 制态244確定第二抹除脈衝之最終量值應係如何之前開始 抹除脈衝。然而’時序係如此以使得控制器244能夠 在足夠時間内將第二抹除電壓提供至晶片上電路(例如, 狀態機222)以防止第二抹除脈衝過分斜升。 圖12B緣示將讀取電壓施加至記憶體單元且確定第二抹 除電壓之-過程謂之-個實施例。將參照圖Μ來論述 過程1200。在步驟12〇2中,向記憶體單元之字線施加一第 •讀取電壓。參照圖12八,實例性第一讀取電壓係〇伏。可 ^時向每—字線施加該第一讀取電壓以確定每一?^八!^3串 疋否具有至少一個具有高於讀取電壓之_vt的記憶體單 元。將來自讀取該等NAND串之結果儲存於一第__組資料 鎖:器中。在一個實施方案中,第一讀取花費約2峨秒。 注意,若需要’則可讀取一NAND串上之個別記憶體單 147409.doc •39- 201044405 7L· 在v驟1204中,使第一讀取之結果開始串流化輸出至控 制器244。在一個實施例中,針對多達每一 nane^,將一 「1」或一「〇」自記憶體晶粒212串流化至控制器244。然 而,不需要提供每一 NAND串之結果。舉例而言,某些記 憶體裝置具有極大數目個NAND串。在某些實施方案中, 可存在75,_個NAND串或甚至更多。為執行對第:抹除 電壓之-精確確定,控制244衫f要來自所朴編串 之資料。因此,在一個實施例中,輸出來自NAND串之一 子組的資料。 在步驟副中,向記憶體單元之字線施加—第二讀取電 壓。注意’可在完成將第-讀取之結果發送至控制器冰 之步驟1204之前施加該第二讀取電壓。將來自該第二讀取 之結果儲存於一第二組資料鎖存器中。參照圖】 :資料:流化至控制器-所花費之時間長度與執行 °賣取所花費之時間相比可相對長。 在步驟譲中,在第二讀取完成之後開 ^之斜升。不需要«二讀取完成之後立即開Μ抹= 脈衝。注意’甚至在完成將第—讀取之結果除 244之前開始第二抹除脈衝。在-個實施方宰中、,=器 出致使抹除脈_始朝向1設電壓斜和狀態機 電壓以使得其不會太高而過度抹除記憶體亥預設 過程测中停止此抹除脈衝。在—個實施例中。:稍後在 衝具有一受控上升時間以為確定第二抹除電壓提:::: 147409.doc 201044405 間。一實例性上升時間係1 v/4〇微秒。因此,使抹除脈衝 上升至10 V將花費約400微秒。 在步驟1210中’將由施加第二讀取電壓所產生之結果提 供至控制器244。如圖中所繪示,不將來自第二讀取之 結果發送至控制器244直至已完全發送來自第一讀取之結 果之後。此序列係為了方便起見且並非係一要求。作為一 替代方案,可在仍正發送第一結果之同時將來自第二讀取 之結果發送至控制器244。 〇 在步驟1212中,控制器244基於來自第一讀取及第二讀 取之貝料確定第二抹除電壓。控制器244基於試驗抹除之 後的抹除臨限值分佈之預期統計特性確定第二抹除電壓。 在一個實施例中,控制器244執行一表查找以確定第二抹 除電壓。可基於對記憶體裝置所執行之測試來構造該表。 在個實施例中,控制器244使用讀取計數來求出閣述試 f抹除之後的抹除分佈之形狀的—方程式(例如,經修改 ❹章伯方程式)中之-個或多個未知數。在識別經修改韋伯 方程式中之未知數之後’基於經修改韋伯方程式確定上尾 仕一 實施方案中,對記憶體裝置執行測試以確定將: !抹除Vt分佈之至少上部之預期形狀之一數學模型。 :’該數學模型可不闡述整個分佈之形狀。在本實例中 於預期分佈之下部係起伏的,因 J囚此该數學模型可不闡: ^然而’在預期針對其該數學模型係有效之電壓下: 讀取及第二讀取。作為一實例,可預期分佈之上— H7409.doc -41 - 201044405 之形狀具有一高斯分佈。下部之形狀可不係高斯分佈。此 外’由於分佈之顛簸性(bumpiness),可難精下部進行建 模。然而,不對預期針對其不會保持該模塑之部分執行日 測。 注意,該數學模型可闡述抹除分佈之整個形狀,而非僅 闡述上β。可用於闡述抹除分佈之整個形狀之—種類型之 數學模型係--般化極值分佈。—種類型之—般化極值分 Ο 佈係-韋伯函數。以下在方程式4At顯示—經修改常伯函 數之累積分佈函數(cdf)之一方程式。 ~~λ 方程式4Α 在上述經修改韋伯方程式中,U係單位階躍函數,使本 對於C0係U(X)=1,且對於X<(HSU(X) = 0。因此,該經修泛 韋伯cdf對於ax+b<0係零。在一個實施例中,變數X係字截 電壓。變數X亦可表示如自字線所量測的單元之臨限電属 VT。在方程式4A中’ k係一形狀參數(對於k>〇),且人係一
尺度參數(對於λ>0)。變數「a」亦係一尺度參數,且「匕 係使分佈沿X軸移位之一移位參數。 可藉由工程表徵來確定之適合值,為簡化該確定, 可在不失一般性之情形下將λ之值設定為i。在此情形下, λ不影響該經修改韋伯cdf之尺度。然而,可賦予1除丨以外 的一值。由於λ之任一變化等效於a&b之一變化,因此將 參數「a」及「b」引入至韋伯分佈中使得人冗餘。舉例而 言,a=5、b=10且λ=1與a=2、b=20且λ=2產生完全相同分 147409.doc •42- 201044405 佈。λ之任一變化可插進於一對&及b之變化中β因此,在 不失一般性之情形下方程式4Α可重寫為: 方程式4Β F(x,k,atb) = -exp(-(ar + b)k)\ Μ. f ax+b > 〇 讀取電麼gX2下之兩個讀取作業將產生正規化計數 Ο
及F2=F(X--X2) ’丨等係藉由以下方式而獲得: 將被偵測係分別處於字線電“及心下之單元之數目除以 正抹除之區塊之-所選字線上之單元之總數目 用以下程序來找出a&b: 重新配置上述方程式之各項: exp((-K+6)*)=[i_F1(xl)] exp“气卟考,)] 對兩邊取自然對數: ((如1 +疗)’ _执)](H叫+外Mi-啡2)] 或: (ax^by^-Hl-FM] ^+1>ϊ-Ιη[1-ρΛχ^ 再次對兩邊取自然對數: 將兩邊除以k且對兩邊取指數: 一 +6)=ln 严A]:。 J !& j = C2 147409.doc • 43· 201044405 由於FeFO^x,)、F2=F(x=X2)ak已知,因此易於使用上 述表達式獲得〇1及Ο,且然後使用以下兩個方程式來獲得 「a」及「b」: 又于 注意,以上假定k之一固定值,此使計算簡化。k之值未 必係一常數;然而,基於工程分析,可為k確定—給定技 術之一適合常數。k之值可係記憶體裝置技術之特性。舉 例而言,k可係記憶體單元性質(例如實體大小及其他物^ 性質)之一函數。因此,k之值未必在經製作具有相同記憶 體陣列設計之記憶體裝置之中顯著變化。k之一實例性值 係4.6,然而,k可具有另一值。可以實驗方式確定用於一 給定記憶體陣列設計之一適合值。舉例而言,在抹除 記憶體單元之後收集臨限電壓分佈資料。然後,使用方程 式4B作為一擬合函數,同時求出a、b&k之值以最佳化所 收集資料與方程式4B之間的擬合。可使用不同抹除電壓基 於若干組資料來執行該擬合。此外,可針對不同字線以及 針對已經歷不同數目個程式化/抹除循環之記憶體單元來 收集不同資料。因此,該等結果產生让之多個值。然後, 基於該等結果,為k選擇一常數。在為k選擇一常數之後, 可藉由保持k常數且使方程式4B與所收集資料擬合時僅針 對a及b進行最佳化來驗證其適合性。若需要,則可為乂選 擇另一常數值且使用方程式4B再次僅最佳化a&b。在實踐 中可使用產生擬合函數(方程式43)與實際資料之間的最低 147409.doc • 44 - 201044405 均方根(RMS)誤差之k值。 上述擬合過程亦將針對每一組所收集資料產生「a」及 「b」之值。然而,在實踐中並不使用「&」及「、之彼 等值。而係,在實踐中可基於來自如上文所闡述之第一讀 取及第二讀取之資料來確定「a」&「b」之值。舉例而 5,在一初始抹除脈衝之後,在兩個不同讀取電壓下執行 兩個讀取。作為一實例,在施加至屬於正抹除之區塊之— 資料頁上之單元之子線的Χι=〇 乂及丨V下執行該等讀 Ο 取。對於每-讀取,確定對回應於該讀取而接通之記憶體 單元之數目的一計數。一旦藉由將每一所量測計數除以正 讀取之單元數目而正規化,此等計數即變為Fi=F(x=^)、 F2=F(X=X2),且用於基於上述公式來確定「a」及「b」。 在-個實施例中,即時執行此計算。然而,可使用一表驅 動方法。 -旦確定「a」及「b」之值,即可依據經修改韋伯函數 ❹直接確疋上尾Vt(使用k之一適合值)。亦即,將上尾vt定義 為位於f伯他之上端上之某—位置處。如上文所論述, 可基於試驗抹除脈衝之量值及上尾Vt來確定第二抹除脈衝 之一適合量值。 注意,精確地求出經修改之韋伯函數中之未知數(aD) 之能力將受在抹除分佈上之何處進行兩個樣本讀取之影 a在1固實施你j中,在預期名十對第一讀取及第二讀取分 別‘致、,·勺30/〇之§己憶體單元及約6〇%之記憶體單元接通之 4取電壓下執行第—讀取及第二讀取。然而,可以不同百 147409.doc -45- 201044405 =n若該兩個讀取中之—者或兩者具有指示與此 標之一實質差異之值,則可執行-個或多個額外讀 取。舉例而言’若第-讀取及第二讀取係在0 V及1 V下, :兩者皆導致一小百分比之記憶體單元接通,則可在更高 °賣取電壓下執行一個或多個額外讀取。 右》亥等取並未發生於抹除分佈上之適合位置處,則另 一選項係執行比試驗脈衝強之—抹除脈衝以將抹除分佈推 車又低電壓刀佈且然後在相同(或不同)電壓下重複該等 η賣取轉回參照圖12Α中所緣示之實施例,由於第二抹除 脈衝係在控制器接收來自第—讀取及第二讀取之所有資料 之則開始’因此對第二抹除電壓(即在其下停止抹除脈衝 之電壓)之控制器計算經設計以使抹除分佈移位以使得可 收集較佳資料用於依據經修改韋伯函數確定上尾Vt。然 後,控制器致使對新的抹除分佈執行額外讀取。亦可使用 除經修改韋伯函數以外的其他類型之一般化極值分佈。 在一個實施例中,所開發之模型具有兩個未知數。使用 係基於來自第一讀取及第二讀取之資料之值(Ml,M2)來 確定該兩個未知數。作為一實例,該兩個未知數可係平均 值及標準偏差。可基於Ml及M2使用具有以下通式之方程 式5及方知式6來確定該等未知數。 平均值=F(M1,M2) 方程式5 標準偏差=G(M1,M2) 方程式6 因此’基於自第一讀取及第二讀取導出之資訊,可確定 該兩個未知數。依據該平均值及標準偏差,可確定上尾 147409.doc •46- 201044405
Vt 注意,如在具有經修改韋伯方程式之實例中 制器244確定兩個未知數。舉例而一 不茜要控 任何讀取之情形下預測該標準偏 °預期可在不執行 憶體裝置所執行之測試及該標準 f係基於對冗 除至下-試驗抹除顯著不同之 自—個試驗抹 版定。亦注立,— 定係相對於例如該標準偏差之— /思,右此—假 禾知數而做出,則可A认 一皁個讀取確定上尾因此, 基於 Ο ❹ 求。 钒仃兩個續取並非係—要 注意,指示極少NAND串且右;5 ,丨、, 有至少—個具有高於第二婧 取電壓之一 Vt的記憶體單元之一第— 3賣 取曾在高於上尾Vt進行過。在一個實施例中’若^二
取看似已在高於上尾Vt而進行,則忽略該第二讀取。;Z :較低電麼下進行-新讀取或者控制器冰可基於—單個 碩取破定第二抹除電壓。 可發生以下情形:用於確定該等未知數之方程式相當複 雜。因此’並非使控制器244求出該等未知數,而是在一 個實施例巾控制244執行—表錢。可藉由針對⑷及⑽ 之不同組合執行上述計算來構造該表。在 中,在不導出用於求出該等未知數之方程式之情:= 一表。舉例而言,可基於根據經驗收集之資料來構造該 表。 在確定上尾Vt之後,控制器244確定第二抹除電壓之一 適合量值。以上方程式1及方程式2闡述一種用於控制器確 147409.doc -47- 201044405 定第一抹除電壓之技術。在步驟丨214中,控制器244給狀 態機222提供第二抹除電壓之最終量值。在一個實施例 中’控制器244提供欲輸入至控制抹除脈衝之量值之一 DAC的一值。在步驟1216中,狀態機222致使抹除脈衝在 第二抹除之量值處停止。在一個實施方案中,狀態機222 將一命令發送至記憶體陣列以修改抹除脈衝。在一個實施 例中,控制器244與記憶體晶粒212係在相同晶片上。因 此’讀取資料至控制器244之通信係在晶片上。 圖13係闡述用於驗證記憶體單元已被抹除之一過程13〇〇 之一流程圖。在—個實施例中’在過程8〇〇之步驟8 1〇與步 驟812之間使用圖13之過程13〇〇。在步驟13〇2中向記憶 體單元把加組抹除驗證條件。在一個實施方案中,採用 源極隨耦器感測。步驟1302包含將位元線放電至接地,此 可藉由接通汲極側選擇閘極(SGD)來達成。然後,向共同 源極線施加-高於零之電壓(例如,2 2 v)且向字線施加某 一電壓(例如’ Q V)。電荷在-給定NAND串之位元線上積 累直至體效應關斷該NAND串中之至少一個記憶體單元為 止。 在步驟1304中,感測NAND串中之每一者以確 NAND串上之阱士 Α 疋0χ 所有記憶體單元是否已被充分抹除。在等待 預疋時間週期供電荷在位元線上積累之後執行步驟 13 04。在 t 貫轭方案中’將一給定位元線上之電壓盥一 參考值進行tl·*私; 丁比較以確定對應NAND串上之記憶體單 任一者是石 τ ^ /、有高於目標值之一 Vt。目標值可係—負值。 147409.doc -48- 201044405 在某些實施方案中’將記憶體單元抹除至多達-3 V。 在個實施例中’若债測到一 ΝΑΝ〇串上之記憶體單元 中每者之Vt已達到目標位準,則儲存於對應資料鎖存器 中之資料改變為-邏輯Γ1」。若偵測到該NAND串具有至 ν個具有尚未達到適當目標位準之一 vt的記憶體單元, 則儲存於對應資料鎖存器中之資料不改變。 在步驟1306中’做出關於是否足夠NAND串已通過抹除 驗證之-確定。在一個實施方案中,允許—定數目個 O NAND争未通過抹除驗證。舉例而言,假如少於32個 NAND串未通過抹除驗證,則整個抹除驗證通過。若抹除 通過,則控制轉至步驟812。 在步驟13 G6處’ ^•確定抹除驗證未通過,則在步驟 中增加抹除電壓。可將抹除電壓增加任一所需量,例如 〇·2 V 〇·5 V、U 乂等。在步驟1312中施加新的抹除電 壓 '然後,再次執行步驟13〇2。注意,可不藉助源極隨柄 ©器技術執行抹除驗證。 圖14係闡述用於驗證記憶體單元之軟程式化之一過程 1400之一流程圖。在一個實施例中,在過程8〇〇之步驟Μ# 之後使用圖14之過程1400。在步驟14〇2中,向記憶體單元 施加一組軟程式化驗證條件。在一個實施方案中,採用源 極隨耦感測。 在步驟1404中,感測NAND串中之每一者以確定有多少 NAND串具有低於一分界電流之一傳導電流。具有一低傳 導電流指示,已過度軟程式化NAND串。如Μ所論述, 147409.doc -49- 201044405 軟程式化意欲向上輕推具有最低vt 致#蔣々柃贼-_ u丨心體早兀之vt而不 可係抹除目標位準。然而,該位二= =準 無需源極隨耦器技術來驗證負vt。因此 二::應停止之技術係測試有多少咖”具有至少 於某:位準之—vt的記憶體單元。可使用其他 電二在時卜止軟程式化。在等待—預定時間週期供 ^了在位元線上積累之後執行步驟_。在-個實施方案 中,將位元線上之電壓與一參考值進行比較以確定是否已 過分地程式化NAND串中之任一者。 在步驟U06中’基於步驟14〇4之結果做出是否停止軟程 式化之一確定。舉例而言’做出關於有多少NAND串且有 低於-分界電流之一傳導電流之一確定。若太多_串 具有一低傳導電流’則軟程式化應停止。若軟程式化應停 止’則過程1400完成。 在步驟1406處,若確定需要進一步軟程式化,則在步驟 1410中增加軟程式化電壓。可將軟程式化電壓增加任一所 需量,例如0.1 V、0_2 V等。在步驟1412中施加新的軟程 式化電壓。然後,再次執行步驟丨4〇2 ^ ’ 軟程式化過程1400係闡述為程式化區塊中之每— nand 串直至該過程完成為止。然而,不需要每一 nand串在整 個過程中繼續接受程式化Q在—個實施例中,每當已充分 程式化一給定NAND串時,將其鎖定以免進一步程式化。 上述實例係相對於NAND型快閃記憶體而提供。然而, 147409.doc •50· 201044405 本發明之原理亦應用於其他類型之非揮發性記憶體,包含 彼等當前存在的非揮發性記憶體及彼等預期使用正開發之 新技術之非揮發性記憶體。 出於圖解說明及闡述之目的,上文已呈現本發明之詳細 闡述。本文不意欲包羅無遺或將本發明限制於所揭示之精 確形式。根據上文之教示内容可做出諸多修改及變化。選 擇所闡述之實施例旨在最好地解釋本發明之原理及其實際 應用,以藉此使熟習此項技術者能夠在各種實施例中並藉 ° 助適合於所涵蓋之特定使用之各種修改更好地利用本^ 明。本發明之範疇意欲由本文之隨附申請專利範圍來界 定。 【圖式簡單說明】 圖1係一NAND串之一俯視圖。 圖2係該NAND串之一等效電路圖。 圖3係一非揮發性記憶體系統之一方塊圖。 0 圖係續'示s己憶體陣列之一個實施例之一方塊圖。 圖5係繪不一感測區塊之—個實施例之一方塊圖。 圖6A繪示—組實例性Vt分佈。 圖6B繪示一組實例性Vt分佈。 圖7係闡述用於抹除及程式化記憶體單元之一過程之一 個實施例之一流程圖。 圖8繪示抹除記憶體單元之—個實施例。 圖9A緣示在施加—程式化脈衝之前記憶體單元之四個^ 分佈之一圖表。 147409.doc -51 - 201044405 圖9B繪示施加一程式化脈衝之後的一 Vt分佈之圖 圖9 C繒·示一試驗抹除之後的一抹除臨限值分佈。 圖10A繪示資料狀態之一隨機化分佈之—實例。 圖10B繪不一 s式驗抹除之後的—實例性vt分佈 圖11A繪示P井電壓對時間之一圖表及字線電壓對時間 之一圖表。 圖11B繪示執行對一區塊(或其他單位)十之記憶體單元 之一掃描以確定一試驗抹除之後一上尾%之—過程之—個 實施例。 圖11C繪示針對施加至P井以抹除記憶體單元之兩個不同 抹除電壓之P井電壓對時間之一圖表及字線電壓對時間之 一^圖表。 圖11D繪示執行對一區塊中之記憶體單元之一掃描以確 疋一減驗抹除之後一上尾Vt之一過程之一個實施例。 圖12 A緣不施加至記憶體單元之抹除脈衝與施加至記憶 體單元以校正資料以確定一第二抹除脈衝之一適合量值之 讀取電壓之間的時序關係之一個實施例。 圖12B綠示將讀取電壓施加至記憶體單元且確定一第二 抹除電壓之一過程之一個實施例。 圖13係闡述用於驗證記憶體單元已被抹除之一過程之一 流程圖。 圖14係闡述用於驗證記憶體單元之軟程式化之一過程之 一流程圖。 【主要元件符號說明】 147409.doc -52· 201044405 100 電晶體 100CG 控制閘極 100FG 浮動閘極 102 電晶體 102CG 控制閘極 102FG 浮動閘極 104 電晶體 104CG 控制閘極 O 104FG 浮動閘極 106 電晶體 106CG 控制閘極 106FG 浮動閘極 120 選擇閘極 122 選擇閘極 126 位元線觸點 128 源極線 〇 200 記憶體陣列 210 非揮發性儲存裝置 212 記憶體晶粒 220 控制電路 222 狀態機 224 晶片上位址解碼器 226 功率控制模組 230B 讀取/寫入電路 147409.doc -53- 201044405 230A 232 234 240A 240B 242A 242B 244 300 420 470 472 480 482 490 492 493 494 496 SGD SGS WLO WL1 WL2 WL3 讀取/寫入電路 線 線 列解碼器 列解碼器 行解碼器 行解碼器 控制器 感測區塊 貢料匯流排 感測電路 匯流排 感測模組 位元線鎖存器 共同部分 處理器 輸入線 資料鎖存器 I/O介面 選擇線 選擇線 字線 字線 字線 字線 147409.doc -54-

Claims (1)

  1. 201044405 七、申請專利範圍: 該方法包 1. -種用於操作一非揮發性儲存裝置之方法 括: 使二第一抹除電磨執行對—群組之非揮發性儲存元 件之帛&除,該等非揮發性儲存元件由於該第一抹 除而具有一臨限電壓分佈; 確定該臨限電壓分佈内之—參考電壓; ❹ 土於該第抹除電壓及該參考電壓確定一第二抹除電 壓;及 使用該第二抹除電塵執行對該群組之非揮發性错存元 件之一第二抹除。 2. 如請求項1之方法’其進一步包括: 程式化該群組之非揮發性儲存元件以使得大體上所有 该專非揮發性儲存元件具有至少某一臨限電塵在執行 該第一抹除之前執行該程式化。 Ο 如請求们之方法’其中該群組之非揮發性儲存元件包 含複數個NAND串且其中允許一定數目個該等ν娜串具 有至少-個具有大於該參考電麼之—臨限電壓的非揮發 性儲存元件且其中確定上尾上之-電壓包含: 確定—第-電星,在該第一電麼下大約該一定數目個 该專NAND串具有至少一個具有大於該第_電墨之一臨 限電壓的記憶體單元。 4.如請求们之方法,其尹該確定一參考電應包含: 向該等非揮發性儲存元件之控制閘極施加一第一電 I47409.doc 201044405 壓; 確定係基於有多少該等非揮發性儲存元件未能回應於 該施加該第一電壓而接通之一第一計數; 向該等非揮發性儲存元件之控制閘極施加一第二電 壓; 確定係基於有多少該等非揮發性儲存元件未能回應於 該施加該第二電壓而接通之一第二計數;及 基於該第一計數及該第二計數確定該臨限電壓分佈之 該上尾上之該電壓。 5.如5青求項4之方法,JL中續破定兮会土% 八甲这確疋°玄參考電壓係基於該第 一抹除之後的該臨限電壓分佈之預期統計特性。 6 ·如凊求項1之方法’其進一步包括: 基於該第二抹除電壓確定一軟程式化電壓;及 施該第"抹除之後向該群組之非揮發性儲存元件 施加该軟程式化電壓。 7 ·如"《求項1之方法,i中該使用#笛 〃宁使帛忒第二抹除電壓執行對 ^、、且之非揮發性儲存元件之一第二抹除包含· 在確定該第二抹除電壓之前 . 斜升。 别向忒弟一抹除電壓 8·如凊求項i之方法,其中該第—抹除 使該臨限㈣分饰之至少一部分一技…致 -可量測臨限電壓窗口内。 μ弟-抹除之後位於 9·如請求項丨之方法,复 步基於預期1Φ " 第二抹除電壓係進— 參考電壓每該第—抹除電壓之單位量值増 147409.doc 201044405 加移位多遠。 該方法包 爪-種用於操作_非揮發性儲存裝置之方法 括: 狂 匕非禪發性儲存元件之複數個NAND串以使得大 ^所有該等非揮發性儲存元件具有至少某—臨限電 使用-第-抹除電麼抹除非揮發性儲存元件之該 個NAND串; 纟使用該第-抹除電壓進行抹除之後確定非揮發性儲 存兀件之該複數個之一臨限電壓分佈之一上尾 上之一電壓; 基於該第一抹除電壓及該上尾上之該電壓確定一第二 抹除電壓;及 使用忒第一抹除電壓抹除非揮發性儲存元件之該複數 個NAND串。 n.如π求項10之方法,其中該確定該上尾上之一電壓包 含: 、向非揮發性儲存元件之該串之控制閘極施加 複數個讀取電壓,該複數個讀取電壓彼此不同; 針對该等讀取電壓中之每一者儲存一計數,該計數係 基於有多少該等N A N D串具有至少一個未能回應於施加 該等磺取電壓中之一者而接通之非揮發性儲存元件,每 一計數與該等讀取電壓中之一者相關聯; 基於有多少非揮發性儲存元件之該等NAND串被允許 147409.doc 201044405 上之6亥電壓的一臨限電壓 叶數t之一者或多者;及 之該等讀取電壓確定該上 具有至少一個具有高於該上尾 之非揮發性儲存元件來選擇該等 基於與該等選定計數相關聯 尾上之該電壓。 12. 13. 如請求項U之方法,其中該針對該㈣取電壓之-特定 讀取電壓儲存該計數包含: 一旦與該特定讀取電壓相關聯之該計數超過某一值, 即忽略該等NAND串中之任何額外NAND串是否具有至少 —個未能回應於施加該特㈣取電壓而接通之非揮發性 儲存件。 如請求項10之方法,其中該確定該上尾上之_電壓包 含: 向非揮發性儲存元件之該複數個NAND串之控制閘極 施加一第一讀取電壓; 感測一組該複數個NAND串上之第一信號,該感測係 回應於該施加一第一讀取電壓; 向非揮發性儲存元件之該等NAND串之該等控制閘極 知加一第二讀取電壓’該第二讀取電壓不同於該第一讀 取電壓; 回應於該施加一第二讀取電壓感測該組NAND串上之 第二信號;及 基於該等第一信號、該等第二信號及該第一抹除之後 的該臨限電壓分佈之預期統計特性確定該上尾上之該電 壓。 147409.doc 201044405 14.如請求項Η)之方法,其中該第—抹除之後的該臨限電壓 分佈係-第—臨限電壓分佈且非揮發性儲存元件之該複 數個NAND串具有該第二抹除之後的一第二臨限電壓分 佈且該方法進一步包括: 基於该第二抹除電壓確定—程式化電壓;及 藉由在執行該第二抹除之後向非揮發性儲存元件之該 等NAND串之控制閘極施加該程式化電壓來壓縮該第二 6¾限電壓分佈。 〇 15.-種用於操作-非揮發性儲存裝置之方法,該方法包 括: 預凋知群組之非揮發性儲存元件以促進確定與該群 組之非揮發性儲存元件在抹除該群組之非揮發性儲存元 件之後將具有的—抹除臨限值分佈之一上尾相關聯之一 臨限電壓; 將該群組之非揮發性儲存元件抹除為具有該上尾之該 Q 抹除臨限值刀佈’在該程式化之後使用-第-抹除電壓 執行該抹除; 疋/、該抹除Ss限值分佈之該上尾相關聯之該臨限電 壓; 基於該第一抹除電壓及與該上尾相關聯之該臨限電壓 確定一第二抹除電壓;及 使用該第-& Π/ν e 乐一抹除電壓抹除該群組之非揮發性儲存元 件。 16 ·如清求項15夕士、+ 万法’其中該預調節一群組之非揮發性儲 147409.doc 201044405 存元件包含: 同時向該等非揮發性儲存元件中之每一者施加一裎式 化電壓以致使大體上所有該等非揮發性儲存元件具有至 少某-臨限電壓,該某一臨限電壓大於施加至該等非揮 發性儲存元件以確定與該抹除臨限值分佈之該上尾相關 聯之該臨限電壓的電壓。 17. 如明求項15之方法,其中該預調節促進對與該抹除臨限 值分佈之該上尾相關聯之該臨限電壓之精確量測。 18. 如叫求項15之方法’其中與該抹除臨限值分佈之該上尾 相關聯之該臨限電壓係在一可量測電壓臨限值窗口内。 上月求項1 5之H其巾該確定與該抹除臨限值分佈之 該上尾相關聯之該臨限電壓包含: f定係基於有多少該等非揮發性儲存元件未能回應於 一弟一讀取電壓而接通之一第一計數; 一確定係基於有多少該等非揮發性儲存元件未能回應於 弟一讀取電壓而接通之一第二計數;及 :據該[計數及該第:計數特以確定與該抹除臨 限值分佈之該上尾相關聯之該臨限電壓。 2求項15之方法,其中該確第二抹除電壓係進一 預期與該抹除臨限值分佈之該上尾相關聯之該臨 電壓母該第—抹除電壓之單位量值增加移位多少。 如明求項20之方法,其進一步包括動態地確定一參數, ==預期與該抹除臨限值分佈之該上尾相關聯之 二…纟母该第一抹除電壓之單位量值增加移位多 147409.doc
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI690929B (zh) * 2019-04-11 2020-04-11 點序科技股份有限公司 記憶體裝置及其讀取參考電壓的調整方法
TWI760924B (zh) * 2019-12-03 2022-04-11 美商美光科技公司 用於存取記憶體單元之方法及系統

Families Citing this family (43)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5057417B2 (ja) 2005-05-30 2012-10-24 ルネサスエレクトロニクス株式会社 液晶表示駆動用半導体集積回路
US8407564B2 (en) * 2009-07-15 2013-03-26 Intel Corporation Prediction and cancellation of systematic noise sources in non-volatile memory
US8199579B2 (en) 2009-09-16 2012-06-12 Kabushiki Kaisha Toshiba Nonvolatile semiconductor memory device
US8259499B2 (en) * 2010-06-29 2012-09-04 Macronix International Co., Ltd. Method and apparatus of performing an erase operation on a memory integrated circuit
US8559231B2 (en) 2011-03-08 2013-10-15 Micron Technology, Inc. Sense operation in a stacked memory array device
JP5649560B2 (ja) * 2011-12-27 2015-01-07 株式会社東芝 不揮発性半導体記憶装置
US8724388B2 (en) * 2012-04-02 2014-05-13 Spansion Llc Adaptively programming or erasing flash memory blocks
US20130314995A1 (en) 2012-05-24 2013-11-28 Deepanshu Dutta Controlling Dummy Word Line Bias During Erase In Non-Volatile Memory
US8787088B2 (en) * 2012-06-29 2014-07-22 Sandisk Technologies Inc. Optimized erase operation for non-volatile memory with partially programmed block
JP2014038670A (ja) 2012-08-13 2014-02-27 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置
EP2965319B1 (en) * 2013-03-04 2017-04-19 SanDisk Technologies LLC Dynamic erase depth for improved endurance of non-volatile memory
CN104051012B (zh) * 2013-03-15 2017-05-17 北京兆易创新科技股份有限公司 一种存储器擦除的方法和装置
US9483397B2 (en) * 2013-07-16 2016-11-01 Intel Corporation Erase management in memory systems
US8891308B1 (en) 2013-09-11 2014-11-18 Sandisk Technologies Inc. Dynamic erase voltage step size selection for 3D non-volatile memory
CN104810057B (zh) * 2014-01-27 2019-05-24 华邦电子股份有限公司 闪存存储器装置及闪存存储器的抹除方法
JP2015176628A (ja) * 2014-03-17 2015-10-05 株式会社東芝 半導体記憶装置及びメモリコントローラ
KR102358463B1 (ko) 2014-10-20 2022-02-07 삼성전자주식회사 불휘발성 메모리 장치의 동작 방법
US9552885B2 (en) 2014-12-10 2017-01-24 Sandisk Technologies Llc Partial block erase for open block reading in non-volatile memory
US9543023B2 (en) 2015-01-23 2017-01-10 Sandisk Technologies Llc Partial block erase for block programming in non-volatile memory
KR20160112450A (ko) * 2015-03-19 2016-09-28 에스케이하이닉스 주식회사 불휘발성 메모리 장치, 그것의 동작 방법, 및 그것을 포함하는 테스트 시스템
JP6088602B2 (ja) * 2015-08-12 2017-03-01 ウィンボンド エレクトロニクス コーポレーション 不揮発性半導体記憶装置
US9715924B2 (en) 2015-10-22 2017-07-25 Sandisk Technologies Llc Three dimensional non-volatile memory with current sensing programming status
KR102377469B1 (ko) * 2015-11-02 2022-03-23 삼성전자주식회사 불휘발성 메모리 장치, 불휘발성 메모리 장치를 포함하는 스토리지 장치 및 불휘발성 메모리 장치의 동작 방법
KR102372828B1 (ko) * 2015-12-30 2022-03-14 에스케이하이닉스 주식회사 불휘발성 메모리 장치 및 그것을 포함하는 데이터 저장 장치
CN106326780B (zh) * 2016-08-18 2019-05-17 佛山中科芯蔚科技有限公司 一种物理芯片指纹生成方法及系统
US10074440B2 (en) 2016-10-28 2018-09-11 Sandisk Technologies Llc Erase for partially programmed blocks in non-volatile memory
JP6662323B2 (ja) * 2017-02-15 2020-03-11 株式会社デンソー 不揮発性半導体記憶装置のデータ消去装置および不揮発性半導体記憶装置の製造方法
KR20190040604A (ko) * 2017-10-11 2019-04-19 에스케이하이닉스 주식회사 메모리 시스템 및 메모리 시스템의 동작 방법
US10366763B2 (en) 2017-10-31 2019-07-30 Micron Technology, Inc. Block read count voltage adjustment
US10990466B2 (en) * 2018-06-20 2021-04-27 Micron Technology, Inc. Memory sub-system with dynamic calibration using component-based function(s)
US11099781B2 (en) * 2018-07-19 2021-08-24 Silicon Motion, Inc. Flash memory controller, flash memory module and associated electronic device
WO2020132848A1 (en) * 2018-12-25 2020-07-02 Intel Corporation Reduced‐pass erase verify for nonvolatile storage media
US10665303B1 (en) * 2019-05-10 2020-05-26 Macronix International Co., Ltd. Erasing blocks with few programmed pages
EP3942554B1 (en) * 2020-05-29 2024-01-10 Yangtze Memory Technologies Co., Ltd. Method and apparatus for data erase in memory devices
US11929124B2 (en) * 2020-11-11 2024-03-12 Micron Technology, Inc. Method and system for accessing memory cells
US11568943B2 (en) 2020-11-24 2023-01-31 Sandisk Technologies Llc Memory apparatus and method of operation using zero pulse smart verify
US11342035B1 (en) 2020-11-24 2022-05-24 Sandisk Technologies Llc Memory apparatus and method of operation using one pulse smart verify
US11355198B1 (en) 2021-01-19 2022-06-07 Sandisk Technologies Llc Smart erase scheme
US11437110B1 (en) 2021-03-25 2022-09-06 Sandisk Technologies Llc Erase tail comparator scheme
US11514991B1 (en) 2021-05-04 2022-11-29 Sandisk Technologies Llc Program tail plane comparator for non-volatile memory structures
US11423996B1 (en) 2021-05-18 2022-08-23 Sandisk Technologies Llc Memory apparatus and method of operation using triple string concurrent programming during erase
CN113421601B (zh) * 2021-06-29 2022-11-04 长江存储科技有限责任公司 闪存存储器的操作方法以及闪存存储器
CN113624260B (zh) * 2021-08-26 2024-02-27 三一智矿科技有限公司 里程计脉冲当量标定方法及装置、电子设备、存储介质

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6222762B1 (en) 1992-01-14 2001-04-24 Sandisk Corporation Multi-state memory
US5555204A (en) 1993-06-29 1996-09-10 Kabushiki Kaisha Toshiba Non-volatile semiconductor memory device
KR0169267B1 (ko) 1993-09-21 1999-02-01 사토 후미오 불휘발성 반도체 기억장치
US5903495A (en) 1996-03-18 1999-05-11 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor device and memory system
JPH1055691A (ja) * 1996-08-08 1998-02-24 Ricoh Co Ltd 不揮発性半導体メモリ
KR100414146B1 (ko) * 2000-06-27 2004-01-13 주식회사 하이닉스반도체 플래쉬 메모리 소자의 소거 방법
US6522580B2 (en) 2001-06-27 2003-02-18 Sandisk Corporation Operating techniques for reducing effects of coupling between storage elements of a non-volatile memory operated in multiple data states
US6456528B1 (en) 2001-09-17 2002-09-24 Sandisk Corporation Selective operation of a multi-state non-volatile memory system in a binary mode
JP4136510B2 (ja) * 2002-07-18 2008-08-20 株式会社ルネサステクノロジ 半導体記憶装置の製造方法
US7196931B2 (en) 2002-09-24 2007-03-27 Sandisk Corporation Non-volatile memory and method with reduced source line bias errors
US7046568B2 (en) 2002-09-24 2006-05-16 Sandisk Corporation Memory sensing circuit and method for low voltage operation
US7327619B2 (en) 2002-09-24 2008-02-05 Sandisk Corporation Reference sense amplifier for non-volatile memory
JP4007909B2 (ja) * 2002-12-26 2007-11-14 株式会社ルネサステクノロジ 不揮発性半導体記憶装置のデータ消去方法
US6859397B2 (en) 2003-03-05 2005-02-22 Sandisk Corporation Source side self boosting technique for non-volatile memory
US7237074B2 (en) 2003-06-13 2007-06-26 Sandisk Corporation Tracking cells for a memory system
US6917542B2 (en) 2003-07-29 2005-07-12 Sandisk Corporation Detecting over programmed memory
US6888758B1 (en) 2004-01-21 2005-05-03 Sandisk Corporation Programming non-volatile memory
KR100604561B1 (ko) * 2004-05-11 2006-07-31 에스티마이크로일렉트로닉스 엔.브이. 낸드 플래시 메모리 소자 및 이의 웰 형성 방법
JP4051055B2 (ja) * 2004-10-14 2008-02-20 シャープ株式会社 不揮発性メモリの消去パルス設定方法及び消去不良スクリーニング方法
US20060140007A1 (en) 2004-12-29 2006-06-29 Raul-Adrian Cernea Non-volatile memory and method with shared processing for an aggregate of read/write circuits
US7196928B2 (en) 2005-04-05 2007-03-27 Sandisk Corporation Compensating for coupling during read operations of non-volatile memory
JP2007323716A (ja) * 2006-05-31 2007-12-13 Renesas Technology Corp 半導体集積回路
US7495954B2 (en) * 2006-10-13 2009-02-24 Sandisk Corporation Method for partitioned erase and erase verification to compensate for capacitive coupling effects in non-volatile memory
KR100811274B1 (ko) * 2006-12-28 2008-03-07 주식회사 하이닉스반도체 낸드형 플래쉬 메모리소자의 데이터 소거방법
JP2008257804A (ja) * 2007-04-05 2008-10-23 Renesas Technology Corp 半導体装置
WO2009006485A1 (en) 2007-07-05 2009-01-08 Sandisk Corporation Erase voltage manipulation in non-volatile memory for controlled shifts in threshold voltage
JP2009163782A (ja) * 2007-12-13 2009-07-23 Toshiba Corp 半導体記憶装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI690929B (zh) * 2019-04-11 2020-04-11 點序科技股份有限公司 記憶體裝置及其讀取參考電壓的調整方法
TWI760924B (zh) * 2019-12-03 2022-04-11 美商美光科技公司 用於存取記憶體單元之方法及系統

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