RU94041495A - Способ проекционной обработки материалов световым лучом - Google Patents

Способ проекционной обработки материалов световым лучом

Info

Publication number
RU94041495A
RU94041495A RU94041495/02A RU94041495A RU94041495A RU 94041495 A RU94041495 A RU 94041495A RU 94041495/02 A RU94041495/02 A RU 94041495/02A RU 94041495 A RU94041495 A RU 94041495A RU 94041495 A RU94041495 A RU 94041495A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
light
projection
light beam
projection system
materials
Prior art date
Application number
RU94041495/02A
Other languages
English (en)
Inventor
И.Г. Рудой
Original Assignee
И.Г. Рудой
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by И.Г. Рудой filed Critical И.Г. Рудой
Priority to RU94041495/02A priority Critical patent/RU94041495A/ru
Publication of RU94041495A publication Critical patent/RU94041495A/ru

Links

Landscapes

  • Laser Beam Processing (AREA)

Abstract

Изобретение относится к способам обработки материалов световым лучом с проекционным формированием изображения и может использоваться в микроэлектронике, а именно в фотолитографии, и лазерной технологии, прежде всего лазерной маркировке. Цель: увеличение производительности процесса проекционной обработки. Сущность изобретения: шаблон, изображение которого переносится на обрабатываемый материал проекционной системой, выполняют в виде пространственно-временного модулятора света /ПВМС/ с отсутствующими постоянно прозрачными для света участками, при этом максимальную ширину постоянно непрозрачных для света участков ПВМС устанавливают в соответствии с условием b≅Ml, b - ширина постоянно непрозрачных для света участков, M - уменьшение проекционной системы, l- минимально разрешимый размер на обрабатываемом материале.

Claims (1)

  1. Изобретение относится к способам обработки материалов световым лучом с проекционным формированием изображения и может использоваться в микроэлектронике, а именно в фотолитографии, и лазерной технологии, прежде всего лазерной маркировке. Цель: увеличение производительности процесса проекционной обработки. Сущность изобретения: шаблон, изображение которого переносится на обрабатываемый материал проекционной системой, выполняют в виде пространственно-временного модулятора света /ПВМС/ с отсутствующими постоянно прозрачными для света участками, при этом максимальную ширину постоянно непрозрачных для света участков ПВМС устанавливают в соответствии с условием b≅Mlмин, b - ширина постоянно непрозрачных для света участков, M - уменьшение проекционной системы, lмин - минимально разрешимый размер на обрабатываемом материале.
RU94041495/02A 1994-11-16 1994-11-16 Способ проекционной обработки материалов световым лучом RU94041495A (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU94041495/02A RU94041495A (ru) 1994-11-16 1994-11-16 Способ проекционной обработки материалов световым лучом

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU94041495/02A RU94041495A (ru) 1994-11-16 1994-11-16 Способ проекционной обработки материалов световым лучом

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU94041495A true RU94041495A (ru) 1996-09-20

Family

ID=48449848

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU94041495/02A RU94041495A (ru) 1994-11-16 1994-11-16 Способ проекционной обработки материалов световым лучом

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU94041495A (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2666201C1 (ru) * 2016-08-02 2018-09-06 Тойота Дзидося Кабусики Кайся Способ лазерной сварки плоских проводов

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2666201C1 (ru) * 2016-08-02 2018-09-06 Тойота Дзидося Кабусики Кайся Способ лазерной сварки плоских проводов

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU95104233A (ru) Способ обработки текстильных материалов, кожи и технических тканей и устройство для его осуществления
EP0307874A3 (en) Method for producing a mark on a spectacle lens
SE8304816D0 (sv) Recordings on cinematic film
MX9710046A (es) Procesamiento con laser de hojas sueltas de material.
EP0747893A3 (en) Optical head apparatus for different types of disks
DE59705191D1 (de) Lichtschranke oder Lichtvorhang mit Ausrichthilfe
DE69531805D1 (de) Inspektion einer Kontaktlinse mit einer Beleuchtung mit Doppelfokus
AT388365B (de) Vorrichtung zur aufbereitung von wasser
DE69316544D1 (de) System zum Abtasten von Körpern
KR920013645A (ko) 투영노광방법
ATE71826T1 (de) Spaltlampengeraet zur laserbehandlung des auges.
FR2669747B1 (fr) Procede et appareil pour la production parametrique de lumiere dans l'infrarouge moyen par knbo3.
DE3270794D1 (en) Method to adjust and monitor a light spot
RU94041495A (ru) Способ проекционной обработки материалов световым лучом
FR2677452B1 (fr) Procede et appareil destines a determiner des repartitions de dimensions de particules en mesurant l'extinction de lumiere spectrale pendant la sedimentation.
DE69839561D1 (de) Bildverarbeitungsmethode, bildverarbeitungsvorrichtung und aufnahmemedium,welches gespeicherte bildverarbeitungsprogramme enthält
RU93051056A (ru) Способ проекционной обработки материалов световым лучом
ATE109210T1 (de) Vorrichtung zur oberflächenbehandlung von werkstücken mittels lichtstrahlen.
EP0231112A3 (en) Imageable material and process
FR2669121B1 (fr) Materiau ameliore et cellule pour la modulation de la lumiere et procede de fabrication.
DE3852586D1 (de) Methode und Apparat zur Verarbeitung von photographischen photoempfindlichen Lösungen.
DE3783336D1 (de) Verfahren zur gemeinsamen entwicklungsbehandlung zweier arten von lichtempfindlichem photographischen silberhalogenidmaterial.
EP0770925A3 (en) Photoprocessing method
JPS5720727A (en) Illumination apparatus for scanning
JPS5745933A (en) Heat treating method and device for semiconductor wafer