TW200903698A - Method for making a substrate - Google Patents
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Description
200903698 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於-種顯示基板之製作方法,尤指—種易 於與對向基板進行精確對位組立之顯示基板之製作方法。 5 ' 【先前技術】 液晶顯示裝置(LCD)之顯示面板包括一彩色渡光片美 板(CF),—薄膜《晶體(TFT)陣列基板,錢—夾置於上^ 二層基板間之液晶層。 人1於上述 10 組立液晶面板之過程,二基板進行貼合時,利用間隙 物之存在,於二基板間形成一間隙。於此步驟中,組立二 基板需要高度精確的對位技術,否則因對位失準將造成面 板漏光’影響面板輝度^ 多區域垂直配向(Multi_d⑽ain Venical八^麵咖, 15 MVA)技術之特色在於更快的訊號反應時間、更寬廣的可 視角度、有效改善顯示不均、提高透光率、對比率以及更 ° S美的畫質等。MVA技術是利用在上、下基板上製作之凸 塊(bump)或狹縫(slit)結構交替排列,使液晶靜止時偏向某 一個角度,當施加電場時,可讓液晶分子迅速改變角度, 20以讓月光通過更為快速,大幅縮短顯示時間,此外,也因 為凸塊強迫改變液晶分子之配向,而可讓視野角度更為寬 廣。 傳統MVA型液晶顯示裝置之面板組立中,彩色遽光片 基板與TFT基板上各自利用黑色矩陣以及金屬電極層⑽極 200903698 或及極)’作為相互之對位標總(alignrnent mark)。在彩色濾、 光片基板製作時,黑色矩陣與凸塊之對位精度為±3 μπι,而 進行面板組立時,精度在±5 μπ1以下。而彩色濾光片基板上 凸塊與TFT基板上狹缝之位置精度則會有±8 / 2 μηι之誤 5 差’這樣的誤差將造成區域(domain)中異常現象,影響面板 輝度。 在美國專利公開號2005/0106477A1中,揭示一種製作 彩色/慮光片基板之方法,其結構如圖1所示。於進行色層 (' 303a、303b及303c製作時,同時以疏水性之色層材料作為 10擋牆311、312,以於基板301上非顯示區形成一對位標誌區 域,並於製作黑色矩陣302步驟中同時於擋牆3丨〗及擋牆3工2 之間庄入黑色矩陣材料,形成一對位標誌、3丨〇 ,以利於二基 板進行組立時可有精確之對位。 然而,由於此前案之對位標誌31〇材料與黑色矩陣3〇2 15之材料相同,且在同一製程下同時形成,因此所揭示之技 術僅適用於製備需要黑色矩陣之彩色濾光片基板。且,此 〇 技術係應用於類似TN型液晶顯示裝置面板之組立對位,即 採黑色矩陣與TFT基板作f十位,而f進行MVA型液晶顯示 裝置之面板組立時,應針對結構中上下二基板之凸塊與狹 2〇縫之位置為對位基準,因此將美國專利公開號 2005/0106477A1之技術,應用於卿八型液晶顯示裝置之面 板組立,仍不易達成對位精確之要求。 因此,為克服上述困難,業界皆致力開發適於MVA型 液晶顯示裝置之面板組立方法。 6 25 200903698 【發明内容】 本發明提供-種顯示基板之製作方法
型液晶顯示裝置之面板時, 』使組立MVA 双守J利用面板結構_ 5 之凸塊與狹縫之位置,做為面板組立時之對位-:板 排除&塊與狭縫對位精度不良 土準,错以 ,^ πα J ^ 徒呵面板畫質。 、^从供一種顯示基板之製作方法,且利用本發明 方法製備之顯示裝置,可藉由# L r* ^ 精由钻3己圖樣達成精確對位,防 正區域(d〇main)異常發生,增加面板品味。 本發明中基板上標記圓樣之形成,
程同時形成,而將桿記+ 脊凸鬼之I 塊之f程德l 方法,可接續在製備凸 Μ後進仃,也可在面板進行組立製程中進行。 =明顯示基板之製作方法,包括:提供一基板;形 於其杯夕一昨贴_ 门時形成至少一標記圖樣 、土板之非顯示區;以及著声;印国样斗、姑+ 15 率材料於標記圖樣中。 Μ”己圖樣或填充-低穿透 :發:令所指之基板種類不限制較佳可包括 編,亦可應用在整合式彩色渡光形式(一 array,COA)基板上。 本發月中凸塊之材料與標記圖樣之材料不限制,可 =材料或不同材料’但實作上為節省步驟與材料,較佳 2,凸塊與標記圖樣係可於同一步驟中形成,且凸塊之 材料與標記圖樣可為相同。 本,月方法中’為使標記圖樣易於被辨識,較佳係可 將低牙透率之材料填充於標記圖樣中。而填充之方法不 20 200903698 較佳可利用噴墨方式進行。 成-黑色矩陣,而為節省製程時間,更;形 陣製程中同時荖洛七姑+佳了在進仃黑色矩 '色或真充橾記圖樣,且較佳里$ 4ε ρφ + ^ 料可與低穿透率材料相同。 战、、、色矩陣之材 發月方去中’標記圖樣的圖樣不 或方形突起物結構、交又 了為囫形 或-具有令央凹槽之…禮構、幾何型突起結構、 亦不限制,可以噴墨方:::古而將標記圖樣著色之方法 記圖枵Φ搶 、式。、有中央凹槽之方形結構的標 10 15 c :7 、入—低透光率材料,或可利用轉印方式於作 結構之標記圖樣的外壁進行著色。 工;大 驟中圭實施方式,係使凸塊與標記圖樣可於同-步 樣係—呈:Ϊ之材料與標記圖樣可為相同,因此當標 有中央凹槽之方形結構時’方形結構之材料 較佳也可與凸塊之材料相同。 括· IS二:明更提供另—種顯示基板之製作方法,包 •=-基板;於基板之一非顯示區上形成至少—遮光 …:顯示區上形成複數凸塊,同時於非顯示區 遮先層上形成-標記圖樣;以及移除未被 之部分遮光層。 U保復1 同〆j it本發明中所指基板種類不限制,較佳可包 括一彩色渡光片基板’亦可應用在整合式彩色渡光形式= 板上。 土 本發明中凸塊之材料與標記圖樣之材料不限制,可 相同材料或不同材料’但實作上為節省步驟與材料,較佳 20 200903698 的是’凸塊與標記圖樣係可於同—步驟中形成, 材料與標記圖樣可為相同 程睹門,顯不區上較佳可形成一黑色矩陣,而為節省製 、曰1 ’更佳可在進行黑色矩陣製程中同時將標記圖 ’且較佳黑色矩陣之材料可與著色用之低穿透率材料相 同,例如樹脂或金屬螯合材料等。
10 本發明方法中,先形成之遮光層之面積可能大於欲形 ,之標記圖樣,而為避免影響面板組立之精準對位,因此 較佳係在凡成標記圖樣後,移除未被標記圖樣覆蓋之部分 遮光層’以確實表達標記圖樣位置。而移除之方法不限制刀, 較佳係可以雷射燒灼之方式移除。 【實施方式】 以下實施例利用MVA型液晶顯示裝置說明本發 15 特徵。 實施例1 -1 ϋ 錢一般製作彩色濾光片基板之方法,結構剖面圖如 圖2(a)所示。於一劃分有顯示區D1與非顯示區〇2之基板⑺ 上,首先以習用方法形成一黑色矩陣4〇於顯示區〇1,如曝 20光顯影之步驟。並利用黑色矩陣4〇作為擒牆,再於空隙中 刀別填充入二原色之顏色材料,分別為紅(R) 3〇、綠(G) 3卜 藍(B) 32。 在基板10上之非顯示區D2設定有一標記區5〇,通常位 於基板10邊緣,係預設為形成標記圖樣21之區域。接著於 200903698 顯示區D1形成複數凸塊20,且於本例中各凸塊2〇間距離一 致。於同樣凸塊20之形成製程中,於同一光罩上同時設計 凸塊20與標記圖樣21之圖樣,以利於使用同一光罩製程, 同時可在標記區50中形成至少一標記圖樣2i。 5 最後形成複數間隙物60於黑色矩陣4〇上,即完成具有 標記圖樣21之彩色濾光片基板。 〃 實施例1-2 另一種顯示基板之結構剖面圖如圖2(b)所示,此類基 f 板係適用於整合式彩色濾光形式基板,其係於一含透明導 10電層11之基板10上,同時形成有凸塊20與標記區5〇之標記 圖樣21。而彩色遽光層與間隙物等元件則另形成於一對向 基板(圖中未示)。本例中,含凸塊2〇與標記圖樣21之基板1〇 係不需製備黑色矩陣40。 實施例2 15 冑實施例U與卜2中所述之標記區50的標記圖樣21分 別以俯視圖與剖面圖表示,可參考圖3⑷與3(b),其中圖⑽ >與3〇3)之下圖之剖面,,呈現的是圖3⑷與3⑻之上圖俯視 圖之A_A,線段。於本例中,基板上形成之標記圖樣2H系- :、中央凹槽22之方形結構,構成凹槽22之方形結構材料 20 係與凸塊20相同,如圖3(a)所示。 接著,於凹槽22中填充入一低穿透率之材料,俯視時 可看出中央凹槽22之填充物23之位置,利於面板組立時辨 識’如圖3(b)所示。 本例令,低穿透率之材料係與形成黑色矩陣之材料相 200903698 ::樹:或金屬養合材料等,且本例 填充於凹槽22中。 實施例3 種標記圖樣21為—突起物結構,其俯視圖 與剖面圖可參考圖4(a)與4(b)。 本,明顯示基板之製作方法係同實施船所揭示。而本 I區卜It區5〇上突起物結構之標記圖樣21,同樣隨著顯 ::丨的形成’一起形成於基板10之非顯示區D2上。 =利用喷墨或轉印等方法,將突起物結_ 壁進 灯者色’而呈一具顏色之標記圖樣& 實施例3 本發明另-種顯示基板之標記圖樣製作方法,可參4 圖5(a)-5(c)之俯視圖與剖面圖。 15
20 於基板10之標記區5〇上形成一遮光層7〇,本例中遮式 材料可與黑色矩陣之材料相同,如樹脂或金屬^ 材料等’結構如圖5(a)。 於顯7ΓΤ區之凸塊2G形成之製程中,同時在標記區中 、.、一層70上’形成一標記圖樣21。標記圖樣21之範圍大小 $光層70相同或不同。當遮光層7〇之範圍大於標記圖 如圖5(b)所不,可另外進行將未被標記圖樣21覆蓋 之遮光層70移除之方法。 於本例中,係以雷射燒灼之方法,移除外露出之遮光 層使t "己圖樣21之底部大小恰與遮光層70相同。藉由 本例所述之方法,可使標記圖仙不必另行著色,也可透 11 200903698 匕才丁己圖樣21直接觀察到遮光層7Q的顏色,使標記圖樣21 更易於被辨識。 實施例4 首先,提供一劃分有顯示區D1與非顯示區D2之彩色濾 5 ,片基板200’再以習用方法,如曝光顯影之步驟,於顯示 區D1中分別形成具有三原色的區域,即紅⑻3G、綠⑹ 藍(B) 32。如此,這些具有三原色的區域之間便分別形 成一空隙。接著’再形成-透明導電層24,其材質可為氧 、化銦錫(IT0)或氧化銦鋅(IZO)。隨後,再於顯示區D1及非 10』示區D2同時形成複數凸塊20及至少一標記圖樣2 i。最 後丄再同時以噴墨方式將填充物23注入標記圖樣2ι的内部 及前述之空隙内,以形成黑色矩陣40於前述之具有三原色 的區域之間。此時所使用之填充物23即為形成黑色矩陣之 低穿透率材料,如樹脂或金屬餐合材料等。此外,亦可視 15需要再選擇性地形成複數間隙物60於黑色矩陣40上。如 此,便完成具有標記圖樣21之彩色濾光片基板2〇〇。 ) 而在與另一對向基板100,如叮丁基板,進行面板組立 時,可藉由彩色濾光片基板2〇〇之標記圖樣21與對向基板 100之閘極金屬層12相互對位的方法,精確地將彩色遽光片 20基板200與對向基板100組合。況且,由於在此彩色濾光片 基板200中,凸塊20與黑色矩陣4〇之間並不存有「對位誤 差」,前述之面板組立程序可更加精確。最後,在經過滴 注入液晶與封朦等後續製程後’即可完成基板具有標記圖 樣之液晶顯示裝置。 12 200903698 上述實施例僅係為了方便說明而舉例而已,本發明所 主張之權利範圍自應以申請專利範圍所述為準,而非僅限 於上述實施例。 5 【圖式簡單說明】 圖1係習知彩色濾光片基板之結構示意圖。 圖2 (a)係本發明實施例1中製備出之彩色濾光片基板之結構 剖面圖。 f、 圖2(b)係本發明實施例丨中整合式彩色濾光形式基板之結構 10 剖面圖。 圖3(a)-3(b)係本發明實施例丨中,標記區上之標記圖樣的俯 視圖與剖面圖。 圖4係本發明實施例2中,當標記圖樣為突起物結構之俯視 圖與剖面圖。 15圖5係本發明貫施例3中,具遮光層之標記圖樣之俯視圖與 剖面圖。 〇 圖6係本發明之彩色滤光片基板與一 TFT基板進行面板組立 之示意圖。 20 【主要元件符號說明】 基板 20凸塊 2 3填充物 32 藍(B) 11、24透明導電層12閘極金屬層 21、25標記圖樣22凹槽 30 紅(R) 31 綠(G) 40黑色矩陣 50標記區 13 200903698 60間隙物 70遮光層 200彩色濾光片基板 301基板 303a、303b、303c 色層 311、312擋牆 D1顯示區 100對向基板 302黑色矩陣 310對位標誌 D2非顯示區
Claims (1)
- 200903698 十、申請專利範圍: 1.—種顯示基板之製作方法,包括: 提供一基板; 形成複數凸塊於該基板之一顯示區,同時形成至少 一標S己圖樣於該基板之一非顯示區;以及 著色該標記圖樣或填充一低穿透率材料於該標記 圖樣中。 2·如申請專利範圍第1項所述之製作方法,其中該基 板包括一彩色濾光片基板。 3 ·如申請專利範圍第1項所述之製作方法,其中該此 凸塊之材料係與該標記圖樣之材料相同。 4.如申請專利範圍第丨項所述之製作方法,其中該低 穿透率材料係以噴墨方式填充於該標記圖樣中。 15 〇 20 _ 5.如申請專利範圍第】項所述之製作方法,其中該顯 示基板形成-黑色矩陣於該顯示區上,且該黑色矩陣:材 料係與該低穿透率材料相同,兩者並同時形成。 士 6.如申請專利範圍第1項所述之製作方法,其中紗 σ己圖樣係以喷墨或轉印方式著色。 、τ 7^如中請專利範圍第i項所述之製作方法,其中 °己圖樣係—具有中央凹槽之方形結構。 Λ τ 8. 如申請專利範圍第7項所述 形結構係與該些錢之材料相同,兩者並方 9. 如申請專利範圍第1項所述之製作方本甘+ 記圖樣係至少一突起物結構。 彳法,其中該標 15 200903698 ίο· —種顯示基板之製作方法,包括: 提供一基板; 於該基板之一非顯示區上形成至少一遮光層; 於該基板之-顯示區上形成複數凸塊,同· 顯不區之該遮光層上形成一標記圖樣;以及 A 移除未被該標記圖樣覆蓋之部分該遮光層。 Γ' η·如申請專利範圍第_所述之製作方法,其中該此 凸塊材料係與該標記圖樣之材料相同。 X— 如巾請專利範圍第u項所述之製作方法,其中在带 塊及該標記圖樣之後,包括形成-黑色矩陣於該 射燒範圍第1G韻述之製作方法,其係以雷 式移除未被該標記圖樣覆蓋之部分該遮光層。 I 16
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