NO751762L - - Google Patents
Info
- Publication number
- NO751762L NO751762L NO751762A NO751762A NO751762L NO 751762 L NO751762 L NO 751762L NO 751762 A NO751762 A NO 751762A NO 751762 A NO751762 A NO 751762A NO 751762 L NO751762 L NO 751762L
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- silicon carbide
- boron
- dispersion
- weight
- powder
- Prior art date
Links
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 20
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 17
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 13
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 10
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims description 9
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 7
- -1 silicon halide Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000007970 homogeneous dispersion Substances 0.000 claims description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 5
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 3
- 230000004913 activation Effects 0.000 claims description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims description 2
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 claims description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 3
- FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N trichloroborane Chemical compound ClB(Cl)Cl FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021431 alpha silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004035 construction material Substances 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 229910001338 liquidmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J12/00—Chemical processes in general for reacting gaseous media with gaseous media; Apparatus specially adapted therefor
- B01J12/002—Chemical processes in general for reacting gaseous media with gaseous media; Apparatus specially adapted therefor carried out in the plasma state
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
- C01B32/90—Carbides
- C01B32/914—Carbides of single elements
- C01B32/956—Silicon carbide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
- C01B32/90—Carbides
- C01B32/914—Carbides of single elements
- C01B32/956—Silicon carbide
- C01B32/963—Preparation from compounds containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/515—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
- C04B35/56—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on carbides or oxycarbides
- C04B35/565—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on carbides or oxycarbides based on silicon carbide
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0894—Processes carried out in the presence of a plasma
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/62—Submicrometer sized, i.e. from 0.1-1 micrometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/12—Surface area
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/60—Optical properties, e.g. expressed in CIELAB-values
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
Description
Siliciumcarbids kjemiske og fysiske egenskaper gjør at det er et utmerket materiale for byggedeler som utsettes for høye tempera-turer. Blant disse egenskaper kan nevnes en god. motstandsdyktighet overfor oxydasjon og korrosjon, en god varmeoverføringskoeffisient, en lav varmeekspansjonskoeffisient, en god motstandsdyktighet overfor varmesjokk og høy fasthet ved forhøyet, temperatur. Denne særpregede kombinasjon av egenskaper gjør s i1ic i urnea rb id til et naturlig valg som deler for gassturbiner, tilbakeslagsventiler for håndtering av korroderende væsker og flytende metaller, foringer for kulemøller, varmevekslere og ildfaste materialer for høytemperatur-ovner, pumper for sprøytestøpemaskiner og forbrenningsrør.
I søkernes norske patentsøknad nr. 74 2223, innlevert 19. juni 1974, er det beskrevet en ny fremgangsmåte for fremstilling av for-mede siliciumcarbidgjenstander hvor det anvendes en enkel, rimelig og vanlig formningsteknikk for keramiske gjenstander. Den nye fremgangsmåte er rettet på fremstilling av en tett keramisk, gjenstand av siliciumcarbid hvor det dannes en homogen dispersjon av et pulver med en partikkelstørrelse under 1 /^~- m og bestående i det vesentlige av siliciumcarbid, et borhoIdig tilsetn ingsniiddel og et carbonholdig tilsetningsmiddel. Dispersjonen formes deretter til en formet rågjenstand og sintres trykkfritt i en atmosfære med regulert sammensetning som er inert overfor siliciumcarbid, ved en temperatur på 1900~2100°C for fremstilling av en formet silicium-carbidg j enstand med en egenvekt på minst 8 5% av den teoretiske egenvekt. Det foretrukne produkt har en egenvekt på minst 98% av den teoretiske egenvekt. Det er egnet for anvendelse som kon-struksjonsmateriale for f.eks. høytemperaturgassturbinmotorer for luftfartøy^selvdrevende kjøretøy og elektrisk: kraftgenerering. Denne fremgangsmåte gjør det nu mulig å sintre den keramiske gjenstand inntil den får en høy egenvekt uten samt? dig å måtte an vone-e
trykk.
For å sette igang sintr.ingen av siliciumcarbid under trykk-frie betingelser må utgangsmaterialet være et oxygenfritt pulver med en partikkelstørrelse under l/^m og inneholdende homogent dispergerr. en effektiv mengde av et borhold.ig tilsetningsmiddel og carbon. Flere metoder lean anvendes for å innføre boret og carbonet i sil-iciumcarbidpulveret. Det er imidlertid vanskelig å oppnå en. for-deling når partiklene har en størrelse under l^ m, og en slik for-deling kan ikke oppnås ved hjelp av vanlig blanding av pulvere, delvis fordi carbon er sterkt tilbøyelig til å aggregere til klumper med stort volum. Et- annet krav er at pulveret skal inneholde bare det kubiske ^ -siliciumcarbid.
Oppfinnelsen angår et pulver med partikler med en størrelselander 1/.t._-m og som er i stand til å bli sintret til en silicium-carbidg j ens tand med en egenvekt på minst 9 5% av den teoretiske egenvekt for siliciumcarbid, og pulveret er særpreget ved at det i det vesentlige består av en homogen dispersjon av j$ -siliciumcarbid, 0,2-1,0 vekt% bor og 0,2-1,0 vekt% fritt carbon, idet dispersjonen utgjøres av ikke-aggregerte krystallitter dannet ved om-setning i dampfase.
Oppfinnelsen angår dessuten en fremgangsmåte for fremstilling av pulveret ifølge; oppfinnelsen, og fremgangsmåten er særpreget ved at
a) det tilveiebringes en plasmastrålereaksjonssone,
b) en damp av en blanding bestående i det vesentlige av et silicium-halogenid, et borhalogenid og hydrocarbon innføres i den ene ende
av reaksjonssonen med en slik hastighet at det i denne fås en
turbulent strøm,
c) en oppstrømsdel av reaksjonssonen holdes på en tilstrekkelig temperatur til at det fås en termisk ekssitering og ioniserende
aktivering av de reaktive komponenter, og
d) et materiale i det vesentlige bestående av en homogen dispersjon av /a-siliciumcarbid, 0,2-1,0 vekt% bor og 0,2-1,0 vekt% fritt
carbon utvinnes fra den annen ende av reaksjonssonen, idet dis-pers jonen er særpreget ved at den består av ikke-aggregerte krystall itter.
Den i den ene ende'av reaksjonssonen innførte dampblanding inneholder forbindelser av silicium og "bor, som siliciumhalo-genid, siian, alkylhalogensilan, borhalogenid eller bor etc.
Oppfinnelsen vil bli nærmere beskrevet i forbindelse med tegningen.
Utredninger og oversikter for plasmakjemi er gitt av
V.J. Iberson og medarbeidere i Industrial and Engineering Chemistry, 61, nr. 11, november 1969, s. 48-61, og av F.B. Vurzel og medarbeidere i Industrial and Engineering Chemistry, 62:, nr. 6, juni 1970, s. 8-22. I disse artikler er beskrevet kjemiske synteser og reaksjoner som forekommer i plasma med lav temperatur, dvs. en kvasinøytra1 gass som er særpreget ved en delvis eller fullstendig ionisering av gasser. Plasma kan typisk utvikles i likestrøms-eller vekselsstrømsplasmageneratorer, i en induksjonsplasmabrermer eller i en mikrobølgeplasmagenerator.
På tegningen er skjematisk vist en likestrømsplasmastråle-generator som er gunstig for anvendelse ved kjemisk syntetisering av det sintrerbare siliciumcarbidpulver ifølge oppfinnelsen. Ved denne? metode for plasmafremstilling frigjøres elektrisk energi ved hjelp av en elektrisk utladning i en plasmadannende gass, som argon, helium eller hydrogen. Katoden 12 kan være laget av wolfram, molybden, carbon el].er kobber (vannavkjølt) og kan være slik ut-formet at den plasmadannende gass tilføres rundt katoden 12 gjennom det konsentriske rør 14 og ledes inn i reaksjor;ssonen 20. Anoden 16 er laget av kobber og avkjøles med vann som strømmer gjennom kanaler 18. Reaksjonsgassblandingen innføres i reaksjonssonen 20 gjennom reaktantinnløpet 22 og injiseres tangensialt gjennom inn-løpsåpningen 2 4 under dannelse av en hvirvelstrøm. Gassene strøm-mer derefter gjennom et avkjølt munnstykke 26 som inneholder kjøle-vannskanaler 28, og strømmer ut gjennom utløpet 30. Reaksjonspro-duktene avkjøles derefter for utvinning av detønskede produkt.
Det er vanlig at bråkjøling er nødvendig for en plasmareaksjon,
men da siliciumcarbid er den mest stabile forbindelse innen systemet, er det ikke nødvendig med en hurtig avkjøling. Det meget findelte SiC er imidlertid ømfintlig overfor oxydasjon ved forhøyet temperatur, og reaksjonsproduktet må derfor beskyttes mot luft før det av-kjøles til værelsetemperatur.
Det finnes flere metoder for å fjerne varme fra gasser, som f.eks., ved å lede gassene gjennom en vannkjølt kanal, ved. å inn-føre ytterligere kald inert gass, ved å sprøyte inn en inert væske eller ved å lede gassene gjennom et. fluidisert skikt etc. Valget av den bent egnede teknikk vil hovedsakelig være avhengig av produk-
sjonsskalaen, dvs. av den varmemengde som skal fjernes.
En vannkjøit kanal av rustfritt, stål kombinert med utvinning av SiC-pulveret ved vasking av gassene med triklorethylen kan til-fredsstillende anvendes for en plasmastrålereaktor. Den varme som er igjen i gassene efter at disse har passert gjennom kanalen, fjernes ved hjelp av væsken som derved vil koke og fordampe og som senere kondenseres ved hjelp av vannavkjøling av gassutløpskanalen fra va s ke app a r a te t.
Reaksjonsgassblandingen inneholder flyktige silicium- og bor-forbindelser, som siliciumklorid eller -fluorid og bortrifluorid eller bortriklorid, sammen med et hydrocarbon, som toluen, og hydrogen som bærergass. Forholdene mellom disse reaktanter er slike at det efter reaksjonen vil fås en homogen dispersjon av
/^-siliciumcarbid inneholdende 0,2-1,0 vekt% bor og o,2-1,0 vekt% fritt carbon.
Eksempel 1 _
Ved anvendelse av i det vesentlige samme type likestrøms-plasmastrålereaktor som er vist på tegningen,- ble en oppløsning av siliciumtetraklorid, bortriklorid og toluen fremstilt med de føl-gende forholdsvise mengder av bestanddelene:
Bortriklorid som er en gass ved værelseternperatnr, ble satt til den flytende blanding av de andre bestanddeler mens blandingen ble avkjølt med tørris for å hindre tap på grunn av fordampning. Blandingen bie i en mengde av ca. 60 cm"/min innført gjennom et koaksialt munnstykke i en hydrogenstrøm på 3 2 l/min. Hydrogengassen ble forvarmet på oppstrømssiden til ca. 250°C for å fordampe alle væsker og for å danne en dampblanding. Denne gassblanding av reaktanter ble innført i reaksjonskammeret for plasmajetreaktoren med den på tegningen viste utformning og som ble drevet fylt med argon og med en krafttilførsel'på ca. 15 kw.
Det fra reaksjonsgassene utvundne produkt var et siliciumcarbidpulver mod partikler med en størrelse under 1/U.m og inneholdende ca. 0,4 vekt.% bor og 0,5 vekt% fritt carbon. Det erholdte
Claims (4)
1. Pulver med en partikkalstørrelse under 1 A--m og i stand tii å sintres til en siliciumcarbidgjenstand med en egenvekt på minst 95% av den teoretiske egenvekt for siliciumcarbid,
karakterisert ved at pulveret i det vesentlige består av en homogen dispersjon av $ -siliciumcarbidr 0,2-1,0 vekt-; bor og 0,2-1,0 vekt% fritt carbon, idet dispersjonen er særpreget ved at den består av ikke-aggregerte krystallitter dannet ved om-setning i dampfase.
2. Pulver ifølge krav 1, karakterisert ved at dispersjonen i det vesentlige består av /$-siliciumcarbid, ca.
0,4 vekt% bor og ca. 0,5 vekt% carbon.
3. Pulver ifølge krav 1. karakterisert ved at dispersjonen i det vesentlige består av ikke-aggregerte krystallitter med en gjennomsnittlig størrelse på ca. 0,2 >ra og et overflate-areal på over 5 m"'/g.
4. Fremgangsmåte ved fremstilling av et pulver ifølge krav 1-3, karakterisert ved . at
a) det tilveiebringes en plasmastrålereaksjonssone,
b) en damp av en blanding i det vesentlige bestående av et silicium-halogenid, et borhalogenid og hydrocarbon ledes i.nn i den ene ende av reaksjonssonen med en slik hastighet at det i denne fås e n t u r bu 1 e n t s t r øm,
c). en oppstrømsdel av reaks jonssonen holdes på en tilstrekkelig temperatur til at det fås en termisk ekssitering og ioniserende aktivering av de reaktive bestanddelerP pg
d) et materiale bestående i det vesentlige av en homogen dispersjon av / s -siliciumcarbid, 0,2-1,0 vekt% bor og 0,2-1,0 vekt% fritt carbon utvinnes fra denf innen ende; av reaks jonssonen, idet dispersjonen er særpreget ved at den består av ikke-aggregerte krystallitter.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US47130374A | 1974-05-20 | 1974-05-20 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NO751762L true NO751762L (no) | 1975-11-21 |
Family
ID=23871083
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NO751762A NO751762L (no) | 1974-05-20 | 1975-05-16 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS50160200A (no) |
DE (1) | DE2518950A1 (no) |
FR (1) | FR2272032A1 (no) |
NL (1) | NL7505601A (no) |
NO (1) | NO751762L (no) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4860015A (en) * | 1972-08-29 | 1989-08-22 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Delay line null command generator test set for sarcalm |
US4295890A (en) * | 1975-12-03 | 1981-10-20 | Ppg Industries, Inc. | Submicron beta silicon carbide powder and sintered articles of high density prepared therefrom |
JPS606908B2 (ja) * | 1977-08-04 | 1985-02-21 | 日本坩堝株式会社 | 硼素成分を含有する活性な炭化珪素質粉末の製造方法 |
DE2744636A1 (de) * | 1977-10-04 | 1979-05-17 | Wolfgang Dipl Ing Boecker | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von hochreinem siliciumcarbidpulver und seine verwendung |
JPS56500008A (no) * | 1978-12-21 | 1981-01-08 | ||
US4423303A (en) * | 1980-05-06 | 1983-12-27 | Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha | Apparatus for treating powdery materials utilizing microwave plasma |
US4529575A (en) * | 1982-08-27 | 1985-07-16 | Ibiden Kabushiki Kaisha | Process for producing ultrafine silicon carbide powder |
DE3687472T2 (de) * | 1985-04-04 | 1993-07-01 | Nippon Steel Corp | Verfahren zum erzeugen von siliciumkarbidteilchen und eines siliciumkarbidsinterkoerpers. |
US5080879A (en) * | 1988-12-01 | 1992-01-14 | Alcan International Limited | Process for producing silicon carbide platelets and the platelets so produced |
US5087592A (en) * | 1990-05-25 | 1992-02-11 | Alcan International Limited | Method of producing platelets of borides of refractory metals |
US5173283A (en) * | 1990-10-01 | 1992-12-22 | Alcan International Limited | Platelets for producing silicon carbide platelets and the platelets so-produced |
DE102008042499A1 (de) | 2008-09-30 | 2010-04-01 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von hochreinem Siliciumcarbid aus Kohlenhydraten und Siliciumoxid durch Kalzinierung |
-
1975
- 1975-04-29 DE DE19752518950 patent/DE2518950A1/de active Pending
- 1975-05-13 NL NL7505601A patent/NL7505601A/xx unknown
- 1975-05-16 NO NO751762A patent/NO751762L/no unknown
- 1975-05-20 JP JP50059325A patent/JPS50160200A/ja active Pending
- 1975-05-20 FR FR7515692A patent/FR2272032A1/fr active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2272032B1 (no) | 1977-04-15 |
DE2518950A1 (de) | 1975-12-04 |
JPS50160200A (no) | 1975-12-25 |
NL7505601A (nl) | 1975-11-24 |
FR2272032A1 (en) | 1975-12-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Yoshida et al. | The synthesis of ultrafine titanium nitride in an rf plasma | |
US5486675A (en) | Plasma production of ultra-fine ceramic carbides | |
Merzhanov et al. | Historical retrospective of SHS: An autoreview | |
NO751762L (no) | ||
Taylor et al. | Thermal plasma processing of materials: A review | |
Elagin et al. | Aluminum nitride. Preparation methods | |
Zhou et al. | A review on the methods of preparation of elemental boron | |
Trent et al. | Vapor deposition of pure ruthenium metal from ruthenocene | |
CN108529576A (zh) | 氮化硅及其制备方法 | |
CN102060538B (zh) | 利用高温旋转炉合成氮化硅粉末的方法 | |
Jin et al. | Effect of Si3N4 diluent on direct nitridation of silicon powder | |
Gitzhofer | Induction plasma synthesis of ultrafine SiC | |
Wang et al. | A facile pathway to prepare molybdenum boride powder from molybdenum and boron carbide | |
Akashi | Progress in thermal plasma deposition of alloys and ceramic fine particles | |
Li et al. | A facile route for the synthesis of high‐entropy transition carbides/borides at low temperatures | |
Guo et al. | Effects of process parameters on ultrafine SiC synthesis using induction plasmas | |
Wang et al. | Formation of MgO‐B4C Composite via aThermite‐Based Combustion Reaction | |
US3432330A (en) | Pyrolytic vacuum deposition from gases | |
Sohn et al. | The chemical vapor synthesis of inorganic nanopowders | |
Kana'an et al. | Chemical Reactions in Electric Discharges | |
Kalyoncu | BN powder synthesis at low temperatures | |
US3260571A (en) | Boron phosphides | |
WO2015022947A1 (ja) | 燃焼合成システム、反応生成物、物品、燃焼合成方法、発電システム、プラズマ発生装置および発電装置 | |
JPS58181707A (ja) | 窒化ほう素の製造法 | |
RU2648421C2 (ru) | Способ получения карбида бора плазмохимическим методом |