SI23509A - Sinteza nano äśistila na osnovi amorfnega nano slilicijevega (iv) oksida - Google Patents
Sinteza nano äśistila na osnovi amorfnega nano slilicijevega (iv) oksida Download PDFInfo
- Publication number
- SI23509A SI23509A SI201000302A SI201000302A SI23509A SI 23509 A SI23509 A SI 23509A SI 201000302 A SI201000302 A SI 201000302A SI 201000302 A SI201000302 A SI 201000302A SI 23509 A SI23509 A SI 23509A
- Authority
- SI
- Slovenia
- Prior art keywords
- oxide
- range
- nano
- concentration area
- silicon
- Prior art date
Links
Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
Predložen izum se nanaša na sintezo nano čistila na osnovi amorfnega nano silicijevega (IV) oksida z ozko porazdelitvijo velikosti delcev sferične oblike v območju med 5 nm in 50 nm, postopek obarjanja komercialno dostopne vodne raztopine natrijevega silikata s klorovodikovo kislino v vodni raztopini natrijevega silikata pri pH vrednosti med 6,5 in 11, temperaturo sinteze v območju med 50 stopinj C in 90 stopinj C ter zadrževalnim časom na maksimalni temperaturi od 20 do 150 minut, stabilizacijo suspenzijez dodatkom klorovodikove kisline pri pH vrednosti med 3 in 5, sušenje disperzije amorfnega nano silicijevega (IV) oksida v temperaturnem območju med 110 stopinj C in 120 stopinj C ter zadrževalnim časom na maksimalni temperaturi od 12 do 24 ur, postopek vgradnje površinsko stabiliziranih nano delcev amorfnega silicijevega (IV) oksida v koncentracijskem območju med 1 ut% in 10 ut% v vodne suspenzije maščobnega alkohola poliglikol etra v koncentracijskem območju med 3 ut % in 8 ut %, tenzida natrijeve solialkilsulfonata v koncentracijskem območju med 4 ut% in 10 ut %, citronske kisline v koncentracijskem območju med 1 ut% in 5 ut%, aluminijevega (III) oksida v koncentracijskem območju med 12 ut% in 20 ut%, konzervansa v koncentracijskem območju med 0,01 ut % in 0,3 ut % ter eteričnega olja v koncentracijskem območju med 0,l ut % in 3 ut %, kar omogoča nanos tankega sloja plasti čistila na površino čiščenih predmetov, učinkovito čiščenje in manjšo porabo čistilnega sredstva ter izboljšanje končnih mehanskihin samočistilnih lastnosti predmetov.
Description
Sinteza nano čistila na osnovi amorfnega nano silicijevega (IV) oksida
Predmet izuma je sinteza nano čistila na osnovi amorfnega nano silicijevega (IV) oksida, z ozko porazdelitvijo velikosti delcev sferične oblike v območju med 10 nm in 50 nm, koncentracijo delcev amorfnega nano silicijevega (IV) oksida v vodnih disperzijskih sistemih v koncentracijskem območju med 1 ut% in 10 ut%, kar omogoča nanos tankega sloja plasti čistila na površino čiščenih predmetov, učinkovito čiščenje in manjšo porabo čistilnega sredstva ter izboljšanje končnih mehanskih in samočistilnih lastnosti predmetov.
Lastnosti nano čistila na osnovi amorfnega nano silicijevega dioksida (SiO2) so v osnovi določene z velikostjo in obliko delcev, specifično površino in koncentracijo amorfnega nano silicijevega (IV) oksida v vodnih disperzij skih sistemih prilagojene pogojem uporabe na različnih področjih kemijske industrije, gospodinjske tehnike ter na področju ekologije in varovanja okolja.
Učinkovita izraba osnovnih lastnosti nano čistila na osnovi amorfnega nano silicijevega (IV) oksida je mogoča zaradi prilagojene izbire nosilnih vezivnih sistemov, velikosti, oblike in koncentracije nano delcev amorfnega silicijevega (IV) oksida ter pogojev vgradnje površinsko stabiliziranih nano delcev amorfnega nano silicijevega (IV) oksida v različne stabilne vodne disperzijske sisteme.
Po standardni patentni klasifikaciji sodi izum v 01. razred - kemični proizvodi za industrijo in znanost.
Tehnični problem, ki ga omenjeni izum rešuje, je sinteza nano čistila na osnovi amorfnega nano silicijevega (IV) oksida, ki vključuje postopek obarjanja komercialno dostopne vodne raztopine natrijevega silikata z gostoto v območju o ·>
med 1,20 g/cm in 1,54 g/cm s klorovodikovo kislino s koncentracijo v območju med 30 % in 32 % v vodni raztopini natrijevega silikata pri pH vrednost med 6,5 in 11, v temperaturnem območju med 50°C in 90°C ter zadrževalnim časom na maksimalni temperaturi od 20 do 150 minut, stabilizacijo suspenzije z dodatkom klorovodikove kisline pri pH vrednost med 3 in 5, postopek sušenja disperzije amorfnega nano silicijevega (IV) oksida v temperaturnem območju med 110°C in 120°C ter zadrževalnim časom na maksimalni temperaturi od 12 do 24 ur, postopek vgradnje površinsko stabiliziranih nano delcev amorfnega silicijevega (IV) oksida v koncentracijskem območju med lut% in 10ut%, v vodne suspenzije maščobnega alkohola poliglikol etra v koncentracijskem območju med 3ut% in 8ut%, tenzida natrijeve soli alkilsulfonata v koncentracijskem območju med 4ut% in 10ut%, citronske kisline v koncentracijskem območju med lut% in 5ut%, aluminijevega (III) oksida v koncentracijskem območju med 12ut% in 20ut% , eteričnega olja v koncentracijskem območju med 0,1 ut% in 3ut% in konzervansa v koncentracijskem območju 0,01ut% do 0,3 ut%, prilagojene pogojem uporabe na različnih področjih kemijske industrije, gospodinjske tehnike ter na področju ekologije in varovanja okolja.
Po dostopnih literatumih podatkih se trenutno v komercialnih čistilih pretežno uporabljajo anorganska polnila na osnovi CaCO3 Na2CO3 in NaOH v koncentracijskem območju med 20ut% in 85ut%. Delce anorganskih polnil velikosti v območju med lpm in 20 pm z različnimi tehnologijami vgrajujejo v vodna disperzijska sredstva na osnovi poliakrilne kisline, natrijevega poliakrilata, natrijevega fosfata ter različnih neionskih površinsko aktivnih snovi. Pri obstoječih čistilih prihaja zaradi oblike in velikosti delcev ter visoke koncentracije anorganskega polnila v vodnih disperzij skih sistemih do aglomeracije delcev, ločevanje trdne in tekoče faze, kar vpliva na efekt čiščenja, količino porabljenega čistilnega sredstva ter površinsko odpornost predmetov.
V primerjavi z doslej znanimi postopki priprave komercialnih čistil se predmet izuma od njih razlikuje v dodatku površinsko stabiliziranih nanodelcev amorfnega silicijevega (IV) oksida z velikostjo delcev v območju med 5 nm in 50 nm, ki stabilno vgrajeni v vodne disperzijske sisteme omogočajo nanos izredno tankega sloja čistilnega sredstva na površino čiščenih predmetov, izboljšajo učinkovitost čiščenja ob manjši porabi čistilnega sredstva ter vplivajo na izboljšanje končnih mehanskih in samočistilnih lastnosti predmetov.
Izum se nanaša na uporabljene surovine, kemijsko sestavo, sintezo, stabilizacijo površine nano delcev amorfnega silicijevega (IV) oksida z dodatkom organskih površinsko aktivnih snovi ter postopek vgradnje površinsko stabiliziranih nano delcev amorfnega silicijevega (IV) oksida v vodne raztopine disperzij skih sredstev pri izdelavi nano čistila z ustreznimi fizikalno kemijskimi lastnostmi.
Po izumu je naloga rešena s sintezo in površinsko stabilizacijo amorfnega nano silicijevega (IV) oksida ter postopkom vgradnje površinsko stabiliziranih nano delcev amorfnega silicijevega (IV) oksida v vodne disperzijske sisteme z uporabo:
Vodne raztopine komercialno dostopnega natrijevega silikata z gostoto v n -3 območju med 1,20 g/cm in 1,54 g/cm in reakcijskim modulom S1O2/
Na2O v območju med 2 in 3
Klorovodikove kisline tehnične čistosti v koncentracijskem območju med 30 % in 32 %
Dodatkom maščobnega alkohola poliglikol etra v koncentracijskem območju med 3ut% in 8ut%
Dodatkom alkilsulfonata v koncentracijskem območju med 4ut% in 10ut%,
X Dodatkom citronske kisline v koncentracijskem območju med lut% in 5ut%
X Dodatkom aluminijevega (III) oksida v koncentracijskem območju med 12ut% in 20ut%
Dodatkom eteričnega olja v koncentracijskem območju med 0,1 ut% in 3ut%
Dodatkom amorfnega nano silicijevega (IV) oksida v koncentracijskem območju med lut% in 10ut%
Dodatkom konzervansa v koncentracijskem območju med 0,01 ut% in 0,3 ut%
Procesnih parametrov obarjanja komercialno dostopne vodne raztopine natrijevega silikata z gostoto v območju med 1,20 g/cm in 1,54 g/cm z klorovodikovo kislino s koncentracijo v območju med 30% in 32% v vodni raztopini natrijevega silikata pri pH vrednost med 6,5 in 11, v temperaturnem območju med 50°C in 90°C ter zadrževalnim časom na maksimalni temperaturi od 20 do 150 minut, stabilizacijo suspenzije z dodatkom klorovodikove kisline pri pH vrednost v območju med 3 in 5, postopek sušenja disperzije amorfnega nano silicijevega (IV) oksida v temperaturnem območju med 110°C in 120°C ter zadrževalnim časom na • · maksimalni temperaturi od 12 do 24 ur, postopek vgradnje citronske kisline, aluminijevega (III) oksida, eteričnega olja, amorfnega nano silicijevega (IV) oksida in konzervansa v vodno suspenzijo maščobnega alkohola poliglikol etra in tenzida natrijeve soli alkilsulfonata (oba predhodno stabilizirana 24 ur pri temperaturi med 20°C in 30°C) v temperaturnem območju med 25°C in 30°C ter časom homogenizacije 60 minut.
Natančna razmerja posameznih komponent ter pripadajoči procesni parametri sinteze so navedeni v izvedbenih primerih.
IZVEDBENI PRIMER
V reakcijsko posodo, opremljeno z mešalom ter elektrodama za meritev pH in temperature, odmerimo 1140 ml vode in jo segrejemo do 60°C. Segreto vodo med mešanjem naalkalimo z vodno raztopino komercialno dostopnega natrijevega o
silikata z gostoto 1,54 g/cm do vrednosti pH=7. Avtomatsko dozirno posodo napolnimo s klorovodikovo kislino tehnične čistosti in koncentracijo 31%, ročno dozirno posodo pravilno namestimo na reakcijsko posodo in napolnimo s 320 ml vodne raztopine natrijevega silikata z gostoto 1,345 g/cm3 in reakcijskim modulom SiO2/ Na2O 2,6. Klorovodikovo kislino in vodno raztopino natrijevega silikata med mešanjem s kotvastim mešalom z 200 obrati/ minuto 30 minut simultano dodajamo naalkaljeni vodi ter vzdržujemo temperaturo 60°C pri pH=7. Po končanem dodajanju s prebitkom vodne raztopine natrijevega silikata naalkalimo reakcijsko zmes do vrednosti pH=8,5 in med mešanjem z mešalom v obliki kotve pri številu obratov 200/ minuto obarjamo 30 minut. Po zaključenem obarjanju s prebitkom klorovodikove kisline tehnične čistosti in koncentracije 31% nakisamo suspenzijo na vrednost pH=3,5 ter ohlajamo do sobne temperature. Sušimo na temperaturi 110°C, pri 20 urnem zadrževanju na maksimalni temperaturi. V posodo opremljeno z mešalom kotvaste oblike odmerimo 66ut% vode ter med mešanjem s hitrostjo 150 vrt./minuto dodamo 5,3ut% maščobnega alkohola poliglokol etra in 6,4ut% tenzida natrijeve soli alkilsulfonata, predhodno stabilizirana 24 ur pri temperaturi 25°C. Po 15 minutnem mešanju vodni mešanici obeh tenzidov dodamo 3,3 ut% citronske kisline in 16,8ut% aluminijevega (III) oksida. Tako pripravljeno suspenzijo homogeniziramo 30 minut. Po zaključku homogenizacij e dodamo 0,2 ut% eteričnega olja, 0,01 ut% konzervansa in 2ut% amorfnega nano silicijevega (IV) oksida ter mešamo 60 minut pri temperaturi 25°C.
Po izumu je problem rešen s sintezo nano delcev amorfnega silicijevega (IV) Λ 2 oksida sferične oblike, velikosti 30 ± 5 nm in specifično površino 130 ± 5 m /g ter postopkom vgradnje nano delcev amorfnega silicijevega (IV) oksida v vodne disperzij ske sisteme.
Claims (1)
- PATENTNI ZAHTEVEK1. Sinteza nano čistila na osnovi amorfnega nano silicijevega (IV) oksida označeno s tem, da vključuje postopek obarjanja vodne raztopine natrijevega silikata z gostoto v območju med 1,20 g/cm in 1,54 g/cm in reakcijskim modulom SiO2/Na2O v območju med 2 in 3, s klorovodikovo kislino s koncentracijo v območju med 30 % in 32 % v vodni raztopini natrijevega silikata pri pH vrednost med 6,5 in 11, v temperaturnem območju med 50°C in 90°C ter zadrževalnim časom na maksimalni temperaturi v območju od 20 do 150 minut, postopek stabilizacije suspenzije z dodatkom klorovodikove kisline pri pH vrednost med 3 in 5, postopek sušenja disperzije amorfnega nano silicijevega (IV) oksida v temperaturnem območju med 110°C in 120°C in zadrževanjem med 12 in 24 ur na maksimalni temperaturi, kar zagotavlja sintezo amorfnega nano silicijevega (IV) oksida sferične oblike, z velikostjo delcev 30 ± 5 nm in specifično površino delcev 130 ± 5 m /g, postopek vgradnje površinsko stabiliziranih nano delcev amorfnega silicijevega (IV) oksida v koncentracijskem območju med lut% in 10ut% v vodno suspenzijo maščobnega alkohola poliglikol etra v koncentracijskem območju med 3ut% in 8ut%, tenzida natrijeve soli alkilsulfonata v koncentracijskem območju med 4ut% in 10ut%, citronske kisline v koncentracijskem območju med lut% in 5ut%, aluminijevega (III) oksida v koncentracijskem območju med 12ut% in 20ut%, konzervansa v koncentracijskem območju 0,01 ut% in 0,3 ut% in eteričnega olja v koncentracijskem območju med 0,1 ut% in 3ut%.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SI201000302A SI23509A (sl) | 2010-10-01 | 2010-10-01 | Sinteza nano äśistila na osnovi amorfnega nano slilicijevega (iv) oksida |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SI201000302A SI23509A (sl) | 2010-10-01 | 2010-10-01 | Sinteza nano äśistila na osnovi amorfnega nano slilicijevega (iv) oksida |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SI23509A true SI23509A (sl) | 2012-04-30 |
Family
ID=45992898
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SI201000302A SI23509A (sl) | 2010-10-01 | 2010-10-01 | Sinteza nano äśistila na osnovi amorfnega nano slilicijevega (iv) oksida |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| SI (1) | SI23509A (sl) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117343806A (zh) * | 2023-12-06 | 2024-01-05 | 潍坊凯利来生物科技有限公司 | 一种洗车液及其制备方法 |
-
2010
- 2010-10-01 SI SI201000302A patent/SI23509A/sl not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117343806A (zh) * | 2023-12-06 | 2024-01-05 | 潍坊凯利来生物科技有限公司 | 一种洗车液及其制备方法 |
| CN117343806B (zh) * | 2023-12-06 | 2024-03-05 | 潍坊凯利来生物科技有限公司 | 一种洗车液及其制备方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN102471082B (zh) | 氧化镁颗粒、其制造方法、散热性填料、树脂组合物、散热性脂膏和散热性涂料组合物 | |
| Tabatabaei et al. | Experimental study of the synthesis and characterisation of silica nanoparticles via the sol-gel method | |
| CN100510179C (zh) | 用来调制表面调整剂的浓液、表面调整剂以及表面调整方法 | |
| JP5465872B2 (ja) | アニオン界面活性剤組成物 | |
| CN1330039A (zh) | 一种纳米活性碳酸钙的工业制备方法 | |
| JPWO2007013626A1 (ja) | 表面調整剤及び表面調整方法 | |
| CN101538445B (zh) | 一种功能聚合物纳米涂料及其制备方法 | |
| KR20150042805A (ko) | 라임스케일 및/또는 비누 찌꺼기의 방지 및/또는 제거용 코팅 조성물 | |
| WO2012080197A1 (en) | Low streak degreasing composition | |
| JP2021507863A (ja) | 増加した表面積およびメソ孔性を有するシリカコーティング炭酸カルシウムの調製 | |
| CN1133059A (zh) | 生产洗涤剂组合物的方法 | |
| SI23509A (sl) | Sinteza nano äśistila na osnovi amorfnega nano slilicijevega (iv) oksida | |
| Widati et al. | Silica-methyltrimethoxysilane based hydrophobic coatings on glass substrate | |
| Jiang et al. | Hierarchical CaCO 3 particles self-assembled from metastable vaterite and stable calcite during the decomposition of Ca (HCO 3) 2 | |
| JP3733372B2 (ja) | 表面調整剤及び表面調整方法 | |
| Tobón et al. | Effect of different high surface area silicas on the rheology of cement paste | |
| JP5456223B2 (ja) | 表面調整剤調製用の濃厚液、表面調整剤及び表面調整方法 | |
| TW201010945A (en) | Process for the production of a storage-stable barium sulphate having good dispersibility | |
| BR112014030610B1 (pt) | processo de produção de grânulos detergentes, grânulo detergente seco por atomização e composição detergente | |
| JPS5910400B2 (ja) | 洗剤組成物の製造法 | |
| JP5683404B2 (ja) | コーティング組成物及びその製造方法、並びに防汚性多孔質物品及びその製造方法 | |
| JP5219335B2 (ja) | 被覆組成物用原液 | |
| JP5635650B2 (ja) | アルミナ微粒子及びその製造方法 | |
| Esmaeilzadeh et al. | Application of ZnO nanostructures in improvement of effective surface parameters in EOR Process | |
| JP5346167B2 (ja) | 粒子連結型アルミナ−シリカ複合ゾルおよびその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OO00 | Grant of patent |
Effective date: 20120515 |
|
| KO00 | Lapse of patent |
Effective date: 20170612 |