TR201802865T4 - Kauçuk bileşimi ve lastik. - Google Patents
Kauçuk bileşimi ve lastik. Download PDFInfo
- Publication number
- TR201802865T4 TR201802865T4 TR2018/02865T TR201802865T TR201802865T4 TR 201802865 T4 TR201802865 T4 TR 201802865T4 TR 2018/02865 T TR2018/02865 T TR 2018/02865T TR 201802865 T TR201802865 T TR 201802865T TR 201802865 T4 TR201802865 T4 TR 201802865T4
- Authority
- TR
- Turkey
- Prior art keywords
- rubber
- group
- rubber composition
- polymer
- mass
- Prior art date
Links
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 title claims abstract description 196
- 239000005060 rubber Substances 0.000 title claims abstract description 196
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 91
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 120
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 81
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 56
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 25
- JSNRRGGBADWTMC-UHFFFAOYSA-N (6E)-7,11-dimethyl-3-methylene-1,6,10-dodecatriene Chemical compound CC(C)=CCCC(C)=CCCC(=C)C=C JSNRRGGBADWTMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- CXENHBSYCFFKJS-UHFFFAOYSA-N (3E,6E)-3,7,11-Trimethyl-1,3,6,10-dodecatetraene Natural products CC(C)=CCCC(C)=CCC=C(C)C=C CXENHBSYCFFKJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 229930009668 farnesene Natural products 0.000 claims abstract description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 122
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 claims description 46
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 claims description 31
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 claims description 19
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 claims description 17
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 claims description 15
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 claims description 15
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 claims description 15
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 15
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 14
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229920003049 isoprene rubber Polymers 0.000 claims description 12
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 8
- YSNRTFFURISHOU-UHFFFAOYSA-N beta-farnesene Natural products C=CC(C)CCC=C(C)CCC=C(C)C YSNRTFFURISHOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 6
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 5
- JSNRRGGBADWTMC-QINSGFPZSA-N (E)-beta-Farnesene Natural products CC(C)=CCC\C(C)=C/CCC(=C)C=C JSNRRGGBADWTMC-QINSGFPZSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 4
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 4
- 239000006230 acetylene black Substances 0.000 claims description 3
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 3
- 239000003273 ketjen black Substances 0.000 claims description 3
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N urea group Chemical group NC(=O)N XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 claims description 2
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 2
- 239000006231 channel black Substances 0.000 claims description 2
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 claims description 2
- PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N sulfanyl Chemical class [SH] PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000006234 thermal black Substances 0.000 claims description 2
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 56
- 238000000034 method Methods 0.000 description 56
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 50
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 45
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 44
- 235000019241 carbon black Nutrition 0.000 description 43
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 43
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 37
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 33
- -1 etc. Substances 0.000 description 24
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 23
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 22
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 21
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 20
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 20
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 17
- 238000004073 vulcanization Methods 0.000 description 16
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 15
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 12
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 11
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 description 11
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 11
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 9
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 9
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 9
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 8
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 8
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 8
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 8
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 6
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 6
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 6
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 5
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 5
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 5
- 230000001804 emulsifying effect Effects 0.000 description 5
- 238000010556 emulsion polymerization method Methods 0.000 description 5
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 5
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical group [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- MOYAFQVGZZPNRA-UHFFFAOYSA-N Terpinolene Chemical compound CC(C)=C1CCC(C)=CC1 MOYAFQVGZZPNRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 4
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 4
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 4
- QWTDNUCVQCZILF-UHFFFAOYSA-N isopentane Chemical compound CCC(C)C QWTDNUCVQCZILF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 4
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 4
- 150000002642 lithium compounds Chemical class 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M sodium nitrite Chemical compound [Na+].[O-]N=O LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 4
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N thioglycolic acid Chemical compound OC(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002943 EPDM rubber Polymers 0.000 description 3
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 229920005549 butyl rubber Polymers 0.000 description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 3
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 3
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 3
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 3
- 229920005555 halobutyl Polymers 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 3
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 3
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YAJYJWXEWKRTPO-UHFFFAOYSA-N 2,3,3,4,4,5-hexamethylhexane-2-thiol Chemical compound CC(C)C(C)(C)C(C)(C)C(C)(C)S YAJYJWXEWKRTPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BWLUMTFWVZZZND-UHFFFAOYSA-N Dibenzylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1CNCC1=CC=CC=C1 BWLUMTFWVZZZND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001174 Diethylhydroxylamine Polymers 0.000 description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004606 Fillers/Extenders Substances 0.000 description 2
- ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N Guanidine Chemical compound NC(N)=N ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241001441571 Hiodontidae Species 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLPJWBQVQIERHM-UHFFFAOYSA-M [Co].C(C)[Al](CC)Cl Chemical compound [Co].C(C)[Al](CC)Cl YLPJWBQVQIERHM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- FQPUYUKTNSOBAN-UHFFFAOYSA-M [Ni].C(C)[Al](CC)Cl Chemical compound [Ni].C(C)[Al](CC)Cl FQPUYUKTNSOBAN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 2
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium peroxydisulfate Substances [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)OOS([O-])=O VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 2
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;prop-2-enenitrile Chemical compound C=CC=C.C=CC#N NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical class C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 239000000701 coagulant Substances 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- 238000011437 continuous method Methods 0.000 description 2
- NWWQJUISNMIVLJ-UHFFFAOYSA-N cyclotetrasulfur Chemical compound S1SSS1 NWWQJUISNMIVLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 2
- GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N decanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(O)=O GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- FVCOIAYSJZGECG-UHFFFAOYSA-N diethylhydroxylamine Chemical compound CCN(O)CC FVCOIAYSJZGECG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 2
- AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N dimethyl butane Natural products CCCC(C)C AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 229930004069 diterpene Natural products 0.000 description 2
- 150000004141 diterpene derivatives Chemical class 0.000 description 2
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 2
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 2
- 238000005087 graphitization Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 2
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 2
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N lithium;butane Chemical compound [Li+].CC[CH-]C WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CETVQRFGPOGIQJ-UHFFFAOYSA-N lithium;hexane Chemical compound [Li+].CCCCC[CH2-] CETVQRFGPOGIQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004668 long chain fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ODHYIQOBTIWVRZ-UHFFFAOYSA-N n-propan-2-ylhydroxylamine Chemical compound CC(C)NO ODHYIQOBTIWVRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URXNVXOMQQCBHS-UHFFFAOYSA-N naphthalene;sodium Chemical compound [Na].C1=CC=CC2=CC=CC=C21 URXNVXOMQQCBHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BNVPLKJYDKYBMC-UHFFFAOYSA-K nickel(3+);trifluoride Chemical compound F[Ni](F)F BNVPLKJYDKYBMC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L peroxydisulfate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N phenyllithium Chemical compound [Li]C1=CC=CC=C1 NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 2
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 2
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 2
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 2
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 235000010288 sodium nitrite Nutrition 0.000 description 2
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 2
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-2,2-bis(chloromethyl)propane Chemical compound ClCC(CCl)(CCl)CCl KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJPKMTDFFUTLGM-UHFFFAOYSA-N 1-aminoethanol Chemical compound CC(N)O UJPKMTDFFUTLGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKBFHCBHLOZDKH-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](CCCl)(OCC)OCC IKBFHCBHLOZDKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CASYTJWXPQRCFF-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCl CASYTJWXPQRCFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVNPFNZTPMWRAX-UHFFFAOYSA-N 2-triethoxysilylethanethiol Chemical compound CCO[Si](CCS)(OCC)OCC DVNPFNZTPMWRAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LOSLJXKHQKRRFN-UHFFFAOYSA-N 2-trimethoxysilylethanethiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCS LOSLJXKHQKRRFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDVOLDOITVSJGL-UHFFFAOYSA-N 3,7-dihydroxy-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3,5,7-tetraborabicyclo[3.3.1]nonane Chemical compound O1B(O)OB2OB(O)OB1O2 XDVOLDOITVSJGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQVVPOMBWBKNRS-UHFFFAOYSA-N 3-(1,3-benzothiazol-2-yl)propyl-triethoxysilane Chemical compound C1=CC=C2SC(CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)=NC2=C1 KQVVPOMBWBKNRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCl KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKQWHIMDQYDQSR-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylthiirane-2-carboxylate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C1(C)CS1 AKQWHIMDQYDQSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002018 Aerosil® 300 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBIXUOLACCULAE-UHFFFAOYSA-N CCC[S+]=C(N(C)C)SSSSC(N(C)C)=[S+]CCC Chemical compound CCC[S+]=C(N(C)C)SSSSC(N(C)C)=[S+]CCC BBIXUOLACCULAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSPIGXNLDXWYKZ-UHFFFAOYSA-N CCO[Si](CCC[S+]=C(N(C)C)SSSSC(N(C)C)=[S+]CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)(OCC)OCC Chemical compound CCO[Si](CCC[S+]=C(N(C)C)SSSSC(N(C)C)=[S+]CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)(OCC)OCC FSPIGXNLDXWYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101150041968 CDC13 gene Proteins 0.000 description 1
- NMSINRARNNWSHY-UHFFFAOYSA-N CN(C)C(SSSSC(N(C)C)=[S+]CC[Si](OC)(OC)OC)=[S+]CC[Si](OC)(OC)OC Chemical compound CN(C)C(SSSSC(N(C)C)=[S+]CC[Si](OC)(OC)OC)=[S+]CC[Si](OC)(OC)OC NMSINRARNNWSHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000005632 Capric acid (CAS 334-48-5) Substances 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 1
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N N-methyl-guanidine Natural products CNC(N)=N CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006057 Non-nutritive feed additive Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 1
- 241000282320 Panthera leo Species 0.000 description 1
- 239000005662 Paraffin oil Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910052774 Proactinium Inorganic materials 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000872198 Serjania polyphylla Species 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDFRFVFUBOYQIX-UHFFFAOYSA-H [B+3].C([O-])([O-])=O.C([O-])([O-])=O.C([O-])([O-])=O.[B+3] Chemical class [B+3].C([O-])([O-])=O.C([O-])([O-])=O.C([O-])([O-])=O.[B+3] YDFRFVFUBOYQIX-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- LXXUYORAHKLDLS-UHFFFAOYSA-N [Li]C1CCC([Li])C(CC)C1 Chemical compound [Li]C1CCC([Li])C(CC)C1 LXXUYORAHKLDLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZEZSORUWZUMNU-UHFFFAOYSA-N [Li]CCCC[Li] Chemical compound [Li]CCCC[Li] BZEZSORUWZUMNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003180 amino resin Polymers 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 230000000845 anti-microbial effect Effects 0.000 description 1
- 239000004599 antimicrobial Substances 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003899 bactericide agent Substances 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010338 boric acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960002645 boric acid Drugs 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-N carbamodithioic acid Chemical compound NC(S)=S DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001112 coagulating effect Effects 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000001010 compromised effect Effects 0.000 description 1
- 230000010485 coping Effects 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- XUJNEKJLAYXESH-UHFFFAOYSA-N cysteine Natural products SCC(N)C(O)=O XUJNEKJLAYXESH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000018417 cysteine Nutrition 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 1
- 238000004455 differential thermal analysis Methods 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N dimethylaminoamidine Natural products CN(C)C(N)=N SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 1
- 238000001382 dynamic differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOOODBUHSVUZEM-UHFFFAOYSA-N ethoxymethanedithioic acid Chemical compound CCOC(S)=S ZOOODBUHSVUZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLHLJVCOVBYQQS-UHFFFAOYSA-N ethyllithium Chemical compound [Li]CC BLHLJVCOVBYQQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012765 fibrous filler Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- YCOZIPAWZNQLMR-UHFFFAOYSA-N heptane - octane Natural products CCCCCCCCCCCCCCC YCOZIPAWZNQLMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N imidazoline Chemical compound C1CN=CN1 MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N lithium;2-methylpropane Chemical compound [Li+].C[C-](C)C UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTTUTKBXMMXKBQ-UHFFFAOYSA-N lithium;stilbene Chemical class C=1C=CC=CC=1C([Li])C([Li])C1=CC=CC=C1 WTTUTKBXMMXKBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAZSNJFDDLMZCP-UHFFFAOYSA-N lithium;stilbene Chemical compound [Li].C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 ZAZSNJFDDLMZCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N methyllithium Chemical compound C[Li] DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFFDJRYGVWMCQY-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-4-(phenyliminomethyl)aniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C=NC1=CC=CC=C1 MFFDJRYGVWMCQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZCCLNYLUGNUKQ-UHFFFAOYSA-N n-(4-nitrosophenyl)hydroxylamine Chemical class ONC1=CC=C(N=O)C=C1 DZCCLNYLUGNUKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- IJJSYKQZFFGIEE-UHFFFAOYSA-N naphthalene;potassium Chemical compound [K].C1=CC=CC2=CC=CC=C21 IJJSYKQZFFGIEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 235000021313 oleic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 1
- VGTPKLINSHNZRD-UHFFFAOYSA-N oxoborinic acid Chemical compound OB=O VGTPKLINSHNZRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000002304 perfume Substances 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 239000012070 reactive reagent Substances 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 239000012926 reference standard material Substances 0.000 description 1
- 239000012744 reinforcing agent Substances 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 239000012453 solvate Substances 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005987 sulfurization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N tetradecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC[14C](O)=O TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N 0.000 description 1
- 238000001757 thermogravimetry curve Methods 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBBATURSCRIBHN-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(3-triethoxysilylpropyldisulfanyl)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSCCC[Si](OCC)(OCC)OCC FBBATURSCRIBHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(3-triethoxysilylpropyltetrasulfanyl)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSSSCCC[Si](OCC)(OCC)OCC VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPPXVBLDIDEHBA-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3-nitropropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC[N+]([O-])=O QPPXVBLDIDEHBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQRACKNXKKOCJY-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(3-trimethoxysilylpropyldisulfanyl)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCSSCCC[Si](OC)(OC)OC NQRACKNXKKOCJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTTSZDBCLAKKAY-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(3-trimethoxysilylpropyltetrasulfanyl)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCSSSSCCC[Si](OC)(OC)OC JTTSZDBCLAKKAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 239000012991 xanthate Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L21/00—Compositions of unspecified rubbers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B60—VEHICLES IN GENERAL
- B60C—VEHICLE TYRES; TYRE INFLATION; TYRE CHANGING; CONNECTING VALVES TO INFLATABLE ELASTIC BODIES IN GENERAL; DEVICES OR ARRANGEMENTS RELATED TO TYRES
- B60C1/00—Tyres characterised by the chemical composition or the physical arrangement or mixture of the composition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F136/00—Homopolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds
- C08F136/22—Homopolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds the radical having three or more carbon-to-carbon double bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/01—Use of inorganic substances as compounding ingredients characterized by their specific function
- C08K3/013—Fillers, pigments or reinforcing additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/02—Elements
- C08K3/04—Carbon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/34—Silicon-containing compounds
- C08K3/36—Silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L47/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds; Compositions of derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L7/00—Compositions of natural rubber
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L9/00—Compositions of homopolymers or copolymers of conjugated diene hydrocarbons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L9/00—Compositions of homopolymers or copolymers of conjugated diene hydrocarbons
- C08L9/06—Copolymers with styrene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K2201/00—Specific properties of additives
- C08K2201/002—Physical properties
- C08K2201/003—Additives being defined by their diameter
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K2201/00—Specific properties of additives
- C08K2201/002—Physical properties
- C08K2201/005—Additives being defined by their particle size in general
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02T—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO TRANSPORTATION
- Y02T10/00—Road transport of goods or passengers
- Y02T10/80—Technologies aiming to reduce greenhouse gasses emissions common to all road transportation technologies
- Y02T10/86—Optimisation of rolling resistance, e.g. weight reduction
Abstract
Mevcut buluş, bir kauçuk bileşeni (A), bir farnesen polimeri (B) ve silikayı (C) içeren bir kauçuk bileşim ile ilgili olup, burada silika (C), 10 ila 100 nm bir ortalama partikül boyutuna sahip olması ile ilgilidir.
Description
TEKNIK ALAN
Mevcut bulus, bir kauçuk bilesenini, bir farnesen polimerini ve silikonu içeren bir kauçuk
bilesimi ve kauçuk bilesim kullanan bir lastikle ilgilidir.
ONCEKI TEKNIK
Simdiye kadar, bir asinma direncinin ve bir mekanik mukavemetin gerekli oldugu
lastiklerin uygulama alaninda, bir dogal kauçuk ve bir stiren-bütadien kauçuk gibi bir kauçuk
bileseninde karbon siyah veya silika gibi bir takviye maddesi dahil edilerek mekanik
inukavemette gelistirilen, kapsamli bir sekilde kullanilan kauçuk bilesimler mevcuttur. Kauçuk
bilesiminde kullanilan karbon siyah veya silikanin partikül boyutu yaklasik 100 ila yaklasik 200
nm kadar büyük oldugunda, genellikle karbon siyah veya silika ve kauçuk bileseni arasinda
yeterli bir etkilesimine ulasilinasi genellikle zordur, böylelikle, elde edilen kauçuk bilesimi
yeterli bir oranda mekanik mukavemette pek gelisme egilimi göstermemektedir. Ek olarak, bu
tarz bir kauçuk bilesiminden üretilen lastikler, düsük bir sertlik sergilemeye ve bu sekilde
direksiyon stabilitesinde yetersiz olmaya egilim göstermektedir.
Öte yandan, kauçuk bilesiminde kullanilan karbon siyah veya silika, yaklasik 5 ila
yaklasik 100 nm kadar küçük bir ortalama partikül boyutuna ve bu sekilde genis bir spesifik
yüzey alanina sahip oldugunda, elde edilen kauçuk bilesim, karbon siyah, ve benzeri ve kauçuk
bilesen arasindaki büyük bir etkilesimden dolayi mekanik mukavemet ve asiri direnç gibi
özelliklerde gelistirilebilir. Ek olarak, bu tarz bir kauçuk bilesiinden üretilen lastikler, bunlarin
artan bir sertliginden dolayi direksiyon stabilitesinde gelistirilebilir.
Fakat, bu tarz küçük bir ortalama partikül boyutuna sahip olan karbon siyahin veya
silikanin kauçuk bilesimde kullanildigi durumda, elde edilen kauçuk bilesiminin, karbon siyah
veya silika partiküller arasindaki yüksek moleküler çekimden dolayi burada karbon siyah veya
silika dagilabilirliginde bozulmaya ineyil gösterdigi bilinmektedir. Kauçuk bilesiminde karbon
siyahin veya silikanin bozulan dagilabilirligi, uzatilmis bir yogurma adimini harekete geçirmeye
meyillidir ve bu sekilde, kauçuk bilesiinin üretkenliginde bir yan etki gösterineye ineyillidir.
Ayni zainanda, karbon siyah veya silikanin bozulan dagilabilirligi, kauçuk bilesiminde isi
üretimine yol açmaya meyillidir, böylelikle buradan üretilen lastikler, yuvarlama direnci
performansinda bozulmaya ineyillidir ve düsük yuvarlama dirençli lastiklere (sözde düsük yakit
tüketimli lastikler) olan gereksinimleri siklikla yerine getiremeyebilir. Dahasi, kauçuk bilesimde
kullanilan karbon siyahin veya silikanin bir küçük ortalama partikül boyutuna sahip oldugu
durumda, elde edilen kauçuk bilesiinin yüksek bir viskozite sergiledigi ve bu sekilde
islenebilirlikte bozuldugu bir problemin olusma meyli vardir.
Bu sebepten ötürü, lastiklere yönelik kauçuk bilesiminin mekanik mukavemeti ve sertligi,
yuvarlama direnci performansina ve bunlarin islenebilirligine göre bir çeliskiye sahip olan
özelliklerdir ve bu sekilde, kauçuk bilesimin, iyi dengelenmis bir sekilde her iki özelliklerde
gelismemesi göz önünde bulundurulmaktadir.
Patent Dokümani 1”de iyi dengelenmis bir sekilde yukarida bahsi geçen özelliklerde
gelistirilebilen bir kauçuk bilesim olarak, bir modifiye edilmis stiren-butadien kopolimerden ve
bir modifiye edilmis konjüge dien bazli polimerden olusan bir dien bazli kauçugu içeren bir
kauçuk bileseni içeren bir lastik ve önceden belirlenmis bir bilesik hazirlama oraninda karbon
siyah veya silika gibi bir dolgu maddesi açiklanmaktadir.
Fakat Patent Dokümani lsde açiklanan lastik bile sadece bir mekanik mukavemeti ve bir
sertligi degil, ayni zamanda yeterince yüksek bir seviyeyle bir yuvarlama direnç performansini
ve bir islenebilirligini yerine getirememektedir ve bu sekilde, bu özelliklerde gelistirilmeyen
lastiklere saglam bir talep mevcuttur.
Ek olarak, Patent Dokümani 2”de, bir kauçuk bilesimini, silikayi ve önceden belirlenmis
bir bilesik hazirlama oraninda bir spesifik moleküler yapiya sahip olan bir silan baglanti
maddesini içeren bir kauçuk bilesim açiklanmaktadir.
Fakat Patent Dokümani 2'de açiklanan lastik ayni zamanda yeterince yüksek bir
seviyeyle bir islenebilirligi, bir yuvarlama direnç performansini ve yeterince yüksek seviyeli bir
sertligi yerine getirememektedir ve bu sekilde, bu özelliklerde gelistirilmeyen lastiklere saglam
bir talep mevcuttur.
Bu esnada, Patent Dokümanlari 3 ve 4, p-farnesenin bir polimerini açiklamaktadir, fakat
bunlarin pratik uygulamalarina yönelik yeterli bir çalismaya sahip olamamaktadir.
ALINTI LISTESI
PATENT LITERATURU
BULUSUN KISA AÇIKLAMASI
TEKNIK PROBLEM
Mevcut bulus, yukarida bahsedilen klasik problemlerin isiginda olusturulmustur. Mevcut
bulus, bilesik hazirlama, kaliplama veya vulkanizasyon 'uzerine sadece iyi bir islenebilirligi
degil, ayni zamanda burada karbon siyahin veya silikanin tüm gelismis dagilabilirliginden dolayi
mükemmel bir yuvarlaina direnci performansini sergileyen bir kauçuk bilesimi saglamaktadir ve
ayni zamanda mekanik mukavemette ve sertlikte bozulmadan ve kauçuk bilesim kullanilarak
elde edilen bir lastikten muzdarip olmamaktadir.
PROBLEMIN ÇOZUMU
Kapsamli ve yogun arastirmalarin bir sonucu olarak, mucitler bir spesifik yapiya sahip
olan bir konj'ûge dien bazli polimer kullanildiginda, elde edilen kauçuk bilesiminin,
islenebilirlikte gelistirilebildigini, burada karbon siyahin ve silikanin gelismis bir
dagilabilirliginden dolayi bir azalmis yuvarlama direncini sergileyebildigi ve ayni zamanda
mekanik mukaveinette ve sertlikte bozulmadan daha fazla muzdarip olmamaktadir. Mevcut
bulus, yukaridaki bulgunun isiginda tamamlanmistir.
Bir baska ifadeyle, mevcut bulus, bir kauçuk bileseni (A) bir famesen poliineri (B) ve
silikayi (C) içeren bir kauçuk bilesimle ilgilidir.
BULUSUN AVANTAJ LI ETKILERI
Mevcut bulusa göre, bilesik hazirlama, kaliplama veya vulkanizasyon üzerine sadece iyi
bir islenebilirligi degil, ayni zamanda burada karbon siyahin veya silikanin tüm gelismis
dagilabilirliginden dolayi mükemmel bir yuvarlama direnci performansini sergileyen bir kauçuk
bilesimi saglamaktadir ve ayni zamanda mekanik mukavemette ve sertlikte bozulmadan ve
kauçuk bilesim kullanilarak elde edilen bir lastikten muzdarip olmamaktadir.
YAP] LANDIRMALARIN AÇIKLAMASI
Mevcut bulusa göre kauçuk bilesimi, bir kauçuk bileseni (A), bir farnesen polimeri (B) ve
silikayi (C) içermektedir.
Kauçuk bilesenin (A) örnekleri, bir süren-butadien kauçuk (buradan sonra I'SBR" olarak
da ifade edilecektir), bir dogal kauçuk, bir butadien kauçugu, bir izopren kauçugu, bir butil
kauçugu, bir halojenli bütil kauçugu, bir etilen propilen dien kauçugu, bir butadien akrilonitril
kopolimer kauçugu ve bir kloropren kauçugunu içermektedir. Bu kauçuklar arsindan, SBR, bir
dogal kauçuk, bir butadien kauçugu ve bir izopren kauçugu tercih edilmektedir ve SBR daha çok
tercih edilmektedir. Bu kauçuklar tek basina veya bunlarin herhangi bir iki veya ikiden fazla bir
karisim formunda kullanilabilir.
Mevcut bulusta kauçuk bileseni (A) olarak kullanilan, tercih edilen sentetik kauçuk
örekleri, SBR, bir butadien kauçugu, bir izopren kauçugu, bir butil kauçugu, bir halojenli bütil
kauçugu, bir etilen propilen dien kauçugu, bir butadien akrilonitril kopolimer kauçugu ve bir
kloropren kauçugunu içermektedir. Bu sentetik kauçuklar arsindan, SBR, bir izopren kauçugu ve
bir butadien kauçugu tercih edilmektedir ve SBR daha çok tercih edilmektedir.
SBR (A-I) olarak, lastiklerin uygulamalarinda genellikle kullanilanlar mevcut olabilir.
Daha spesifik olarak, SBR (A-l) tercihen kütle cinsinden %0.] ila 70, daha çok tercih edilecek
sekilde kütle cinsinden %5 ila 50 ve daha çok tercih edilecek sekilde kütle cinsinden %15 ila 35
bir stiren içerigine sahiptir. Ayni zamanda, SBR (A-I) tercihen kütle cinsinden %01 ila 60 ve
daha çok tercih edilecek sekilde kütle cinsinden %01 ila 55 bir vinil içerigine sahiptir.
1,500,000 araligindadir. SBR9nin agirlik ortalamali molekül agirligi, yukarida belirtilen aralik
içerisinde kaldiginda, elde edilen kauçuk bilesimi, hem islenebilirlikte ve mekanik mukavemette
gelistirilebilir.
Bu esnada, mevcut tarifnamede, agirlik ortalamali molekül agirligi, Orneklerde asagida
açiklanan yöntem ile ölçülen degerdir.
Diferansiyel termal analiz yöntemi ile ölçüldügü gibi mevcut bulusta kullanilan SBR”nin
cam geçis sicakligi (Tg) tercihen -95°C ila O°C ve daha çok tercih edilecek sekilde -95°C ila
-5°C araligindadir. SBR,nin Tg”si, yukarida belirtilen araliga düzenlendiginde, SBR
viskozitesinde olan artisin bastirilinasi ve bunlarin bir tasima özelliginin bastirilmasi
mümkündür.
Mevcut bulusta kullanisli olan SBR, stiren ve butadienin kopolimerize edilmesi
vasitasiyla üretilebilir. SBR üretim yöntemi özellikle kisitlanmamaktadir ve SBR, herhangi bir
emülsiyon polimerizasyon yöntemi, bir çözelti polimerizasyoii yöiitemi, bir buhar fazli
polimerizasyon yöntemi ve bir yigin polimerizasyon yöntemi ile üretilebilir. Bu polimerizasyon
yöntemlerinin arasinda, özellikle bir einülsiyon polimerizasyon yönteini ve bir çözelti
polimerizasyon yöntemi tercih edilmektedir.
(i) Emülsiyon-Polimerize Stiren-Butadien Kauçugu (E-SBR)
E-SBR, siradan bir emülsiyon poliinerizasyon yöiiteini ile üretilebilir. Örnegin bir stiren
monomerin önceden belirlenmis bir miktari ve bir butadien monomerin önceden belirlenmis bir
miktari, bir einülsifiye edici reaktifin mevcudiyetinde emülsifiye edilmekte ve dagitilinaktadir ve
daha soiirasinda bir radikal poliinerizasyon baslatici kullanilarak emülsiyon polimerizasyona tabi
tutulmaktadir.
Emülsifiye edici reaktif olarak, on veya 10°dan fazla karbon atoma veya bir rozinik asit
tuza sahip olan uzun ziiicirli bir yagli asit kullanilabilir. Emülsifiye edici reaktifin spesifik
örnekleri, kaprik asit, laurik asit, miristik asit, palmitik asit, oleik asit ve stearik asit gibi yagli
asitlerin potasyum tuzlarini ve sodyum tuzlarini içermektedir.
Yukaridaki eniülsiyon polimerizasyonunun bir seyrelticisi olarak, genellikle su
kullanilabilir. Seyreltici ayni zamanda bu tarz bir organik solvent kullanimi, polimerizasyon
stabilitesine yönelik herhangi bir yan etki vermedikce metanol ve etanol gibi suda çözünür bir
organik solventi içerebilir.
Radikal polimerizasyon baslaticisiiiiii `ornekleri, amoiiyum persülfat ve potasyuin
persülfat gibi persülfatlari, organik peroksitleri ve hidrojen peroksidi içermektedir.
Elde edilen E-SBR°nin bir moleküler agirliginin uygun bir sekilde düzenlenmesi için, bir
zincir aktarma reaktifi kullanilabilir. Zincir aktarma reaktifinin örnekleri, t-dodesil merkaptan ve
n-dodesil merkaptan gibi merkaptanlari ve karbon tetraklorür, tioglikolik asit, diterpen,
terpinolen, y-terpinen ve bir (x-nietil stiren dimeri içermektedir.
Emülsiyon polimerizasyonu üzerine kullanilan sicaklik, burada kullaiiilaii radikal polimerizasyoii
baslatici türüne göre uygun bir sekilde belirlenebilir ve genellikle 0 ila 100°C ve daha çok tercih
edilecek sekilde 0 ila 60°C araligindadir. Polimerizasyon yöntemi, bir araliksiz polimerizasyon
yöntemi veya bir yigin polimerizasyon yöntemi olabilir. Polimerizasyon reaksiyonu, reaksiyon
sisteinine bir sonlandinna reaktifi eklenerek durdurulabilir.
Sonlandirma reaktifinin örnekleri, izopropil hidroksil amin, dietil hidroksil amin ve
hidroksil amin gibi amin bilesikleri; hidrokuiiion ve benzokinon ve sodyum nitrit gibi kinon bazli
bilesikleri içermektedir.
Polimerizasyon reaksiyonunun s0nlandirilmasindan sonra, gerekli olmasi halinde bir
antioksidan eklenebilir. Dahasi, polimerizasyon reaksiyonunun durdurulmasindan sonra,
reaksiyona girmemis monomerler, gerekli olmasi halinde elde edilen lateksteii çikarilabilir.
Buradan sonra elde edilen polimer, burada bulunan bir koagülan olarak sodyum klorür, kalsiyum
klorür ve potasyum klorür gibi bir tuz eklenerek ve gerekli olmasi halinde, nitrik asit ve sülfürik
asit gibi bir asit eklenerek istenilen bir degere kogülasyon sisteminin bir pH degeri düzenlenirken
koagüle edilebilir ve daha sonrasinda dagitici solvent, polimeriii bir kiriiiti olarak geri
kazanilmasi için reaksiyon çözeltisinden ayrilmaktadir. Bu sekilde geri kazanilan kirinti, suyla
yikaninakta ve dehidre edilmektedir ve daha sonrasinda E-SBR7nin elde edilmesi için bir bantli
kurutucu veya benzeri kullanilarak kurutulmaktadir. Bu esnada, polimeriii kogülae edilmesi
üzerine, lateks, bir yagla genisletilmis kauçuk formunda polimerin geri kazanilmasi için bir
emülsifiye edilen dispersiyonun formunda 'Önceden bir yag genisletici ile karistirilabilir.
(ii) Çözeltisi Polimerize Edilebilir Stiren-Butadien Kaucugu (S-SBR)
S-SBR, siradan bir çözelti polimerizasyon yöntemi ile üretilebilir. Ornegin stiren ve
butadien, gerekli olmasi halinde bir polar bilesigiii mevcudiyetinde bir aiiyon poliinerize
edilebilir aktif inetal kullanilarak bir solveiitte poliinerize edilmektedir.
Anyon-polimerize edilebilir aktif metal 'Örnekleri, lityum, sodyum ve potasyum gibi
alkali metalleri , berilyum, magnezyum, kalsiyum, stronsiyuin ve baryuin gibi alkali toprak
inetalleri ve lantanum ve neodiiniuin gibi lantaiioid bazli nadir toprak inetalleri içermektedir. Bu
aktif metaller arasindan, alkali metaller ve alkali toprak metaller tercih edilmektedir ve daha çok
alkali metaller tercih edilmektedir. Bu alkali metaller, daha çok tercih edilecek sekilde bir
organik alkali metal bilesigin formunda kullanilmaktadir.
Solventin örnekleri, n-butan, n-pentan, izopentan, n-heksan, ii-heptan ve izooktan gibi
alifatik hidrokarbonlari; siklopentan, sikloheksan ve metil siklopentanel gibi alisiklik
hidrokarbonlari ve benzen ve toluen gibi aromatik hidrokarbonlari içermektedir. Bu solventler,
genellikle kütle cinsinden %1 ila 50 araliginda bir konsaiitrasyonda bir monomeriii çözüldüg'û bu
tarz bir aralikta kullanilabilir.
Organik alkali metal bilesigin spesifik örnekleri, n-butil lityum, secbutil lityum, t-bütil
lityum, heksil lityuin, fenil lityum ve stilben lityum gibi organik monolityum bilesikleri;
dilitometan, 1,4-dilit0bütan, l, 4-dilitiyo-2-etil sikloheksan ve 1,3,5-trilitiobenzen gibi çok
fonksiyonlu organik lityum bilesikleri ve sodyum naftalen ve potasyum naftaleni içermektedir.
Bu organik alkali metal bilesikler arasindan, organik lityuin bilesikleri tercih edilmekte ve daha
çok organik monolityum bilesikler tercih edilmektedir. Kullanilan organik alkali inetal bilesik
miktari, S-SBR°nin bir moleküler agirligina göre gerektigi kadar uygun bir sekilde belirlenebilir.
Organik alkali metal bilesigi, dibutil amin, diheksil amin ve dibenzil amin gibi bir ikinci]
aminiii reaksiyona girmesi ile bir organik alkali metal amid formunda kullanilabilir.
Çözelti polimerizasyoiiunda kullanilan polar bilesik, özellikle bilesik, butadien
parçalarinin bir mikro yapisinin kontrol edilmesi için anyon polimerizasyonunda ve reaksiyonun
deaktivasyonuna yol açmadan bunlarin bir kopoliiner zincirinde stiren dagiliminda siradan bir
sekilde kullanilabildikçe kisitlaninainaktadir. Polar bilesigin 'ornekleri, dibütil eter,
tetrahidrofuran ve etilen glikol dietil eter gibi eter bilesikleri; tetrametil etilendiamin ve
trimetilamin gibi üçüncül aminler; ve alkali inetal alkoksitler ve fosfin bilesikleri içerinektedir.
Yukaridaki polimerizasyon reaksiyonunda kullanilan sicaklik genellikle -80 ila lSOOC,
tercihen 0 ila 100°C ve daha çok tercih edilecek sekilde 30 ila 90°C araligindadir.
Polimerizasyoii yöntemi, bir yigin yöntemi veya bir araliksiz yöntem olabilir. Ayni zamanda,
stiren ve butadien arasinda bir rastgele kopolimerize olabilirligin arttirilmasi için, stireii ve
butadien, polimerizasyoii sisteminde stiren ve butadien arasinda bir bilesimsel oranin spesifik bir
aralik içerisinde oldugu sekilde bir araliksiz veya aralikli sekilde bir reaksiyon çözeltisine tedarik
edilmektedir.
Polimerizasyon reaksiyonu, reaksiyon sistemine bir sonlandirina reaktifi olarak metanol
ve izopropanol gibi bir alkol eklenerek durdurulabilir. Ek olarak, sonlandirma reaktifi
eklenmeden önce, polimer zincirin bir aktif ucu ile veya 4,4”-bis (dietilamino) benzofenon ve N-
vinil pirolidon gibi zincir ucunu modifiye eden reaktifle reaksiyona girebilen kalay tetraklor'ûr,
tetraklorosilan, tetrametoksisilan, tetraglisidil-l, 3-bisamin0metil siklohekzan ve 2,4-tolilen
diizosiyanat gibi bir baglama reaktifi eklenebilir. Polimerizasyon reaksiyonunun
durdurulmasindan sonra elde edilen polimerizasyon reaksiyon çözeltisi, hedeflendigi gibi S-
SBR,nin yeniden kazaiiildigi sekilde buradan solventin çikarilmasi için kurutma veya buhar
siyirma islemine dogrudan tabi tutulabilir. Bu esnada, solvent çikarilmadan Önce, polimerizasyon
reaksiyon çözeltisi öncesinde bir yagi genisletilmis kauçuk formunda S-SBR”nin geri
kazanilmasi için bir genisletici yagla karistirilabilir.
(iii) Modifiye Edilmis Stiren-Butadien Kauçuk (Modifiye Edilmis SBR)
Mevcut bulusta, ayni zamanda SBR”ye islevsel bir grubun birlestirilmesi vasitasiyla
örnekleri, bir amino grubu, bir alkoksisilil grubu, bir hidroksil grubu, bir epoksi grubu ve bir
karboksil grubunu içermektedir.
Modifiye edilmis SBR üretim yöntemi olarak, örnegin sonlandirma reaktifi eklenmeden
önce, bir aktif polimer zinciri ucuyla, 4,4i-bis (dietilamino) benzofenon ve N-vinil pirolidon gibi
diger modifiye edici reaktiflerle reaksiyona girebilen kalay tetraklor'ûr, tetraklorosilan, dimetil
diklorosilan, dimetil dietoksisilan, tetrametoksisilan, tetraetoksisilan, 3-aminopropil
trietoksisilan, tetraglisidil-l,3-bisaminometil siklohekzan ve 2,4-tolilen diizosiyanat gibi bir
baglama reaktifinin reaksiyon sistmeine eklendigi yöntem kullanilabilir.
Modifiye edilmis SBR”de, islevsel grubun birlestirildigi polimer alani bir zincir ucu veya
polimerin bir yan zinciri olabilir.
(Izopren Kauçuk (A-II))
Izopren kauçuk, titanyum tetrahidrat-trialkil alüminyum bazli katalizörler, dietil alüminyum
klorid-kobalt bazli katalizörler, trialkil alüminyum-horon triflorür-nikel bazli katalizörler ve
dietil alüminyum klorür-nikel-bazli katalizörler gibi bir Ziegler bazli kataliz'or; S-SBR üretimi
için benzer bir sekilde kullanildigi gibi trietil alüminyum-organik asit neodimiyuin tuzu -Lewis
asidi esasli kataliz'orler; ve bir organik alkali metal bilesigi gibi bir lantanoid bazli nadir toprak
metal katalizör kullanilarak polimerizasyon ile elde edilebilen ticari olarak inevcut bir izopren
kauçuk olabilir. Bu izopren kauçuklar arasindan, bunlarin bir yüksek cis izomer içeriginden
dolayi Ziegler bazli kataliz'or kullanilarak polimerizasyon ile elde edilen izopren kauçuklar tercih
edilmektedir. Ek olarak, lantaoid bazli nadir toprak metal kataliz'ör kullanilarak üretilen bir ultra
yüksek cis izomer içerigine sahip olan bu izopren kauçuklar kullanilabilir.
Izopreii kauçuk tercihen, kütle cinsinden %50 veya daha az, daha çok tercih edilecek
sekilde kütle cinsinden %40 veya daha az ve daha çok tercih edilecek sekilde kütle cinsinden
bozulmaya meyilli olmaktadir. lzopren kauçugun vinil içeriginin alt limit `Özellikle
kisitlanmamaktadir. izopren kauçugun cam geçis sicakligi, bunlarin vinil içerigine bagli olarak
degiskenlik gösterebilir ve tercihen -20°C veya daha düsük ve daha çok tercih edilecek sekilde -
°C veya daha düsüktür.
ortalamali moleküler agirligi, yukarida belirtilen aralik içerisinde kaldiginda, elde edilen kauçuk
bilesimi, iyi bir islenebilirligi ve iyi bir mekanik mukavemeti sergileyebilir.
IZOpren kauçuk kismen dallanmis bir yapiya sahip olabilir veya ömegin kalay tetraklorür,
silikon tetraklorûr, bunlarin molekülünde bir epoksi grubu içeren bir alkoksilan ve alkoksilan
içeren bir amino grup gibi bir modifiye edici reaktif benzeri çok fonksiyonlu türde modifiye
edici bir reaktif ile bir polar fonksiyonel grubu kismen içerebilir.
(Butadien Kauçuk (A-III))
Butadien kauçuk, titanyum tetrahidrat-trialkil alüminyum bazli katalizörler, dietil
alüminyum klorid-kobalt bazli katalizörler, trialkil alüminyum-horon triflorür-nikel bazli
katalizörler ve dietil alüminyum klorür-nikel-bazli katalizörler gibi bir Ziegler bazli kataliz'or; S-
SBR üretiini için benzer bir sekilde kullanildigi gibi trietil alüminyum-organik asit neodimiyum
tuzu -Lewis asidi esasli katalizörler; ve bir organik alkali metal bilesigi gibi bir lantanoid bazli
nadir toprak metal katalizör kullanilarak polimerizasyon ile elde edilebilen ticari olarak mevcut
bir butadieii kauçuk olabilir. Bu butadien kauçuklar arasindan, buiilarin bir yüksek cis izomer
içeriginden dolayi Ziegler bazli katalizör kullanilarak poliinerizasyon ile elde edilen butadien
kauçuklar tercih edilmektedir. Ek olarak, lantaoid bazli nadir toprak metal katalizör kullanilarak
üretilen bir ultra yüksek cis izomer içerigine sahip olan bu butadien kauçuklar kullanilabilir.
Butadien kauçugu tercihen, kütle cinsinden %50 veya daha az, daha çok tercih edilecek
sekilde kütle cinsinden %40 veya daha az ve daha çok tercih edilecek sekilde kütle cinsinden
bozulmaya meyilli olmaktadir. Butadien kauçugun vinil içeriginin alt limit özellikle
kisitlanmamaktadir. Butadien kauçugun cam geçis sicakligi, bunlarin vinil içerigine bagli olarak
degiskenlik gösterebilir ve tercihen -40°C veya daha düsük ve daha çok tercih edilecek sekilde -
50°C veya daha düsüktür.
ortalamali moleküler agirligi, yukarida belirtilen aralik içerisinde kaldiginda, elde edilen kauçuk
bilesimi, iyi bir islenebilirligi ve iyi bir mekanik mukavemeti sergileyebilir.
Butadien kauçugu kismen dallanmis bir yapiya sahip olabilir veya `örnegin kalay
tetraklorür, silikon tetraklorür, bunlarin molekülünde bir epoksi grubu içeren bir alkoksilan ve
alkoksilan içeren bir amino grup gibi bir modifiye edici reaktif benzeri çok fonksiyonlu türde
modifiye edici bir reaktif ile bir polar fonksiyonel grubu kismen içerebilir. [0023]
Kauçuk bilesen olarak, en az bir SBR, izopreii kauçuk ve butadien kauçuguna ek olarak,
bir bütil kauçugu, halojenli butil kauçugu, bir etilen pr0pilen dien kauçugu, bir butadien
akrilonitril kopoliiner kauçugu ve bir kloropren kauçugundan olusan gruptan seçilen bir veya
birden fazla kauçuk kullanilabilir. Bu kauçuklarin üretilinesi yöntemi özellikle kisitli
olmamaktadir ve herhangi bir uygun, ticari olarak mevcut kauçuk da mevcut bulus içerisinde
kullanilabilir.
Mevcut bulusta, SBR, izopren kauçuk, bütadien kauçugu ve diger sentetik kauçuklari
asagida bahsi geçen farnesen polimerle (B) kombinasyon halinde kullanildiginda, elde edilen
kauçuk bilesimin bir islenebilirliginin, burada karbon siyahin dagilabilirliginin ve bunlarin bir
yuvarlama direnci performansinin gelistirilmesi mümkündür.
Sentetik kauçuklarin iki veya ikiden fazla türünün bir karisimi kullanildiginda, mevcut
bulusun etkileri negatif yönde etkilemedikçe, sentetik kauçuklarin kombinasyonu tercihe bagli
olarak seçilebilir. Ayni zamanda, bir yuvarlama direnci perforinansi ve bir asinma direnci gibi
elde edilen kauçuk bilesimin çesitli 'Özellikleri, sentetik kauçuklarin uygun bir kombinasyonu
seçilerek uygun bir sekilde kontrol edilebilir.
Mevcut bulusta kauçuk bileseni (A) olarak kullanilan dogal kauçugun örnekleri, SMR,
SIR ve STR gibi TSR; RSS gibi, lastik endüstrisinde siradan bir sekilde kullanilan dogal
kauçuklari; yüksek safliga sahip dogal kauçuklari; ve epoksitlenmis dogal kauçuklar,
hidroksillenmis dogal kauçuklar, hidrojene dogal kauçuklar ve asilanmis dogal kauçuklar gibi
modifiye edilinis dogal kauçuklari içermektedir. Bu doga] kauçuklar arasindan, SMR20 ve
RSS#3, kalite iyi bir mevcudiyetlik açisindan daha az bir varyasyonun bakis açisindan tercih
edilmektedir. Bu dogal kauçuklar tek basina veya bunlarin herhangi bir iki veya ikiden fazla
kombinasyonu ile kullanilabilir.
Bu esnada, mevcut bulusta kauçuk bilesen (A) olarak kullanilan kauçugun üretilmesi
yöntemi özellikle kisitlanmamaktadir ve herhangi bir uygun, ticari olarak mevcut ürün, kauçuk
olarak kullanilabilir.
Mevcut bulusta, asagida bahsi geçen farnesen polimerle (B) kombinasyon halinde kauçuk
bilesen (A) kullanilarak, elde edilen kauçuk bilesim, bir islenebilirlik, burada karbon siyahin
dagilabilirligi ve bir yuvarlama direnci performansi açisindan gelistirilebilir.
< Famesene Polimer (B)>
Mevcut bulusun kauçuk bilesimi, bir famesen polimeri (B) (buradan sonra ayni zamanda
Mevcut bulusta kullanilan famesen polimer (B) tercihen asagida bahsi geçen yöntem ile
asagidaki formül (I) vasitasiyla temsil edilen ß-farnesenin poliinerize edilmesi vasitasiyla
üretilen bir polimerdir ve daha çok tercih edilecek sekilde ß-farnesenin bir homopolimeridir.
agirligi yukarida belirtilen aralik içerisinde kaldiginda, mevcut bulusa göre elde edilen kauçuk
bilesimi, iyi bir islenebilirlige sahiptir ve ayni zamanda burada silikanin (C) ve karbon siyahin
(D) dagilabilirliginde gelistirilebilir ve bu sekilde iyi bir yuvarlama direnci performansi
sergileyebilir. Bu esnada, mevcut tarifnamede kullanilan poliinerin (B) agirlik ortalamali
moleküler agirligi, asagidaki Orneklerde açiklanan yöntem ile ölçülen degerdir.
Mevcut bulusta birbirlerinden agirlik ortalamali inoleküler agirlik açisindan farkli olan
iki veya ikiden fazla polimer (B) türü, bunlarin bir karisim formunda kullanilabilir.
Polimerin (B) erime viskozitesi (38°C'de ölçüldügü gibi), tercihen 0.1 ila 3,000 Pa's,
Pa°s, hatta daha çok tercih edilecek sekilde 1.5 ila 2,600 Pa's ve en çok tercih edilecek sekilde
1.5 ila 800 Pa-s araligindadir. Polimerin (B) erime viskozitesi yukarida belirtilen aralik içerisinde
kaldiginda, elde edilen kauçuk bilesimi kolay bir sekilde yogrulabilir ve islenebilirlik açisindan
gelistirilebilir. Bu esnada, mevcut tarifnamede, polimerin (B) erime Viskozitesi, asagidaki
Orneklerde açiklanan yöntem ile ölçülen degerdir.
Polimerin (B) moleküler agirlik dagiliini (MW/Mn) tercihen 1.0 ila 8.0, daha çok tercih
edilecek sekilde 1.0 ila 5.0 ve daha çok tercih edilecek sekilde 1.0 ila 3.0 araligindadir.
Polimerin (B) moleküler agirlik dagiliini (MW/Mn) yukarida belirtilen aralik içerisinde
kaldiginda, elde edilen polimer (B), bunlarin viskozitesinde daha az bir varyasyonu uygun bir
sekilde sergileyebilir.
Polimerin (B) cam geçis sicakligi, burada diger monomerlerin içeriklerinin bir vinil
içerigine bagli olarak degiskenlik gösterebilir ve tercihen -90 ila 0°C ve daha çok tercih edilecek
sekilde -90 ila -10°C araligindadir. Polimerin (B) cam geçis sicakligi yukarida belirtilen aralik
içerisinde kaldiginda, elde edilen kauçuk bilesimi, iyi bir yuvarlama direnci performansi
sergileyebilir. Polimerin (B) vinil içerigi, tercihen kütle cinsinden %99 veya daha az ve daha çok
tercih edilecek sekilde kütle cinsinden %90 veya daha azdir.
Mevcut bulusta, polimer (B), tercihen kauçuk bileseninin (A) kütlesi cinsinden 100 parça
esasinda kütle cinsinden 0.1 ila 100 parça, daha çok tercih edilecek sekilde kütle cinsinden 0.5 ila
50 parça ve daha çok tercih edilecek sekilde kütle cinsinden 1 ila 30 parça arasinda bir miktarda
bilesik haline getirilinektedir. Bilesik haline getirilen polimer (B) miktari yukarida belirtilen
aralik içerisinde kaldiginda, elde edilen kauçuk bilesimi iyi islenebilirlik, mekanik mukavemet
ve yuvarlama direnç performansini sergileyebilir.
Polimer (B) bir emülsiyon polimerizasyon yöntemi ile üretilebilir, yöntemler, PCT
açiklanmaktadir. Bu polimerizasyon yöntemleri arasindan, bir emülsiyon polimerizasyon
yöntemi ve bir çözelti polimerizasyon yöntemi tercih edilmektedir ve daha çok bir çözelti
polimerizasyon yöntemi tercih edilmektedir.
(Einülsiyon Polimerizasyon Yöntemi)
Polimerin (B) üretilmesi için emülsiyoii polimerizasyon yöntemi, herhangi bir uygun,
geleneksel olarak bilinen yöntem olabilir. Örnegin bir farnesen monomerin 'Önceden belirlenmis
bir miktari, emülsifiye edici bir reaktif mevcudiyetinde emülsifiye edilmekte ve dagitilinaktadir
ve elde edilen emülsiyon, bir radikal poliinerizasyon baslatici kullanilarak emülsiyon
polimerizasyonuna tabi tutulmaktadir.
Emülsifiye edici reaktif olarak, on veya 10°dan fazla karbon atoma veya bir rozinik asit
tuza sahip olan uzun Zincirli bir yagli asit kullanilabilir. Emülsifiye edici reaktifin spesifik
asitlerin potasyum tuzlarini ve sodyum tuzlarini içermektedir.
Emülsiyon poliinerizasyonunun seyrelticisi olarak, genellikle su kullanilabilir ve
seyreltici ayni zamanda bu tarz bir organik solvent kullanimi, polimerizasyon stabilitesine
yönelik herhangi bir yan etki vermedikçe metanol ve etanol gibi suda çözünür bir organik
solventi içerebilir.
Radikal polimerizasyon baslaticisinin örnekleri, amonyuin persülfat ve potasyum
persülfat gibi persülfatlari; ve organik peroksitleri ve hidrojen peroksidi içermektedir.
Elde edilen polimerin (B) bir moleküler agirliginin uygun bir sekilde düzenlenmesi için,
bir zincir aktarma reaktifi kullanilabilir. Zincir aktarma reaktifinin örnekleri, t-dodesil merkaptan
ve n-dodesil merkaptan gibi merkaptanlari; ve karbon tetraklorür, tioglikolik asit, diterpen,
terpinolen, y-terpinen ve bir (x-metil stiren dimeri içermektedir.
Emülsiyon polimerizasyonu üzerine kullanilaii sicaklik, burada kullanilan radikal
polimerizasyon baslatici türüne göre uygun bir sekilde belirlenebilir ve genellikle 0 ila IOO°C ve
daha çok tercih edilecek sekilde 0 ila 60°C araligindadir. Polimerizasyon yöntemi, bir araliksiz
polimerizasyon yöntemi veya bir yigin poliinerizasyon yöntemi olabilir. Poliinerizasyoii
reaksiyonu, reaksiyon sistemine bir sonlandirma reaktifi eklenerek durdurulabilir.
Sonlandirma reaktifinin örnekleri, izopropil hidroksil amin, dietil hidroksil amin ve
hidroksil amin gibi ainin bilesikleri; hidrokuinon ve benzokinon ve sodyum nitrit gibi kinon bazli
bilesikleri içemiektedir.
Polimerizasyon reaksiyonunun sonlandirilmasindan sonra, gerekli olmasi halinde bir
antioksidan eklenebilir. Dahasi, polimerizasyon reaksiyonunun durdurulmasindan sonra,
reaksiyona girmemis monomerler, gerekli olmasi halinde elde edilen lateksten çikarilabilir.
Buradan sonra, elde edilen polimer (B), burada bulunan bir koagülan olarak sodyum klorür,
kalsiyum klorür ve potasyum klorür gibi bir tuz eklenerek ve gerekli olmasi halinde, nitrik asit
ve sülfürik asit gibi bir asit eklenerek istenilen bir degere kogülasyoii sisteminin bir pH degeri
düzenlenirken koagüle edilebilir ve daha sonrasinda dagitici solvent, polimerin (B) bir kirinti
olarak geri kazanilmasi için reaksiyon çözeltisinden ayrilmaktadir. Bu sekilde geri kazanilan
polimer, suyla yikanmakta ve dehidre edilmektedir ve daha sonrasinda polimerin (B) elde
edilmesi için kurutulmaktadir. Bu esnada, polimerin koagüle edilmesi üzerine, lateks, bir yagla
genisletilmis kauçuk formunda polimerin (B) geri kazanilinasi için bir em'ûlsifiye edilen
dispersiyonun formunda önceden bir yag genisletici ile karistirilabilir.
(Çözelti Polimerizasyon Yöntemi)
Polimerin (B) üretilmesine yönelik çözelti polimerizasyon yöntemi, herhangi bir uygun,
geleneksel olarak bilinen yöntem olabilir. Omegin bir farnesen monomer, gerekli olmasi halinde
bir polar bilesigin mevcudiyetinde bir Ziegler bazli kataliz'or, bir metalloken bazli kataliz'ör veya
bir anyon polimerize edilebilir aktif metal kullanilarak bir solventte polimerize edilebilir.
Anyon-polimerize edilebilir aktif metal örnekleri, lityum, sodyum ve potasyum gibi
alkali metalleri; berilyum, magnezyum, kalsiyum, stronsiyum ve baryum gibi alkali toprak
metalleri ve lantanum ve neodimium gibi lantanoid bazli nadir toprak metalleri içermektedir. Bu
aktif metaller arasindan, alkali metaller ve alkali toprak metaller tercih edilmektedir ve daha çok
alkali metaller tercih edilmektedir. Bu alkali metaller, daha çok tercih edilecek sekilde bir
organik alkali metal bilesigin formunda kullanilmaktadir.
Çözelti polimerizasyonunda kullanilan solvent örnekleri, n-butan, n-pentan, izopentan, n-
heksan, n-heptan ve izooktan gibi alifatik hidrokarbonlari; siklopentan, sikloheksan ve metil
siklopentanel gibi alisiklik hidrokarbonlari ve benzen, toluen ve ksilen gibi aromatik
hidrokarbonlari içermektedir.
Organik alkali metal bilesigin spesifik örnekleri, metil lityuin, etil lityum, n-bütil lityum,
sek-butil lityum, t-butil lityum, heksil lityum, fenil lityum ve stilben lityum gibiorganik
monolityum bilesikleri; dilitiyonaftalin, l,4-dilitob'utan, 1,4-dilitiy0-2-etil sikloheksan ve 1,3,5-
trilitiobenzen gibi çok fonksiyonlu organik lityum bilesikleri; ve sodyum naftalen ve potasyum
iiaftaleni içermektedir. Bu organik alkali inetal bilesikler arasindan, organik lityum bilesikleri
tercih edilmekte ve daha çok organik inonolityuin bilesikler tercih edilmektedir. Kullanilan
organik alkali metal bilesik miktari, farnesen polimerin bir moleküler agirligina göre gerektigi
kadar uygun bir sekilde belirlenebilir ve tercihen farnesen kütlesi cinsinden 100 parçanin
esasinda kütle cinsinden 0.01 ila 3 parça araligindadir.
Organik alkali metal bilesigi, dibutil amin, diheksil amin ve dibenzil amin gibi bir ikinci]
aminin reaksiyona girmesi ile bir organik alkali metal amid formunda kullanilabilir.
Polar bilesigi, reaksiyonun deaktivasyonuna yol açmadan farnesen parçalarinin bir mikro
yapisinin kontrol edilmesi için anyon polimerizasyonunda kullanilabilir. Polar bilesigin
örnekleri, dibütil eter, tetrahidrofuran ve etilen glikol dietil eter gibi eter bilesikleri; tetrametil
etilendiamiii ve triinetilainin gibi üçüncül aminler; ve alkali metal alkoksitler ve fosfin bilesikleri
içermektedir. Polar bilesigi tercihen organik alkali metal bilesiginin esasinda 0.01 ila 1,000 mol
esdeger bir miktarda kullanilmaktadir.
Yukaridaki polimerizasyoii reaksiyonunda kullaiiilan sicaklik genellikle -80 ila 150°C,
tercihen 0 ila 100°C ve daha çok tercih edilecek sekilde 10 ila 90°C araligindadir.
Polimerizasyon yöntemi, bir yigin yöntemi veya bir araliksiz yöntem olabilir.
Polimerizasyon reaksiyonu, reaksiyon sistemine, metanol ve izopropanol gibi bir
sonlandirma reaktifi eklenerek durdurulabilir. Elde edilen polimerizasyon reaksiyon çözeltisi,
poliinerin (B) çökeltilmesi için metaiiol gibi zayif bir solvente dökülebilir. Alternatif olarak,
polimerizasyon reaksiyon çözeltisi, suyla yikanabilir ve daha sonrasinda buradan bir kati
ayrilmakta ve buradan polimerin (B) izole edilinesi içiii kurutulmaktadir.
(Modifiye Edilmis Polimer)
Bu sekilde elde edilen polimer (B), modifikasyon islemine tabi tutulabilir. Modifikasyon
isleminde kullanilan bir islevsel grubun örnekleri, bir amino grubu, bir amid grubu, bir imino
grubu, bir imidazol grubu, bir üre grubu, bir alkoksisilil grubu, bir hidroksil grubu, bir epoksi
grubu, bir eter grubu, bir karboksil grubu, bir karbonil grubu, bir merkapto grubu, bir izosiyanat
grubu, bir nitril grubu ve bir asit anhidrid grubu içermektedir.
Modifiye edilmis polimer üretim yöntemi olarak, örnegin sonlaiidirma reaktifi
eklenmeden önce, bir aktif polimer zinciri ucuyla, 4,4,-bis (dietilamino) benzofenon, N-Vinil
pirolidon, N-metil pirolidon, 4-dimetilaminobenziliden anilin ve diinetil imidazolidinon gibi bir
diger modifiye edici reaktiflerle reaksiyona girebilen kalay tetraklori'ir, tetraklorosilan, dimetil
diklorosilan, dimetil dietoksisilan, tetrametoksisilan, tetraetoksisilan, 3-aminopropi1
trietoksisilan, tetraglisidil-l, 3-bisaminometi1 siklohekzaii ve 2,4-tolilen diizosiyaiiat gibi bir
baglama reaktifinin, polimerizasyon reaksiyon sistemine eklendigi yöntem kullanilabilir. Dahasi,
kullanildiginda izole polimer, maleik anhidrit veya benzeri ile asilanabilir.
Modifiye edilmis polimerde, islevsel grubun birlestirildigi polimer alani bir zincir ucu
veya polimerin bir yan zinciri olabilir. Ek olarak, bu islevsel gruplar, bunlarin herhangi bir iki
veya ikiden fazla kombinasyonu ile kullanilabilir. Modifiye edici reaktif, organik alkali metal
bilesigin esasinda 0.] ila 10 mol esdeger miktarinda kullanilabilir.
Silika (C) 'Örnekleri, islak silika (sulu silika), kuru silika (susuz silika), kalsiyum silikat ve
alüininyuin silikati içermektedir. Bu silikalardan, bir islenebilirligin gelisimi açisindan, elde
edilen kauçuk bilesimin bir mekanik mukavemeti ve bir asinma direnci tercihen islak silikadir.
Bu silikalar tek basina veya bunlarin herhangi bir iki veya ikiden fazla bir karisim formunda
kullanilabilir.
Silikanin (C) ortalama partikül boyutu, elde edilen kauçuk bilesiinin bir islenebilirligin,
bir yuvarlama direnci performansinin, bir mekanik mukaveinetinin ve bir asinma direncinin
gelistirilmesi açisindan tercihen 0.5 ila 200 nm, daha çok tercih edilecek sekilde 5 ila 150 nm ve
daha çok tercih edilecek sekilde 10 ila 100 nm araligindadir.
Bu esnada, silikanin (C) ortalaina partikül boyutu, bir iletim elektron mikroskopu
vasitasiyla silika partiküllerinin çaplari ölçülerek ve ölçülen çaplarin ortalama bir degeri
hesaplanarak belirlenebilir.
Silika (C), kauçuk bileseninin (A) kütlesi cinsinden 100 parça esasinda kütle cinsinden
tercih edilecek sekilde kütle cinsinden 5 ila 100 parça arasinda bir miktarda bilesik haline
getirilmektedir. Bilesik haline getirilen silika miktari yukarida belirtilen aralik içerisinde
kaldiginda, elde edilen kauçuk bilesimi, bir islenebilirlik, bir yuvarlama direnci performansi, bir
mekanik mukavemet ve bir asinma direnci açisindan gelistirilebilir.
Karbon siyah (D) `ornekleri, firin siyahi, kanal siyahi, termal siyah, asetilen siyahi ve
Ketjen siyahi gibi karbon siyahlari içermektedir. Bu karbon siyahlar arasindan, kauçuk bilesimin
yüksek bir vulkanizasyon hizi ve gelismis bir mekanik mukavemeti açisindan, firin siyahi tercih
edilmektedir.
Karbon siyah (D), tercihen elde edilen kauçuk bilesimin bir islenebilirligi, bir inekanik
mukavemeti ve bir sertligi açisindan 5 ila 100 nm, daha çok tercih edilecek sekilde 5 ila 80 nm
ve daha çok tercih edilecek sekilde 5 ila 70 nm araliginda bir ortalama partikül boyutuna sahiptir.
ila 100 nm bir ortalama partikül boyutuna sahip olan karbon siyah (D) gibi ticari olarak
mevcut firin siyahinin `Örnekleri, Mitsubishi Chemical CorpIdaii temin edilebilen
ila 100 nm bir ortalama partikül boyutuna sahip karbon siyah (D) gibi ticari olarak mevcut
asetilen siyahinin örnekleri, Denki Kagaku Kogyo K.K.”den temin edilebilen
siyah (D) gibi ticari olarak mevcut Ketjen siyahinin 'Örnekleri, Lion C0rp.”dan tein edilebilen
Karbon siyah (D), bunlarin nitrik asidi, sülfürik asit, hidroklorik asit veya bir karisik asit
ile bir asit islemine tabi tutulabilir veya kauçuk bileseninde (A) ve polimerde (B) karbon siyahin
(D) bir islatilabilirliginin veya bir dagilabilirliginin gelistirilmesi açisindan bunlarin bir yüzey
oksidasyon isleminin yürütülmesine yönelik hava inevcudiyetinde bir isi islemine tabi tutulabilir.
Ek olarak, mevcut bulusun kauçuk bilesiminin bir mekanik mukavemetinin gelistirilmesi
açisindan, karbon siyah, bir grafitizasyon katalizörü mevcudiyetinde 2,000 ila 3,000°C bir
sicaklikta bir isi islemine tabi tutulabilir. Grafitizasyon katalizörü olarak, uygun bir sekilde
(örnegin ortoborik asit, metaborik asit ve tetraborik asit) ve bunlarin tuzlari, boron karbonatlar
(örnegin B4C ve BsO, boron nitrit (BN gibi) ve diger boron bilesikler) olabilir.
Karbon siyahin (D) partikül boyutu, pulverizasyon veya benzeri ile kontrol edilebilir.
Karbon siyahin (D) pulverize edilmesi için, yüksek hizli döner bir `Ögütücü (çekiçli ögütücü, bir
piinli ögütücü ve bir kafesli ögütücü) veya çesitli bilyali ögütücüler (bir haddeleine ögutücü, bir
titresimli `Ögütücü ve bir gezegen ögütücü), bir karistirma ögütücü (bir tanecikli 'Ögütücü, bir
attritör, bir akis borusu 'Ögütücü ve bir yuvarlak ögütücü) veya benzeri kullanilabilir.
Bu esnada, karbon siyahin (D) ortalama partikül boyutu, bir iletim elektron mikroskopu
vasitasiyla karbon siyahi partiküllerinin çaplari ölçülerek ve ölçülen çaplarin ortalama bir degeri
hesaplanarak belirlenebilir.
Mevcut bulusun kauçuk bilesiminde, karbon siyah (D), kauçuk bileseninin (A) kütlesi
cinsinden 100 parça esasinda kütle cinsinden 0.1 ila 150 parça, daha çok tercih edilecek sekilde
parça arasinda bir miktarda bilesik haline getirilmektedir. Bilesik haline getirilen karbon siyahin
(D) miktari yukarida belirtilen aralik içerisinde kaldiginda, elde edilen kauçuk bilesimi, iyi
mekanik mukavemet, sertlik ve islenebilirlik sergilemektedir ve karbon siyah (D)
kauçuk bilesiminde iyi bir dagilabilirlige sahiptir.
(Silan Baglama Reaktifi)
Mevcut bulusun kauçuk bilesimi, bir silan baglama reaktifini içermektedir. Silan
baglama reaktifinin örnekleri, bir sülfür bazli bilesik, bir merkapto bazli bilesik, bir Vinil bazli
bilesik, bir amino bazli bilesik, bir glisidoksi bazli bilesik, bir nitro bazli bilesik ve bir kloro bazli
bilesigi içermektedir.
Sülfür bazli bilesigin spesifik örnekleri, bis (3-trietoksisililpr0pil) tetrasülfür, bis (2-
trietoksibenziloksi) tetrasülfür, bis (3-trimetoksisililpropil) tetrasülfür, bis (2-trimetoksisililetil)
tetrasülfûr, bis (3-triet0ksi sililpropil) trisülfür, bis (3-trimet0ksi sililpropil Otrisülfur bis (3-
trietoksisililpropil) disülfûr, bis (3-trimetoksisililpr0pil) disülfür 3 - triinetoksisilil propil - N, N-
dimetiltiokarbamil tetrasülfür, 3-triet0ksisililpropil-N, N-dimetiltiyokarbamoil tetrasulfür, 2-
trimetoksisililetil-N, N-dimetiltiokarbamoil tetrasülfür, 3-trimetoksisililpropil benzotiazol
tetrasülfur, 3-triet0ksisililpropil benzotiyazol tetrasülfid, 3-trietoksisililpr0pi1 inetakrilat
monosülfür ve 3-trimet0ksisililpr0pil metakrilat monosülfürü içermektedir.
Merkapta bazli bilesigin spesifik 'örnekleri, 3-merkaptopr0pil trimetoksi silan, 3-
merkaptopropil trietoksi silan, 2-merkaptoetil trimetoksisilan ve 2-merkaptoetil trietoksi silani
içermektedir.
Vinil bazli bilesigin spesifik örnekleri, Vinil trietoksisilan ve vinil trimetoksisilani
içermektedir.
Amino bazli bilesigin spesifik örnekleri, 3-aminopropil trietoksisilan, 3-aminopropil
trietoksisilan, 3-(2-aminoetil)aminopropil trimetoksisilan ve 3-(2-aminoeti1)aminopropil
trimetoksisilan içermektedir.
Glisidoksi bazli bilesigin spesifik örnekleri, y-glisidoksipropil trietoksisilan, y-
glisidoksipropil trimetoksisilan, y-glisidoksipropilmetil dietoksisilan ve y-glisidoksipropilmetil
dimetoksisilani içermektedir.
Nitro bazli bilesigin spesifik örnekleri, 3-nitropropil trimetoksisilan ve 3-nitr0propil
trietoksisilaiii içermektedir.
Kloro bazli bilesigin spesifik 'örnekleri, 3-kloropropil trimetoksisilan, 3-kloropropil
trietoksisilan, 2-klor0etil trimetoksisilan ve 2-kloroetil trietoksisilan içermektedir.
Bu silan baglama reaktifleri tek basina veya bunlarin herhangi bir iki veya ikiden fazla
karisiminin formunda kullanilabilir. Bu silan baglama reaktiflerinden, bis (3-trietoksisililpr0pil)
disülfûr, bis (3-triet0ksisililpropil) tetrasülfûr ve 3-merkaptopropil trimetoksisilan, büyük bir
eklenti etkisi ve düsük maliyet açisindan tercih edilmektedir.
Silan baglama reaktifi, tercihen silikanin (C) kütlesi cinsinden 100 parça esasinda kütle
cinsinden 01 ila 30 parça, daha çok tercih edilecek sekilde kütle cinsinden 05 ila 20 parça ve
daha çok tercih edilecek sekilde kütle cinsinden 1 ila 15 parça arasinda bir miktarda bilesik
haline getirilmektedir. Bilesik haline getirilen silan baglama reaktifinin miktari yukarida
belirtilen aralik içerisinde kaldiginda, elde edilen kauçuk bilesimi, dagilabilirlik, baglama etkisi,
takviye etme özelligi ve asinma direnci açisindan gelistirilebilir.
(Diger Dolgu Maddeleri)
Kauçuk bilesimin bir mekanik mukavemetinin gelistirilmesi, bunlarin bir isi direnci ve
asinma direnci gibi çesitli özelliklerin gelistirilmesi, bunlarin bir sertliginin kontrol edilmesi ve
ayni zamanda bir genisletici eklenerek ekonominin gelistirilmesi amaçlari için, kauçuk bilesimi
ayni zamanda, gerekli olmasi halinde silikadan (C) ve karbon siyahtan (D) baska bir dolgu
maddesini içerebilir.
Silikadan (C) ve karbon siyahtan (D) baska dolgu maddesi, elde edilen kauçuk bilesiinin
uygulamalarina göre uygun bir sekilde seçilebilir. Örnegin dolgu maddesi olarak, kil, talk, mika,
kalsiyum karbonat, magnezyum hidroksit, alüminyum hidroksit, baryum sülfat, titanyum oksit,
cam elyafi, lifli dolgu maddeleri ve cam balonlari gibi organik dolgu maddelerinden ve inorganik
dolgu maddelerinden olusan gruptan seçilen bir veya birden fazla dolgu maddesi kullanilabilir.
Mevcut bulusun kauçuk bilesiminde hazirlanan yukaridaki dolgu maddesi, tercihen kauçuk
bileseninin (A) kütlesi cinsinden 100 parça esasinda kütle cinsinden 0.1 ila 120 parça, daha çok
tercih edilecek sekilde kütle cinsinden 5 ila 90 parça ve daha çok tercih edilecek sekilde kütle
cinsinden 10 ila 80 parça arasinda bir miktarda bilesik haline getirilmektedir. Bilesik haline
getirilen dolgu maddesi miktari yukarida belirtilen aralik içerisinde kaldiginda, elde edilen
kauçuk bilesimi, mekanik mukavemet açisindan gelistirilebilir.
Mevcut bulusun kauçuk bilesimi ayni zamanda, gerekli olmasi halinde mevcut bulusun
etkileri negatif yönde etkilenmedikçe elde edilen kauçuk bilesiinin bir islenebilirilginin, bir
akiskanliginin veya benzer bir özelliginin gelistirilmesi amaciyla bir yumusatma reaktifini
içerebilir. Yuinusatina reaktifinin öniekleri, bir silikon yagi, bir aroma yagi, TDAE (islenmis
damitilmis aromatik özler), MES (yumusak özütleninis solvatlar), RAE (kalici aroinatik özler),
bir parafin yagi ve bir naften yagi; ve böyle bir sivi polimer. düsük molekül agirlikli
polibütadien, düsük moleküler agirlikli bir poliizopren, düsük molekül agirlikli stiren-butadien
kopolimeri ve düsük molekül agirlikli bir stiren-izopren kopolimeri gibi bir islem yagini
içermektedir. Bu esnada, yukaridaki kopolimerler, bir blok kopolimerinin veya bir rastgele
kopolimerinin formunda olabilir. Sivi polimeri tercihen elde edilen kauçuk bilesiminin iyi bir
islenebilirligi açisindan 500 ila 100,000 bir agirlik ortalainali moleküler agirliga sahiptir.
Yukaridaki islem yagi veya yumusatma reaktifi olarak sivi polimer tercihen kauçuk bilesenin (A)
kütlesi cinsinden 100 parça esasinda kütle cinsinden 50 parçadan daha az bir miktarda mevcut
bulusun kauçuk bilesiminde bilesik haline getirilmektedir.
Mevcut bulusun kauçuk bilesimi ayni zamanda, gerekli olmasi halinde mevcut bulusun etkileri
negatif bir sekilde etkilenmedikçe, elde edilen kauçuk bilesimin bir asinma direncinin, bir isi
direncinin, bir oksidasyon direncinin veya beiizerinin gelistirilinesi amaciyla bir antioksidandan,
bir oksidasyon inhibitöründen, bir yaglayicidan, bir isik stabilizöründen, bir yakarak kurutma
geciktiriciden, bir isleme yardimcisindan, piginentler ve boyama konulari gibi bir
renklendiriciden, bir alev geciktiriciden, bir antistatik reaktiften, bir parilti önleyici reaktiften, bir
anti-bloke edici reaktiften, bir morötesi emiciden, bir serbest birakma reaktifinden, bir
köpüklestirici reaktiften, bir antimikrobik reaktiften, bir küf 'Önleyici reaktiften ve bir parfümden
olusan gruptan seçilen bir veya birden fazla katki maddesini içerebilir.
Oksidasyon inhibitörünün 'Örnekleri, engellenmis fenol bazli bilesikler, fosfor bazli
bilesikler, lakton bazli bilesikler ve hidroksil bazli bilesikleri içermektedir.
Antioksidan `ornekleri, amin-keton bazli bilesikler, imidazol bazli bilesikler, amin bazli.
bilesikler, fenol bazli bilesikler, kükürt bazli bilesikler ve fosfor bazli bilesikleri içermektedir.
Mevcut bulusun kauçuk bilesimi, tercihen buraya bir çapraz baglama reaktifi eklenerek
üretilen bir çapraz bagli ürünün formunda kullanilmaktadir. Çapraz baglama reaktifinin
örnekleri, kükürt ve kükürt bilesikleri, oksijen/organik peroksitler, fenol reçineleri ve amino
reçineleri, kuinon ve kuinon dioksim türevleri, halojen bilesikleri, aldehit bilesikleri, alkol
bilesikleri, epoksi bilesikleri, metal halidleri ve organik metal halojenürleri ve silan bilesiklerini
içermektedir. Bu çapraz baglama reaktifleri arasindan, kükürt ve kükürt bilesikleri tercih
edilmektedir. Bu çapraz baglama reaktifleri tek basina veya bunlarin herhangi bir iki veya ikiden
fazla kombinasyonu ile kullanilabilir. Çapraz baglama reaktifi, tercihen kauçuk bileseninin (A)
kütlesi cinsinden 100 parça esasinda kütle cinsinden 0.1 ila 10 parça arasinda bir miktarda
kauçuk bilesiminde bilesik haline getirilmektedir.
Çapraz baglama reaktifi olarak kükürt kullanildiginda, bir vulkanizasyon yardimcisi veya
bir vulkanizasyoii hizlandiricisi, tercihen çapraz baglama reaktifi ile kombinasyon halinde
kullanilmaktadir.
Vulkanizasyon yardimcisinin örnekleri, stearik asit gibi yagli asitleri ve çinko oksit gibi
metal oksitleri içermektedir.
Vulkanizasyon hizlandiricisiniii örnekleri, guanidin esasli bilesikler, sülfonamit bazli
bilesikler, tiyazol bazli bilesikler, tiyuanr bazli bilesikler, tiyoüre bazli bilesikler, ditiyokarbamik
asit, asit bazli bilesikler, aldehit-amonyak bazli bilesikler, imidazolin esasli bilesikler ve ksantat
bazli bilesikleri içermektedir. Bu vulkaiiizasyon yardimcilari veya vulkanizasyon hizlandiricilari
tek basina veya bunlarin herhangi bir iki veya ikiden fazla kombiiiasyonu ile kullanilabilir.
Vulkanizasyon yardimcisi veya vulkanizasyon hizlandiricisi, tercihen kauçuk bileseninin (A)
kütlesi cinsinden 100 parça esasinda kütle ciiisiiideii 0.1 ila 15 parça arasinda bir miktarda
kauçuk bilesiniinde bilesik haliiie getirilniektedir.
Mevcut bulusun kauçuk bilesiminin üretilmesine yönetil yöntem özellikle
kisitlaiiiiiamaktadir ve herhaiigi bir uygun yöntem, ilgili bilesenler tekdüze bir sekilde birbirleri
ile karistirildikça mevcut bulusta kullanilabilir. Ilgili bilesenlerin tekdüze bir sekilde
karistirilmasi yöntemi, genellikle 70 ila 270°C bir sicaklik araliginda yogurma dümeni, bir
Brabender, bir Banbury karistiricisi ve bir dahili karistirici gibi bir tegetsel türde veya bir hasir
türünde kapali türde bir yogurucu, tek Vidali ekstruder, çift Vidali ekstruder, bir karistirma
silindiri, bir silindir veya benzeri kullanilarak uygulanabilir.
Mevcut bulusun lastigi, bunlarin en azindan bir bölümünde mevcut bulusun kauçuk bilesimini
kullanarak üretilmektedir e bu sekilde, iyi bir mekanik mukavemet ve mükeniniel bir yuvarlama
direnci performansi sergileyebilmektedir,
ÖRNEKLER
Mevcut bulus, asagidaki örneklere istiiiadeii asagida daha kapsamli bir sekilde
açiklanacaktir. Fakat asagidaki örnekler sadece görsel amaçli oldugu ve burada bulusu
kisitlayici amaçli olmadigi not belirtilmelidir.
Asagidaki Onieklerde ve Karsilastirmali Omeklerde kullaiiilaii ilgili bilesenler asagidaki
Kauçuk Bilesen 1A):
A-l: Stiren-butadien kauçugu "JSR1500" (J SR Corpfden temin edilebilmektedir),
Agirlik ortalamali moleküler agirlik: 450,000;
Stiren içerigi: kütle cinsinden %235 (emülsiyon polimerizasyon yöntemi ile üretilmektedir)
A-2: Butadien kauçugu "BROl " (J SR C0rp7den temin edilebilmektedir);
Agirlik ortalamali inoleküler agirlik: 550,000;
Cis izomer içerigi: kütle cinsinden %95
A-3: Dogal kauçuk "SMR20" (Malezya'dan dogal kauçuk)
Polimer (B):
Uretim Örnekleri 1 ila 4 ve 6 ila 8 arasinda üretilen polifarnesenler (B-l) ila (B-4) ve (B-5) ila
(3-7)
Silika (C 1:
C-l: "ULTRASIL 7000GR" (islak silika: ortalama partikül boyutu: 14 nm)
(Evonik Degussa Japan Co., Ltdfden temin edilebilmektedir)
C-2: "AEROSIL 300" (kuru silika; ortalama partikül boyutu: 7nm)
(Nippon Aerosil Co., Ltd.”den temin edilebilmektedir)
C-3: "NIPSIL E-74P" (islak silika; ortalama partikül boyutu: 74 nm)
(Tosoh Silica Corp.”dan temin edilebilmektedir)
Karbon Siyah (D !:
D-l: ”DIABLACK H" (Mitsubishi Chemical Corp'dan temin edilebilmektedir)
(ortalama partikül boyutu: 30 nm)
D-2: "DlABLACK E" (Mitsubishi Chemical C0rp.'dan temin edilebilmektedir)
(ortalama partikül boyutu: 50 nm)
D-3: "DIABLACK l" (Mitsubishi Chemical C0rp.”dan temin edilebilmektedir)
(ortalama partikül boyutu: 20 nm)
D-4: "SEAST V" (Tokai Carbon Co., Ltd.”den temin edilebilmektedir)
(ortalama partikül boyutu: 60 nm)
Tercihe Bagli Bilesenler
Poliizopren: Uretim Ornegi 5”te üretilen poliizopren (X-I)
Uretim Omegi 9”da üretilen Poliizopren (X-2)
TDAE: "VivaTec500" (H & R Corp7dan temin edilebilmektedir)
Stearik Asit "LUNAC 8-20" (Kao Corp.'dan temin edilebilinektedir)
Silan baglama reaktifi: "Si75" (Evonik Degussa Japan C0., Ltdfden
Temin edilebilmektedir)
Çinko oksit: Çinko oksit (Sakai Chemical Industry Co., Ltdfden temin edilebilmektedir)
Antioksidan (l): NOCRAC 6C" (Ouchi Shinko Chemical Industrial C0., Ltd.”den temin
edilebilinektedir)
Antioksidan (2): "ANTAGE RD" (Kawaguchi Chemical Industry Co., Ltd.”den temin
edilebilinektedir)
Kükürt: Kükürtlü ince toz, 200 ag (Tsurumi Chemical Industry C0., Ltd.°den temin
edilebilmektedir)
Vulkanizasyon hizlandirici (l): "NOCCELER CZ-G" (Ouchi Shinko Chemical Industrial C0.,
Ltd.”deii temin edilebilmektedir)
Vulkanizasyon hizlandirici (2): "NOCCELER D" (Ouchi Shinko Chemical Industrial C0.,
Ltd.”den temin edilebilmektedir)
Vulkanizasyon hizlandirici (3): "NOCCELER TBT-N" (Ouchi Shinko Chemical Industrial C0.,
Ltd.'den temin edilebilinektedir)
Vulkanizasyon hizlandirici (4): "NOCCELER NS-P" (Ouchi Shinko Chemical Industrial C0.,
Ltd.,den temin edilebilinektedir)
Uretim Örnegi 1: Polifarnesen (B-l) Uretimi
Öncesinde nitrojen ile saflastirilan ve daha sonrasinda kurutulan bir basinç reaksiyon
haznesi, 1070 g heksan ve 11.5 g n-butil lityuin (kütle cinsinden %17 bir heksan çözeltisi
formunda) ile yüklenmistir. Reaksiyon haznesinin içerikleri 50°C°ye isitilmistir ve 1755 g [3-
farnesen buraya eklenmis ve 1 saatligine poliinerize edilmistir. Elde edilen polimerizasyon
reaksiyon çözeltisi, etanol ile karistirilmis ve daha sonrasinda su ile yikanmistir. Polimerizasyon
reaksiyon çözeltisinden suyun ayrilinasindaii sonra, elde edilen çözelti, Tablo Pde gösterilen
özelliklere sahip bir polifarnesenin (B-l) elde edildigi sekilde 12 saatligiiie 70°C,de
kurutulmustur.
Uretim Ornegi 2-Polifarnesen (B-2) üretimi
Öncesinde nitrojen ile saflastirilan ve daha sonrasinda kurutulan bir basinçli reaksiyon
çözeltisinin formunda) ile yüklenmistir. Reaksiyon haznesinin içerikleri 50°C,ye isitilmistir ve
1785g ß-farnesen buraya eklenmis ve 1 saatligine polimerize edilmistir. Elde edilen
polimerizasyon reaksiyon çözeltisi, etanol ile karistirilmis ve daha sonrasinda su ile yikanmistir.
Polimerizasyon reaksiyon çözeltisinden suyun ayrilmasindan sonra, elde edilen çözelti, Tablo
lide gösterilen özelliklere sahip bir polifaniesenin (B-2) elde edildigi sekilde 12 saatligine
70°C”de kurutulniustur.
Uretim Örnegi 3: Polifarnesen (B-3) üretimi
Öncesinde nitrojen ile saflastirilan ve daha sonrasinda kurutulan bir basinç reaksiyon
haznesi, 1370 g heksan ve 5.8 g ii-butil lityum (kütle cinsinden %17 bir heksan çözeltisi
formunda) ile yüklenmistir. Reaksiyon haznesinin içerikleri 50°C”ye isitilinistir ve 1359g ß-
famesen buraya eklenmis ve 1 saatligine polimerize edilmistir. Elde edilen polimerizasyon
reaksiyon çözeltisi, etanol ile karistirilmis ve daha sonrasinda su ile yikanmistir. Poliinerizasyon
reaksiyon çözeltisinden suyun ayrilmasindan sonra, elde edilen çözelti, Tablo 1'de gösterilen
özelliklere sahip bir polifarnesenin (B-3) elde edildigi sekilde 12 saatligine 70°C,de
kurutulmustur.
Uretim Örnegi 4: Polifarnesen (B-4) üretimi
Öncesinde nitrojen ile saflastirilan ve daha sonrasinda kurutulan bir basinçli reaksiyon
haznesi, 313 g heksan ve 0.7 g n-butil lityum (kütle cinsinden %17 bir heksan çözeltisi
formunda) ile yüklenmistir. Reaksiyon haznesinin içerikleri 50°C”ye isitilmistir ve 226g ß-
famesen buraya eklenmis ve 1 saatligine polimerize edilmistir. Elde edilen poliinerizasyon
reaksiyon çözeltisi, etanol ile karistirilmis ve daha sonrasinda su ile yikanmistir. Polimerizasyon
reaksiyon çözeltisinden suyun ayrilmasindan sonra, elde edilen çözelti, Tablo 1°de gösterilen
özelliklere sahip bir polifariiesenin (B-4) elde edildigi sekilde 12 saatligine 70°C,de
kurutulmustur.
Uretim Örnegi 5: Poliizopren Uretimi (X-l)
Öncesinde nitrojen ile saflastirilan ve daha sonrasinda kurutulan bir basinçli reaksiyon
haznesi, 600 g heksan ve 44.9 g ii-butil lityum (kütle cinsinden %17 bir heksan çözeltisi
formunda) ile yüklenmistir. Reaksiyon haziiesinin içerikleri 70°C”ye isitilmistir ve 2050 g
i20preii buraya ekleninis ve 1 saatligine polimerize edilmistir. Elde edilen polimerizasyon
reaksiyon çözeltisi, etanol ile karistirilmis ve daha sonrasinda su ile yikanmistir. Polimerizasyon
reaksiyon çözeltisinden suyun ayrilmasindan sonra, elde edilen çözelti, Tablo 1°de gösterilen
özelliklere sahip bir polifarnesenin (X-l) elde edildigi sekilde 12 saatligine 70°C,de
kurutulmustur.
Uretim Örnegi 6: Polifarnesen (B-5) üretimi
Öncesinde nitrojen ile saflastirilan ve daha sonrasinda kurutulan bir basinçli reaksiyon
haznesi, 274 g heksan ve bir baslatici olarak 1.2 g n-butil lityum (kütle cinsinden %17 bir heksaii
çözeltisi formunda) ile yüklenmistir. Reaksiyon haznesinin içerikleri 50°C,ye isitilinistir ve 272
g ß-famesen buraya eklenmis ve 1 saatligine polimerize edilmistir. Ardisik olarak, elde edilen
polimerizasyon reaksiyon çözeltisi, metanol ile karistirilinis ve daha sonrasinda su ile
yikanmistir. Bu sekilde yikanan polimerizasyon reaksiyon çözeltisinden suyun ayrilmasindan
sonra, elde edilen çözelti, bir polifanesenin (B-5 elde edildigi sekilde 12 saatligine 70°C°de
kurutulmustur. Bu sekilde elde edilen polifamesenin (B-S) çesitli özellikleri, Tablo lade
gösterilmektedir.
Uretim Örnegi 7: Polifarnesen (B-6) üretimi
Öncesinde nitrojen ile saflastirilan ve daha sonrasinda kurutulan bir basinçli reaksiyon
haznesi, bir solvent olarak 240 g sikloheksan ve bir baslatici olarak 1.7 g n-butil lityum (kütle
cinsinden %17 bir heksan çözeltisi formunda) ile yüklenmistir. Reaksiyon haznesinin içerikleri
50°C”ye isitilmistir ve 0.5 g N,N,N”,N°-tetrametil etilendiainin ve 340 g ß-farnesen buraya
eklenmis ve 1 saatligine polimerize edilmistir. Ardisik olarak, elde edilen polimerizasyon
reaksiyon çözeltisi, metanol ile karistirilmis ve daha sonrasinda su ile yikaninistir. Bu sekilde
yikanan polimerizasyon reaksiyon çözeltisiiiden suyun ayrilmasindan sonra, elde edilen çözelti,
bir polifanesenin (B-6) elde edildigi sekilde 12 saatligine 70°C°de kurutulinustur. Bu sekilde elde
edilen polifarnesenin (B-6) çesitli özellikleri, Tablo l°de gösterilmektedir.
Uretim Örnegi 8 Polifarnesen (B-7) üretimi
Bir basinçli reaksiyon haznesi, Uretim Örnegi 6°da açiklanan yöntemle ayni olan yöntem
vasitasiyla üretilen 500 g polifarnesen, bir antioksidan olarak 0.5 g "NOCRAC 6C" ve 2.5 g
inaleik anhidrid ile yüklenmistir. Reaksiyon haznesinin nitrojen ile saflastirilmasindan sonra,
reaksiyon haznesinin içerikleri, 170°C”ye isitilmis ve bir polifarnesenin (B-7) elde edildigi
sekilde 10 saatligine bu sicaklikta reaksiyona sokulmustur. Bu sekilde elde edilen polifamesenin
(B-7) çesitli özellikleri, Tablo 1 ”de gösterilmektedir.
Uretim Örnegi 9: Poliizopren 'uretimi (X-2)
Öncesinde nitrojen ile saflastirilan ve daha sonrasinda kurutulan bir basinçli reaksiyon
haznesi, 600 g heksan ve 13.9 g n-butil lityum (kütle cinsinden %17 bir heksan çözeltisi
formunda) ile yüklenmistir. Reaksiyon haznesinin içerikleri 70°C,ye isitilmistir ve 1370 g
izopren buraya eklenmis ve I saatligine polimerize edilmistir. Elde edilen poliinerizasyon
reaksiyon çözeltisi, etanol ile karistirilmis ve daha sonrasinda su ile yikanmistir. Polimerizasyon
reaksiyon çözeltisinden suyun ayrilmasindan sonra, elde edilen çözelti, bir poliizoprenin (X-2)
elde edildigi sekilde 12 saatligine 70°C,de kurutulmustur. Bu sekilde elde edilen poliizoprenin
(X-2) çesitli özellikleri, Tablo l°de gösterilmektedir.
Bu esnada, her bir poliinerin (B) ve poliizoprenin agirlik ortalamali moleküler agirligi ve
erime viskozitesi, asagidaki yöntemlerle ölçülmüstür.
(Agirlik Ortalamali Moleküler Agirligin Olçülmesine Yönelik Yöntem)
Her bir polimerin (B) ve poliizoprenin Agirlik ortalamali moleküler agirlik (MW) ve
moleküler agirlik dagilimi (MW/Mn), bir referans standardi maddesi olarak polistirenin bir
moleküler agirligi açisindan GPC ile (jel geçirimli kromatografi) ile ölçülmüstür. Olçüm
aparatlari ve ölçüm kosullari asagidaki gibidir.
-Detektör: Tosoh Corp.”dan temin edilebilen "RI-8020"
-Ayristirici akis orani: 1.0 mL/dakika
(Erime Viskozitesinin Olçülmesine Yönelik)
Polimerin (B) erime viskozitesi, Brookfield Engineering Labs. IncIden temin edilebilen bir
Brookfield viskometresi kullanilarak 38°C,de ölçülmüstür.
(Vinil Içerigin Olçülmesine Yönelik Yöntem)
1 mL CDC13 içinde 50 mg polimerin (B) çözülmesi sayesinde hazirlanan bir çözelti, 512 defa
kümülatif bir frekansta 400 MHz°de lH-NMR ölçümüne tabi tutulmustur. Yukaridaki ölçümle
elde edilen çizelgede, 4.94 ila 5.22 ppm aralikta bir spektrum bölümü, bir vinil yapidan türetilen
bir spektrum olarak göz önünde bulundurulurken, 4.45 ila 4.85 ppm aralikta bir spektrum
bölümü, vinil yapisindan ve bir 1,4-bagdan türetilen kombine bir spektrum olarak göz önünde
bulundurulmustur ve polimerin (B) Vinil içerigi, asagidaki formüle göre hesaplanmistir.
araliginda entegre deger)]/3}
(Cam Geçis Sicakliginin Olçülmesine Yönelik Yöntem)
On miligram polimerin (B), bir alüminyum tavada numunesi alinmistir ve bir numune
termogrami, diferansiyel tarama kalorimetrisi (DSC) ile 10°C/dakika sicaklik yükselme oraninda
ölçülm'ûst'ûr ve DDSC egrisinde gözlemlenen `üst zirvede bulunan deger belirlenmis ve polimerin
(B) bir cam geçis sicakligi olarak kabul edilmistir.
Polimer Agirlik ortalamali Moleküler Vinil içerik (mol%) Cam geçis Erime viskozitesi
moleküler agirlik (x agirlik sicakligi (38°C,de)(Pa-s)
103) dagilimi (°C)
Üretim Örnegi 5 Poliizopren 32 1.1 - - 74
Uretim Örnegi 9 Poliizopren 60 1.1 - - 480
Örnekler 1 ila 5 ve Karsilastirmali Örnekler 1 ila 3
Kauçuk bilesen (A), polimer (B), silika (C), karbon karasi (D), poliizopren, silan baglama
reaktifi, TDAE, stearik asit, çinko oksit ve antioksidan sirasiyla Tablo 27de gösterildigi gibi bir
bilesik hazirlama oraiii (kütle cinsinden bölümler), bir kapali tip Banbury karistiricisina
yüklenmis ve baslangiç sicakliginin 75°C oldugu ve reçine sicakliginin 160°C”ye ulastigi sekilde
6 dakikaligiiia birlikte yogurulmustur. Elde edilen karisim karistiricidan alinmis ve oda
sicakligiiia sogutulmustur. Daha sonrasinda, karistirici bir karistirma silindiriiie yerlestirilmis ve
burada kükürtün ve vulkanizasyon hizlandiricisinin eklenmesinden sonra, karistirma silindirinin
içerikleri, bir kauçuk bilesimin elde edildigi sekilde 6 dakikaligina 60°C ,de yogurulmustur. Bu
sekilde elde edilen kauçuk bilesiiiiin Mooney Viskozitesi, asagida bahsi geçen yöntemle
ölçülmüstür.
Ek olarak, elde edilen kauçuk bilesimi, bir tabaka (kalinlik: 2mm) hazirlamak için (20 ila
40 dakikaligina 145°C'de) preslenerek kaliplanmistir. Bu sekilde hazirlanan tabaka, asagida
bahsi geçen yöntemlerle kopinada bir yuvarlama direnci perforinansi, bir sertlik ve bir çekine
mukavemeti içiii ölçülmüstür. Sonuçlar, Tablo 2°de gösterilmektedir.
Bu esnada, ilgili özelliklerin ölçülmesine ve degerlendirilmesine yönelik yöntem
asagidaki gibidir.
(1) Mooney Viskozitesi
Kauçuk bilesiiniii bir isleiiebilirlik endeksi olarak, vulkaiiize edilmeden önce kauçuk
bilesiinin Mooney Viskozitesi (ML]+4), JIS K6300,e göre 100°C”de ölçülmüstür. Ilgili
Ömeklerin ve Karsilastirmali Ömeklerin degerleri, Karsilastirmali Örnekler 3 degeri olarak
lOOyün esasinda ilgili degerlerdir. Bu esnada, daha küçük Mooney viskozite degeri, daha
mükemmel bir islenebilirligi göstermektedir.
(2) Yuvarlama Direiici Performansi
Ilgili Örneklerde ve Karsilastirinali Örneklerde hazirlanaii kauçuk bilesiniinin tabakasi,
40 mm uzunluk x 7 mm genislik boyutuna sahip bir test parçasina kesilmistir. Bu sekilde elde
edilen test parçasi, 60°C bir ölçüm sicakligini, 10 Hz bir frekansi, %10 bir statik bozulmayi ve
dinamik Viskoelasite ölçüm aparatini kullanarak kauçuk bilesiinin bir yuvarlaina direnci
performansinin bir endeksi olarak tanö ölçümüne tabi tutulmustur. Ilgili Ömeklerin ve
Karsilastirmali Ömeklerin degerleri, Karsilastirmali Örnekler 3 degeri olarak 100”ün esasinda
nispi degerlerdir. Bu esnada, daha küçük deger, kauçuk bilesimin mükemmel bir yuvarlama
direnci performansini göstermektedir.
(3) Sertlik
Ilgili Orneklerde ve Karsilastirmali Orneklerde hazirlanan kauçuk bilesimin tabaka
sertligi, J IS K6253°e göre bir A tipi sertlik ölçer kullanilarak ölçülmüstür ve bu sekilde ölçülen
sertlik, kauçuk bilesimin bir esneklik endeksi olarak kullanilmistir. Bu esnada, sertlik degeri
509den daha az oldugunda, kauçuk bilesiminden üretilen bir lastik büyük bir deformasyondan
muzdarip olmakta ve bu sekilde, direksiyon stabilitesinde bozulmaktadir.
(4) Kopmada Çekme Mukavemeti
ilgili Orneklerde ve Karsilastirmali Orneklerde hazirlanan kauçuk bilesiminin tabakasi,
J IS-3”e göre bir dumbell sekilli tesr parçasina zimbalanmistir ve elde edilen test parçasi, Instron
Corp.”den temin edilebilen bir çekme test cihazi kullanarak bunlarin kopmasi durumunda bir
çekme mukavemetinin ölçümüne tabi tutulmustur. Ilgili Orneklerin ve Karsilastirmali Orneklerin
degerleri, Karsilastirmali Örnekler 3 degeri olarak 100'ün esasinda nispi degerlerdir. Bu esnada,
daha küçük deger, kauçuk bilesimin mükemmel bir yuvarlama direnci performansini
göstermektedir.
Örnekler Karsilastirmali
1 |2 |3 |4 |5 i |2 |3
Bilesik hazirlama orani (kütle cinsinden parçalar)
Bilesen (A)
Bilesen (B)
Polifarnesen (8-1) 10 10
Polifarnesen (8-2) 10
Polifarnesen (8-3) 10
Polifarnesen (B-4) 10
Poliizopren (X-l) 10
Bilesen (C)
Silika (C-2)
Silika (C-3)
Bilesen (D)
Karbon Siyah (D-2) 25
Tercihe Bagli Bilesenler
Stearik Asit 1 1 1 1 1 1 1 1
Silan baglama reaktifi 2 2 2 2 2 2 2 2
Antioksidan (l) 1 l 1 l 1 1 l 1
Antioksidan (2) 1 l 1 l 1 1 l 1
Ozellikler
Örnek 1 ila 5 arasinda elde edilen kauçuk bilesimleri, düsük bir Mooney Viskoztesi ve bu sekilde
iyi bir isleiiebilirlik sergilemistir. Ek olarak, Örnek 1, 3, 4 ve 5”te elde edilen kauçuk bilesimler,
düsük bir yuvarlama direnci performansi sergilemistir. Örnek 1, 3 v 4,te elde edilen kauçuk
bilesimlerin özellikle mekanik mukavemette ve sertlikte bozulmadan inuzdarip olmalarinin
önüne geçilmistir ve bu sekilde lastikler için bir kauçuk bilesimi olarak uygun bir sekilde
kullanilabilmektedirler.
Örnekler 6 ila 26 ve Karsilastirmali Ornekler 4 ila 16
Kauçuk bilesen (A), polimer (B), silika (C), karbon karasi (D), poliizopren, silan baglama
reaktifi, TDAE, stearik asit, çinko oksit ve antioksidan sirasiyla Tablo 3 ila 5 arasinda
gösterildigi gibi bir bilesik hazirlama orani (kütle cinsinden bölümler), bir kapali tip Banbury
karistiricisina yüklenmis ve baslangiç sicakliginin 75°C oldugu ve reçine sicakliginin 160°C°ye
ulastigi sekilde 6 dakikaligina birlikte yogurulmustur. Elde edilen karisim karistiricidan alinmis
ve oda sicakligina sogutulmustur. Daha sonrasinda, karistirici bir karistirma silindirine
yerlestirilmis ve burada kükürtün ve vulkanizasyon hizlandiricismin eklenmesinden sonra,
karistirma silindirinin içerikleri, bir kauçuk bilesimin elde edildigi sekilde 6 dakikaligina
60°C”de yogrulmustur. Bu sekilde elde edilen kauçuk bilesimin Mooney Viskozitesi, yukarida
bahsi geçen yöntemle ölçülmüstür.
Ek olarak, elde edilen kauçuk bilesim, bir tabaka (kalinlik: 2111111) hazirlamak için (10 ila
45 dakikaligina 145°C°de) preslenerek kaliplanmistir. Bu sekilde hazirlaiian tabaka, yukarida
bahsi geçen yöntemlerle bir yuvarlama direnci performansi ve bir sertlik için ölçülmüstür.
Sonuçlar, Tablo 3 ila 5 arasinda gösterilinektedir.
Bu esnada, Ilgili Omeklerde ve Karsilastirmali Orneklerde bulunan Mooney Viskozitesi
ve yuvarlama direnci performansi degerleri, Tablo 2,de gösterilen Karsilastirmali Ornekler 3“ûn
her bir degeri olarak 100°ün esasinda nispi degerlerdir.
Örnek 6 ila 13 arasinda elde edilen kauçuk bilesimler, bir düsük Mooney Viskozitesi ve
bu sekilde iyi bir islenebilirlik sergilemistir ve ayni zamanda sertlikte olan bozulmadan muzdarip
olmalari önlenmistir. Ek olarak, kauçuk bilesimleri, düsük bir yuvarlama direnci performansi
sergilemistir ve bu sekilde lastikler için bir kauçuk bilesimi olarak uygun bir sekilde
kullanilabilmektedir.
Ek olarak, Örnekler 8 ila 10 ve Karsilastirmali Örnekler 4 arasinda olan kiyaslamadan, iki
veya ikiden fazla polimer (B) türü kullanildiginda veya diger tercihe bagli bilesenlerle
kombinasyon halinde polimer (B) kullanildiginda, bunlarin sertliginde bozulma olmadan
mükemmel bir yuvarlama direnci performansina sahip olan kauçuk bilesimlerinin elde edilmesi
mümkün olmustur.
Dahasi, Örnek 11 ve Karsilastirmali Örnek 5 arasindaki, Örnek 12 ve Karsilastirmali
Örnek 6 arasindaki, Örnek 14 veya 15 ve Karsilastirmali Örnek 8 arasindaki ve Örnek 16 ve
Karsilastirmali Ömek 9 arasindaki kiyaslamadan, iki veya ikiden fazla kauçuk bileseni (A)
kullanildiginda bile, bunlarin sertliginde bozulma olmadan mükemmel bir yuvarlaina direnci
performansina sahip olan kauçuk bilesimlerinin elde edilmesi mümkün oldugu onaylanmistir.
Örnekler Karsil istirmali Örnekler
Bilesik hazirlama orani (kütle cinsinden parçalar)
Bilesen (A)
Bilesen (B)
Polifarnesen (B-l) lO lO
Polifarnesen (B-5)
Polifarnesen (B-6) 10
Maleik asitdi 10
modifiye edilmis
polifarnesen (B-7)
Poliizopren (X-2) 10
Bilesen (C)
Bilesen (D)
Tercihe Bagli
Bilesenler
reaktifi
Antioksidan (l)
Antioksidan (2)
hizlandirici (l)
hizlandirici (2)
hizlandirici (3)
Ozellikler
(nispi deger)
perforinansi
(60°C”de;tanö)
(nispi deger)
Ornek 17 ve Karsilastirmali Ornek 10 arasindaki, Ornek 18 ve Karsilastirmali Ornek 1 1
arasindaki ve Örnek 19 ve Karsilastirmali Ornek 12 arasindaki kiyaslamadan, kauçuk bilesenin
(A) 100 parçasi esasinda kütle cinsinden 0.1 parça veya daha fazla bir miktarda polimer (B)
kullanildiginda, bunlarin sertliginde bozulinasindan muzdarip olmalarinin önlendigi iyi bir islem
kabiliyetine ve mükemmel bir yuvarlama direnci performansina sahip olan kauçuk bilesiinlerinin
elde edilinesinin mümkün oldugu onaylanmistir.
Oriiek 20 veya 21 ve Karsilastirmali Ornek 12 veya 13 arasindaki kiyaslamadan,
modifiye edilmis veya vinile polimer (B) kullanildiginda bile, mevcut bulusun etkilerinin elde
edilmesinin mümkün oldugu onaylanmistir.
Dahasi, Ornek 22 veya 233ten, silika (C) kütlesi cinsinden 100 parçanin esasinda kütle
cinsinden 0.] ila 30 parça bir miktarda silan baglama reaktifi bilesik haline getirildiginde bile,
bunlarin sertliginde bozulma olmadan mükemmel bir yuvarlama direnci performansina sahip
olan bir kauçuk bilesiminin elde edilmesi mümkün olmustur.
Ornekler Karsilastirmali Urnekler
Bilesik hazirlama orani (kütle cinsinden parçalar)
Bileseii (A)
Bilesen (B)
Polifarnesen (B-5) 50 30 10
Bileseii (C)
Silika(C-1) 80 80
Silika (C-Z) 5 5
Silika (C-3) l 1
Bilesen (D)
Karbon Siyah (D-l) 80 80
Karboii Siyah (D-2)
Karbon siyah (D-3) 45 45
Karbon siyah (D-4) 1 l
Tereihe Bagli Bilesenler
Stearik Asit l 1 1 l 1 1
Antioksidan (1) l 1 1 l 1 1
Antioksidan (2) I 1 1 l 1 1
Ozellikler
(nispi deger)
Ornek 24 ve Karsilastirmali Ornek 14 arasindaki, Ornek 25 ve Karsilastirmali Ornek 15
arasindaki ve Ornek 26 ve Karsilastirmali Ornek 16 arasindaki kiyaslamadan, kauçuk bilesenin
(A) kütlesi cinsinden 100 parça esasinda kütle cinsinden 100 parça veya daha az bir miktarda
polimer (B), kütle cinsinden 0.1 ila 150 parça bir iniktarda silika (C) ve 0.] ila 150 parça bir
miktarda karbon siyah (D) bilesik haline getirildiginde, mükemmel bir yuvarlama direnci
performansina sahip olan kauçuk bilesimlerinin elde edilmesi mümkün olmustur, bunlarin
sertliginde bozulmadan muzdarip olmalari önlenmistir. Ek olarak, 0.5 ila 200 nm araliginda bir
ortalama partikül boyutuna sahip olan silika (C) veya 5 ila 100 nm bir ortalama partikül
boyutuna sahip karbon siyah (D) kullanildiginda, mevcut bulusun etkilerinin elde edilmesinin
Örnekler 27 ila 30 ve Karsilastirmali Örnekler 17 ila 19
Kauçuk bilesen (A), polimer (B), silika (C), poliizopren, silan baglama reaktifi, TDAE,
stearik asit, çinko oksit ve antioksidan sirasiyla Tablo 65da gösterildigi gibi bir bilesik hazirlama
orani, bir kapali tip Banbury karistiricisina yüklenmis ve baslangiç sicakliginin 75°C oldugu ve
reçine sicakliginin 160°Csye ulastigi sekilde 6 dakikaligina birlikte yogurulmustur. Elde edilen
karisim karistiricidan alinmis ve oda sicakligina sogutulmustur. Daha sonrasinda, karistirici bir
karistirma silindirine yerlestirilmis ve burada kükürtün ve vulkanizasyon hizlandiricisinin
eklenmesinden sonra, karistimia silindirinin içerikleri, bir kauçuk bilesimin elde edildigi sekilde
6 dakikaligina 60°C°de yogrulinustur. Bu sekilde elde edilen kauçuk bilesiinin Mooney
viskozitesi, asagida bahsi geçen yöntemle ölçülmüstür.
Ek olarak, elde edilen kauçuk bilesimi, bir tabaka (kalinlik: 2mm) hazirlamak için (20 ila
40 dakikaligina 145°C3de) preslenerek kaliplanmistir. Bu sekilde hazirlanan tabaka, asagida
bahsi geçen yöntemlerle bir yuvarlama direnci performansi ve bir sertlik için ölçülmüstür.
Sonuçlar, Tablo 6”da gösterilmektedir.
(1) Mooney Viskozitesi
Kauçuk bilesimin bir islenebilirlik endeksi olarak, vulkanize edilmeden önce kauçuk
gösterilen ilgili Orneklerin ve Karsilastimiali Omeklerin degerleri, Karsilastirmali Örnekler 19
degeri olarak 1009ün esasinda nispi degerlerdir. Bu esnada, daha küçük Mooiiey viskozite degeri,
daha mükemmel bir islenebilirligi göstermektedir.
(2) Yuvarlama Direnci Performansi
Ilgili Omeklerde ve Karsilastirmali Orneklerde hazirlanan kauçuk bilesiminin tabakasi, 40 mm
uzunluk x 7 mm genislik boyutuna sahip bir test parçasina kesilmistir. Bu sekilde elde edilen
test parçasi, 60°C bir ölçüm sicakligini, 10 Hz bir frekansi, %10 bir statik bozulmayi ve %2 bir
dinamik bozulmayi içeren kosullar altinda GABO GmbH”den temin edilebilen bir dinamik
viskoelasite ölçüm aparatini kullanarak kauçuk bilesimin bir yuvarlama direnci performansinin
bir endeksi olarak tanö ölçüinüne tabi tutulmustur. Ilgili Omeklerin ve Karsilastimiali Omeklerin
degerleri, Karsilastirmali Örnekler 19 degeri olarak 100°ün esasinda nispi degerlerdir. Bu esnada,
daha küçük deger, kauçuk bilesiniin daha yüksek bir yuvarlama direnci performansini
göstermektedir.
(3) Sertlik
Ilgili Orneklerde ve Karsilastirmali Orneklerde hazirlanan kauçuk bilesimin tabaka
sertligi, J IS K6253,e göre bir A tipi sertlik ölçer kullanilarak ölçülmüstür ve bu sekilde ölçülen
sertlik, kauçuk bilesimin bir esneklik endeksi olarak kullanilmistir. Bu esnada, sertlik degeri
50°den daha az oldugunda, kauçuk bilesiminden üretilen bir lastik büyük bir deformasyondan
muzdarip olmakta ve bu sekilde, direksiyon stabilitesinde bozulinaktadir.
Örnekler Karsilastirmali Örnekler
Bilesik hazirlaina orani (kütle cinsinden parçalar)
Bilesen (A)
Bilesen (B)
Polifarnesen (8-1) 10
Polifamesen (8-2) 10
Polifarnesen (B-3) 10
Polifarnesen (B-4) 10
Poliizopren (X-l) 10
Bilesen (C)
Tercihe Bagli Bilesenler
Stearik Asit l 1 1 1 1 l 1
Silan baglama reaktifi 4 4 4 4 4 4 4
Antioksidan (1) l 1 l 1 l 1 1
Antioksidan (2) 1 1 1 1 1 1 1
Ozellikler
performansi (60°C”de;
tanö) (nispi deger)
Örnek 27 ila 30 arasinda elde edilen kauçuk bilesimleri, düsük bir Mooney Viskoztesi ve
iyi bir islenebilirlik sergilemistir. Dahasi, Örnek 27 ila 30 arasinda elde edilen kauçuk
bilesimleri, düsük bir yuvarlama direnci performansi sergilemistir ve Karsilastirmali Örnek 17 ve
18”inkilerle kiyaslandigi üzere sertlikte bozulmadan muzdarip olmalari önlenmistir. Bunlarin
arasindan, Örnek 27, 29 ve 30°da elde edilen kauçuk bilesimleri, bir düsük yuvarlama direnci ve
yüksek bir sertlik arasinda iyi bir denge sergilemistir ve bu sekilde, lastiklerin bir kauçuk
bilesiini olarak uygun bir sekilde kullanilabilmektedir. Öte yandan, Karsilastirmali Örnek 19°da
elde edilen kauçuk bilesimi, yüksek bir Mooney viskozitesi sergilemistir ve islenebilirlik
açisindan yetersiz olmustur.
Örnekler 31 ve 32 ve Karsilastirmali Örnekler 29 ila 22
Kauçuk bilesen (A), polimer (B), silika (C), poliizopren, silan baglama reaktifi, TDAE,
stearik asit, çinko oksit ve antioksidan sirasiyla Tablo 7”da gösterildigi gibi bir bilesik hazirlama
orani, bir kapali tip Banbury karistiricisina yüklenmis ve baslangiç sicakliginin 75°C oldugu ve
reçine sicakliginin 160°C°ye ulastigi sekilde 6 dakikaligina birlikte yogurulmustur. Elde edilen
karisim karistiricidan alinmis ve oda sicakligina sogutulmustur. Daha sonrasinda, karistirici bir
karistirma silindirine yerlestirilmis ve burada kükürtün ve vulkanizasyon hizlandiricisinin
eklenmesinden sonra, karistirina silindirinin içerikleri, bir kauçuk bilesimin elde edildigi sekilde
6 dakikaligina 60°C°de yogrulmustur. Bu sekilde elde edilen kauçuk bilesimin Mooney
Viskozitesi, yukarida bahsi geçen yöntemle ölçülmüstür.
Ek olarak, elde edilen kauçuk bilesim, bir tabaka (kalinlik: 2mm) hazirlamak için ( 45
dakikaligina 145°C”de) preslenerek kaliplaiimistir. Bu sekilde hazirlanan tabaka, yukarida bahsi
geçen yöntemlerle bir yuvarlaina direnci performansi ve bir sertlik için ölçülmüstür. Sonuçlar,
Tablo 79de gösterilmektedir.
Bu esnada, Ilgili Örneklerde ve Karsilastirmali Örneklerde buluiian Mooney viskozitesi,
yuvarlama direnci performansi ve kopmada çekme mukavemeti degerleri Tablo 7'de gösterilen
Karsilastirmali Örnek 22°nin her bir degeri olarak 1007ün esasinda nispi degerlerdir.
Örnekler Karsilastirmali Örnekler
3 1 [32 20 |2 i |22
Bilesik hazirlama orani (kütle cinsinden parçalar)
Bilesen (A)
Bilesen (B)
Polifarnesen (B-5) 6
Maleik asit- modifiye edilmis polifamesen 6
(13-7)
Poliizopren (X-Z) 6
Bilesen (C)
Tercihe Bagli Bilesenler
Stearik Asit 2 2 2 2 2
Silan baglama reaktifi 4 4 4 . 4 4
Antioksidan (l) 1 1 1 1 1
Antioksidan (2) 1 1 1 l 1
Vulkanizasyon hizlandirici (4) l .2 l 2 l 2 1.2 1 2
Ozellikler
tanö) (nISpi deger)
Ornek 31 ve 32,de elde edilen kauçuk bilesimleri, düsük bir Mooney viskozitesi ve iyi bir
islenebilirlik sergilemistir. Dahasi, Ornek 31 ve 32,de elde edilen kauçuk bilesimleri, düsük bir
yuvarlama direnci performansi sergilemistir ve Karsilastirmali Ornek 20 ve 21°inkilerle
kiyaslandigi üzere mekanik mukavemette bozulinadan muzdarip olmalari önlenmistir ve bu
sekilde lastiklerin bir kauçuk bilesimi olarak uygun bir sekilde kullanilabilmektedir. Öte yandan,
Karsilastirmali Ornek 22°de elde edilen kauçuk bilesimi, yüksek bir Mooney viskozitesi
sergilemistir ve islenebilirlik açisindan yetersiz olmustur.
Claims (15)
1. Bir kauçuk bileseni (A) bir farnesen poliineri (B) ve silikayi (C) içeren bir kauçuk bilesimi olup, özelligi; silikanin (C), 10 ila 100 nm arasinda ortalama partikül boyutuna sahip olmasidir.
2. Istein lîe göre kauçuk bilesimi olup, özelligi; polimerin (B), ß-farnesenin bir hoinopoliineri olmasidir.
3. Istem 1 veya 2”ye göre kauçuk bilesimi olup, özelligi; polimerin (B), -90 ila O°C araliginda bir cain geçis sicakligina sahip olmasidir.
4. Istein 1 ila 3 arasindan herhangi birisine göre kauçuk bilesimi olup, özelligi; Polimerin (B), 0.] ila 3,000 Pa°s (38°Cide ölçüldügü gibi) arasinda bir erime viskozitesine sahip olmasidir.
5. Istem 1 ila 4 arasindan herhangi birisine göre kauçuk bilesimi olup, özelligi; Polimerin (B),
6. Istein 1 ila 5 arasindan herhangi birisine göre kauçuk bilesimi olup, özelligi; kauçuk bilesiminde poliinerin (B) bir içeriginin, kütle cinsinden 01 ila 100 parça arasinda olmasi ve kauçuk bilesiminde bir silika (C) içerigi, kauçuk bileseninin (A) kütlesi cinsinden 100 parça bazinda kütle cinsinden 0.1 ila 150 parça araliginda olmasidir.
7. Istein 1 ila 6 arasindan herhangi birisine göre kauçuk bilesimi olup, özelligi; karbon siyahi (D) içermesi ve karbon siyahin (D) tercihen 5 ila 100 nm ortalama partikül boyutuna sahip olmasidir.
8. Istein 7'ye göre kauçuk bilesimi olup, özelligi; kauçuk bileseninin (A) kütlesi cinsinden 100 parça bazinda kauçuk bilesiminde bir polimer (B) içeriginin, kütle cinsinden 01 ila 100 parça olmasi, kauçuk bilesiminde bir silika (C) içeriginin, kütle cinsinden 0.] ila 150 parça olmasi ve kauçuk bilesiminde bir karbon siyah (D) içeriginin 0.] ila 150 parça olmasidir.
9. Istem 1 ila 8 arasindan herhangi birisine göre kauçuk bilesimi olup, özelligi; kauçuk bilesenin (A), bir stiren-butadien kauçugu, bir dogal kauçuk, bir butadien kauçugu ve bir izopren kauçugundan olusan gruptan seçilen en az bir kauçuk olmasi, ve ortalainali moleküler agirliga sahip olmasidir.
10. Istein 9”a göre kauçuk bilesimi olup, özelligi; süren-butadien kauçugunun, kütle cinsinden
11. Istein 9 veya lO'a göre kauçuk bilesiini olup, özelligi; butadien kauçugunun, kütle cinsinden %50 bir vinil içerige veya daha azina sahip olmasidir.
12. Istein 1 ila 11 arasindan herhangi birisine göre kauçuk bilesimi, özelligi; polimerin (B), 1.0 ila 8.0 araliginda bir inoleküler agirlik dagiliinina sahip olmasidir.
13. Istem 7 ila 12 arasindan herhangi birisine göre kauçuk bilesimi olup, özelligi; karbon siyahin (D) en aziiidan firin siyahi, kanal siyahi, termal siyahi, asetileii siyahi ve Ketjen siyahindan en az birisinden seçilmesidir.
14. Istem 1 ila 13 arasindan herhangi birisine göre kauçuk bilesimi olup, özelligi; polimerin (B), amino grubu, bir ainid grubu, bir iniiiio grubu, bir iniidazol grubu, bir üre grubu, bir alkoksisilil grubu, bir hidroksil grubu, bir epoksi grubu, bir eter grubu, bir karboksil grubu, bir karbonil grubu, bir merkapto grubu, bir izosiyaiiat grubu , bir nitril grubu ve bir asit anhidrid grubundan olusan gruptan seçilen en az bir islevsel gruba sahip olan modifiye edilmis bir polimer olmasidir.
15. Istem 1 ila 14 arasiiidaii herhangi birisine göre kauçuk bilesimi olup, özelligi; silikanin (C), islak silika, kuru silika, kalsiyum silikat ve alüminyum silikattan olusan gruptan seçilen en az birisi olmasidir.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012039414 | 2012-02-24 | ||
JP2012039413 | 2012-02-24 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TR201802865T4 true TR201802865T4 (tr) | 2018-03-21 |
Family
ID=49005681
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TR2018/02865T TR201802865T4 (tr) | 2012-02-24 | 2013-02-18 | Kauçuk bileşimi ve lastik. |
Country Status (14)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9228077B2 (tr) |
EP (2) | EP2818507B1 (tr) |
JP (2) | JP5617040B2 (tr) |
KR (2) | KR101961513B1 (tr) |
CN (2) | CN104245818B (tr) |
BR (1) | BR112014020827B1 (tr) |
CA (3) | CA3059169A1 (tr) |
ES (1) | ES2614822T3 (tr) |
HU (1) | HUE038502T2 (tr) |
PT (2) | PT3156445T (tr) |
RU (1) | RU2617481C2 (tr) |
TR (1) | TR201802865T4 (tr) |
TW (1) | TWI565758B (tr) |
WO (1) | WO2013125496A1 (tr) |
Families Citing this family (42)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2611511C2 (ru) * | 2011-09-30 | 2017-02-27 | Курарей Ко., Лтд. | Каучуковая композиция и шина |
JP6021734B2 (ja) * | 2013-05-10 | 2016-11-09 | 住友ゴム工業株式会社 | ゴム組成物及び空気入りタイヤ |
US9822245B2 (en) * | 2013-03-27 | 2017-11-21 | Sumitomo Rubber Industries, Ltd. | Studless winter tire |
JP6164927B2 (ja) * | 2013-05-16 | 2017-07-19 | 住友ゴム工業株式会社 | 空気入りタイヤ |
JP6159574B2 (ja) * | 2013-05-16 | 2017-07-05 | 住友ゴム工業株式会社 | 分枝共役ジエン共重合体および水添分枝共役ジエン共重合体、ゴム組成物、並びに空気入りタイヤ |
JP6504459B2 (ja) * | 2013-08-23 | 2019-04-24 | 株式会社クラレ | ゴム組成物、及びタイヤ |
JP6084911B2 (ja) * | 2013-09-10 | 2017-02-22 | 住友ゴム工業株式会社 | 空気入りタイヤ |
JPWO2015045450A1 (ja) * | 2013-09-30 | 2017-03-09 | 株式会社クラレ | 樹脂組成物、これを硬化させた硬化物及びこの樹脂組成物を含有する光学用粘着剤 |
JP6199682B2 (ja) * | 2013-09-30 | 2017-09-20 | 株式会社クラレ | 樹脂組成物、これを硬化させた硬化物及びこの樹脂組成物を含む光学用粘着剤 |
JP2015074699A (ja) * | 2013-10-08 | 2015-04-20 | 株式会社クラレ | ゴム組成物及びタイヤ |
JP6539947B2 (ja) * | 2014-05-16 | 2019-07-10 | 横浜ゴム株式会社 | タイヤトレッド用ゴム組成物 |
JP6348348B2 (ja) * | 2014-06-16 | 2018-06-27 | 住友ゴム工業株式会社 | 夏用タイヤ |
JP6352691B2 (ja) * | 2014-06-16 | 2018-07-04 | 住友ゴム工業株式会社 | トラック・バスタイヤ |
JP6375174B2 (ja) * | 2014-08-11 | 2018-08-15 | 株式会社クラレ | 変性ファルネセン重合体、及びその製造方法、ゴム組成物、並びにタイヤ |
JP6562603B2 (ja) * | 2014-08-11 | 2019-08-21 | 株式会社クラレ | 変性ファルネセン重合体を含むゴム組成物及びタイヤ、並びに変性ファルネセン重合体の製造方法 |
JP6530173B2 (ja) | 2014-10-27 | 2019-06-12 | 株式会社ブリヂストン | タイヤ |
US20170327681A1 (en) * | 2014-10-28 | 2017-11-16 | Kuraray Co., Ltd. | Sealant composition |
JP2016089051A (ja) * | 2014-11-05 | 2016-05-23 | 株式会社クラレ | ゴム組成物及びタイヤ |
US9334394B1 (en) | 2015-06-03 | 2016-05-10 | Fina Technology, Inc. | Farnesene resins, rubber compositions, and tire compositions |
JP6423322B2 (ja) * | 2015-06-30 | 2018-11-14 | 株式会社クラレ | ゴム組成物、及びタイヤ |
JP6430901B2 (ja) * | 2015-06-30 | 2018-11-28 | 株式会社クラレ | ゴム組成物、及びタイヤ |
WO2017038725A1 (ja) * | 2015-08-31 | 2017-03-09 | 株式会社クラレ | 被覆重合体粒子、樹脂改質剤、ゴム組成物及びタイヤ |
WO2017038724A1 (ja) * | 2015-08-31 | 2017-03-09 | 株式会社クラレ | 被覆重合体粒子、樹脂改質剤、ゴム組成物及びタイヤ |
JP6360107B2 (ja) * | 2016-07-05 | 2018-07-18 | 住友ゴム工業株式会社 | ゴム組成物及び空気入りタイヤ |
ZA201900664B (en) | 2016-08-17 | 2021-09-29 | Paul Ehrlich Strasse 15 Tuebingen 72076 Germany | T cell receptors and immune therapy using the same |
JP7095596B2 (ja) * | 2017-03-01 | 2022-07-05 | 住友ゴム工業株式会社 | スタッドレスタイヤ |
TWI672217B (zh) | 2017-06-14 | 2019-09-21 | 台灣奈米碳素股份有限公司 | 胎面膠以及用於生產胎面膠的配方 |
TWI614311B (zh) | 2017-06-14 | 2018-02-11 | 台灣奈米碳素股份有限公司 | 用於製造彈性複合材料的配方、以及彈性複合材料之製造方法 |
JP7112408B2 (ja) * | 2017-09-01 | 2022-08-03 | 株式会社クラレ | 重荷重タイヤ用ゴム組成物およびタイヤ |
US11590799B2 (en) | 2017-09-01 | 2023-02-28 | Kuraray Co., Ltd. | Heavy-duty tire rubber compositions and tires |
WO2019044891A1 (ja) * | 2017-09-01 | 2019-03-07 | 株式会社クラレ | 高グリップタイヤ用ゴム組成物 |
JP7225620B2 (ja) * | 2017-09-29 | 2023-02-21 | 住友ゴム工業株式会社 | タイヤ |
JP2018048349A (ja) * | 2017-12-14 | 2018-03-29 | 株式会社クラレ | ゴム組成物及びタイヤ |
JP6992477B2 (ja) * | 2017-12-14 | 2022-01-13 | 住友ゴム工業株式会社 | タイヤ用ゴム組成物及び空気入りタイヤ |
KR102044886B1 (ko) * | 2018-02-05 | 2019-11-14 | 한국타이어앤테크놀로지 주식회사 | 타이어 트레드용 고무 조성물 및 이를 이용하여 제조한 윈터 타이어 |
KR102017321B1 (ko) * | 2018-02-05 | 2019-09-02 | 한국타이어앤테크놀로지 주식회사 | 타이어 트레드용 고무 조성물 및 이를 이용하여 제조한 타이어 |
KR102017320B1 (ko) * | 2018-02-05 | 2019-09-02 | 한국타이어앤테크놀로지 주식회사 | 타이어 트레드용 고무 조성물 및 이를 이용하여 제조한 윈터 타이어 |
FR3091653B1 (fr) * | 2019-01-10 | 2023-01-13 | Total Marketing Services | Composition epaississante biosourcee |
EP3769973A1 (en) | 2019-07-25 | 2021-01-27 | The Goodyear Tire & Rubber Company | A rubber composition and a tire comprising a tread |
EP4239001A1 (en) * | 2020-10-28 | 2023-09-06 | Kuraray Co., Ltd. | Curable composition and sealant |
WO2023000101A1 (en) * | 2021-07-21 | 2023-01-26 | ARLANXEO Canada Inc. | Branched poly(isobutylene-co-paramethylstyrene) compounds |
JP2023115896A (ja) * | 2022-02-08 | 2023-08-21 | 住友ゴム工業株式会社 | ゴム組成物およびタイヤ |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3497925B2 (ja) * | 1994-07-06 | 2004-02-16 | 三井化学株式会社 | 不飽和性エチレン系共重合体およびその製造方法 |
US5901766A (en) | 1997-08-26 | 1999-05-11 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Pneumatic tire having a tread compound containing high levels of low Tg polymer and resin |
US20060167160A1 (en) * | 2002-06-19 | 2006-07-27 | Bridgestone Corporation | Rubber composition for tire and tire made therefrom |
JP4316920B2 (ja) * | 2003-04-24 | 2009-08-19 | 住友ゴム工業株式会社 | ゴム組成物およびそれを用いたタイヤ |
JP5030367B2 (ja) * | 2003-07-23 | 2012-09-19 | 株式会社ブリヂストン | タイヤ |
JP2005047968A (ja) * | 2003-07-30 | 2005-02-24 | Yokohama Rubber Co Ltd:The | シリカ配合ゴム組成物 |
EP2940072B1 (en) * | 2005-08-09 | 2020-05-27 | Kraton Chemical, LLC | Rubber compositions containing improved tackifiers |
DE602006004826D1 (de) | 2005-11-29 | 2009-03-05 | Sumitomo Rubber Ind | Kautschukzusammensetzung und Luftreifen, der diese verwendet |
JP2009120819A (ja) | 2007-10-22 | 2009-06-04 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | ゴム組成物およびそれを用いた空気入りタイヤ |
FR2928647B1 (fr) * | 2008-03-13 | 2011-11-25 | Michelin Soc Tech | Composition de caoutchouc pour bande de roulement de pneumatique hiver |
US8217128B2 (en) | 2008-09-04 | 2012-07-10 | Amyris, Inc. | Farnesene interpolymers |
EP2334707B1 (en) * | 2008-09-04 | 2012-02-01 | Amyris, Inc. | Adhesive compositions comprising a polyfarnesene |
JP5402112B2 (ja) | 2009-03-11 | 2014-01-29 | Jsr株式会社 | ゴム組成物及び空気入りタイヤ |
US20120237632A1 (en) | 2009-09-10 | 2012-09-20 | David Phillips | Chewing gums having improved removability based on extensional flow properties |
EP2475264A4 (en) * | 2009-09-10 | 2013-12-04 | Wrigley W M Jun Co | CHEMICAL GUM COMPOSITIONS |
US20120269924A1 (en) | 2009-09-10 | 2012-10-25 | David Phillips | Chewing gums having improved removability based on linear viscoelastic shear rheology |
JP2011132298A (ja) | 2009-12-22 | 2011-07-07 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 変性共重合体、それを用いたゴム組成物および空気入りタイヤ |
EP2566959A1 (en) * | 2010-04-30 | 2013-03-13 | Roche Diagniostics GmbH | System and method for purification and use of inorganic pyrophosphatase from aquifex aeolicus |
PT2762525T (pt) | 2011-09-30 | 2016-12-14 | Kuraray Co | Composição de borracha e pneu |
RU2611511C2 (ru) * | 2011-09-30 | 2017-02-27 | Курарей Ко., Лтд. | Каучуковая композиция и шина |
WO2013115010A1 (ja) * | 2012-02-01 | 2013-08-08 | 住友ゴム工業株式会社 | 分枝共役ジエン共重合体、ゴム組成物および空気入りタイヤ |
JP6338859B2 (ja) * | 2012-02-02 | 2018-06-06 | 住友ゴム工業株式会社 | ゴム組成物および空気入りタイヤ |
-
2013
- 2013-02-18 JP JP2013529896A patent/JP5617040B2/ja active Active
- 2013-02-18 CA CA3059169A patent/CA3059169A1/en active Pending
- 2013-02-18 PT PT160024949T patent/PT3156445T/pt unknown
- 2013-02-18 HU HUE16002494A patent/HUE038502T2/hu unknown
- 2013-02-18 WO PCT/JP2013/053904 patent/WO2013125496A1/ja active Application Filing
- 2013-02-18 PT PT137517181T patent/PT2818507T/pt unknown
- 2013-02-18 US US14/380,534 patent/US9228077B2/en active Active
- 2013-02-18 ES ES13751718.1T patent/ES2614822T3/es active Active
- 2013-02-18 TR TR2018/02865T patent/TR201802865T4/tr unknown
- 2013-02-18 RU RU2014138498A patent/RU2617481C2/ru active
- 2013-02-18 EP EP13751718.1A patent/EP2818507B1/en active Active
- 2013-02-18 BR BR112014020827-1A patent/BR112014020827B1/pt active IP Right Grant
- 2013-02-18 CA CA2865378A patent/CA2865378C/en active Active
- 2013-02-18 CN CN201380010563.2A patent/CN104245818B/zh active Active
- 2013-02-18 EP EP16002494.9A patent/EP3156445B1/en active Active
- 2013-02-18 CN CN201610743525.3A patent/CN106317520A/zh active Pending
- 2013-02-18 CA CA3073378A patent/CA3073378C/en active Active
- 2013-02-18 KR KR1020147023404A patent/KR101961513B1/ko active IP Right Grant
- 2013-02-18 KR KR1020197007520A patent/KR20190031591A/ko not_active Application Discontinuation
- 2013-02-22 TW TW102106117A patent/TWI565758B/zh active
- 2013-07-09 JP JP2013144020A patent/JP2013241609A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
PT3156445T (pt) | 2018-03-20 |
BR112014020827B1 (pt) | 2020-10-13 |
CA3059169A1 (en) | 2013-08-29 |
TWI565758B (zh) | 2017-01-11 |
JP5617040B2 (ja) | 2014-10-29 |
EP2818507B1 (en) | 2017-01-11 |
WO2013125496A1 (ja) | 2013-08-29 |
KR101961513B1 (ko) | 2019-03-22 |
RU2014138498A (ru) | 2016-04-10 |
CA3073378C (en) | 2022-01-04 |
ES2614822T3 (es) | 2017-06-02 |
KR20190031591A (ko) | 2019-03-26 |
CN106317520A (zh) | 2017-01-11 |
US9228077B2 (en) | 2016-01-05 |
JP2013241609A (ja) | 2013-12-05 |
EP3156445B1 (en) | 2018-01-17 |
US20150051332A1 (en) | 2015-02-19 |
CA2865378A1 (en) | 2013-08-29 |
CA3073378A1 (en) | 2013-08-29 |
PT2818507T (pt) | 2017-03-08 |
EP2818507A4 (en) | 2015-11-04 |
RU2617481C2 (ru) | 2017-04-25 |
EP2818507A1 (en) | 2014-12-31 |
EP3156445A1 (en) | 2017-04-19 |
CA2865378C (en) | 2021-05-11 |
CN104245818A (zh) | 2014-12-24 |
TW201343795A (zh) | 2013-11-01 |
KR20140129044A (ko) | 2014-11-06 |
HUE038502T2 (hu) | 2018-10-29 |
JPWO2013125496A1 (ja) | 2015-07-30 |
CN104245818B (zh) | 2016-10-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TR201802865T4 (tr) | Kauçuk bileşimi ve lastik. | |
US10781298B2 (en) | Copolymer, rubber composition using same, and tire | |
CA2837545C (en) | Rubber composition and tire | |
EP2835383B1 (en) | Copolymer, rubber composition using same, and tire | |
CA2869390C (en) | Rubber composition comprising copolymer and tire produced therefrom | |
CA2837547C (en) | Rubber composition and tire | |
CA2921890C (en) | Rubber composition and tire | |
US10227481B2 (en) | Rubber composition, vulcanized rubber, and tire |