SU890907A1 - Method for preparing photosensitive cadmium sulfide films - Google Patents

Method for preparing photosensitive cadmium sulfide films Download PDF

Info

Publication number
SU890907A1
SU890907A1 SU802978997A SU2978997A SU890907A1 SU 890907 A1 SU890907 A1 SU 890907A1 SU 802978997 A SU802978997 A SU 802978997A SU 2978997 A SU2978997 A SU 2978997A SU 890907 A1 SU890907 A1 SU 890907A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
cadmium sulfide
substrate
solution
films
thiourea
Prior art date
Application number
SU802978997A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
А.В. Колпаков
С.М. Контуш
В.В. Сердюк
А.Е. Турецкий
Г.Г. Чемересюк
Original Assignee
Одесский Ордена Трудового Красного Знамени Государственный Университет Им.И.И.Мечникова
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Одесский Ордена Трудового Красного Знамени Государственный Университет Им.И.И.Мечникова filed Critical Одесский Ордена Трудового Красного Знамени Государственный Университет Им.И.И.Мечникова
Priority to SU802978997A priority Critical patent/SU890907A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU890907A1 publication Critical patent/SU890907A1/en

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Abstract

СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ФОТОи. ;ЧУВСТВИТЕЛЬНЫХ ПЛЕНОК СУЛЬФИДА КАДМИЯ, нанесеннык путем .раопыпени  расггвора хп(фиаа кацми  и тиомочевины на нагретую поцпожку, отличающийс  тем, что, с цепью повышени  фоточужггвитиеьности и прр ачности пленок, на поцложку нанос т мовоцисперсный аэрозоль спиртового раствора исхоцнык компонентов концентрации 0,010 ,06 моць/п. (Л СХ) со о со о 4METHOD OF OBTAINING PHOTOS. SENSITIVE FILAMENTS / n. (L CX) so about so about 4

Description

. Изобретение ctjHocHTCfl к технологии изготовлени  попупровоаников и может найти применение при произвоцстве р ца попупровоаниковых приборов(фоторезисторов , фотопотенциоматров, сопнеч1 ых элементов, безвакуумных аналогов передающих телевизионных трубок). Известен способ получени  полупроводниковых ппенок сульфица кадми  пиро питическим разбрызгиванием. Этот метод состоит в том, что на подложку нагретую до определенной температуры распыл етс  при нормальных атмосзферных услови х .воцшлй раствор хлористого кадми  и тиомочевины Cl 3 . Наиболее близким техническим реш&нием  вл етс  сюсоб получени  фоточувствитепьных ппенок сульфида кадми , нанесенных путем распылени  раствора хлорида кадми  и тиомочевины на нагретую подложку 1,2, Технический процесс получени  ппено заключаетс  в следующем. Водный раство из соединений кадми  и серы наноситс  методом реактивного распылени  на подложку, нагретую до 2ОО С. При этом протекает реакци , в результате которой образуетс  С d 5 . Недостатками известного способа на пыпени   вл ютс  низка  фоточувовтвитепъность пленок (дп  их очувствительно ти наобхоцим отжиг при длительностью пор дка не дели) ,а также мала  проэ рачность дл  света как до,так и после отжига, что св зано с нагшчием структурных дефектов ппенки. . Цепью изобретени   вгшетс  повышение фоточувствитепьности и прозрачности пленок.. Поставленна  цепь достигаетс  тем, что в способе получени  фоточувствитегеьных ппенок сульфида кадми , нанесенных путем распылени  4)аствора хлорида кадми  и тиомочевины на нагретую лоц ложку, на нее нанос т монодиспероный аэрозоль спиртового раствора иоходных компонентов концентрации 0,010 ,06 моль/л. Суишость способа заключаетс  в том что рабочий раствор, приготовленный Смешиванием спиртовых растворов хлорида кaшvra  и тиомочевины, наноситс  в виде монодисперсных аэрозольных (диаметром пор цка 50 мкм) на диэлектрическую подложку, температу ру которой можно мен ть в широких пределах. Аэрозольный режим распыпени  создают прикладыва  между корпусом НЕцгреватеп  на котором находитс  подаониса) и капилл ром с рабочим раствором электрическое напр жение величи; ной 6 кВ, Зар женные капли, срыва сь с остри  капилл ра, движутс  в направлении подложки вдоль силовых линий пол , образу  расход щийс  аэрозольный конус. Вследствие электростатических сил отталкивани  между соседними капл ми последние осаждаютс  на подложке равномерным споем. В процессе попадани  раствора на нагретую подложку на ней протекает химическа  реакци  CdDe2 + {NH2) CCJSI + -baMH cei-t.cOgt , в результате которой образуетс  фоточувствительна  прозрачна  пленка сульфида кадми . При нагревании пленки используют интервал температур подложки ЗвО-БОО С, Пленка, нанесенна  на подложку,нагретую до температуры, меньшей., мало прозрачна и имеет низкую фоточувствительность . Это Г1объ сн етс  присутствием в объеме пленки хлористого аммони , образующегос  в процессе химической реакции нар ду с образованием сульфида кадми . При температуре подложки из указанного выше интервала полностью сублимирован. Использование в данном способе спир ного раствора хлорида кадми  и тиомочевины взамен традигвионного водного раствора, примен вшегос  в процессе реактивного распылени , способствует более стабильному режиму образовани  монодисперсного аэрозол , что в конечном счете приводит к образованию на подложке бопее совершенных по структуре и фотоэлектрическим свойствам ппе- нок . На чертеже приведена схема устано&ки цп  осуществценк  способа пЬпучени  ппенок. Она состоит из генератора моносшсперсного аэрозол  1, емкости с рабочим раствором, источника высокого нап- р жени  3, нагревател  4, на котором расположена подложка 5. Генератор монодисперсного аэрозол  состоит из тонкостенного капилл ра 6 с внутренним диаметром 0,1 мм. Коаксиапьно с капилл ром расположен цилиндрический выт гивающий электрод 7. Межцу капилл ром и выт гивающим эпектродом находитс  изолирующа  фторопластова  прокладка 8. 38 Капипп р соецинен с емкостью 2 трубкой Така  конфигураци  электроцов обеспечивает наибопее приемлемый режим работы генератора. Рабочие напр жени  на выт гивающем электроде и капилл ре поццерживаютс  соответственно 3 и 6 кВ. П р и м е р 1. Дп  приготовлени  рабочего раствора используют хлористый кацмий /Cdtt 22,5 Н2 О / - О,057 г, растворенный в 25 мп спирта, и тиомочевину /( NHg )2С5 / - О,О19 г. растворенную в 25 мп .спирта. Это соответствует концентраци м растворов 0,О1 моль/п. Приготовленные растворы запивают в емкость 2. Ка нагреватепь 4 устанавливают предварительно очищенную стекл нную поапожку 5 (размеры подлож ки 3 х 3 см). Нагревают поцпожку до 450°С. Включают источник высокого напр жени  3, задают рабочие режимы напр жений: 3 кВ между выт гивающим эпектроцом 7 и корпусом нагреватеп  4, а также 6 кВ между капилл ром 6 и корпусом нагревател  4. При указанных .напр жени х осуществл етс  процесс напылени  рабочего раствора в вице моноцисперсного аэрозол  на нагретую подложку 5. Врем  напьшени , необходимое цп  получени  фоточувствительной ппенки сульфида кадми  толщиной 0,1 мк составл ет 12 мин. Из используемого количества рабочей смеси можно получить 14 образцов. П р и м е р 2. Услови  такие же, как и в примере 1. Используют рабочую смесь, состо щую из спиртовых растворов CdCtgi (NH2 ) С 5 концентр цией О,04 мопь/п. Врем  напылени , необхоцимое дл  получени  пленки суль7 фида кадми  толщиной ОД мкм, составл ет 3 мин. Из приготовленного коли- честна рабочей смеси можно получить 57 образцов. Примерз. Условий такие же, как, и в примерах 1 и 2. Мол рные концентрации спиртовых ipacTBopoB хлорида кадми  и тиомочевины 0,06 моль/л. Врем  напылени , необходимое дл  получени  пленки С « 5 толщиной 0,1 мкм, составл ет 2 мин. Из используемого количества рабочей смеси можно получить 86 образцов . Максимальное значениеконцентрации раствора ограничиваетс  растворимостью хлористого кадми  в спирте, а минимальное длительностью процесса напылени , ; На данной установке описанным способом изготовлена сери  фоточувствитель- ных прозрачных пленок сульфида кадми . В зависимости от времени напылени  (2-1.2 мин) и выбранной мол рности растворов получены слои толщиной О,1 0 ,5 мкм. Темнова  проводимость изготовленных пленок составл ет 10 10 Ом . Опт1гческа  прозрачность ц л  длин волн более 520 нм соотавл ет не менее 7О%. Полученные указанным способом пленки Cd 5 зеркальны, механически прочны , обладают хорошей ацгезией с подложкой и имеют высокую фоточувствительность без проведени  дополнительных очувствл$пощих обработок (кратность фототока при освещенности 200 люкс постигает 10). Рентгенографическими исследовани ми установлено, что кристаллическа  структура пленок в основном гексагональна.. The invention of ctjHocHTCfl to the technology of making popuprovoans and can find application in the manufacture of a variety of assisted vanishing devices (photoresistors, photopotentiometrics, sopnech elements, nonvacuum analogue transmitting television tubes). A known method for producing cadmium sulfide semiconductor foams is pyrocritically sprinkled. This method consists in spraying the substrate with a normal temperature of a certain temperature under normal atmospheric conditions. A complete solution of cadmium chloride and thiourea Cl 3. The closest technical solution is to use cadmium sulphide photosensitive sulphide sousse applied by spraying a solution of cadmium chloride and thiourea on a heated substrate 1,2. The technical process for saphenol production is as follows. An aqueous solution of cadmium compounds and sulfur is applied by reactive sputtering on a substrate heated to 2OO C. A reaction proceeds, resulting in the formation of C d 5. The disadvantages of this method are the low photosensitivity of the films (dp is very sensitive to annealing during the duration of the order), as well as low transparency for light both before and after annealing, which is associated with structural defects of foams. . The inventive chain enhances the photosensitivity and transparency of films. The achieved pattern is that in the process of obtaining photosensitive cadmium sulfide foams applied by spraying 4) solution of cadmium chloride and thiourea on a heated pillow spoon, it will be applied to a non-diffraction impregnated tempered ciphyl chloride and thiourea on a heated pillow spoon, and a tempered pattern will be applied to the tempered glass and thiourea using a mono dispersed tempere impregnated tempered monochrome tempered unth 0,010, 06 mol / l. The method is based on the fact that the working solution prepared by mixing alcohol solutions of Kasvra chloride and thiourea is applied in the form of monodisperse aerosols (pore diameter 50 µm) on a dielectric substrate, the temperature of which can be varied within wide limits. The aerosol regime of rasps creates, by applying between the body of N the heating, on which the podonis is located) and the capillary with the working solution, the electrical voltage is great; 6 kV, Charged drops, dislodging from the tip of the capillary, move in the direction of the substrate along the field lines, forming a divergent aerosol cone. Due to electrostatic repulsion forces between adjacent droplets, the latter are deposited on the substrate by uniformly singing. During the process of getting the solution onto a heated substrate, a chemical reaction CdDe2 + {NH2) CCJSI + -baMH cei-t.cOgt takes place on it, resulting in the formation of a photosensitive transparent film of cadmium sulfide. When the film is heated, the temperature range of the substrate ZvO-BOO C, the film deposited on the substrate, heated to a temperature lower, is used, is slightly transparent and has low photosensitivity. This is explained by the presence of ammonium chloride in the bulk of the film, which is formed during the chemical reaction along with the formation of cadmium sulfide. When the temperature of the substrate from the above interval is completely sublimated. The use of an alcohol solution of cadmium chloride and thiourea instead of a conventional aqueous solution, used in the reactive spraying process, contributes to a more stable mode of monodisperse aerosol formation, which ultimately leads to the formation of a structure and photoelectric properties of the foam on the substrate. . The drawing shows a diagram of the installation of & cn cp implementation of the method of puffing foam. It consists of a generator of mono-spray aerosol 1, a container with a working solution, a high-voltage source 3, a heater 4 on which the substrate 5 is located. The generator of a monodisperse aerosol consists of a thin-walled capillary 6 with an internal diameter of 0.1 mm. A coaxial drawing electrode 7 is located coaxially with a capillary. Interspersed by a capillary and a drawing electrode is an insulating fluoroplastic gasket 8. 38 Kippipp r 2 with a capacity of 2 tubes. Such a configuration of electrofusion provides the most acceptable mode of operation of the generator. The operating voltages on the drawing electrode and the capillary are respectively 3 and 6 kV. PRI me R 1. Dp of preparation of the working solution use katsmiy chloride / Cdtt 22.5 H2 O / - O, 057 g, dissolved in 25 mp of alcohol, and thiourea / (NHg) 2С5 / - O, O19, dissolved in 25 mp. alcohol. This corresponds to a concentration of 0, O1 mol / p. The prepared solutions are washed down into the container 2. Each heater, 4, is used to install a pre-cleaned glass boot 5 (the dimensions of the substrate are 3 x 3 cm). Heat the chop to 450 ° C. The high voltage source 3 is switched on, the operating modes of the voltages are set: 3 kV between the drawing ejectrots 7 and the heating case 4, as well as 6 kV between the capillary 6 and the heater body 4. At the indicated voltages, the working solution is sprayed vice monocisperse aerosol on the heated substrate 5. The time required for the cp of obtaining a photosensitive foam cadmium sulfide with a thickness of 0.1 microns is 12 minutes. From the used quantity of the working mixture, 14 samples can be obtained. EXAMPLE 2. The conditions are the same as in Example 1. A working mixture is used, consisting of alcoholic solutions of CdCtgi (NH2) C 5 with concentration of O, 04 mop / p. The sputtering time required to produce a cadmium sulfide film with a thickness of OD µm is 3 minutes. From the prepared quantity of the working mixture, 57 samples can be obtained. Froze The conditions are the same as in Examples 1 and 2. The molar concentrations of alcohol ipacTBopoB cadmium chloride and thiourea are 0.06 mol / l. The sputtering time required to produce a C 5 film with a thickness of 0.1 µm is 2 minutes. From the used quantity of the working mixture, 86 samples can be obtained. The maximum concentration of the solution is limited by the solubility of cadmium chloride in alcohol, and the minimum duration of the spraying process; A series of photosensitive transparent cadmium sulfide films was made using the described method. Depending on the sputtering time (2–1.2 min) and the chosen molarity of the solutions, layers with a thickness of 0.05 microns were obtained. The dark conductivity of the films produced is 10 10 ohms. The optical transparency of the l of wavelengths longer than 520 nm corresponds to at least 7O%. The Cd 5 films obtained by the above method are mirrored, mechanically strong, possess good adhesion with the substrate, and have a high photosensitivity without additional visual sensations (the multiplicity of the photocurrent under illumination of 200 lux comprehends 10). By X-ray diffraction studies, it was found that the crystalline structure of the films is mainly hexagonal.

Claims (1)

. СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ФОТОЧУВСТВИТЕЛЬНЫХ ПЛЕНОК СУЛЬФИДА КАДМИЯ, нанесенных путем -распыления раствора хлорида кадмия и тиомочевины на нагретую подложку, отличающийся тем, что, с цепью повышения фоточувствитлеьности и прозрачности пленок, на подложку наносят мо— нодисперсный аэрозоль спиртового раствора исходных компонентов концентрации 0,01- : 0,06 мопь/п.. METHOD FOR PRODUCING PHOTOSENSITIVE FILMS OF CADMIUM SULPHIDE, deposited by spraying a solution of cadmium chloride and thiourea on a heated substrate, characterized in that, with a chain of increasing photosensitivity and transparency of the films, a monodisperse solution with a concentration of 0 : 0 alcohol component of aerosol is applied : 0.06 mop / n.
SU802978997A 1980-08-19 1980-08-19 Method for preparing photosensitive cadmium sulfide films SU890907A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU802978997A SU890907A1 (en) 1980-08-19 1980-08-19 Method for preparing photosensitive cadmium sulfide films

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU802978997A SU890907A1 (en) 1980-08-19 1980-08-19 Method for preparing photosensitive cadmium sulfide films

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU890907A1 true SU890907A1 (en) 1983-09-30

Family

ID=20916617

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU802978997A SU890907A1 (en) 1980-08-19 1980-08-19 Method for preparing photosensitive cadmium sulfide films

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU890907A1 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998002241A1 (en) * 1996-07-11 1998-01-22 The University Of Cincinnati Electrically assisted synthesis of particles and films with precisely controlled characteristics
CN106967962A (en) * 2015-11-16 2017-07-21 应用材料公司 The CVD of low-steam pressure aerosol auxiliary
RU2651212C1 (en) * 2017-03-23 2018-04-18 федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Воронежский государственный университет" (ФГБОУ ВО "ВГУ") Method of reparation of cadmium sulfide films on a monocrystalline silicon

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
1. ChamberПп R.R., Skarman J.S. Effect of reactant mitrogen pressure of the microstructure and properties of reactively sputtered Cd S films. J.Electrochem. Soc, 113, p.86, 1966. 2. Мартинуии С. и цр. Свойства ппёнок С d 5 , попученных метоцом pea тивного распылени . Сопнечна энергети- ка , М.,. Мир, 1979 (прототип). *

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998002241A1 (en) * 1996-07-11 1998-01-22 The University Of Cincinnati Electrically assisted synthesis of particles and films with precisely controlled characteristics
CN106967962A (en) * 2015-11-16 2017-07-21 应用材料公司 The CVD of low-steam pressure aerosol auxiliary
CN106967962B (en) * 2015-11-16 2021-03-09 应用材料公司 Low vapor pressure aerosol assisted CVD
RU2651212C1 (en) * 2017-03-23 2018-04-18 федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Воронежский государственный университет" (ФГБОУ ВО "ВГУ") Method of reparation of cadmium sulfide films on a monocrystalline silicon

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4371740A (en) Conductive elements for photovoltaic cells
DE19642419A1 (en) Process and coating composition for producing an anti-reflective coating
JP3681870B2 (en) Method for producing compound semiconductor film and solar cell
JP2004015041A (en) Method for manufacturing compound thin film solar cell
Garcia et al. Preparation of highly photosensitive CdSe thin films by a chemical bath deposition technique
SU890907A1 (en) Method for preparing photosensitive cadmium sulfide films
US4201453A (en) Liquid crystal cell having an insulating layer of a silicon oxide base
US4159914A (en) Photovoltaic cell
US5009928A (en) Method for forming a transparent conductive metal oxide film
DE1496590C3 (en) Process for the production of warm reflective SnO deep 2 layers with reproducible optical and electrical properties on carriers
RU2072379C1 (en) Antistatic transparent composition for coating of screens, process for preparation thereof and process for preparation of videodisplays using said composition
CA1239759A (en) Liquid coating composition for producing high quality, high performance fluorine-doped tin oxide coating
JPH1053418A (en) Tin oxide ternary function thin film and its production
KR0176291B1 (en) Method for fabricating transparent conductive film of zno and zno/sno2 double later using ultrasonic spraying method
DE3632210A1 (en) METHOD FOR PRODUCING A PHOTOELECTRIC CONVERSION FILM
US3248261A (en) Photoconducting layers
CN113106535B (en) Preparation method of two-dimensional perovskite single crystal
SE9602269L (en) Glazing panel with sun-filtering properties and process for making the same
US3238062A (en) Photoconductor preparation
JPS62213281A (en) Transparent conductive film
USRE30147E (en) Method of coating a glass ribbon on a liquid float bath
JP3734848B2 (en) Method for forming transparent conductive material
US4156558A (en) Incoherent to coherent transducer and method of manufacture
Huang et al. Chemical deposition of thin films of copper sulfide on glass surfaces modified with organosilanes
JPS61186478A (en) Forming of conductive film