RU2668344C1 - Method of measuring the thickness of coating in the process of plasma-electrolytic oxidation - Google Patents

Method of measuring the thickness of coating in the process of plasma-electrolytic oxidation Download PDF

Info

Publication number
RU2668344C1
RU2668344C1 RU2017142446A RU2017142446A RU2668344C1 RU 2668344 C1 RU2668344 C1 RU 2668344C1 RU 2017142446 A RU2017142446 A RU 2017142446A RU 2017142446 A RU2017142446 A RU 2017142446A RU 2668344 C1 RU2668344 C1 RU 2668344C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
coating
thickness
voltage
plasma
electrolytic oxidation
Prior art date
Application number
RU2017142446A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Михаил Викторович Горбатков
Евгений Владимирович Парфенов
Павел Валерьевич Тарасов
Вета Робертовна Мукаева
Рузиль Галиевич Фаррахов
Original Assignee
федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Уфимский государственный авиационный технический университет"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Уфимский государственный авиационный технический университет" filed Critical федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Уфимский государственный авиационный технический университет"
Priority to RU2017142446A priority Critical patent/RU2668344C1/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2668344C1 publication Critical patent/RU2668344C1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B7/00Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques
    • G01B7/02Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B7/06Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

FIELD: measurement technology.SUBSTANCE: use for measuring the thickness of the coating during the process of plasma-electrolytic oxidation of valve metals. Essence of the invention is that the method for determining the thickness of the coating includes measuring the voltage during the coating process, where the average and amplitude values of the processing voltage are measured, then their ratio is found, and the coating thickness h is determined by the formulawhere kand k– empirical coefficients, depending on the nature of the material being processed and the composition of the electrolyte, determined by calibration curves; Uand Uare average and amplitude values of the processing voltage, respectively.EFFECT: increasing the accuracy of determining the thickness of the oxide coating for the timely termination of the process of plasma electrolytic oxidation.1 cl, 5 dwg, 1 tbl

Description

Изобретение относится к области электрохимической обработки, в частности, к плазменно-электролитическому оксидированию и может быть использовано для измерения толщины покрытия в ходе процесса плазменно-электролитического оксидирования вентильных металлов, например, алюминия, магния, титана, циркония и сплавов на их основе.The invention relates to the field of electrochemical processing, in particular, to plasma-electrolytic oxidation and can be used to measure the coating thickness during the process of plasma-electrolytic oxidation of valve metals, for example, aluminum, magnesium, titanium, zirconium and alloys based on them.

Известен способ контроля толщины покрытий в процессе осаждения, заключающийся в том, что объект контроля размещают в ванне с электролитом, на электроды, одним из которых является объект контроля, подают постоянное напряжение электроосаждения и определяют информативный параметр, по которому судят о толщине нарастающего покрытия, по которому в качестве электролита используют электропроводящий раствор лакокрасочного материала, одновременно с постоянным напряжением электроосаждения подают стабилизированное по амплитуде переменное напряжение, в качестве информативного параметра используют межэлектродную емкость, а в качестве второго электрода используют корпус ванны электроосаждения. (А.С. СССР №1578452 A1, G01B 7/06, 7/08, публ. 15.07.90).A known method of controlling the thickness of the coatings during the deposition process, which consists in the fact that the control object is placed in a bath with an electrolyte, a constant voltage of electrodeposition is applied to the electrodes, one of which is the control object, and an informative parameter is determined by which the thickness of the growing coating is judged by which is used as an electrolyte using an electrically conductive solution of a paint and varnish material, simultaneously with a constant voltage of electrodeposition, an amplitude-stabilized variable voltage is applied tension, the interelectrode capacitance is used as an informative parameter, and the electrodeposition bath body is used as the second electrode. (A.S. USSR No. 1578452 A1, G01B 7/06, 7/08, publ. 15.07.90).

Недостатком данного способа является его применимость только при работе на постоянном токе, а также необходимость наложения переменного напряжения, что может негативно сказываться на технологическом режиме обработки.The disadvantage of this method is its applicability only when working on direct current, as well as the need for applying an alternating voltage, which can adversely affect the processing mode.

Известен способ определения момента окончания процесса плазменно-электролитического оксидирования на основе определения толщины покрытия по величине сдвига фаз, заключающийся в том, что измеряют переменную составляющую тока и анализируют ее изменение во времени, измеряют и анализируют переменную составляющую напряжения, которая периодически или постоянно изменяется с частотой 200-20000 Гц. При этом переменные составляющие тока и напряжения поступают на полосовые фильтры с граничными частотами 200-18000 и 500-20000 Гц, после которых измеряют сдвиг фаз между отфильтрованными сигналами тока и напряжения. Момент окончания процесса определяется по достижении значения сдвига фаз 20-80 градусов (патент РФ №2366765, C25D 11/00, публ. 10.09.2009).A known method for determining the end of the process of plasma-electrolytic oxidation based on determining the coating thickness by the phase shift, which consists in measuring the alternating current component and analyzing its change in time, measuring and analyzing the alternating voltage component, which periodically or constantly changes with frequency 200-20000 Hz. In this case, the alternating components of the current and voltage are supplied to bandpass filters with boundary frequencies of 200-18000 and 500-20000 Hz, after which the phase shift between the filtered current and voltage signals is measured. The moment of the end of the process is determined upon reaching a phase shift of 20-80 degrees (RF patent No. 2366765, C25D 11/00, publ. 09/10/2009).

Недостатком данного способа является сложность его практической реализации, которая заключается в необходимости использования дополнительных модуляторов частоты, фильтрации сигналов тока и напряжения, а также использования фазометров для измерения угла сдвига фаз между сигналами тока и напряжения.The disadvantage of this method is the difficulty of its practical implementation, which consists in the need to use additional frequency modulators, filtering current and voltage signals, as well as using phase meters to measure the phase angle between current and voltage signals.

Наиболее близким по технической сущности является способ определения толщины покрытия, заключающийся в том, что выполняют измерение амплитуды анодного импульсного поляризационного напряжения Uп, при этом определяют длительность т спада напряжения до порогового значения U1=(0,2…0,8)⋅Uп, а толщину покрытия рассчитывают по формуле:The closest in technical essence is a method for determining the coating thickness, which consists in measuring the amplitude of the anode pulsed polarizing voltage U p , while determining the duration t of the voltage drop to the threshold value U 1 = (0.2 ... 0.8) ⋅ U p , and the coating thickness is calculated by the formula:

h=k1+k2⋅τ,h = k 1 + k 2 ⋅τ,

где k1 и k2 - эмпирические коэффициенты, зависящие от природы обрабатываемого материала и состава электролита, определяемые по тарировочным кривым;where k 1 and k 2 are empirical coefficients depending on the nature of the processed material and the composition of the electrolyte, determined by calibration curves;

τ - длительность спада поляризационного напряжения Uп до порогового значения U1 (патент РФ №2540239, G01B 7/06, публ. 10.02.2015).τ is the duration of the decline in the polarization voltage U p to the threshold value U 1 (RF patent No. 2540239, G01B 7/06, publ. 02/10/2015).

Недостатком прототипа является необходимость выделять длительность спада поляризационного напряжения в быстроменяющемся сигнале, что требует значительной технической сложности системы измерения и управления.The disadvantage of the prototype is the need to highlight the duration of the decline in polarization voltage in a rapidly changing signal, which requires significant technical complexity of the measurement and control system.

Задачей, решаемой заявляемым изобретением, является снижение энергопотребления при плазменно-электролитическом оксидировании вследствие исключения передержки за счет своевременного отключения технологического источника тока при достижении заданной толщины покрытия.The problem solved by the claimed invention is to reduce energy consumption during plasma electrolytic oxidation due to the exclusion of overexposure due to the timely shutdown of the technological current source upon reaching the specified coating thickness.

Техническим результатом является повышение точности определения толщины оксидного покрытия для своевременного прекращения процесса плазменно-электролитического оксидирования.The technical result is to increase the accuracy of determining the thickness of the oxide coating for the timely termination of the process of plasma electrolytic oxidation.

Поставленная задача решается, а технический результат достигается тем, что в способе определения толщины покрытия, включающем измерение напряжения в процессе получения покрытия, согласно изобретению, измеряют среднее и амплитудное значение напряжения обработки, затем находят их отношение, а толщину покрытия h определяют по формуле:The problem is solved, and the technical result is achieved by the fact that in the method for determining the coating thickness, including measuring the voltage during the coating process, according to the invention, the average and amplitude values of the processing voltage are measured, then their ratio is found, and the coating thickness h is determined by the formula:

Figure 00000001
Figure 00000001

где k1 и k2 - эмпирические коэффициенты, зависящие от природы обрабатываемого материала и состава электролита, определяемые по тарировочным кривым;where k 1 and k 2 are empirical coefficients depending on the nature of the processed material and the composition of the electrolyte, determined by calibration curves;

Ucp и Umax - среднее и амплитудное значения напряжения обработки соответственно.U cp and U max - average and amplitude values of the processing voltage, respectively.

Сущность изобретения поясняется изображениями. На Фиг. 1 и Фиг. 2 представлены осциллограммы напряжения после 5 мин и 35 мин обработки соответственно, на которых наблюдается увеличение напряжения во время паузы между импульсами. На Фиг. 3 показан график изменения во времени для отношения среднего напряжения к амплитудному. На Фиг. 4 показан график изменения толщины покрытия во времени. На Фиг. 5 показана тарировочная кривая, построенная по этим зависимостям.The invention is illustrated by images. In FIG. 1 and FIG. Figure 2 shows the voltage waveforms after 5 min and 35 min of processing, respectively, in which an increase in voltage is observed during a pause between pulses. In FIG. Figure 3 shows a graph of the change in time for the ratio of the average voltage to the amplitude. In FIG. 4 shows a graph of coating thickness over time. In FIG. Figure 5 shows a calibration curve constructed from these dependencies.

Физически сущность способа объясняется тем, что в начале процесса толщина оксидного покрытия мала, его активное сопротивление также сравнительно невелико и емкость двойного электрического слоя покрытия разряжается с малой постоянной времени (Фиг. 1). Далее, с ростом оксидной пленки, ее активное сопротивление растет и постоянная времени разряда емкости значительно увеличивается (Фиг. 2), что вызывает повышение среднего значения напряжения при постоянной амплитуде импульсов. Между указанными величинами наблюдается высокая степень корреляции (R2>0,95), что позволяет построить тарировочную кривую (Фиг. 5), которая может быть использована для определения толщины оксидного слоя в ходе процесса. Таким образом, предлагаемый способ имеет ясный физический смысл и простую реализацию, а также обладает высокой помехозащищенностью, так как измеряемые уровни напряжений имеют значительные величины и мало подвержены внешним искажениям.Physically, the essence of the method is explained by the fact that at the beginning of the process the thickness of the oxide coating is small, its active resistance is also relatively small and the capacity of the double electric coating layer is discharged with a small time constant (Fig. 1). Further, with the growth of the oxide film, its active resistance grows and the time constant of the discharge of the capacitance increases significantly (Fig. 2), which causes an increase in the average voltage value at a constant pulse amplitude. Between the indicated values, a high degree of correlation is observed (R 2 > 0.95), which makes it possible to construct a calibration curve (Fig. 5), which can be used to determine the thickness of the oxide layer during the process. Thus, the proposed method has a clear physical meaning and simple implementation, and also has a high noise immunity, since the measured voltage levels have significant values and are little susceptible to external distortions.

Пример конкретной реализации способа.An example of a specific implementation of the method.

Образцы из алюминия обрабатывали методом плазменно-электролитического оксидирования в растворе, содержащем 1 г/л КОН, 2 г/л Na4P2O7⋅10Н2О и 2 г/л Na2SiO3 при температуре 20°С в течение 45 минут в режиме импульсного напряжения с фиксированной амплитудой импульса 580 В и частотой 1 кГц. В процессе получения покрытия измеряли среднее и амплитудное значения напряжения, а толщину покрытия определяли по формуле:Aluminum samples were treated by plasma electrolytic oxidation in a solution containing 1 g / l KOH, 2 g / l Na 4 P 2 O 7 ⋅ 10Н 2 О and 2 g / l Na 2 SiO 3 at a temperature of 20 ° С for 45 minutes in pulse voltage mode with a fixed pulse amplitude of 580 V and a frequency of 1 kHz. In the process of obtaining the coating, the average and amplitude values of the voltage were measured, and the thickness of the coating was determined by the formula:

Figure 00000002
Figure 00000002

где эмпирические коэффициентыwhere are the empirical coefficients

k1=80,87±0,94 мкм;k 1 = 80.87 ± 0.94 μm;

k2=51,44±0,67 мкм,k 2 = 51.44 ± 0.67 μm,

соответствующие обрабатываемому материалу и указанному составу электролита, были рассчитаны по тарировочной кривой (Фиг. 5).corresponding to the material being processed and the indicated electrolyte composition were calculated according to the calibration curve (Fig. 5).

После обработки толщину покрытия на образцах также измеряли вихретоковым толщиномером. Результаты приведены в таблице:After treatment, the coating thickness on the samples was also measured by eddy current thickness gauge. The results are shown in the table:

Figure 00000003
Figure 00000003

Как видно из таблицы, заявляемый способ позволяет определять толщину покрытия с разбросом, сравнимым с неравномерностью толщины покрытия по поверхности детали. Так, после 30 минут обработки толщина покрытия, измеренная вихретоковым толщиномером составила 18,1±1,4 мкм, а измеренная в соответствии с заявляемым способом - 17,6±1,2 мкм.As can be seen from the table, the inventive method allows to determine the thickness of the coating with a spread comparable to the unevenness of the coating thickness on the surface of the part. So, after 30 minutes of treatment, the coating thickness measured by the eddy current thickness gauge was 18.1 ± 1.4 μm, and measured in accordance with the claimed method - 17.6 ± 1.2 μm.

Итак, заявляемое изобретение позволяет измерять толщину покрытия в ходе плазменно-электролитического оксидирования вентильных металлов без вмешательства в ход технологического процесса за счет измерения напряжений, участвующих в формировании оксидного слоя.So, the claimed invention allows to measure the thickness of the coating during the plasma-electrolytic oxidation of valve metals without interfering with the process by measuring the stresses involved in the formation of the oxide layer.

Claims (4)

Способ определения толщины покрытия, включающий измерение напряжения в процессе получения покрытия, отличающийся тем, что измеряют среднее и амплитудное значения напряжения обработки, затем находят их отношение, а толщину покрытия h определяют по формулеA method for determining the coating thickness, including measuring the voltage in the process of obtaining the coating, characterized in that the average and amplitude values of the processing voltage are measured, then their ratio is found, and the coating thickness h is determined by the formula
Figure 00000004
Figure 00000004
где k1 и k2 - эмпирические коэффициенты, зависящие от природы обрабатываемого материала и состава электролита, определяемые по тарировочным кривым;where k 1 and k 2 are empirical coefficients depending on the nature of the processed material and the composition of the electrolyte, determined by calibration curves; Uср и Umax - среднее и амплитудное значения напряжения обработки соответственно.U cf and U max - the average and amplitude values of the processing voltage, respectively.
RU2017142446A 2017-12-05 2017-12-05 Method of measuring the thickness of coating in the process of plasma-electrolytic oxidation RU2668344C1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2017142446A RU2668344C1 (en) 2017-12-05 2017-12-05 Method of measuring the thickness of coating in the process of plasma-electrolytic oxidation

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2017142446A RU2668344C1 (en) 2017-12-05 2017-12-05 Method of measuring the thickness of coating in the process of plasma-electrolytic oxidation

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2668344C1 true RU2668344C1 (en) 2018-09-28

Family

ID=63798139

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2017142446A RU2668344C1 (en) 2017-12-05 2017-12-05 Method of measuring the thickness of coating in the process of plasma-electrolytic oxidation

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2668344C1 (en)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5485097A (en) * 1994-08-08 1996-01-16 Advanced Micro Devices, Inc. Method of electrically measuring a thin oxide thickness by tunnel voltage
RU2158897C1 (en) * 1999-11-04 2000-11-10 Воронежская государственная технологическая академия Method testing thickness of film in process of its deposition and device for its realization
RU2366765C1 (en) * 2008-10-02 2009-09-10 Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Уфимский государственный авиационный технический университет Method of determining moment of completion of plasma-electrolytic oxidising process
CN101975545A (en) * 2010-09-14 2011-02-16 华南理工大学 Method and electrolytic oxidation device for detecting film layer on surface of metal
RU2435134C1 (en) * 2010-07-15 2011-11-27 Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Уфимский государственный авиационный технический университет" Method of determining coating thickness during plasma-electrolytic oxidation
RU2540239C1 (en) * 2013-10-17 2015-02-10 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Уфимский государственный авиационный технический университет" Method to detect thickness of coating in process of plasma-electrolytic oxidation

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5485097A (en) * 1994-08-08 1996-01-16 Advanced Micro Devices, Inc. Method of electrically measuring a thin oxide thickness by tunnel voltage
RU2158897C1 (en) * 1999-11-04 2000-11-10 Воронежская государственная технологическая академия Method testing thickness of film in process of its deposition and device for its realization
RU2366765C1 (en) * 2008-10-02 2009-09-10 Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Уфимский государственный авиационный технический университет Method of determining moment of completion of plasma-electrolytic oxidising process
RU2435134C1 (en) * 2010-07-15 2011-11-27 Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Уфимский государственный авиационный технический университет" Method of determining coating thickness during plasma-electrolytic oxidation
CN101975545A (en) * 2010-09-14 2011-02-16 华南理工大学 Method and electrolytic oxidation device for detecting film layer on surface of metal
RU2540239C1 (en) * 2013-10-17 2015-02-10 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Уфимский государственный авиационный технический университет" Method to detect thickness of coating in process of plasma-electrolytic oxidation

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Hwang et al. Correlation between current frequency and electrochemical properties of Mg alloy coated by micro arc oxidation
Melhem et al. Changes induced by process parameters in oxide layers grown by the PEO process on Al alloys
Parfenov et al. Frequency response studies for the plasma electrolytic oxidation process
CN101629925B (en) Method and device for measuring the conductivity of a pure or ultrarapture liquid
Parfenov et al. Methodology of data acquisition and signal processing for frequency response evaluation during plasma electrolytic surface treatments
RU2668344C1 (en) Method of measuring the thickness of coating in the process of plasma-electrolytic oxidation
JPS6252241B2 (en)
RU2540239C1 (en) Method to detect thickness of coating in process of plasma-electrolytic oxidation
CN107522295B (en) Electromagnetic descaling and antiscaling method and descaling and antiscaling device based on hysteresis comparison method
RU2366765C1 (en) Method of determining moment of completion of plasma-electrolytic oxidising process
RU2692120C1 (en) Method for determining coating thickness during a plasma-electrolytic oxidation process
Gurin et al. New equipment for high-accuracy laboratory measurements of spectral induced polarization of rock samples in the time-and frequency domains: Testing of laboratory multifunction potentiostat-galvanostat
RU2440445C1 (en) Method of plasma-electrolytic oxidation of metals and alloys
RU2807242C1 (en) Method for monitoring and controlling micro-arc oxidation process using acoustic emission method
RU2603970C1 (en) Method of measuring concentration of ions
RU2240500C1 (en) Method of measuring roughness
Ni et al. Interpreting impedance spectra in the time constant domain: Application to the characterization of passive films
RU2475700C1 (en) Measuring method of surface roughness during electrolytic plasma treatment
RU2582886C2 (en) Method of detecting electronic zones of charged surface of solid metal
Manea et al. Electrochemical impedance spectroscopy investigations of tantalum and its passive films in some acidic solutions
RU2667688C2 (en) Device for recording conduction in liquids
Martens et al. Influence of fluid dynamics on the electrochemical deposition of tantalum
Aubakirova et al. Electrochemical impedance and morphological studies into of initial stages of Plasma Electrolytic Oxidation of magnesium alloy
RU2817066C1 (en) Method for estimating thickness and porosity of mao-coating in electrolytic bath based on impedance measurement
KR101333408B1 (en) Manufacturing Method of Conductive Magnesium Oxide Thin Layer