NO751762L - - Google Patents

Info

Publication number
NO751762L
NO751762L NO751762A NO751762A NO751762L NO 751762 L NO751762 L NO 751762L NO 751762 A NO751762 A NO 751762A NO 751762 A NO751762 A NO 751762A NO 751762 L NO751762 L NO 751762L
Authority
NO
Norway
Prior art keywords
silicon carbide
boron
dispersion
weight
powder
Prior art date
Application number
NO751762A
Other languages
English (en)
Inventor
S Prochazka
Original Assignee
Gen Electric
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Gen Electric filed Critical Gen Electric
Publication of NO751762L publication Critical patent/NO751762L/no

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J12/00Chemical processes in general for reacting gaseous media with gaseous media; Apparatus specially adapted therefor
    • B01J12/002Chemical processes in general for reacting gaseous media with gaseous media; Apparatus specially adapted therefor carried out in the plasma state
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B32/00Carbon; Compounds thereof
    • C01B32/90Carbides
    • C01B32/914Carbides of single elements
    • C01B32/956Silicon carbide
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B32/00Carbon; Compounds thereof
    • C01B32/90Carbides
    • C01B32/914Carbides of single elements
    • C01B32/956Silicon carbide
    • C01B32/963Preparation from compounds containing silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/515Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
    • C04B35/56Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on carbides or oxycarbides
    • C04B35/565Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on carbides or oxycarbides based on silicon carbide
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/08Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J2219/0894Processes carried out in the presence of a plasma
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/60Particles characterised by their size
    • C01P2004/62Submicrometer sized, i.e. from 0.1-1 micrometer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/12Surface area
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/60Optical properties, e.g. expressed in CIELAB-values

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)
  • Ceramic Products (AREA)

Description

Siliciumcarbids kjemiske og fysiske egenskaper gjør at det er et utmerket materiale for byggedeler som utsettes for høye tempera-turer. Blant disse egenskaper kan nevnes en god. motstandsdyktighet overfor oxydasjon og korrosjon, en god varmeoverføringskoeffisient, en lav varmeekspansjonskoeffisient, en god motstandsdyktighet overfor varmesjokk og høy fasthet ved forhøyet, temperatur. Denne særpregede kombinasjon av egenskaper gjør s i1ic i urnea rb id til et naturlig valg som deler for gassturbiner, tilbakeslagsventiler for håndtering av korroderende væsker og flytende metaller, foringer for kulemøller, varmevekslere og ildfaste materialer for høytemperatur-ovner, pumper for sprøytestøpemaskiner og forbrenningsrør.
I søkernes norske patentsøknad nr. 74 2223, innlevert 19. juni 1974, er det beskrevet en ny fremgangsmåte for fremstilling av for-mede siliciumcarbidgjenstander hvor det anvendes en enkel, rimelig og vanlig formningsteknikk for keramiske gjenstander. Den nye fremgangsmåte er rettet på fremstilling av en tett keramisk, gjenstand av siliciumcarbid hvor det dannes en homogen dispersjon av et pulver med en partikkelstørrelse under 1 /^~- m og bestående i det vesentlige av siliciumcarbid, et borhoIdig tilsetn ingsniiddel og et carbonholdig tilsetningsmiddel. Dispersjonen formes deretter til en formet rågjenstand og sintres trykkfritt i en atmosfære med regulert sammensetning som er inert overfor siliciumcarbid, ved en temperatur på 1900~2100°C for fremstilling av en formet silicium-carbidg j enstand med en egenvekt på minst 8 5% av den teoretiske egenvekt. Det foretrukne produkt har en egenvekt på minst 98% av den teoretiske egenvekt. Det er egnet for anvendelse som kon-struksjonsmateriale for f.eks. høytemperaturgassturbinmotorer for luftfartøy^selvdrevende kjøretøy og elektrisk: kraftgenerering. Denne fremgangsmåte gjør det nu mulig å sintre den keramiske gjenstand inntil den får en høy egenvekt uten samt? dig å måtte an vone-e
trykk.
For å sette igang sintr.ingen av siliciumcarbid under trykk-frie betingelser må utgangsmaterialet være et oxygenfritt pulver med en partikkelstørrelse under l/^m og inneholdende homogent dispergerr. en effektiv mengde av et borhold.ig tilsetningsmiddel og carbon. Flere metoder lean anvendes for å innføre boret og carbonet i sil-iciumcarbidpulveret. Det er imidlertid vanskelig å oppnå en. for-deling når partiklene har en størrelse under l^ m, og en slik for-deling kan ikke oppnås ved hjelp av vanlig blanding av pulvere, delvis fordi carbon er sterkt tilbøyelig til å aggregere til klumper med stort volum. Et- annet krav er at pulveret skal inneholde bare det kubiske ^ -siliciumcarbid.
Oppfinnelsen angår et pulver med partikler med en størrelselander 1/.t._-m og som er i stand til å bli sintret til en silicium-carbidg j ens tand med en egenvekt på minst 9 5% av den teoretiske egenvekt for siliciumcarbid, og pulveret er særpreget ved at det i det vesentlige består av en homogen dispersjon av j$ -siliciumcarbid, 0,2-1,0 vekt% bor og 0,2-1,0 vekt% fritt carbon, idet dispersjonen utgjøres av ikke-aggregerte krystallitter dannet ved om-setning i dampfase.
Oppfinnelsen angår dessuten en fremgangsmåte for fremstilling av pulveret ifølge; oppfinnelsen, og fremgangsmåten er særpreget ved at
a) det tilveiebringes en plasmastrålereaksjonssone,
b) en damp av en blanding bestående i det vesentlige av et silicium-halogenid, et borhalogenid og hydrocarbon innføres i den ene ende
av reaksjonssonen med en slik hastighet at det i denne fås en
turbulent strøm,
c) en oppstrømsdel av reaksjonssonen holdes på en tilstrekkelig temperatur til at det fås en termisk ekssitering og ioniserende
aktivering av de reaktive komponenter, og
d) et materiale i det vesentlige bestående av en homogen dispersjon av /a-siliciumcarbid, 0,2-1,0 vekt% bor og 0,2-1,0 vekt% fritt
carbon utvinnes fra den annen ende av reaksjonssonen, idet dis-pers jonen er særpreget ved at den består av ikke-aggregerte krystall itter.
Den i den ene ende'av reaksjonssonen innførte dampblanding inneholder forbindelser av silicium og "bor, som siliciumhalo-genid, siian, alkylhalogensilan, borhalogenid eller bor etc.
Oppfinnelsen vil bli nærmere beskrevet i forbindelse med tegningen.
Utredninger og oversikter for plasmakjemi er gitt av
V.J. Iberson og medarbeidere i Industrial and Engineering Chemistry, 61, nr. 11, november 1969, s. 48-61, og av F.B. Vurzel og medarbeidere i Industrial and Engineering Chemistry, 62:, nr. 6, juni 1970, s. 8-22. I disse artikler er beskrevet kjemiske synteser og reaksjoner som forekommer i plasma med lav temperatur, dvs. en kvasinøytra1 gass som er særpreget ved en delvis eller fullstendig ionisering av gasser. Plasma kan typisk utvikles i likestrøms-eller vekselsstrømsplasmageneratorer, i en induksjonsplasmabrermer eller i en mikrobølgeplasmagenerator.
På tegningen er skjematisk vist en likestrømsplasmastråle-generator som er gunstig for anvendelse ved kjemisk syntetisering av det sintrerbare siliciumcarbidpulver ifølge oppfinnelsen. Ved denne? metode for plasmafremstilling frigjøres elektrisk energi ved hjelp av en elektrisk utladning i en plasmadannende gass, som argon, helium eller hydrogen. Katoden 12 kan være laget av wolfram, molybden, carbon el].er kobber (vannavkjølt) og kan være slik ut-formet at den plasmadannende gass tilføres rundt katoden 12 gjennom det konsentriske rør 14 og ledes inn i reaksjor;ssonen 20. Anoden 16 er laget av kobber og avkjøles med vann som strømmer gjennom kanaler 18. Reaksjonsgassblandingen innføres i reaksjonssonen 20 gjennom reaktantinnløpet 22 og injiseres tangensialt gjennom inn-løpsåpningen 2 4 under dannelse av en hvirvelstrøm. Gassene strøm-mer derefter gjennom et avkjølt munnstykke 26 som inneholder kjøle-vannskanaler 28, og strømmer ut gjennom utløpet 30. Reaksjonspro-duktene avkjøles derefter for utvinning av detønskede produkt.
Det er vanlig at bråkjøling er nødvendig for en plasmareaksjon,
men da siliciumcarbid er den mest stabile forbindelse innen systemet, er det ikke nødvendig med en hurtig avkjøling. Det meget findelte SiC er imidlertid ømfintlig overfor oxydasjon ved forhøyet temperatur, og reaksjonsproduktet må derfor beskyttes mot luft før det av-kjøles til værelsetemperatur.
Det finnes flere metoder for å fjerne varme fra gasser, som f.eks., ved å lede gassene gjennom en vannkjølt kanal, ved. å inn-føre ytterligere kald inert gass, ved å sprøyte inn en inert væske eller ved å lede gassene gjennom et. fluidisert skikt etc. Valget av den bent egnede teknikk vil hovedsakelig være avhengig av produk-
sjonsskalaen, dvs. av den varmemengde som skal fjernes.
En vannkjøit kanal av rustfritt, stål kombinert med utvinning av SiC-pulveret ved vasking av gassene med triklorethylen kan til-fredsstillende anvendes for en plasmastrålereaktor. Den varme som er igjen i gassene efter at disse har passert gjennom kanalen, fjernes ved hjelp av væsken som derved vil koke og fordampe og som senere kondenseres ved hjelp av vannavkjøling av gassutløpskanalen fra va s ke app a r a te t.
Reaksjonsgassblandingen inneholder flyktige silicium- og bor-forbindelser, som siliciumklorid eller -fluorid og bortrifluorid eller bortriklorid, sammen med et hydrocarbon, som toluen, og hydrogen som bærergass. Forholdene mellom disse reaktanter er slike at det efter reaksjonen vil fås en homogen dispersjon av
/^-siliciumcarbid inneholdende 0,2-1,0 vekt% bor og o,2-1,0 vekt% fritt carbon.
Eksempel 1 _
Ved anvendelse av i det vesentlige samme type likestrøms-plasmastrålereaktor som er vist på tegningen,- ble en oppløsning av siliciumtetraklorid, bortriklorid og toluen fremstilt med de føl-gende forholdsvise mengder av bestanddelene:
Bortriklorid som er en gass ved værelseternperatnr, ble satt til den flytende blanding av de andre bestanddeler mens blandingen ble avkjølt med tørris for å hindre tap på grunn av fordampning. Blandingen bie i en mengde av ca. 60 cm"/min innført gjennom et koaksialt munnstykke i en hydrogenstrøm på 3 2 l/min. Hydrogengassen ble forvarmet på oppstrømssiden til ca. 250°C for å fordampe alle væsker og for å danne en dampblanding. Denne gassblanding av reaktanter ble innført i reaksjonskammeret for plasmajetreaktoren med den på tegningen viste utformning og som ble drevet fylt med argon og med en krafttilførsel'på ca. 15 kw.
Det fra reaksjonsgassene utvundne produkt var et siliciumcarbidpulver mod partikler med en størrelse under 1/U.m og inneholdende ca. 0,4 vekt.% bor og 0,5 vekt% fritt carbon. Det erholdte

Claims (4)

1. Pulver med en partikkalstørrelse under 1 A--m og i stand tii å sintres til en siliciumcarbidgjenstand med en egenvekt på minst 95% av den teoretiske egenvekt for siliciumcarbid, karakterisert ved at pulveret i det vesentlige består av en homogen dispersjon av $ -siliciumcarbidr 0,2-1,0 vekt-; bor og 0,2-1,0 vekt% fritt carbon, idet dispersjonen er særpreget ved at den består av ikke-aggregerte krystallitter dannet ved om-setning i dampfase.
2. Pulver ifølge krav 1, karakterisert ved at dispersjonen i det vesentlige består av /$-siliciumcarbid, ca.
0,4 vekt% bor og ca. 0,5 vekt% carbon.
3. Pulver ifølge krav 1. karakterisert ved at dispersjonen i det vesentlige består av ikke-aggregerte krystallitter med en gjennomsnittlig størrelse på ca. 0,2 >ra og et overflate-areal på over 5 m"'/g.
4. Fremgangsmåte ved fremstilling av et pulver ifølge krav 1-3, karakterisert ved . at a) det tilveiebringes en plasmastrålereaksjonssone, b) en damp av en blanding i det vesentlige bestående av et silicium-halogenid, et borhalogenid og hydrocarbon ledes i.nn i den ene ende av reaksjonssonen med en slik hastighet at det i denne fås e n t u r bu 1 e n t s t r øm, c). en oppstrømsdel av reaks jonssonen holdes på en tilstrekkelig temperatur til at det fås en termisk ekssitering og ioniserende aktivering av de reaktive bestanddelerP pg d) et materiale bestående i det vesentlige av en homogen dispersjon av / s -siliciumcarbid, 0,2-1,0 vekt% bor og 0,2-1,0 vekt% fritt carbon utvinnes fra denf innen ende; av reaks jonssonen, idet dispersjonen er særpreget ved at den består av ikke-aggregerte krystallitter.
NO751762A 1974-05-20 1975-05-16 NO751762L (no)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US47130374A 1974-05-20 1974-05-20

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NO751762L true NO751762L (no) 1975-11-21

Family

ID=23871083

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NO751762A NO751762L (no) 1974-05-20 1975-05-16

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JPS50160200A (no)
DE (1) DE2518950A1 (no)
FR (1) FR2272032A1 (no)
NL (1) NL7505601A (no)
NO (1) NO751762L (no)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4860015A (en) * 1972-08-29 1989-08-22 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Delay line null command generator test set for sarcalm
US4295890A (en) * 1975-12-03 1981-10-20 Ppg Industries, Inc. Submicron beta silicon carbide powder and sintered articles of high density prepared therefrom
JPS606908B2 (ja) * 1977-08-04 1985-02-21 日本坩堝株式会社 硼素成分を含有する活性な炭化珪素質粉末の製造方法
DE2744636A1 (de) * 1977-10-04 1979-05-17 Wolfgang Dipl Ing Boecker Verfahren und vorrichtung zur herstellung von hochreinem siliciumcarbidpulver und seine verwendung
JPS56500008A (no) * 1978-12-21 1981-01-08
US4423303A (en) * 1980-05-06 1983-12-27 Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha Apparatus for treating powdery materials utilizing microwave plasma
US4529575A (en) * 1982-08-27 1985-07-16 Ibiden Kabushiki Kaisha Process for producing ultrafine silicon carbide powder
DE3687472T2 (de) * 1985-04-04 1993-07-01 Nippon Steel Corp Verfahren zum erzeugen von siliciumkarbidteilchen und eines siliciumkarbidsinterkoerpers.
US5080879A (en) * 1988-12-01 1992-01-14 Alcan International Limited Process for producing silicon carbide platelets and the platelets so produced
US5087592A (en) * 1990-05-25 1992-02-11 Alcan International Limited Method of producing platelets of borides of refractory metals
US5173283A (en) * 1990-10-01 1992-12-22 Alcan International Limited Platelets for producing silicon carbide platelets and the platelets so-produced
DE102008042499A1 (de) 2008-09-30 2010-04-01 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur Herstellung von hochreinem Siliciumcarbid aus Kohlenhydraten und Siliciumoxid durch Kalzinierung

Also Published As

Publication number Publication date
FR2272032B1 (no) 1977-04-15
DE2518950A1 (de) 1975-12-04
JPS50160200A (no) 1975-12-25
NL7505601A (nl) 1975-11-24
FR2272032A1 (en) 1975-12-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Yoshida et al. The synthesis of ultrafine titanium nitride in an rf plasma
US5486675A (en) Plasma production of ultra-fine ceramic carbides
Merzhanov et al. Historical retrospective of SHS: An autoreview
NO751762L (no)
Taylor et al. Thermal plasma processing of materials: A review
Elagin et al. Aluminum nitride. Preparation methods
Zhou et al. A review on the methods of preparation of elemental boron
Trent et al. Vapor deposition of pure ruthenium metal from ruthenocene
CN108529576A (zh) 氮化硅及其制备方法
CN102060538B (zh) 利用高温旋转炉合成氮化硅粉末的方法
Jin et al. Effect of Si3N4 diluent on direct nitridation of silicon powder
Gitzhofer Induction plasma synthesis of ultrafine SiC
Wang et al. A facile pathway to prepare molybdenum boride powder from molybdenum and boron carbide
Akashi Progress in thermal plasma deposition of alloys and ceramic fine particles
Li et al. A facile route for the synthesis of high‐entropy transition carbides/borides at low temperatures
Guo et al. Effects of process parameters on ultrafine SiC synthesis using induction plasmas
Wang et al. Formation of MgO‐B4C Composite via aThermite‐Based Combustion Reaction
US3432330A (en) Pyrolytic vacuum deposition from gases
Sohn et al. The chemical vapor synthesis of inorganic nanopowders
Kana'an et al. Chemical Reactions in Electric Discharges
Kalyoncu BN powder synthesis at low temperatures
US3260571A (en) Boron phosphides
WO2015022947A1 (ja) 燃焼合成システム、反応生成物、物品、燃焼合成方法、発電システム、プラズマ発生装置および発電装置
JPS58181707A (ja) 窒化ほう素の製造法
RU2648421C2 (ru) Способ получения карбида бора плазмохимическим методом