TW200417402A - Process for purifying inert gas - Google Patents

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Atsushi Okamoto
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Japan Pionics
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Description

200417402 玖、發明說明: (一) 發明所屬之技術領域 本發明關於惰性氣體之精製方法。進而詳細地是關於高 能力地除去作爲雜質含在惰性氣體中的氧、二氧化碳、水, 可將這些雜質除到極低濃度的惰性氣體之精製方法。 (二) 先前技術 在半導體製造程序中,頻繁地使用氦、氮、氬等的惰性 氣體。氮等的惰性氣體在工業上是通過分餾液態空氣的方法 製造的,但在這些惰性氣體中含有數ppm〜數百ppm左右的 氧、二氧化碳、水等。在半導體領域中,隨著成膜技術的進 步強烈地要求這些惰性氣體是極高純度,同時從大量使用 看’要求一種惰性氣體之精製方法,它可以高純度連續地供 給到半導體製造程序。 爲此,以往硏究了各種惰性氣體之精製方法,本案申請 人中也開發了如下精製方法,即,①將稀有氣體與由鐵及鉻 組成的金屬吸氣劑接觸,除去稀有氣體中的雜質的精製方法 (曰本專利公開1 992 - 1 600 1 0號公報)、②將稀有氣體與由釩 及锆組成的金屬吸氣劑接觸,除去稀有氣體中的雜質的精製 方法(日本專利公開1993-4809號公報)等。 另外’作爲由本案申請人以外的人開發了的惰性氣體精 製方法’有③將含有氧及/或一氧化碳的惰性氣體與含有銅 及锰的混合氧化物(赫普卡萊特)等的多孔質金屬氧化物的吸 附劑接觸’除去上述雜質氣體的精製方法(日本專利公開 1 9 9 8 - 1 3 7 5 3 0 號公報)等。 200417402 精製劑在下述方面也較理想,即在精製 行再生後再利用,這樣不僅可有效利用資源 減少精製劑的更換充塡和預處理的操作麻煩 易供給局純度惰性氣體。本案申請人開發了 還原了的金屬鎳接觸,除去作爲雜質含在惰 精製方法(日本專利公告1 9 7 5 - 6440號公報) 方法中,可再生精製劑(金屬鎳)。 (三)發明內容 然而,在使用上述的①及②的金屬吸氣 一般在精製惰性氣體時必須加熱金屬吸氣劑 生金屬吸氣劑困難,必需交換吸氣劑,存在 點。另外,③及④的精製方法,原來惰性氣 去能力(單位精製劑量的雜質除去量)低,特 除去能力低,有必要加大精製筒。進而,③ 覆進行精製劑的再生時,有精製劑劣化,除 缺點。 因此,本發明要解決的課題在於提供惰 法,該方法高能力地除去作爲雜質含在惰性 氧化碳及水,可將含在惰性氣體中微量的上 低濃度的同時,即使反覆進行精製劑的再生 力也不降低,可容易連續地供給高純度惰性 本發明者們爲了解決這些課題進行銳意 現,在使用可再生吸附劑的惰性氣體之精製 爲精製劑(吸附劑)的有效成分,含有(1 )氧々 惰性氣體後,進 ,而且大幅度地 ,可以連續地容 ④將惰性氣體與 性氣體中的氧的 ’在這樣的精製 劑的精製方法, ,另外,由於再 運轉成本高的缺 體中的雜質的除 別是二氧化碳的 的精製方法若反 去能力更降低的 性氣體之精製方 氣體中的氧、二 述雜質除去直到 ,雜質的除去能 氣體。 地硏究結果發 方法中,通過作 二錳及、由(2 )氧 -6- 200417402 化釩、氧化鉻、氧化鐵、氧化錫、氧化鍩、氧化鉍、氧化鈮 及氧化鉬中選出的1種以上的金屬氧化物,極大提高除去作 爲雜質含在惰性氣體中的氧、二氧化碳及水的能力,即使反 覆進行精製劑的再生,精製劑也不劣化,可顯著地延長精製 劑的壽命,從而完成本發明的惰性氣體之精製方法。 進而,發現了上述構成的精製劑,可將作爲雜質含在惰 性氣體中的氧、一氧化碳、二氧化碳、水的除去到極低的濃 度,通過將上述構成的精製劑和合成沸石組合,在除去水時, 大幅度地延長1次惰性氣體精製時間,在將精製系列配置成 2系列時,有充裕的時間容易地實施惰性氣體的精製和吸氣 劑的再生,從而完成了本發明的惰性氣體之精製方法。 即’本發明是一種惰性氣體之精製方法,其特徵是將惰 性氣體與精製劑接觸,除去含在該惰性氣體中的選自於氧、 二氧化碳及水中之1種以上的雜質,上述精製劑係含有氧化 锰及選自於氧化#1、氧化鉻、氧化鐵、氧化錫、氧化鉻、氧 化鉍、氧化鈮及氧化鉅中1種以上的金屬氧化物作爲有效成 分。 另外,本發明是一種惰性氣體之精製方法,其特徵是將 惰性熱體與精製劑及合成沸石接觸’除去含在該惰性氣體中 的選自於氧、二氧化碳及水中之1種以上的雜質,上述精製 劑係含有氧化鍤及選自於氧化釩、氧化銘、氧化鐵、氧化^錫、 氧化鉻、氧化鉍、氧化鈮及氧化鉅中丨種以上的金屬氧化物 作爲有效成分。 本發明是一種惰性氣體之精製方法,其特徵是將惰性氣 -1 - 200417402 體與精製劑接觸,除去含在該惰性氣體中的選自於氧、二氧 化碳及水中之1種以上的雜質,進而將再生氣體與該精製劑 接觸再生該精製劑,上述精製劑係含有氧化錳及選自於氧化 釩、氧化鉻、氧化鐵、氧化錫、氧化鉻、氧化鉍、氧化鈮及 氧化鉅中1種以上的金屬氧化物作爲有效成分。 進而,本發明是惰性氣體之精製方法,其特徵是將惰性 氣體與精製劑及合成沸石接觸,除去含在該惰性氣體中的選 自於氧、二氧化碳及水中之1種以上的雜質,進而將再生氣 體與該精製劑及該合成沸石接觸再生該精製劑及合成沸石, 上述精製劑係含有氧化錳及選自於氧化釩、氧化鉻、氧化鐵、 氧化錫、氧化鉻、氧化鉍、氧化鈮及氧化鉅中1種以上的金 屬氧化物作爲有效成分。 用本發明的惰性氣體之精製方法,換算爲每單位量的精 製劑的除去雜質量,可比以往的精製方法更多地除去作爲雜 質含在惰性氣體中的氧、二氧化碳、水。另外,可將含在惰 性氣體中的微量的雜質除去到極低濃度的同時,即使反覆進 行精製劑的再生,雜質的除去能力也不降低,比以往的精製 方法可顯著地延長精製劑的壽命。 (四)實施方式 本發明的惰性氣體之精製方法,適用於除去作爲雜質含 在惰性氣體中的氧、二氧化碳及水。另外,本發明的惰性氣 體之精製方法特別是在可顯著延長用於惰性氣體的精製的精 製劑的壽命上發揮效果。 本發明的惰性氣體之精製方法,是將惰性氣體與精製劑 -8- 200417402 接觸,較佳的進而與合成沸石接觸,除去作爲雜質含在惰性 氣體中的氧、二氧化碳及水的精製方法,上述精製劑作爲有 效成分含有(1 )氧化錳和(2 )從氧化釩、氧化鉻、氧化鐵、氧 化錫、氧化銷、氧化鉍、氧化鈮及氧化鉬中選出的1種以上 的金屬氧化物。 另外,本發明的惰性氣體之精製方法,是將惰性氣體與 精製劑接觸,較佳的是進而與合成沸石接觸,除去作爲雜質 含在惰性氣體中的氧、二氧化碳及水,進而將再生氣體與精 製劑(及合成沸石)接觸再生精製劑(及合成沸石)的精製方 法,上述精製劑作爲有效成分含有(1 )氧化錳和(2 )從氧化 釩、氧化鉻、氧化鐵、氧化錫、氧化鍩、氧化鉍、氧化鈮及 氧化鉅中選出的1種以上的金屬氧化物。 在本發明的惰性氣體之精製方法中,作爲精製劑的一種 效成分使用的氧化猛是ΜηΟ、Μη304、Μη203、Μη02等。在本 發明中,氧化錳不受製造方法等的限製,但較佳的是BET比 表面積是10〜500m2/g的。在使用BET比表面積不足l〇m2/g 的氧化錳時,擔心單位精製劑量的雜質除去量變小。另外, BET比表面積超過500m2/g的氧化錳在工業上製造是困難 的。 這些氧化錳也可直接使用市售品,另外也可使用公知的 方法製造的。作爲製造氧化錳的方法,例如有MnO在無氧下 於約5 00T:下加熱MnC03、Mn(〇H)2或者在H2或C0氣流中還 原高價錳氧化物的方法。Μη 3〇4是通過將含有錳的化合物(氧 化物、氫氧化物、硫酸鹽、碳酸鹽等)在空氣中或者氧氣流 -9- 200417402 中強熱到約1 0 0 0 °C可容易地得到的。另外,Μ η 2 Ο 3是通過在 空氣中、600〜8 0 0°C下加熱錳鹽(除去硫酸鹽)得到的。進而, Μ η 02是通過邊加熱稀的高猛酸鉀水溶液、稀的硫酸鍤水溶液 和濃硫酸,邊攪拌、混合,洗滌得到的沈澱物後’進行乾燥 調製而成。 另外,在本發明的惰性氣體之精製方法中,作爲氧化錳 以外的精製劑的有效成分使用的氧化釩、氧化鉻、氧化鐵、 氧化錫、氧化锆、氧化鉍、氧化鈮及氧化鉅分別是V 0、V 2 0 3、 V〇2、 V2〇5、 Cr〇、 Cr2〇3、 Cr02、 Cr2〇5、 Cr〇3、 Fe〇、 Fe3〇4、 Fe2〇3 、 Sn〇、Sn〇2、 Zr〇2、 B i 〇、B i 203 、 B i 204、 B i 205 、 NbO、 Nb 203、 Nb02、Nb2〇5、TaO、Ta 203、Ta02、Ta 20 5 等。在這些金屬氧化 物中,在惰性氣體中雜質的除去能力高的點上看,特別較佳 的是使用氧化釩、氧化鉻、氧化錫。在本發明中,與氧化錳 相同地這些金屬氧化物不受製造方法等的限製,但較佳的是 BET比表面積是10〜5 00m2/g的。另外,這些金屬氧化物也 可直接使用市售品,另外也可使用用公知的方法配製的。 本發明的惰性氣體之精製方法的精製劑,配製成錳原子 數相對於上述總有效成分的金屬原子數的比例(Mn /( Mn + V + Cr+Fe+Sn+Zr+Bi + Nb+Ta)),通常是 50〜99%、較佳的 是80〜9 9%、更較佳的是86〜98%。在錳原子數相對於總有效 成分的金屬原子數的比例不足50%時及超過99%時,不僅惰 性氣體中的雜質的除去能力降低,而且每次反覆進行精製劑 再生時,可能精製劑劣化,除去惰性氣體中的雜質的能力降 低。 -10- 200417402 本發明的精製劑,通常也可通過預先將含有Μη的水溶 液和含有從V、Cr、Fe、Sn、Zr、Bi、Nb、及Ta中選出的1 種以上的硫酸水溶液等的水溶液進行混合,使氧化鑑和其他 的上述金屬的氧化物共沈澱,過濾得到的沈澱物,進行乾燥 而配製,但也可通過將各有效成分混合造粒而配製。 另外,在製造精製劑時,爲了提高精製劑的成型性和成 型強度,在配製精製劑時,也可添加粘結劑。作爲這樣的粘 結劑,可舉出氧化鋁溶膠、氧化矽溶膠等。在加入粘結劑時, 通常對於精製劑的總重量是1 0重量%以下,較佳的是5重量 %以下。另外,作爲有效成分以外的雜質成分,也可以含有 少量的上述以外的金屬及金屬氧化物等,但有效成分對於總 精製劑的含有量,通常是70重量%以上,較佳的是90重量% 以上。 對於精製劑的形狀及大小沒有特別限製,但例如作爲形 狀,可舉出球狀、圓柱狀、圓筒狀及粒狀等,作爲其大小, 球狀時,較佳的是直徑0 · 5〜1 0 ιώ m左右的,顆粒或片狀等的 圓柱狀時,較佳的是直徑0.5〜10mm、高2〜20mm左右的,粒 狀等不定形的時,以篩孔的開度較佳的是0.84〜5 .66mm左右 的。將精製劑充塡到淨化筒中時的充塡密度,根據精製齊彳的 形狀及配製方法而不同,但通常是0.4〜2. 0g/mi左右。 在本發明的惰性氣體之精製方法中,作爲有效成分含有 氧化ί孟和由氧化釩、氧化絡、氧化鐵、氧化錫、氧化、氧 化鉍、氧化鈮及氧化鉅中選出的1種以上的金屬氧化物的精 製劑,通常在使用前,爲了使其活化進行氫還原。在還原時, -11- 200417402 例如可在3 5 0 °C以下左右以空筒線速度(LV) 5 cm/sec速度通 過氫和氮的混合氣體而進行。 本發明的惰性氣體之精製方法中所使用的合成沸石是指 用鉀化學地置換合成結晶矽鋁酸鹽含水鈉鹽的鈉的一部分的 合成沸石。該合成沸石結晶,其特徵是在內部具有多個細孔, 其細孔徑幾乎相同。爲了高效地使用這些合成沸石,通常使 用成型爲4〜20mesh(篩目)的球狀物、直徑1.5〜4mm、高5〜20mm 的柱狀物等。在本發明的惰性氣體之精製方法中,較佳的是 使用具有相當3〜1 0 A (埃)的細孔徑的合成沸石,適合於這些 市售的合成沸石,可舉出分子篩3A、4A、5A、13X(美國、 聯合碳社或聯合昭和股份有限公司)等。這些合成沸石,通 常在使用前,在1 5 0〜3 5 0 °C左右的溫度下可一邊通惰性氣體 一邊活化。 惰性氣體的精製,在僅使用精製劑時,該精製劑是作爲 有效成分含有氧化錳和由氧化釩、氧化鉻、氧化鐵、氧化錫、 氧化鉻、氧化鉍、氧化鈮及氧化鉬中選出的1種以上的金屬 氧化物的,通常是在如第1圖所示的精製筒中充塡上述的精 製劑,還原處理後在精製筒中通入惰性氣體而進行的。另外 在使用精製劑及合成沸石時,通常是如第2 ( A )圖所示的, 在精製筒中充塡精製劑,在吸附筒中充塡合成沸石,將它們 還原處理後,通入惰性氣體、或在如第2 ( B )圖所示的處理 筒中叠層、充塡精製劑及合成沸石,將它們還原處理後,通 入惰性氣體而進行的。 在本發明的惰性氣體之精製方法中,用精製劑主要是除 - 1 2 - 200417402 去氧、一氧化碳、水,用合成沸石主要是除去水。適用於本 發明的惰性氣體所含有的這些雜質的濃度,通常分別是 100ppm 以下。 充塡到精製劑筒的精製劑的充塡長度、充塡到吸附筒的 合成沸石的充塡長度或叠層在處理筒中、被充塡精製劑及合 成沸石的充塡長度’貫際上通常是50〜1500mm。若充塡長度 比5 0mm短,可能雜質的除去率降低,另外,若比i5〇〇mm長, 可能壓力損失過大。精製時的惰性氣體的空筒線速度(LV )根 據供給的惰性氣體中的雜質的濃度及操作條件等不同,不能 一槪特別限定,但通常是100cm/sec以下、較佳的是30cm/sec 以下。 惰性氣體和精製劑的接觸溫度,在供給到精製劑筒的入 口的氣體的溫度係爲1 5 (TC以下,通常可以是常溫,沒有必 要特別加熱或冷卻。另外,惰性氣體和合成沸石的接觸溫度, 通常也是常溫。對於惰性氣體和精製劑或合成沸石的接觸的 壓力也沒有特別限製,在常壓、lKPa那樣的減壓或者2MPa (絕 對壓力)類的加壓的任何一種壓力下都可以進行處理,但通 常在常壓〜0 . 3MPa(絕對壓力)的加壓下進行。 在本發明的惰性氣體之精製方法中,作爲有效成分含有 氧化猛和由氧化釩、氧化絡、氧化鐵、氧化錫、氧化銷、氧 化鉍、氧化鈮及氧化鉬中選出的1種以上的金屬氧化物的精 製劑的再生,通常是通過氫還原進行的。還原時,可通過在 150〜400 °C的溫度下通入氫和惰性氣體的混合氣體而進行, 但從可進一步延長精製劑的壽命看,在精製劑中供給惰性氣 -13- 200417402 體後,較佳的是在上述條件下通過供給氫而進行。 力外,合成沸石的再生通常是在15〇〜35(rc左右的溫度 下通入惰性氣體來進行的。 在本發明的惰性氣體之精製方法中,爲了連續容易地供 糸口问純度惰性氣體,較佳的是配置具有如第3圖所示的精製 劑及合成沸石的精製系列或者配置至少2列的僅具有精製劑 的精製系列代替上述精製系列進行惰性氣體的精製。通過這 樣的精製裝置,在一邊順序地切換精製系列,一邊供給惰性 氣體進行精製的同時,可將再生氣體供給到精製後的系列 中,再生精製劑、合成沸石,可容易連續地供給高純度惰性 热體。 以下’用實施例具體地說明本發明,但本發明不受這些 實施例的限製。 實施例1 (精製劑的配製) 將3 9 5 g的高錳酸鉀及76.7g的偏釩酸鉀溶解在12.5kg 水,在得到的溶液中,在溫度70 °C迅速加入3重量%的硫酸 錳水溶液15 · lkg和濃硫酸144g的混合液進行反應。在90 °C下攪拌生成的沈澱物3小時後過濾,用離子交換水25kg 洗滌3次後,再次過濾,得到1 240g的糕狀的氧化錳(Mn〇2) 及氧化釩(V 2 〇 5)。在9 0 °C下乾燥該糕狀混合物1 2小時,得 到粉末狀混合物3 80g。用氣體吸附量測定裝置(優阿薩離子 股份有限公司製、自動肥皂3B )測定該粉末狀混合物的BET 比表面積是227m2/g。 200417402 對於得到的粉末狀混合物的每1 OOg,加入鋁溶膠2g、 水4 0 g進行捏合,用擠出成型機擠出得到的糕狀物,得到直 徑1.6mni的成型物。將其切斷成長度10mm左右作成顆粒, 在1 2 0 °C下乾燥1 2小時得到精製劑。錳原子對於該精製劑 中的總有效成分(氧化錳及氧化釩)的金屬原子數的比例是 9〇%,精製劑中的水分是0 . 6重量%。 (惰性氣體的精製試驗) 在內徑45 · 2mm、長度200ππώ的不銹鋼製的精製筒中充 塡上述的精製劑,使其充塡長度成爲150mm。接著,將精製 劑的溫度升溫到2 5 0 C ’以常壓、流量2 8 8 7 m 1 / m i n ( L V : 3 _ 0cm / sec )流入氫和氮的混合氣體(5體積%氫、95體積%氮)5 小時,進行精製劑的還原處理後,將精製劑冷卻到常溫。 接著,在精製筒中在常溫(20t)下,以9622ml/min(LV : 1 0 c m / s e c )的流量通入作爲惰性氣體含有5 0 p p m的氧的氮進 行氮的精製。其間,以約2 0分鐘間隔使用大氣壓離子化質 譜分析計(AP I - MS )對出口氣體中的氧進行分析,測定直到檢 測到氧的時間,求出對於每1 g的精製劑的氧除去量(m 1 )。 (API - MS的氧、二氧化碳、水的檢測下限濃度:ippb),其 結果表不在表1中。 檢測出氧後,停止供給惰性氣體,將精製劑的溫度升溫 到 250 °C,以常壓、流量 2887ml/min(LV: 3.0cm/sec)通入 氣氣1小時’進而,以常壓、流量2887ml/min(LV:3.0cm/sec) 流入氫和氮的混合氣體(5體積%氫、9 5體積%氮)5小時,進 行精製劑的再生。而後,將精製劑冷卻到常溫,再開始氮的 -15- 200417402 精製。反覆地進行以上的操作, 量(ml),其結果表示在表1中。 實施例2〜實施例4 在實施例1的精製劑的配製 製劑中的總有效成分的金屬原子 70%、95%之外,其他與實施例1 除了使用這些精製劑之外, 氣體的精製試驗,其結果表示在 實施例5 在實施例1的惰性氣體的精 體使用含有50ppm的二氧化碳的 進行惰性氣體的精製試驗,其結 實施例6〜實施例8 在實施例1的精製劑的配製 製劑中的總有效成分的金屬原子 70%、95%之外,與實施例1相同 除了使用這些精製劑之外, 氣體的精製試驗,其結果表示在 實施例9 在實施例1的惰性氣體的精 體使用含有50ppm的水的氮之外 性氣體的精製試驗,其結果表示 實施例1 0〜實施例1 2 在實施例1的精製劑的配製 求出每1 g精製劑的氧除去 中,除了將錳原子數對於精 數的比例分別替換成50%、 相同地配製精製劑。 與實施例1相同地進行惰性 表1中。 製試驗中,除了作爲惰性氣 氮之外,與實施例1相同地 果表示在表1中。 中,除了將錳原子數對於精 數的比例分別替換成50%、 地配製精製劑。 與實施例5相同地進行惰性 表1中。 製試驗中,除了作爲惰性氣 ’與實施例1相同地進行惰 在表1中。 中,除了將錳原子數對於精
-16- 200417402 製劑中的總有效成分的金屬原子數的比例分別替換成5 0%、 7 0%、9 5%之外,與實施例1相同地配製精製劑。 除了使用這些精製劑之外,與實施例9相同地進行惰性 氣體的精製試驗,其結果表示在表1中。 實施例1 3 (精製劑的配製) 將3 9 5 g的局猛酸鉀及1 0 8 g的鉻酸鉀溶解在水1 2 . 5 k g 中,在得到的溶液中,在溫度70°C迅速加入3重量%的硫酸 錳水溶液1 5 . lkg和濃硫酸144g的混合液進行反應。在90 °C下攪拌生成的沈澱物3小時後過濾,用離子交換水2 5 k g 洗滌3次後,再次過濾,得到1 2 3 0 g的糕狀的氧化錳(Mn〇2) 及氧化鉻(Ci_03)。在90°C下乾燥該糕狀混合物12小時,得 到粉末狀混合物3 9 0 g。用氣體吸附量測定裝置(優阿薩離子 股份有限公司製、自動肥皂3 B )測定該粉末狀混合物的BET 比表面積是225m2/g。
封於得到的粉末狀混合物的每1 0 0 g,加入銘溶膠2 g、 水4 0 g進行捏合,用擠出成型機擠出得到的糕狀物,得到直 徑1 · 6mm的成型物。將其切斷成長度l〇mm左右作成顆粒, 在1 2 0 °C下乾燥1 2小時得到精製劑。錳原子對於該精製劑 中的總有效成分(氧化锰及氧化鉻)的金屬原子數的比例是 9〇%,精製劑中的水分是0 . 6重量%。 (惰性氣體的精製試驗) 除了作爲有效成分使用含有上述的氧化猛及氧化鉻的精 製劑之外,與實施例1相同地進行惰性氣體的精製試驗,其 -17- 200417402 結果表示在表2中。 實施例1 4〜實施例1 6 在實施例1 3的精製劑的配製中,除了將錳原子數對於 精製劑中的總有效成分的金屬原子數的比例分別替換成 5 0%、7 0%、9 5%之外,與實施例13相同地配製精製劑。 除了使用這些精製劑之外,與實施例1 3相同地進行惰 性氣體的精製試驗,其結果表示在表2中。 實施例1 7 在實施例1 3的惰性氣體的精製試驗中,除了作爲惰性 氣體使用含有50ppm的二氧化碳的氮之外,與實施例1 3相 同地進行惰性氣體的精製試驗,其結果表示在表2中。 實施例1 8〜實施例2 0 在實施例1 3的精製劑的配製中,除了將錳原子數對於 精製劑中的總有效成分的金屬原子數的比例分別替換成 5 0%、7 0%、9 5%之外,與實施例1 3相同地配製精製劑。
除了使用這些精製劑之外,與實施例1 7相同地進行惰 性氣體的精製試驗,其結果表示在表2中。 實施例2 1 在實施例1 3的惰性氣體的精製試驗中,除了作爲惰性 氣體使用含有5 0 p p m的水的氮之外,與實施例1 3相同地進 行惰性氣體的精製試驗,其結果表示在表2中。 實施例2 2〜實施例2 4 在實施例1 3的精製劑的配製中,除了將錳原子數對於 精製劑中的總有效成分的金屬原子數的比例分別替換成 -18- 200417402 5 0%、7 0%、9 5%之外,與實施例13相同地配製精製劑。 除了使用這些精製劑之外’與實施例2 1相同地進行惰 性氣體的精製試驗,其結果表示在表2中。 實施例2 5 (精製劑的配製) 按照實施例1,混合高錳酸鉀、硫酸錳水溶液、硫酸鐵 水溶液,將共沈澱得到的沈澱物進行過濾乾燥得到粉末狀混 合物。在該粉末狀混合物中,加入鋁溶膠、水進行捏合後, 用成型機擠出、切斷,作成顆粒,在1 2 0 °C下乾燥1 2小時 得到精製劑。錳原子對於該精製劑中的總有效成分(氧化錳 及氧化鐵)的金屬原子數的比例是9 0% ’精製劑中的水分是 0 . 8重量%。 (惰性氣體的精製試驗) 除了使用含有上述的氧化錳及氧化鐵的精製劑,精製含 有5 Oppm的二氧化碳的氬之外,與實施例1相同地進行惰性 氣體的精製試驗,其結果表示在表3中。 實施例2 6〜實施例2 8 在實施例2 5的精製劑的配製中’除了將錳原子數對於 精製劑中的總有效成分的金屬原子數的比例分別替換成 5 0%、7 0%、9 5%之外,與實施例25相同地配製精製劑。 除了使用這些精製劑之外’與實施例2 5相同地進行惰 性氣體的精製試驗,其結果表示在表3中。 實施例29〜實施例32 按照實施例1配製精製劑’該精製劑作爲有效成分含有 -19- 200417402 氧化錳及氧化錫,錳原子數對於總有效成分的金屬原子數的 比例分別是5 0 %、7 0 %、9 0 %、9 5 %。除了使用這些精製劑精 製含有5 0 p pm的二氧化碳的氨氣之外,與實施例!相同地進 行惰性氣體的精製試驗,其結果表示在表4中。 實施例33〜實施例36
按照實施例1配製精製劑,該精製劑是作爲有效成分含 有氧化錳及氧化锆,錳原子數對於總有效成分的金屬原子數 的比例分別是5 0 %、7 0 %、9 0 %、9 5 %。除了使用這些精製劑 精製含有5 0 p p m的二氧化碳的氮之外,與實施例1相同地進 行惰性氣體的精製試驗,其結果表示在表5中。 實施例37〜實施例40
按照實施例1配製精製劑,該精製劑是作爲有效成分含 有氧化錳及氧化鉍,锰原子數對於總有效成分的金屬原子數 的比例分別是5 0 %、7 0 %、9 0 %、9 5 %。除了使用這些精製劑 精製含有50ppm的二氧化碳的氮之外,與實施例1相同地進 行惰性氣體的精製試驗,其結果表示在表6中。 實施例41〜實施例44 按照實施例1配製精製劑,該精製劑是作爲有效成分含 有氧化錳及氧化鈮,錳原子數對於總有效成分的金屬原子數 的比例分別是50%、70%、90%、95%。除了使用這些精製劑 精製含有50ppui的一*氧^化碳的氣之外’與貫施例1相同地進 行惰性氣體的精製試驗,其結果表不在表7中。 實施例45〜實施例48 按照實施例1配製精製劑’該精製劑是作爲有效成分含 -20- 200417402 有氧化錳及氧化鉅,錳原子數對於總有效成分的金屬原子數 的比例分別是50%、70%、90%、95%。除了使用這些精製劑 精製含有5 0 p p m的二氧化碳的氮之外,與實施例1相同地進 行惰性氣體的精製試驗,其結果表示在表8中。 實施例49〜實施例52 按照實施例1配製精製劑,該精製劑是作爲有效成分含 有氧化錳、氧化釩及氧化鉻,錳原子數對於總有效成分的金 屬原子數的比例分別是50%、70%、90%、95%。但是,釩原 子數、鉻原子數相同。除了使用這些精製劑精製含有5 Op pm 的二氧化碳的氮之外,與實施例1相同地進行惰性氣體的精 製試驗,其結果表示在表9中。 實施例5 3 在內徑45 · 2mm、長度400mm的不銹鋼製的處理筒中充 塡與實施例1所使用的相同的精製劑,使充塡長度成爲 150mm。進而,將相當於市售的4A(埃)的合成沸石(分子篩 4 A、聯合化銘社製)充填到精製劑的下流側’成爲1 5 0 m m。 接著,將精製劑的溫度升溫到2 5 (TC,以常壓、流量 2 8 8 7 m 1 / m i n ( L V : 3 . 0 c m / s e c ),從合成沸石側流入氫和氮的 混合氣體(5體積%氫、9 5體積%氮)5小時,進行精製劑的還 原處理,將精製劑冷卻到常溫。 另外,將合成沸石的溫度升溫到3 5 (TC,從精製劑側以 常壓、流量2887ml/min(LV: 3.0cm/sec)流通氮氣4小時, 進行合成沸石的活性化處理,將合成沸石冷卻到常溫。 接著,在處理筒中在常溫(20°C)下,以9622ml/min(LV : 200417402 1 〇 C m / s e c )的流量流入作爲惰性氣體的含有5 0 p p m的氧的氮 進行惰性氣體的精製。其間,以約2 0分鐘間隔使用熱導式 檢測器(GC-TCD)(檢測下限濃度0 . 2ppm),進行出口氣體中 的氧的分析,測定直到檢測出氧的時間,求出對於每1 g的 精製劑及合成沸石的平均的氧除去量(ml)。其結果表示在表 1 0中。 檢測出氧後,停止惰性氣體的供給,將精製劑的溫度升 溫到 2 5 0 °C,以常壓、流量 2 8 8 7 m 1 / m i n ( L V : 3 . 0 c m / s e c ), 從合成沸石側流通氮1小時,進而,以常壓、流量 2 887ml / mi n(LV : 3 . Ocm / sec ),流通氫和氮的混合氣體(5體 積%氫、9 5體積%氮)5小時,進行精製劑的再生。然後,將 精製劑冷卻到常溫。另外,將合成沸石的溫度升溫到3 5 0°C, 從精製劑側以常壓、流量2887ml/min (LV: 3. Ocm/sec)流通 氣氣4小時’進行洽成沸石的再生。然後,將合成沸石冷卻
到常溫,再進行惰性氣體的精製。反覆進行以上的操作,求 出對於每1 g的精製劑及合成沸石的平均的氧除去量(m丨)。 其結果表不在表1 〇中。 實施例54〜實施例56 在實施例1的精製劑的配製中,除了將錳原子數對於精 製劑中的總有效成分的金屬原子數的比例分別替換成5 〇 %、 7 0%、9 5%之外,與實施例1相同地配製精製劑。 除了使用這些精製劑之外,與實施例5 3相同地進行惰 性氣體的精製試驗,其結果表示在表1 〇中。 實施例5 7 -22- 200417402 在實施例5 3的惰性氣體的精製試驗中,除了作爲惰性 氣體使用含有5 0 p p m的二氧化碳的氮之外,與實施例5 3相 同地進行惰性氣體的精製試驗,其結果表示在表1 〇中。 實施例5 8〜實施例6 0 在實施例1的精製劑的配製中,除了將錳原子數對於精 製劑中的總有效成分的金屬原子數的比例分別替換成5 0%、 7 0%、9 5%之外,與實施例1相同地配製精製劑。 除了使用這些精製劑之外,與實施例5 7相同地進行惰 性氣體的精製試驗,其結果表示在表1 0中。 實施例6 1 在實施例5 3的惰性氣體的精製試驗中,除了作爲惰性 氣體使用含有5 0 p pm水的惰性氣體之外,與實施例5 3相同 地進行惰性氣體的精製試驗,其結果表示在表1 〇中。 實施例62〜實施例64 在實施例1的精製劑的配製中,除了將錳原子數對於精 製劑中的總有效成分的金屬原子數的比例分別替換成5 〇%、 7 0 %、9 5 %之外,與實施例1相同地配製精製劑。 除了使用這些精製劑之外,與實施例6 1相同地進行惰 性氣體的精製試驗,其結果表示在表1 0中。 比較例1〜比較例3 (精製劑的配製) 將3 9 5 g的高錳酸鉀溶解在水1 2 . 5 k g中,在得到的溶液 中,在溫度7 0 °C迅速加入3重量%的硫酸錳水溶液1 5 .丨k g 和濃硫酸1 4 4 g的混合液進行反應。在9 0 °C下攪拌生成的沈 200417402 澱物3小時後過濾,用離子交換水2 5 k g洗滌3次後,再次 過濾,得到1 2 0 0 g的糕狀的氧化猛(Μ η 0 2 )。在9 0 °C下乾燥該 糕狀氧化錳1 2小時,得到粉末狀氧化錳3 6 0 g。用氣體吸附 量測定裝置(優阿薩離子股份有限公司製、自動肥皂3 B )測 定該粉末狀氧化錳的BET比表面積是240m2 / g。 對於得到的粉末狀氧化錳1 0 0 g,加入鋁溶膠2 g、水4 0 g 進行捏合,用擠出成型機擠出得到的糕狀物,得到直徑1 . 6mm 的成型物。將其切斷成長度lOmni左右作成顆粒,在120 °C 下乾燥1 2小時得到精製劑。該精製劑中的水分是〇 . 7重量%。 (惰性氣體的精製試驗) 除了使用該精製劑之外,與實施例1、實施例5、實施 例9相同地進行惰性氣體的精製試驗。其結果表示在表1 1 中。 比較例4〜比較例6 除了作爲精製劑使用市售的氧化釩(V 2 0 5 )催化劑之外, 與實施例1、實施例5、實施例9相同地進行惰性氣體的精 製試驗。其結果表示在表1 2中。 比較例7〜比較例9 除了作爲精製劑使用作爲有效成分含有市售的氧化錳 (Μη02)及氧化銅(CuO)催化劑(赫普卡萊特、Μη02和CuO的重 釁比6 : 4 )之外,與實施例1、實施例5、實施例9相同地進 行惰性氣體的精製試驗。其結果表示在表1 3中。 比較例1 0〜比較例1 2 除了作爲精製劑使用市售的鎳催化劑之外,與實施例 200417402 1、實施例5、實施例9相同地進行惰性氣體的精製試驗。 其結果表示在表1 4中。 表1 精製劑(氧化錳、氧化釩) Μη原子 精製劑的除去能力(ml/g劑) 比例 雜質 第1次 第2次 第3次 第5次 第10次 實施例1 90% 〇2 13.7 12.1 12.1 12.0 12.0 實施例2 5 0% 〇2 7.7 7.0 6.9 6.9 6.9 實施例3 70% 〇2 9.4 8.6 8.5 8.5 8.4 實施例4 95% 〇2 11.9 10.9 10.9 10.9 10.8 實施例5 90% C〇2 10.3 8.8 8.8 8.7 8.6 實施例6 50% C〇2 5.6 4.9 4.8 4.8 4.8 實施例7 70% C02 7.4 6.9 6.9 6.8 6.7 實施例8 95% C02 8.0 7.2 7.2 7.1 7.1 實施例9 90% h2o 5 . 1 4.5 4.5 4.5 4.5 實施例10 50% h2〇 3.3 3.0 2.9 2.9 2.9 實施例11 70% h2o 4.4 3.9 3.8 3.8 3.8 實施例12 95% h2〇 4.6 4.1 4.1 4. 1 4.1 200417402 表2 精製劑(氧化錳、氧化鉻) Μη原子 精製劑的除去能力(m 1 / g劑) 比例 雜質 第1次 第2次 第3次 第5次 第1 0次 實施例13 90% 02 12.5 10.8 10.8 10.8 10.7 實施例14 50% 〇2 6.6 5.8 5.8 5.7 5.7 實施例15 70% 〇2 8.1 7.1 7.0 7.0 7.0 實施例16 95% 〇2 10.9 9.7 9.7 9.6 9.6 實施例17 90% C〇2 9.6 8.8 8.7 8.7 8.7 實施例18 50% C02 5.2 4.6 4.6 4.5 4.5 實施例19 70% c〇2 7.4 6.8 6.8 6.8 6.7 實施例20 95% C02 7 . 1 6.2 6.2 6.1 6.1 實施例21 90% h2〇 4.8 4.2 4.2 4.2 4.2 實施例22 50% h2〇 3.0 2.5 2.5 2.5 2.4 實施例23 70% h2〇 3.9 3.2 3.2 3.2 3 . 1 實施例24 95% h2〇 4.2 3.6 3.6 3.6 3.6
-26 - 200417402 表3 精製劑(氧化錳、氧化鐵) Μη原子 精製劑的除去能力(m 1 / g劑) 比例 雜質 第1次 第2次 第3次 第5次 第10次 實施例25 90% C〇2 4.3 3.4 3.4 3.4 3.4 實施例26 50% C〇2 2.6 1 .9 1 .9 1.9 1.9 實施例27 70% C〇2 3.7 3.1 3.1 3 . 1 3.1 實施例28 95% C〇2 3.9 3.3 3.3 3.3 3.3
表4
精製劑(氧化錳、氧化錫) Μη原子 精製劑的除去能力(nil/g劑) 比例 雜質 第1次 第2次 第3次 第5次 第10次 實施例29 90% C〇2 8.7 7.9 7.9 7.8 7.8 實施例30 50% C〇2 5.6 5.1 5 . 1 5.1 5.1 實施例31 70% C02 6.9 6.3 6.3 6.3 6.2 實施例32 95% C〇2 7.3 6.9 6.8 6.8 6.8 27 200417402 表5 精製劑(氧化錳、氧化鉻) Μη原子 精製劑的除去能力(ml/g劑) 比例 雜質 第1次 第2次 第3次 第5次 第 10次 實施例33 90% C〇2 8.2 7.5 7.5 7.4 7.4 實施例34 5 0% C〇2 5.1 4.8 4.8 4.8 4.8 實施例35 7 0% C〇2 6.3 5.9 5.9 5.9 5.9 實施例36 9 5% C02 7.0 6.5 6.5 6.5 6.5
表6
精製劑(氧化錳、氧化鉍) Μη原子 精製劑的除去能力(m 1 / g劑) 比例 雜質 第1次 第2次 第3次 第5次 第10次 實施例37 90% C〇2 6.4 5.7 5.7 5.7 5.7 實施例38 50% C〇2 3.4 2.9 2.9 2.9 2.9 實施例39 7 0% C〇2 4.9 4.5 4.4 4.4 4.4 實施例40 95% C02 5.7 5.2 5.2 5.2 5.1 -28- 200417402 表7 精製劑(氧化錳、氧化鈮) Μη原子 精製劑的除去能力(m 1 / g 劑) 比例 雜質 第1次 第2次 第3次 第 5次 第10次 實施例41 90% C〇2 4.5 4.0 4.0 4.0 3.9 實施例4 2 50% C〇2 2.9 2.5 2.5 2.5 2.5 實施例43 70% C02 4.1 3.6 3.6 3.6 3.6 實施例44 95% C〇2 4.2 3.8 3.8 3.8 3.7 表8 精製劑(氧化錳、氧化鉅) Μη原子 精製劑的除去能力(ml/g劑) 比例 雜質 第1次 第2次 第3次 第5次 第10次 實施例45 90% C02 4.6 4.1 4.1 4.1 4. 1 實施例46 50% C〇2 3.1 2.6 2.6 2.5 2.5 實施例47 70% C〇2 4.2 3.8 3.8 3.7 3.7 實施例48 95% C〇2 4.4 3.9 3.9 3.9 3.9 200417402 表9 精製劑(氧化錳、氧化釩、氧化鉻) Μη原子 精製劑的除去能力(nil/g劑) 比例 雜質 第1次 第2次 第3次 第5次 第10次 實施例49 90% C02 10.1 9.1 9.1 9.1 9.1 實施例50 5 0% C〇2 5.5 4.9 4.9 4.9 4.9 實施例51 70% C〇2 6.5 5.8 5.8 5.8 5.8 實施例52 95% C〇2 7.9 7.1 7. 1 7.0 6.9 表1 0 精製劑(氧化錳、氧化釩)+合成沸石 Μη原子 精製劑的除去能力(ml/g劑 ) 比例 雜質 第1次 第2次 第3次 第5次 第10次 實施例53 90% 〇2 8.8 8.4 8.4 8.4 8.3 實施例54 5 0% 〇2 4.8 4.5 4.5 4.4 4.4 實施例55 7 0% 〇2 6.6 6.3 6.3 6.3 6.3 實施例56 95% 〇2 7.2 6.9 6.9 6.9 6.8 實施例57 90% co2 6.5 6.1 6.1 6.1 6.1 實施例58 5 0% c〇2 3.7 3.2 3.2 3.1 3.1 實施例59 7 0% C02 5.2 4.7 4.7 4.7 4.7 實施例60 95% C02 5.9 5.6 5.6 5.5 5.5 實施例61 90% h2o 22.3 20.8 20.8 20.7 20.7 實施例62 5 0% h2〇 20.6 19.2 19.1 19.1 19.1 實施例63 7 0% h2〇 21.1 19.9 19.8 19.8 19.7 實施例64 9 5% h2o 21.5 20. 1 20.1 20.1 20.1 30- 200417402 表1 1 精製劑(氧化錳) Μη原子 精製劑的除去能力(ml/g劑) 比例 雜質 第1次 第2次 第3次 第5次 第10次 比較例1 100% 〇2 1 .6 <1 <1 <1 <1 比較例2 100% C〇2 1.4 <1 <1 <1 <1 比較例3 100% h2〇 1 .4 <1 <1 <1 <1
表12 精製劑(氧化釩) 雜質 精製劑的除去能力(ml/g劑) 第1次 第2次 第3次 第5次 第10次 比較例4 〇2 <1 <1 <1 <1 <1 比較例5 C〇2 <1 <1 <1 <1 <1 比較例6 h2〇 <1 <1 <1 <1 <1
表13 精製劑(赫普卡萊特) 雜質 精製劑的除去能力(ml/g劑) 第1次 第2次 第3次 第5次 第10次 比較例7 〇2 3.1 <1 <1 <1 <1 比較例8 C〇2 1.8 <1 <1 <1 <1 比較例9 h2o 2.5 <1 <1 <1 <1 -3 1 200417402 表14 精製劑(金屬鎳) 雜質 精製劑的除去能力(m 1 / g劑) 第1次 第2次 第3次 第5次 第10次 比較例1〇 〇2 9.1 8.7 8.7 8.7 8.7 比較例11 C02 <1 <1 <1 <1 <1 比較例12 h2〇 <1 <1 <1 <1 <1 (五)圖式簡單說明 第1圖是表示實施本發明的惰性氣體之精製方法的精製 系列的一個例子的構成圖。 第2 ( A )圖和第2 ( B )圖是表示實施本發明的惰性氣體之 精製方法的精製系列的第1圖以外例子的構成圖。 第3圖是表示實施本發明的惰性氣體的精製裝置的一個 例子的構成 圖 〇 元件符號說 明 1 精 製 劑 2 合 成 沸 石 3 、[法- m 劑 筒 4 吸 附 筒 5 處 理 筒 6 加 熱 器 7 惰 性 氣 體 供 給 系 列 8 芈主 製 惰 性 氣 體 的 抽出系列 9 再 生 氣 體 供 給 系 列 1〇 再 生 排 氣 排 出 系 列

Claims (1)

  1. 200417402 拾、申請專利範圍: 1 . 一種惰性氣體之精製方法,其特徵是將惰性氣體與精製劑 接觸,除去含在該惰性氣體中的選自於氧、二氧化碳及水 中之1種以上的雜質,上述精製劑係含有氧化錳及選自於 氧化釩、氧化鉻、氧化鐵、氧化錫、氧化銷、氧化鉍、氧 化鈮及氧化鉅中1種以上的金屬氧化物作爲有效成分。 2 „ —種惰性氣體之精製方法,其特徵是將惰性氣體與精製劑 及合成沸石接觸,除去含在該惰性氣體中的選自於氧、二 氧化碳及水中之1種以上的雜質,上述精製劑係含有氧化 錳及選自於氧化釩、氧化鉻、氧化鐵、氧化錫、氧化鍩、 氧化鉍、氧化鈮及氧化鉅中1種以上的金屬氧化物作爲有 效成分。 3 . —種惰性氣體之精製方法,其特徵是將惰性氣體與精製劑 接觸,除去含在該惰性氣體中的選自於氧、二氧化碳及水 中之1種以上的雜質,進而將再生氣體與該精製劑接觸再 生該精製劑,上述精製劑係含有氧化錳及選自於氧化釩、 氧化鉻、氧化鐵、氧化錫、氧化銷、氧化鉍、氧化鈮及氧 化鉅中1種以上的金屬氧化物作爲有效成分。 4 . 一種惰性氣體之精製方法,其特徵是將惰性氣體與精製劑 及合成沸石接觸,除去含在該惰性氣體中的選自於氧、二 氧化碳及水中之1種以上的雜質,進而將再生氣體與該精 製劑及該合成沸石接觸再生該精製劑及合成沸石,上述精 製劑係含有氧化錳及選自於氧化釩、氧化鉻、氧化鐵、氧 化錫、氧化锆、氧化鉍、氧化鈮及氧化鉅中1種以上的金 -33- 200417402 屬氧化物作爲有效成分。 5 ·如申阳專利範圍第丨〜4項中任一項之惰性氣體精製方法, 其中鍤原子數相對於上述精製劑中總有效成分的金屬原子 數的比例是8 0〜9 9 %。 6 ·如申請專利範圍第丨〜4項中任一項之惰性氣體精製方法, 其中有效成分的含有率相對於精製劑總量爲7 运裏%以 上。 7 ·如申請專利範圍第丨〜4項中任一項之惰性氣體精製方法 其中氧化锰是ΜηΟ、Μη 3 04、Μη 2 0 3或Mn〇2。 8 ·如申請專利範圍第丨〜4項中任一項之惰性氣體精製方法 其中精製劑是將含有Μη的溶液和含有選自於v、Γ w、F e、 Sn、Zr、Bi、Nb、及Ta中1種以上金屬的溶液進行混a 且使得共沈澱的沈澱物過濾、乾燥調製而成。 9 ·如申請專利範圍第2或4項之惰性氣體精製方法,甘+ 其中合 成沸石是具有3〜1 0 A (埃)的細孔徑。 1 〇 .如申請專利範圍第1〜4項中任一項之惰性氣體精製$ & 其中惰性氣體係爲選自於氨、氮、氖、氬、氪、及氣ψ _ 種以上之氣體。 1 1 ·如申請專利範圍第3或4項之惰性氣體精製方法,甘+ 其中精 製劑的再生是藉由於精製劑中供給惰性氣體,接蓄 b、fe氫 氣來進行的。 1 2 ·如申請專利範圍第1〜4項中任一項之惰性氣體精製方法 其中惰性氣體與精製劑的接觸溫度爲1 5 〇 °C以下。 其中惰 1 3 .如申請專利範圍第2或4項之惰性氣體精製方法 一 3 4 - 200417402 性氣體與合成沸石的接觸溫度爲1 5 0 °c以下。 1 4 ·如申請專利範圍第3或4項之惰性氣體精製方法,其中精 製劑的再生溫度爲1 5 0〜4 0 0 °C。 i 5 .如申請專利範圍第4項之惰性氣體精製方法,其中合成沸 石的再生溫度爲150〜350 °C。 i 6 ·如申請專利範圍第3項之惰性氣體精製方法,其中至少配 置2列的具有精製劑之精製系列,一邊按順序切換該精製 系列’ 一邊供給惰性氣體進行精製,同時一邊按順序切換 該精製系列,一邊向精製後的系列供給再生氣體,以再生 該系列的精製劑。 1 7 ·如申請專利範圍第4項之惰性氣體精製方法,其中至少配 置2列的具有精製劑及合成沸石之精製系列,一邊按順序 切換該精製系列,一邊供給惰性氣體進行精製,同時一邊 按順序切換該精製系列,一邊向精製後的系列供給再生氣 體,以再生該系列的精製劑及合成沸石。
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Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102005037576A1 (de) * 2005-08-09 2007-02-15 Linde Ag Verfahren und Vorrichtung zur Gewinnung von Krypton und/oder Xenon
CN1990380B (zh) * 2005-12-30 2010-10-13 天津环煜电子材料科技有限公司 单晶硅制备中稀土镧系基合金吸气剂提纯氩气与氩气回收工艺
EP2481472B1 (en) * 2006-03-10 2014-08-20 C-Quest Technologies International LLC Carbon dioxide sequestration process for cement manufactoring facilities
JP5002230B2 (ja) * 2006-10-05 2012-08-15 日本パイオニクス株式会社 不活性ガスの精製方法
US7993616B2 (en) * 2007-09-19 2011-08-09 C-Quest Technologies LLC Methods and devices for reducing hazardous air pollutants
US8696797B2 (en) * 2008-05-30 2014-04-15 General Electric Company Carbon dioxide removal from synthesis gas at elevated pressure
US7883682B2 (en) 2009-02-20 2011-02-08 Conocophillips Company Carbon dioxide rich off-gas from a two stage gasification process
TWI592205B (zh) 2012-02-10 2017-07-21 美商恩特葛瑞斯股份有限公司 氣體純化器
DE102013109476A1 (de) * 2013-08-30 2015-03-05 Knorr-Bremse Systeme für Schienenfahrzeuge GmbH Verfahren und Einrichtung zur Regeneration eines Zweikammer-Lufttrockners
CN104030257A (zh) * 2014-06-12 2014-09-10 鞍钢股份有限公司 一种氮气净化系统的控制方法
JP6413408B2 (ja) * 2014-07-09 2018-10-31 日立化成株式会社 Co2除去装置
CN104383784B (zh) * 2014-11-27 2016-03-02 中国科学技术大学 从环境气体中分离提取惰性气体的系统和方法
JP6175471B2 (ja) * 2015-10-30 2017-08-02 日本エア・リキード株式会社 ネオン回収精製システムおよびネオン回収精製方法
JP6655645B2 (ja) * 2018-03-27 2020-02-26 エア・ウォーター株式会社 精製ガスの製造装置および精製ガスの製造方法
JP6721020B2 (ja) * 2018-10-01 2020-07-08 日立化成株式会社 Co2除去装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3361531A (en) * 1967-02-27 1968-01-02 Union Carbide Corp Removal of oxygen from gas mixtures
US4869883A (en) * 1988-06-24 1989-09-26 Air Products And Chemicals, Inc. Inert gas purifier for bulk nitrogen without the use of hydrogen or other reducing gases
IT1227219B (it) * 1988-09-26 1991-03-27 Getters Spa Apparecchiatura e metodo relativo per asportare impurezze gassose da gas inerti ed assicurare livelli estremamente bassi di idrogeno
DE3843313A1 (de) * 1988-12-22 1990-06-28 Wacker Chemitronic Verfahren zur entfernung von gasfoermigen kontaminierenden, insbesondere dotierstoffverbindungen aus halogensilanverbindungen enthaltenden traegergasen
JP2980425B2 (ja) * 1990-09-14 1999-11-22 日本パイオニクス株式会社 希ガスの精製方法
FR2751243B1 (fr) * 1996-07-22 1998-08-21 Air Liquide Elimination o2/co d'un gaz inerte par adsoption sur oxyde metallique poreux
FR2783439B1 (fr) * 1998-09-23 2000-10-20 Air Liquide Particules d'adsorbant ellipsoidales et leur utilisation dans un procede de production de gaz

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