RU2637044C2 - Method of producing coating based on indium and tin oxide - Google Patents

Method of producing coating based on indium and tin oxide Download PDF

Info

Publication number
RU2637044C2
RU2637044C2 RU2016114802A RU2016114802A RU2637044C2 RU 2637044 C2 RU2637044 C2 RU 2637044C2 RU 2016114802 A RU2016114802 A RU 2016114802A RU 2016114802 A RU2016114802 A RU 2016114802A RU 2637044 C2 RU2637044 C2 RU 2637044C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
indium
tin oxide
coating
substrate
spraying
Prior art date
Application number
RU2016114802A
Other languages
Russian (ru)
Other versions
RU2016114802A (en
Inventor
Лев Константинович Марков
Ирина Павловна Смирнова
Алексей Сергеевич Павлюченко
Дмитрий Александрович Закгейм
Михаил Васильевич Кукушкин
Original Assignee
Закрытое Акционерное Общество "Светлана - Оптоэлектроника"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Закрытое Акционерное Общество "Светлана - Оптоэлектроника" filed Critical Закрытое Акционерное Общество "Светлана - Оптоэлектроника"
Priority to RU2016114802A priority Critical patent/RU2637044C2/en
Publication of RU2016114802A publication Critical patent/RU2016114802A/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2637044C2 publication Critical patent/RU2637044C2/en

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/06—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals
    • C03C17/09—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals by deposition from the vapour phase
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23—Oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23—Oxides
    • C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C23C14/083—Oxides of refractory metals or yttrium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
    • C23C14/16—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3435—Applying energy to the substrate during sputtering

Abstract

FIELD: chemistry.
SUBSTANCE: method of producing a coating based on indium and tin oxide on the substrate surface involves spraying the indium and tin oxide onto the substrate to provide the desired refractive index of the coating by selecting the process variable of the sputtering process. According to the invention, the sputtering is carried out under normal orientation of the substrate relative to the flow of the sprayed substance, the process of spraying the indium and tin oxide onto the substrate includes a sequentially performed operation for spraying indium and tin oxide by electron-beam evaporation or magnetron sputtering at a temperature of 400 to 500°C and the operation of spraying indium and tin oxide by magnetron sputtering at a temperature of 15 to 75°C, the required value of the refractive index of the coating is provided by selecting the mass of the substance applied to each of the said spraying operations.
EFFECT: producing an indium and tin oxide coating with a given refractive index value while ensuring its uniformity in thickness.
1 cl

Description

Изобретение относится к полупроводниковой технике, в частности к оптоэлектронике, а именно к электропроводящим оптически прозрачным покрытиям на основе оксида индия и олова.The invention relates to semiconductor technology, in particular to optoelectronics, in particular to conductive optically transparent coatings based on indium and tin oxide.

Известен ряд методов получения покрытий на основе оксида индия и олова (ITO) с использованием метода электронно-лучевого испарения, магнетронного распыления или их комбинации.A number of known methods for producing coatings based on indium and tin oxide (ITO) using the method of electron beam evaporation, magnetron sputtering, or a combination thereof.

Так, известен способ получения пленочного покрытия на основе оксида индия и олова [RU 2530487], которое применяется в качестве прозрачного контакта светодиода.So, there is a known method of producing a film coating based on indium and tin oxide [RU 2530487], which is used as a transparent contact of the LED.

Данный способ включает формирование покрытия путем нанесения слоя оксида индия и олова толщиной 5-15 нм методом электронно-лучевого испарения на нагретую до высокой температуры подложку и последующее нанесение на указанный слой второго слоя оксида индия и олова толщиной, значительно большей, чем толщина первого слоя, методом магнетронного распыления.This method includes forming a coating by applying a layer of indium and tin oxide with a thickness of 5-15 nm by electron beam evaporation on a substrate heated to a high temperature and then applying a second layer of indium and tin oxide to the specified layer with a thickness significantly greater than the thickness of the first layer, magnetron sputtering method.

В результате получают покрытие, обладающее хорошей электрической проводимостью и с высоким (около 2) показателем преломления, что позволяет использовать его в качестве контакта светодиода.The result is a coating having good electrical conductivity and with a high (about 2) refractive index, which allows it to be used as an LED contact.

Однако данный способ не предусматривает возможность управления оптическими свойствами получаемого покрытия ITO.However, this method does not provide the ability to control the optical properties of the resulting ITO coating.

В настоящее время актуальной является задача создания способов получения покрытий ITO с контролируемым значением показателя преломления, что позволяет управлять их оптическими свойствами.Currently, the urgent task is to create methods for producing ITO coatings with a controlled value of the refractive index, which allows you to control their optical properties.

Известен способ получения покрытия на основе оксида индия и олова [Martin F. Schubert и др. Applied Physics Letters. 90, 141115 (2007)], выбранный в качестве ближайшего аналога.A known method of producing coatings based on indium and tin oxide [Martin F. Schubert and others Applied Physics Letters. 90, 141115 (2007)], selected as the closest analogue.

Данный способ включает операцию напыления на подложку оксида индия и олова методом электронно-лучевого испарения при наклонном падении напыляемого вещества на подложку. При наклонном напылении материала на подложку образующиеся на начальной стадии указанного процесса зародыши формируемой структуры покрытия затеняют собой часть поверхности подложки, что в дальнейшем предотвращает осаждение материала на затененные области и приводит к образованию на данных участках пор. В зависимости от угла напыления материала меняется пористость напыляемого слоя покрытия, и, следовательно, его показатель преломления.This method includes the operation of sputtering indium and tin oxide on a substrate by electron beam evaporation with an oblique incidence of the sprayed substance on the substrate. When the material is sprayed onto the substrate obliquely, the nuclei of the formed coating structure formed at the initial stage of this process obscure a part of the substrate surface, which further prevents the deposition of material on the shaded areas and leads to the formation of pores in these areas. Depending on the angle of deposition of the material, the porosity of the sprayed coating layer changes, and therefore its refractive index.

Согласно рассматриваемому способу, варьируя в процессе напыления технологический параметр, которым является угол напыления, обеспечивают требуемое значение показателя преломления напыляемого слоя покрытия.According to the method under consideration, varying the technological parameter during the spraying process, which is the spraying angle, provide the required refractive index of the sprayed coating layer.

Данный способ позволяет получать покрытия ITO с заданным значением показателя преломления, однако при наклонном напылении вещества не обеспечивается однородность по толщине получаемого покрытия.This method allows to obtain ITO coatings with a given value of the refractive index, however, with inclined spraying of a substance, uniformity in the thickness of the resulting coating is not provided.

Задачей заявляемого изобретения является получение покрытия оксида индия и олова с заданным значением показателя преломления при обеспечении его однородности по толщине.The task of the invention is to obtain a coating of indium and tin oxide with a given value of the refractive index while ensuring its uniformity in thickness.

Сущность изобретения заключается в том, что в способе получения покрытия на основе оксида индия и олова на поверхности подложки, включающем напыление на подложку оксида индия и олова с получением покрытия с заданным значением показателя преломления, согласно изобретению напыление осуществляют при нормальной ориентации подложки относительно потока напыляемого вещества, причем напыление оксида индия и олова на подложку осуществляют путем электронно-лучевого испарения или магнетронного распыления при температуре от 400 до 500°С и последующего магнетронного распыления при температуре от 15 до 75°С, при этом требуемое значение показателя преломления покрытия обеспечивают количеством вещества, наносимого на каждой из указанных операций напыления.The essence of the invention lies in the fact that in the method of producing a coating based on indium and tin oxide on a surface of a substrate, comprising spraying on a substrate indium and tin oxide to obtain a coating with a predetermined refractive index, according to the invention, the spraying is carried out at normal orientation of the substrate relative to the flow of the sprayed substance moreover, the deposition of indium and tin oxide on the substrate is carried out by electron beam evaporation or magnetron sputtering at a temperature of from 400 to 500 ° C and the subsequent magnetron sputtering at a temperature of from 15 to 75 ° C, while the required value of the refractive index of the coating is provided by the amount of substance applied to each of these spraying operations.

Заявляемый способ основан на зависимости структуры и соответственно оптических свойств покрытия от технологических параметров напыления материала оксида индия и олова на подложку.The inventive method is based on the dependence of the structure and, accordingly, the optical properties of the coating on the technological parameters of the deposition of the material of indium oxide and tin on the substrate.

Первоначально осуществляют операцию напыления на подложку оксида индия и олова методом электронно-лучевого испарения или магнетронного распыления при нагреве подложки выше температуры кристаллизации ITO (400-500°С). Структура нанесенного слоя материала покрытия характеризуется наличием вытянутых (в случае электронно-лучевого испарения их можно назвать нитевидными) кристаллов и содержит большое количество пустот. Показатель преломления такого слоя имеет значение, меньшее, чем показатель преломления плотного слоя материала оксида индия и олова без пустот.Initially, an indium and tin oxide is sprayed onto a substrate by electron beam evaporation or magnetron sputtering when the substrate is heated above the ITO crystallization temperature (400-500 ° C). The structure of the applied layer of the coating material is characterized by the presence of elongated (in the case of electron beam evaporation, they can be called filamentary) crystals and contains a large number of voids. The refractive index of such a layer has a value less than the refractive index of a dense layer of indium and tin oxide material without voids.

Далее осуществляют операцию напыления на полученный ранее слой материала покрытия оксида индия и олова методом магнетронного распыления мишени без нагрева подложки при температуре 15-75°С. При этом происходит уплотнение структуры материала за счет внедрения в имеющиеся в ней пустоты напыляемого материала, что обуславливает повышение коэффициента преломления полученного с помощью указанных операций покрытия.Next, the operation is carried out by sputtering on the previously obtained layer of the coating material of indium and tin oxide by magnetron sputtering of the target without heating the substrate at a temperature of 15-75 ° C. In this case, the structure of the material is densified due to the introduction of the sprayed material into the voids contained in it, which leads to an increase in the refractive index obtained by using the indicated coating operations.

Как показали исследования авторов, варьируя массу напыляемого оксида индия и олова при осуществлении каждой из описанных выше операций, можно добиться заданной величины показателя преломления покрытия в широком диапазоне значений.As the authors showed, by varying the mass of the sprayed indium and tin oxide during each of the operations described above, it is possible to achieve a given value of the refractive index of the coating in a wide range of values.

Благодаря тому, что при осуществлении процесса напыления обеспечивают нормальную ориентацию подложки относительно потока напыляемого вещества, вещество равномерно распределяется по поверхности подложки, чем достигается однородность покрытия по толщине.Due to the fact that during the spraying process they ensure the normal orientation of the substrate relative to the flow of the sprayed substance, the substance is evenly distributed over the surface of the substrate, thereby achieving uniform coating thickness.

Таким образом, техническим результатом, достигаемым при реализации изобретения, является получение покрытия оксида индия и олова с заданным значением показателя преломления при обеспечении его однородности по толщине.Thus, the technical result achieved by the implementation of the invention is to obtain a coating of indium and tin oxide with a given value of the refractive index while ensuring its uniformity in thickness.

Способ осуществляют следующим образом.The method is as follows.

Нанесение покрытия ITO на подложку осуществляют с использованием оборудования, позволяющего реализовать метод напыления оксида индия и олова на подложку, при котором обеспечивается нормальная ориентация напыляемого вещества относительно подложки.The coating of ITO on a substrate is carried out using equipment that allows implementing the method of deposition of indium oxide and tin on a substrate, which ensures the normal orientation of the sprayed substance relative to the substrate.

Осуществляют операцию напыления материала оксида индия и олова на подложку методом электронно-лучевого испарения или магнетронного распыления при нагреве подложки до температуры 400-500°С. В процессе напыления контролируют массу напыляемого вещества и обеспечивают достижение требуемого значения массы. Контроль массы осуществляют, в частности, с помощью кварцевого датчика.The operation is carried out by sputtering the material of indium oxide and tin on a substrate by electron beam evaporation or magnetron sputtering when the substrate is heated to a temperature of 400-500 ° C. During the spraying process, the mass of the sprayed substance is controlled and the desired mass value is achieved. The mass control is carried out, in particular, using a quartz sensor.

Осуществляют последующую операцию напыления материала оксида индия и олова методом магнетронного распыления без нагрева подложки при температуре 15-75°С. В процессе напыления также контролируют массу напыляемого вещества и обеспечивают достижение требуемого массового количества вещества, в частности, с помощью кварцевого датчика.Subsequent operation is carried out by sputtering the material of indium oxide and tin oxide by magnetron sputtering without heating the substrate at a temperature of 15-75 ° C. During the spraying process, the mass of the sprayed substance is also monitored and the desired mass quantity of the substance is achieved, in particular by means of a quartz sensor.

Требуемые значения массы материала оксида индия и олова, напыляемого при осуществлении каждой из описанных стадий процесса напыления, предварительно определяют экспериментально из условия достижения заданного значения показателя преломления получаемого покрытия.The required mass values of the indium and tin oxide material sprayed during each of the described stages of the deposition process are previously determined experimentally from the condition that the specified value of the refractive index of the resulting coating is achieved.

Для обеспечения требуемых свойств полученного покрытия в отношении прозрачности осуществляют известные технологические операции, такие как промежуточный, последующий отжиг или напыление в среде кислорода.To ensure the required properties of the obtained coating with respect to transparency, known technological operations are carried out, such as intermediate, subsequent annealing or sputtering in an oxygen medium.

При необходимости аналогичным образом можно осуществлять дальнейшее напыление слоев оксида индия и олова, чередуя указанные выше операции, напыления и обеспечивая достижение при проведении каждой из них требуемого массового количества напыляемого вещества.If necessary, in a similar manner, further spraying of the indium and tin oxide layers can be carried out, alternating the above operations, spraying and ensuring that each of them achieves the required mass amount of the sprayed substance.

Возможность реализации способа показана в примерах его выполнения.The possibility of implementing the method is shown in examples of its implementation.

Пример 1Example 1

Наносили тонкопленочное покрытие ITO на подложку, в качестве которой использовали покровное стекло толщиной 0, 17 мм. Площадь покровного стекла составляла 1 см2.An ITO thin film coating was applied to the substrate, which was used as a cover glass with a thickness of 0.17 mm. The area of the coverslip was 1 cm 2 .

Напыление осуществляли на специализированной установке комбинированного электронно-лучевого и магнетронного напыления, производства фирмы Torr Int., США.Spraying was carried out at a specialized installation of combined electron beam and magnetron sputtering, manufactured by Torr Int., USA.

Рабочая камера установки откачивалась до давления 10-7 mbar, в камере был предусмотрен нагрев подложкодержателя, а также обеспечивался напуск газов (Ar, N2, O2).The working chamber of the installation was pumped out to a pressure of 10 -7 mbar, heating of the substrate holder was provided in the chamber, as well as gas inlet (Ar, N 2 , O 2 ) was provided.

Осуществляли операцию напыления материала ITO методом электронно-лучевого испарения при нагреве подложки до температуры 500°С. В процессе напыления контролировали массу напыляемого вещества и обеспечивали достижение требуемого значения массы.The operation of sputtering the ITO material by electron beam evaporation was carried out when the substrate was heated to a temperature of 500 ° C. During the spraying process, the mass of the sprayed substance was controlled and the desired mass value was achieved.

Контроль массы ITO осуществляли с помощью кварцевого датчика.ITO mass control was performed using a quartz sensor.

Напыляли материал ITO, масса которого составляла 71 мкг.ITO material was sprayed, the mass of which was 71 μg.

Осуществляли последующую операцию напыления материала ITO методом магнетронного распыления без нагрева подложки при температуре 22°С. В процессе напыления также контролировали массу напыляемого вещества. Напыляли материал ITO, масса которого составляла 50 мкг.The subsequent operation of ITO material deposition was carried out by magnetron sputtering without heating the substrate at a temperature of 22 ° C. During the spraying process, the mass of the sprayed substance was also controlled. Sprayed ITO material, the mass of which was 50 μg.

Далее обеспечивали требуемые свойства покрытия в отношении прозрачности, для чего осуществляли отжиг в атмосфере, состоящей из смеси азота и кислорода, при 500°С в течение 10 мин.Further, the required coating properties with respect to transparency were provided, for which annealing was carried out in an atmosphere consisting of a mixture of nitrogen and oxygen at 500 ° C for 10 minutes.

Получили покрытие с показателем преломления 1,4.Got a coating with a refractive index of 1.4.

Как показали исследования, осуществляемые с помощью сканирующей электронной микроскопии, полученное покрытие являлось однородным по толщине.As shown by studies using scanning electron microscopy, the resulting coating was uniform in thickness.

Пример 2Example 2

Осуществляли процесс напыления покрытия аналогично, как описано в примере 1.The coating was sprayed in the same manner as described in Example 1.

При этом осуществляли операцию напыления материала ITO методом электронно-лучевого испарения при нагреве подложки до температуры 450°С и напыляли материал ITO, масса которого составляла 36 мкг.In this case, an ITO material was sprayed by electron beam evaporation by heating the substrate to a temperature of 450 ° C and ITO material was sprayed, the mass of which was 36 μg.

Последующую операцию напыления методом магнетронного распыления осуществляли при температуре 20°С и напыляли материал ITO, масса которого составляла 121 мкг.The subsequent sputtering operation by magnetron sputtering was carried out at a temperature of 20 ° C and ITO material was sprayed, the mass of which was 121 μg.

Далее обеспечивали требуемые свойства покрытия в отношении прозрачности, для чего осуществляли отжиг в атмосфере, состоящей из смеси азота и кислорода, при 500°С в течение 10 мин.Further, the required coating properties with respect to transparency were provided, for which annealing was carried out in an atmosphere consisting of a mixture of nitrogen and oxygen at 500 ° C for 10 minutes.

Получили покрытие с показателем преломления 1,7.Got a coating with a refractive index of 1.7.

Как показали исследования, осуществляемые с помощью сканирующей электронной микроскопии, полученное покрытие являлось однородным по толщине.As shown by studies using scanning electron microscopy, the resulting coating was uniform in thickness.

Пример 3Example 3

Осуществляли процесс напыления покрытия аналогично, как описано в примере 1.The coating was sprayed in the same manner as described in Example 1.

При этом осуществляли операцию напыления материала ITO методом магнетронного распыления при нагреве подложки до температуры 400°С и напыляли материал ITO, масса которого составляла 71 мкг.In this case, the operation of sputtering the ITO material by magnetron sputtering was carried out when the substrate was heated to a temperature of 400 ° C and the ITO material was sprayed, the mass of which was 71 μg.

Последующую операцию напыления методом магнетронного распыления осуществляли при температуре 60°С и напыляли материал ITO, масса которого составляла 50 мкг.The subsequent sputtering operation by magnetron sputtering was carried out at a temperature of 60 ° C and ITO material was sprayed, the mass of which was 50 μg.

Далее обеспечивали требуемые свойства покрытия в отношении прозрачности, для чего осуществляли отжиг в атмосфере, состоящей из смеси азота и кислорода, при 500°С в течение 10 мин.Further, the required coating properties with respect to transparency were provided, for which annealing was carried out in an atmosphere consisting of a mixture of nitrogen and oxygen at 500 ° C for 10 minutes.

Получили покрытие с показателем преломления 1,3.Got a coating with a refractive index of 1.3.

Как показали исследования, осуществляемые с помощью сканирующей электронной микроскопии, полученное покрытие являлось однородным по толщине.As shown by studies using scanning electron microscopy, the resulting coating was uniform in thickness.

Claims (1)

Способ получения покрытия на основе оксида индия и олова на поверхности подложки, включающий напыление на подложку оксида индия и олова с получением покрытия с заданным значением показателя преломления, отличающийся тем, что напыление осуществляют при нормальной ориентации подложки относительно потока напыляемого вещества, причем напыление оксида индия и олова на подложку осуществляют путем электронно-лучевого испарения или магнетронного распыления при температуре от 400 до 500°С и последующего магнетронного распыления при температуре от 15 до 75°С, при этом требуемое значение показателя преломления покрытия обеспечивают количеством вещества, наносимого на каждой из указанных операций напыления.A method of obtaining a coating based on indium and tin oxide on a surface of a substrate, comprising spraying an indium and tin oxide onto a substrate to produce a coating with a predetermined refractive index, characterized in that the spraying is carried out at normal orientation of the substrate relative to the flow of the sprayed substance, and spraying indium oxide and Tin on the substrate is carried out by electron beam evaporation or magnetron sputtering at a temperature of from 400 to 500 ° C and subsequent magnetron sputtering at temperatures e from 15 to 75 ° C, while the required value of the refractive index of the coating provide the amount of substance applied to each of these spraying operations.
RU2016114802A 2016-04-15 2016-04-15 Method of producing coating based on indium and tin oxide RU2637044C2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2016114802A RU2637044C2 (en) 2016-04-15 2016-04-15 Method of producing coating based on indium and tin oxide

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2016114802A RU2637044C2 (en) 2016-04-15 2016-04-15 Method of producing coating based on indium and tin oxide

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2016114802A RU2016114802A (en) 2017-10-19
RU2637044C2 true RU2637044C2 (en) 2017-11-29

Family

ID=60120470

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2016114802A RU2637044C2 (en) 2016-04-15 2016-04-15 Method of producing coating based on indium and tin oxide

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2637044C2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2800664C1 (en) * 2022-12-22 2023-07-25 федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого" (ФГАОУ ВО "СПбПУ") Application of indium tin oxide (ito) coating as a transparent hydrophobic coating

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5541959A (en) * 1978-09-18 1980-03-25 Sanyo Shinku Kogyo Kk Production of indium oxide transparent conductive film through sputtering
SU1499573A1 (en) * 1987-09-08 1992-03-07 Предприятие П/Я А-7873 Method of producing transparent conducting films based on induim and tin oxides
JPH05345973A (en) * 1992-06-12 1993-12-27 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd Production of transparent conductive film
JPH10140332A (en) * 1996-11-08 1998-05-26 Anelva Corp Production of amorphous ito film
RU2112076C1 (en) * 1997-05-22 1998-05-27 Товарищество с ограниченной ответственностью "ТИКО" Method for depositing electroconductive transparent coating
EA011247B1 (en) * 2003-06-27 2009-02-27 Сэн-Гобэн Гласс Франс Dielectric-layer-coated substrate and installation for production thereof
RU2564650C1 (en) * 2014-07-22 2015-10-10 Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов" (ФГУП "ВИАМ") Method for application of electroconductive coating for electrically-heated organic glass element

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5541959A (en) * 1978-09-18 1980-03-25 Sanyo Shinku Kogyo Kk Production of indium oxide transparent conductive film through sputtering
SU1499573A1 (en) * 1987-09-08 1992-03-07 Предприятие П/Я А-7873 Method of producing transparent conducting films based on induim and tin oxides
JPH05345973A (en) * 1992-06-12 1993-12-27 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd Production of transparent conductive film
JPH10140332A (en) * 1996-11-08 1998-05-26 Anelva Corp Production of amorphous ito film
RU2112076C1 (en) * 1997-05-22 1998-05-27 Товарищество с ограниченной ответственностью "ТИКО" Method for depositing electroconductive transparent coating
EA011247B1 (en) * 2003-06-27 2009-02-27 Сэн-Гобэн Гласс Франс Dielectric-layer-coated substrate and installation for production thereof
RU2564650C1 (en) * 2014-07-22 2015-10-10 Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов" (ФГУП "ВИАМ") Method for application of electroconductive coating for electrically-heated organic glass element

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2800664C1 (en) * 2022-12-22 2023-07-25 федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого" (ФГАОУ ВО "СПбПУ") Application of indium tin oxide (ito) coating as a transparent hydrophobic coating
RU2808498C1 (en) * 2023-02-09 2023-11-28 Акционерное общество "Северный пресс" (АО "Северный пресс") Method for producing thin-film coating based on indium tin oxide

Also Published As

Publication number Publication date
RU2016114802A (en) 2017-10-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Duta et al. Sol–gel versus sputtering indium tin oxide films as transparent conducting oxide materials
JP2004511655A (en) Preparation method of indium tin oxide thin film using magnetron negative ion sputtering source
CN1891848A (en) Optical coating device
KR101524271B1 (en) A composition of anti-fingerprint coating layer with a plurality of thin films and method of manufacturing the same.
KR20120079716A (en) Anti-fingerprint coating method and device
KR20160098165A (en) Gradient thin films
Zhong et al. Optical and electrical properties of indium tin oxide thin films with tilted and spiral microstructures prepared by oblique angle deposition
Chopade et al. RF plasma MOCVD of Y2O3 thin films: Effect of RF self-bias on the substrates during deposition
US20060023311A1 (en) Method for obtaining a thin, stabilized fluorine-doped silica layer, resulting thin layer, and use thereof in ophthalmic optics
Bah et al. Fabrication of TaOxNy thin films by reactive ion beam-assisted ac double magnetron sputtering for optical applications
FR2542278A1 (en) IMPROVEMENTS IN COATINGS RESISTANT TO HIGH THERMAL CONSTRAINTS AND IN PARTICULAR TO COATINGS FOR SATELLITES AND SPACE VESSELS AND METHODS FOR PRODUCING THESE COATINGS
RU2637044C2 (en) Method of producing coating based on indium and tin oxide
CN108796452B (en) Vanadium dioxide thin film and preparation method and application thereof
Hong et al. Preparation of SiO2 passivation thin film for improved the organic light-emitting device life time
US9909208B2 (en) Method for developing a coating having a high light transmission and/or a low light reflection
RU2241065C2 (en) Method for applying conductive transparent cover
US20050281985A1 (en) Isotropic glass-like conformal coatings and methods for applying same to non-planar substrate surfaces at microscopic levels
Volpian et al. Nanogradient optical coatings
US20140268348A1 (en) Anti-Reflective Coatings with Porosity Gradient and Methods for Forming the Same
CN101713062B (en) Shading element and film coating method thereof
Marinov et al. Optical properties of ZnO thin films deposited by the method of electrospray
KR20070048723A (en) Method for depositing photocatalytic titanium oxide layers
KR101907143B1 (en) a fabricating method for anti-reflection film with an excellent performance and a anti-reflection film fabricated thereof
TWI417410B (en) A manufacturing method of electric conduction film
WO1996011289A1 (en) Low surface energy coatings

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20180416