Claims (10)
1. Устройство для плазменной обработки для проведения плазменного диэлектрического барьерного разряда на подлежащей обработке поверхности, содержащее плоский электродный блок (4), имеющий сторону обработки, и управляющий блок (11), который на по меньшей мере один электрод (19) электродного блока (4) подает высоковольтный переменный потенциал для мощности, необходимой для получения плазмы между упомянутым по меньшей мере одним электродом (19) и противоэлектродом, образующим опорный потенциал, причем упомянутый по меньшей мере один электрод (19), получающий упомянутый высоковольтный переменный потенциал, по меньшей мере со стороны обработки экранирован плоским диэлектриком (7), и причем плоский электродный блок выполнен с возможностью уменьшения размера своей поверхности прилегания к подлежащей обработке поверхности для корректировки под размеры подлежащей обработке поверхности, отличающееся тем, что управляющий блок (11) содержит устройство (14) для определения размера корректируемой поверхности прилегания и управляющее устройство для регулирования мощности, подаваемой на упомянутый по меньшей мере один электрод (19),в зависимости от установленного размера поверхности прилегания.1. A device for plasma treatment for conducting a plasma dielectric barrier discharge on the surface to be treated, containing a flat electrode block (4) having a treatment side, and a control block (11), which is on at least one electrode (19) of the electrode block (4 ) supplies a high voltage alternating potential for the power required to produce a plasma between said at least one electrode (19) and a counter electrode forming a reference potential, wherein said at least one electrode (19) receiving said high voltage alternating potential is at least co processing side is shielded with a flat dielectric (7), and moreover, the flat electrode block is made with the possibility of reducing the size of its contact surface to the surface to be processed to adjust for the dimensions of the surface to be processed, characterized in that the control unit (11) contains a device (14) for determining size adjusted for contact surfaces and a control device for regulating the power supplied to said at least one electrode (19), depending on the set size of the contact surface.
2. Устройство для плазменной обработки по п. 1, отличающееся тем, что плоский электродный блок (4) выполнен в виде полосы с по меньшей мере одним проходящим в продольном направлении между первым концом и вторым концом электродом заданной ширины, причем длина полосы определяет размер поверхности прилегания, и указанное устройство для определения размера поверхности прилегания содержит детектирующее устройство (14) для определения длины полосы.2. A device for plasma treatment according to claim 1, characterized in that the flat electrode block (4) is made in the form of a strip with at least one electrode of a given width extending in the longitudinal direction between the first end and the second end, and the length of the strip determines the size of the surface fit, and the specified device for determining the size of the fit surface contains a detecting device (14) to determine the length of the strip.
3. Устройство для плазменной обработки по п. 2, отличающееся тем, что детектирующее устройство (14) предназначено для определения длины полосы с помощью электрического испытательного сигнала, передаваемого на упомянутый по меньшей мере один электрод.3. Plasma treatment device according to claim 2, characterized in that the detection device (14) is designed to determine the length of the strip by means of an electrical test signal transmitted to said at least one electrode.
4. Устройство для плазменной обработки по п. 3, отличающееся тем, что электрод (19) выполнен с возможностью отражения на втором конце электрического испытательного сигнала, переданного на первый конец.4. Plasma treatment device according to claim 3, characterized in that the electrode (19) is configured to reflect at the second end the electrical test signal transmitted to the first end.
5. Устройство для плазменной обработки по п. 4, отличающееся тем, что детектирующее устройство (14) содержит частотный генератор, предназначенный для генерирования электрического испытательного сигнала, и регулирующее устройство для непрерывного регулирования частоты испытательного сигнала, и детектирующее устройство для определения амплитуды испытательного сигнала.5. Plasma processing device according to claim 4, characterized in that the detecting device (14) contains a frequency generator designed to generate an electrical test signal, and a control device for continuously adjusting the frequency of the test signal, and a detecting device for determining the amplitude of the test signal.
6. Устройство для плазменной обработки по п. 5, отличающееся тем, что генератор частоты предназначен для генерирования электрического испытательного сигнала в форме серии гармонических волн.6. Plasma treatment device according to claim 5, characterized in that the frequency generator is designed to generate an electrical test signal in the form of a series of harmonic waves.
7. Устройство для плазменной обработки по п. 1, отличающееся тем, что управляющий блок (11) имеет систему камер с по меньшей мере одной камерой (30) и устройство обработки информации для определения длины и/или площади электродного блока.7. Plasma treatment device according to claim 1, characterized in that the control unit (11) has a chamber system with at least one chamber (30) and an information processing device for determining the length and/or area of the electrode unit.
8. Устройство для плазменной обработки по п. 1, отличающееся тем, что электродный блок (4, 40) состоит из множества участков (5, 50) с электродами одинаковой конструкции, между которыми имеются линии (6) заданного разделения, так что уменьшение поверхности прилегания происходит путем отделения одного или нескольких участков (5, 50).8. The device for plasma treatment according to claim 1, characterized in that the electrode block (4, 40) consists of a plurality of sections (5, 50) with electrodes of the same design, between which there are lines (6) of a given separation, so that the reduction of the surface adhesion occurs by separating one or more sections (5, 50).
9. Устройство для плазменной обработки по п. 8, отличающееся тем, что участки (50) несут различные кодирования (22), для которых управляющий блок содержит считывающий детектор, и соединение электродного блока (4) с управляющим блоком (11) предусмотрено на участке (50), от которого были отделены один или несколько участков.9. The device for plasma treatment according to claim 8, characterized in that the sections (50) carry different codings (22), for which the control unit contains a reading detector, and the connection of the electrode unit (4) with the control unit (11) is provided in the section (50) from which one or more sections have been separated.
10. Способ корректировки размера поверхности прилегания имеющего сторону обработки плоского электродного блока (4) устройства для плазменной обработки для проведения плазменного диэлектрического барьерного разряда на подлежащей обработке поверхности под размеры подлежащей обработке поверхности, причем на упомянутый по меньшей мере один электрод(19) электродного блока (4) управляющим блоком (11) подается высоковольтный переменный потенциал для мощности, необходимой для получения плазмы между упомянутым по меньшей мере одним электродом (19) и противоэлектродом, образующим опорный потенциал, причем упомянутый по меньшей мере один электрод (19), получающий упомянутый высоковольтный переменный потенциал, по меньшей мере со стороны обработки экранирован плоским диэлектриком (7), и причем уменьшают поверхность прилегания электродного блока (4) для корректировки под размеры подлежащей обработке поверхности, отличающийся тем, что посредством управляющего блока (11) определяют размер уменьшенной поверхности и в соответствии с этим регулируют мощность, подаваемую на упомянутый по меньшей мере один электрод (19), в зависимости от установленного размера поверхности прилегания.10. A method for adjusting the size of the contact surface of the flat electrode block (4) of the device for plasma treatment for conducting a plasma dielectric barrier discharge on the surface to be treated to the dimensions of the surface to be treated, with at least one electrode (19) of the electrode block ( 4) the control unit (11) supplies a high-voltage alternating potential for the power necessary to obtain plasma between the said at least one electrode (19) and the counter electrode forming the reference potential, and the said at least one electrode (19) receiving the said high-voltage alternating potential, at least on the processing side, is shielded by a flat dielectric (7), and, moreover, the contact surface of the electrode block (4) is reduced to adjust for the dimensions of the surface to be processed, characterized in that the control block (11) determines the size of the reduced surface and, in accordance with this, regulate the power supplied to the said at least one electrode (19), depending on the set size of the contact surface.