SE523011C2 - Anordning vid implantat som uppbär tillväxtstimulerande substans eller substanser samt sådant implantat - Google Patents

Description

20 25 30 523 011 2 bl.a. att i och för sig kända gängförsedda implantat skall kunna utnyttjas för fram- skapandet av en effektiv nybenbildningsprocess invid implantatet.

Det föreligger även önskemål om att kunna skapa metoder och arrangemang som möjliggör utökade möjligheter till implantatplacenngar som ger förbättrade resultat från utseende- och/eller stabilitetssynpunkt. Uppfinningen löser även detta problem.

Det föreligger även önskemål om implantat med nya utforrnningar och som kan appli- ceras med nytt förfarande, Lex. manuellt intryckningsförfarande. Dessa nya förfaran- den och implantat är speciellt önskvärda vid hålupptagning effektuerat medelst tand- rotsutdragning eventuellt i kombination med efterföljande käkhålsjustering.

Det som huvudsakligen kan anses vara kännetecknande för en anordning enligt upp- finningen är bl.a. att implantatet är anordnat med en käkbenshålets vägg motställbar ytteryta anordnad med första partier med första diametrar eller radier och andra partier med andra diametrar eller radier som understiger de första diametrama respektive radiema samt att implantatet anligger mot eller samverkar med hålväggen via de första partiema och medelst de andra partiema tillsammans med hålväggen bildar ett eller flera slutna utrymmen, i vilket respektive vilka kroppsvätska är inträngningsbart och TS är frisättningsbart för växelverkan med celler, tex. stamceller, i kropps- vätskan.

I vidareutvecklingar av uppfinningstanken föreslås att den käkbenshålets vägg mot- ställbara ytterytan skall vara försedd med en eller flera gängor eller gängavsnitt och att de första partiema innefattar gängomas eller gängavsnittens gängtoppar eller gängytterdelar. De andra partiema kan därvid innefatta gängomas bottendelar eller inre delar och nämnda slutna utrymmen blir på så sätt belägna mellan gängtopparna eller gängytterdelaxna. Respektive gänga kan sträcka sig utefter hela eller de väsentli- gaste delarna av implantatets periferi. Ytterytan respektive gängan eller gängorna kan vara försedd respektive försedda med porösa skikt, medelst vilka TS är lagringsbart på implantatet. Implantatet kan således uppbära huvuddelen (större koncentration) av TS vid nämnda slutna utrymmen och implantat kan vara påympat med TS som kan ge en hinna med en tjocklek av några få nanometer. Generellt kan tjockleken väljas några få Äïefiaè fn * .anus 10 15 20 25 30 o 4 n . nu n s u . ~ . n Ångström till några få mikrometer. De första partiema kan anordnas att utöva en samverkan med hålväggen som ger initial lägesstabilitet för implantatet i käkbenet.

Således kan de första partiema uppvisa en inträngningsgrad i käkbenet som ligger inom området 5-20% av de första partiernas höjd över de andra partiema.

Yttergängoma respektive ytterdelama kan således anordnas med ett gängdjup som delvis gör iskruvningsfunktion i käkbenets hålvägg, dels tillhandahåller bildande av nämnda slutna utrymme. I en altemativ utföiingsform utföres implantatet med längs- och/eller tvärsgående fördjupningar som är laddade eller försedda med TS i eventuell samverkan med medel eller substitut av det inledningsvis omnämnda slaget.

Det som huvudsakligen kan vara kännetecknande för ett implantat enligt uppfinningen är bl.a. att det dels är försett med beninduktivt medel i form av tillväxtstimulerande substans(-er) eller TS som är anordnat(-e) att i anslutning till instängt eller instängda utrymmen vid käkbenshålet växelverka med i kroppsvätska befintliga celler (t.ex. stamceller) så att nytt ben bildas, dels har sina inre delar utfonnade i nära eller väsentlig anslutning till hålets sträckning(-ar) i käkbenet vid sina inre delar.

I en föredragen utföringsform är implantatet anordnat att sträcka eller förgrena sig väsentligen lika som tandens tandrotssträckning. Implantatet kan vid sina inre delar vara svängt i förhållande till implantatets huvudsakliga längdsträckning. Implantatet kan vara utformat med två eller tre i förhållande till huvudriktningen relationsställda, t.ex. svängda, delar. Ett eller flera utrymmen kan föreligga mellan implantatets inre delar och hålets vägg(-ar), i vilket eller vilka utrymmen nämnda växelverkan är anordnad att ske. Vid sina inre förgrenade sträckningar uppbär implantatet tillväxt- stimulerande substans(-er) på förgreningamas respektive ytterytor. Implantatet kan vara anordnat applicerbart i käkbenshålet medelst en implantatet tilldelad ned- eller intryckningskraft, företrädesvis av manuell karaktär, och vidare kan ytterytan(-oma) på respektive förgrening vid implantatets inre delar vara försedda med skrovlighet eller poröst oxidskikt, medelst vilket TS är applicerbart i skikt med samma eller varie- rande koncentration.

Genom det i ovanstående förslagna erhålles implantat som genom utnyttjandet av TS i eventuell kombination med substitut eller medel av nämnt slag ger en förbättrad ' ' Äfeifae in i annas 10 15 20 25 30 523 011 ¿;;@f 4 nybenstillväxt med samtidig möjlig användning av i och för sig kända implantat och till dessa användbara appliceringstekniker för TS, som Lex. skall kunna lagras på implantatet i porösa/porbemängda oxidytterskikt. Förhållandevis stora mängder och koncentrationer TS kan genom den föreslagna anordningen appliceras till implantatet, t.ex. vid dettas ytterytarrangemang. Ny appliceringsteknik av implantat i käkbenshål blir möjlig. Implantatet intryckes helt enkelt med manuell kraft i hålet och utnyttjat TS med utrymmesarrangemang möjliggör implantatets kvarhållning och förankring i käkbenet. TS kan även appliceras i anslutning till ytterytan i form av med TS inblan- dad gel. TS kan eventuellt blandas med kalciumfosfat(-er), autologt ben, allogent ben, xenografter, etc.

En för närvarande föreslagen utföringsfomi av en anordning som uppvisar de för upp- finningen signifikativa kännetecknen skall beskrivas i nedanstående under samtidig hänvisning till bifogad ritning där figurl i vertikalsnitt visar ett i ett käkbenshål applicerat implantat försett med yttergänga, figur2 i vertikalvy och förstorat i förhållande till figuren 1 visar ytter- gängans samverkan med käkbenhålets vägg samt påympning av TS i kombination med medel eller substitut av andra typer, figur3 i vertikalvy visar i likaledes förstorat skick en i förhållande till figuren 2 skild applicering av TS-hinna i ett utrymme skapat av en implantatgängas inre delar och hålväggen i käkbenet, figur 4 i vertikalvy visar en från gängfonnen skild utformning på implanta- tets ytteryta och utformningens anliggning och samverkan med väggen i käkbenhålet, figur 5 i vertikalvy visar en altemativ utföringsform med i implantatets höjd- riktning sig sträckande urtagningar, och * Äšëfiaè iii * 10 15 20 25 30 o u a v o. 523 011 5 figurer 6-9i vertikalvyer visar tand- och implantatsutformningar samt i block- schemafonn visar framställning av implantat.

I figuren 1 är ett käkben symboliserat med l. Käkbenet är försett med ett käkbenshål 2 åstadkommet på i och för sig känt sätt med ett borr. Implantatet kan vara utfört på i och för sig känt sätt med en yttergänga 2a. Implantatet kan även vara behandlat så att ett poröst oxidskikt föreligger på gängomas utsidor. Nämnda oxidskikt kan utgöra lagiingsfunktion för TS, som kan bestå av matrixmolekyler, tillväxt- och differentie- ringsfaktorer och/eller peptider med tillväxtstimulerande egenskaper. Gängspetsama 2a' är motställbara käkbenhålets 2 innervägg.

I figuren 2 visas i förstoring i förhållande till figuren l två gängtoppar 3 och 4 på implantatet. Implantatet kan således anses innefatta första partier med en diameter D och andra partier med en andra diameter D”, varvid diametem D överstiger diametern D” med ett värde som motsvarar två gängdjup A. I det visade utföringsexemplet tränger gängspetsama vid 3, 4 något in i käkbenet l, varvid inträngningsdjupet är angivet med B. Inträngningsdjupet kan därvid vara av en storleksordning som medför att implantatet tilldelas en viss utgångsstabilitet i sitt i hålet 2 applicerade läge.

Inträngningsdjupet B kan ligga inom området 5-20% av gängdjupet A. I det i figur 2 visade arrangemanget erhålles således mellan varje gängpar ett utrymme 5. Implan- tatet är försett med TS som kan anordnas med olika koncentrationer som symbolise- rats med streckade linjer 6, 7 och 8 på varandra. I utrymmet 5 intränger cellinne- hållande, Lex. stamcellsinnehållande, kroppsvätska 9 och frisättes nämnda TS och eventuellt övriga substitut eller medel för att ingå i en växelverkan och därvid nybilda ben i utrymmet 5. Inträngningsriktningen för kroppsvätskan är i figuren 2 symbolise- rad med 10 och frisättningsriktningama för TS och de eventuella substituten eller medlen är symboliserade med pilarna ll, 12, 13. Koncentrationerna eller mängdema 6, 7, 8 kan därvid anordnas så att de är avtagande fram mot spetsama 3, 4 och tillta- gande bakåt i utrymmet.

Figuren 3 visar en utföringsfonn med enbart TS och där appliceringen av TS ät för- delat(-ede) utefter gängdelarnas sträckning. I figuren 3 är de med figuren 2 motsva- rande komponentema angivna med samma hänvisningsbeteckningar kompletterande ' * Äšëfläè iii 5 noano 10 15 20 25 30 523 011 P- 6 Q ø o - nu I - med primtecken. I föreliggande fall i stället för diametrama D och D' i figuren 3 angivits radiema R och R”.

Figuren 4 visar en alternativ utföringsforrn där gängorna ersatts med partier 3", 3” som med cirkulära raka ytor anligger mot hålets 2” vägg. I detta fall har upptagits i omkretsriktningen sig sträckande uttagningar 5” och 5”'. Uitagningarnas utformning kan varieras och t.ex. uppvisar invändiga sfär- eller bågformer. I figuren har visats exempel på rektangulära och kvadratiska vertikalsnitt för urtagningarna 5' ' och 5"”. I urtagningama är hinna/skikt/koncentration eller mängd av TS angiven med 6” respektive 6"”. Även i detta fall kan TS eventuellt kombineras i enlighet med ovan- stående med substitut eller medel. Partiema med större diameter d eller större radie r är visade tillsamman med andra partier d' respektive r”.

I figurerna 2, 3 och 4 har implantatet beteckningen 14, 14' och 14". I figuren 1 har implantatet beteckningen 15. I figuren 5 är implantatet 14" försedd med i höjdrikt- ningen sig sträckande spår 16 som kan anordnas parallellt utefter implantatets 14' hela omkrets. I en altemativ utföiingsform är spåren 16 sknivformade eller utförda med tex. zigzag-form. De första partiemas diametrar är angivna med d” och de andra par- tiernas diametrar är angivna med d"'. I figurerna 2, 3 och 4 har bakre partier angetts med 3a, 4a; 3a', 4a'; och 3a”, 4a' '_ Respektive gänga kan sträcka sig utefter hela eller de väsentligaste delarna av implantatets periferi eller omkrets. I figurerna 4 och 5 har med 17, 18 och 19 respektive 20 angetts ytpartier parallella med i hålväggen som är motställda implantaten med passning (klämpassning). Åtminstone vid partiema 17, 18, 19, 20 är implantatet utfört med skrovliga eller porösa skikt som kan bära TS av samma eller olika koncentrationer och mängd.

I figuren 6 är ett käkben principiellt angivet med 21. En tand i käkbenet är angiven med 22 och tanden är därvid av det slag som uppvisar två rotdelar 22a och 22b.

Tanden sträcker sig i käkbenshålet 23 som är visat med en överdimensionerad spalt för tydlighetens skull. Tanden är utdragbar ur käkbenet i pilens 24 riktning.

Figuren 6a visar altemativa sträckningar för rotdelarna 22a' och 22b'. ï Äiëfíäå iii 5 nano; 10 15 20 25 30 u ~ u | on 523 o11 7 I figuren 7 visas nedre delama av en tand 25 som är försedd med tre rotdelar 26, 27 och 28. Käkbenet är i detta fall angivet med 21”. Ifrågavarande tand 25 är utdragbar från käkbenet i pilens 30 riktning. Hålet 23, i käkbenet för ifrågavarande tand är visat med en överdimensionerad spalt för tydlighetens skull.

Vid utdragning av tanden 22 enligt figuren 6 med rot och allt erhålles en mot tandens utformning motsvarande utformning på käkbenshålet 23. I enlighet med figuren 8 utnyttjas en utrustning 31 för att definiera eller avbilda käkbenshålet 23 i figuren 6 då tanden 22 dragits ut. I och för sig känd avbildningsteknik kan därvid utnyttjas, t.ex. röntgen, datortomografi, etc. Medelst utrustningen 31 skaffar sig kirurgen, tandläka- ren eller motsvarande behandlande person en bild av käkbenhålets 23 utfonnning.

Utformningen tilldelas en representation i en utrustning 32 som kan utgöras av en i och för sig känd datorutrustning. Representationen är symboliserad med 33 och kan ligga till grund för framställning av ett implantat 34 som är avsett att kunna inplaceras i ifrågavarande käkbenshål 23 (se figuren 6). Inpassningen kan därvid göras på sådant sätt att implantatet kan appliceras med förhållandevis litet spel i käkbenshålet.

Implantatet 34 kan eventuellt ha en utformning som vid appliceringen av implantatet i käkbenshâlet medför att hålväggen fjädrar undan och sedan tillbaka till ett mot tan- dens 22 läge i figuren 6 motsvarande läge. Altemativt kan implantatet därvid göras i viss mån fjädrande vid de partier som vid appliceringen skall passera avsmalnande delar i käkbenshålet. Tandrotens inre delar kan även ha sådana sträckningar att de till- sammans uppvisar tvärsnittsareor som är väsentligen lika med eller understiger tvär- snittsarean eller tvärsnittsareorna för överliggande delar av käkbenshålet. Ifrågava- rande implantat 34 kan framställas medelst framställningsutrustning 35 av t.ex. typ PROCERA. Implantatet kan fräsas, gjutas, eller framställas på annat sätt. Implantatet kan utföras i titan, keram, etc. Implantatet kan ges en optimal geometrisk utformning så att lasten på implantatet fördelas på rätt sätt.

Det är även inom uppfinningens möjligheter att käkbenshålets sträckning påverkas med verktyg, t.ex. borrverktyg så att vidare delar belägna nertill på implantatet lätt kan passera passager i hålet som från början varit smalare. I figuren 6 är en dylik bearbetning angiven med 36. Det av urtagningen eller bearbetningen 36 på så sätt initierade utrymmet kring applicerat implantat kan utnyttjas eller ingå som slutet ' ' Äiënde 111 10 15 20 25 30 523 011* ' * kissar; iii i 8 utrymme för nybensbildning i enlighet med ovanstående. Dylika bearbetningar av käkbenshål kan utföras på olika sätt från fall till fall.

I figuren 7 har utrymmen 37 och 38 bildats eller upptagits vid tandrotens nedre delar.

Dessa utrymmen 37 och 38 kan i enlighet med ovanstående utnyttjas som slutna utrymmen för nybensbildning. Det inses att i fall där återfjädringsfunktion saknas i käkbenet respektive implantatet nämnda bearbetningsfunktioner kan möjliggöra att ifrågavarande tand tillhörande tandrötter kan efterliknas i mycket hög grad i anslut- ning till framställningen av implantatet ifråga, dvs. implantatet 34 i figuren 8. Även rotbildningen enligt figuren 7 kan kompletteras på ett förhållandevis enkelt sätt med en bearbetningar 39, 39' som möjliggör applicering av ett implantat med utformning som motsvarar tandrotsarrangemangets utfonnning enligt figuren 7. Även utrymmen 39, 39' utnyttjas som slutna utrymmen för nybensbildning.

I figuren 6a är mellan tandröttemas ursprungliga placeringar anordnat ett slutet utrymme 37' för nybensbildning enligt ovan.

Figuren 9 visar att respektive implantat, t.ex. implantatet 34 kan förses med skrovlig- het(-er) eller poröst(-a) ytterskikt 40 som lagrar TS 41 av samma mängd och/eller olika grader av koncentration(-er). Skrovlighetema/porositetema anordnas vid åtmin- stone implantatets förgreningar 22a, 22b, respektive 26, 27, 28.

Det kan härvid hänvisas till patentansökningar som inlämnats till svenska patentverket på samma dag som föreliggande patentansökan och med samma sökanden och upp- finnare. Nämnda ansökningar har följande benämningar: a) ”Anordning för att medelst beninduktivt eller bioaktivt medel inducera ben och/eller öka stabiliteten för implantat i käkben samt implantat härför”. b) ”Anordning för att medelst bioaktivt eller beninduktivt material bygga upp benbaserat sidostöd för implantat i käkben”.

C) d) 5 2 n n nnn n n nn nn n n n n nn nn nnnn n n n n n n n n n n n n n n n n - n n n n n n n n n n n a n -on ann nnn nn n n n n n n n n n n n n n n nn n nn n n n n nn nnnn ”Anordning vid två eller flera implantat försedda med tillväxtstimulerande substans(-er)”.

”Arrangemang för att öka tåligheten mot belastning på implantat samt sådant implantat”. Äiëfiäè iii i

Claims (17)

10 15 20 25 30 n . a a av e 523 011 10 PATENTKRAV

1. l. Anordning vid implantat (15) som uppbär tillväxtstimulerande substans eller substanser, här benämnda TS, som i implantatets i ett käkbenshål (2) applicerade läge är anordnat eller anordnade att växelverka medelst i anslutning till käkbenet utsöndrad cellinnehållande, Lex. stamcellsinnehållande, kroppsvätska (9) för bildande av nytt ben invid implantatet, k ä n n e t e c k n a d därav, att implantatet är anordnat med en käkbenshålets vägg motställbar ytteryta anordnad med första partier (3, 4) med första diametrar (D) eller radier (R) och andra partier (3a, 4a) med andra diametrar (D') eller radier (R') som understiger de första diametrarna respektive radiema, och att implan- tatet anligger mot eller samverkar med hålväggen via de första partierna och medelst de andra partiema tillsammans med hålväggen bildar ett eller flera slutna utrymmen ( 15, 15), i vilket respektive vilka kroppsvätska är inträngningsbart och TS är frisätt- ningsbart.

2. Anordning enligt patentkravet l, k ä n n e t e c k n a d därav, att den käkbens- hålets (2) vägg motställbara ytterytan är försedd med en eller flera gängor (3, 4) eller gängavsnitt och att de första partiema innefattar gängornas eller gängavsnittens gängtoppar eller gängytterdelar, att de andra partiema innefattar gängomas botten- delar eller inre delar, och att nämnda slutna utrymmen (5) är belägna mellan gängtop- pama eller gängytterdelama.

3. Anordning enligt patentkravet 2, k ä n n e t e c k n a d därav, att respektive gänga sträcker sig utefter hela eller de väsentligaste delama av implantatets periferi.

4. Anordning enligt patentkravet 1, 2 eller 3, k ä n n e t e c k n a d därav, att ytterytan respektive gängan eller gängoma är försedd(-a) med porösa oxidskikt, medelst vilka TS är lagringsbart på implantatet.

5. Anordning enligt något av patentkraven 1-4, k ä n n e t e c k n a d därav, att implantatet uppbär huvuddelen av TS totala mängd vid nämnda slutna utrymmen (5). ' = Åæetzie in' 10 15 20 25 30 . . ~ - o. 523 011 ll v . . - . .-

6. Anordning enligt något av patentkraven 1-5, k ä n n e t e c k n a d därav, att de första partiema vid implantatets applicerade läge i käkbenshålet (2) är anordnad med en samverkningsgrad med hålväggen som ger en initial lägesstabilitet för implantatet i käkbenet.

7. Anordning enligt patentkravet 6, k ä n n e t e c k n a d därav, att de första partierna (3, 4) uppvisar en inträngningsgrad i käkbenet som ligger inom 5-20% av de första partiemas höjd över de andra partiema.

8. Anordning enligt något av föregående patentkrav, k ä n n e te c k n a d därav, att yttergängan(-oma) respektive ytterdelama uppvisar ett gängdjup som dels ger iskruvningsfunktion i käkbenets hålvägg, dels tillhandahåller bildande av nämnda slutna utrymmen (5).

9. Anordning enligt något av föregående patentkrav, k ä n n e te c k n a d därav, att implantatet uppvisar längs- och/eller tvärsgående fördjupningar (16 respektive 5", 5'”) som är laddade eller försedda med TS av samma eller olika koncentrationer i eventuell förening med kalciumfosfat(-er), autologt ben, allogent ben, xenografer, polymera material, etc.

10. Implantat applicerbart i käkbenshål (4) åstadkommet medelst hålupptagning eller tandrotsutdragning, k ä n n e t e c k n a t därav, att det dels är försett med ben- induktivt medel i form av tillväxtstimulerande substans(-er), här benämnt (TS), som är anordnad-e) att i anslutning till instängt eller instängda utrymmen vid käkbenshålet växelverka med i kroppsvätska befintliga celler så att nytt ben bildas, dels har sina inre delar utfonnade i nära eller väsentlig anslutning till hålets sträckning(-ar) i käk- benet vid sina inre delar.

11. ll. Implantat enligt patentkravet 10, k ä n n e t e c k n a t därav, att implan- tatet är anordnat att sträcka eller förgrena sig väsentligen lika som tandens tandrots- sträckning. ' z Äíëfiäè 111 I 10 15 20 25 av n n o - no 12

12. Implantat enligt patentkravet 10 eller ll, k ä n n e t e c k n a t därav, att implantatet vid sina inre delar är svängt i förhållande till implantatets huvudsakliga längdsträckning.

13. Implantat enligt patentkravet 12, k ä n n e t e c k n at därav, att implanta- tet är utformat med två eller tre i förhållande till huvudriktningen relationsställda delar.

14. Implantat enligt något av patentkraven 10-13, k ä n n e t e c k n a t därav, att i dess i hålet applicerade läge ett eller flera utrymmen är utbildningsbara mellan de inre delama och hålets vägg(-ar), i vilket eller vilka utrymmet nämnda växelverkan är anordnat att ske.

15. Implantat enligt något av patentkraven 10-14, k ä n n e t e c k n a t därav, att det åtminstone vid sina inre förgrenade sträckningar uppbär tillväxtstimulerande substans(-er) på förgreningamas respektive ytterytor.

16. Implantat enligt något av patentkraven 10-15, k ä n n e t e c k n a t därav, att det är anordnat applicerbart i käkbenshålet medelst en implantatet tilldelad ned- eller intryckningskraft, företrädesvis av manuell karaktär.

17. Implantat enligt något av patentkraven 10-16, k ä n n e t e c k n a t därav, att ytterytan(-oma) på respektive förgrenin g vid implantatets inre delar är försedd med skrovlighet eller poröst oxidskikt, medelst vilket TS är lagringsbart i skikt med samma eller varierande koncentration. ' Äízzfiaè fn i