RU2001106186A - Обработанные плазмой ленточные материалы - Google Patents
Обработанные плазмой ленточные материалы Download PDFInfo
- Publication number
- RU2001106186A RU2001106186A RU2001106186/02A RU2001106186A RU2001106186A RU 2001106186 A RU2001106186 A RU 2001106186A RU 2001106186/02 A RU2001106186/02 A RU 2001106186/02A RU 2001106186 A RU2001106186 A RU 2001106186A RU 2001106186 A RU2001106186 A RU 2001106186A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- plasma
- fact
- material according
- gas
- preceding paragraphs
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
- C23C8/36—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases using ionised gases, e.g. ionitriding
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12431—Foil or filament smaller than 6 mils
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31—Surface property or characteristic of web, sheet or block
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Chemical Or Physical Treatment Of Fibers (AREA)
- Printing Methods (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Claims (7)
1. Однородно обработанный атмосферной плазмой ленточный металлический материал с толщиной менее 100 мкм или ленточный полимерный материал, получающийся за счет того, что на поверхность материала воздействуют атмосферной плазмой, генерируемой с помощью струйного плазматрона, при необходимости, с подводом газа или аэрозоля.
2. Материал по п. 1, получающийся за счет того, что атмосферная плазма, воздействующая на материал, генерируется плазматроном с продольной плазменной камерой, которая охватывает в каскадном корпусе большое число электрически изолированных друг относительно друга нейтродов, причем электроды, необходимые для получения плазменного канала расположены коаксиально к продольной оси плазменной камеры, а выходное отверстие плазменного потока проходит параллельно продольной оси плазменной камеры.
3. Материал по одному из предыдущих пунктов, получающийся за счет того, что атмосферная плазма, воздействующая на материал, генерируется плазматроном, у которого, по меньшей мере, один нейтрод снабжен постоянной магнитной парой для влияния на форму и положение плазменной дуги.
4. Материал по одному из предыдущих пунктов, получающийся за счет того, что атмосферная плазма, воздействующая на материал, генерируется плазматроном, у которого, по меньшей мере, один нейтрод снабжен возможностью подвода газа в плазменную камеру.
5. Материал по одному из предыдущих пунктов, получающийся за счет того, что атмосферной плазмой воздействуют при подводе смеси из инертного газа и окисляющего газа и/или аэрозоля, полимеризующего газа и/или аэрозоля, или прививочного газа и/или аэрозоля.
6. Материал по одному из предыдущих пунктов, получающийся за счет того, что атмосферной плазмой, воздействуют на материал на расстоянии от 1 до 40 мм.
7. Материал по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что полимерные материалы являются пластмассовыми пленками, при необходимости напыленными металлом, окислом металла или SiOx.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10011274.9 | 2000-03-08 | ||
DE2000111274 DE10011274A1 (de) | 2000-03-08 | 2000-03-08 | Plasmabehandelte bahnförmige Werkstoffe |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2001106186A true RU2001106186A (ru) | 2003-03-27 |
Family
ID=7633969
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2001106186/02A RU2001106186A (ru) | 2000-03-08 | 2001-03-07 | Обработанные плазмой ленточные материалы |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20020018897A1 (ru) |
EP (1) | EP1132492A3 (ru) |
JP (1) | JP2001329083A (ru) |
BR (1) | BR0100936A (ru) |
CA (1) | CA2339675A1 (ru) |
DE (1) | DE10011274A1 (ru) |
MX (1) | MXPA01002048A (ru) |
NO (1) | NO20011153L (ru) |
PL (1) | PL346290A1 (ru) |
RU (1) | RU2001106186A (ru) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2807956B1 (fr) * | 2000-04-19 | 2003-10-24 | Nitruvid | Procede de traitement de surface d'une piece et piece obtenue |
DE10103463B4 (de) * | 2001-01-25 | 2009-10-08 | Thyssenkrupp Steel Ag | Verbundmaterial aus metallischen Substraten und Verfahren zur Herstellung und dessen Verwendung |
DE10146295A1 (de) * | 2001-09-19 | 2003-04-03 | Wipak Walsrode Gmbh & Co Kg | Verfahren zum Zusammenfügen von Materialien mittels atmosphärischen Plasma |
WO2005041328A1 (de) * | 2003-10-16 | 2005-05-06 | Future Carbon Gmbh | Verfahren und plasmatron zur herstellung eines modifizierten materials sowie entsprechend modifiziertes material |
US8575045B1 (en) * | 2004-06-10 | 2013-11-05 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Fiber modified with particulate through a coupling agent |
US7819981B2 (en) * | 2004-10-26 | 2010-10-26 | Advanced Technology Materials, Inc. | Methods for cleaning ion implanter components |
KR101241922B1 (ko) * | 2005-06-22 | 2013-03-11 | 어드밴스드 테크놀러지 머티리얼즈, 인코포레이티드 | 통합 가스 배합 장치 및 방법 |
TWI520905B (zh) | 2005-08-30 | 2016-02-11 | 安特格利斯公司 | 利用選擇性氟化硼前驅物之硼離子植入方法,及供植入用之大群氫化硼之形成方法 |
FR2922478B1 (fr) * | 2007-10-22 | 2014-12-12 | Arkema France | Procede de fabrication de stratifie polymere comportant une etape d'activation par traitement plasma |
WO2009102762A2 (en) | 2008-02-11 | 2009-08-20 | Sweeney Joseph D | Ion source cleaning in semiconductor processing systems |
US20110021011A1 (en) * | 2009-07-23 | 2011-01-27 | Advanced Technology Materials, Inc. | Carbon materials for carbon implantation |
US20120206689A1 (en) * | 2009-10-21 | 2012-08-16 | Mgc Filsheet Co., Ltd. | Functional sheet and lens using same |
US8598022B2 (en) | 2009-10-27 | 2013-12-03 | Advanced Technology Materials, Inc. | Isotopically-enriched boron-containing compounds, and methods of making and using same |
GB2495273B (en) | 2011-09-27 | 2014-08-13 | Innovia Films Ltd | Printable film |
JP2013144766A (ja) * | 2011-12-16 | 2013-07-25 | Meiritsu Component Kk | 表面改質剤 |
KR20140133571A (ko) | 2012-02-14 | 2014-11-19 | 어드밴스드 테크놀러지 머티리얼즈, 인코포레이티드 | 주입 빔 및 소스 수명 성능 개선을 위한 탄소 도판트 기체 및 동축류 |
DE102014222724A1 (de) * | 2014-11-06 | 2016-05-12 | Tesa Se | Plasmabehandlung von Release-Schichten |
DE102014222723A1 (de) * | 2014-11-06 | 2016-05-12 | Tesa Se | Verfahren zur indirekten Plasmabehandlung von Release-Schichten |
FR3043679B1 (fr) * | 2015-11-12 | 2021-07-23 | Aptar Stelmi Sas | Procede de traitement d'un element de conditionnement en elastomere, et element de conditionnement ainsi traite. |
DE102016000223A1 (de) | 2016-01-14 | 2017-07-20 | Reifenhäuser GmbH & Co. KG Maschinenfabrik | Verfahren und Anlage zum Herstellen eines Bahnförmigen oder Schlauchförmigen Werkstoffes sowie Werkstoff |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2674450B1 (fr) * | 1991-03-26 | 1994-01-21 | Agence Spatiale Europeenne | Procede pour deposer un revetement sur un substrat par projection au plasma, et dispositif pour la mise en óoeuvre du procede. |
US5759329A (en) * | 1992-01-06 | 1998-06-02 | Pilot Industries, Inc. | Fluoropolymer composite tube and method of preparation |
KR960702844A (ko) * | 1993-05-28 | 1996-05-23 | 앤 제이. 로버슨 | 중합체 물질을 대기압하에서 글로우 방전 플라즈마로 처리하는 방법 및 장치(nethod and apparatus for glow discharge plasma treatment of polymer materials at atmospheric pressure) |
GB9514224D0 (en) * | 1995-07-12 | 1995-09-13 | Vanderstraeten E Bvba | Process for the preparation of prostheses for skeletal reconstruction |
ATE185465T1 (de) * | 1996-12-23 | 1999-10-15 | Sulzer Metco Ag | Indirektes plasmatron |
DE19807086A1 (de) * | 1998-02-20 | 1999-08-26 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zum Beschichten von Oberflächen eines Substrates, Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens, Schichtsystem sowie beschichtetes Substrat |
JP2000063548A (ja) * | 1998-08-25 | 2000-02-29 | Konica Corp | プラスティック支持体の表面処理方法、磁気記録媒体及びハロゲン化銀写真感光材料 |
-
2000
- 2000-03-08 DE DE2000111274 patent/DE10011274A1/de not_active Withdrawn
-
2001
- 2001-02-23 EP EP20010103655 patent/EP1132492A3/de not_active Withdrawn
- 2001-02-26 MX MXPA01002048A patent/MXPA01002048A/es not_active Application Discontinuation
- 2001-03-01 JP JP2001056823A patent/JP2001329083A/ja active Pending
- 2001-03-06 CA CA 2339675 patent/CA2339675A1/en not_active Abandoned
- 2001-03-06 PL PL34629001A patent/PL346290A1/xx not_active Application Discontinuation
- 2001-03-06 US US09/800,370 patent/US20020018897A1/en not_active Abandoned
- 2001-03-07 RU RU2001106186/02A patent/RU2001106186A/ru not_active Application Discontinuation
- 2001-03-07 NO NO20011153A patent/NO20011153L/no unknown
- 2001-03-08 BR BR0100936A patent/BR0100936A/pt not_active Application Discontinuation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NO20011153L (no) | 2001-09-09 |
EP1132492A3 (de) | 2002-07-17 |
MXPA01002048A (es) | 2004-07-30 |
JP2001329083A (ja) | 2001-11-27 |
EP1132492A2 (de) | 2001-09-12 |
DE10011274A1 (de) | 2001-09-13 |
PL346290A1 (en) | 2001-09-10 |
CA2339675A1 (en) | 2001-09-08 |
NO20011153D0 (no) | 2001-03-07 |
BR0100936A (pt) | 2001-10-30 |
US20020018897A1 (en) | 2002-02-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2001106186A (ru) | Обработанные плазмой ленточные материалы | |
RU2001106185A (ru) | Способ активации поверхностей ленточных материалов | |
RU2001106187A (ru) | Применение непрямой атмосферной плазмы для обработки поверхности листового материала или нанесения покрытия, а также способ обработки поверхности листового материала или нанесения покрытия | |
USRE38358E1 (en) | Cold cathode ion beam deposition apparatus with segregated gas flow | |
JP4264475B2 (ja) | 磁気ミラープラズマ源 | |
US4946576A (en) | Apparatus for the application of thin layers to a substrate | |
Boxman et al. | Macroparticle contamination in cathodic arc coatings: generation, transport and control | |
KR102272311B1 (ko) | 중공형 음극 플라즈마 소스 | |
JP4953255B2 (ja) | プラズマ発生装置用ノズル、プラズマ発生装置、プラズマ表面処理装置、プラズマ発生方法およびプラズマ表面処理方法 | |
SE0102134L (sv) | Förfarande och anordning för att alstra plasma | |
JP2003019433A (ja) | 放電プラズマ処理装置及びそれを用いた処理方法 | |
GB2145741A (en) | Reactive vapour deposition operation | |
JP2009534797A (ja) | デュアルプラズマビーム源および方法 | |
ATE258092T1 (de) | Plasmareaktor zur herstellung von feinem pulver | |
ATE185465T1 (de) | Indirektes plasmatron | |
US6533908B1 (en) | Device and method for coating substrates in a vacuum utilizing an absorber electrode | |
JP2004514062A (ja) | チャンバー内の環境全体の制御を必要とする操作が達成される装置 | |
WO1999028520A3 (de) | Einrichtung zur behandlung von werkstücken in einem niederdruck-plasma | |
KR970062063A (ko) | 반투명 재료의 기판에 광학적으로 투명하고 전기 전도성을 갖는 층을 침착시키는 방법 | |
JPS59132623A (ja) | ドライエツチング用電極 | |
JP4570277B2 (ja) | 内表面処理プラスチックチューブ製造装置、及び該装置を用いた内表面処理プラスチックチューブの製造方法 | |
EP0801414A3 (en) | Gas-controlled arc vapor deposition apparatus and process | |
JPH03215671A (ja) | シートプラズマcvd法及び装置 | |
JPH05311384A (ja) | 薄膜合成アークジェット装置 | |
RU2075539C1 (ru) | Устройство для ионно-плазменного распыления материалов в вакууме |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FA93 | Acknowledgement of application withdrawn (no request for examination) |
Effective date: 20050111 |