Claims (54)
1. Способ изготовления голограммы-оригинала физической системы, содержащий операции: создание эталонного пучка, создание объектного пучка, управление отношением пучков указанного эталонного пучка к указанному объектному пучку таким образом, чтобы указанное отношение пучков было приблизительно равно единице, наложение множества голограмм, соответствующих смещенным в пространстве друг относительно друга двухмерным изображениям физической системы, на одну пленочную подложку, обработка указанной подложки для создания трехмерной голограммы указанной физической системы, причем обработанная подложка заключает в себе наложенные голограммы.1. A method of manufacturing a hologram-original of a physical system, comprising the steps of: creating a reference beam, creating an object beam, controlling the ratio of the beams of the specified reference beam to the specified object beam in such a way that the specified ratio of the beams is approximately equal to unity, overlaying a plurality of holograms corresponding to those shifted in the space relative to each other two-dimensional images of the physical system, on one film substrate, processing the specified substrate to create a three-dimensional golog frames of the indicated physical system, the processed substrate enclosing superimposed holograms.
2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что указанная операция наложения предусматривает установление отношения эталонного пучка к объектному менее пяти. 2. The method according to p. 1, characterized in that the specified overlay operation involves establishing a ratio of the reference beam to the object of less than five.
3. Способ по п. 2, отличающийся тем, что указанная операция наложения предусматривает установление отношения пучков, приблизительно равного единице. 3. The method according to p. 2, characterized in that the operation of the imposition provides for the establishment of the ratio of the beams, approximately equal to unity.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что он предусматривает дополнительную предварительную обработку двухмерных изображений для устранения их нежелательных частей и для контроля контраста между частями указанных изображений. 4. The method according to claim 1, characterized in that it provides additional preliminary processing of two-dimensional images to eliminate their unwanted parts and to control the contrast between the parts of these images.
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что указанная операция создания объектного пучка предусматривает создание в основном чисто поляризованного объектного пучка. 5. The method according to claim 1, characterized in that said operation of creating an object beam involves the creation of a substantially purely polarized object beam.
6. Способ по п.1 или 5, отличающийся тем, что указанная операция создания эталонного пучка предусматривает создание в основном чисто поляризованного эталонного пучка. 6. The method according to claim 1 or 5, characterized in that said step of creating a reference beam involves the creation of a substantially purely polarized reference beam.
7. Способ по п. 1, отличающийся тем, что указанная операция наложения предусматривает наложение указанной голограммы на единственную полиэфирную пленочную подложку. 7. The method according to p. 1, characterized in that the specified operation of the imposition provides for the application of the specified hologram on a single polyester film substrate.
8. Способ по п.6, отличающийся тем, что он дополнительно предусматривает операцию ограждения путей прохождения указанного эталонного пучка и указанного объектного пучка таким образом, чтобы они были в основном экранированы от окружающего света. 8. The method according to claim 6, characterized in that it further comprises the operation of fencing the paths of the passage of the specified reference beam and the specified object beam so that they are mainly shielded from ambient light.
9. Способ по п. 1, отличающийся тем, что указанная операция наложения предусматривает изолирование указанной подложки и указанных изображений от окружающих вибраций. 9. The method according to p. 1, characterized in that said overlay operation comprises isolating said substrate and said images from surrounding vibrations.
10. Способ по п.1, отличающийся тем, что указанная операция наложения предусматривает экспонирование указанной подложки указанными изображениями в течение определенной длительности при определенной интенсивности, причем способ далее предусматривает задание указанной длительности и указанной интенсивности в соответствии с характеристиками экспозиции указанной подложки. 10. The method according to claim 1, characterized in that said overlay operation comprises exposing said substrate with said images for a certain duration at a certain intensity, the method further comprising specifying said duration and said intensity in accordance with the exposure characteristics of said substrate.
11. Способ по п.1, отличающийся тем, что указанная операция наложения предусматривает проецирование указанных изображений при помощи электронно-лучевой трубки (ЭЛТ). 11. The method according to claim 1, characterized in that said overlay operation involves projecting said images using a cathode ray tube (CRT).
12. Способ по п.5, отличающийся тем, что указанная поляризация указанного объектного пучка по меньшей мере на 95% чистая. 12. The method according to claim 5, characterized in that said polarization of said object beam is at least 95% pure.
13. Способ по п.12, отличающийся тем, что указанный объектный пучок на 95% чисто Р-поляризован. 13. The method according to p. 12, characterized in that the said object beam is 95% pure P-polarized.
14. Способ по п.12, отличающийся тем, что указанный объектный пучок на 95% чисто S-поляризован. 14. The method according to p. 12, characterized in that the said object beam is 95% purely S-polarized.
15. Способ по п.6, отличающийся тем, что указанная поляризация указанного эталонного пучка по меньшей мере на 95% чистая. 15. The method according to claim 6, characterized in that said polarization of said reference beam is at least 95% pure.
16. Способ по п.15, отличающийся тем, что указанный эталонный пучок на 95% чисто Р-поляризован. 16. The method according to clause 15, wherein said reference beam is 95% pure P-polarized.
17. Способ по п.15, отличающийся тем, что указанный эталонный пучок на 95% чисто S- поляризован. 17. The method according to clause 15, wherein said reference beam is 95% pure S-polarized.
18. Способ по п. 1, отличающийся тем, что отношение пучков в основном идентично для каждого из указанных изображений. 18. The method according to p. 1, characterized in that the ratio of the beams is basically identical for each of these images.
19. Способ по п.1, отличающийся тем, что указанная операция наложения предусматривает наложение по крайней мере двадцати изображений на указанную подложку. 19. The method according to claim 1, characterized in that said overlay operation comprises overlaying at least twenty images on said substrate.
20. Способ по п. 1, отличающийся тем, что он дополнительно содержит операцию калибровки и квантования изображающей емкости подложки, причем операция калибровки предусматривает приложение определенной энергии экспозиции к указанной подложке, последующее наложение картины полос с известной энергией экспозиции на указанную подложку и измерение дифракции указанной картины полос. 20. The method according to p. 1, characterized in that it further comprises the operation of calibration and quantization of the imaging capacity of the substrate, the calibration operation provides for the application of a certain exposure energy to the specified substrate, the subsequent superposition of the strip pattern with the known exposure energy on the specified substrate and measuring the diffraction of the specified patterns of stripes.
21. Способ по п.20, отличающийся тем, что указанная операция приложения энергии предусматривает вуалирование указанной подложки при определенной интенсивности в течение определенной длительности. 21. The method according to claim 20, characterized in that said energy application operation comprises veiling said substrate at a certain intensity for a certain duration.
22. Способ по п.20, отличающийся тем, что указанная операция наложения включает в себя наложение указанного множества голограмм в соответствии с указанной емкостью квантованного изображения. 22. The method according to claim 20, characterized in that said overlay operation includes overlaying the specified set of holograms in accordance with the specified capacity of the quantized image.
23. Способ изготовления голограммы, отличающийся тем, что он содержит операции: создание эталонного пучка и объектного пучка на светочувствительной поверхности подложки, последовательное освещение множества двухмерных изображений указанным объектным пучком, причем указанное множество изображений содержит не менее двадцати изображений, последовательное экспонирование указанной светочувствительной поверхности указанными двухмерными изображениями и указанным эталонным пучком для осуществления наложения указанных двухмерных изображений, обработка указанной подложки для проявления указанных голограмм на единственной подложке. 23. A method of manufacturing a hologram, characterized in that it comprises the steps of: creating a reference beam and an object beam on a photosensitive surface of the substrate, sequentially illuminating a plurality of two-dimensional images with said object beam, said plurality of images containing at least twenty images, sequential exposure of said photosensitive surface with said two-dimensional images and the specified reference beam to overlay the specified two-dimensional images zheny, processing said substrate to exhibit said holograms on a single substrate.
24. Способ по п.23, отличающийся тем, что указанное множество изображений содержит порядка 100 изображений. 24. The method according to item 23, wherein the specified set of images contains about 100 images.
25. Способ по п.23, отличающийся тем, что указанный эталонный пучок и указанный объектный пучок генерируются одним и тем же световым источником. 25. The method according to item 23, wherein the specified reference beam and the specified object beam are generated by the same light source.
26. Способ по п.25, отличающийся тем, что операция генерирования предусматривает, чтобы отношение эталонного пучка к объектному было меньше пяти. 26. The method according A.25, characterized in that the generation operation provides that the ratio of the reference beam to the object was less than five.
27. Способ по п.23, отличающийся тем, что указанная операция генерирования предусматривает, чтобы отношение эталонного пучка к объектному было приблизительно равно единице для устранения нежелательных частей указанных изображений. 27. The method according to item 23, wherein said generating operation provides that the ratio of the reference beam to the object was approximately equal to unity to eliminate unwanted parts of these images.
28. Способ по п. 23, отличающийся тем, что он дополнительно содержит операцию предварительной обработки данных, содержащих указанные двухмерные изображения. 28. The method according to p. 23, characterized in that it further comprises the operation of pre-processing data containing the specified two-dimensional image.
29. Способ по п.28, отличающийся тем, что указанная операция предварительной обработки данных включает в себя по крайней мере подрезку, отсечение, компонование и повторное форматирование указанных изображений. 29. The method according to p. 28, characterized in that the said data pre-processing operation includes at least trimming, clipping, composing and reformatting of these images.
30. Способ по п.23, отличающийся тем, что указанная операция экспонирования предусматривает экспонирование единственной подложки из полиэфирного материала. 30. The method according to item 23, wherein the specified exposure operation involves exposing a single substrate of polyester material.
31. Способ по п.23, отличающийся тем, что указанная операция экспонирования предусматривает изолирование указанной подложки, указанных пучков и указанных изображений от окружающих вибраций. 31. The method according to item 23, wherein the specified exposure operation provides for the isolation of the specified substrate, these beams and these images from the surrounding vibrations.
32. Способ по п.23, отличающийся тем, что он дополнительно содержит операцию ограждения путей прохождения указанного эталонного пучка и указанного объектного пучка таким образом, чтобы они были в основном экранированы от окружающего света. 32. The method according to item 23, wherein it further comprises the operation of fencing the paths of the specified reference beam and the specified object beam so that they are mainly shielded from ambient light.
33. Способ по п.23, отличающийся тем, что указанная операция экспонирования предусматривает экспонирование указанной подложки указанными изображениями в течение определенной длительности при определенной интенсивности, причем способ далее предусматривает задание указанной длительности и указанной интенсивности в соответствии с характеристиками экспозиции указанной подложки. 33. The method according to item 23, wherein said exposure operation involves exposing the specified substrate with the specified images for a certain duration at a certain intensity, and the method further provides for the specified duration and specified intensity in accordance with the exposure characteristics of the specified substrate.
34. Способ по п.23, отличающийся тем, что указанная операция наложения предусматривает проецирование указанных изображений при помощи электронно-лучевой трубки (ЭЛТ). 34. The method according to item 23, wherein said overlay operation involves the projection of these images using a cathode ray tube (CRT).
35. Способ по п. 23, отличающийся тем, что указанная поляризация указанного объектного пучка по меньшей мере на 95% чистая. 35. The method of claim 23, wherein said polarization of said object beam is at least 95% pure.
36. Способ по п.35, отличающийся тем, что указанный объектный пучок на 95% чисто Р-поляризован. 36. The method according to clause 35, wherein the specified object beam is 95% pure P-polarized.
37. Способ по п.36, отличающийся тем, что указанный объектный пучок на 95% чисто S- поляризован. 37. The method according to clause 36, wherein said object beam is 95% pure S-polarized.
38. Способ по п. 23, отличающийся тем, что указанная поляризация указанного эталонного пучка по меньшей мере на 95% чистая. 38. The method of claim 23, wherein said polarization of said reference beam is at least 95% pure.
39. Способ по п.38, отличающийся тем, что указанный эталонный пучок на 95% чисто Р-поляризован. 39. The method according to § 38, characterized in that said reference beam is 95% pure P-polarized.
40. Способ по п.38, отличающийся тем, что указанный эталонный пучок на 95% чисто S-поляризован. 40. The method according to § 38, wherein said reference beam is 95% purely S-polarized.
41. Способ по п.23, отличающийся тем, что отношение пучков в основном идентично для каждого из указанных изображений. 41. The method according to item 23, wherein the ratio of the beams is basically identical for each of these images.
42. Способ по п.23, отличающийся тем, что он дополнительно содержит операцию калибровки и квантования изображающей емкости подложки, причем операция калибровки предусматривает приложение определенной энергии экспозиции к указанной подложке, последующее наложение картины полос с известной энергией экспозиции на указанную подложку, и измерение дифракции указанной картины полос. 42. The method according to item 23, wherein it further comprises the operation of calibration and quantization of the imaging capacity of the substrate, and the calibration operation involves the application of a certain exposure energy to the specified substrate, the subsequent application of a strip pattern with a known exposure energy to the specified substrate, and measuring diffraction specified pattern of stripes.
43. Способ по п.42, отличающийся тем, что указанная операция приложения энергии предусматривает вуалирование указанной подложки при определенной интенсивности в течение определенной длительности. 43. The method according to § 42, wherein said energy application operation comprises veiling said substrate at a certain intensity for a certain duration.
44. Способ по п.42, отличающийся тем, что указанная операция наложения включает в себя наложение указанного множества голограмм в соответствии с указанной емкостью квантованного изображения. 44. The method according to § 42, wherein said overlay operation includes overlaying the specified set of holograms in accordance with the specified capacity of the quantized image.
45. Устройство для изготовления голограммы, отличающееся тем, что оно содержит источник эталонного пучка для генерирования эталонного пучка, источник объектного пучка для генерирования объектного пучка, держатель подложки в тракте пучков, создаваемых указанным источником генерирования эталонного пучка и указанным источником генерирования объектного пучка, объектный проекционный блок для проецирования множества двухмерных изображений на указанный держатель подложки, средства поддержания главным образом постоянной эффективной экспозиции для каждого двухмерного изображения, и средства изменения расстояния между указанным проекционным блоком и указанным держателем подложки. 45. A device for manufacturing a hologram, characterized in that it contains a reference beam source for generating a reference beam, an object beam source for generating an object beam, a substrate holder in the path of the beams created by the specified reference beam generating source and the specified object beam generating source, object projection a unit for projecting a plurality of two-dimensional images onto said substrate holder, means for maintaining a substantially constant effective exp zitsii for each two-dimensional image, and means for changing the distance between said projection assembly and said substrate holder.
46. Устройство по п.45, отличающееся тем, что указанные средства изменения расстояния содержат блок канала, причем указанный объектный проекционный блок установлен в указанном блоке канала. 46. The device according to item 45, wherein said means for changing the distance contain a channel block, and the specified object projection block is installed in the specified channel block.
47. Устройство по п.45, отличающееся тем, что указанные средства изменения расстояния содержат блок канала, причем указанный держатель подложки установлен в указанном блоке канала. 47. The device according to item 45, wherein the means for changing the distance contain a channel block, and the specified substrate holder is installed in the specified channel block.
48. Устройство по п.45, отличающееся тем, что указанный эталонный пучок содержит средства для поляризации указанного эталонного пучка. 48. The device according to item 45, wherein the specified reference beam contains means for polarizing the specified reference beam.
49. Устройство по п.45, отличающееся тем, что указанный объектный пучок содержит средства для поляризации указанного объектного пучка. 49. The device according to item 45, wherein the specified object beam contains means for polarizing the specified object beam.
50. Устройство по п.45, отличающееся тем, что указанный эталонный пучок дополнительно содержит средства для уменьшения шума эталонного пучка. 50. The device according to item 45, wherein the specified reference beam further comprises means for reducing noise of the reference beam.
51. Устройство по п.50, отличающееся тем, что указанные средства для уменьшения шума эталонного пучка содержат средства фокусирования эталонного пучка, и апертуру в тракте прохождения указанного эталонного пучка. 51. The device according to p. 50, characterized in that the said means for reducing the noise of the reference beam contain means for focusing the reference beam and an aperture in the path of the specified reference beam.
52. Устройство по п.45, отличающееся тем, что указанный объектный проекционный блок содержит пространственный модулятор света, установленный в тракте прохождения указанного объектного пучка. 52. The device according to item 45, wherein the specified object projection unit contains a spatial light modulator installed in the path of the specified object beam.
53. Устройство по п.52, отличающееся тем, что указанный объектный проекционный блок дополнительно содержит электронно-лучевую трубку (ЭЛТ) для проецирования изображений на указанный пространственный модулятор света. 53. The device according to paragraph 52, wherein said object projection unit further comprises a cathode ray tube (CRT) for projecting images onto said spatial light modulator.
54. Устройство по п.52, отличающееся тем, что указанный пространственный модулятор света представляет собой жидкокристаллический световой клапан. 54. The device according to paragraph 52, wherein the specified spatial light modulator is a liquid crystal light valve.