RU2455652C1 - Интегральный микромеханический гироскоп-акселерометр на основе углеродных нанотрубок - Google Patents

Интегральный микромеханический гироскоп-акселерометр на основе углеродных нанотрубок Download PDF

Info

Publication number
RU2455652C1
RU2455652C1 RU2011102712/28A RU2011102712A RU2455652C1 RU 2455652 C1 RU2455652 C1 RU 2455652C1 RU 2011102712/28 A RU2011102712/28 A RU 2011102712/28A RU 2011102712 A RU2011102712 A RU 2011102712A RU 2455652 C1 RU2455652 C1 RU 2455652C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
substrate
semiconductor material
semiconductor
inertial mass
rectangular frame
Prior art date
Application number
RU2011102712/28A
Other languages
English (en)
Inventor
Борис Георгиевич Коноплев (RU)
Борис Георгиевич Коноплев
Игорь Евгеньевич Лысенко (RU)
Игорь Евгеньевич Лысенко
Original Assignee
Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "ЮЖНЫЙ ФЕДЕРАЛЬНЫЙ УНИВЕРСИТЕТ"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "ЮЖНЫЙ ФЕДЕРАЛЬНЫЙ УНИВЕРСИТЕТ" filed Critical Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "ЮЖНЫЙ ФЕДЕРАЛЬНЫЙ УНИВЕРСИТЕТ"
Priority to RU2011102712/28A priority Critical patent/RU2455652C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2455652C1 publication Critical patent/RU2455652C1/ru

Links

Images

Landscapes

  • Gyroscopes (AREA)

Abstract

Изобретение относится к области измерительной техники и микросистемной техники, а более конкретно к интегральным измерительным элементам величин угловой скорости и ускорения. Техническим результатом является возможность измерения величин угловой скорости и ускорения вдоль осей Х и Y, расположенных взаимно перпендикулярно в плоскости подложки, и оси Z, направленной перпендикулярно плоскости подложки. Технический результат достигается за счет введения слоя дополнительной инерционной массы, выполненного из полупроводникового материала и расположенного непосредственно на инерционной массе, дополнительной прямоугольной рамки, выполненной из полупроводникового материала и расположенной непосредственно на прямоугольной рамке, двух подвижных электродов, выполненных из полупроводникового материала в виде пластин с гребенчатыми структурами с одной стороны и расположенных с зазором относительно полупроводниковой подложки, дополнительного неподвижного электрода, выполненного из полупроводникового материала и расположенного непосредственно на подложке, четырех дополнительных упругих балок, расположенных с зазором относительно полупроводниковой подложки, шести элементов крепления, выполненных из полупроводникового материала, четыре из которых расположены непосредственно на опорах, а два других - на двух подвижных электродах, причем планарные неподвижные электроды образуют плоские конденсаторы в плоскости их пластин через боковые зазоры с прямоугольной рамкой, а упругие балки выполнены на основе углеродных нанотрубок. 2 ил.

Description

Предлагаемое изобретение относится к области измерительной техники и микросистемной техники, а более конкретно к интегральным измерительным элементам величин угловой скорости и ускорения.
Известен интегральный микромеханический гироскоп [В.П.Тимошенков, С.П.Тимошенков, А.А.Миндеева. Разработка конструкции микрогироскопа на основе КНИ-технологии. - Известия вузов, Электроника, №6, 1999, стр.49, рис.2], содержащий диэлектрическую подложку с напыленными на ней четырьмя электродами и инерционную массу, расположенную с зазором относительно диэлектрической подложки. выполненную в виде пластины из полупроводникового материала, образующую с парой напыленных на подложку электродов плоский конденсатор и связанную с внутренней колебательной системой с помощью упругих балок, выполненных из полупроводникового материала, которые одними концами жестко прикреплены к инерционной массе, а другими к внутренней колебательной системе, выполненной из полупроводникового материала, образующей с другой парой напыленных на подложку электродов плоский конденсатор, используемый в качестве электростатического привода, причем колебательная система соединена с внешней рамкой с помощью упругих балок, выполненных из полупроводникового материала, которые одними концами прикреплены к внутренней колебательной системе, а другими - к внешней рамке, выполненной из полупроводникового материала и расположенной непосредственно на диэлектрической подложке.
Данный гироскоп позволяет измерять величину угловой скорости при вращении его вокруг оси Z, направленной перпендикулярно плоскости подложки гироскопа.
Признаками аналога, совпадающими с существенными признаками, являются два неподвижных электрода электростатических приводов с гребенчатыми структурами с одной стороны, четыре опоры, выполненные из полупроводникового материала и расположенные непосредственно на полупроводниковой подложке, прямоугольная рамка, инерционная масса, выполненная из полупроводникового материала и расположенная с зазором относительно подложки, упругие балки, выполненные из полупроводникового материала и расположенных с зазором относительно подложки, электрод, расположенный непосредственно на подложке.
Недостатком конструкции гироскопа является невозможность измерения величин угловой скорости вокруг взаимно перпендикулярных осей X, Y, расположенных в плоскости подложки, и ускорения по осям Х, Y, Z.
Функциональным аналогом заявляемого объекта является микромеханический гироскоп [S.E.Alper, Т.Akin, A.Planar Gyroscope Using a Standard Surface Micromachining Process, The 14th European Conference on Solid-State Transducers (EUROSENSORS XIV), 2000, p.387, fig.1], содержащий подложку с расположенными на ней четырьмя электродами, выполненными из полупроводникового материала, инерционную массу, расположенную с зазором относительно подложки, выполненную в виде пластины из полупроводникового материала, образующую с нарой расположенных на подложке электродов плоский конденсатор и связанную с внешним подвесом с помощью упругих балок, выполненных из полупроводникового материала, которые одними концами жестко прикреплены к инерционной массе, а другими - к внешнему подвесу, выполненному из полупроводникового материала и образующему с другой парой расположенных на подложке электродов плоский конденсатор, используемый в качестве электростатического привода, причем внешний подвес соединен с опорами с помощью упругих балок, выполненных из полупроводникового материала, которые одними концами жестко соединены с внешним подвесом, а другими - с опорами, выполненными из полупроводникового материала и расположенными непосредственно на подложке, и два электрода, выполненные из полупроводникового материала и расположенные непосредственно на подложке с зазором относительно внешнего подвеса так, что образуют плоские конденсаторы, используемые в качестве электростатических приводов.
Данный гироскоп позволяет измерять величину угловой скорости при вращении его вокруг оси Z, направленной перпендикулярно плоскости подложки гироскопа.
Признаками аналога, совпадающими с существенными признаками, являются два неподвижных электрода электростатических приводов с гребенчатыми структурами с одной стороны, четыре опоры, выполненные из полупроводникового материала и расположенные непосредственно па полупроводниковой подложке, прямоугольная рамка, инерционная масса, выполненная из полупроводникового материала и расположенная с зазором относительно подложки, неподвижный электрод емкостного преобразователя перемещений, выполненный из полупроводникового материала, расположенный на подложке, упругие балки, выполненные из полупроводникового материала и расположенные с зазором относительно подложки.
Недостатком конструкции гироскопа является невозможность измерения величин угловой скорости вокруг взаимно перпендикулярных осей X, Y, расположенных в плоскости подложки, и ускорения по осям X, Y, Z.
Из известных наиболее близким по технической сущности к заявляемому объекту является интегральный микромеханический гироскоп [A.S.Plani, A.A.Seshia, M.Palaniapan, R.Т.Howe, J.Yasaitis, Coupling of resonant modes in micromechanical vibratory rate gyroscopes, NSTI-Nanotech 2004, vol.2, 2004, p.335, fig.1], содержащий полупроводниковую подложку с расположенными на ней двумя планарными неподвижными электродами, выполненными из полупроводникового материала, два неподвижных электрода с гребенчатыми структурами с одной стороны, выполненных из полупроводникового материала и расположенных непосредственно на полупроводниковой подложке, четыре опоры, выполненные из полупроводникового материала и расположенные непосредственно на полупроводниковой подложке, прямоугольную рамку, выполненную из полупроводникового материала, соединенную с опорами с помощью четырех упругих балок, выполненных из полупроводникового материала и расположенных с зазором относительно подложки, которые одними концами жестко прикреплены к прямоугольной рамке, а другими - к опорам, инерционную массу, выполненную из полупроводникового материала и расположенную с зазором относительно подложки, образующую с расположенными на полупроводниковой подложке двумя планарными неподвижными электродами плоские конденсаторы в плоскости их пластин через боковые зазоры, соединенную с прямоугольной рамкой с помощью других четырех упругих балок, выполненных из полупроводникового материала и расположенных с зазором относительно подложки, которые одними концами жестко прикреплены к инерционной массе, а другими - к прямоугольной рамке.
Данный гироскоп позволяет измерять величину угловой скорости при вращении его вокруг оси Z, расположенной перпендикулярно плоскости подложки.
Признаками прототипа, совпадающими с существенными признаками, являются полупроводниковая подложка с расположенными на ней планарными неподвижными электродами, выполненными из полупроводникового материала, два неподвижных электрода с гребенчатыми структурами с одной стороны, выполненные из полупроводниковою материала и расположенные непосредственно на полупроводниковой подложке, четыре опоры, выполненные из полупроводникового материала и расположенные непосредственно на полупроводниковой подложке, прямоугольная рамка, выполненная из полупроводникового материала, соединенная с опорами с помощью четырех упругих балок, выполненных из полупроводникового материала и расположенных с зазором относительно подложки, инерционная масса, выполненная из полупроводникового материала и расположенная с зазором относительно подложки, другие четыре упругие балки, выполненные из полупроводникового материала и расположенные с зазором относительно подложки.
Причинами, препятствующими достижению технического результата, является невозможность измерения величин угловой скорости вокруг взаимно перпендикулярных осей X, Y, расположенных в плоскости подложки, и ускорения по осям X, Y, Z.
Задача предлагаемого изобретения - возможность измерения величин угловой скорости и ускорения вдоль осей X, Y, расположенных в плоскости подложки, и оси Z, направленной перпендикулярно плоскости подложки гироскопа-акселерометра.
Технический результат, достигаемый при осуществлении предлагаемого изобретения, заключается в возможности измерения величин угловой скорости и ускорения вокруг осей X, Y, расположенных в плоскости подложки, и оси Z, направленной перпендикулярно плоскости подложки гироскопа-акселерометра.
Технический результат достигается за счет введения двух подвижных электродов, выполненных из полупроводникового материала в виде пластин с гребенчатыми структурами с одной стороны и расположенных с зазором относительно полупроводниковой подложки, дополнительного неподвижного электрода, выполненного из полупроводникового материала и расположенного непосредственно на подложке, четырех дополнительных упругих балок, выполненных из полупроводникового материала и расположенных с зазором относительно полупроводниковой подложки, причем планарные неподвижные электроды образуют плоские конденсаторы в плоскости их пластин через боковые зазоры с прямоугольной рамкой.
Для достижения необходимого технического результата в интегральный микромеханический гироскоп-акселерометр, содержащий полупроводниковую подложку с расположенными на ней планарными неподвижными электродами, выполненными из полупроводникового материала, два неподвижных электрода с гребенчатыми структурами с одной стороны, выполненных из полупроводникового материала и расположенных непосредственно на полупроводниковой подложке, четыре опоры, выполненные из полупроводникового материала и расположенные непосредственно на полупроводниковой подложке, прямоугольную рамку, выполненную из полупроводникового материала, соединенную с опорами с помощью четырех упругих балок, расположенных с зазором относительно подложки, инерционную массу, выполненную из полупроводникового материала и расположенную с зазором относительно подложки, другие четыре упругие балки, выполненные из полупроводникового материала и расположенных с зазором относительно подложки, введены слой дополнительной инерционной массы, выполненный из полупроводникового материала и расположенный непосредственно на инерционной массе, дополнительная прямоугольная рамка, выполненная из полупроводникового материала и расположенная непосредственно на прямоугольной рамке, два подвижных электрода, выполненных из полупроводникового материала в виде пластин с гребенчатыми структурами с одной стороны и расположенных с зазором относительно полупроводниковой подложки, дополнительный неподвижный электрод, выполненный из полупроводникового материала и расположенный непосредственно на подложке, четыре дополнительные упругие балки, расположенные с зазором относительно полупроводниковой подложки, шесть элементов крепления, выполненных из полупроводникового материала, четыре из которых расположены непосредственно на опорах, а два других - на двух подвижных электродах, причем планарные неподвижные электроды образуют плоские конденсаторы в плоскости их пластин через боковые зазоры с прямоугольной рамкой, а упругие балки выполнены на основе углеродных нанотрубок, четыре из которых соединены одними концами с помощью слоя дополнительной инерционной массы с инерционной массой, а другими концами с помощью дополнительной прямоугольной рамки с прямоугольной рамкой, а четыре другие упругие балки соединены одними концами с помощью двух элементов креплений с подвижными электродами, а другими концами с помощью других четырех элементов креплений с опорами.
Сравнивая предлагаемое устройство с прототипом, видим, что оно содержит новые признаки, то есть соответствует критерию новизны. Приводя сравнение с аналогами, приходим к выводу, что предлагаемое устройство соответствует критерию «существенные отличия», так как в аналогах не обнаружены предъявляемые новые признаки.
На Фиг.1 приведена топология предлагаемого интегрального микромеханического гироскопа-акселерометра на основе углеродных нанотрубок и показаны сечения. На Фиг.2 приведена структура предлагаемого интегрального микромеханического гироскопа-акселерометра на основе углеродных нанотрубок.
Интегральный микромеханический гироскоп-акселерометр на основе углеродных нанотрубок (Фиг.1) содержит полупроводниковую подложку 1 с расположенными на ней двумя планарными неподвижными электродами 2, 3, и неподвижным электродом 4, выполненными из полупроводникового материала, два неподвижных электрода с гребенчатыми структурами с одной стороны 5, 6, выполненных из полупроводникового материала и расположенных непосредственно на полупроводниковой подложке 1, два подвижных электрода электростатических приводов с гребенчатыми структурами с одной стороны 7, 8, выполненных в виде пластин из полупроводникового материала и расположенных с зазором относительно полупроводниковой подложки 1, образующих электростатическое взаимодействие с неподвижными электродами 5, 6 в плоскости их пластин через боковые зазоры и взаимопроникающие друг в друга гребенками электродов, и связанных с полупроводниковой подложкой 1 с помощью упругих балок 9, 10, 11, 12, выполненных на основе углеродных нанотрубок, которые одними концами жестко соединены при помощи элементов крепления 13, 14, выполненных из полупроводникового материала, с подвижными электродами электростатических приводов 7, 8, а другими - с опорами 15, 16, 17, 18, выполненными из полупроводникового материала и расположенными непосредственно на полупроводниковой подложке 1, при помощи элементов крепления 19, 20, 21, 22, выполненных из полупроводникового материала, прямоугольную рамку 23, выполненную из полупроводникового материала и расположенную с зазором относительно полупроводниковой подложки 1, образующую с двумя неподвижными электродами 2, 3 плоские конденсаторы в плоскости их пластин и через боковые зазоры, соединенную с подвижными электродами 7, 8 с помощью четырех упругих балок 24, 25, 26, 27, выполненных на основе углеродных нанотрубок, которые одними концами жестко соединены при помощи дополнительной прямоугольной рамки 28, выполненной из полупроводникового материала, с прямоугольной рамкой 23, а другими - с подвижными электродами 7, 8, инерционную массу 29, выполненную из полупроводникового материала и расположенную с зазором относительно полупроводниковой подложки 1, образующую с неподвижным электродом 4 плоский конденсатор, соединенную с прямоугольной рамкой 23 с помощью четырех упругих балок 30, 31, 32, 33, выполненных на основе углеродных нанотрубок, которые одними концами жестко соединены при помощи дополнительной инерционной массы 34, выполненной из полупроводникового материала, с инерционной массой 29, а другими - с прямоугольной рамкой 23.
Работает устройство следующим образом.
При подаче на неподвижные электроды 5, 6 переменных напряжений, сдвинутых относительно друг друга по фазе на 180°, относительно подвижных электродов 7, 8 между ними возникает электростатическое взаимодействие, что приводит к возникновению колебаний последних в плоскости полупроводниковой подложки 1 (вдоль оси Y), за счет s-образного изгиба упругих балок 9, 10, 11, 12, которые одними концами жестко соединены с помощью элементов креплений 13, 14 с подвижными электродами 7, 8, а другими концами с помощью элементов креплений 19, 20, 21, 22 - с опорами 15, 16, 17, 18, соответственно. Колебания подвижных электродов 7, 8 передаются прямоугольной рамке 23 через упругие балки 24, 25, 26, 27, которые одними концами жестко соединены с помощью элементов креплений 13, 14 с подвижными электродами 7, 8, а другими концами с помощью дополнительной прямоугольной рамки 29 - с прямоугольной рамкой 23, колебания которой передаются инерционной массе 29 через упругие балки 30, 31, 32, 33, которые одними концами жестко соединены с помощью дополнительной прямоугольной рамки 29 с прямоугольной рамкой 23, а другими концами с помощью дополнительной инерционной массы 34 с инерционной массой 29. Зазор между планарными неподвижными электродами 2, 3 и прямоугольной рамкой 23, и неподвижным электродом 4 и инерционной массой 29, соответственно, не изменяется. Напряжения, генерируемые в парах емкостных преобразователей перемещений, образованных планарными неподвижными электродами 2, 3 и прямоугольной рамкой 23, и неподвижным электродом 4 и инерционной массой 29, соответственно, одинаковы.
При возникновении вращения полупроводниковой подложки 1 (угловой скорости) вокруг оси, расположенной в плоскости полупроводниковой подложки 1 (ось X), инерционная масса 29 под действием сил Кориолиса начинает совершать колебания перпендикулярно плоскости полупроводниковой подложки 1 за счет s-образного изгиба упругих балок 30, 31, 32, 33. Разность напряжений, генерируемых на емкостном преобразователе перемещений, образованных неподвижным электродом 4 и инерционной массой 29, за счет изменения величины затора между ними, характеризует величину угловой скорости. Напряжения, генерируемые па емкостных преобразователях перемещений, образованных электродами 2, 3 и прямоугольной рамкой 23, соответственно, одинаковы.
При возникновении вращения полупроводниковой подложки 1 (угловой скорости) вокруг оси, расположенной перпендикулярно плоскости полупроводниковой подложки 1 (ось Z), инерционная масса 29 под действием сил Кориолиса начинает совершать колебания в плоскости полупроводниковой подложки 1 (вдоль оси X) за счет s-образного изгиба упругих балок 24, 25, 26, 27. Разность напряжений, генерируемых на емкостных преобразователях перемещений, образованных планарными неподвижными электродами 2, 3 и прямоугольной рамкой 23, за счет изменения величины зазора между ними, характеризует величину угловой скорости. Напряжения, генерируемые в емкостном преобразователе перемещений, образованном электродом 4 и инерционной тонной массой 29, одинаковы.
При подаче на планарные неподвижные электроды 2, 3 переменных напряжений, сдвинутых относительно друг друга на фазе на 180°, относительно прямоугольной рамки 23 между ними возникает электростатическое взаимодействие, что приводит к возникновению колебаний последней в плоскости полупроводниковой подложки 1 (вдоль оси X) за счет s-образного изгиба упругих балок 24, 25, 26, 27, соединяющих прямоугольной рамку 23 с подвижными электродами 7, 8. Колебания прямоугольной рамки 23 передаются инерционной массе 29 через упругие балки 30, 31, 32, 33. Зазор между неподвижным электродом 4 и инерционной массой 29, соответственно, не изменяется. Зазор между неподвижными электродами 5, 6 и подвижными электродами 7, 8, соответственно, не изменяется. Напряжения, генерируемые в парах емкостных преобразователей перемещений, образованных неподвижным электродом 4 и инерционной массой 29, и неподвижными электродами 5, 6 и подвижными электродами 7, 8, соответственно, одинаковы.
При возникновении вращения полупроводниковой подложки 1 (угловой скорости) вокруг оси, расположенной в плоскости полупроводниковой подложки 1 (ось Y), инерционная масса 29 под действием сил Кориолиса начинает совершать колебания перпендикулярно плоскости полупроводниковой подложки 1 за счет s-образного изгиба упругих балок 30, 31, 32, 33. Разность напряжений, генерируемых на емкостном преобразователе перемещений, образованных неподвижным электродом 4 и инерционной массой 29 за счет изменения величины зазора между ними, характеризует величину угловой скорости. Зазор между неподвижными электродами 5, 6 и подвижными электродами 7, 8, соответственно, не изменяется.
При возникновении вращения полупроводниковой подложки 1 (угловой скорости) вокруг оси, расположенной перпендикулярно плоскости полупроводниковой подложки 1 (ось Z), инерционная масса 29 под действием сил Кориолиса начинает совершать колебания в плоскости полупроводниковой подложки 1 (вдоль оси Y). Колебания инерционной массы 29 передаются прямоугольной рамке 23 через упругие балки 30, 31, 32, 33, а колебания прямоугольной рамки, в свою очередь, передаются подвижным электродам 7, 8 через упругие балки 24, 25, 26, 27, соответственно. Разность напряжений, генерируемых на емкостных преобразователях перемещений, образованных неподвижными электродами 5, 6 и подвижными электродами 7, 8, соответственно, за счет изменения величины зазора между ними характеризует величину угловой скорости. Зазор между планарными неподвижными электродами 2, 3 и прямоугольной рамкой 23, и неподвижным электродом 4 и инерционной массой 29, соответственно, не изменяется. Напряжения, генерируемые в парах емкостных преобразователей перемещений, образованных планарными неподвижными электродами 2, 3 и прямоугольной рамкой 23, и неподвижным электродом 4 и инерционной массой 29, соответственно, одинаковы.
При возникновении ускорения полупроводниковой подложки 1 вдоль оси X, расположенной в плоскости полупроводниковой подложки 1, инерционная масса 29, жестко прикрепленная к прямоугольной рамке 23 при помощи упругих балок 30, 31, 32, 33, под действием сил инерции начинает перемещаться вдоль оси Х в плоскости полупроводниковой подложки 1, за счет s-образного изгиба упругих балок 24, 25, 26, 27, которые одними концами жестко соединены с прямоугольной рамкой 23, а другими с подвижными электродами 7, 8, соответственно. Разность напряжений, генерируемых в парах емкостных преобразователей перемещений, образованных электродами 2, 3 и прямоугольной рамкой 23, соответственно, за счет изменения величины зазора между ними, характеризует величину ускорения.
При возникновении ускорения полупроводниковой подложки 1 вдоль оси Y, расположенной в плоскости полупроводниковой подложки 1, инерционная масса 29 под действием сил инерции начинает перемещаться вдоль оси Y в плоскости полупроводниковой подложки 1, за счет s-образного изгиба упругих балок 9, 10, 11, 12, которые одними концами жестко соединены с подвижными электродами 7, 8, а другими - с опорами 15, 16, 17, 18, соответственно. Разность напряжений, генерируемых в парах емкостных преобразователей перемещений, образованных неподвижными электродами 5, 6 и подвижными электродами 7, 8, соответственно, за счет изменения величины зазора между ними, характеризует величину ускорения.
При возникновении ускорения полупроводниковой подложки 1 вдоль оси Z, направленной перпендикулярно плоскости полупроводниковой подложки 1, инерционная масса 29, под действием сил инерции начинает перемещаться перпендикулярно плоскости полупроводниковой подложки 1, за счет s-образного изгиба упругих балок 30, 31, 32, 33. Напряжения, генерируемые на емкостных преобразователях перемещений, образованных неподвижным электродом 4 и инерционной массой 29 за счет изменения величины зазора между ними, характеризуют величину ускорения.
Таким образом, предлагаемое устройство представляет собой интегральный микромеханический гироскоп-акселерометр, позволяющий измерять величины угловой скорости и ускорения вдоль осей X, Y, расположенных в плоскости подложки, и оси Z, направленной перпендикулярно плоскости подложки гироскопа-акселерометра.
Введение слоя дополнительной инерционной массы, выполненного из полупроводникового материала и расположенного непосредственно на инерционной массе, дополнительной прямоугольной рамки, выполненной из полупроводникового материала и расположенной непосредственно на прямоугольной рамке, двух подвижных электродов, выполненных из полупроводникового материала в виде пластин с гребенчатыми структурами с одной стороны и расположенных с зазором относительно полупроводниковой подложки, дополнительного неподвижного электрода, выполненного из полупроводникового материала и расположенного непосредственно на подложке, четырех дополнительных упругих балок, расположенных с зазором относительно полупроводниковой подложки, шести элементов крепления, выполненных из полупроводникового материала, четыре из которых расположены непосредственно на опорах, а два других - на двух подвижных электродах, причем планарные неподвижные электроды образуют плоские конденсаторы в плоскости их пластин через боковые зазоры с прямоугольной рамкой, а упругие балки выполнены на основе углеродных нанотрубок, четыре из которых соединены одними концами с помощью слоя дополнительной инерционной массы с инерционной массой, а другими концами с помощью дополнительной прямоугольной рамки - с прямоугольной рамкой, а четыре других упругих балок соединены одними концами с помощью двух элементов креплений с подвижными электродами, а другими концами с помощью других четырех элементов креплений - с опорами, позволяет измерять величины угловой скорости и ускорения вдоль осей X, Y, расположенных в плоскости подложки, и оси Z, направленной перпендикулярно плоскости подложки гироскопа-акселерометра, что позволяет использовать предлагаемое изобретение в качестве интегрального измерительного элемента величин угловой скорости и ускорения.
Таким образом, по сравнению с аналогичными устройствами предлагаемый интегральный микромеханический гироскоп-акселерометр позволяет сократить площадь подложки, используемую под размещение измерительных элементов величин угловой скорости и ускорения, так как для измерения величин угловой скорости и ускорения по трем осям X, Y, Z используется только один интегральный микромеханический гироскоп-акселерометр, а также за счет использования упругих балок, выполненных на основе углеродных нанотрубок, обладающих одинаковыми моментами инерции сечения, что в свою очередь позволяет повысить и получить равную чувствительность предложенного измерительного устройства по осям X, Y, Z к угловой скорости и ускорению.

Claims (1)

  1. Интегральный микромеханический гироскоп-акселерометр, содержащий полупроводниковую подложку с расположенными на ней планарными неподвижными электродами, выполненными из полупроводникового материала, два неподвижных электрода с гребенчатыми структурами с одной стороны, выполненных из полупроводникового материала и расположенных непосредственно на полупроводниковой подложке, четыре опоры, выполненные из полупроводникового материала и расположенные непосредственно на полупроводниковой подложке, прямоугольную рамку, выполненную из полупроводникового материала, соединенную с опорами с помощью четырех упругих балок, выполненных из полупроводникового материала и расположенных с зазором относительно подложки, инерционную массу, выполненную из полупроводникового материала и расположенную с зазором относительно подложки, другие четыре упругие балки, выполненные из полупроводникового материала и расположенные с зазором относительно подложки, отличающийся тем, что в него введены слой дополнительной инерционной массы, выполненный из полупроводникового материала и расположенный непосредственно на инерционной массе, дополнительная прямоугольная рамка, выполненная из полупроводникового материала и расположенная непосредственно на прямоугольной рамке, два подвижных электрода, выполненных из полупроводникового материала в виде пластин с гребенчатыми структурами с одной стороны и расположенных с зазором относительно полупроводниковой подложки, дополнительный неподвижный электрод. выполненный из полупроводникового материала и расположенный непосредственно на подложке, четыре дополнительные упругие балки, расположенные с зазором относительно полупроводниковой подложки, шесть элементов крепления, выполненных из полупроводникового материала, четыре из которых расположены непосредственно на опорах, а два других - на двух подвижных электродах, причем планарные неподвижные электроды образуют плоские конденсаторы в плоскости их пластин через боковые зазоры с прямоугольной рамкой, а упругие балки выполнены на основе углеродных нанотрубок, четыре из которых соединены одними концами с помощью слоя дополнительной инерционной массы с инерционной массой, а другими концами с помощью дополнительной прямоугольной рамки - с прямоугольной рамкой, а четыре другие упругие балки соединены одними концами с помощью двух элементов креплений с подвижными электродами, а другими концами с помощью других четырех элементов креплений - с опорами.
RU2011102712/28A 2011-01-25 2011-01-25 Интегральный микромеханический гироскоп-акселерометр на основе углеродных нанотрубок RU2455652C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2011102712/28A RU2455652C1 (ru) 2011-01-25 2011-01-25 Интегральный микромеханический гироскоп-акселерометр на основе углеродных нанотрубок

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2011102712/28A RU2455652C1 (ru) 2011-01-25 2011-01-25 Интегральный микромеханический гироскоп-акселерометр на основе углеродных нанотрубок

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2455652C1 true RU2455652C1 (ru) 2012-07-10

Family

ID=46848694

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2011102712/28A RU2455652C1 (ru) 2011-01-25 2011-01-25 Интегральный микромеханический гироскоп-акселерометр на основе углеродных нанотрубок

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2455652C1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2639610C1 (ru) * 2016-07-07 2017-12-21 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Сибирский федеральный университет" (СФУ) Интегральный датчик ускорения

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5353656A (en) * 1992-08-18 1994-10-11 Satcon Technology Corporation Electrostatically controlled micromechanical gyroscope
RU2304273C1 (ru) * 2006-06-22 2007-08-10 Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Таганрогский государственный радиотехнический университет" (ТРТУ) Интегральный микромеханический гироскоп на основе углеродных нанотрубок
RU2334237C1 (ru) * 2007-04-16 2008-09-20 Технологический институт Федерального государственного образовательного учреждения высшего профессионального образования "Южный федеральный университет" в г. Таганроге (ТТИ ЮФУ) Интегральный микромеханический гироскоп-акселерометр на основе углеродных нанотрубок
CN101382425A (zh) * 2008-09-26 2009-03-11 北京航空航天大学 一种微机械陀螺自激驱动与解调装置
RU2351897C1 (ru) * 2007-12-03 2009-04-10 Федеральное государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "ЮЖНЫЙ ФЕДЕРАЛЬНЫЙ УНИВЕРСИТЕТ" (ЮФУ) Интегральный микромеханический гироскоп-акселерометр

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5353656A (en) * 1992-08-18 1994-10-11 Satcon Technology Corporation Electrostatically controlled micromechanical gyroscope
RU2304273C1 (ru) * 2006-06-22 2007-08-10 Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Таганрогский государственный радиотехнический университет" (ТРТУ) Интегральный микромеханический гироскоп на основе углеродных нанотрубок
RU2334237C1 (ru) * 2007-04-16 2008-09-20 Технологический институт Федерального государственного образовательного учреждения высшего профессионального образования "Южный федеральный университет" в г. Таганроге (ТТИ ЮФУ) Интегральный микромеханический гироскоп-акселерометр на основе углеродных нанотрубок
RU2351897C1 (ru) * 2007-12-03 2009-04-10 Федеральное государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "ЮЖНЫЙ ФЕДЕРАЛЬНЫЙ УНИВЕРСИТЕТ" (ЮФУ) Интегральный микромеханический гироскоп-акселерометр
CN101382425A (zh) * 2008-09-26 2009-03-11 北京航空航天大学 一种微机械陀螺自激驱动与解调装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2639610C1 (ru) * 2016-07-07 2017-12-21 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Сибирский федеральный университет" (СФУ) Интегральный датчик ускорения

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8555718B2 (en) Piezoelectric transducers
KR101823325B1 (ko) 개선된 자이로스코프 구조체 및 자이로스코프
US6860151B2 (en) Methods and systems for controlling movement within MEMS structures
CN102788576B (zh) 陀螺仪传感器和电子设备
CN102947674B (zh) 用于角速率传感器的mems结构
JP6372566B2 (ja) 改善された直交補償
WO2013005625A1 (ja) 振動子および振動ジャイロ
US8794069B2 (en) Angular velocity sensor
JP2002350138A (ja) 加速度と角速度との双方を検出する装置
JP2016530541A (ja) 改良された直交位相補正を有するジャイロスコープ構造体およびジャイロスコープ
JP2000346649A (ja) マイクロジャイロスコープ
RU2351897C1 (ru) Интегральный микромеханический гироскоп-акселерометр
JP3307907B2 (ja) マイクロジャイロスコープ
JP2000074673A (ja) 複合運動センサ
RU2455652C1 (ru) Интегральный микромеханический гироскоп-акселерометр на основе углеродных нанотрубок
RU2351896C1 (ru) Интегральный микромеханический гироскоп-акселерометр
JP2018538530A (ja) マイクロメカニカルヨーレートセンサ及びその製造方法
RU2649249C1 (ru) Интегральный микромеханический гироскоп-акселерометр
RU2266521C1 (ru) Интегральный микромеханический гироскоп
RU2304273C1 (ru) Интегральный микромеханический гироскоп на основе углеродных нанотрубок
CN212320730U (zh) 三轴mems陀螺仪
RU2293338C1 (ru) Интегральный микромеханический гироскоп-акселерометр
RU2353903C1 (ru) Интегральный микромеханический гироскоп
KR100493149B1 (ko) 대칭형 z축 마이크로자이로스코프 및 그 제조방법
RU2503924C1 (ru) Интегральный микромеханический гироскоп

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20180126