SU1472865A1 - Способ контрол изменени сенситометрических свойств фотоэмульсии - Google Patents

Способ контрол изменени сенситометрических свойств фотоэмульсии Download PDF

Info

Publication number
SU1472865A1
SU1472865A1 SU874322043A SU4322043A SU1472865A1 SU 1472865 A1 SU1472865 A1 SU 1472865A1 SU 874322043 A SU874322043 A SU 874322043A SU 4322043 A SU4322043 A SU 4322043A SU 1472865 A1 SU1472865 A1 SU 1472865A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
emulsion
layer
substrate
radiation
reflection coefficient
Prior art date
Application number
SU874322043A
Other languages
English (en)
Inventor
Владимир Васильевич Бердник
Валерий Александрович Лойко
Аркадий Петрович Иванов
Владлен Мойсеевич Шварц
Original Assignee
Институт физики АН БССР
Казанский Научно-Исследовательский Технологический И Проектный Институт Химико-Фотографической Промышленности
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Институт физики АН БССР, Казанский Научно-Исследовательский Технологический И Проектный Институт Химико-Фотографической Промышленности filed Critical Институт физики АН БССР
Priority to SU874322043A priority Critical patent/SU1472865A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU1472865A1 publication Critical patent/SU1472865A1/ru

Links

Landscapes

  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

Изобретение относитс  к способам контрол  сенситометрических свойств фотоэмульсии в процессе ее приготовлени . Изобретение позвол ет увеличить точность контрол  сенситометрических свойств фотоэмульсии и уменьшить количество брака при ее приготовлении. Исследуемую эмульсию нанос т на подложку с коэффициентом отражени  70-100% в виде сло  толщиной H=0,2-5 мм, студен т, экспонируют заданной экспозицией, освещают неактиничным излучением, привод т в контакт с про вителем и измер ют зависимость интенсивности рассе нного эмульсионным слоем излучени  от времени про влени . Отражательна  способность сло  эмульсии, нанесенного на подложку с коэффициентом отражени  70-100%, слабо зависит от толщины сло , что позвол ет уменьшить погрешность контрол , обусловленную неточным дозированием эмульсии. 2 ил.

Description

}
Изобретение относитс  к контролю свойств материалов фотометрическими методами и может быть использовано в химико-фотографической промышленности дл  контрол  процесса химического созревани .
Цель изобретени  - увеличение точности измерений.
На фиг.1 приведена схема устройства дл  реализации способа; на фиг.2 - кривые про влени  образцов эмульсии с разными экспозици ми.
Сущность способа в том, что при измерении коэффициента отражени  от толстого сло  эмульсии погрешности в дозировании слабо Сказываютс  на
результатах измерений. Поэтому, если выбрать подложку с коэффициентом отражени , равным коэффициенту отражени  от полубесконечного сло  эмульсии,погрешности измерений, возникающие из-за неточного дозировани  пробы эмульсии, удаетс  полностью исключить.
Дл  современных эмульсий коэффициенты отражени  полубесконечного сло  области неактичного излучени  (А 0,65 мкм) лежат в интервале О,7-0,99Г Поэтому коэффициент отражени  подложки должен находитьс  в этом интервале.
00 0 СЛ
Минимальное значение h 0,2 мм выбрано из соображений возможности получени  сло  равномерной толщины. При меньших толщинах трудно получить однородный слой. Ограничени  толщины сло  сверху (h 5 мм) обусловлены тем, что при дальнейшем увеличении толщины сло  врем  стгдени , а следовательно, и врем  анализа резко увеличиваетс .
Устройство контрол  изменени  сенситометрических свойств фотоэмульсии (фиг.1) включает слой 1 эмульсии подложку 2, емкость 3 с про вителем, лампу 4, светофильтр 5, фотоприемное устройство 6, электронную систему 7, графопостроитель 8.
Способ реализуетс  следующим образом.
В ходе химического созревани  собирают пробу эмульсии и поливают слой 1 толщиной 0,2-5 мм на подложку 2 с коэффициентом отражени  0,7- 0,99. Эмульсию студен т и экспони- руют заданной экспозицией. Затем образец исследуемой эмульсии опускают в емкость 3 с про вителем и освещают излучением от лампы 4 через светофильтр 5, пропускающий излучение с длиной волны в области 0,6- 0,9 мкм, к которому эмульси  не чувствительна. Рассе нное образцом излучение воспринимаетс  фотоприемным устройством 6, преобразуетс  электронной системой 7 и подаетс  на графопостроитель 8, в котором выписываютс  кривые про влени  зависимости интенсивности рассе нного излучени  от времени про влени . По изменению кривых про влени  суд т об изменении сенситометрических свойств фотоэмульсии. Врем , затрачиваемое на измерени  по предлагаемому способ составл ет 4-5 мин.
Оптимальным  вл етс  выбор подложки с коэффициентом отражени  А, равным коэффициенту от полубесконечного сло  исследуемой эмульсии ROJ .
4728654
При таком выборе подложки интенсивность рассе нного света не зависит от от толщины сло  эмульсии и полностью исключаютс  погрешности, обусловленные колебани ми толщины поливаемого сло  эмульсии.
0
5 0 5 0
Если А & R т, то при изменении толщины сло  эмульсии измен ютс  величины коэффициента отражени  сло  эмульсии на подложке г и коэффициента пропускани  Т.
На фиг.2 приведены зависимости 5 интенсивности рассе нного излучени  от времени про влени  дл  образцов эмульсии с разными экспозици ми. Как видно из данных, приведенных на фиг.2, погрешности дозировани  эмульсии , составл вшие 5-7%, практически не сказываютс  на результатах измерени  кривых про влени , все кривые начинаютс  с одного уровн . Цифры у кривых указывают сколько раз эмульси  экспонировалась через затвор с падающей шторкой.

Claims (1)

  1. Формула изобретени 
    Способ контрол  изменени  сенситометрических свойств фотоэмульсии в процессе химического созревани , заключающийс  в отборе и нанесении на подложку образца эмульсии, экспонировании образца эмульсии приведении образца в контакт с про вителем и освещении образца неактиничным излучением, отличающийс  тем, что, с целью повышени  точности, исследуемую эмульсию нанос т на подложку с коэффициентом отражени  А 70-100% в виде сло  толщиной 0,2-5,0 мм, измер ют интенсивность рассе нного эмульсионным слоем излу- 5 чени  и об изменении сенситометрических свойств эмульсии суд т по изменени м зависимости интенсивности рассе нного излучени  от времени про влени  .
    фи.1
    //
    Фиг. 2
SU874322043A 1987-10-26 1987-10-26 Способ контрол изменени сенситометрических свойств фотоэмульсии SU1472865A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU874322043A SU1472865A1 (ru) 1987-10-26 1987-10-26 Способ контрол изменени сенситометрических свойств фотоэмульсии

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU874322043A SU1472865A1 (ru) 1987-10-26 1987-10-26 Способ контрол изменени сенситометрических свойств фотоэмульсии

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1472865A1 true SU1472865A1 (ru) 1989-04-15

Family

ID=21333893

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU874322043A SU1472865A1 (ru) 1987-10-26 1987-10-26 Способ контрол изменени сенситометрических свойств фотоэмульсии

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1472865A1 (ru)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Photo Sci, Eng. v.18, 1974, № 5, p. 535-538. Патент US № 3887333, кл. G 01 N 21/20, G 03 С 5/26, 1975. *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Kisner et al. Multiple analytical frequencies and standards for the least-squares spectrometric analysis of serum lipids
US4125372A (en) Method and device for testing liquids
US4302108A (en) Detection of subsurface defects by reflection interference
JPH0746111B2 (ja) 試料分析方法及びこれを用いた自動分析装置
JPS591977B2 (ja) 呈色試験紙を用いた分析方法
US2380244A (en) Sensitometry
JP3672268B2 (ja) 測定用センサ及び測定用センサを用いる拡散反射スペクトル測定方法並びに乳剤製造装置
EP0075171A1 (en) Apparatus and process for analytical and diagnostic purposes
SU1472865A1 (ru) Способ контрол изменени сенситометрических свойств фотоэмульсии
US4474864A (en) Method for dose calculation of photolithography projection printers through bleaching of photo-active compound in a photoresist
US5452040A (en) Film developing apparatus
JP3055082B2 (ja) 濃度管理方法および装置
JPH0777492A (ja) 吸光光度計およびこの吸光光度計の自己診断方法
Neely et al. Variation in the autoradiographic technique: I. Emulsion-developer combinations assessed by photometric measurement of single silver grains.
US3725071A (en) Method and apparatus for controlling characteristics of fogged silverhalide emulsions
US6849366B1 (en) Systems and methods for film processing quality control
RU1775646C (ru) Способ определени скорости про влени фотоэмульсии
Buhr et al. Intercomparison of visual diffuse transmission density measurements
US4618233A (en) Scanning wedge method for determining characteristics of a photoresist
SU1157361A1 (ru) Устройство регулировани экспозиции
JP2001091358A (ja) 調色方法および装置
JPS6123499B2 (ru)
RU2244363C1 (ru) Способ определения селективности силилирования в фотолитографических процессах с использованием газофазной химической модификации приповерхностного слоя фоторезистных пленок
Adams et al. A Cytophotometric Method for Study of the Erythroid Development Sequence tn Mammals
SU1187036A1 (ru) "cпocoб пobepkи фotokoлopиmetpичeckиx гaзoahaлизatopob"