RU2022056C1 - Coating application unit - Google Patents
Coating application unit Download PDFInfo
- Publication number
- RU2022056C1 RU2022056C1 SU5002413A RU2022056C1 RU 2022056 C1 RU2022056 C1 RU 2022056C1 SU 5002413 A SU5002413 A SU 5002413A RU 2022056 C1 RU2022056 C1 RU 2022056C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- key
- pole
- reversing
- holder
- vacuum chamber
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к вакуумно-плазменной обработке инструмента и деталей машин и может быть применено в машиностроении. The invention relates to vacuum-plasma processing of tools and machine parts and can be applied in mechanical engineering.
Известны установки для комплексной обработки инструмента и деталей машин (комплексная обработка включает в себя азотирование с последующим нанесением износостойкого покрытия). Процесс комплексной поверхностной обработки производится в установке двух типов: установках ионного азотирования [1] и в установках ионно-плазменного напыления (например, в установках типа "Булат"). При проведении процесса комплексной обработки в двух установках производительность процесса падает практически в два и более раз. Known installations for the integrated processing of tools and machine parts (complex processing includes nitriding with subsequent application of a wear-resistant coating). The complex surface treatment process is carried out in a plant of two types: ion nitriding plants [1] and in ion-plasma spraying plants (for example, in Bulat plants). When carrying out the complex processing process in two plants, the productivity of the process drops almost two or more times.
Наиболее близким по технической сущности и достигаемому результату является установка для нанесения упрочняющих покрытий, содержащая при электродуговых испарителя, установленных на фланцах вакуумной камеры, получающих электропитание от трех источников постоянного тока [2]. The closest in technical essence and the achieved result is the installation for the application of hardening coatings, containing with electric arc evaporators mounted on the flanges of the vacuum chamber, receiving power from three DC sources [2].
К недостатку установки следует отнести ограниченность ее технологических возможностей. В установке возможно нанесение только упрочняющих покрытий. При этом особенностью установки является то, что прогрев изделий осуществляется бомбардировкой ионами металла. При обработке большой массы металлических изделий время прогрева велико и за это время происходит растравливание поверхности изделия. При необходимости комплексной поверхностной обработки инструмента, включающей химико-термическую обработку с последующим нанесением износостойкого покрытия, обработку проводят в двух установках: установке ионного азотирования с последующим нанесением покрытия в установке типа "Булат". В результате производительность процесса в целом уменьшается. The disadvantage of the installation is the limited nature of its technological capabilities. In the installation, it is possible to apply only hardening coatings. At the same time, a feature of the installation is that the products are heated by bombardment by metal ions. When processing a large mass of metal products, the heating time is long and during this time the surface of the product is etched. If necessary, a comprehensive surface treatment of the tool, including chemical-thermal treatment followed by the application of a wear-resistant coating, the treatment is carried out in two installations: ion nitriding unit followed by coating in the installation of the type "Bulat". As a result, the overall performance of the process decreases.
Цель изобретения - расширение технологических функций установки за счет обеспечения возможности выполнения дополнительных технологических операций химико-термической обработки и электронного нагрева изделий. The purpose of the invention is the expansion of the technological functions of the installation by providing the ability to perform additional technological operations of chemical-thermal processing and electronic heating of products.
Цель достигается тем, что в установке, содержащей являющуюся анодом вакуумную камеру с расположенными в ней по меньшей мере двумя катодами электродуговых испарителей из испаряемого материала, источники питания по числу катодов электродуговых испарителей и держатель изделий с изолированным токоподводом, дополнительно установлен оптически непрозрачный поворотный экран, расположенный между держателем изделий и одним из катодов, двухполюсный и реверсирующий ключи, при этом один из полюсов двухполюсного ключа соединен с катодом, который не закрыт экраном, а другой - с токоподводом держателя изделий, переключатель двухполюсного ключа соединен с одним из переключаемых полюсов реверсирующего ключа, другой полюс которого соединен с вакуумной камерой, а источник питания катода, соединенного с полюсом двухполюсного ключа, подключен к переключателям реверсирующего ключа. The goal is achieved by the fact that in the installation containing the anode of the vacuum chamber with at least two cathodes of electric arc evaporators located in it, the power sources according to the number of cathodes of electric arc evaporators and the product holder with an insulated current supply, an optically opaque rotary screen located between the product holder and one of the cathodes, bipolar and reversing keys, while one of the poles of the bipolar key is connected to the cathode, which not covered by a screen, and the other with the current supply of the product holder, the bipolar switch switch is connected to one of the reversible pole of the reversing key, the other pole of which is connected to the vacuum chamber, and the cathode power supply connected to the pole of the bipolar switch is connected to the reversing switch switches.
На чертеже представлена конструктивная схема установки. The drawing shows a structural diagram of the installation.
Установка содержит вакуумную камеру 1, одновременно являющуюся анодом. В вакуумной камере установлены катоды 2-4 электродуговых испарителей металлов, которые получают электропитание от источников 5-7 постоянного тока. The installation contains a
Изделия 8 установлены в держателе 9, имеющем изолированный от камеры токоподвод 10. Источник 7 подключен к переключающим полюсам реверсивного ключа 11 и соединен с электродом испарителя с помощью двухполюсного ключа 12. Между катодом 2 и держателем 9 установлен поворотный оптически непрозрачный экран 13, выполненный в виде двух раздвигающихся в разные стороны половин. В установке также имеются высоковольтный источник 14 и ключ 15.
Работает установка следующим образом. The installation works as follows.
При проведении процесса комплексной поверхностной обработки инструмента (азотирование поверхностного слоя и нанесение износостойкого покрытия) вакуумная камера 1 откачивается системой высоковакуумной откачки до давления 1˙10-3 Па и затем в нее производится напуск азота до давления 1˙10-1 Па. При проведении процесса азотирования экран 13 перекрывает катод 2 от изделий 8. Пластины экрана сдвинуты. Для проведения процесса азотирования необходимо прогреть изделия до рабочей температуры и затем выдержать при этой температуре в течение определенного времени, задаваемого техпроцессом. Прогрев изделия в среде азотной плазмы до рабочей температуры осуществляется электронами двухступенчатого вакуумно-дугового разряда (ДВДР). ДВДР возбуждается между катодом 2 электродугового испарителя и катодом 4 электродугового испарителя, расположенным напротив катода 2 и который при возбуждении ДВДР является анодом. При возбуждении ДВДР реверсивный переключатель 11 находится в положении А. В этом положении положительный полюс источника 7 питания подключен к переключателю двухполюсного ключа 12, а отрицательный - к вакуумной камере ДВДР с помощью ключа 12 может быть подключен либо к катоду 4, либо к токоподводу 10 держателя 9 изделий. При прогреве изделий ключ 12 находится в положении В (разряд возбуждается между катодом 2 и изделием 8). ДВДР в пространстве вакуумной камеры образует два разнородных в физическом отношении пространства: пространство между катодом 2 и экраном 13 заполнено металлогазовой плазмой и пространство между экраном и остальной областью вакуумной камеры заполнено чисто газовой плазмой, поскольку ионы металла, двигающиеся от катода по прямолинейным траекториям, в "заэкранное" пространство не попадают. При подаче положительного потенциала от источника 7 электроны азотной плазмы ДВДР бомбардируют поверхность изделия и прогревают ее. При прогреве изделий электронным ударом растравливание поверхности изделия не происходит. Когда температура изделий достигнет рабочей, система контроля температуры (оптический пирометр на чертеже не показан) переключает ключ 12 в положение Г. При этом разряд переходит с изделий 8 на электрод 4. В то же время изделия находятся в азотной плазме. После достижения рабочей температуры начинается процесс изотермической выдержки, в течение которого азот диффундирует в поверхностный слой изделия, насыщая ее. Процесс стимулируется атомами атомарного азота, возникающими в положительном столбе плазмы ДВДР, Поддержание температуры производится переключением ключа 12 из положения В в Г и наоборот. После проведения процесса химико-термической обработки производится процесс нанесения упрочняющего покрытия (например, из нитрида титана). Для проведения этого процесса ключ 12 переводится в положение Г, реверсивный ключ 11 - в положение Б, а половины экрана 13 разводятся в разные стороны, открывая путь потоку металлической плазмы от катода 2 к изделиям 8, и включается также источник 6 питания, замыкается ключ 15 и включается источник 14. При проведении этих операций анод ДВДР 4 становится катодом электродугового испарителя, а на изделия 8 подается от источника 14 отрицательный потенциал.By proceeding in a comprehensive surface treatment tool (nitriding the surface layer and applying a wear-resistant coating), the
Проверку работоспособности предложенного технического решения проводили на модернизированной установке "Булат 6". В установке был изготовлен раздвигающийся экран 13 в виде двух полудисков из нержавеющей стали. В качестве реверсируемого ключа использовали два контактора. Переключение контактора не производилось под током. В качестве ключа 12 также использовали два контактора. Процессу комплексной поверхностной обработки в установке подвергались режущие пластины из ст. Р6М5.Пластины устанавливали на барабане, расположенном на столе вращения установки "Булат 6". Нагрев пластин электронами проводился при токе ДВДР 100 А и напряжении 80 В. Температура прогрева пластин 510оC. Время изотермической выдержки - 15 мин. Толщина азотированного слоя - 15 мкм. После азотирования проводилось нанесение слоя из нитрида титана толщиной 5 мкм. В процессе комплексной обработки повысилось качество нанесенного покрытия. Износостойкость режущих пластин, прошедших комплексную поверхностную обработку, при точении стали 40Х возросла по сравнению с необработанными пластинами в 7 раз, что в два раза выше, чем износостойкость пластин только с покрытием из нитрида титана.The performance check of the proposed technical solution was carried out on the upgraded installation "Bulat 6". In the installation, a sliding
Claims (1)
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU5002413 RU2022056C1 (en) | 1991-09-11 | 1991-09-11 | Coating application unit |
US08/146,043 US5503725A (en) | 1991-04-29 | 1992-04-23 | Method and device for treatment of products in gas-discharge plasma |
PCT/RU1992/000088 WO1992019785A1 (en) | 1991-04-29 | 1992-04-23 | Method and device for treatment of articles in gas-discharge plasma |
JP4511099A JPH06506986A (en) | 1991-04-29 | 1992-04-23 | Method and equipment for processing products in gas discharge plasma |
DE69227313T DE69227313T2 (en) | 1991-04-29 | 1992-04-23 | METHOD AND DEVICE FOR TREATING COMPONENTS IN A GAS DISCHARGE PLASMA |
EP92911913A EP0583473B1 (en) | 1991-04-29 | 1992-04-23 | Method and device for treatment of articles in gas-discharge plasma |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU5002413 RU2022056C1 (en) | 1991-09-11 | 1991-09-11 | Coating application unit |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2022056C1 true RU2022056C1 (en) | 1994-10-30 |
Family
ID=21585278
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU5002413 RU2022056C1 (en) | 1991-04-29 | 1991-09-11 | Coating application unit |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2022056C1 (en) |
-
1991
- 1991-09-11 RU SU5002413 patent/RU2022056C1/en active
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
1. Лахтин Ю.М. и др. Химико-термическая обработка металлов. М.: Металлургия, 1985, с.177-181. * |
2. Установка "Булат-6". Паспорт, Ф.-10000-02-ПС, 1984. * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5294322A (en) | Electric arc coating device having an additional ionization anode | |
JP4619464B2 (en) | Method and apparatus for treating a substrate with ions from a low voltage arc discharge | |
US5015493A (en) | Process and apparatus for coating conducting pieces using a pulsed glow discharge | |
US9812299B2 (en) | Apparatus and method for pretreating and coating bodies | |
US4478703A (en) | Sputtering system | |
CN109797363B (en) | Arc light electron source assisted ion nitriding process | |
JPH02285072A (en) | Coating of surface of workpiece and workpiece thereof | |
AU2006349512B2 (en) | Method and apparatus for manufacturing cleaned substrates or clean substrates which are further processed | |
Shugurov et al. | QUINTA equipment for ion-plasma modification of materials and products surface and vacuum arc plasma-assisted deposition of coatings | |
CN105200381A (en) | Anode field assisted magnetron sputtering coating apparatus | |
JP2001190948A (en) | Method and apparatus for plasma treatment of surface | |
CN110637103B (en) | Reactive sputtering apparatus and method for forming composite metal compound or mixed film using same | |
US6083356A (en) | Method and device for pre-treatment of substrates | |
RU2022056C1 (en) | Coating application unit | |
RU2311492C1 (en) | Device for high-speed magnetron sputtering | |
RU2026413C1 (en) | Method of heating of electric conducting products in working chamber | |
AU734117B2 (en) | Rotary apparatus for plasma immersion-assisted treament of substrates | |
KR20210105376A (en) | Electrode arrangement for a plasma source for performing plasma treatments | |
JPH11335832A (en) | Ion implantation and ion implantation device | |
RU2052538C1 (en) | Method for vacuum deposition of metallized coating on dielectric substrates | |
RU2060298C1 (en) | Plant for vacuum-plasma treatment of products in working gas medium | |
RU2453629C2 (en) | Complex ion-plasma processing unit | |
RU2037561C1 (en) | Apparatus for surface strengthening by treatment | |
RU2423754C2 (en) | Method and device to manufacture cleaned substrates or pure substrates exposed to additional treatment | |
Zimmermann et al. | Gas Discharge Electron Sources–Powerful Tools for Thin-Film Technologies |