NO318981B1 - Hydroksyfenyltriaziner - Google Patents

Hydroksyfenyltriaziner Download PDF

Info

Publication number
NO318981B1
NO318981B1 NO19975305A NO975305A NO318981B1 NO 318981 B1 NO318981 B1 NO 318981B1 NO 19975305 A NO19975305 A NO 19975305A NO 975305 A NO975305 A NO 975305A NO 318981 B1 NO318981 B1 NO 318981B1
Authority
NO
Norway
Prior art keywords
alkyl
phenyl
substituted
formula
alkenyl
Prior art date
Application number
NO19975305A
Other languages
English (en)
Other versions
NO975305L (no
NO975305D0 (no
Inventor
Gerhard Rytz
Dietmar Hueglin
Vien Van Toan
Helmut Luther
Christophe Bulliard
Original Assignee
Ciba Sc Holding Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ciba Sc Holding Ag filed Critical Ciba Sc Holding Ag
Publication of NO975305D0 publication Critical patent/NO975305D0/no
Publication of NO975305L publication Critical patent/NO975305L/no
Publication of NO318981B1 publication Critical patent/NO318981B1/no

Links

Classifications

    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61QSPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
    • A61Q17/00Barrier preparations; Preparations brought into direct contact with the skin for affording protection against external influences, e.g. sunlight, X-rays or other harmful rays, corrosive materials, bacteria or insect stings
    • A61Q17/04Topical preparations for affording protection against sunlight or other radiation; Topical sun tanning preparations
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61KPREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • A61K8/30Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
    • A61K8/49Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds
    • A61K8/494Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds with more than one nitrogen as the only hetero atom
    • A61K8/4966Triazines or their condensed derivatives
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D251/00Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
    • C07D251/02Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
    • C07D251/12Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D251/14Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrogen or carbon atoms directly attached to at least one ring carbon atom
    • C07D251/24Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrogen or carbon atoms directly attached to at least one ring carbon atom to three ring carbon atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K15/00Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change
    • C09K15/04Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change containing organic compounds
    • C09K15/30Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change containing organic compounds containing heterocyclic ring with at least one nitrogen atom as ring member
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/76Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/815Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by means for filtering or absorbing ultraviolet light, e.g. optical bleaching
    • G03C1/8155Organic compounds therefor

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Dermatology (AREA)
  • Birds (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Cosmetics (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
  • Nitrogen- Or Sulfur-Containing Heterocyclic Ring Compounds With Rings Of Six Or More Members (AREA)
  • Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)

Description

Foreliggende oppfinnelse vedrører nye forbindelser av hydroksyfenyl-s-triazintypen inneholdende en blokkert og 2 frie o-hydroksylgrupper, sammensetninger inneholdende disse som stabiliserende midler, fremgangsmåte for stabilisering, anvendelse av forbindelsene, kosmetiske preparater inneholdende disse, fremgangsmåte for behandling av menneskelig hår samt mellomprodukter.
Når det er ønsket å øke stabiliteten av et organisk materiale, spesielt et belegg, mot lys,
er det vanlig å tilsette en lysstabilisator. En meget ofte anvendt klasse av lysstabilisatorer er UV-absorbsjonsmidler som beskytter materialet ved absorbsjon av skadelig stråling via kromoforer. En viktig gruppe av UV-absorbsjonsmidler er trifenyl-s-triazinene som er beskrevet blant annet i publikasjonene US-A-3 118 887, US-A-3 242 175, US-A-3 244 708, GB-A-1 321 561, EP-A-0 434 608, US-A-4 619 956, US-A-5 364 749, US-A-5 461 151, EP-A-0 704 437 og WO-96/28431.
Kjent er også individuelle forbindelser av hydroksyfenyl-s-triazin-typen, hvori noen eller alle hydroksylgruppene i ortoposisjon er blokkerte (US-3 113 940, US-3 113 941, US-3 113 942, GB-A-975 966, US-A-3 249 608, US-A-5597854, WO-94/05645).
Spesifikke forbindelser fra klassen av trisaryl-s-triaziner er nå funnet som overraskende har spesielt gode stabiliseringsmiddelegenskaper.
Foreliggende oppfinnelse tilveiebringer følgelig en forbindelse, kjennetegnet ved formel
I
hvori
Ri er Ci-Cib alkyl; Cs-Ci2cykloalkyI; C3-Cigalkenyl; fenyl; Ci-Cigalkyl som er substituert med fenyl, OH, Cj-Cigalkoksy, Cs-C^cykloalkosky, C3-C]galkenoksy, halogen, -COOH, -COOR4, -O-CO-R5, -O-CO-O-Rs, -CO-NH2, -CO-NHR7, -CO-N(R7)(R8), CN, NH2, NHR7, -N(R7)(R8, -NH-CO-R5, fenoksy, C]-Ci8alkylsubstituert fenoksy, fenyl-Ci-Cijbicykloalkoksy, Cg-Cisbicykloalkyloksy, C6-C15-bicykloalkenylalkoksy, eller Ce-Cistricykloalkoksy, C5-C12 cykloalky som er substituert med OH, C]-C4alkyl, CrC6alkenyl eller -0-CO-R5; -CO-R9 eller -SO2-Ri0 eller R| er C3-C5oalkyl som er avbrutt ved ett eller flere oksygenatomer og/eller substituert med OH, fenoksy eller C7-Ci8alkylfenoksy;
eller Rj er en av definisjonene -A; -CH2-CH(XA)-CH2-0-Ri2; -CRi3R'i3-(CH2)m-X-A;
-CH2-CH(OA)-R14; -CH2-CH(OH)-CH2-XA; -CR^R^-C^CH^-R"^; -CR13R'13-(CH2)m-C0-X-A; -CR, 3R' 13-(CH2)m-CO-0-CRi5R',5-C(=CH2)R'' 1 s eller -CO-O-CRi5R' 15-C(=CH2)-R"i5, hvor A er -CO-CRi6=CH-Ri7; restene
R2 er uavhengig av hverandre, Ce-Cigalkyl; C2-Cealkenyl; fenyl; C7-Cnfenylalkyl; COOR4; CN; NH-CO-R5; halogen; trifluormetyl; -0-R3;
R3 omfatter definisjonene for Ri;
R4 er Ci-Cigalkyl; C3-Cigalkenyl; fenyl; C7-Cnfenylalky; Cs-Ci2cykloalkyl; eller er C3-C5oalkyl, som er avbrutt av en eller flere -0-, -NH-, -NR7-, -S- og kan være substituert med OH, fenoksy eller C7-Cigalkylfenoksy;
R5 er H; C|-C|galkyl; C2-Ci8alkenyl; C5-C,2cykloalkyl; fenyl; C7-Cnfenylalkyl; C6-Ci5bicykloalkyl; Cg-Cis bicykloalkyl; Ce-Cistricykloalkyl;
Ré er H; Ci-Ci8alkyl; C3-Ci8alkenyl; fenyl; C7-Cufenylalkyl; C5-Ci2cykloalkyl; R7 og Rg er uavhengig av hverandre Ci-Ci2alkyl; C3-Ci2alkoksyalkyl; C4-Ci6dialkylaminoalkyl; eller er Cs-C|2 cykloalkyl; eller er sammen C3-C9alkylen, C3-C9oksalkylen eller C3-C9azaalkylen;
R9 er Ci-Cigalkyl; C2-C]galkenyl; fenyl, C5-Ci2cykloalkyl; C7-Cnfenylalkyl, C6-C15bicykloaIksyl, C6-Ci5bicykloalkylaIky; Ce-Cijbicykloalkenyl eller Cfi-Ctstricykloalkyl;
Rio er Ci-Ci2alkyl; fenyl; naftyl eller C7-Ci4alkylfenyl;
restene Ru er uavhengige av hverandre H; Cj-Cjgalkyl; CrCealkenyl; fenyl; C7-CiifenylalkyJ; halogen; CpCigalkoksy;
Ri2 er Ci-Ci8alkyl, C3-Cigalkenyl; fenyl; fenyl som er substituert med en til tre rester Ci-Cgalkoksy, d-C8alkenoksy, halogen eller trifluormetyl; eller er C7-Cnfenylalkyl; C5-Ci2Cykloalkyl; Ce-Cjstricykloalkyl; Ce-Cijbicykloalkyl; Ce-Cisbicykloalkylalkyl; C<s-Ci5bicykloalkenylalkyl; -CO-R5; eller er C3-Csoalkyl som er avbrutt av en eller flere - O-, -NH-, -NR7, -S- og kan være substituert med OH, fenoksy eller C7-C(galkylfenoksy; Ro og R'13 er uavhengig av hverandre H; Ci-Cigalkyl; fenyl;
Rh er Ci-Cisalkyl; C3-Ci2alkoksyalkyl; fenyl; fenyl-Ci-C4alkyl;
R15, R'15 og R".i5 er uavhengig av hverandre H eller CH3;
R,6 er H; -CH2-COO-R4; Ci-Qalkyi; eller CN;
Rt7 er H; -COOR4; CrCi7alkyl; eller fenyl;
X er -NH-; NR7-; -O-; -NH-(CH2)P-NH; eller -0-(CH2)q-NH-;
og indeksene
mer et tall 0-19;
ner et tall 1-8;
p er et tall 0-4; og
q er et tall 2-4;
hvor minst en av restene Ri, R2 og Rn i formel I inneholder 2 eller flere karbonatomer.
Fortrinnsvis inneholder minst en av restene Ri, R2, Rn i formel I og i formel II3 eller flere karbonatomer, spesielt 4 eller flere karbonatomer.
Innenfor rammen av de angitte definisjonene er restene Ri til Rio, R12 til R14, Rie og R17 som alkyl forgrenet eller uforgrenet alkyl, for eksempel metyl, etyl, propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, isobutyl, tert-butyl, 2-etylbutyl, n-pentyl, isopentyl, 1-metylpentyl, 1,3-dimetylbutyl, n-heksyl, 1-metylheksyl, n-heptyl, isoheptyl, 1,1,3,3-tetrametylbutyl, 1-metylheptyl, 3-metylheptyl, n-oktyl, 2-etylheksyl, 1,1,3-trimetylheksyl, 1,1,3,3-tetrametylpentyl, nonyl, decyl, undecyl, 1-metylundecyl, dodecyl, 1,1,3,3,5,5-heksametylheksyl, tridecyl, tetradecyl, pentadecyl, heksadecyl, heptadecyl, oktadecyl.
Restene Ri, R3 til R9 og Rj2 som C5-Ci2-cykloalkyl innbefatter cyklopentyl, cyklohesyl, cykloheptyl, cyklooktyl, cyklononyl, cyklodecyl, cyklodecyl, cyklododecyl. Foretrukket er cykloepentyl, cykloheksyl, cyklooktyl og cyklododecyl.
Innenfor rammen av de angitte definisjonene omfatter Ri til Re, R9, Rio og Ri2 som alkenyl blant annet allyl, isopropenyl, 2-butenyl, 3-butenyl, isobutenyl, n-penta-2,4-dienyl, 3-metylbut-2-enyl, n-oct-2-enyl, n-dodec-2-enyl, isododecenyl, n-dodec-2-enyl eller n-oktadec-4-enyl.
Substituerte alkyl, cykloalkyl eller fenylrester kan være substituert en eller flere ganger og kan bære substituenter på det bindende karbonatomet (i a-stilling) eller på andre karbonatomer; dersom substituenten bindes ved hjelp av et heteroatom (for eksempel alkoksy) er den fortrinnsvis ikke i (i a-stilling) og den substituerte alkylresten inneholder 2, spesielt 3 eller flere karbonatomer. To eller flere substituenter bindes fortrinnsvis til forskjellige karbonatomer.
Allyl avbrutt med -0-, -NH-, -NR7-, -S- kan være avbrutt med en eller flere av disse gruppene, en gruppe er i hvert tilfelle innført, generelt i en binding, og hetero-hetero-bindinger, for eksempel 0-0, S-S, NH-NH, osv. ikke forekommende; dersom avbrutt alkyl i tillegg er substituert er substituentene generelt ikke a-stilt til heteroatomet. Dersom to eller flere avbrutte grupper av typen -O-, -NH-, NR7-, -S- forekommer i en rest er de vanligvis identiske.
Alkylfenyl og alkylfenoksy er henholdsvis alkyl-substituert fenyl og fenoksy.
En halogen substituent er -F-, -Cl, -Br eller -I; foretrukket er -F eller -Cl, spesielt -Cl.
Ci-C2oalkylen er for eksempel metylen, etylen, propylen, butylen, pentylen, heksylen, osv. Alkylkjeden kan her også være forgrenet, som for eksempel i isopropylen.
C4-Ci2cykloalkenyl er foreksempel 2-cyklobuten-l-yl, 2-cyklopenten-l-yl, 2,4-cyklopentadien-l-yl, 2-cykloheksen-l-yl, 2-cyklohepten-l-yl eller 2-cyklookten-l-yl.
C6-Ci5bicykloalkyl er for eksempel bomyl, norbornyl, [2,2,2]bicyklooktyl. Preferanse gis til bomyl og nobomyl, spesielt bornyl og nobom-2-yl.
Cfi-Cisbicykloalkoksy er for eksempel bornyloksy eller norborn-2-yloksy.
Ce-Cijbicykloalkyl-alkyl eller -alkoksy er bicykloalkyl-substituert alkyl eller alkoksy, hvor det samlede antallet karbonatomer er 6-15; eksempler er norboman-2-metyl og norbornyl-2-metoksy.
C6-Ci5bicykloalkenyl er for eksempel norbornenyl, norbornadienyl. Preferanse gis til norbornenyl, spesielt norborn-5-en.
Ce-Cisbicykloalkenyl og alkoksy er bicykloalkenyl substituert alkoksy, hvor det totale antallet karbonatomer er 6-15; et eksempel er norborn-5-en-2-metoksy.
C6-Ci5tricykloalkyl er for eksempel 1-adamantyl, 2-adamatyl. Foretrukket er 1-adamatyl.
C6-Ctstricykloalkoksy er for eksempel adamatyloksy.
C3-Ci2heteroaryl er for eksempel pyridinyl, pyrimidinyl, triazinyl, pyrrolyl, furanyl, tiofenyl eller quinolinyl.
Typiske forbindelser av formel I innbefatter de hvor
Ri er Ci-Cig alkyl; Cs-C^cykloalkyl; C3-Ci2alkenyl; fenyl; Ci-Cigalkyl som er substitubert med fenyl, OH, Ci-Cigalkoksy, Cs-C^cykloalkoksy, Cj-Cigalkenoksy, halogen, -COOH, -COOR4, -O-CO-R5, -O-CO-O-Re, -CO-NH2, -CO-NHR7, -CO-N(R7)(R8), CN, NH2, NHR7, -N(R7)(R8, -NH-CO-R5, fenoksy, Ci-Cigalkylsubstituert fenoksy, fenyl-C]-C4alkoksy, bornyloksy, norborn-2-yloksy, norbornyl-2-metoksy, norbom-5-en-2-metoksy, adamantyloksy; Cs-Ci2 cykloalky som er substituert med OH, Ci-C4alkyl, C2-C6alkenyl eller -O-CO-R5; glysidyl; -CO-R9 eller -SO2-R10 eller R, er C3-C5oalkyl som er avbrutt ved ett eller flere oksygenatomer og/eller substituert med OH, fenoksy eller C7-Cigalkylfenoksy;
eller R, er en av definisjonene -A; -CH2-CH(XA)-CH2-0-Ri2; -CRi3R'i3-(CH2)m-X-A;
-CH2-CH(OA)-R|4; -CH2-CH(OH)-CH2-XA; -CRi5R',5-C(=CH2)-R"I5; -CR,3R',3-(CH2)m-CO-X-A; -CRuR^j-CCH^-CO-O-CRisR^s-Ct^H^R"^ eller -CO-0-CRi5R'i5-C(=CH2)-R"is, hvor A er -CO-CRi6=CH-Ri7; restene
R2 er C6-Ci8alkyl; C2-C6alkenyl; fenyl; -0-R3 eller -NH-CO-R5 og restene
R3 omfatter uavhengig av hverandre definisjonene gitt for Ri;
R4 er C|-C|galkyl; C3-Cigalkenyl; fenyl; C7-Cnfenylalky; C5-Ci2cykloalkyl; eller er Cs-Csoalkyl, som er avbrutt av en eller flere -O-, -NH-, -NR7-, -S- og kan være substituert med OH, fenoksy eller C7-Cigalkylfenoksy;
R5 er H; Ci-Ci8alkyl; C2-Ci8alkenyl; C5-Ci2cykloalkyl; fenyl; C7-Cnfenylalkyl; norborn-2-yl; norbom-5-en-2-yl; adamantyl;
Re erH; Ci-C18alkyl; C3-Ci8alkenyl; fenyl; C7-Cnfenylalkyl; C5-Ci2cykloalkyl;
R7 og Rs er uavhengig av hverandre Ci-Ci2alkyl; C3-Ci2alkoksyalkyl; C4-Ci6dialkylaminoalkyl; eller er Cs-C^cykloalkyl; eller er sammen C3-C9alkylen, C3-Cgoksaalkylen eller C3-C9azaalkylen;
R9 er Ci-Ci8alkyl; C2-Cigalkenyl; fenyl, Cs-Ci2cykloalkyl; C7-Cufenylalkyl; norborn-2-yl; norborn-5-en-2-yl; adamantyl;
Rio er Ci-Ci2alkyl; fenyl; naftyl eller C7-Ci4alkylfenyl;
restene Ru er uavhengige av hverandre H; Ci-Cigalkyl; eller C7-Cnfenylalkyl;
Ri2 er Ci-C|galkyl, C3-Ci8alkenyl; fenyl; fenyl som er substituert med en til tre rester Ci-Cgalkyl; Ci-Cgalkoksy, C3-Cgalkenoksy, halogen eller trifluormetyl; eller er C7-Cnfenylalkyl;
C5-Ci2cykloalkyl; 1-adamantyl; 2-adamantyl; norbornyl; norbornaen-2-metyl; CO-R5; eller er C3-Csoalkyl som er avbrutt av en eller flere -O-, -NH-, -NR7, -S- og kan være substituert med OH, fenoksy eller C7-C|8alkylfenoksy;
R13 og R'i3 er uavhengig av hverandre H; Ci-Cigalkyl; fenyl;
R14 er Ci-Ci8alkyl; C3-Ci2alkoksyalkyl; fenyl; fenyl-C]-C4alkyl;
Ris, R'i5 og R"is er uavhengig av hverandre H eller CH3;
R16 er H; -CH2-COO-R4; C]-C4alkyl; eller CN;
Rn er H; -COOR4; Ci-C)7alkyl; eller fenyl;
X er -NH-; NR7-; -0-; -NH-(CH2)P-NH; eller -0-(CH2)q-NH-;
og indeksene
m er et tall 0-19;
ner et tall 1-8;
p er et tall 0-4; og
q er et tall 2-4;
spesielt de av formel II
hvori Ri, R2 og Rn er som definert ovenfor.
Blant forbindelsene av formel II foretrekkes de hvori restene R2 er identiske, spesielt de hvori restene R2 har definisjonen -O-R3, og spesielt de hvor R] 1 er H.
Forbindelser av formlene I eller II innbefattende en polymeriserbar dobbeltbinding, og av disse, spesielt de hvori Ri og/eller R3 er en rest -A; -CH2-CH(XA)-CH2-0-Ri2;
-CR13R',3-(CH2)m-X-A; -CH2-CH(OA)-R,4; -CH2-CH(OH)-CH2-XA; ■CRisR'is-C(-CH2)-R"l5; - CR,3R',3-(CH2)m-CO-X-A; -CR,3R',3-(CH2)m-CO-0-CR,5R'i5-C(=CH2)R'',5 eller -CO-0-CRi5R'i5-C(=CH2)-R"!5 eller Cs-C,2cykloalkyl som er substituert med C2-C6alkenyl, med OH og C2-C6alkenyl eller med -O-CO-R5, hvor R5 er C2-C3alkenyl og A er -CO-CR,6=CH-R,7, utgjør en gjenstand av spesiell interesse.
I spesielt foretrukne forbindelser er X -O-. I slike forbindelser er fortrinnsvis R,2 C,-C,g alkyl eller C5-C,2cyk]oalkyl; R,3 er H eller d-Cjgalkyl; R'13 er H; R,6 er H eller metyl; Rn er H.
Preferanser gis til forbindelser av formel II, hvor
Ri er Ci-Cig alkyl; Cs-C^cykloalkyl; fenyl; Ci-Cigalkyl som er substituert med fenyl, OH, CrCigalkoksy, Cs-Ci2cykIoalkoksy, -COOH, -COOR4, -O-CO-R5, -O-CO-O-R5, fenyl, Ci-C4alkoksy; eller er cykloheksyl som er substituert med OH, Ci-C4alkyl, C2-C6alkenyl og/eller -O-CO-R5;
eller R, er en av definisjonene -A; -CH2-CH(XA)-CH2-0-R]2; -CRi3R'i3-(CH2)m-X-A;
-CH2-CH(OA)-R,4; -CH2-CH(OH)-CH2-XA; -CRtsR^s-C^CH^-R"^ -CR,3R'i3-(CH2)m-CO-X-A;
glysidyl-CR13R*i3-(CH2)m-CO-0-CRi5R' 15-C(=CH2)R'',5 eller -CO-O-CRiSR' 15-C(=CH2)-R"i5, hvor A er -CO-CRi6=CH-Rn; restene
R2 er -O-R3 eller NH-CO-R5 og restene
R3 omfatter uavhengig av hverandre definisjonene gitt for Ri;
R» er Ci-Cigalkyl; C7-Cnfenylalkyl; cykloheksyl; eller er
Cs-Csoalkyl, som er avbrutt av -O-, og kan være substituert med OH, fenoksy eller C7-C1 galkyl fenoksy;
Rs er H; Ci-Cigalkyl; cykloheksyl; fenyl; C7-Cnfenylalkyl;
R7 er Ci-C[2alkyl eller cykloheksyl;
Rn erH;
R]2 er Ci-Cigalkyl; fenyl; Ci-Cigalkyl- eller Ci-Cgalkoksysubstituert fenyl; C7-Cnfenylalkyl;
Cs-C|2cykloalkyl; -CO-R5; eller er C3-C5oalkyl som er avbrutt med -O-, og kan være substituert med OH, fenoksy eller C7-Cigalkylfenoksy;
Ri3erH; C,-Ci8alkyl; fenyl;
R'i3erH;
R14 er Ci-Ci<g>alkyl; fenyl; fenyl-Ci-C4alkyl;
Ris, R'i5 og R"i5 er uavhengig av hverandre H eller CH3;
Rie er H; -CH2-COO-R4; C,-C4alkyl; eller CN;
R,7 er H; -COOR4; d-C^alkyl; eller fenyl;
X er -NH-; NR7-; eller-O-
og m er et tall 0-19.
Spesielt foretrukne forbindelser av formel II er de hvor Ri er Ci-Cigalkyl; Cs-Cncykloalkyl; Ci-Cjgalkyl som er substituert med fenyl, OH, Cj-Cigalkoksy,
-COOR4, -O-CO-R5; eller cykloheksyl som er substituert med OH, Ci-C4alkyl, C2-C6alkenyl; eller Ri er en av definisjonene -A; -CH2-CH(XA)-CH2-0-Ri2; -CRi3R'i3-(CH2)m-X-A; -CH2-CH(0A)-Ri4; -CH2-CH(0H)-CH2-XA; -CR,5R',5-C(=CH2)-R"15; -CR,3R',3-(CH2)m-CO-X-A; -CRi3R' i3-(CH2)m-CO-0-CRi5R' i5-C(=CH2)R' '15 eller -CO-0-CRi5R' 15-C(=CH2)-R"i5, hvor A er -CO-CR,6=CH-Ri7; restene
R2 er -O-R3 eller -NH-CO-R5 og restene;
R3 omfatter uavhengig av hverandre definisjonene angitt for Ri;
R4 er Ci-Cigalkyl; C7-Cnfenylalkyl eller cykloalkyl;
R5erCi-C|8alkyl;
RnerH;
R12 er Ci-Cigalkyl, C7-Cnfenylalkyl; C5-Ci2cykloalkyl; -CO-R5;
Rj3 er Heller Ci-Cigalkyl;
R'13 er H;
R14 er Ci-Cigalkyl;
Ri5, R'is og R"i5, Rie og R17 er uavhengig av hverandre H eller CH3;
Xer-O-;
og m er et tall 0-19.
Av spesiell interesse er forbindelser av formel II hvori
R2 er -OR3,
Ri og R3 er uavhengig av hverandre Cj-Cgalkyl; eller er C2-C6alkyl som er substituert med OH, Ci-Cjgalkoksy og/eller -COOR4; eller er CH2COOR4; eller er cykloheksyl som er usubstituert eller substituert med OH og/eller C2-C3alkenyl; og R, er Ci-C6alkyl;
Ri 1 er hydrogen.
Av spesiell interesse er de forbindelser av formel II hvori
R2 er -OR3;
Ri og R3 er uavhengig av hverandre Ci-Cigalkyl, spesielt forgrenet Cs-Cigalkyl; og Ri 1 er hydrogen. Disse forbindelsene er spesielt egnede for anvendelse som UV-filtere i kosmetiske, farmasøytiske og veterinærmedisinske preparater.
For å fremstille forbindelser av formel I og spesielt av formel II er det fordelaktig å starte fra forbindelser av formel A og, henholdsvis, av formel A',
i hvilke restene R2 uavhengig av hverandre er C6-Ci8alkyl; C2-C6alkenyl; fenyl; C7-Cufenylalkyl; COOH; COOR4; CN; NH-CO-R5; halogen, trifluormetyl; eller -OR3; og R3, R4, R5 og Ri 1 har definisjonene angitt for formel I, R3 omfatter i tillegg H.
Forbindelser av formlene A og A' er kjente eller kan oppnås analogt kjente forbindelser ved vanlige fremgangsmåter, for eksempel i henhold til eller analogt med fremgangsmåtene angitt i EP-A-434 608 eller i publikasjonen av H. Brunetti og CE. Liithi, Heiv. Chim. Acta 55, 1566 (1972), ved Friedel- Crafts addisjon av halotriaziner på tilsvarende fenoler. Dette kan etterfølges av en ytterligere reaksjon ifølge kjente fremgangsmåter, for eksempel for estring av frie karboksylgrapper for å gi estere hvor R2 er COOR4. Ytterligere detaljer vedrørende utgangsforbindelser som kan anvendes og deres fremstilling kan finnes i litteraturen angitt i innledningen og i EP-A-165 608.
Andre fremgangsmåter for fremstilling av utgangsforbindelser av formel A er beskrevet av Cousin og Volmar, Bull. Soc. Chim. Fr. 15,414-421 (1914), US-A-3113942 eller EP-A-648753; ifølge eller analogt med disse fremgangsmåtene er det mulig å trimerisere 3 ekvivalenter av et 2-hydroksybenzonitril av formel B
eller av et 2-hydroksybenzamid av formel C
ved forhøyet temperatur, vanligvis i området 180-260°C, for å gi forbindelsen av formel A. Denne fremgangsmåten er spesielt egnet for forbindelser av formel A hvor R2 ikke er OH eller OR3.
En spesiell foretrukket utgangsforbindelse av formel A er tris(2,4-dihydroksyfenyl)-1,3,5-triazin; de nye forbindelsene som kan oppnås fra denne ved fremstillings-fremgangsmåten angitt ovenfor tilsvarer formelen II hvori R2 er -OR3 og Ri 1 er hydrogen.
Muligheter for ytterligere reaksjon av forbindelsen av formelen A til forbindelsen av formel I, og spesielt av formel II, innbefatter følgende: a) Trinnvis reaksjon av frie OH- prupper med haloeenider eller sulfater Dette utgjøres ved anvendelse av, for hver OH som skal omsettes, ca. en ekvivalent av
en reagens Ri-Hal hvori Hal er et halogenatom, fortrinnsvis Cl, og Ri omfatter de definisjonene angitt i forbindelse med formel I ovenfor, sammen med ca. en ekvivalent
base. Ri-Hal kan også være en blanding av reagenser. Isteden for halogenidet Ri-Hal er det også mulig å anvende en ekvivalent av et sulfat (1/2 Ri-0-S02-0-R]). Dersom meningen er ikke bare å innføre resten -Ri, men også en annen, forskjellig rest (R2 i definisjonen av -OR3) er det fordelaktig først å utføre all reaksjon med det påkrevde antallet ekvivalenter av R3-Hal, hvor R3 omfatter definisjonen angitt for Ri og base og deretter reaksjon med en ekvivalent av Ri-Hal.
Reaksjonen utføres fortrinnsvis i et organisk oppløsningsmiddel, for eksempel en aromatisk eller alifatisk hydrokarbon, alkohol, eter, ester eller amid av egnet kokeområde; foretrukne oppløsningsmidler er toluen, xylen, propanol, butanol, 2-metoksyetanol, 2-etoksyetanol, dietylenglykoldimetyleter (diglym), dimetylformamid (DMF), dimetylsulfoksid (DMSO). Egnede baser er organiske eller, fortrinnsvis, uorganiske baser så som hydroksyder, oksyder eller karbonater; viktige eksempler er alkalimetallhydroksyder og -karbonater, så som KOH, NaOH, K2CO3, Na2C03. Reaksjonstemperaturen er vanligvis i området 80-180°C, fortrinnsvis i området 100-150°C. Reaksjonen kan også utføres som en 2-fase reaksjon i nærvær av fase-overføringskatalysatorer, så som tetraalkylammoniumsalter for eksempel; i dette tilfellet er halogenidet eller sulfatet vanligvis - og spesielt når det anvendes som en ren alkylerende reagens - til stede i den organiske fasen og triazinforstadiet i den vandige fasen.
For eksempel kan en forbindelse av formel n, hvori R2 er -OR3 oppnås ved følgende reaksjonsskjema:
b) Trinnvis reaksjon av frie QH- grupper med epoksvder
Isteden for reagensene beskrevet under a) er det også mulig å anvende epoksyder. For
hver OH-gruppe som skal omsettes anvendes i hvert tilfelle ca. en ekvivalent eller mer av
epoksyd av typen
sammen med en katalysator, i bulk eller i et opp-løsningsmiddel. Denne reaksjonen finner vanligvis sted uten tilsetning av baser. Det primære reaksjonsproduktet av formel I eller II, hvori R3 eller, om aktuelt R3 og Rt tilsvarer formelen -CH2-CH(OH)-R' om ønsket kan omsettes videre ved kjente fremgangsmåter, for eksempel med forening eller forestring av den alifatiske OH-gruppen. Dersom målet er å innføre ikke bare rester -R3 som -CH2-CH(OH)-R', men også en annen, forskjellig rest Ri, så er det fordelaktig først å utføre reaksjon med det påkrevde antallet ekvivalenter av hvor vanligvis intet overskudd anvendes og hvor -CH2-CH(OH)-R<*> omfatter definisjonene angitt for.Ri, og deretter å utføre reaksjon med en ekvivalent av den ytterligere ønskede reagensen,.for eksempel R^Hal og base, eller med en ytterligere ekvivalent av Omvendt, ifølge (A) er det også mulig først å innføre en rest -R3 og dererxer å reagere reaksjonsproduktet med
for å gi forbindelsen av formel I eller II.
Ringåpningen av epoksydet utføres fortrinnsvis i et organisk oppløsningsmiddel, spesielt et apolart organisk oppløsningsmiddel; eksempler er aromatiske eller alifatiske hydrokarboner av egnet kokeområde, fortrinnsvis toluen, xylen, mesitylen.
Eksempler på egnede katalysatorer er faseoverføringskatalysatorer, innbefattende kvartémaere fosfoniumsalter, eller tertiære aminer; for eksempel etyltrifenylfosfoniumbromid eller benzyldimetylamin.
Reaksjonstemperaturen er vanligvis i området 80-200°C, fortrinnsvis i området 100-i 180°C.
For eksempel kan en forbindelse av formel II hvori R3 er -OR3 oppnås ved følgende reaksjonsskjema:
katalysator
Produktene av de ovenfor omtalte omsetningene kan modifiseres videre ved kjente fremgangsmåter innenfor rammen av definisjonene angitt for formel I.
Reaksjonene kan utføres i fravær av oksygen, for eksempel ved spyling med en inert gas slik som argon; imidlertid interferer oksygen ikke i hvert tilfelle slik at reaksjonen også kan utføres uten denne forholdsregelen. Ved avslutningen av reaksjonen kan produktet opparbeides ved vanlige fremgangsmåter.
De nye forbindelsene er spesielt egnede for stabilisering av organiske materialer mot skade forårsaket av lys, oksygen eller varme. De nye forbindelsene er spesielt egnede som lysstabiliseringsmidler (UV-absorbsjonsmidler).
Materialene som skal stabiliseres kan for eksempel være oljer, fett, vokser, beleggingsmaterialer, kosmetiske materialer, fotografiske materialer eller biocider. Av spesiell interesse er deres anvendelse i polymere materialer som er til stede i plast, gummi, beleggingsmaterialer, fotografiske materialer eller adhesiver. Når de anvendes i kosmetiske preparater er materialet som skal beskyttes ofte ikke preparatet selv, men hud eller hår hvorpå preparatet påføres.
Eksempler på polymerer og andre substrater som kan stabiliseres på denne måten er følgende: 1. Polymerer av monoolefiner og diolefiner, for eksempel polypropylen, polyisobutylen, polybut-l-en, poly-4-metylpen-l-en, polyisopren eller polybutadien, så vel som polymerer av cykloolefiner, for eksempel av cyklopenten eller norbornen, polyetylen (som eventuelt kan være tverrbundet), for eksempel høydensitets polyetylen (HDPE), høy densitet og høy molekylvekt polyetylen (HDPE-HMW), høydensitets og ultra-høymolekylvekts polyetylen (HDPE-UHMW), mediumdensitets polyetylen (MDPE), lavdensitets polyetylen (LDPE), lineær lavdensitets polyetylen (LLDPE), (VLDPE) og (ULDPE).
Polyolefiner, dvs. polymerene av monoolefiner eksemplifisert i det foregående avsnittet, kan fremstilles ved andre, og spesielt ved følgende fremgangsmåter:
a) radikalpolymerisasjon (normalt under høyt trykk og ved forhøyet temperatur).
b) katalytisk polymerisasjon ved anvendelse av en katalysator som normalt inneholder et eller flere enn et metall fra grupper IVb, Vb, VIb eller Vm av den periodiske tabellen. Disse metallene har typisk en eller mer enn en ligand, typisk oksyder, halogenider, alkoholater, estere, etere, aminer, alkyler, alkenyler og/eller aryler som enten kan være Ji-eller o-koordinerte. Disse metallkompleksene kan være i fri form eller fiksert på substrater, typisk på aktivert magnesiumklorid, titan (IlTjklorid, aluminiumoksyd eller silisiumoksyd. Disse katalysatorene kan være oppløselige eller uoppløselige i polymerisasjonsmediet. Katalysatorene kan benyttes i seg selv i polymerisasjonen eller ytterligere aktivatorer kan anvendes, typisk metallalkyler, metallhydrider, metallalkylhalogenider, metallalkyloksyder eller metallalkyloksaner, hvor nevnte metaller er elementer fra grupper Ia, Ha og/eller Illa i den periodiske tabellen. Aktivatorene kan hensiktsmessig være modifisert med ytterligere ester-, eter-, amin- eller silyletergrupper. Disse katalysatorsystemene betegnes vanligvis Phillips, Standard Oil Indiana, Ziegler (-Natta), TNZ (DuPont), metallocen eller enkeltsete katalysatorer (SSC).
2. Blandinger av polymerer nevnt under 1), for eksempel blandinger av polypropylen med polyisobutylen, polypropylen med polyetylen (for eksempel PP/HDPE, PP/LDPE) og blandinger av forskjellige typer polyetylen (for eksempel
LDPE/HDPE).
3. Kopolymerer av monoolefiner og diolefiner med hverandre eller med andre vinylmonomerer, for eksempel etylen/propylen kopolymerer, lineær lavdensitets polyetylen (LLDPE) og blandinger derav, med lavdensitets polyetylen (LDPE), propylen/buM-en kopolymerer, propylen/isobutylen kopolymerer, etylen/but-l-en kopolymerer, etylen/heksen kopolymerer, etylen/metylpenten kopolymerer, etylen/hepten kopolymerer, etylen/okten kopolymerer, propylen/butadien kopolymerer, isoburylen/isopren kopolymerer, etylen/alkylakrylat kopolymerer, etylen/alkylmetakrylat kopolymerer, etylen/vinylacetat kopolymerer, og deres kopolymerer med karbon monoksyd eller etylen/akrylsyre kopolymerer, og deres salter (ionomerer), så vel som terpolymerer av etylen med propylen og et dien, så som heksadien, cyklopentadien eller etyliden-norbomen; og blandinger av slike kopolymerer med hverandre og polymerer nevnte i 1) ovenfor, for eksempel polypropoylen/etylen/propylen kopolymerer, LDPE/etylen-vinylacetat kopolymerer (EVA), LDPE/etylen-akrylsyre kopolymerer (EAA), LLDPE/EVA, LLDPE/EAA og alternerende eller tilfeldige polyalkylen/karbonmonoksyd kopolymerer og blandinger derav med andre polymerer, for eksempel polyamider. 4. Hydrokarbonharpikser (for eksempel C5-C9) innbefattende hydrogenerte modifikasjoner derav (for eksempel klebemidler) og blandinger av polyalkylen og stivelse.
5. Polystyren, poly(p-metylsryren), poly(a-metylstyren).
6. Kopolymerer av styren eller a-metylstyren med diener eller akrylsyrederivater, for eksempel styren/butadien, styren/akrylonitril, styren/alkylmetakrylat, styren/butadien/alkylakrylat/ styren/butadien/alkylmetakrylat, styren/maleinsyreanhydrid, styreri/akrylonitril/metylakrylat; blandinger av styren kopolymerer med høy støtstyrke og annen polymer, for eksempel et polyakrylat, en dienpolymer eller en etylen/propylen/dienterpolymer; og blokk-kopolymerer av styren, så som styren/butadien/styren, styren/i sopren/styren, styren/etylen/butylen/styren eller styren/etylen/propylen/styren. 7. Podekopolymerer av styren eller a-metylstyren, for eksempel styren på polybutadien, styren på polybutadien-styren eller polybutadien-akrylonitril kopolymerer; styren og akrylonitril (eller metakrylonitril) på polybutadien; styren, akry loni tri 1 og metyl-metakrylat på polybutadien; styren og maleinsyreanhydrid på polybutadien; styren, akrylonitril og maleinsyreanhydrid eller maleimid på polybutadien; styren og maleimid på polybutadien; styren og alkylakrylater eller metakrylater på polybutadien; styren og akrylonitril på etylen/propylen/dien terpolymerer; styren og akrylonitril på polyalkylakrylater eller polyalkylmetakrylater; styren og akrylonitril på akrylat/butadien kopolymerer, så vel som blandinger derav med kopolymerene angitt under 6), for eksempel kopolymerblandingene kjent som ABS, MBS, AZA eller AES polymerer. 8. Halogenholdige polymerer så som polykloropren, klorert gummi, klore; t og bromert kopolymer av isobutylen-isopren (halobutylgummi) klorert eller sulfoklorert polyetylen, kopolymerer av etylen og klorert etylen, epiklorhydrin homo- og kopolymerer, spesielt polymerer av halogenholdige vinylforbindelser, for eksempel polyvinylklorid, polyvinylidenklorid, polyvinylfluorid, polyvinylidenfluorid, så vel som kopolymerer derav, så som vinylklorid/vinylidenklorid, vinylklorid/vinylacetat eller vinylidenkloird/vinylacetat kopolymerer. 9. Polymerer avledet fra a, p-umettede syrer og derivater derav, så som polyakrylater og polymetakrylater; polymetylmetakrylater, polyakrylamider og polyakrylonitriler, støt-modifisert med butylakrylat. 10. Kopolymerer av monomerene nevnt under 9) med hverandre eller med andre umettede monomerer, for eksempel akrylnitril/butadien kopolymerer, akrylonitril/alkyl akrylat kopolymerer, akrylonitril/alkoksyalkylakrylat eller akrylonitril/vinylhalogenid kopolymerer eller akrylonitirl/alkyl metakrylat/butadien terpolymerer. 11. Polymerer avledet fra umettede alkohol og aminer av acylderivatene eller acetalene derav, for eksempel polyvinylalkohol, polyvinylacetat, polyvinylstearat, polyvinylbenzoat, polyvinylmaleat, polyvinylbutyral, polyallylftalat, eller polyallyl-melamin; så vel som deres kopolymerer med olefiner nevnt under 1) ovenfor. 12. Homopolymerer og kopolymerer av sykliske etere så som polyalkylenglykoler, polyetylenoksyd, polypropylenoksyd, eller kopolymerer derav med bisglysidyletere. 13. Polyacetaler, så som polyoksymetylen og de polyoksymetylenene som inneholder etylenoksyd som en komonomer; polyacetaler modifisert med termoplastiske polyuretaner, akrylater eller MBS. 14. Polyfenylenoksyder og -sulfider og blandinger av polyfenylenoksyder med styrenpolymerer eller polyamider. 15. Polyuretaner avledet fra hydroksyl-terminerte polyetere, polyestere eller poly-butadiener på den ene siden og alifatiske eller aromatiske polyisocyanater på den annen side, så vel som forstadier derav. 16. Polyamider og kopolyamider avledet fra diaminer og dikarboksylsyrer og/eller fra aminokarboksylsyrer eller de tilsvarende laktamene, for eksempel polyamid 4, polyamid 6, polyamid 6/6,6/10,6/9, 6/12,4/6,12/12, polyamid 11, polyamid 12, aromatiske polyamider med start fra m-xylendiamin og adipinsyre; polyamider fremstilt fra heksametylendiamin og isoftal eller/og tereftalsyre og med eller uten en elastomer som modifiseringsmiddel, for eksempel poly-2,4,4,-trimetylheksametylen tereftalamid eller poly-m-fenylen isoftalamid; og også blokk kopolymerer av de tidligere nevnte polyamidene med polyolefiner, olefinkopolymerer, ionomerer eller kjemisk bundede eller podede elastomerer; eller med polyetere, for eksempel med polyetylenglykol, polypropylenglykol, eller polytetrametylenglykol; så vel som polyamider eller kopolyamider modifisert med EPDM eller ABS; og polyamider kondensert ved bearbeidelse (RIM polyamidsystemer). 17. Polyureaer, polyimider, polyamid-imider, polyeterimider, polyesterimider, polyhydantoiner og polybenzimidazoler. 18. Polyestere avledet fra dikarboksylsyrer og dioler og/eller fra hydroksykarboksylsyrer eller de tilsvarende laktonene, for eksempel polyetylenterftalat, polybutylentereftalat, poly-l,4-dimetylolcykloheksantereftalat og polyhydroksybenzoater, så vel som blokk-kopolyeter estere avledet fra hydroksylterminerte polyeterer; og også polyester modifisert med polykarbonater eller MBS.
19. Polykarbonater og polyesterkarbonater.
20. Polysulfoner, polyetersulfoner og polyeterketoner.
21. Tverrbundne polymerer avledet fra aldehyder på den ene siden og fenoler, ureaer og melaminer på den annen side, så som fenol/formaldehydharpiks, urea/formaldehyd-harpisker og melamin/formaldehydharpikser.
22. Tørkende og ikke-tørkende alkydharpikser.
23. Umettede polyesterharpikser avledet fra kopolyestere av mettede og umettede dikarboksylsyrer med flerverdige alkoholer og vinylforbindelser som tverrbindende midler, og også halogenholdige modifikasjoner derav med lav flammbarhet. 24. Tverrbindbare akrylharpikser avledet fra substituerte arkylater, for eksempel epoksyakrylater, uretanakrylater eller polyester akrylater. 25. Alkydharpikser, polyesterharpikser og akrylatharpikser tverrbundet med melaminharpikser, ureaharpikser, isocyanater, isocyanureater, polyicocyanater eller epoksyharpikser. 26. Tverrbundne epoksyharpikser avledet fra alifatiske, cykloalifatiske, heterosykliske og aromatiske glysidilyforbindelser, for eksempel produkter av diglysidyletere av bisfenol A og bisfenol F, som er tverrbundet med vanlige herdemidler så som anhydrider eller aminer, med eller uten akselleratorer. 27. Naturlige polymerer så som cellulose, gummi, gelatin, og kjemisk modifiserte homologe derivater derav, for eksempel celluloseacetater, cellulosepropionater og cellulosebutyrater, eller celluloseeter, så som metylcellulose; så vel som kolofoniumharpikser og deres derivater. 28. Blandinger av de nevnte polymerene (polyblends) for eksempel PP/EPDM, Polyamid/EPDM eller ABS, PVC/ABS, PVC/MBS, PC/ABS, PBTP/ABS, PC/AZA, PC/PBT, PVC/CPE, PVC/akrylater, POM/termoplastisk PUR, PC/termoplastisk PUR, POM/akrylat, POM/MBS, PPO/HIPS, PPO/PA 6,6 og kopolymerer,
PA/HDPE, PA/PP, PA/PPO, PBT/PC/ABS eller PBT/PET/PC.
Oppfinnelsen tilveiebringer derfor i tillegg en sammensetning innbefattende A) et organisk materiale som er følsomt for oksidativ, termisk og/eller aktinisk ned-brytning/oppbygning og B) som stabiliseirngsmiddel minst en forbindelse av formel I, og tilveiebringer også anvendelsen av forbindelser av formel I som stabiliserer organisk materiale mot oksydativ, termisk eller aktinisk nedbrytning/oppbygning.
Tilsvarende omfatter oppfinnelsen en fremgangsmåte for stabilisering av organisk materiale mot termisk, oksidativ og/eller aktinisk nedbrytning/oppbygning, som innbefatter påføring av minst en forbindelse av formel I på dette materialet.
Mengden av stabiliseirngmiddel som anvendes avhenger av det organiske materialet som skal stabiliseres og den planlagte anvendelsen av det stabiliserte materialet. Generelt inneholder den nye sammensetningen fra 0,01 til 15, spesielt fra 0,05 til 10, og spesielt, fra 0,1 til 5 vektdeler av stabiliseringsmiddelet (kompe nent B) pr. 100 vektdeler av komponent A). Stabiliseringsmiddelet (komponent B) kan være en individuell forbindelse av formel I eller ellers en blanding.
I tillegg til forbindelsene av formel I kan de nye sammensetningene innbefatte som ytterligere komponent C) et eller flere vanlige additiver, for eksempel antioksydanter, andre lysstabiliseirngsmidler, metallpassivatorer, fosfittter eller fosfonitter. Eksempler på disse er følgende:
1. Antioksidanter
1.1. Alkvlerte monofenoler. for eksempel 2,6-di-tert-butyl-4-metylfenol, 2-tert-butyl-4,6-dimetylfenol, 2,6-di-tert-butyl-4-etylfenol, 2,6-di-tert-butyl-4-n-butyIfenol, 2,6-di-tert-butyl-4-isobutylfenol, 2,6-dicyklopentyl-4-metylfenol> 2-(a-metylcyklo-heksyl)-4,6-dimetylfenol, 2,6-dioktadecyl-4-metylfenol, 2,4,6-trisykloheksylfenol, 2,6-di-tert-butyl-4-metoksymetylfenol, nonylfenoler, som er lineære eller forgrenede i sidekjedene, for eksempel 2,6-d-nonyl-4-metylfenon, 2,4-dimetyl-6(l'-metylundec-1 '-yl)fenyl, 2,4-dimetyl-6-(r-mec<y>lhe<p>tadec-l '-yl)fenol, 2,4-dimetyl-6-(rmetyl-tridec-r-yl)fenol og blandinger derav.
1.2 Alkyltiometvlfenoler. for eksempel 2,4-dioktyltiometyl-6-tert-butylfenol, 2,4-dioktyltiometyl-6-metylfenol, 2,4-dioktyltiometyl-6-etylfenol, 2,6-didodecyltiometyl-4-nonylfenol.
1.3 Hydrokinoner og alkvlerte hydrokinoner. for eksempel 2,6-di-tert-butyl-4-metoksy-fenol, 2,5-di-tert-butylhydrokinon, 2,5-di-tert-amylhydrokinon, 2,6-difenyl-4-oktadecykloksyfenol, 2,6-di-tert-burylhydroquinon, 2,5-di-tetr-butyl-4-hydrokcyanisol, 3,5-di-tert-butyl-4-hydrokcyanisol, 3,5-di-tert-butyl-4-hydroksyfenylstearat, bis-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroksyfenyl)adipat.
1.4 Tokoferoler. for eksempel a-tokoferol, P-tokoferol, y-tokoferol, 5-tokoferol og
blandinger derav (Vitamin E).
1.5 Hydroksylerte tiodifenyletere. for eksempel, 2,2'-tiobis (6-tert-butyl-4-metlfenol),
2,2'-tiobis (4-oktylfenol), 4,4'-tiobis(6-tert-butyl-3-metylfenol), 4,4'-tiobis(6-tert-butyl-2-metylfenol), 4,4'-tiobis-(3,6-di-sec-amylfenol), 4,4'-bis(2,6-dimetyl-4-hydroksyfenyl)disul fid.
1.6 Alkvlidenbisfenoler. for eksempel, 2,2'-metylenbis (6-tertbutyl-4-metylfenol), 2,2'-metylenbis (6-tert-butyl-4-etylfenol), 2,2'-metylenbis [4-metyl-6-(a-metylcyklo-heksyl)fenol], 2,2'-metylenbis(4-metyl-6-cykloheksylfenol), 2,2'-metylenebis (6-nonyl-4-metylfenol),2,2,'-metylenbis(4,6-di-tert-butylfenol), 2,2'-etyIidenbis (4,6-di-tert-butylfenol), 2,2'-etylidenbis(6-tert-butyl-4-isobutylfenol), 2,2'-metylenbis[6-(a-metylbenzyl)-4-nonylfenol], 2,2'metylenbis [6-(a, a-dimetylbenzyl)-4-nonylfenol], 4,4'-metylenbis(2,6-di-tert-butylfenol), 4,4'-metylenbis(6-tetr-butyl-2-metylfenol),
1, l-bis(5-tetr-butyl-4-hydroksy-2-metylfenyl)butan, 2,6-bis(3-tert-butyl-5-metyl-2-hydroksybenzyl)-4-metylfenol, 1,1 ^-trisCS-tert-butyl^-hydroksy^-metylfenylJbutan, 1,1 -bis(5-tert-butyl-4-hydroksy-2-metylfen^ etylenglykol bis[3,3-bis(3 '-tert-butyl-4'-hydroksyfenyl)butyrat], bis(3-tert-butyl-4-hydroksy-5-metyl-fenyl)dicyklopentadien, bis[2,(3'-tert-butyl-2'-hydroksy-5'-mety]benzyl)-6-tert-butyl-4-metylfenyl]tereftalat, l,l-bis-(3,5-dimetyl-2-hydroksyfenyl)butan, 2,2-bis(3,5-di-tert-butyl-4-hydroksyfenyl)propan, 2,2,-bis-(5-tert-butyl-4-hydroksy-2-metylfenyl)-4-n-dodecylmerkaptobutan, l,l,5,5-tetra-(5-tert-butyl-4-hydroksy-2-metylfenyl)pentat.
1.7 Q-. N- oe S- benzvlforbindelser, for eksempel 3,5,3'^'-tetra-tert-butyM^'-dihydroksydibenzyleter, oktadecyl-4-hydroksy-3,5-dimetylbenzylmerkaptoacetat, tridecyl-4-hydroksy-3,5-di-tert-butyIbenzylmerkaptoacetat, tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroksybenzyI)amin, bis (4-tert-butyl-3-hydroksy-2,6-dimetylbenzyl)ditiotereftalat, bis(3,5-di-tert-butyl-4-hydroksybenzyl)sulfid, isooktyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroksy-benzylmerkaptoacetat.
1.8 Hydroksybenzvlerte malonater. for eksempel dioktadecyl-2,2-bis-(3,5-di-tert-butyl-2-hydroksybenzyl)-malonat, di-oktadecyl-2-(3-tert-butyl-4-hydroksy-5-metylbenzyl)-malonat, di-dodecylmerkatpoetyl-2,2-bis-(3,5-di-tetr-butyl-4-hydroksybenzyl)-malonat, bis [4-(l, 1,3,3-tetrametylbutyl)fenyl]-2,2-bis(3,5-di-tert-butyl-4-hydroksy-benzyl)malonat.
1.9 Aromatiske hvdroksvbenzvlforbindelsen for eksempel l,3,5-tris-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroksybenzyl)-2,4-6-trimetylbenzen, l,4-bis(3,5-di-tert-butyl-4-hydroksybenzyl)-2,3-5,6-tetrametylbenzen, 2,4,6-tris(3,5-di-tert-butyl-4-hydroksybenzyl)fenol.
1.10 Triazinforbindelser. for eksempel 2,4-bis(oktylmerkapto)-6-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroksanilino)-l,3,5-triazin, 2-oktylmerkapto-4,6-bis (3,5-di-tert-butyl-4-hydrokcyanilino)-1,3,5-triazin, 2-oktylmerkapto-4,6-bis(3,5-di-tetr-butyl-4-hydroksyfenoksy)-1,3,5-triazin, 2,4,6-tris(3,5-di-tert-butyl-4-hydroksyfenoksy)-1,2,3-triazin, 1,3,5-tris-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroksybenzyl)isocyanurat, 1,3,5-tris(4-tert-butyl-3-hydroksy-2,6-dimetylbenzyl)isocyanaurat, 2,4,6-tris(3,5-di-tert-butyl-4-hydroksyfenyletyl)-1,3-5-triazin, 1,3,5-tris(3,5-di-tert-butyl-4-hydroksyfenylpropionyl)-heksahydro-l,3,5-triazin, l,3,5-tris(3,5-dicykloheksyl-5-hydroksybenzyl)isocyanurat.
1.11 Benzylfosfonater. for eksempel dimetyl-2,5-di-tert-butyl-4-hydroksybenzyl-fosfonat, dietyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroksybenzylfosfonat, dioktadecyl 3,5-di-tert-butyl-4-hydroksybenzylfosfonat, dioktadecyl-5-tert-butyl-4-hydroksy-3-metyl-benzylfosfonat, kalsiumsaltet av monoetylesteren av 3,5-di-tert-butyl-4-hydroksy-benzylfosfonsyre.
1.12 Acvlaminofenoler, for eksempel 4-hydroksylauranilid, 4-hydroksystearanilidoktyl
N-(3,5 -di-tert-butyl-4-hydroksyfenyl)karbonat.
1.13 Estere av p-( 3. 5- di- tert- butyl- 4- hydroksyfenynpropionsyre. med mono- eller flerverdige alkoholer, for eksempel med metanol, etanol, n-oktanol, i-oktanol, oktadekanol, 1,6-heksandiol, 1,9-nonandiol, etylenglykol, 1,2-propandiol, neopentylglykol, tiodietylenglykol, dietylenglykol, trietylenglykol, pentaerytriotol, tris (hydroksyetyl) isocyanurat, N,N'-bis(hydroksyetyl)oksamid, 3-tiaundekanol, 3-tiapentadekanol, trimetylheksanediol, trimetylolpropan, 4-hydroksymetyl-2-fosfa-2,6,7-trioksbicyklo[2,2,2]oktan.
1.14 Estere av p- f5- tert- butyl- 4- hydroksy- 3- metylfenyl^ propionsvre. med mono-eller flerverdige alkoholer, for eksempel med metanol, etanol, n-oktanol, i-oktanol, oktadekanol, 1,6-heksandiol, 1,9-nonandiol, etylenglykol, 1,2-propandiol, neopentylglykol, tiodietylenglykol, dietylenglykol, trietylenglykol, pentaerytriotol, tris (hydroksyetyl) isocyanurat, N,N'-bis(hydroksyetyl)oksamid, 3-tiaundekanol, 3-tiapentadekanol, trimetylheksanediol, trimetylolpropan, 4-hydroksymetyl-2-fosfa-2,6,7-trioksbicyklo[2,2,2]oktan.
1.15. Estere av P-( 3. 5- dicykloheksvl- 4- hvdroksvfenyDpropionsvre. med mono-eller flerverdige alkoholer, for eksempel med metanol, etanol, n-oktanol, i-oktanol, oktadekanol, 1,6-heksandiol, 1,9-nonandiol, etylenglykol, 1,2-propandiol, neopentylglykol, tiodietylenglykol, dietylenglykol, trietylenglykol, pentaerytritol, tris-(hydroksyetyl) isocyanurat, N,N'-bis(hydroksyetyl)oksamid, 3-tiaundekanol, 3-tiapentadekanol, trimetylheksanediol, trimetylolpropan, 4-hydroksymetyl-2-fosfa-2,6,7-trioksbicyklo[2,2,2]oktan.
1.16 Estere av 3. 5- di- tert- butvl- 4- hvdroksyfenvleddiksyre. med mono-eller flerverdige alkoholer, for eksempel med metanol, etanol, n-oktanol, i-oktanol, oktadekanol, 1,6-heksandiol, 1,9-nonandiol, etylenglykol, 1,2-propandiol, neopentylglykol,
tiodietylenglykol, dietylenglykol, trietylenglykol, pentaerytriotol, tris (hydroksyetyl) isocyanurat, N,N'-bis(hydroksyetyl)oksamid, 3-tiaundekanol, 3-tiapentadekanol, trimetylheksandiol, trimetylolpropan, 4-hydroksymetyl-2-fosfa-2,6,7-trioksbicyklo[2,2,2]oktan.
1.17 Amider av P-( 3, 5- di- tert- butvl- 4- hvdroksvfenvnpropionsver. for eksempel N,N'-bis(3,5-di-tert-butyl-4-hydroksyfenylpropionyl)heksametylendiamid, N,N'-bis(3,5-di-tert-butyl-4-hydroksyfenylpropionyl)trimetylendiamid, N,N'-bis(3,5-di-tert-butyl-4-hydroksyfenylpropionyl)hydrazid, N,N'-bis[2-(3-[3,5-di-tert-butyl-4-hydroksyfenyl]propionyloksy)etyl]oksamid.
("Naugard XL-1" tilveiebragt av Uniroyal).
1.18. Askorbinsyre ( vitamin O
1.19. Aminiske antioksidanter, for eksempel N,N'-di-isopropyl-p-fenylendiamin, N,N'-di-sec-butyl-p-fenylendiamin, N,N'-bis(l ,4-dimetylpentyl)-p-fenylendiamin, N,N'-bis(l-etyl-3-metylpentyl)-p-fenylendiamin, N,N'-bis(l-metylheptyl)-p-fenylen-diamin, NjN^dicykloheksyl-p-fenylendiamin, N,N'-difenyl-p-fenylendiamin, N,N'-bis(2-natfyl)-p-fenylendiamin-N-isopropyl-N'-fenyl-p-fenylendiamin, N-(l,3-dimetylbutyl)-N'-fenyl-p-fenylendiamin, N-(l-metylheptyl)-N'-fenyl-p-fenylen-diamin, N-cykloheksyl-N'-fenyl-p-fenylendiamin, 4-(p-toluensulfamoyl)difenylamin, N,N'-dimetyl-N,N'-di-sec-butyl-p-fenylendiamin, difenylamin, N-allyldifenylamin, 4-isopropoksydifenylamin, N-fenyl-1 -naftylamin, N-(4-tert-oktylfenyl)-1 -naftylamin, N-fenyl-2-naftylamin, oktylert difenylamin, for eksempel p,p'-di-tert-oktyldifenyl-amin, 4-n-butylaminofenol, 4-butyrylaminofenol, 4-nonanoylaminofenol, 4-dodekan-oylaminofenol, 4-oktadekanoylaminofenol, bis(4-metoksyfenyl)amin, 2,6-di-tert-butyl-4-dimetylamino-metylfenol, 2,4'-diaminodifenylmetan, 4,4'-diaminodifenylmetan, N,N,N',N'-tetrametyl-4,4'-diaminodifenylmetan, 1,2-bis[(2-metylfenyl)amino]etan, l,2-bis(fenylamino)propan, (o-tolyl)biguanid, bis[4-(2'-3'-dimetylbutyl)fenyol]amin, tert-oktylert-N-fenyl-1-naftylamin er blanding av mono-og dialkylerte tert-butyl/tert-oktyldifenylaminer, en blanding av mono- og dialkylerte nonyldifenylaminer, en blanding av mono- og dialkylerte dodecyldifenylaminer, en blanding av mono- og dialkylerte isopropyl/isoheksyldifenylaminer, en blanding av mono- og dialkylerte tert-butylfenyl-aminer, 2,3-dihydro-3,3-dimetyl-4H-l,4-benzotiazin, fenotiazin, en blanding av mono- og dialkylerte tert-butyl/tert-oktylfenotiaziner, en blanding av mono- og dialkylerte tert-butyl/tert-oktylfeno-
tiaziner, en blanding av mono- og dialkylerte tert-oktyl-fenotiaziner, N-allylfenotiazin, N,N,N',N'-tetrafenyl-1,4-diaminobut-2-en-N,N-bis(2,2,6,6-tetrametyl-piperid-4-yl-heksametylendiamin, bis(2,2,6,6-tetrametylpiperid-4-yl)sebacat, 2,2J6,6-tetramerylpiperidin-4-on-2,2,6,6-tetrametylpiperidin-4-ol.
2. UV absorbsjonsmidler og lysstabiliserin<g>smidler.
2.2. 2-( 2'- hydroksyfenvDbenzotirazoler, for eksempel 2-(2'-hydroksy-5'-metylfenyl)-benzotriazol, 2-(3\ 5'-di-tert-butyI-2'-hydroksyfenyl)benzotriazol, 2-(5Mert-butyI-2'-hydroksyfenyl)benzotriazol, 2-(2-'-hydroksy-5'-(l,ll3,3-tetrametyIbutyl)fenyl)-benzotriazol, 2-(3',5 '-di-tert-butyl-2'-hydroksyfenyl)-5-klor-benzotriazol, 2-(3'-tert-butyl-2' -hydroksy-5' -metylfenyl)-5 -klor-benzotriazol, 2-(3' -sec-butyl-5 '-tert-butyl-2'-hydroksyfenyl)benzotriazol, 2-(2'-hydrokys-4'-oktyloksyfenyl)benzotriazol, 2-(3 5,-di-tert-amyl-2'-hydroksyfenyI)benzotirasol, 2-(3', 5'-bis-(cc, a-dimetylbenzyl)-2'-hydroksyfenyl)benzotriazol, 2-(3'-tert-butyl-2'-hydroksy-5,-(2-oktyloksykarbonyl-etyl)fenyl)-5-klor-benzotriazoI} 2-(3'-tert-butyI-5'-[2(2-etylheksyIoksy)-karbonyI-etyl]-2'-hydroksyfenyl)-5-klor-benostriazol-2-(3,-tert-butyl-2'-hydroksy-5'-(2-metoksykarbonyletyl)fenyl)-5-klor-benzotriazol, 2-(3 '-tert-butyl-2'-hydroksy-5 '-(2-metoksykarbonyletyl)fenyl)benzotriazol, 2-(3 '-tert-butyl-2'-hydroksy-5 '-(2-oktyloksykarbonyletyl)fenyl)benzotriazol, 2-(3'-tert-butyl-5'-[2-(2-etylheksyloksy)-karbonyletyl]-2'-hydrokysfenyl)benzotriazol, 2-(3'-dodecyl-2'-hydroksy-5'-metylfenyl)benzotriazol, 2-(3'-tert-butyl-2'-hydroksy-5'-(2-isooktyloksykarbonyl-etyl)fenylbenzotriazol, 2,2'-metylen-bis-[4-(l,l,3,3-tetrametylbutyl)-6-benzotriazol-2-ylfenyl]; transforestirnesprodukt av 2-[3'-tert-butyl-5'- (2-metoksykarbonyletyl)-2,hydroksyfenyl[3'-tert-butyl-5'-(2-metoksykarbonyletyl)-2'hydroksyfenyl]-2H-benzotriazol med polyetylenglykol 300; [R - CH2CH2-COD-CH2CH2] hvor R = 3'-tert-butyI-4'-hydroksy-5'-2H-benzotriazol-2-yl-fenyl, 2-[2,-hydroksy-3'(a, a-dimetylbenzyI)-5'-(l ,1,3,3-tetrametylbutyl)-fenyl]benzotriazol; 2-[2'-hydroksy-3'-(1,1,3,3-tetrametylbutyl)-5 '(oe, a-dimetylbenzyl)-fenyl]benzotriazol.
2.2. 2- hydroksybenzofenoner, for eksempel 4-hydroksy, 4-metoksy, 4-oktyloksy, 4-decyloksy, 4-dodecyloksy, 4-benyloksy, 4,2',4'-trihydroksy og 2'-hydroksy-4,4'-dimetoksyderivater.
2.3 Estere av substituerte og usubstituerte benzos<y>rer, for eksempel 4-tertbutyl-fenylsalisylat, fenylsalisylat, oktylfenylsalisylat, dibenzoylresorcinol, bis(4-tert-butylbenzoyl)resorcinol, benzoylresorcinol, 2,4-di-tert-butylfenyl 3,5-di-tetr-butyl-4-
hydroksybenzoat, heksadecyl 3,5-di-tert-butyI-4-hydroksybenzoat, oktadecyl 3,5-di-tert-butyl-4-hydroksybenzoat, 2-metyl-4,6-di-tert-butyIfenyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroksybenzoat.
2.4. Akr<y>later. for eksempel etyl-a-cyano-P,P-difenylakrylat, isoktyl a-cyano-p,p-difenylakrylat, metyl a-cyano-p-metyl-p-metoksy-cinnamat, metyl a-karbometoksy-p-metoksy-cinnamat og N-(p-karbometyoksy-p-cyanovinyl)-2-metylindolin.
2.5. Nikkelforbindelser. for eksempel nikkelkomplekser av 2,2'-tio-bis-[4-(l, 1,3,3-tetrametylbutyl)fenol], slik som 1:1 eller 1:2-komplekset, med eller uten ytterligere ligander så som n-butylamin, trietanolamin eller N-cykloheksyldietanolamin, nikkel dibutylditiokarbomat, nikkelsalter av monoalkylesteme, for eksempel metyl- eller etylester, av 4-hydroksy-3,5-di-tert-butylbenzylfosfonsyre, nikkelkomplekser av ketoksimer, for eksempel av 2-hydroksy-4-metylfenylundecykletoksim, nikkelkomplekser av l-fenyl-4-lauroyl-5-hydroksypyrazol, med eller uten ytterligere ligander.
2.6. Sterisk hindrede aminer, for eksempel bis(2,2,6,6-tetrametyl-4-piperidyl)sebacat,
bis (2,2,6,6-tetrametyl-4-piperidyl)suksinat, bis (l,2,2,6,6-pentametyl-4-piperidyl)sebacat, bis (2-oktyloksy-2,2,6,6-tetrametyl-4-piperidyl)sebacat, bis (l,2,2,6,6-pentametyl-4-piperidyl)n-butyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroksybenzylmalonat, kondensatet av l-(2-hydroksyetyl)-2,2,6,6-tetrametyl-4-hydroksypiperidin og ravsyre, lineære eller sykliske kondensater av N,N'-bis(2,2,6,6-tetrametyl-4-pipeirdyl)heksametylendiamin og 4-tert-oktylamino-2,5-diklor-l,3,5-triazin, tris (2,2,6,6-tetrametyl-4-piperidyl)nitrilacetat, tetrakis (2,2,6,6-tetrametyl-4-piperidyl)-1,2,3,4-butan-tetrakarboksylat, 1,1 'etandiyl)-bis(3,3,5,5-tetrametylpiperazinon), 4-benzoyl-2,2,6,6-tetrametylpiperidin, 4-stearyloksy-2,2,6,6-tetrametylpiperidin, bis (1,2,2,6,6-pentametylpiperidyl)-2-n-butyl-2-(2-hydroksy-3,5-di-tert-butylbenzyl)malonat, 3-n-oktyl-7,7,9,9-tetrametyl-l,3,8-triazospiro[4,5]dekan-2,4-dion, bis(l-oktyloksy-2,2,6,6-tetrametylpiperidyl)sebacat, bis (l-ok yloksy, 2,2,6,6-tetrametylpiperidyl)-suksinat, lineære eller sykliske kondensater av N,N'-bis(2,2,6,6-tetrametyl-4-piperidyl)heksametylendiamin og 4-morfolin-2,6-diklor-l,3,5-triazin, kondensatet av 2-klor-4,6-bis(4-n-butylamino-2,2,6,6-tetrametylpiperidyl)-1,3,5-triazin og 1,2-bis(3-aminopropylamino)etan kondensatet av 2-klor-4,6-di-(4-n-butylamino-1,2,2,6,6-pentametylpiperidyl)-l,3,5-triazinog l,2-bis-(3-aminopropylamino)etan, 8-acetyl-3-dodecyl-7,7,9,9-tetrametyl-l,3,8-triazospiro [4,5Jdekan, 2,4-dion, 3-dodecyl-2-(2,2,6,6-tetrametyl-4-pipeirdyl)pyrrolidin-2,5-dion, 3-dodecyl-1 -(1,2,2,6,6-
pentametyl-4-piperidyl)pyrrolidin-2,5-dion, en blanding av 4-heksadecyloksy- og 4-stearyloksy-2,2,6,6-tetrametylpiperidin, et kondensasjonsprodukt av N,N'-bis(2,2,6,6-tetrametyl-4-pipeirdyl)heksametylendiamin og 4-cykloheksylamino-2,6-diklor-l,3}5-triazins et kondensasjonsprodukt av 1,2-bis (3-aminopropylamino)etan og 2,4,6-triklor-l,3,5-triazin så vel som 4-butylamino-2,2,6,6-tetrametylpiperidin (CAS Reg. Nr. [136504-96-6]; N-(2,2,6,6-tetrametyl-4-piperidyl)-n-dodecyl-suksinimid, N-(l ,2,2,6,6-pentametyl-4-piperidyl)-n-dodecylsuksinimid, 2-undecyl-7,7,9,9-tetrametyl-l-oksa-3,8-diaza-4-okso-spiro[4,5]dekan, et reaksjonsprodukt av 7,7,9,9-tetrametyl-2-cykloundecyl-l-oksa-3,8-diaza-4-oksospiro [4,5] dekan og epiklorohydrin, 1, l-bis(l ,2,2,6,6-pentametyl-4-piperidyloksykarbonyl)-2-(4-metoksyfenyl)eten, N,N'-bis-formyl-N,N'-bis(2,2,6,6-tetrametyl-4-piperidyl)-heksametylendiamin, diester av 4-metoksy-metylen-malonsyre med 1,2,2,6,6-pentametyl-4-hydroksypiperidin, poly[metylpropyl-3-oksy-4-(2,2,6,6-tetrametyl-4-piperidyl)]siloksan, reaksjonsprodukt av meleinsyre anhydrid-a-olefin-kopolymer med 2,2,6,6-tetrametyl-4-aminopiperidin eller l,2,2,6,6-pentametyl-4-amino-piperidin.
2.7. Oksamider. for eksempel 4,4'dioktyloksyoksanilid, 2,2'-dietyoksyoksanilid, 2,2'-dioktyloksy-5,5'-di-tert-butoksanilid, 2,2'-didodecyloksy, 5,5'-di-tert-butoksanilid, 2-etoksy-2'-etylokanilidi, N,N'-bis(3-dimetyIaminopropyl)okamid, 2-etoksy-5-tert-butyl-2'-etoksanilid og dets blanding med 2-etoksy-2,-etyl-5,4'-di-tert-butoksanilidi, blandinger av o- og p-metoksy-disubstituerte oksanilider og blandinger av o- og p-etoksy-disubstituerte oksanilider.
2.8. 2- f2- hydroksyfenylV 1, 3, 5- tiraziner, for eksempel 2,4,6-tris(2-hydroksy-4-oktyloksyfenyl)-1,3,5-triazin, 2-(2-hydroksy-4-oktyloksyfenyl)-4,6-bis(2,4-dimetylfenyl)-l,3,5-triazin, 2-(2,4-dihydroksyfenyl)-4,6-bis(2,4-dimetylfenyl)-1,3,5-triazin, 2,4-bis(2-hydroksy-4-propyloksyfenyl)-6-(2,4-dimetylfenyl)-1,3,5-triazin, 2-(2-hydroksy-4-oktyloksyfenyl)-4,6-bis(4-metylfenyl)-l,3,5-triazin, 2-(2-hydroksy-4-dodecyloksyfenyl)-4,6-bis(2,4-dimetylenyl)-1,3,5-triazin, 2-(2-hydroksy-4-tri-decyloksyfenyl)-4,6-bis(2,4-dimetylfenyl), 1,3,5-triazin, 2-[2-hydroksy-3-butyloksy-propoksy]-4,6-bis(2,4-dimetyl)-1,3,5-triazin, 2-[2-hydroksy-4-(2-hydroksy-3-oktyloksy-propyloksy)fenyl]-4,6-bis(2,4-dimetyl)-1,3,5-triazin, 2-[4-(dodecyloksy/trdecyloksy-2-hydroksypropoksy)-2-hydroksy-fenyl]-4,6-bis(2,4-di-metylfenyl)-1,3,5-triazin, 2-[2-hydroksy-4-(2-hydroksy-3-dodecyloksy-propoksy)fenyl]-4,6-bis(2,4-dimetylfenyl)-l,3,5-triazin, 2-(2-hydroksy-4-heksyloksy)fenyl-4,6-difenyl-1,3,5-triazin, 2-(2-hydroksy-4-metoksyfenyl)-4,6-difenyl-l,3,5-triazin, 2,4,6-tris[2-
hyd^ksy-4-(3-butoksy-2-hydroksy-propoksy)fenyl]-l,3,5-triazin, 2-(2-hydroksyfenyl)-4-(4-metoksyfenyl)-6-fenyl-1,3,5-triazin, 2- {2-hydroksy-4-[3-(2-etylheksyl-1 - oksy)-2-hydroksypropyloksy]fenyl}-4,6-bis(2,4-dimetylfenyl)-l,3,5-tria^ 3. Metalldeaktivatorer. for eksempel N,N'-difenyloksamid, N-salisylal-N'-salisyloyl hydrazin, N,N'-bis(saIisyloyl) hydrazin, N,N'-bis(3,5-di-tert-butyI-4-hydroksyfenylpropionyl)hydrazin, 3-salisyloylamino-1,2,4-triazol, bis(benzyliden)oksalyldihydrazid, oksanilid, isoftaloyldihydrazid, sebacoyl-bisfenylhydrazid, N,N'-diacetyladipoyldihydrazid, N,N'- bis(salisyloyl)okalyl-dihydrazid, N,N'-bis(salisyloyl)tiopropionyldihydrazid. 4. Fosfittter og fosfonitter. for eksempel fosfittt, difenylalkylfosfittter, fenyldialkyl-fosfittter, tris(nonylfenyl)fosfittter, trilaulylfosfitte, triotadecylfosfitt, distearyl-pentaerytriotoldifosfitt, tris(2,4-di-tert-butylfenyl)fosfitt, diisodecylpentaerytritol-difosfitt, bis(2,4-di-tert-butylfenyl)pentaerytriotol difosfitt, bis(2,6-di-tert-butyl-4-metylfenyl)-pentaerytritoIdifosfitt, diisodecyloksypentaerytritoldifosfitt, bis(2,4-di-tert-butyl-6-merylfenyl)pentaerytritoldifosfitt, bis(2,4-6-tris(tert-butylfenyl)penta-erytritoldifosfitt, tristearylsorbitoltrifosfitt, tetrakis(2,4-di-tert-butylfenyl) 4,4'-bifenylendifosfitt, 6-isooktyloksy-2,4,8,10-tetra-tert-butyM2H-dibens[dg]-l,3,2-dioksfosfosin, 6-fluor-2,4,8,10-tetra-tert-butyl-12-metyldibens[d,g]-1,3,2-dioksafosfosin, bis(2,4-di-tert-butyl-6-metylfenyl)metylfosfitt, bis(2,4-di-tert-butyl-6-metylfenyl) etylfosfitt, 2,2',2''-nitrilo[trietyltirs(3,3',5,5'-tetra-tert-butyl-l,l '-bifenyl-2,2'-diyl)fosfitt]. 2-etylheksyl (3,3,5,5'-tetra-tert-butyl-l,1 '-bifenyl-2,2'-di-yl)fosfitt.
Spesielt foretrukket er følgende fosfitter:
Tris(2,4-di-tert-butylfenyl)fosfitt ("Irgafos 168", Ciba Ceigy), tris(nonylfenyl)fosfitt, 5. Hvdroksvlaminer, for eksempel, N,N-dibenzylhydroksylamin, N,N-dietylhydroksy-amin, N,N-dioktylhydroksylamin, N,N-dilaurylhydroksylamin, N,N-ditetradecyl-hydroksylamin, N,N-diheksadecylhydroksylamin, N,N-dioktadecylhydroksylamin, N-heksadecyl-N-oktadecylhydroksylamin, N-heptadecyl-N-oktadecylhydroksylamin, N,N-dialkylhydroksylamin avledet fra hydrogenert talgamin. 6. Nitroner. for eksempel, N-benzyl-alfa-fenyl-nitron, N-etyl-alfa-metyl-nitron, N-oktyl-alfa-heptyl-nitron, N-laural-alfa-undecyl-nitron, N-tetradecyl-alfa-tridecyl-nitron, N-heksadecyl-alfa-pentadecyl-niron, N-oktadecyl, alfa-heptadecyl-nitron, N-heksadecyl-alfa-heptadecyl-nitron, N-oktadecyl-alfa-pentadecyl-nitron, N-heptadecyl-alfa-heptadecyl-nitron, N-oktadecyl-alfa, heksadecyl-nitron, nitron avledet fra N,N-dialkylhydroksyiamin fra hydrogenert talgamin.
7. Tiosvner<g>ister. for eksempel, dilauryltiodipropionat eller distearyltiodipropionat.
8. Peroksvd rensemidler, for eksempel estere av P-tiodipropionsyre, for eksempel lauryl, stf aryl, myristyl- eller tridecylestere, merkaptobenzimidazol eller sinksaltet av 2-merkaptobenzimidazol, sinkdibutylditiokarbamat, dioktadecyldisulfid, pentaerytriotol-tetrakis(p-dodecylmerkapto)propionat. 9. Polvamidstabilieringsmidler. for eksempel, kobbersalter i kombinasjon med iodider og/eller fosforholdige forbindelser og salter av toverdig mangan. 10. Basiske kostabilisatorer. for eksempel, melamin, polyvinylpyrrolidon, dicyandiamid, triallylcyanurat, ureaderivater, hydrazinderivater, aminer, polyamider, polyuretaner, alkalimetallsalter og jordalkalimetallsalter av høyere fettsyrer, for eksempel kalsiumstearat, sinkstearat, magnesiumbehenat, magnesiumstearat, natriumrisinoleat og kaliumpalmitat, antimonpyrokatekolat eller sinkpyrokatekolat. 11. Nukleeringsmidler. for eksempel uorganiske stoffer så som talkum, metalloksyder så som titandioksyd eller magnesiumoksyd, fosfater, karbonater eller sulfater av, fortrinnsvis, jordalkalimetaller, organiske forbindelser så som mono- eller polykarboksylsyrer og salter derav, for eksempel 4-tert-butylbenzosyre, adipinsyre, difenyleddiksyre, natriumsuksinat eller natriumbenzoat; polymere forbindelser så som ioniske kopolymerer (ionomerer). 12. Fyllstoffer og armeringsmidler. for eksempel, kalsiumkarbonat, silikater, glassfibrer, glasskuler, asbest, talk, kaolin, glimmer, bariumsulfat, metalloksyder og -hydroksyder, kjønrøk, grafitt, tremel og mel av fibrer av andre naturlige produkter, syntetiske fibrer. 13. Andre additiver, for eksempel, mykner, smøremidler, emulgeringsmidler, pigmenter, reologiadditiver, katalysatorer, strømningskontrollmidler, optiske lysnere, flammebeskyttelsesmidler, antistatiske midler og esemidler. 14. Benzofuranoner og indolinoner, for eksempel de som er beskrevet i U.S. 4,325,863;
U.S. 4,338,244; U.S. 5,175,312; U.S. 5,216,052; U.S. 5,252,642; DE-A 4316611;
DE-A-4316622; EP-A-0589839 eller EP-A-0591102 eller 3-[4-(2-acetoksy-etoky)fenyl]5,7-di-tert-butyl-benzofuran-2-on, 5,7-di-tetr-butyl-3-[4-stearoyloksy-etoksy)fenyl]benzofuran-2-on, 3,3'-bis[5,7-di-tert-butyl-3-(4-[2-hydroksy-etoksy]fenyl)benzofuran-2-on], 5,7-di-tert-butyl-3-(4-etoksyfenyl)benzofuran-2-on, 3 -(4-acetoksy-3,5 -dimetylfenyl) -5,7-di-tert-buty 1-benzo foran- 2-on, 3 -(3,5-dimety 1-4-pivaloyloksyfenyl)-5,5-di-tert-butyl-benzofuran-:--on, 3-(3,4-dimetylfenyl)-5,5-di-tert-butyl-benzofuran-2-on, 3-(2,3-dimetylfenyl)-5,7-di-tert-butyl-benzofuran-2-on.
Naturen og mengden av de ytterligere stabiliseirngsmidlene tilsatt bestemmes ved naturen av substratet som skal stabiliseres og ved dets planlagte anvendelse. Det er vanlig å anvende 0,1-10, for eksempel 0,2-5 vektprosent basert på materialet som skal stabiliseres.
Det er spesielt fordelaktig å anvende forbindelsene i kombinasjon med sterisk hindrede aminer, for eksempel 2,2,6,6-tetraalkylpiperidin derivater. Forbindelsene kan derfor anvendes i en synergistisk stabilisatorblanding innbefattende
(a) en forbindelsse av formel I og
(b) minst et sterisk hindret amin, dets salt med en hvilken som helst ønsket syre eller
dets kompleks med et metall, og omfatter også en sammensetning innbefattende
(A) et organisk materiale som er følsomt for oksidativ, termisk og/eller aktinisk nedbrytning/oppbygning,
(B) minst en forbindelse av formel I, og
(C) et konvensjonelt additiv av typen med sterisk hindrede aminer.
Foretrukne sterisk hindrede aminer er for eksempel de som er angitt i listen ovenfor
under 2.6 eller de som er angitt nedenfor som additiver for de nye beleggingssammensetningene.
Av spesielle interesse er anvendelsen av forbindelsene av formel I som stabiliseringsmidler i syntetiske organiske polymerer, og tilsvarende sammensetninger.
De organiske materialene som skal beskyttes er fortrinnsvis naturlige, halvsyntetiske eller syntetiske organiske materialer. Når det anvendes kosmetiske preparater er det organiske materialet som skal beskyttes vanligvis menneskehud eller dyrehud eller hår.
De nevnte stabilisatorblandingene kan anvendes med spesiell fordel i sammensetninger som innbefatter som komponent A en syntetisk organisk polymer, spesielt en termoplastisk polymer, et bindemiddel for belegg, så som for eksempel malinger, eller et fotografisk materiale. Eksempler på egnede termoplastiske polymerer er polyolefiner, spesielt polyetylen (PE) og polypropylen (PP) og polymerer inneholdende heteroatomer i hovedkjeden.
Eksempler på slike polymerer er de følgende klassene av termoplastiske polymerer:
1. Polyacetaler, så som polyoksymetylen, og de polyoksymetylenene som inneholder komonomerer så som etylenoksyd; polyacetaler som er modifisert med termoplastiske polyuretaner, akrylater eller MBS. 2. Polyfenylenoksyder og -sulfider og deres blandinger med styrenpolymerer eller polyamider. 3. Polyamider og kopolyamider, for eksempel de som er avledet fra diaminer og dikarboksylsyrer og/eller fra aminokarboksylsyrer eller de tilsvarende laktamene, så som polyamid 4, polyamid 6, polyamid 6/6, 6/10, 6/9,6/12,4/5, polyamid 11, polyamid 12, aromatiske polyamider basert på m-xylen, diamin og adipinsyre;
polyamider fremstilt fra heksametylendiamin og iso- og/eller tereftalsyre med eller uten en elastomer som modifiseringsmiddel, for eksempel poly-2,4,4-trimetylheksa-metyleneterpftalamid, poly-m-fenylen isoftalamid. Blokk-kopolymerer av de ovenfornevnte polyamidene med polyolefiner, olefinkopolymerer, ionomerer eller kjemisk bundede eller podede elastomerer; eller med polyetere, for eksempel med polyetylenglykol, polypropylenglykol eller polytetrametylenglykol. Videre, polyamider eller polyamider modifisert med EPDM eller ABS; og polyamider som er kondensert under bearbeidelse (RIM polyamid-systemer).
4. Polyureaer, polyimider, polyamidimider og polybenzimidazoler.
5. Polyestere, for eksempel de som er avledet fra dikarboksylsyrer og dialkoholer og/eller fra hydroksykarboksylsyrer eller de tilsvarende laktonene, så som polyetylen tereftalat, polybutylentereftalat, poly-1,4-dimetylol-cykloheksantereftalat, polyhydroksybenzoater, og også blokk-polyeterestere avledet fra polyetere som har hydroksylendegrupper; og også polyestere modifisert med polykarbonater eller MBS. 6. Polykarbonater og polyesterkarbonater, spesielt aromatiske polykarbonater, for eksempel de som er basert på 2,2-bis(4-hydroksyfenyl)propan eller l,l-bis(4-hydroksy feny l)cykloheksan. 7. Polysulfoner, polyetersulfoner og polyeterketoner, spesielt aromatiske polymerer fra denne klassen. 8. Blandinger (polyblends) av slike polymerer med hverandre eller med andre polymerer, for eksempel med polyolefiner, polyakrylater, polydiener eller andre elastomerer som støtmodifiseringsmidler.
Blant disse gis preferanse til polykarbonatene, polyesterne, polyamidene, polyacetalene, polyfenylenoksydene og polyfenylensulfidene, men spesielt til polykarbonatene. Polykarbonater forstås å være spesielt de polymerer som utgjør gjentagende enheter i formelen - [O-A-O-CO]-, hvori A er en toverdig fenolisk rest. Eksempler på A er blant annet gitt i US-A-4 960 863 og i DE-A-39 22 496.
Polymerene av komponent (A) kan være lineære eller forgrende. Formingene av disse polymerene finner sted ved relativ høy temperatur; polykarbonat injeksjonsstøpes for eksempel ved 220-330°C. Ved disse temperaturene er hoveddelen av de vanlige lysstabiliseringsmidlene og antioksydantene ustabile og begynner å brytes ned. De ovenfomevnte blandingene er imidlertid ekstremt temperaturstabile og er derfor spesielt egnede for stabilisering av de nevnte polymerene.
Anvendelse av flerlags (multicoat)-systemer er også av interesse. I dette tilfellet påføres en ny polymersammensetning som har et relativt høyt innhold av nytt stabiliseringsmiddel, for eksempel 5-15 vektprosent, i et tynt belegg (10-100 um) på en formgitt gjenstand innbefattende en polymer som inneholder lite eller intet stabiliseringmiddel av formel I. Påføring kan finne sted ved samme tid som formingen av basisstrukturen, for eksempel ved koekstrudering. Påføring kan imidlertid også foretas på den allerede formede basisstrukturen, for eksempel ved laminering med en film eller ved belegging med en oppløsning. Det ytre belegget eller beleggene av den ferdige gjenstanden har funksjonen av et UV-filter som beskytter det indre av gjenstanden mot UV-lys. Det ytre belegget inneholder fortrinnsvis 5-15 vektprosent, spesielt 5-10 vektprosent, av minst en forbindelse av formel I. Polymerene stabilisert på denne måten utmerker seg ved høy vær-påvirkningsstabilitet, og spesielt ved høy resistens mot UV-lys. Som et resultat bevarer de, selv når de anvendes utendørs, de mekaniske egenskapene og fargene og glansen over et langt tidsrom.
Tilsvarende spesielt foretrukne organiske materialer er beleggingssammensetninger og fotografisk materiale.
Oppfinnelsen tilveiebringer derfor fortrinnsvis også en sammensetning hvori den nye forbindelsen er inkorporert i en termoplastisk polymer, et filmdannende bindemiddel, spesielt et basert på akrylisk-, alkyd-, polyuretan- eller polyamidharpiks eller egnede modifiserte harpikser, et fotografisk materiale eller et kosmetisk preparat, innbefattende et kosmetisk hårpreparat, for eksempel et kosmetisk middel eller en solkrem. Materialet som skal beskyttes (komponent A) kan i dette tilfellet for eksempel være en termoplastisk polymer, et filmdannende bindemiddel, spesielt et basert på akrylisk-, alkyd-, polyuretan-, polyester-, eller polyamidharpiks eller egnede modifiserte harpikser, eller fotografisk materiale eller menneskelig eller dyrehud eller hår.
Anvendelsen av de nye forbindelsene som stabiliseringsmidler for belegg, for eksempel for malinger, er av spesiell interesse. Oppfinnelsen omfatter derfor også de forbindelsene hvis komponent A er et filmdannende bindemiddel.
Den nye beleggsammensetningen inneholder fortrinnsvis 0,01-10 vektdeler, spesielt 0,05-10 vektdeler, og spesielt 0,1-5 vektdeler av det nye stabiliseringsmiddelet B pr. 100 vektdeler av fast bindemiddel A.
Flerbeleggsystemer er også mulige her, hvori konsentrasjonen av forbindelsen av formel I (komponent B) i toplaget kan være høyere, for eksempel fra 1 til 15 vektdeler, spesielt 3-10 vektdeler B per. 100 vektdeler av fast bindemiddel A.
Anvendelsen av forbindelsen av formel 1 som et stabiliseringsmiddel i belegg medfører den ytterligere fordelen at delaminering, dvs. avflaking av belegget fra substratet, forhindres. Denne fordelen manifesterer seg spesielt i tilfelle metalliske substrater, selv i tilfelle med flerbeleggs (multicoat)-systemer på metalliske substrater.
Egnede bindemidler (komponent A) er i prinsippet alle de som er vanlige innen teknikken, for eksempel de som er beskrevet i Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, 5. Utgave, Bind Al 8, s. 368-426, VCH, Weinheim 1991. Bindemiddelet er generelt et filmdannende bindemiddel basert på en termoplastisk eller termoherdende harpiks, hovedsakelig på en termoherdende harpiks. Eksempler på dette er alkyd-, akryliske-, polyester-, fenoliske-, melamin-, epoksy- og polyuretan harpikser og blandinger derav.
Komponent A kan være et kald-herdbart eller varme-herdbart bindemiddel, tilsetningen av en herdekatalysator er eventuelt fordelaktig. Eksempler på egnede katalysatorer som akselererer herdingen av bindemidlene er beskrevet i Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, Bind A18, s. 469, VCH Verlagsgesellschaft, Weinheim 1991.
Preferanse gis til beleggsammensetninger hvori komponent A er et bindemiddel innbefattende en funksjonell akrylatharpiks og et tverrbindingsmiddel.
Eksempler på beleggingssammensetninger med spesifikke bindemidler er:
1. Malinger basert på kulde- eller varme-tverrbindbare alkyd-, akrylat-, polyester, epoksy- eller melaminharpikser eller blandinger av slike harpikser, med eller uten tilsetning av en herdekatalysator; 2. to-komponent polyuretanmalinger basert på hydroksyl-holdig akrylat, polyester eller polyeterharpikser og på alifatiske eller aromatiske isocyanater, isocyanurater eller polyisocyanater; 3. en-komponent polyuretanmalinger basert på blokkerte isocyanater, isocyanurater eller polyisocyanater som avblokkeres under forløpet av ovnsbehandling; 4. en-komponent polyuretanmalinger basert på alifatiske eller aromatiske uretaner eller polyuretaner og på hydroksylholdige akrylat-, polyester-, eller polyeterharpikser; 5. en-komponent polyuretanmalinger basert på alifatiske eller aromatiske uretanakrylater eller polyuretanakrylater som har frie amingrupper i uretanstrukturen og på melaminharpikser eller polyeterharpikser med eller uten tilsetning av en herdekatalysator; 6. to-komponent malinger basert på (poly)ketiminer og på alifatiske eller aromatiske isocyanater, isocyanurater eller polyisocyanater; 7. to-komponent malinger basert på (poly)ketiminer og på en umettet akrylatharpiks eller en polyacetoacetatharpiks eller en metakrylamidoglykolatmetylester: 8. to-komponent malinger basert på karboksyl- eller aminoholdige polyakrylater og polyepoksyder; 9. to-komponent malinger basert på akrylatharpikser inneholdende anhydridgrupper og på en polyhydroksy- eller polyaminokomponent; 10. to-komponent malinger basert på akrylatholdige anhydrider og polyepoksyder; 11. to-komponent malinger basert på (poly)oksasoliner og på akrylatharpikser inneholdende anhydridgrupper, eller umettede akrylatharpikser eller alifatiske eller aromatiske isocyanater, isocyanurater eller polyisocyanater; 12. to-komponent malinger basert på umettede polyakrylater og polymalonater; 13. termoplastiske polyakrylatmalinger basert på termoplastiske akrylatharpikser eller eksternt tverrbindende akrylatharpikser i kombinasjon med foretrede melaminharpikser; 14. malingsystemer basert på siloksanmodifiserte eller fluormodifiserte akrylatharpikser.
Den nye beleggsammensetningen innbefatter fortrinnsvis, i tillegg til komponentene A og B, som komponent C et lysstabiliseringsmiddel av den sterisk hindrede amin-, 2-(2-hydroksyfenyl)-l ,3,5-triazin og/eller 2-hydroksyfenyl-2H-benzotriazol-typen, for eksempel som angitt i listen ovenfor under seksjonene 2,1,2,6 og 2,8. Av spesiell teknisk interesse i denne forbindelsen er tilsetningen av 2-monoresorsinyl-4,6-diaryl-1,3,5-triaziner og/eller 2-hydroksyfenyl-2H-benzotriazoler.
For å oppnå maksimal lysstabilitet er det spesielt fordelaktig å tilsette sterisk hindrede aminer, som angitt i den ovenfor angitte listen under 2,6. Oppfinnelsen tilveiebringer derfor også en beleggsammensetning som i tillegg til komponenter A og B innbefatter som komponent C et lysstabiliseringsmiddel av den sterisk hindrede amintypen.
Stabiliseringsmiddelet er fortrinnsvis et 2,2,6,6-tetraalkylpiperidin derivat som innbefatter minst en gruppe av formelen
hvori R er hydrogen eller metyl, spesielt hydrogen.
Komponent C anvendes fortrinnsvis i en mengde på 0,05-5 vektdeler pr. 100 vektdeler av det faste bindemiddelet. Eksempler på tetraalkylpiperidinderivater som kan anvendes som komponent C er angitt i EP-A-356 677, s. 3-17, seksjoner a) til f). Disse seksjonene av EP-A betraktes som del av foreliggende beskrivelse. Det er spesielt fordelaktig å anvende følgende tetraalkylpiperidinderivater: bis-(2,2,6,6-tetrametylpiperidin-4-yl)suksinat
bis-(2,2,6,6-tetrametylpiperidin-4-yl)sebacat,
bis-( 1,2,2,6,6-pentametylpiperidin-4-yl)sebacat
di(l,2,2,6,6-pentametylpiperidin-4-yl)butyl(3,5-di-tert-butyl-4-h benzyl)malonat,
bis-(l-oktyloksy-2,2,6,6-tetrarnetylpiperidin-4-yl)sebacat
tetra(2,2}6,6-tetrametylpiperidin-4-yl)butan-l,2,3,4-tetr^aiboksylat, tetra( 1,2,2,6,6-peritametylpiperidin-4-yl)butan-1,2,3-tetrakarboksylat, 2,2,4,4-tetrametyl-7-oksa-3,20-diaza-21-oksodispiro[5.1.11.2]heneikosan, 8-acetyl-3-dodecyl-l)3,8-tiraza-7,7,9,9-tetrametylspiro[4,5]dekan-2)4-dion, 1,1 -bis(l ,2,2,6,6-pentametylpiperidin-4-yl-oksykarbonyl)-2-(4-metoksyfenyl)-eten) eller en forbindelse av formelen
hvor m er 5-50.
I tillegg til komponentene A, B og, dersom den er til stede, C, kan beleggsammensetningen også innbefatte ytterligere komponenter, for eksempel oppløsningsmidler, pigmenter, fargestoffer, mykningsmidler, stabiliseringsmidler, tikotropiske midler, tørkekatalysatorer og/eller nivelleringsassisterende midler. Eksempler på mulige komponenter er de som er beskrevet i Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, 5. Utgave, bind A18, s. 429-471, VCH, Weinheim 1991.
Mulige tørkende katalysatorer eller herdende katalysatorer er for eksempel organometalliske forbindelser, aminer, aminoholdige harpikser og/eller fosfiner. Eksempler på organometalliske forbindelser er metallkarboksylater, spesielt de av metallene Pb, Mn, Co, Zn, Zr eller Cu, eller metallgelater, spesielt de av metaller Al, Ti eller Zr, eller organometalliske forbindelser, så som for eksempel organotinn-forbindelser.
Eksempler på metallkarboksylater er stearatene av Pb, Mn eller Zn, oktoatene av Co, Zn eller Cu, naftenatene av Mn og Co eller de tilsvarende linoleatene, resinatene eller tall åtene.
Eksempler på metallgelater er aluminium-, titan- eller zirkoniumgelater av acetylaceton, etylacetylacetat, salisylaldehyd, salisylaldoksim, o-hydroksyacetofenon eller etyltrifluoracetylacetat, og alkoksidene av disse metallene. Eksempler på organotinn-forbindelser er dibutyltinnoksyd, dibutyltinndilaurat eller dibutyltinndioktoat.
Eksempler på aminer er spesielt tertiære aminer, for eksempel tributylamin, trietanolamin, N-metyldietanolamin, N-dimetyletanolamin, N-etylmorfolin, N-metylmorfolin eller diazabicyklooktan (trietylendiamin) og deres salter. Ytterligere eksempler er kvartemære ammoniumsalter, for eksempel trimetylbenzylarnmonium-klorid. Aminoholdige harpikser er samtidig bindemiddel og herdekatalysator. Eksempler på dette er aminoholdige akrylat-kopolymerer. Fosfiner, for eksempel trifenylfosfin, kan også anvendes som herdekatalysator.
Beleggingssammensetningene kan også være strålingsherdbare beleggsammensetninger. I dette tilfellet består bindemiddelet i det vesentlige av monomere eller oligomere forbindelser som har etylenisk umettede bindinger (prepolymerer), som etter påføring herdes, dvs. omdannes til en tverrbundet form med høy molekelær masse, ved aktinisk stråling. Hvor systemet er et UV-herdende system innbefatter det generelt også en fotoinitiator. Egnede systemer er beskrevet i den tidligere nevnte publikasjonen Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, 5. Utgave, bind Al 8, s. 451-453. I strålings-herdbare beleggingssammensetninger kan de nye stabilisatorene anvendes selv uten tilsetting av sterisk hindrede aminer.
Beleggsammensetningene kan påføres på et hvilket som helst ønsket substrat, for eksempel på metall, tre, plast eller keramiske materialer. I tilfelle med sluttbehandling av biler anvendes de fortrinnsvis som toppbelegg. Dersom toppbelegget består av to lag hvorav det nederste laget er pigmentert og det øverste laget ikke er dette, så kan den nye beleggsammensetningen anvendes for det øvre eller det nedre laget eller for begge lag, men fortrinnsvis for det øvre laget.
De nevnte beleggsammensetningene kan påføres på substratene ved vanlige teknikker, for eksempel ved utspredning, spraying, flytebelegging, dypping eller elektroforese, se også Ullmaru<V>s Encyclopedia of Industrial Chemistry, 5. Utgave, bind A18, s. 491-500.
Avhengig av bindemiddelsystemet kan belegget herdes ved romtemperatur eller ved oppvarming. Belegget herdes fortrinnsvis ved 50-150°C, pulverbelegg også ved høyere temperaturer.
Beleggene oppnådd ifølge oppfinnelsen har en utmerket resistens mot de beskadigende effektene av lys, oksygen og varme; spesielt bør nevnes den gode lysstabiliteten og værpåvirkningsstabiliteten av de resulterende beleggene, for eksempel malinger.
Beleggsammensetningene kan innbefatte et organisk oppløsningsmiddel eller en oppløsningsmiddelblanding hvori bindemiddelet er oppløselig. Beleggsammensetningen kan imidlertid også være en vandig oppløsning eller dispersjon. Bæreren kan også være en blanding av et organisk oppløsningsmiddel og vann. Beleggsammensetningen kan også være et system med høyt faststoff-innhold eller det kan være oppløsningsmiddelfritt (for eksempel pulverbelegg). Pulverbelegg er de som for eksempel er beskrevet i Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, 5. Utgave, bind A18, s. 438-444. Pulverbelegget kan også være i form av en pulveroppslemming, dvs. en dispersjon av pulveret i, fortrinnsvis vann.
Pigmentene kan være uorganiske, organiske eller metalliske pigmenter. De nye beleggsammensetningene inneholder fortrinnsvis ingen pigmenter og anvendes som klart belegg.
De nye forbindelsene av formel I er også spesielt egnede som UV-filtere for beskyttelse av huden og håret av mennesker og dyr mot den skadelige virkningen av UV-stråling. Disse forbindelsene er derfor egnede som lysstabiliseringsmidler i kosmetiske, farma-søytiske og veterinærmedisinske preparater. Disse forbindelsene kan anvendes i oppløsning eller i den mikroniserte tilstanden.
Oppfinnelsen tilveiebringer derfor i tillegg et kosmetisk preparat innbefattende minst en forbindelse av formel 1 og kosmetisk kompatible hjelpestoffer eller tilsatsstoffer, som angitt i krav 22 samt anvendelse av dette som angitt i krav 23.
For kosmetisk anvendelse har de nye lysstabiliseringsmidlene, med mindre de er oppløst, vanligvis en gjennomsnittlig partikkelstørrelse i området fra 0,02 til 2, fortrinnsvis 0,05 til 1,5, og, med meget spesiell preferanse, fra 0,1 til 1,0 um. De uoppløselige nye UV-absorbsjonsmidlene kan bringes til den ønskede partikkel-størrelsen ved vanlige fremgangsmåter, for eksempel maling med for eksempel en strålemølle, kulemølle, vibrasjons- eller hammermølle. Maling utføres fortrinnsvis i nærvær av fra 0,1 til 30, fortrinnsvis fra 0,5 til 15 vektprosent, basert på UV-absorbsjonsmiddelet, av et maleassisterende middel så som for eksempel en alkylert vinylpyrrolidonpolymer, en vinylpyrrolidon-vinylacetatkopolymer, et acylglutamat eller, spesielt, et fosfolipid.
I tillegg til de nye UV-absorbsjonsmidlene kan de kosmetiske preparatene også innbefatte et eller flere andre UV-beskyttende midler, for eksempel triaziner, oksanilider, triazoler eller vinylholdige amider eller cinnamamider. Slike beskyttende midler er for eksempel beskrevet i GB-A-2,286,774 eller er ellers kjente fra Cosmetics & Toiletries (107) 50 ff (1992).
De nye kosmetiske preparatene inneholder fra 0,1 til 25, for eksempel fra 0,1 til 15, spesielt fra 0,5 til 10 vektprosent, basert på den samlede vekten av sammensetningen, av et UV-absorbsjonsmiddel eller en blanding av UV-absorbsjonsmiddelet og et kosmetisk kompatibelt hjelpestoff.
De kosmetiske preparatene kan fremstilles ved fysisk blanding av UV-absorbsjonsmiddelet eller absorbsjonsmidlene med hjelpestoffet ved vanlige fremgangsmåter, for eksempel ved enkel sammenrøring av de individuelle komponentene.
De nye kosmetiske preparatene kan formuleres som en vann-i-olje, eller olje-i-vann-emulsjon, som en olje-i-alkohol-lotion som en vesikulær dispersjon av en ionisk eller ikke-ionisk amfifil væske, som en gel, som en fast stift eller som en aerosolformulering. Som en vann-i-olje eller olje-i-vann-emulsjon inneholder det kosmetiske kompatible hjelpestoffet fortrinnsvis fra 5 til 50% av en oljefase, fra 5 til 20% av et emulgerings-middel og fra 30 til 90% vann. Oljefasen kan i dette tilfellet være en hvilken som helst olje som er egnet for kosmetiske preparater, for eksempel en eller flere hydrokarbon-oljer, en voks, en naturlig olje, en silikonolje, en fettsyreester eller en fettalkohol. Foretrukne monooler og polyoler er etanol, isopropanol, propylenglykol, heksylen-glykol, glyserol og sorbitol.
Kosmetiske hovedpreparater kan være
• i form av en shampooo, en lotion, en gel eller en emulsjon for rensing, før eller etter shampoonering, før eller etter tørking eller bleking, før eller etter en permanentbehandling eller før eller etter en utrettingsoperasjon,
• i form av en lotion, en mousse eller en gel for styling eller behandling,
• i form av en lotion eller en gel for børsting eller for bølgedannelse,
• i form av en hårlakk,
• i form av et preparat for permanentbehandling eller for utglatting, for tørking eller bleking av håret.
For eksempel kan følgende kosmetiske hårpreparater anvendes:
aj) en spontant emulgerende forrådsformulering bestående av UV-absorbsjonsmiddelet,
PEG-6-Cio oksoalkohol og sorbitanseskioleat, hvortil vann og en hvilken som helst kvaternær ammoniumforbindelse, for eksempel 4% minkamidopropyl-dimetyl-2-hydroksyetylammoniumklorid eller kvatemium 80 tilsettes;
a2) en spontant emulgerende forråds formulering bestående av UV-absorbsjonsmiddelet,
tributylcitrat og PEG-20-sorbitan monooleat, hvortil vann og en hvilken som helst ønsket kvaternær ammoniumforbindelse, for eksempel 4% minkamidopropyl-dimetyl-2-hydroksyetylammoniumklorid eller kvatemium 80 tilsettes;
b) kvat-dopede oppløsninger av UV-absorbsjonsmiddelet i butyltriglykol og tributylcitrat; c) dispersjoner av mikroniserte UV-absorbsjonsmidler oppnådd ved kjente fremgangsmåter (utfelling fra oppløsninger eller blandede oppløsninger, maling) som har en gjennomsnittlig diameter på 0,05-1,0 mm i (for eksempel "Plantaren") og en kvat (for eksempel minkamidopropyldimetyl-2-hydroksyetylammoniumklorid) i et vandig preparat. d) blandinger eller oppløsninger av UV-absorbsjonsmiddelet med n-alkylpyrrolidon.
De kosmetiske preparatene kan også innbefatte ytterligere komponenter, hvor eksempler
er bløtgjørende midler, emulsjonsstabiliseringsmidler, hudfuktende midler, brunfargings akseleratorer, fortykningsmidler så som xantan, fuktighetsretensjonsmidler så som glyserol, konserveringsmidler, duftstoffer og fargestoffer.
Foreliggende oppfinnelse omfatter videre en fremgangsmåte for behandling av menneskelig hår for beskyttelse mot en skadelig virkning av UV-stråling, i henhold til krav 25.
De nye kosmetiske preparatene gir utmerket beskyttelse av den menneskelige huden og håret mot den skadelige innvirkningen av sollys.
Andre materialer som stabiliseres med de nye preparatene er registeringsmaterialer. Med slike materialer menes for eksempel de som er beskrevet i Research Disclosure 1990, 31429 (sidene 474-480) for fotografisk reproduksjon eller andre reprografiske teknikker.
De nye registreringsmaterialene innbefatter for eksempel de for trykkfølsomme kopieringssystemer, mikrokapselfotokopieringssystemer, varmefølsomme kopieringssystemer, fotografiske materiale og fargestråletrykking (ink-jet printing).
De nye registreringsmaterialene har en uventet høy kvalitet, spesielt med hensyn til lysstabilitet.
De nye registreringsmaterialene har en struktur som i og for seg er kjent og som tilsvarer deres anvendelighet. De består av en basis, for eksempel papir eller plastfilm, hvorpå et eller flere belegg påføres. Avhengig av typen materiale inneholder disse beleggene de egnede påkrevde komponentene, i tilfelle fotografisk materiale for eksempel sølv-halogenidemulsjoner, fargekoblingsmidler, fargestoffer og lignende. Materialet ment spesielt for fargestråletrykking har en vanlig basis hvorpå det er et absorbsjonslag som er egnet for farge. Ubelagt papir kan tilsvarende anvendes for fargestråletrykking; i dette tilfellet fungerer papiret samtidig som en basis og har absorbsjonsmiddelet for fargen. Egnet materiale for fargestråletrykking er blant annet beskrevet i US Patent nr. 5,073,448, hvis beskrivelse anses som en del av foreliggende beskrivelse.
Registreringsmaterialet kan også være transparent, for eksempel i tilfelle med proj eksj ons filmer.
Forbindelsen eller forbindelsene av formel I kan inkorporeres i materialet selv under forløpet av fremstillingen; ved papirfremstilling for eksempel ved tilsetting til massen. En annen fremgangsmåte for anvendelse er spraying av materialet med en vandig oppløsning av forbindelsen(e) av formel I, eller tilsetning derav til belegget. Belegget for transparente registreringsmaterialer for projeksjon må ikke inneholde noen lys-spredende partikler, så som pigmenter eller fyllstoffer.
De fargebindende beleggene kan videre innbefatte ytterligere additiver, for eksempel antioksydanter, lysstabiliseringsmidler (innbefattende UV-absorbsjonsmidler som ikke er innbefattet blant de nye UV-absorbsjonsmidlene), viskositetsforbedrende midler, lysnere, biocider og/eller antistatiske forbindelser.
Belegget fremstilles vanligvis som følger:
De vannoppløselige komponentene, for eksempel bindemiddelet, oppløses i vann og blandes. De faste komponentene, for eksempel fyllstoffer og andre additiver som allerede beskrevet, dispergeres i dette vandige mediet. Dispersjon oppnås fordelaktig ved hjelp av utstyr så som ultralydsinnretninger, turbinrørere, homogenisatorer, kolloidmøller, kulemøller, sandmøller, høyhastighetsrørere eller lignende. En spesiell fordel ved forbindelsene av formel I er at de enkelt kan inkorporeres i belegget.
Som nevnt, dekker de nye registreringsmaterialene et bredt anvendelsesfelt. Forbindelser av formel I kan anvendes for eksempel i trykkfølsomme kopieringssystemer. De kan tilsettes til papiret for å beskytte de mikroinnkapslede fargestoff-forstadiene mot lys, eller til bindemiddelet av utviklingslaget for beskyttelse av fargestoffene dannet deri.
Fotokopieringssystemer med lysfølsomme mikrokapsler som utvikles ved trykk er bl.a. beskrevet i US patent nr. 4,416,966; 4,483,912; 4,352,200; 4,5365,463; 4,551,407;
4,562,137 og 4,608,330 og også i EP-A-139,479; EP-A-I62,664; EP-A-164,931; EP-A-237,024; EP-A-237,025 og EP-A-260,129. I alle disse systemene kan forbindelsene av formel I tilsettes til det fargeaksepterende laget. Alternativt kan forbindelsene av formel I tilsettes til donorlaget for beskyttelse av fargedanneme mot lys.
Forbindelsene av formel I kan også anvendes i registreringsmaterialer som er basert på prinsippet med fotopolymerisasjon, fotomykning eller brudd på mikrokapsler, eller når varmefølsomme eller fotosensitive diazoniumsalter, leukofargestoffer med oksydasjons-middel eller fargelaktoner med Lewis syrer anvendes.
Varmefølsomt registreringsmateriale utnytter den fargegivende reaksjonen mellom et fargeløst eller svakt farget basisfargestoff og en organisk eller uorganisk farge-fremkaller, hvor det registrerte bildet fremstilles ved varmeindusert kontakt mellom de to materialene. Denne typen varmefølsomt registreringsmateriale er meget utbredt, ikke bare som registreringsmedium for fakser, datamaskiner osv., men også innenfor mange andre felter, for eksempel ved merketrykking.
Det varmefølsomme registreringsmaterialet består av en basis, et varmefølsomt fargedannende registreringslag på denne basisen og, eventuelt, et beskyttende lag på det varmefølsomme, fargedannende registreirngslaget. Det varmefølsomme, fargedannende registreirngslaget inneholder som hovedbestanddel en fargegivende forbindelse og en fargeutviklende forbindelse, og også en forbindelse av formel I. Dersom det nevnte beskyttende laget er til stede kan forbindelsen av formel (I) også inkorporeres i det beskyttende laget.
Varmefølsomme registreringsmaterialer er for eksempel beskrevet i JP-A 8-267 915.
Ytterligere anvendelsesfelter er registreringsmaterialer for fargediffusjonsover-føringstrykk, termisk voksoverføirngstrykking og prikkmatrikstrykking, og for anvendelse med elektrostatiske, elektrografiske, elektroforetiske, magnetografiske og laser-elektrofotografiske printere, skrivere eller plottere. Av de nevnte materialene foretrekkes registreringsmaterialer for fargediffusjons-overføringstrykking, som beskrevet for eksempel i EP-A-507,734.
Forbindelser av formel I kan også anvendes i farge, spesielt for fargestråletrykking, for eksempel de som er beskrevet i US patent nr. 5,098,477, hvis beskrivelsesinnhold anses som del av foreliggende beskrivelse. Fargen, spesielt for fargestråletrykking, inneholder fortrinnsvis vann. Farger inneholder stabiliseringsmiddelet av formel I vanligvis i en konsentrasjon på fra 0,01 til 20 vektprosent, spesielt fra 0,5 til 10 vektprosent.
De nye registreringsmaterialene, for eksempel fotografiske registreringsmaterialer gir også fordelen sammenlignet med materialer innbefattende konvensjonelle UV-absorbsjonsmidler at UVA'ene av formel I er påkrevet i en relativt liten mengde, hvilket også betyr at tykkelsen av det UVA-holdige laget forblir lav, en faktor som har en positiv effekt blant annet på bildedannelsesegenskapene. En annen fordel ved de nye stabiliseringsmidlene er deres forøkede iboende stabilitet under ekstreme klimatiske forhold, spesielt ved høy fuktighet og høy temperatur. Det nye fotografiske materialet kan være et sort/hvitt eller et fargefotografisk materiale; fargefotografisk materiale er foretrukket.
Eksempler på fargefotografiske materialer er fargenegative filmer, fargereversjons-filmer, fargepositive filmer, fargefotografisk papir, fargereversjonsfotografisk papir, farge-sensitive materialer for fargesto.f diffusjonsoverføringsprosessen eller sølv-fargestoff-blekeprosessen.
Eksempler på egnede basiser for fremstillingen av fargefotografiske materialer er filmer og lag av halvsyntetiske og syntetiske polymerer, så som cellulosenitrat, celluloseacetat, cellulosebutyrat, polystyren, polyvinylklorid, polyetylentereftalat og polykarbonat, og papir laminert med et barytlag eller et a-olefinpolymerlag (for eksempel polyetylen). Disse basisene kan være farget med fargestoffer eller pigmenter, for eksempel titandioksyd. De kan også være farget sorte for formålet med lysavskjerming. Overflaten av basisen underkastes generelt en behandling for å forbedre adhesjonen av det fotografiske emulsjonslaget, for eksempel koronautladning med etterfølgende påføring av et substrat-lag.
Det nye materialet innbefatter fortrinnsvis sølvhalogenidemulsjonslagene som starter fra basisen, i sekvensen blå-følsomt, grønn-følsomt og rød-følsomt lag. I det nye fargefotografiske materialet er UV-absorbsjonsmiddelet fortrinnsvis i et lag over det grønn-følsomme laget, spesielt foretrukket i et lag over sølvhalogenidemulsjonslaget (lagene).
Det nye UV-absorbsjonslaget er fortrinnsvis til stede i det fotografiske materialet i en mengde på fra 0,001 til 10 g pr. m<2>, for eksempel fra 0,01 til 8 g/m<2>, spesielt fra 0,005 til 6 og, spesielt fra 0,01 til 4 g/m<2>.
Det nye fargefotografiske registreringsmaterialet er fortrinnsvis et materiale som har følgende lagsekvens:
Et annet eksempel er et materiale som har en tilsvarende lagstruktur, men hvori lag a er fraværende. Det nye UV-absorbsjonsmiddelet av formel (I), i den angitte lagsekvensen, er målrettet til stede, for eksempel i minst et av lagene a-e, fortrinnsvis i lag a, b, c og/eller d, spesielt i a, b og/eller c, og spesielt i a og/eller b.
Preferanse gis generelt til et fotografisk registreringsmateriale innbefattende en forbindelse av formel (I) i et lag over sølvhalogenidemulsjonslaget (lagene). Preferanse gis også til fotografisk registreringsmateriale innbefattende minst en av hver av et rød-følsomt og grønn-følsomt halogenidemulsjonslag og, mellom dem, et mellomlag, hvor minst en forbindelse av formel (I) er til stede i mellomlaget mellom det rød-følsomme og grønn-følsomme sølvhalogenidemulsjonslaget. Svært spesielt foretrukket fotografisk registreringsmateriale innbefatter minst en av hver av et rød-følsomt, et grønn-følsomt og et blå-følsomt sølvhalogenidemulsjonslag og også minst to mellomlag mellom de tidligere nevnte lagene og et beskyttende lag, hvor minst en forbindelse av formel (I) er til stede i minst et lag over det grønn-følsomme sølvhalogenidemulsjonslaget, og sølvhalogenid-emulsjonslagene inneholder stabiliseirngsmidler for mørklagring og/eller lysstabilisatorer.
Vesentlige bestanddeler av de fargefotografiske emulsjonslagene er bindemidler, sølvhalogenidpartikler og fargekoblingsmidler.
Av spesiell interesse er for eksempel et fargefotografisk registreringsmateriale innbefattende, på en basis, minst et blå-følsomt sølvhalogenidemulsjonslag inneholdende minst et gult koblingsmiddel, minst et grønnfølsomt sølvhalogenid-emulsjonslag inneholdende minst et magentakoblingsmiddel, minst et rød-følsomt sølvhalogenid-emulsjonslag inneholdende minst et cyan koblingsmiddel, og vanlige topplag og mellomlag, hvor minst et av lagene innbefatter en forbindelse av formel (I).
De fotografiske emulsjonene kan være spektralt sensitisert ved anvendelse av metin-fargestoffer eller andre fargestoffer. Spesielt egnede fargestoffer er cyaninfargestoffer og merocyaninfargestoffer, innbefattende komplekse merocyaninfargestoffer.
En oversikt over polymetinfargestoffene som er egnede som spektrale sensitiserings-midler, deres egnede kombinasjoner og supersensiterende kombinasjoner er gitt i Research Disclosure 17643 (desember 1978), kapittel IV.
De forskjellige sensitiserte emulsjonslagene er allokert ikke-diffunderende monomere eller polymere fargekoblingsmidler, som kan være anbragt i det samme laget eller i et nabostilt lag. Det er vanlig å tilskrive cyankoblingsmidler til de rød-følsomme lagene, magentakoblingsmidler til de grønn-følsomme lagene og gule koblingsmidler til de blå-følsomme lagene.
Gule koblingsmidler som kan anvendes i det nye materialet er fortrinnsvis forbindelser av formel A
hvori Ri er alkyl, cykloalkyl, arylamino, anilino, en heterosyklisk gruppe eller aryl, R2 er aryl og Q er hydrogen eller en gruppe som kan elimineres ved reaksjon med det oksyderte fremkallingsmiddelet.
Magentakoblingsmidler kan for eksempel være enkle, l-aryl-5-pyrazoloner, eller pyrazolderivater kondensert med 5-leddede heteroringer, for eksempel imidazo-pyrazoler, pyrsaolopyrazoler, pyrazolotriazoler eller pyrazolotetrasoler.
Cyankoblingsmidler kan for eksempel være derivater av fenol, 1-naftol, pyrazoloasol, pyrroloazol eller av pyrazolokinazolon. En gruppe av cyankoblingsmidler er av formelen E
hvori R21, R22, R23 og R24 er hydrogen, halogen, alkyl, karbamoyl, amino, sulfonamido, fosforamido eller ureido. R21 er fortrinnsvis H eller Cl, R22 er fortrinnsvis en alkyl- eller aminogruppe. R23 er fortrinnsvis en aminogruppe og R24 er fortrinnsvis hydrogen. Q" er hydrogen (4-ekvivalent koblingsmiddel) eller en avspaltbar gruppe (2-ekvivalent koblingsmiddel) som elimineres ved reaksjon med det oksyderte fremkallingsmiddelet. En uttømmende opplisting over cyankoblingsmidler kan finnes i US-A-4,456,681.
Cyankoblingsmidler som er anvendt i det rød-følsomme sølvhalogenidemulsjonslaget av det nye materialet er fortrinnsvis av formelen og/eller av formelen
i
hvori
Zi er alkyl, aryl, Z2 er alkyl, cykloalkyl, aryl, en heterosyklisk gruppe eller en ballast-ruppe, Z3 er hydrogen eller halogen, Z\ og Z3 kan sammen danne en ring, og Z4 er hydrogen eller avspaltbar gruppe, og Z5 er en ballastgruppe, Z* er hydrogen eller en avspaltbar gruppe og Z^ er alkyl; og også de av formlene E20 og/eller E21
hvori Ri fortrinnsvis er substituert fenyl og R2 og R3 er fortrinnsvis H og* X er fortrinnsvis H eller en gruppe som spaltes ved reaksjon med den oksyderte formen av fremkallingsmiddelet, og
hvori Za er -NH- eller -CH(R3)-; Zb og Zc er uavhengig av hverandre -C(R4)= eller N=; Ri, R2 og R3 er hver en elektrontiltrekkende gruppe som har en Hammett substitutent-konstant ap på minst 0,2, med summen av ctp verdier for Ri og R2 på minst 0,65; R4 er H eller en substituent, og dersom to R^er er til stede i formelen kan de være identiske eller forskjellige; og X er H eller en gruppe som er i stand til eliminering eller koblings-reaksjonen med oksydasjonsproduktet av et aromatisk primært amin som fargeutviklingsmiddel; eller Ri, R2, R3, R4 eller X er en toverdig gruppe ved hjelp av hvilke cyankoblingsmiddelet er i stand til å danne en dimer eller høyere polymer, eller å reagere med en polymerkjede for å danne homo- eller kopolymer.
Preferanse gis til et fotografisk materiale hvori det rød-følsomme sølvhalogenid-emulsjonslaget innbefatter et cyankoblmgsmiddel av en av formlene Cl, C2, C3, C4, C5, C6, C7 og C8.
hvori
Z[ er alkyl eller aryl,
Z2 er alkyl, cykloalkyl, aryl, en heterosyklisk gruppe eller en ballastgruppe,
Z3 er H eller halogen, eller Z\ og Z3 dannner sammen en ring,
Z4 er H eller en avspaltbar gruppe,
Z5 er en ballastgruppe,
Zc, er H eller en avspaltbar gruppe,
Zn er alkyl,
Zg og Z9 er uavhengige av hverandre H eller en en substituent, hvor minst en av gruppene Zg og Z9 er en elektron-tiltrekkende gruppe som har en Hammett konstant
(-CTP) på 0,15 eller mer [Zg og Z9 være forbundet med hverandre for å danne en ringstruktur];
Zio er en substituent og
Zi 1 er H eller en avspaltbar gruppe.
Cyankoblingsmidlene kan også være forbundet med hverandre ved hjelp av radikalene Zg, Z9, Zio eller Zi 1 for å danne dimerer eller polymerer.
Egnede avspaltbare grupper er generelt de substituentene som settes fri etter kobling med oksidasjonsproduktet av et fargeutviklingsmiddel basert på aromatiske primære aminer.
Det nye fotografiske materialet innbefatter fortrinnsvis de cyankoblingsmidlene av formler C1-C8, hvori
Z| er alkyl eller aryl,
Z2 er alkyl, aryl eller en ballastgruppe,
Z3 er H eller halogen,
Z4 er H eller en avspaltbar gruppe,
Zs er en ballastgruppe,
Z& er H eller en avspaltbar gruppe,
Z7 er alkyl,
Zg og Z9 er uavhengige av hverandre CN, CF3s COOZ]2, COZ12, S02Zi2, CON(Zi3)ZM, S02N(Z13)Z,4 og
Zi2 er usubstituert alkyl eller aryl,
Zi3 og Z14 er uavhengig av hverandre usubstituert eller substituert alkyl, aryl, heterosyklyl, alkoksy, aryloksy eller heterosyklyloksy, og
Zi3 kan også være H;
Zio omfatter definisjonene gitt for Zg og Z9 eller er alkyl, aryl, heterosyklyl, nitro, NH-CO-Z15, N(Z15)Zi6, NH-CO-N(Z,5)Zi6, NH-S02N(Z15), S-Z15, NH-CO-OZ,5, NH-S02N(Zi5)Z,6, SOZ,5 og
Zis og Zi6 er hver en substituent, og Z]6 kan også være H.
De fotografiske lagene i det nye materialet, spesielt lagene b, c og/eller d i det fargefotografiske materialet beskrevet ovenfor som eksempel kan fortrinnsvis innbefatte ytterligere UV-absorbsjonsmidler. Eksempler på slike UV-absorbsjonsmidler er benzotriazoler, 2-hydrokysbenzofenoner, oksanilider, cyanoakrylater, salisylestere, akrylonitril derivater eller tiazoliner, og også konvensjonelle 2-hydroksyfenyltriaziner. Slike UV-absorbsjonsmidler er mer detaljert beskrevet i for eksempel de følgende publikasjner: US-A-3,314,794, 3,352,681,3,705,805, 3,707,375,4,045,229,3,700,455, 3,700,458, 3,533,794, 3,698,907, 3,705,805, 3,738,837, 3,762,272, 4,163,671, 4,195,999,4,309,500,4,431,726,4,443,543,4,576,908,4,749,643,5500332, 5455152, GB-A-1,564,089, GB-A-2,293,608, EP-A-190,003, -747755, -717313 og JP-A-71/2784, 81/111,826,81/27,146, 88/53,543,88/55,542 og 96/69087. Foretrukne UV-absorbsjonsmidler er benzotriazoler, spesielt 2-(2-hydroksy-fenyl)benzotriazoler.
Preferanse gis også til fotografisk registreringsmateriale innbefattende i tillegg et UV-absorbsjonsmiddel som ikke er av formel I, fra serien av 2-hydroksyfenyltriaziner, som er beskrevet for eksempel i US 5,300,414, US 5,489,503, US 5,480,108, US 4,826,978, EP-A-706083, JP-A han 08-267915 og US 5,364,749.
Mengden av ytterligere UV-absorbsjonsmidler eller -absorbsjonsmidler som tilsettes velges omhyggelig innenfor det samme området som angitt ovenfor for de nye UV-absorbsjonsmidlene.
Eksempler på spesielt egnede forbindelser er:
2- hydroksvfenyltriaziner av formelen
hvori j er 0,1, 2 eller 3;
Gi er alkyl, alkenyl eller cykloalkyl;
G2 og Ge er uavhengig av hverandre H, OH, halogen, alkyl, halogenmetyl, for eksempel CF3;
G3, Gs og G7 er uavhengig av hverandre H, OH, OGi, halogen, alkyl, halogenmetyl, for eksempel CF3;
G4 er H, OH, OG], halogen, alkyl, fenyl, halogenmetyl, for eksempel CF3 eller alkenyl; og
Gi2 er alkyl, fenylalkyl, cykloalkyl, OGi, eller spesielt en gruppe av formelen
Alkyl eller alkenylsubstituenter, eller substituenter som er aromatiske eller alifatiske ringsystemer inneholder vanligvis - innenfor rammen av de angitte definisjonene, fra 1 til 50 karbonatomer og kan være avbrutt en eller flere ganger med O, S, NR', S02, CO, fenylen, cykloheksylen, COO, OCO, -(SiRpRqO)- og/eller substituert en eller flere ganger med OH, OR', NR'R", halogen, -CN, alkenyl, fenyl, -SiRpRqR, eller COOH, hvor R' og R" uavhengig av hverandre er H, alkyl, alkenyl eller acyl, og Rp, Rq og Rr er uavhengig av hverandre H, alkyl, alkenyl, fenyl, alkoksy, acyl eller acyloksy.
De ovenfornevnte gruppene kan også bære andre substituenter. Dimerer eller polymerer er også mulige.
Foretrukne 2-hydroksyfenyltriaziner av denne klassen er, for eksempel, de av formlene
eller
hvor, i formel AHI
n er 1 eller 2 og
Gi, er dersom n = 1, alkyl som er uavbrutt og usubstituert eller er avbrutt med en eller flere O og/eller substituert med en eller flere av restene OH, glysidyloksy, alkenoksy, COOH, COOR<e>, 0-CO-Rf, eller er alkenyl, cykloalkyl, usubstituert eller OH-, Cl- eller CH3-substituert fenylalkyl; eller COR<8>; S02-Rh; CH2CH(OH)-RJ; hvor
Re er alkyl, alkenyl, hydroksyalkyl, alkyl eller hydroksyalkyl avbrutt ved en eller flere 0; cykloalkyl, benzyl, alkylfenyl, fenyl, fenylalkyl, furfuryl, eller CH2CH(OH)-Rj;
R<f>,R<g> er uavhengig av hverandre alkyl, alkenyl eller fenyl;
Rh er alkyl, aryl eller alkylaryl;
Rj er aralkyl eller CH20r<k>;
R<k> er cykloheksyl, fenyl, tolyl eller benzyl; og
Gi, er dersom n = 2 alkylen, alkenylen, xylylen, alkylen eller hydroksyalkylen avbrutt av en eller flere O; hydroksyalkylen;
G2 og G'2 er uavhengig av hverandre H, alkyl eller OH;
G4 og G'4 er .lavhengig av hverandre H, alkyl, OH, alkoksy, halogen og, dersom n = 1,
OG,;
G3 og G'3 er uavhengig av hverandre H, alkyl eller halogen; og hvor, i formel A V, R101 er H, Ci-Cg alkyl, Ci-C8 alkoksy;
Rio2 og R103 er uavhengig av hverandre H, halogen, OH, Ci-Cg alkyl, Ci-C8 alkoksy; R104 er H, OH, d-Cs alkyl; Ci-C8 alkoksy.
Innenfor rammen av de angitte definisjonene kan Gi, G2, G'2, G3, G'3, G4 og G'4 også være ytterligere substituenter, for eksempel en etylenisk umettet, polymeriserbar gruppe. Dimerer eller polymerer er også mulige.
Spesiell preferanse gis til fargefotografiske materialer ifølge foreliggende oppfinnelse, hvori minst et av lagene innbefatter et UV-absorbsjonsmiddel av formelen A HI hvor n er 1;
Gi er Ci-Ci2 alkyl som er usubstituert eller substituert med OH eller COOR<e>; eller er C2-C12 alkyl eller d-ds hydroksyalkyl, avbrutt av en eller flere O; eller er
C3-C6 alkenyl; cykloheksyl; C7-Cn fenylalkyl; CH2CH(OH)-Rj; hvor
Re er C1-C18 alkyl; C3-C7 alkenyl; alkyl eller hydroksyalkyl avbrutt av en eller flere
O;
Rj er C7-C12 aralkyl eller CH2Or<k>;
R<k> er cykloheksyl, fenyl, tolyl eller benzyl; og
G2 og G'2 er OH;
G4 ogG'4 er Od;
G3 og G'3 er uavhengig av hverandre H eller metyl;
spesielt de hvor
n er 1;
Gi er C1-C12 alkyl som er usubstituert eller substituert med COOR<e>, eller er
C3-C15 hydroksyalkyl som er avbrutt ved O; eller er allyl, cykloheksyl eller benzyl; hvor
Re er C1-C12 alkyl, allyl, C3-Ci2 alkyl som er avbrutt med en eller flere O;
G2 og G'2 er OH;
G4ogG'4erOGi;
G3og G'3erH.
Eksempler på slike forbindelser innbefatter
2,4,6-tris(2-hydroksy-4-oktyloksyfenyl)-1,3,5-triazin,
2-(2,4-dihydroksfenyl)-4,6-bis(2,4-dimetylfenyl)-l,3,5-triazin,
2,4-bis(2-hydroksy-4-propoyloksyfenyl)-6-(2,4-dimetylfenyl)-1,3,5-triazin, 2-(2-hydroksy-4-oktyloksyfenyl)-4,6-bis(4-metylfenyl)-l,3,5-triazin, 2-(2-hydroksy-4-dodecyloksyfenyl)-4,6-bis(2,4-dimetylfenyl)-1,3,5-triazin, 2-[2-hydroksy-4-(2-hydroksy-3-butyloksypropyloksy)fenyl]4,6-
bis(2,4-dimetylfenyl)-l,3,5-triazin,
2-[2-hydroksy-4-(2-hydroksy-3-oktyloksypropyloksy)fenyl]-4,6-bis(2,4-dimetylfenyl)-l,3,5-triazin,
2-[2-hydroksy-4-(2-hydroksy-3-tridecyloksypropyloksy)fenyl]-4J6-bis(2,4-dimetylfenyl)-l ,3,5-triazin; og forbindelser av følgende formler:
Forkortelser anvendt i formlene:
i = isomerblanding; n = rettkjedet rest; t = tertiærrest; o-, m- og p- angit posisjonen på resten relativt til triazinringen.
Benzotriazolforbindelser av formel A fl
hvori Ti og T2 uavhengig av hverandre er hydrogen, halogen, alkyl, alkyl substituert med COOT5, alkoksy, aryloksy, hydroksyl, aralkyl, aryl eller acyloksy, hvor T5 er alkyl eller alkyl avbrutt av en eller flere O ' eller Ti er en grupe av formelen
hvori Li er
en toverdig gruppe, for eksempel -(CH2)n- hvor n er i området 1-8,
T3 er hydrogen, halogen, alkyl, alkoksy, aryloksy, acyloksy; -CF3, fenyl, -S-T6, -S02-T6; og
T4 er hydrogen, hydroksyl, alkoksy, aryloksy eller acyloksy eller en gruppe av en formlene -OCH2CH(OT8)-CH2-0-T7 eller OCH2CH2-0-CO-T7,
T6 er alkyl eller aryl;
T7 er alkyl eller aryl;
Tg er hydrogen eller CO-T9;
T9 er alkyl eller alkenyl;
og polymerer fremstilt ved anvendelse av disse forbindelsene. Preferanse gis til de forbindelsene av formel AII som er flytende i temperaturområdet rundt 20°C for å danne en flytende fase i en blanding med andre stoffer, spesielt de hvori Ti og T2 uavhengig av hverandre er hydrogen, halogen, alkyl, alkyl substituert med COOT5, alkoksy, aryloksy, hydroksyl, aralkyl, aryl eller acyloksy, hvor T5 er alkyl eller alkyl som er avbrutt med en eller flere O.
Innenfor området av de angitte definisjonene kan Ti, T2, T3 og T4 også bære ytterligere substituenter, for eksempel en etylenisk umettet, polymeriserbar gruppe. Dimerer eller polymerer er også mulige.
Spesiell preferanse gis til de forbindelsene av formel AII hvori
Ti erH, C1-C12 alkyl, 1,1-dimetylbenzyl;
T2 erH, C|-Ci2 alkyl, 1,1-dimetylbenzyl ellerCH2CH2COOT5;
T3 er klor, CF3, -S-T6, -S02-T6;
T4 er hydrogen eller Ci-Cig alkoksy;
T5 er Ci-Cig alkyl eller C3-Cjg alkyl avbrutt med en eller flere 0; og
Te er fenyl.
Restene betegnet som alkyl, alkenyl, aryl, arylalkyl, acyl, alkyloksy, alkenyloksy, aryloksy, arylalkyloksy og acyloksy for de konvensjonelle UV-absorbsjonsmidlene er generelt de som er vanlige innen teknikken; foretrukne rester er generelt - vedrørende lengde, antall karbonatomer og eventuelle heteroatomer osv. - av typen som definert ovenfor for de nye forbindelsene av formel (I).
Eksempler på benzotriazoler (HBT) av formel AII er:
Andre passende TJV-absorbsjonsmidler er de av formel A m hvori
Andre stoffer som kan anvendes som lys- eller mørkestabiliseringsmidler er beskrevet i US-A-5,580,710 eller US-A-5,543,276.
Eksempler på spesielt egnede forbindelser er:
Ytterligere detaljer vedrørende strukturen av fargefotografisk materiale, og komponentene som kan anvendes i det nye materialet kan bl.a. finnes i US-A-5,538,840, kolonne 27, linje 25, til kolonne 106, linje 16, og i publikasjonene som der er sitert. Ytterligere viktige komponenter, spesielt koblingsmidler, er beskrevet i US-5,578,437.
Preferansene beskrevet tidligere i forbindelse med de nye forbindelsene av formel (I) gjelder analogt for de nye sammensetningene, de nye fremgangsmåtene og den nye anvendelsen.
Inkorporeringen i det organiske materialet som skal stabiliseres kan finne sted for eksempel ved blanding eller ved påføring av forbindelsene av formel I og eventuelle andre additiver ved fremgangsmåter som er vanlige innen teknikken. Når materialene er polymerer, spesielt syntetiske polymerer, kan inkorporering finne sted før eller under formgiving, eller ved påføring av den oppløste eller dispergerte forbindelsen på polymeren, med eller uten etterfølgende avdampning av oppløsningsmiddelet. I tilfelle elastomerer kan disse også stabiliseres som latekser. Et ytterligere valg for inkorporering av forbindelsene med formel I i polymerer er å tilsette dem før, under eller direkte etter polymerisasjonen av de tilsvarende monomerene og/eller før tverrbinding. I denne forbindelsen kan forbindelsene av formel I tilsettes slik de er eller forøvrig inn i innkapslet form (for eksempel i vokser, oljer eller polymerer). I tilfelle tilsetning før eller under polymerisasjon virker forbindelsene av formel I også som et reguleringsmiddel for kjedelengden av polymerene (kjedeterminatorer).
Forbindelsene av formel I kan også tilsettes i form av en forblanding som inneholder denne forbindelsen, for eksempel i en konsentrasjon på fra 2,5 til 25 vektprosent, til polymerene som skal stabiliseres.
Forbindelsene av formel I kan målrettet inkorporeres ved følgende fremgangsmåter:
• som en emulsjon eller dispersjon (for eksempel til latekser eller emulsjonspolymerer), • som en tørr blanding under innblandingen av ytterligere komponenter eller polymerblandinger, • ved direkte tilsetning til bearbeidelsesapparaturen (for eksempel ekstrudere, indre blandere osv.)
• som en oppløsning eller smelte.
De stabiliserte polymerpreparatene oppnådd på denne måten kan omdannes til formede gjenstander, for eksempel til fibrer, filmer, taper, lag, sandwichplater, kar, rør og andre profiler, ved vanlige fremgangsmåter, for eksempel ved varmpressing, spinning, ekstrudering eller injeksjonstøping.
Oppfinnelsen omfatter også mellomprodukter som angitt i krav 26.
Den følgende tabellen viser noen typiske eksempler på forbindelser av formel I, den generelle formelen:
I forbindelsene nr. 6 og 7 er R3 en blanding av 4-vinyl- og 5-vinyl-2-hydroksycykloheksyl.
Eksemplene som følger illustrerer oppfinnelsen ytterligere. Alle deler eller prosent-angivelser, både i eksemplene og den gjenværende delen av beskrivelsen og i patent-kravene er uttrykt ved vekt, med mindre annet er angitt. I eksemplene og tabellen er følgende forkortelser anvendt:
Diglyme: dietylenglykoldimetyleter
AcOEt: etylacetat
CHC13: kloroform
CDCI3: deuterokloroform
DSC: differensiell sveipkalorimetri = differensiell termisk analyse
e: molar ekstinksjonskoeffisient
<1>H-NMR: kj ernemagnetisk resonans for nuklid<1>H
TE: glassovergangstemperatur
mmHg: torr (1 torr = 133,322 Pa)
smp smeltepunkt
A: Prepareringseksempler
Eksempel Al: 2.4-bis[2-hydroksv-4-(3-n-butoksv-2-hvdroksvpropoksv)fenvll-6-[2-metoksy-4-(3-n-butoksy-2-hydroksypropoksy)fenyl]-l,3,5-triazin(forbindelse 1).
En blanding av
11,9 g (15,0 mmol) av 2,4,6-tris[2-hydroksy-4-(3-n-butoksy-hydroksy-propoksy)fenyl]-1,3,5-triazin i
80 ml diglym (Fluka 99,5%) oppvarmes under nitrogen til 80°C. Til oppløsningen tilsettes det etter hverandre
1,0 g (15,1 mmol) pulverisert KOH (Fluka, 85%) og
2,5 g (19,8 mmol) dimetylsulfat (Fluka, 99%) under omrøring.
Etter omrøring ved 80°C i 20 timer avkjøles blandingen, utfellingen frafiltreres og oppløsningsmiddelet spaltes av fra filtratet. Råproduktet renses ved kolonnekromatografi (silikagel 60, 230-60 mesh, 0 = 5 cm, h = 30 cm; CH2Cl2/metanol 95:5).
Splitting av oppløsningsmiddelet fra hovedfraksjonen og tørking ved 100°C/0,9 mmHg i 3 timer gir 7,0 g (57,8%) av forbindelsen i overskriften (forbindelse 1).
Analyse:
'H-NMR (CDCI3,300 MHz): Spekteret er i samsvar med den ventede strukturen.
C43 H59 N3 012 beregnet: C 63,77% H 7,34% N 5,19%
(M = 809,96 g/mol) funnet: C 63,17% H 7,58% N 5,08%
UV (AcOEt) e maks (297 nm) = 35 230
e maks (346 nm) = 62 370
Eksempel A2: 2,4-bis[2-hvdroksv-4-(3-n-butoksv-2-hvdrokvspropoksv)fenyll-6-r2,4-di-(3-n-butoksy-2-hydroksypropoksy)fenyl]-l,3,5-triazin (forbindelse 3).
En blanding av
20.0 g (0,049 mol) av 2,4,6-tris (2,4-dihydroksyfenyl)-l,3,5-triazin,
39.1 g (0,300 mol) av n-butyl glysidyleter (Fluka, 97%), og
1,8 g (0,005 mol) av etyltrifenylfosfoniumbromid (Fluka, 97%) i 100 ml mesitylen oppvarmes under nitrogen og under omrøring ved 150°C i 21 timer. Etter avkjøling frafiltreres det uoppløselige bunnfallet og oppløsningsmiddelet spaltes av fra filtratet (rotasjonsfordamper). Resten oppløses så i 100 ml etylacetat og
oppløsningen filtreres gjennom et sjikt av silikagel (silikagel 60, 230-400 mesh, 0 = 6 cm, h = 4 cm) og elueres med 300 ml etylacetat. Fjerning av oppløsningsmiddelet og tørking ved 130°C/0,1 mmHg i 2 timer gir 38,2 g (84,2% av teoretisk) av produktet i overskriften (forbindelse 3).
Analyse:
C49 H71 N3 014 beregnet: C 63,55 H 7,73 N 4,54%
(M = 926,12 g/mol) funnet: C 63,55 H 7,77 N 4,51%
Tg = -6,1°C
UV (AcOEt): e maks (303 nm) = 35 040
8 maks (350 nm) = 59 850
Eksempel A3: 2,4-bis[2-hydroksy-4-(l-etoksykarbonyletoksy)fenyl]-6-[2,4-di-(l-etoksykarbonyletoksy)fenyl]-l,3,5-triazin (forbindelse 5).
En blanding av 15,0 g (0,037 mol) av 2,4,6-tris (2,4-dihydroksyfenyl)-l,3,5-triazin og 80 ml diglym (Fluka 99,5%) blandes under nitrogen trinnvis med 9,2 g (0,139 mol) pulverisert KOH (Fluka, 85%),
0,3 g (0,002 mol) kaliumiodid (Fluka, 99,5%) og
29,5 g (0,163 mol) etyl-2-brompropionat (Fluka, 98%).
Blandingen oppvarmes under omrøring ved 108°C i 19 timer. Den uorganiske utfellingen frafiltreres i varm tilstand; oppløsningsmiddelet fjernes på en rotasjonsfordamper. Råproduktet opptas i 100 ml etylacetat (T = 60°C) og blandingen filtreres gjennom et sjikt av silika gel (silikagel 60,230-400 mesh, 0 = 6 cm, h = 4 cm) og elueres med 300 ml etylacetat.
Fjerning av oppløsningsmiddelet og tørking ved 130°C/0,1 mmHg i 2 timer gir 24,2 g (81,2% av teoretisk) av produktet i overskriften: Tg = 32,2°C.
Analyse:
C41 H47 N3 014 beregnet: C 61,10 H 5,88 N 5,21%
(M = 805,84 g/mol) funnet: C 60,17 H 5,67 N 5,42%
UV (AcOEt) e maks (304 nm) = 41 480
£ maks (355 nm) = 61 890
De følgende forbindelsene oppnås ved å gå frem i henhold til eksemplene ovenfor angitt i tabellen og ved anvendelse av de viste utgangsmaterialene: Eksempel A4: Fremstilling av forbindelse 11 av formelen
En 250 ml sulfoneirngskolbe med rører, dråpetrakt, kjøler og indre termometer fylles med en suspensjon av 10,14 g (0,025 mol) av 2,4,6-tris-(2,4-dihydroksyfenyl)-l,3,5-triazin i 80 ml dimetylformamid. Suspensjonen oppvarmes til 80°C, 14,5 g (0,1 mol) av tørt, finpulverisert kaliumkarbonat tilsettes, temperaturen heves til 125-130°C og blandingen omrøres i en time. Deretter tilsettes det langsomt og dråpevis en oppløsning av 17,84 g (0,12 mol) 3-(klormetyl)heptan i 20 ml dimetylformamid i løpet av en time. Forløpet av alkyeringsreaksjonen kan lett overvåkes med tynnsjiktkromatografi. Etter 6 timer er reaksjonen ved avslutning. Reaksjonsblandingen konsentreres til tørrhet på en rotasjonsfordamper, resten opptas i 100 ml toluen og blandingen filtreres for å fjerne det uoppløste materialet. For ytterligere rensing kromatograferes filtratet over silikagel (kolonne: 0 = 5 cm, 1 = 45: elueringsmiddel: toluen/cykloheksan = 35/65). Produktet i overskriften oppnås som en sterk, blekgul harpiks.
UV spektrum: e™ki (350 nm) = 64 500 M"<1> cm"<1> (etanol)
'H-NMR spektrum : 8 [ppm, CDC13] = 0,8-0,9 (m, 24 H, -CH3), 1,0-1,9
(m, 36H, -CH2- og -CH), 3,7-4,0 (dd, 8H, -0-CH2-) 6,3-8,6 (9H, aromatisk), 13,2-13,7 (ss, 2H, -OH).
Dersom 3-(klormetyl)heptan i fremgangsmåten beskrevet ovenfor erstattes med forbindelsen 1-kloroktan, oppnås forbindelsen av formelen
(Forbindelse 12) som blekgule krystaller av smeltepunkt 65-66°C.
Eksempel A5: Fremstilling av mellomprodukter av formelen
Forbindelse RI
Int. 1: isopropyl
Int. 2: n-butyl
Int. 3: n-heksyl
Int. 4: n-heptyl
Int. 5: n-oktyl
Int. 6: -CH2-COO-C2H5
Int. 7: n-propyl
Int. 8: 2-butyl
a) 2,4,6-tris(2'-hydroksy-4'-isopropyloksyfenyl)-l}3,5-triazin (Forbindelse int. 1). Reaksjonen utføres i en 1 liters stål autoklav med mekanisk rører.
En blanding av
50.0 g (0,123 mol) av 2,4,6-tris(2'>4'-dihydroksyfenyl)-l,3,5-triazin,
54,6 g (0,0395 mol) av kaliumkarbonat
1,0 g (0,006 mol) kaliumiodid (Merck, 99,0%) og
50.1 g (0,407 mol) isopropylbromid (Fluka, 99,0%) i
200 ml dietylenglykoldimetyleter (Diglym, Merck, > 99%)
holdes under omrøring ved 140°C under et trykk på 3,8 bar i 24 timer.
Etter avkjøling oppvarmes det til 100°C og filtreres. Filterkaken underkastes ekstraksjon ved 30°C med 500 ml metylenklorid. Etter refiltrering fordampes filtratet og den faste resten tørkes ved 60°C/50 mmHg i 24 timer. Dette gir 30,5 g av 2,4,6-tris(2'-hydroksy-4'-isopropyloksyfenyl)-l,3,5-triazin (Forbindelse, int. 1) som et gult faststoff av smeltepunkt 122°C (DSC).
Forbindelsen, int. 2, oppnås analogt, smeltepunkt 142-145°C.
b) 2,4,6-tris(2'-hydroksy-4,-n-heksyIoksyfenyl)-l,3,5-triazin (Forbindelse int. 3). Under nitrogen omrøres en blanding av
81,1 g (0,200 mol) av 2,4,6-tris(2,,4'-dihydroksyfenyl)-l,3,5-triazin,
87,1 g (0,630 mol) av kaliumkarbonat (Merck, 99,0%) og
111,2 g (0,660 mol) av 1 bromheksan (Fluka, 98%) i
1,5 1 dietylenglykoldimetyleter (Diglyme, Merck, > 99%) ved 120°C i 20 timer.
Etter varm filtrering og avkjøling frafiltreres utfellingen og rekrystalliseres fra 2,5 1 etylacetat, hvilket gir 46,0 g av 2,4,6-tris(2'-hydroksy-4'-n-heksyloksyfenyl)-1,3,5-triazin (Forb. Int. 3) av smeltepunkt 148-150°C.
De følgende forbindelsene oppnås analogt:
Int. 4 (smeltepunkt 75-102°C); int. 5 (smeltepunkt 125-127°C); int. 6 (smeltepunkt 153-159°C.
Eksempel A6: 2,4-bis(2'-hydroksy-4'-isopropyloksyfenyl)-6-(2'metoksy-4,isopropyloksyfenyI)-l,3,5-triazin (forbindelse nr. 16).
Under nitrogen omrøres en blanding av
10,6 g (0,020 mol) av 2,4,6-tris (2'-hydroksy-4'isopropyloksyfenyl)-l,3,5-triazin (int. 1) og
1,3 g (0,020 mol) av pulverisert KOH (Fluka, 85%) i
80 ml 1,2-dimetoksyetan (Fluka, 99%) ved 60°C.
3,3 g (0,026 mol) dimetylsulfat (Fluka, 99,0%) tilsettes til den klare, mørkoransje fargede oppløsningen. Blandingen holdes ved 76°C i 21 timer. Etter avkjøling helles den i 500 g av en is/vannblanding og omrøres i 30 minutter. Utfellingen frafiltreres og tørkes ved 60°C/50 mmHG i 14 timer. Den rekrystalliseres deretter fra 160 ml 2-metoksyetanol for å gi 9,6 g av 2,4-bis(2'-hydroksy-4'-isopropyloksyfenyl)-6-(2'-metoksy-4'-isopropyloksyfenyl)-l,3,5-triazin Forbindelse 16) av smeltepunkt 185-188°C.
Eksempel A7: 2.4-bisf2'hvdroksv-4'-isopropvloksvfenvl)-6-(2'-etoksy-4'-isopropyloksyfenyl)-l,3,5-triazin (forbindelse nr. 17)
Under nitrogen omrøres en blanding av
10,6 g (0,020 mol) av 2,4,6-tris(2,-hydroksy-4'-isopropyloksyfenyl)-l,3,5-triazin (int. 1) og
1,3 g (0,020 mol) av pulverisert KOH (Fluka, 85%) i
80 ml 1,2-dimetoksyetan (Fluka, 99%) ved 50°C. 4,0 g (0,026 mol) dietylsulfat (Fluka, 99,0%) tilsettes til den klare, mørkt oransjefargede oppløsningen.
Blandingen holdes ved tilbakeløspstemperatur (85°C) under omrøring i 21 timer. Etter avkjøling helles den i 500 g av en is/vannblanding, omrøres i 1 time og underkastes ekstraksjon med 1 liter metylenklorid. Ekstraktet tørkes (MgS04). Fjerning av oppløsningsmiddelet gir råproduktet som et blektgult faststoff. Rekrystallisasjon fra 120 ml 2-metoksyetanol gir 9,4 g 2,4-bis(2'-hydroksy-4'-isopropyloksyfenyl)-6-(2'-etoksy-4'-isopropyloksyfenyl)-l,3,5-triazin (forbindelse nr. 17) av smeltepunkt 163-167°C.
Eksempel A8: 2,4-bis(2'-hydroksy-4'-isopropyloksyfenyl)-6-(2', 4'-diisopropyloksy-fenyl)-l,3,5-triazin (forbindelse 18).
Reaksjonen utføres i en 1 liters stålautoklav med mekanisk rører.
En blanding av
40,5 g (0,100 mol) av 2,4,6-tris(2',4'-dihydroksyfenyl)-l,3,5-triazin,
59,4 g (0,430 mol) av kaliumkarbonat,
1,0 g (0,006 mol) kaliumiodid (Merck, 99,0%) og
54,1 (0,440 mol) isopropylbromid (Fluka, 99,0%) i
200 ml dietylenglykoldimetyleter (Diglyme, Merck, > 99%)
omrøres ved 140°C og fra 4,0 til 5,0 bar i 24 timer. Etter avkjøling tilsettes 800 ml metylenklorid og omrøring fortsettes i 20 minutter ved 40°C. Det faste stoffet
frafiltreres og filtratet konsentreres ved fordampning, Rekrystallisasjon fra 180 ml 2-metoksyetanol gir 43,4 g av 2,4-bis(2'-hydroksy-4'-isopropyloksyfenyl)-6-(2',4'-diisopropyloksyfenyl)-l,3,5-triazin (forbindelse 18) av smeltepunkt 159-166°C.
Eksempel A9: 2,4-bis(2'hydroksy-4' -n-heksyloksyfenyl)-6-(2' ,4' -di-(n-heksyloksy)-fenyl)-l,3,5-triazin (forbindelse 27).
Under nitrogen tilsettes en blanding av 60,8 g (0,150 mol) 2,4,6-tris (2',4'-dihydroksyfenyl)-l,3,5-triazin og 87,1 g (0,630 mol) kaliumkarbonat i 700 ml 2-etoksyetan (Fluka, 99,5%) dråpevis i løpet av 15 minutter til 134,8 g (0,800 mol) av 1-bromheksan (Fluka, 98%) som holdes ved 80°C. Blandingen oppvarmes deretter til 120°C i 20 timer. Etter avkjøling helles reaksjonsblandingen i 8 liter kaldt vann. Etter 24 timer ved 25°C frafiltreres utfellingen, vaskes med vann (300 ml) og tørkes. Råproduktet kromatograferes [2,5 kg silikagel 60 (230-400 mesh), 0 = 13 cm; h = 60 cm; elueres med heksan/etylacetat (39:1)]. Fjerning av oppløsningsmiddelet fra hovedfraksjonen gir 69,2 g av 2,4-bis(2'-hydroksy-4'-n-heksyloksyfenyl)-6-(2',4'-di(n-heksyloksy)fenyl)-l,3,5-triazin (forbindelse 27) av smeltepunkt 85-87°C.
De følgende forbindelsene oppnås ved å følge fremgangsmåten fra eksemplene angitt i
tabellen og anvende de viste utgangsmaterialene:
B: Anvendelseseksempler
Eksempel B1: lysstabilisering av polypropylenfibrer
2,5 g av det nye stabiliseringsmiddelet fra eksemplene Al, A2 eller A3 blandes sammen med 1 g tris(2,4-di-tert-butylfenyl)fosfitt, 2 g kalsiummonoetyl 3,5-di-tert-butyl-4-hydroksybenzylfosfonat, 1 g kalsiumstearat og 2,5 g av TiCb ("Kronos RN 57") i en turbinrører med 1000 g polypropylenpulver (smelteindeks 12 g/10 min., målt ved 230°C/2,16 kg). Blandingene ekstruderes ved 200-230°C til korn; disse kornene
bearbeides deretter til fibrer ved anvendelse av et pilotanlegg (Leonard; Sumirago/VA, Italia) under følgende betingelser:
Fibrene fremstilt på denne måten eksponeres mot en hvit bakgrunn i et "Weather-O-Meter" type 65 WR (Atlas Corp.) med en sort standardtemperatur på 63°C i henhold til ASTM D 2565-85. Etter forskjellige eksponeringstider måles den gjenværende strekkstyrken av prøvene. Fra målingene beregnes eksponeringstiden T50 hvoretter strekkstyrken av prøvene har falt til halvparten av det opprinnelige nivået.
For sammenligningsformål fremstilles og testes fibrer uten nytt stabiliseringsmiddel under ellers identiske betingelser.
Fibrene stabilisert i henhold til oppfinnelsen viser utmerket styrkeretensjon.
Eksempel B2: Stabilisering av tobeleggsmalin<g>svstem
Det nye stabiliseringsmiddelet inkorporeres i 5-10 g xylen og testes i klarbelegg av følgende sammensetning:
1) Akrylatharpiks fra Hoechst AG; 65% oppløsning i xylen/butanol 26:9. 2) Arkylatharpiks fra Hoechst AG; 75% oppløsning i "Solvesso \ 00' A)
3) Melaminharpiks fra Hoechst AG; 55% oppløsning i isobutanol
4) fabrikant: Esso
5) fabrikant: Shell
6) 1% i "Solvesso 150", fabrikant: Bayer AG.
1% av stabiliseringsmiddelet angitt i tabell B2 (i xylen) tilsettes til klarbelegget, basert på faststoffinnholdet av beleggingsmaterialet. Sammenligningen som anvendes er et klart belegg som ikke inneholder noe lysstabiliseringsmiddel.
Klarbelegget fortynnes med "Solvesso 100" til sprayviskositet og sprayes på et preparert alkuminium panel ("Uniprime" lysgrønn metallisk basisbelegg) og ovnsbehandles ved 130°C i 30 minutter, for å gi en tørr filmtykkelse på 40-50 mm klarbelegg.
Prøvene værpåvirkes deretter i et "UVON" værpåvirkmngsinstrument fra Atlas Corp.
(UVB-313 lamper) med en syklus på 8 timers UV-bestråling ved 70°C og 4 timers kondensasjon ved 50°C.
Overflateglansen (20° glans, DIN 67530) av prøvene måles med jevne intervaller. Resultatene er sammenfattet i tabellen nedenfor.
Prøvene med det nye stabiliseringsmiddelet viser høy værpåvirkningsstabilisitet og resistens mot oppsprekking.
Eksempel B3: Mulighet for inkorporering i fotografiske lag
Et gelatinbelegg av følgende sammensetning (per m<2>) påføres på vanlig måte på en polyesterbasis.
Herdemiddelet er: kaliumsalt av 2-hydroksy-4J6-diklor-l,3,5-triazin. Fuktemiddelet er natrium 4,8-diisobutylnaftalen-2-sulfonat.
Gelatinbeleggene tørkes ved 20°C i 7 dager.
Når den nye forbindelsen 2 anvendes, oppnås klare transparente belegg som er egnede som et fotografisk registreringsmateriale for eksempel som et UV-filterbelegg.
Eksempel B4: Et polyetylen-belagt basismateriale belegges med et gelatinbelegg innbefattende sølvbromid og magentakoblingsmiddel (M-9) av formelen
Gelatinbelegget innbefatter følgende komponenter (pr. m<2> av basismateriale:):
Det anvendte herdemiddelet er kaliumsaltet av 2,5-diklor-6-hydroksytriazin; det anvendte fuktemiddelet er natriumsaltet av diisobutylnaftalensulfonsyre.
En trinnkant som har en densitetsforskjell på 0,3 log E pr. trinn eksponeres på hver av de resulterende prøvene, som deretter bearbeides i henhold til fabrikantens instruksjoner i P94 bearbeidelsesprosessen ifølge Agfa Gevaert for negativt farget papir.
Etter eksponering og bearbeidelse måles densiteten av reflektans i det grønne området for magentatrinnet ved en densitet på mellom 0,9 og 1,1 av kanten.
Et UV-absorbsjonsfilter innbefattende forbindelsen 11 fremstilles på transparent basismateriale som beskrevet i eksempel B3.
Kanten eksponeres deretter bak UV-absorbsjonsfilteret i et Atlas eksponeringsinstrument ved 15 Kj/cm<2> og reflektansdensiteten måles igjen. Magentafargestoffdensitetstapet
(-AD) er sterkt redusert ved forbindelsen 11 som stabiliseringsmiddel sammenlignet med prøven som ikke inneholder noe stabiliseringsmiddel.
Eksempel B5: Fremgangsmåten beskrevet i eksempel B3 gjentas, men ved anvendelse av en blanding av 2 vektdeler av forbindelse nr. 1 og 1 vektdel av HPT 7. Klare transparente belegg oppnås som er egnede for et fotografisk registreringsmateriale.
Eksempel B6: Et fotografisk materiale som har følgende lagstruktur fremstilles:
Gelatinlagene består av følgende komponenter (pr. m2 av basismaterialet): Blåfølsomt lag
a-(3-benzyl-4-etoksyhyd^ fenoksy)butanamido]adetanilid (400 mg)
<x-( 1 -butylfenylurazol-4-yl)- a-pivaloyl-5-(3-dodekanesulfonyl-2-metyl-propanamido-2-metoksyacetamid (400 mg)
Dibutylftalat(l30mg)
Dinonyltfalat(130 mg)
Gelatin (1200 mg)
1,5-dioksa-3-etyl-3-[p-(3,5-di-t-butyl-4-hydroksyfenyl)propionyloksymetyl]-8,10-difenyl-9-tia[5,5]spiroundekan (150 mg)
bis( 1 -akryloyl-2}2,6-6-tetrametyl-4-piperidyl) 2,2-bis(23,5-di-t-butyl-4-hydroksy-benzyl)malonat (150 mg)
3,5-di-t-butyl-4-hydroksy(2,4-di-t-amylfenyl)benzoat (150 mg) poly(N-t-butylakrylamid) (50 mg)
blåfølsom sølvklorbromidemulsjon (240 mg)
Første gelatinmellomlag
gelatin (1000 mg)
2,5-di-t-oktylhydrokinon (100 mg)
heksyl 5-[2,5-dihydroksy-4-(4-heksyloksykarbonyl-lIl-dimetylbutyl)fenyl]-5-metylheksnoat (100 mg)
dibutylftalat (200 mg)
diisodecylftalat (200 mg)
Grønnfølsomt lag
7-klor-2-{2-[2-(2,4-di-t-amylfenoksy)oktanamido]-l-metyletyl}-6-metyl-lH-pyrazolo[l,5-bis][l,2,4]triazol (100 mg)
6-t-butyl-7-klor-3-(3-dodekansulfonylpropyl)- lH-pyrazolo[5, l-o][ l ,2,4]triazol (100 mg) dibutylftalat (100 mg)
dikresylfosfat (100 mg)
trioktylfosfat(100 mg)
gelatin (1400 mg)
353,3',3'-tetrametyl-5,5',6s6'-tetrapropoksy-l)r-s<p>irobiindan(100 mg) 4-(i-tridecyloksyfenyl)tiomorfolin, 1,1-dioksid (100 mg) 4,4'-butylidenbis(3-metyl-6-t-butylfenol) (50 mg)
2,2'-isobutylidenbis(4,6-dimetylfenol) (10 mg)
3,5-diklor-4-(heksadecyloksykarbonyloksy)etylbenzoat (20 mg)
3,5-bis[2,4-di-t-amylfenoksy)propylkarbamoyl]natriu^ (20 mg) grønn-følsom sølvklorbromidemulsjon (150 mg)
Andre gelatin mellomla<g>
gelatin (1000 mg)
5-klor-2(3)5-di-t-butyl-2-hydroksyfenyl)benzo-l,2,3-triazol (200 mg) 2-(3-dodecyl-2-hydroksy-5-metylfenyl)benzo-l,2,3-triazol (200 mg)
trionylfosfat (300 mg)
2,5-di-t-oktylhydrokinon (50 mg)
heksyl 5-[2,5-dihydroksy-4-(4-heksyloksykarbonyl-1,1 -dimetylbutyl)fenyl]-5-metyl-heksanoat (50 mg)
Rød- følsomt lag
2-[a-(2,4-di-t-amylfenoksy)butanamido]-4,6-di-klor-5-etylfenol (150 mg) 2.4- diklor-3-etyl-6-heksadekanamidofenol (150 mg)
4- klor-2-(l,2,3,4,5-pentafluorbenamido)-5-[2-(2,4-di-t-amylfenoksy)-3-metylbutanamido]fenol (100 mg)
dioktylftalat(100 mg)
dicykloheksylftalat (100 mg)
gelatin (1200 mg)
5- klor-2-(3,5-di-t-butyl-2-hydroksyfenyl)benzo-1,2,3-triazol (100 mg) 2-(3-dodecyl-2-hydroksy-5-metylfenyl)benzo-l,2,3-triazol (100 mg) 3.5- di-t-butyl-4-hydroksy(2,4-di-t-amylfenyl)benzoat (50 mg) poly(N-t-butylakrylamid) (300 mg)
N,N-dietyl-2J4-di-t-amylfenoksyacetamid (100 mg)
2,5-di-t-oktylhydrokinon (50 mg)
rød-følsom sølvklorbromidemulsjon (200 mg)
Det øverste laget fremstilles med og uten UV- absorbsjonsmiddel:
Med UV- absorbsjonsmiddel:
2,5-di-t-oktylhydrokinon (20 mg)
heksyl 5-[2,5-dihydroksy-4-(4-heksyloksykarbonyl-l,l-dimetylbutyl)fenyl]-5-metyl-heksanoat (20 mg)
gelatin (400 mg)
trionylfosfat (120 mg)
nytt UV-absorbsjonsmiddel sammensetning nr. 1 (385 mg)
Uten UV- absorbsjonsmiddel:
gelatin (800 mg)
Det anvendte herdemiddelet er 2,4-diklor-6-hydroksytriazin K-saltoppløsning, fuktemiddelet er natriumsaltet av diisobutylnaftalensulfonsyre.
Tre trinnskanter med en densitetsforskjell på 0,3 log E pr. trinn eksponeres på hver av prøvene (med henholdsvis blått, grønt og rødt lys). Deretter utføres bearbeidelsesprosessen RA-4 (Kodak) for fargepapir.
Etter eksponering og bearbeidelse måles reflektansdensitetene i det røde for cyantrinnet, i det grønne for magentatrinnet og i det blå for det gule trinnet med en densitet på mellom 0,9 og 1,1 ved kantene. Kantene eksponeres deretter i et Atlas eksponeringsinstrument med totalt 15 kj/cm<2>, og reflektansdensitetene måles igjen.
I tilfelle også magentakanten måles reflektansdensiteten før og etter eksponering i det blå for gulning.
Nærværet av UV-absorbsjonsmiddelet reduserer fargedensitetstapet av cyan, magenta og gul bildefarge.
Eksempel B7: Anvendelse i kosmetiske pre<p>arater.
En solbeskyttelseskrem fremstilles ved å anvende fasene A, B og C beskrevet i de følgende tabellene:
Fase A
FaseB FaseC
Prosentdelene angitt refererer til den samlede vekten av blandingen innbefattende fasene A, B og C; de angitte navnene av additivene er, når de ikke er kjemiske navn, CTFA betegnelser (Cosmetic, Toiletry and Fragrance Association, USA).
Fasene A og B oppvarmes separat til 75-80°C. Deretter tilsettes først fase B og deretter fase C til fase A under homogenisering. Etterfølgende homogenisering utføres.
En SPF-analysator "SPF 290" (fabrikant: Optometrix) anvendes for å bestemme lysbeskyttelsesfaktoren og UV/UVB-forholdet av den resulterende emulsjonen i henhold til fremgangsmåten ifølge Diffey og Robson, J. Soc. Cosmet. Chem. 40, 127-133
(1989): lysbeskyttelsesfaktoren er 6, UVA/UVB-forholdet 0,87.
Anvendelse av forbindelse nr. 12 istedenfor forbindelse nr. 11 fører til et tilsvarende resultat.
Eksempel B8: En solbeskyttelseskrem fremstilles ved å anvende fasene A og B beskrevet i de følgende tabellene:
Fase A
FaseB
De angitte prosentdelene refererer til den samlede vekten av blandingen innbefattende fasene A og B; de angitte navnene på additivene er, når de ikke er kjemiske navn, CTFA-betegnelser (Cosmetic, Toiletry and Fragrance Association, USA).
Fase A homogeniseres separat og meget forsiktig og oppvarmes, på samme måte som fase B, men separat, til 75-80°C. Deretter tilsettes fase B til fase A med kraftig omrøring. Blandingen tillates å avkjøles under omrøring. Lysbeskyttelsesfaktoren av denne solkremen er 18 (bestemt som i eksempel B7).
Eksempel B9: Virkning som UV- absorbsjonsmiddel i fotografiske lag Et gelatinlag påføres på en polyesterbasis som beskrevet i eksempel B3. Den maksimale optiske densiteten (ODmaks) av UV-filteme fremstilt på denne måten måles ved anvendelse av et "Lamda 15" spektrofotometer fra Perkin-Elmer, resultatene er angitt i tabellen nedenfor.
De nye forbindelsene kan anvendes for å fremstille effektive UV-filtere for fotografiske lag.
Eksempel B10: Et polyetylen-belagt basismateriale belegges med kromogeniske emulsjoner innbefattende følgende komponenter (mengder angitt pr. m<2>):
De anvendte magentakoblingsmidlene er av formlene:
En trinnkant med en densitetsforskjell på 0,3 log E pr. trinn ble eksponert på hver av de resulterende prøvene, som deretter ble bearbeidet i bearbeidelsesprosessen P-94 fra Agfa for negativt farget papir.
For å fremstille UV-filteret påføres et gelatinlag med følgende sammensetning på vanlig måte på en polyesterbasis:
Herdemiddelet er kaliumsaltet av 2-hydroksy-4J6-diklor-21,3,5-triazin.
Fuktemiddelet er natrium 4,8-diisobutylnaftaien-2-sulfonat.
Gelatinlagene tørkes ved 20°C i 7 dager.
De kromogeniske lagene eksponeres deretter bak UV-filterlaget bl til b26, innbefattende nye UV-absorbsjonsmidler (UVA'er) og, i tillegg, en konvensjonell UVA i henhold til tabellen nedenfor, i et "Atlas Ci35 Weather-o-meter" med en xenonlampe ved 30kJ/m<2>. Reflektantdensiteten i det grønne området måles før og etter ekspnering. Eksemplet viser at de nye forbindelsene danner effektive UV-filtre for beskyttelse av kromogeniske lag.
Eksempel Bil
Gelatinlag fremstilles som i eksemple B9. Denne gangen velges den anvendte mengden UVA slik den gir en optisk densitet på 2 ved Jim^. Prøvene lagres i klimatisk kontrollerte kammere i 21 dager; deretter måles tapet i absorbsjon som har funnet sted som et resultat av lagring. Resultatene er vist i tabellen nedenfor; rH i denne står for relativ atmosfærisk fuktighet.
Resultatene viser at de nye forbindelsene er fremragende stabile selv under ekstreme klimatiske betingelser.

Claims (26)

1. Forbindelse karakterisert ved formell hvori Ri er Ci-C]g alkyl; C5-Ci2cykloalkyl; C3-Cigalkenyl; fenyl; Ci-Cigalkyl som er substituert med fenyl, OH, Ci-Ci8alkoksy, Cj-C^cykloalkosky, C3-Ci8alkenoksy, halogen, -COOH, -COOR», -0-CO-R5) -O-CO-O-Rc, -CO-NH2, -CO-NHR7, -CO-N(R7)(R8), CN, NH2, NHR7, -N(R7)(R8, -NH-CO-R5, fenoksy, Ci-C,galkylsubstituert fenoksy, fenyl-Ci-C]5bicykloalkoksy, Ce-Cubicykloalkyloksy, C6-C15-bicykloalkenylalkoksy, eller Ce-Cistricykloalkoksy, Cs-Ci2 cykloalky som er substituert med OH, Ci-C4alkyl, C2-C6alkenyl eller -O-CO-R5; -CO-R9 eller -SO2-Ri0 eller Rt er C3-Csoalkyl som er avbrutt ved ett eller flere oksygenatomer og/eller substituert med OH, fenoksy eller C7-Cigalkylfenoksy; eller Ri er en av definisjonene -A; -CH2-CH(XA)-CH2-0-Ri2; -CRi3R'i3-(CH2)m-X-A; -CRi3R* 13-(CH2)m-CO-0-CRi5R' ,5-C(=CH2)R" 15 eller -CO-O-CRi5R' 15-C(=CH2)-R"i5, hvor A er -CO-CRi6=CH-Ri7; restene R2 er uavhengig av hverandre, C6-C]galkyl; C2-C6alkenyl; fenyl; C7-Cufenylalkyl; COOR4; CN; NH-CO-Rs; halogen; trifluormetyl; -0-R3; R3 omfatter definisjonene for Rj; Rt er Ci-Cigalkyl; C3-Ci8alkenyl; fenyl; C7-Cnfenylalky; Cs-Ci2cykloalkyl; eller er C3-C5oalkyl, som er avbrutt av en eller flere -O-, -NH-, -NR7-, -S- og kan være substituert med OH, fenoksy eller C7-Ci8alkylfenoksy; R5 erH; Ci-Cigalkyl; C2-Ci8alkenyl; C5-Ci2cykloalkyl; fenyl; C7-Cnfenylalkyl; C6-Ci5bicykloalkyl; C6-C15 bicykloalkyl; C6-Ci5tricykloalkyl; Rs er H; Ci-Cigalkyl; C3-Ci8alkenyl; fenyl; C7-Cufenylalkyl; C5-C12cykloalkyl; R7 og Rg er uavhengig av hverandre Ci-Ci2alkyl; C3-Ci2alkoksyalkyl; d-Ciedialkylaminoalkyl; eller er Cs-Ci2 cykloalkyl; eller er sammen C3-C9alkylen, C3-C90ksalkylen eller C3-C9azaalkylen; R9 er Ci-Ci8alkyl; C2-Ci8alkenyl; fenyl, Cs-C^cykloalkyl; C7-C11 fenylalkyl, C6-Ci5bicykloalksyl, Ce-Cisbicykloalkylalky; Ce-Cisbicykloalkenyl eller Ce-C 15iricykloalkyl; Rio er Ci -Ci2alkyl; fenyl; naftyl eller C7-Ci4alkylfenyl; restene Rn er uavhengige av hverandre H; Ci-Ci8alkyl; C3-Cealkenyl; fenyl; C7-C11 fenylalkyl; halogen; Ci-Ci «alkoksy; R12 er Ci-Ci8alkyl, C3-Cigalkenyl; fenyl; fenyl som er substituert med en til tre rester Ci-C8alkoksy, Ci-Cgalkenoksy, halogen eller trifluormetyl; eller er C7-C11 fenylalkyl; C5-C]2cykloalkyl; C6-Ci5tricykloalkyl; C6-CiSbicykloalkyl; C6-Ci5bicykloalkylalkyl; C6-C]5bicykloalkenylalkyl; -CO-R5; eller er C3-C5oalkyl som er avbrutt av en eller flere - O-, -NH-, -NR7, -S- og kan være substituert med OH, fenoksy eller C7-Cigalkylfenoksy; R13 og R'i3 er uavhengig av hverandre H; Ci-Cigalkyl; fenyl; Rh er Ci-Cigalkyl; C3-Ci2alkoksyalkyl; fenyl; fenyl-Ci-C4alkyl; Ris, R'15 og R"i5 er uavhengig av hverandre H eller CH3; Rie er H; -CH2-COO-R4; Ci-C4alkyl; eller CN; R17 er H; -COOR»; Ci-Ci7alkyl; eller fenyl; X er -NH-; NR7-; -0-; -NH-(CH2)P-NH; eller -0-(CH2)q-NH-; og indeksene mer et tall 0-19; ner et tall 1-8; p er et tall 0-4; og q er et tall 2-4; hvor minst en av restene Ri, R2 og Rn i formel I inneholder 2 eller flere karbonatomer.;2. Forbindelse ifølge krav 1, karakterisert ved at Ri er Ci-Cig alkyl; Cs-C^cykloalkyl; C3-C]2alkenyl; fenyl; C|-Ci8alkyl som er substituert med fenyl, OH, Ci-Cigalkoksy, C5-Ci2cykloalkoksy, C3-Ci8alkenoksy, halogen, -COOH, -COOR^ -O-CO-R5, -O-CO-O-Re, -CO-NH2, -CO-NHR7, -CO-N(R7)(Rg), CN, NH2, NHR7, -N(R7)(R8, -NH-CO-R5, fenoksy, Ci-Ci8alkylsubstituert fenoksy, fenyl-Ci-C4alkoksy, bomyloksy, norbom-2-yloksy, norbomyl-2-metoksy, norborn-5-en-2-metoksy, adamantyloksy; Cs-Ci2cykloalky som er substituert med OH, Ci-C4alkyl, C2-C6alkenyl eller -0-CO-R5; glysidyl; -CO-R9 eller -SO2-Ri0 eller Ri er C3-Csoalkyl som er avbrutt ved ett eller flere oksygenatomer og/eller substituert med OH, fenoksy eller C7-Cigalkylfenoksy; eller R( er en av definisjonene -A; -CH2-CH(XA)-CH2-0-Ri2; -CRi3R'i3-(CH2)m-X-A; -CRI3R'i3-(CH2)m-C0-0-CR,5R',5-C(=CH
2)R'',s eller -CO-0-CRi5R' 15-C(=CH2)-R"i5, hvor A er -CO-CRi6=CH-Ri7; restene R2 er Ce-Cigalkyl; C2-C6alkenyl; fenyl; -0-R3 eller -NH-CO-R5 og restene R3 omfatter uavhengig av hverandre definisjonene gitt for Ri; R4 er Ci-Cigalkyl; C3-Ci8alkenyl; fenyl; C7-Cnfenylalky; C5-C|2cykloalkyl; eller er C3-C5oalkyl, som er avbrutt av en eller flere -O-, -NH-, -NR7-, -S- og kan være substituert med OH, fenoksy eller C7-Ci8alkylfenoksy; R5 erH; C,-Ci8alkyl; C2-C]8alkenyl; C5-Ci2cykloalkyl; fenyl; C7-Cnfenylalkyl; norbom-2-yl; norborn-5-en-2-yl; adamantyl; R6 erH; Ci-Cigalkyl; C3-Ci8alkenyl; fenyl; C7-Cn fenylalkyl; C5-Ci2cykloalkyl; R7 og Rg er uavhengig av hverandre Ci-C)2alkyl; C3-C]2alkoksyalkyl; C^-Ciedialkylaminoalkyl; eller er C5-C12 cykloalkyl; eller er sammen C3-C9alkylen, C3-C9oksalkylen eller C3-Cgazaalkylen; R9 er Ci-Cigalkyl; C2-Ci8alkenyl; fenyl, Cs-Ci2cykloalkyl; C7-Cnfenylalkyl; norbom-2-yl; norborn-5-en-2-yl; adamantyl; Rio er CrCi2alkyl; fenyl; naftyl eller C7-Ci4alkylfenyl; restene Rn er uavhengige av hverandre H; Ci-C|galkyl; eller C7-C11 fenylalkyl; Ri2 er Ci-Ci8alkyl, C3-Ci8alkenyl; fenyl; fenyl som er substituert med en til tre rester Ci-Cgalkyl; Ci-C8alkoksy, C3-Cgalkenoksy, halogen eller trifluormetyl; eller er C7-Ci 1 fenylalkyl; C5-C12cyk.loalk.yl; l-adamantyl; 2-adamantyl; norbomyl; norbomaen-2-metyl; CO-R5; eller er C3-Csoalkyl som er avbrutt av en eller flere -O-, -NH-, -NR7, -S- og kan være substituert med OH, fenoksy eller C7-Cigalky]fenoksy; Ri3 og R'13 er uavhengig av hverandre H; Ci-Cigalkyl; fenyl; R14 er Ci-Cigalkyl; C3-Ci2alkoksyalkyl; fenyl; fenyl-Ci-C4alkyl; Ris. R'15 og R"is er uavhengig av hverandre H eller CH3; Rié er H; -CH2-COO-R4; Ci-C4alkyl; eller CN; Ri7 er H; -COOR4; Ci-C]7alkyl; eller fenyl; X er -NH-; NR7-; -0-; -NH-(CH2)p-NH; eller -0-(CH2)q-NH-; og indeksene mer et tall 0-19; ner et tall 1-8; p er et tall 0-4; og q er et tall 2-4.;
3. Forbindelse ifølge krav 1, karakterisert ved formel II hvor R], R2 og Rn er som definert for formel I.;
4. Forbindelse av formel II ifølge krav 3, karakterisert ved at Ri er Ci-Cig alkyl; Cs-C^cykloalkyl; fenyl; d-Qgalkyl som er substituert med fenyl, OH, Ci-Cigalkoksy, C5-Ci2cykloalkoksy, -COOH, -COOR4, -O-CO-R5, -0-CO-O-R5, fenyl, C]-C4alkoksy; eller er cykloheksyl som er substituert med OH, Cj-C4alkyl, C2-C6alkenyl og/eller -0-CO-R5; eller R, er en av definisjonene -A; -CH2-CH(XA)-CH2-0-Ri2; -CR13R'i3-(CH2)m-X-A; glysidyl-CR, 3R' 13-(CH2)m-CO-0-CR, 5R' 1 S-C(=CH2)R'' 15 eller -CO-O-CRi 5R', 5-C(=CH2)-R"i5, hvor A er-CO-CR,6=CH-Ri7; restene R2 er -0-R3 eller NH-CO-R5 og restene R3 omfatter uavhengig av hverandre definisjonene gitt for Ri; R4 er Ci-Cigalkyl; C7-C11 fenylalkyl; cykloheksyl; eller er C3-C5oalkyl, som er avbrutt av -O-, og kan være substituert med OH, fenoksy eller C7-C1 galkyl fenoksy; R5 erH; Ci-Cjgalkyl; cykloheksyl; fenyl; C7-C11 fenylalkyl; R7 er Ci-Ci2alkyl eller cykloheksyl; Ri! er H;;R)2 er Ci-Cjgalkyl; fenyl; Ci-Cigalkyl- eller C|-Cgalkoksysubstituert fenyl; C7-C11 fenylalkyl; C5-Ci2cykloalkyl; -CO-R5; eller er C3-C5oalkyl som er avbrutt med -O-, og kan være substituert med OH, fenoksy eller C7-Ci8alkylfenoksy; R13 er H; Cj-Cjgalkyl; fenyl; R'i3erH; Rh er Ci-Cigalkyl; fenyl; fenyl-C)-C4alkyl; Ris» R'i5 og R"is er uavhengig av hverandre H eller CH3; Rie erH; -CH2-COO-R4; Ci-C4alkyl; eller CN; R17 erH; -COOR4; CrCi7alkyl; eller fenyl; X er -NH-; NR7-; eller -O- og m er et tall 0-19.;5. Forbindelse med formel II ifølge krav 3, karakterisert ved at Ri er Ci-Cigalkyl; C5-Ci2cykloalkyl; Ci-Cigalkyl som er substituert med fenyl, OH, Ci-Cigalkoksy, -COOR4, -O-CO-R5; eller cykloheksyl som er substituert med OH, Ci-C^alkyl, C2-C6alkenyl; eller R, er en av definisjonene -A; -CH2-CH(XA)-CH2-0-Ri2; -CRi3R'i3-(CH2)m-X-A; glysidyl; -CR13R'i3-(CH2)m-CO-0-CRi5R'i5-C(=CH2)R"i5 eller -CO-0-CRlsR'i5-C(=CH2)-R"is, hvor A er -CO-CRi6=CH-Ri7; restene R2 er -O-R3 eller -NH-CO-R5 og restene; R3 omfatter uavhengig av hverandre definisjonene angitt for Ri; R4 er Ci-Cigalkyl; C7-C11 fenylalkyl eller cykloalkyl; Rs er Ci-Cigalkyl; Rn erH; R12 er d-Cjgalkyl, C7-Cnfenylalkyl; C5-C]2cykloalkyl; -CO-R5; Ri3 er H eller C|-Cigalkyl; R<*>i3erH;
R]4 er Ci-Cigalkyl; Ri5, R'15 og R"i
5, Ri6 og R]7 er uavhengig av hverandre H eller CH3; X er -0-; og mer et tall 0-19.
6. Forbindelse av formel 2 ifølge krav 3, karakterisert ved at R2 er -OR3, Ri og R3 er uavhengig av hverandre Ci-Cigalkyl; eller er C2-Cealkyl som er substituert med OH, Ci-Cigalkoksy og/eller -COOR4; eller CH2COOR4; eller er cykloheksyl som er usubstituert eller substituert med OH og/eller C2-C3alkenyl; og R4 er C|-C6alkyl; og Ri 1 er hydrogen.
7. Sammensetning, karakterisert ved at den innbefatter A) et organisk materiale som er følsomt for beskadigelse ved lys, oksygen og/eller varme og B) som stabiliseringsmiddel minst en forbindelse av formel I ifølge krav 1.
8. Sammensetning ifølge krav 7, karakterisert ved at komponent A) er en syntetisk organisk polymer eller et registreringsmateriale av menneskelig- eller animalsk hud eller hår.
9. Sammensetning ifølge krav 7, karakterisert ved at den i tillegg til komponentene A) og B) inneholder ytterligere vanlige additiver.
10. Sammensetning ifølge krav 7, karakterisert ved at den innbefatter fra 0,01 til 10 vektprosent av komponent B) basert på vekten av sammensetningen.
11. Sammensetning ifølge krav 7, k'arakterisert ved at komponent A) er et registreringsmateriale som, på en basis, innbefatter minst et lag som omfatter komponent B). \
12. Sammensetning ifølge krav 11, karakterisert ved at registreringsmaterialet er et fargefotografisk materiale som, på en basis, innbefatter minst et lysfølsomt sølvhalogenidemulsjonslag og, om ønsket, et mellomlag og/eller et beskyttende lag, hvorav minst et av disse lagene innbefatter komponent B).
13. Sammensetning ifølge krav 12, karakterisert ved at den på en basis innbefatter minst en av hver av et rødfølsomt og et grønnfølsomt sølvhalogenidemulsjonslag, separert ved hjelp av et mellomlag, hvor mellomlaget innbefatter minst en forbindelseji følge komponent B).
14. Sammensetning ifølge krav 12, i karakterisert ved at den på en basis innbefatter minst et av hvert av et rødfølsomt, et grønnfølsomt og et blåfølsomt sølvhalogenidemulsjonslag og minst to mellomlag, mellom disse lagene, og et beskyttende lag, en forbindelse av komponent B) er til stede i minst et lag over det grønnfølsomme laget, og hvor sølvhalogenidemulsjonslagene innbefatter et stabiliseringsmiddel for lagring i mørk tilstand og/eller lysstabiliseirngsmiddel.
15. Sammensetning ifølge krav 12, karakterisert ved at den innbefatter komponent B) i en mengde på fra 0,001 til 10 g pr. m<2>.
16. Sammensetning ifølge krav 12, karakterisert ved at den innbefatter minst et av lagene i tillegg til et konvensjonelt UV-absorbsjonsmiddel fra klassen av 2-(2-hydroksyfenyl)benzotriazoler og/eller 2-(2-hydroksyfenyl)-1,3,5-triaziner.
17. Sammensetning ifølge krav 16, karakterisert ved at den innbefatter et eller flere konvensjonelle UV-absorbsjonsmidler av formlene A n, A III og/eller A V. hvor, i formel AII, Ti og T2 uavhengig av hverandre er hydrogen, halogen, alkyl, alkyl substituert med COOT5, alkoksy, aryloksy, hydroksyl, aralkyl, aryl eller acyloksy, hvor T5 er alkyl eller alkyl avbrutt med en eller flere O: T3 er hydrogen, halogen, alkyl, alkoksy, aryloksy, acyloksy; -CF3, fenyl, -S-T6, -S02-T6; og T4 er hydrogen, hydroksyl, alkoksy, aryloksy eller acyloksy eller en gruppe av en av formelene -OCH2CH(OT8)-CH2-0-T7 eller -OCH2CH2-0-CO-T7; Te er alkyl eller aryl; T7 er alkyl eller aryl; Tg er hydrogen eller CO-T9; T9 er alkyl eller alkenyl; hvor, i formel A HI, n er 1 eller 2 og Gi, er dersom n = 1, alkyl som er uavbrutt og usubstituert eller er avbrutt med en eller flere O og/eller substituert med en eller flere av restene OH, glysidyloksy, alkenoksy, COOH, COOR<e>, 0-CO-R<r>, eller er alkenyl, cykloalkyl, usubstituert eller OH-, Cl- eller CH3-substituert fenylalkyl; eller COR<B>; S02-Rh; CH2CH(OH)-Rj; hvor Re er alkyl, alkenyl, hydroksyalkyl, alkyl eller hydroksyalkyl avbrutt ved en eller flere O; cykloalkyl, benzyl, alkylfenyl, fenyl, fenylalkyl, furfuryl, eller CH2CH(OH)-rV R<f>,R<8> er uavhengig av hverandre alkyl, alkenyl eller fenyl; Rh er alkyl, aryl eller alkylaryl; RJ er aralkyl eller CH20r<k>; R<k> er cykloheksyl, fenyl, tolyl eller benzyl; og Gi, er dersom n = 2 alkylen, alkenylen, xylylen; alkylen eller hydroksyalkylen avbrutt av en eller flere O; hydroksyalkylen; G2 og G'2 er uavhengig av hverandre H, alkyl eller OH; G4 og G'4 er uavhengig av hverandre H, alkyl, OH, alkoksy, halogen og, dersom n = 1, OG,; G3 og G'3 er uavhengig av hverandre H, alkyl eller halogen; og hvor, i formel A V, R101 erH, C,-Cg alkyl, C,-C8 alkoksy; R102 og R103 er uavhengig av hverandre H, halogen, OH, C,-Cg alkyl, C,-Cg alkoksy; R104 er H, OH, C,-C8 alkyl; Ci-Cg alkoksy.
18. Fremgangsmåte for stabilisering av organisk materiale mot skade ved lys, oksygen og varme, karakterisert ved at den innbefatter tilsetning eller påføring på dette materialet av en forbindelse av formel I ifølge krav 1.
19. Fremgangsmåte ifølge krav 18, karakterisert ved at det organiske materialet er et fotografisk registreringsmateriale.
20. Anvendelse av en forbindelse av formel I ifølge krav 1 for stabilisering av organisk materiale mot skade forårsaket av lys, oksygen og/eller varme.
21. Anvendelse ifølge krav 20, for beskyttelse av menneskelig eller animalsk hud og hår mot den skadelige virkningen av UV-stråling.
22. Kosmetisk preparat, karakterisert ved at det innbefatter en eller flere forbindelser av formel I ifølge krav 1, med hjelpestoffer eller ekstra stoffer som er kosmetisk kompatible innenfor hår- og hudkosmetiske preparater.
23. Kosmetisk preparat ifølge krav 22, karakterisert ved at det innbefatter fra 0,25 til 5 vektprosent, basert på den samlede vekten av sammensetningen, av et UV-absorbsjonsmiddel av formel I ifølge krav 1 og i tillegg minst et hud- og hårkompatibelt hjelpestoff.
24. Anvendelse av et kosmetisk hårpreparat ifølge krav 22 for beskyttelse av håret mot ultrafiolett stråling, hvor nevnte preparat er i form av en shampoo, en lotion, en gel eller en renseemulsjon, før eller etter shampoonering, før eller etter farging eller bleking, før eller etter permentering eller en retteoperasjon, i form av en lotion, en mousse eller en gel for styling eller behandling, i form av en lotion, en mousse eller en gel for børsting eller for krølling, i form av en hårlakk, i form av en sammensetning for festing av en permanent, for retting, for farging eller bleking av håret.
25. Fremgangsmåte for behandling av menneskelig hår for beskyttelse mot en skadelig virkning av UV-stråling, som innbefatter behandling av håret med en shampoo, en lotion, en gel eller en renseemulsjon, før eller etter shampoonering, før eller etter farging eller bleking, før eller etter permanentering eller en retteoperasjon, med en lotion, en mousse eller en gel for styling, med en lotion, en mousse eller en gel for børsting eller for krølling, med en hårlakk, med en sammensetning for permanentering, for retting, for farging eller for bleking av håret, karakterisert ved at shampooen, lotion, gelen, emulsjonen, moussen, hårlakken eller sammensetningen for permanentering, retting, farging eller bleking av håret innbefatter minst et UV-absorbsjonsmiddel av formel I ifølge krav 1.
26. Forbindelse, karakterisert ved at den utgjøres av 2,4,6-tris(2'hydroksy-4'-isopropyloksyfenyl)-l,3,5-triazin; 2,4,6-tris(2'-hydroksy-4'-n-heksyloksyfenyl)-l,3,5-triazin;
2,4,6 -tris(2' -hydroksy-4' -n-hep tyl oksy fenyl)-1,3,5 -triazin; 2,4,6-tris(2'-hydroksy-4-etoksykarbonylmetoksyfenyl)-1,3,5-triazin.
NO19975305A 1996-11-20 1997-11-19 Hydroksyfenyltriaziner NO318981B1 (no)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH286496 1996-11-20

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NO975305D0 NO975305D0 (no) 1997-11-19
NO975305L NO975305L (no) 1998-05-22
NO318981B1 true NO318981B1 (no) 2005-05-30

Family

ID=4243310

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NO19975305A NO318981B1 (no) 1996-11-20 1997-11-19 Hydroksyfenyltriaziner

Country Status (17)

Country Link
US (2) US6184375B1 (no)
JP (2) JP4366670B2 (no)
CN (1) CN1156456C (no)
AT (1) AT410317B (no)
AU (1) AU734952B2 (no)
BE (1) BE1011550A3 (no)
BR (1) BR9704843B1 (no)
CA (1) CA2221473C (no)
DE (1) DE19750906B4 (no)
ES (1) ES2135347B1 (no)
FR (1) FR2755966B1 (no)
GB (1) GB2319523B (no)
IT (1) IT1296467B1 (no)
NL (1) NL1007590C2 (no)
NO (1) NO318981B1 (no)
SE (1) SE522685C2 (no)
TW (1) TW546291B (no)

Families Citing this family (206)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6117997A (en) * 1997-11-19 2000-09-12 Ciba Specialty Chemicals Corporation Hydroxyphenyltriazines
JP2000026435A (ja) 1998-05-07 2000-01-25 Ciba Specialty Chem Holding Inc トリスレゾリシニルトリアジン
KR20010053123A (ko) * 1998-06-22 2001-06-25 에프. 아. 프라저, 에른스트 알테르 (에. 알테르), 한스 페터 비틀린 (하. 페. 비틀린), 피. 랍 보프, 브이. 스펜글러, 페. 아에글러 장애 페놀을 함유하는 트리스아릴-1,3,5-트리아진 자외선흡수제
EP1126811A1 (en) * 1998-11-02 2001-08-29 Ciba SC Holding AG Stabilisation of body-care and household products
BRPI0017036B1 (pt) 1999-12-23 2016-09-27 Ciba Sc Holding Ag mistura de compostos estabilizadora, sua composição e seu uso, e métodos de estabilização de material orgânico com relação ao dano de exposição à luz, oxigênio e/ou calor
DE10030658C1 (de) * 2000-06-23 2002-01-03 Trespa Int Bv Flammwidrige Harzbeschichtung
CO5231248A1 (es) 2000-07-26 2002-12-27 Ciba Sc Holding Ag Articulos transparentes de polimero de baja consistencia
JP4146105B2 (ja) * 2001-05-30 2008-09-03 富士フイルム株式会社 紫外線吸収剤及びその製造方法、紫外線吸収剤を含有する組成物、ならびに画像形成方法
TWI318208B (en) * 2001-07-02 2009-12-11 Ciba Sc Holding Ag Highly compatible hydroxyphenyltriazine uv-absorbers
US6855269B2 (en) * 2001-11-09 2005-02-15 Cytec Technology Corp. Phenyl ether-substituted hydroxyphenyl triazine ultraviolet light absorbers
US20030092280A1 (en) * 2001-11-09 2003-05-15 Applied Materials, Inc. Method for etching tungsten using NF3 and Cl2
US7214742B2 (en) * 2001-11-30 2007-05-08 Ciba Specialty Chemicals Corp. 2-hydroxyphenyl-s-triazine crosslinkers for polymer networks
FR2833164B1 (fr) 2001-12-07 2004-07-16 Oreal Compositions cosmetiques antisolaires a base d'un melange synergique de filtres et utilisations
GB0130416D0 (en) 2001-12-20 2002-02-06 Eastman Kodak Co Photographic elements containing a de-aggregating compound dye-forming coupler and stabilizer
GB0130418D0 (en) 2001-12-20 2002-02-06 Eastman Kodak Co Photographic elements containing a deaggregating compound and dye forming coupler
US6855666B2 (en) 2002-03-18 2005-02-15 Eastman Kodak Company Transferable UV protective image overcoat
EP1369038A1 (en) * 2002-06-05 2003-12-10 Ciba SC Holding AG Personal care products
JP4486810B2 (ja) 2003-01-08 2010-06-23 富士フイルム株式会社 着色組成物及びインクジェット記録方法
WO2004113463A1 (en) 2003-06-18 2004-12-29 Fuji Photo Film Co., Ltd. Ink and ink-jet recording ink
US6942956B2 (en) * 2003-09-24 2005-09-13 Eastman Kodak Company Process of transferring transferable protection overcoat to a dye-donor element
EP1668085A4 (en) 2003-09-29 2009-05-06 Fujifilm Corp INK FOR INK JET PRINTING, INK JET PRINTING SET, INK JET PRINTING MEDIUM, AND METHOD FOR PRODUCING INK JET PRINTING MEDIUM, AND INK JET PRINTING METHOD .
US7776144B2 (en) 2003-10-23 2010-08-17 Fujifilm Corporation Ink and ink set for inkjet recording
EP1914594A3 (en) 2004-01-30 2008-07-02 FUJIFILM Corporation Silver halide color photographic light-sensitive material and color image-forming method
EP2130876A1 (en) 2004-02-24 2009-12-09 FUJIFILM Corporation Inorganic fine particle dispersion and manufacturing method thereof as well as image-recording material
DE102004028629A1 (de) * 2004-06-15 2006-06-08 Basf Ag Stabilisierung von Farbstoffen in kosmetischen und dermatologischen Zubereitungen
FR2872039B1 (fr) * 2004-06-23 2006-08-04 Rhodia Chimie Sa Composition cosmetique comprenant un polyorganosiloxane et ses utilisations
FR2872038A1 (fr) * 2004-06-23 2005-12-30 Rhodia Chimie Sa Composition cosmetique comprenant un polyorganosiloxane et ses utilisations
US7118849B2 (en) * 2004-07-21 2006-10-10 Eastman Kodak Company Photothermographic materials with UV absorbing compounds
US20060040221A1 (en) * 2004-08-18 2006-02-23 Eastman Kodak Company Photothermographic materials with UV absorbing support
US20060204732A1 (en) 2005-03-08 2006-09-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Ink composition, inkjet recording method, printed material, method of producing planographic printing plate, and planographic printing plate
US10047231B2 (en) * 2005-06-10 2018-08-14 Basf Se Tris(hydroxyphenyl) triazines
JP4662822B2 (ja) 2005-07-19 2011-03-30 富士フイルム株式会社 光硬化型インクジェット記録装置
JP4677306B2 (ja) 2005-08-23 2011-04-27 富士フイルム株式会社 活性エネルギー硬化型インクジェット記録装置
ATE410460T1 (de) 2005-08-23 2008-10-15 Fujifilm Corp Härtbare tinte enthaltend modifiziertes oxetan
JP4757574B2 (ja) 2005-09-07 2011-08-24 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び、平版印刷版
DE602006019366D1 (de) 2005-11-04 2011-02-17 Fujifilm Corp Härtbare Tintenzusammensetzung und Oxetanverbindung
DE102005059739A1 (de) * 2005-12-13 2007-06-14 Beiersdorf Ag Sonnenschutzmittel mit Merocyaninen und Triazinen
JP5245412B2 (ja) 2005-12-21 2013-07-24 コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 セルロースエステルフィルム、セルロースエステルフィルムの製造方法、光学フィルム、偏光板及び液晶表示装置
CN101346217B (zh) 2005-12-26 2011-08-31 柯尼卡美能达精密光学株式会社 纤维素膜的制造方法、制造装置、通过该制造装置制造的光学膜、使用该光学膜的偏振片及液晶显示装置
DE602007012161D1 (de) 2006-03-03 2011-03-10 Fujifilm Corp Härtbare Zusammensetzung, Tintenzusammensetzung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und Flachdruckplatte
JP4719606B2 (ja) 2006-03-30 2011-07-06 富士フイルム株式会社 インクジェットヘッド記録装置
WO2007119421A1 (ja) 2006-03-31 2007-10-25 Konica Minolta Opto, Inc. 表示装置用フィルム、偏光板及びその製造方法、液晶表示装置
EP2012150A4 (en) 2006-04-25 2011-04-06 Konica Minolta Opto Inc POLARIZING PLATE PROTECTION FILM, METHOD OF MANUFACTURING THEREOF, POLARIZATION PLATE AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY
US7854864B2 (en) 2006-04-28 2010-12-21 Konica Minolta Opto, Inc. Method for manufacturing an optical film having a convexoconcave structure
JPWO2007139033A1 (ja) 2006-05-26 2009-10-08 富士フイルム株式会社 面発光型エレクトロルミネッセント素子
JP5215538B2 (ja) 2006-06-30 2013-06-19 富士フイルム株式会社 アゾ色素、着色組成物、感熱転写記録用インクシート、感熱転写記録方法、カラートナー、インクジェット用インクおよびカラーフィルタ
JP5276264B2 (ja) 2006-07-03 2013-08-28 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、平版印刷版の製造方法
EP2048525A4 (en) 2006-07-31 2010-11-10 Konica Minolta Opto Inc PROCESS FOR PREPARING AN OPTICAL FILM, OPTICAL FILM AND THIS USING POLARIZATION PLATE OR IMAGE DISPLAY
JP2010507699A (ja) * 2006-10-26 2010-03-11 チバ ホールディング インコーポレーテッド フォトクロミックシステム用光吸収層
JP2009048157A (ja) 2006-12-21 2009-03-05 Fujifilm Corp 液晶表示装置
DE102006062568A1 (de) 2006-12-29 2008-07-03 Henkel Kgaa Verbesserte Farbstabilisierung wasserhaltiger kosmetischer und pharmazeutischer Mittel
US8038283B2 (en) 2007-01-18 2011-10-18 Fujifilm Corporation Ink-jet recording apparatus
JP2008189776A (ja) 2007-02-02 2008-08-21 Fujifilm Corp 活性放射線硬化型重合性組成物、インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の作製方法、及び平版印刷版
JP5227521B2 (ja) 2007-02-26 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、インクセット
JP2008208266A (ja) 2007-02-27 2008-09-11 Fujifilm Corp インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、および平版印刷版
JP5224699B2 (ja) 2007-03-01 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版
EP1970196A3 (en) 2007-03-13 2010-01-27 FUJIFILM Corporation Hydrophilic member and process for producing the same
JP2008246793A (ja) 2007-03-29 2008-10-16 Fujifilm Corp 活性エネルギー線硬化型インクジェット記録装置
EP1974948A3 (en) 2007-03-29 2012-02-08 FUJIFILM Corporation Image-forming method using heat-sensitive transfer system
US8119562B2 (en) 2007-03-29 2012-02-21 Fujifilm Corporation Heat-sensitive transfer sheet and image-forming method using heat-sensitive transfer system
EP1980409A3 (en) 2007-03-29 2010-09-29 FUJIFILM Corporation Heat-sensitive transfer sheet for use in heat-sensitive transfer system and image-forming method using heat-sensitive transfer system
JP2008248124A (ja) 2007-03-30 2008-10-16 Fujifilm Corp 着色組成物、感熱転写記録用インクシート、感熱転写記録方法、カラートナー、インクジェット用インク、カラーフィルターおよびアゾ色素
JP5159141B2 (ja) 2007-03-30 2013-03-06 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版
JP2008273641A (ja) 2007-04-25 2008-11-13 Fujifilm Corp 感熱転写受像シート用紙管、感熱転写受像シートのロール形態加工物、及び画像形成方法
JP5337394B2 (ja) 2007-05-15 2013-11-06 富士フイルム株式会社 親水性コーティング組成物及びこれを用いた親水性部材
US7951854B2 (en) 2007-06-08 2011-05-31 Fujifilm Corporation Ink composition, ink set and inkjet recording method
WO2008153143A1 (ja) * 2007-06-14 2008-12-18 Nippon Shokubai Co., Ltd. 熱可塑性樹脂組成物とそれを用いた樹脂成形品および偏光子保護フィルムならびに樹脂成形品の製造方法
JP5213382B2 (ja) 2007-08-09 2013-06-19 富士フイルム株式会社 水性インク組成物、インクセット、及び画像記録方法
JP2009256568A (ja) 2007-08-17 2009-11-05 Fujifilm Corp 親水性膜形成用組成物、スプレー用組成物およびこれを用いた親水性部材
JP5469837B2 (ja) 2007-09-12 2014-04-16 富士フイルム株式会社 親水性組成物
JP2009090641A (ja) 2007-09-20 2009-04-30 Fujifilm Corp 防曇性カバー、及び該防曇性カバーを用いたメーター用カバー
JP2009256564A (ja) 2007-09-26 2009-11-05 Fujifilm Corp 親水性膜形成用組成物および親水性部材
US8076393B2 (en) 2007-09-26 2011-12-13 Fujifilm Corporation Ink composition, inkjet recording method, and printed material
JP5111039B2 (ja) 2007-09-27 2012-12-26 富士フイルム株式会社 重合性化合物、重合開始剤、および染料を含有する光硬化性組成物
JP5227560B2 (ja) 2007-09-28 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
JP5236238B2 (ja) 2007-09-28 2013-07-17 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用ホワイトインク組成物
JP2009084494A (ja) 2007-10-01 2009-04-23 Fujifilm Corp 水系着色剤分散物、水系着色剤分散物の製造方法、及びインクジェット記録用水系インク
JP2009090489A (ja) 2007-10-04 2009-04-30 Fujifilm Corp 画像形成方法及び画像形成装置
JP4642892B2 (ja) 2007-11-09 2011-03-02 富士フイルム株式会社 顔料組成物、水性顔料分散物、水性顔料分散物の製造方法、インクジェット記録用水系インク
JP2009125951A (ja) 2007-11-19 2009-06-11 Fujifilm Corp 記録媒体及びその製造方法、並びにインクジェット記録方法
JP5201955B2 (ja) 2007-11-19 2013-06-05 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用記録媒体及びその製造方法、並びにインクジェット記録方法
JP5201954B2 (ja) 2007-11-19 2013-06-05 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用記録媒体及びその製造方法、並びにインクジェット記録方法
US8240838B2 (en) 2007-11-29 2012-08-14 Fujifilm Corporation Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method, and printed material
JP2009138149A (ja) * 2007-12-10 2009-06-25 Sumitomo Chemical Co Ltd ポリエーテルスルホン系樹脂組成物及びその成形体
JP5124496B2 (ja) 2008-02-01 2013-01-23 富士フイルム株式会社 親水性部材
JP5591473B2 (ja) 2008-02-05 2014-09-17 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、及び印刷物
JP5383225B2 (ja) 2008-02-06 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、および印刷物
JP5254632B2 (ja) 2008-02-07 2013-08-07 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物
JP5079538B2 (ja) 2008-02-13 2012-11-21 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用インクセットおよび画像記録方法
US20090214797A1 (en) 2008-02-25 2009-08-27 Fujifilm Corporation Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same
JP2009226781A (ja) 2008-03-24 2009-10-08 Fujifilm Corp インクジェット画像の形成方法
JP2009227909A (ja) 2008-03-25 2009-10-08 Fujifilm Corp インクジェット用インクセット、画像記録方法、及び画像記録装置
JP2009233867A (ja) 2008-03-25 2009-10-15 Fujifilm Corp インクジェット記録方法及び記録物
JP5427382B2 (ja) 2008-03-25 2014-02-26 富士フイルム株式会社 親水性部材、フィン材、アルミニウム製フィン材、熱交換器およびエアコン
JP2009235113A (ja) 2008-03-25 2009-10-15 Fujifilm Corp インクジェット画像の形成方法
JP4914862B2 (ja) 2008-03-26 2012-04-11 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法、及び、インクジェット記録装置
JP5568222B2 (ja) 2008-06-16 2014-08-06 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録用インク組成物、インクセット、インクカートリッジ、インクジェット記録方法及び記録物
CA2728154C (en) 2008-06-16 2016-01-12 Fujifilm Corporation Ink composition, inkjet recording ink composition, ink set, ink cartridge, inkjet recording method and recorded matter
JP2010030223A (ja) 2008-07-30 2010-02-12 Fujifilm Corp インクジェット記録方法、インクジェット記録装置、及び、印刷物
JP5383133B2 (ja) 2008-09-19 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法及び印刷物成形体の製造方法
JP2010069805A (ja) 2008-09-19 2010-04-02 Fujifilm Corp インクセット及びインクジェット記録方法
JP2010077228A (ja) 2008-09-25 2010-04-08 Fujifilm Corp インク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物
EP2169018B1 (en) 2008-09-26 2012-01-18 Fujifilm Corporation Ink composition and inkjet recording method
JP2010077285A (ja) 2008-09-26 2010-04-08 Fujifilm Corp インクセット及び画像形成方法
JP5461809B2 (ja) 2008-09-29 2014-04-02 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5344892B2 (ja) 2008-11-27 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インクジェット用インク組成物、及びインクジェット記録方法
US8691002B2 (en) 2009-01-19 2014-04-08 Basf Se Organic black pigments and their preparation
JP5225156B2 (ja) 2009-02-27 2013-07-03 富士フイルム株式会社 活性放射線硬化型インクジェット記録用インク組成物、インクジェット記録方法及び印刷物
JP2010202756A (ja) 2009-03-03 2010-09-16 Fujifilm Corp 活性エネルギー線硬化型インク組成物、インクジェット記録方法、及び印刷物
JP2010209183A (ja) 2009-03-09 2010-09-24 Fujifilm Corp インク組成物及びインクジェット記録方法
JP5349095B2 (ja) 2009-03-17 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5349097B2 (ja) 2009-03-19 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
JP2010229349A (ja) 2009-03-27 2010-10-14 Fujifilm Corp 活性エネルギー線硬化型組成物、活性エネルギー線硬化型インク組成物インク組成物及びインクジェット記録方法
JP5405174B2 (ja) 2009-03-30 2014-02-05 富士フイルム株式会社 インク組成物
JP5383289B2 (ja) 2009-03-31 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット用であるインク組成物、インクジェット記録方法、およびインクジェット法による印刷物
JP5579533B2 (ja) 2009-08-27 2014-08-27 富士フイルム株式会社 新規なオキセタン化合物、活性エネルギー線硬化型組成物、活性エネルギー線硬化型インク組成物、及びインクジェット記録方法
KR101773536B1 (ko) 2009-09-04 2017-08-31 가부시키가이샤 아데카 자외선 흡수제를 함유한 자외선 차단용 화장료 조성물
JP5583376B2 (ja) 2009-09-15 2014-09-03 富士フイルム株式会社 インクジェット用インク組成物
JP5572026B2 (ja) 2009-09-18 2014-08-13 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP2011068783A (ja) 2009-09-25 2011-04-07 Fujifilm Corp インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5564382B2 (ja) * 2009-09-28 2014-07-30 富士フイルム株式会社 トリアジン化合物を含有するポリカーボネート樹脂組成物及びそれを用いた成形品
JP5489616B2 (ja) 2009-09-28 2014-05-14 富士フイルム株式会社 インク組成物及び印刷物成型体の製造方法
JP5664841B2 (ja) * 2010-01-22 2015-02-04 セイコーエプソン株式会社 光硬化型インク組成物およびインクジェット記録方法
JP5448924B2 (ja) 2010-02-25 2014-03-19 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクセット、及びこれを用いた画像形成方法
JP5448934B2 (ja) 2010-03-01 2014-03-19 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクセット、及びこれを用いた画像形成方法
JP5371844B2 (ja) 2010-03-16 2013-12-18 富士フイルム株式会社 処理液、インクセット及び画像形成方法
JP5538964B2 (ja) 2010-03-16 2014-07-02 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクセット、及びこれを用いた画像形成方法
JP5496739B2 (ja) 2010-03-30 2014-05-21 富士フイルム株式会社 画像形成方法
JP5591745B2 (ja) 2010-03-31 2014-09-17 富士フイルム株式会社 活性放射線硬化性インク組成物、インクジェット記録用インク組成物、並びに印刷物、および印刷物成形体の製造方法
US8746865B2 (en) 2010-03-31 2014-06-10 Fujifilm Corporation Image forming method
JP5813352B2 (ja) 2010-04-09 2015-11-17 富士フイルム株式会社 インク組成物及びその製造方法、インクセット、並びに画像形成方法
JP5158132B2 (ja) * 2010-05-25 2013-03-06 コニカミノルタホールディングス株式会社 セルロースエステルフィルム、長尺位相差フィルム、光学フィルムとその製造方法及びそれらを用いた偏光板と表示装置
JPWO2011158677A1 (ja) 2010-06-15 2013-08-19 コニカミノルタ株式会社 太陽光反射用フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置
JP5518588B2 (ja) 2010-06-17 2014-06-11 富士フイルム株式会社 インクセット、並びに画像形成方法
JPWO2011162154A1 (ja) 2010-06-25 2013-08-22 コニカミノルタ株式会社 太陽熱発電用反射板及び太陽熱発電用反射装置
JP5606817B2 (ja) 2010-07-27 2014-10-15 富士フイルム株式会社 活性放射線硬化型インクジェット用インク組成物、印刷物、印刷物成形体、及び印刷物の製造方法
JP5544239B2 (ja) 2010-07-29 2014-07-09 富士フイルム株式会社 重合性組成物
JP5785799B2 (ja) 2010-07-30 2015-09-30 富士フイルム株式会社 新規なアゾ化合物、水溶液、インク組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、インクジェット記録用インクカートリッジ、及びインクジェット記録物
JP5866150B2 (ja) 2010-07-30 2016-02-17 富士フイルム株式会社 新規なアゾ化合物、水溶液、インク組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、インクジェット記録用インクカートリッジ、及びインクジェット記録物
CN102002253A (zh) * 2010-10-21 2011-04-06 杭州吉华江东化工有限公司 含三嗪结构抗紫外线辐射分散染料及其制备方法
JP5850654B2 (ja) 2010-12-28 2016-02-03 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用インク
WO2012101204A1 (en) 2011-01-28 2012-08-02 Momentive Performance Materials Gmbh Uv-photo-protecting cosmetic composition
EP2672196A4 (en) 2011-01-31 2015-03-11 Konica Minolta Inc SOLAR RADIATION COLLECTOR MIRROR AND SOLAR THERMAL POWER GENERATION SYSTEM COMPRISING THE SOLAR RADIATION COLLECTION MIRROR
EP3124557B1 (en) 2011-02-28 2018-08-22 Fujifilm Corporation Ink composition and image forming method
JP2012211293A (ja) 2011-03-18 2012-11-01 Fujifilm Corp インク組成物、インクジェット記録用インク及びインクジェット記録方法
JP2012201874A (ja) 2011-03-28 2012-10-22 Fujifilm Corp インク組成物、及び画像形成方法
AU2012288032A1 (en) 2011-07-26 2014-02-06 Konica Minolta, Inc. Solar light collecting mirror and solar thermal power generation system using said solar light collecting mirror
JP5696004B2 (ja) 2011-08-30 2015-04-08 富士フイルム株式会社 トリアジン側鎖を有する新規化合物、着色組成物、インクジェット用インク、インクジェット記録方法、カラーフィルター、及びカラートナー
WO2013046679A2 (en) 2011-09-29 2013-04-04 Fujifilm Corporation Inkjet ink composition and inkjet recording method
KR101717829B1 (ko) 2011-11-08 2017-03-17 후지필름 가부시키가이샤 착색 조성물 및 잉크젯 기록용 잉크
KR20140101788A (ko) * 2011-11-15 2014-08-20 바스프 에스이 유기 반도체 소자 및 이의 제조 방법
WO2013099677A1 (ja) 2011-12-26 2013-07-04 富士フイルム株式会社 キサンテン骨格を有する化合物、着色組成物、インクジェット記録用インク、及びインクジェット記録方法
JP6176116B2 (ja) 2012-01-06 2017-08-09 コニカミノルタ株式会社 フィルムミラーの製造方法
WO2013129265A1 (ja) 2012-02-29 2013-09-06 富士フイルム株式会社 着色組成物、インクジェット記録用インク、及びインクジェット記録方法
JP2014062219A (ja) 2012-03-07 2014-04-10 Fujifilm Corp 捺染用着色組成物、捺染方法、及び布帛
JP5666498B2 (ja) 2012-03-22 2015-02-12 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクセット、及び、画像形成方法
JP5836200B2 (ja) 2012-05-30 2015-12-24 富士フイルム株式会社 キサンテン骨格を有する化合物、着色組成物、インクジェット記録用インク、及びインクジェット記録方法
EP2669338B1 (en) 2012-05-31 2017-04-05 Fujifilm Corporation Coloring composition, ink for inkjet recording and inkjet recording method
FR2993176B1 (fr) 2012-07-13 2014-06-27 Oreal Composition cosmetique contenant des particules composites filtrantes de taille moyenne superieure a 0,1 micron et des particules de filtre inorganique et une phase aqueuse
JP6100896B2 (ja) 2012-07-13 2017-03-22 ロレアル 複合顔料及びその調製方法
US20150157539A1 (en) 2012-07-13 2015-06-11 L'oreal Cosmetic composition comprising composite particles
WO2014010101A1 (en) 2012-07-13 2014-01-16 L'oreal Composite pigment and method for preparing the same
US11266584B2 (en) 2012-07-13 2022-03-08 L'oreal Cosmetic composition comprising composite sunscreen particles
JP2014198816A (ja) 2012-09-26 2014-10-23 富士フイルム株式会社 アゾ化合物、水溶液、インク組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、インクジェット記録用インクカートリッジ、及びインクジェット記録物
EP2921530A4 (en) 2012-11-15 2016-08-03 Fujifilm Corp COLORING COMPOSITION, INK-INK PRINTING INK USING THE COLORING COMPOSITION, INK-JET PRINTING METHOD USING THIS INK FOR INK-JET PRINTING, INK CARTRIDGE, AND JET-PRINTED MATERIAL INK
WO2014077291A1 (ja) 2012-11-15 2014-05-22 富士フイルム株式会社 着色組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、インクジェットプリンタカートリッジ、及びインクジェット記録物
TWI447154B (zh) 2012-11-27 2014-08-01 Ind Tech Res Inst 聚氯乙烯製品與其表面處理方法
EP2945602B1 (en) 2013-01-21 2018-01-10 L'Oréal Cosmetic or dermatological composition comprising a merocyanine and an insoluble organic uv-screening agent and/or an insoluble inorganic uv- screening agent
TW201434821A (zh) * 2013-02-01 2014-09-16 Bayer Materialscience Ag 製造可聚合的uv吸收劑之方法
JP5980702B2 (ja) 2013-03-07 2016-08-31 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、成型印刷物の製造方法
DK2970101T3 (en) 2013-03-14 2018-08-20 Alkermes Pharma Ireland Ltd PRO-DRUGS OF FUMARATES AND THEIR USE IN TREATING DIFFERENT DISEASES
US8669281B1 (en) 2013-03-14 2014-03-11 Alkermes Pharma Ireland Limited Prodrugs of fumarates and their use in treating various diseases
KR101377201B1 (ko) * 2013-03-25 2014-03-25 주식회사 엘지화학 자외선 차단 기능이 우수한 광학 필름 및 이를 포함하는 편광판
WO2015005394A1 (ja) 2013-07-12 2015-01-15 富士フイルム株式会社 画像形成方法及び画像記録物
JP5939644B2 (ja) 2013-08-30 2016-06-22 富士フイルム株式会社 画像形成方法、インモールド成型品の製造方法、及び、インクセット
JP6117072B2 (ja) 2013-09-30 2017-04-19 富士フイルム株式会社 顔料分散組成物、インクジェット記録方法、及び化合物の製造方法
JP6170901B2 (ja) 2014-01-10 2017-07-26 富士フイルム株式会社 化合物、着色組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、インクジェットプリンタカートリッジ、インクジェット記録物、カラーフィルタ、カラートナー、及び転写用インク
JP6169501B2 (ja) 2014-01-31 2017-07-26 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用インク
AU2015218587B2 (en) 2014-02-24 2017-04-27 Alkermes Pharma Ireland Limited Sulfonamide and sulfinamide prodrugs of fumarates and their use in treating various diseases
WO2015155158A1 (en) 2014-04-11 2015-10-15 Basf Se Mixtures of cosmetic uv absorbers
EP3185843B1 (fr) 2014-08-28 2021-08-11 L'Oréal Composition gel/gel comprenant un filtre uv
JP6169545B2 (ja) 2014-09-09 2017-07-26 富士フイルム株式会社 重合性組成物、インクジェット記録用インク組成物、インクジェット記録方法、及び記録物
JP6086888B2 (ja) 2014-09-26 2017-03-01 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用インク組成物、インクジェット記録方法、及び記録物
JP6169548B2 (ja) 2014-09-26 2017-07-26 富士フイルム株式会社 重合性組成物、インクジェット記録用インク組成物、インクジェット記録方法、及び記録物
WO2016083404A1 (fr) 2014-11-24 2016-06-02 L'oreal Composition cosmetique comprenant un phyllosilicate synthetique et un polyol et/ou un filtre uv
FR3037243B1 (fr) 2015-06-11 2018-11-16 L'oreal Composition comprenant un filtre uv, un polymere hydrophile reticule anionique, un tensioactif ayant une hlb inferieure ou egale a 5 et un copolymere silicone
WO2017043416A1 (ja) * 2015-09-09 2017-03-16 株式会社カネカ 2,4,6-トリス(2-ヒドロキシ-3-メチル-4-アルコキシフェニル)-1,3,5-トリアジン化合物、及び2,4,6-トリス(2,4-ジヒドロキシ-3-メチルフェニル)-1,3,5-トリアジンの製造方法
CN105693641A (zh) * 2015-12-29 2016-06-22 新秀化学(烟台)有限公司 一种三嗪紫外线吸收剂的制备方法
EP3492652A4 (en) 2016-07-28 2019-08-07 FUJIFILM Corporation INK JET PRINTING METHOD, DYED COMPOSITION, INK JET INK, INK CARTRIDGE AND COLOR POLYMER
EP3677647B1 (en) 2017-08-29 2021-08-25 FUJIFILM Corporation Pigment composition, production method therefor, and water-based ink composition
FR3073408B1 (fr) 2017-11-15 2019-10-11 L'oreal Compositions comprenant au moins un polymere acrylique et au moins un filtre organique insoluble
CN107935952B (zh) * 2017-12-01 2019-11-15 北京天罡助剂有限责任公司 一种三嗪-5的制备方法
EP3778799A4 (en) 2018-03-30 2021-06-09 FUJIFILM Corporation INK FOR INKJET PRINTING, PROCESS FOR THE PRODUCTION OF INK FOR INKJET PRINTING AND PROCESS FOR IMAGE PRINTING
KR102140677B1 (ko) * 2018-06-08 2020-08-03 주식회사 트리엘 신규한 유기발광소자용 화합물 및 이를 포함하는 유기막 재료용 코팅액 조성물
JP2019218508A (ja) * 2018-06-21 2019-12-26 凸版印刷株式会社 保護フィルムおよびシート
JP7183583B2 (ja) * 2018-06-21 2022-12-06 凸版印刷株式会社 保護フィルムおよびシート
WO2019244986A1 (ja) * 2018-06-21 2019-12-26 凸版印刷株式会社 保護フィルムおよびシート
FR3083093A1 (fr) 2018-06-28 2020-01-03 L'oreal Composition photoprotectrice comprenant des particules de silice colloidale
FR3090329B1 (fr) 2018-12-21 2020-12-04 Oreal Composition comprenant un filtre UV, un polymère hydrophile réticulé anionique, un tensioactif ayant une HLB inférieure ou égale à 5 et un alcane non volatil
FR3103704B1 (fr) 2019-11-29 2022-07-08 Oreal Composition comprenant un filtre UV, un polymère éthylénique à groupe acide phosphonique et une huile hydrocarbonée
FR3103705B1 (fr) 2019-11-29 2021-12-17 Oreal Composition comprenant un filtre UV, un polymère séquencé à groupe acide phosphonique et une huile hydrocarbonée
JP6863502B1 (ja) * 2020-04-09 2021-04-21 凸版印刷株式会社 化粧部材、及び化粧部材の製造方法
CN111892548B (zh) * 2020-07-24 2023-12-01 利安隆(中卫)新材料有限公司 制备2,4,6-三(2-羟基4-正己氧基芳基)-1,3,5-三嗪及其中间体的方法
CN112176765A (zh) * 2020-09-18 2021-01-05 江阴万邦新材料有限公司 一种高转印精密度热升华染料吸附涂料配方
WO2022080430A1 (ja) 2020-10-14 2022-04-21 富士フイルム株式会社 化合物、その互変異性体又はそれらの塩及びその製造方法、着色組成物、染色方法、並びに、染色物
DE102022213655A1 (de) 2022-12-14 2024-06-20 Henkel Ag & Co. Kgaa Farbstabilisierung von kosmetischen Produkten

Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE614726A (no) * 1961-03-06
US3118887A (en) 1961-03-06 1964-01-21 American Cyanamid Co O-hydroxy substituted tris aryl-s-triazines
US3113942A (en) 1961-07-13 1963-12-10 Monsanto Res Corp Mono-alkyl ethers of tris (2-hydroxyphenyl) triazines
US3113941A (en) * 1961-07-13 1963-12-10 Monsanto Res Corp Esters of hydroxyaryltriazines
US3113940A (en) * 1961-07-13 1963-12-10 Monsanto Res Corp Aromatic partial ethers of tris (2-hydroxyphenyl) triazine
BE639330A (no) 1962-10-30
NL130993C (no) 1963-02-07
CH469053A (de) * 1963-07-26 1969-02-28 Ciba Geigy Verwendung von neuen Hydroxyphenyl-1,3,5-triazinen als Schutzmittel gegen Ultraviolettstrahlung für nichttextile organische Materialien
CH533853A (de) 1970-03-23 1973-02-15 Ciba Geigy Ag Verwendung von 2'-Hydroxyphenyl-1,3,5-triazinen als Stabilisierungsmittel gegen Ultraviolettstrahlung in photographischem Material
EP0165608B1 (de) * 1984-06-22 1991-01-02 Ilford Ag Hydroxyphenyltriazine, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung als UV-Absorber
US4619956A (en) 1985-05-03 1986-10-28 American Cyanamid Co. Stabilization of high solids coatings with synergistic combinations
US4826978A (en) 1987-12-29 1989-05-02 Milliken Research Corporation Reactive, non-yellowing triazine compounds useful as UV screening agents for polymers
ES2100878T3 (es) 1989-12-05 1997-07-01 Ciba Geigy Ag Material organico estabilizado.
ES2099721T3 (es) 1990-10-29 1997-06-01 Cytec Tech Corp Composiciones sinergicas absorbentes de radiacion ultravioleta que contienen hidroxi aril triazinas y tetraalquil piperidinas.
DE59209837D1 (de) 1991-01-31 2000-06-15 Ciba Sc Holding Ag Verfahren zur Herstellung von 2-(2',4'-Dihydroxyphenyl)-4,6-diaryl-s-triazinen
DE59208921D1 (de) 1991-06-03 1997-10-30 Ciba Geigy Ag UV-Absorber enthaltendes photographisches Material
EP0531258B1 (de) * 1991-09-05 1997-09-10 Ciba SC Holding AG UV-Absorber enthaltendes photographisches Material
TW288032B (no) * 1992-09-07 1996-10-11 Ciba Geigy Ag
US5489503A (en) 1992-12-03 1996-02-06 Ciba-Geigy Corp. UV absorbers
BE1006797A5 (fr) * 1992-12-03 1994-12-13 Ciba Geigy Ag Absorbeurs d'uv.
US5354794A (en) * 1993-02-03 1994-10-11 Ciba-Geigy Corporation Electro coat/base coat/clear coat finishes stabilized with S-triazine UV absorbers
CH686305A5 (de) 1993-09-28 1996-02-29 Ciba Geigy Ag Verfahren zur Herstellung von 1,3,5-Triazinen.
ATE204571T1 (de) * 1993-11-23 2001-09-15 Ciba Sc Holding Ag O-hydroxyphenyl-s-triazine enthaltende stabilisierte polymere
GB9403451D0 (en) * 1994-02-23 1994-04-13 Ciba Geigy Ag Sunscreen compositions
FR2720634B1 (fr) 1994-06-03 1996-07-26 Oreal Compositions cosmétiques anti-UV et utilisations.
US5556973A (en) 1994-07-27 1996-09-17 Ciba-Geigy Corporation Red-shifted tris-aryl-s-triazines and compositions stabilized therewith
EP0706083A1 (de) 1994-10-04 1996-04-10 Ciba-Geigy Ag Fotografisches Aufzeichnungsmaterial enthaltend einen UV-Absorber
AU703967B2 (en) 1994-10-10 1999-04-01 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Bisresorcinyltriazines
EP0711804A3 (de) 1994-11-14 1999-09-22 Ciba SC Holding AG Kryptolichtschutzmittel
ES2181870T3 (es) 1995-03-15 2003-03-01 Ciba Sc Holding Ag Triacinas difenil sustituidas como estabilizadores de luz.
WO1997003642A1 (en) * 1995-07-22 1997-02-06 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Sunscreen compositions
GB9515048D0 (en) * 1995-07-22 1995-09-20 Ciba Geigy Ag Sunscreen compositions
US5545743A (en) * 1995-11-02 1996-08-13 Dow Corning Corporation Process for heat-fractionation of organosilanes

Also Published As

Publication number Publication date
TW546291B (en) 2003-08-11
ES2135347B1 (es) 2000-05-16
DE19750906B4 (de) 2008-06-12
NO975305L (no) 1998-05-22
DE19750906A1 (de) 1998-05-28
FR2755966B1 (fr) 2000-10-13
MX9708911A (es) 1998-09-30
AT410317B (de) 2003-03-25
AU4520797A (en) 1998-05-28
CN1183410A (zh) 1998-06-03
US6284821B1 (en) 2001-09-04
JPH10182621A (ja) 1998-07-07
CA2221473C (en) 2009-02-17
GB2319523B (en) 2000-11-08
JP5308914B2 (ja) 2013-10-09
GB2319523A (en) 1998-05-27
BR9704843B1 (pt) 2009-01-13
BR9704843A (pt) 1998-10-27
US6184375B1 (en) 2001-02-06
CN1156456C (zh) 2004-07-07
SE522685C2 (sv) 2004-02-24
ATA196397A (de) 2002-08-15
NL1007590C2 (nl) 1998-10-27
JP4366670B2 (ja) 2009-11-18
BE1011550A3 (fr) 1999-10-05
ITMI972574A1 (it) 1999-05-19
AU734952B2 (en) 2001-06-28
CA2221473A1 (en) 1998-05-20
SE9704171D0 (sv) 1997-11-14
NL1007590A1 (nl) 1998-05-25
JP2009221218A (ja) 2009-10-01
FR2755966A1 (fr) 1998-05-22
ES2135347A1 (es) 1999-10-16
NO975305D0 (no) 1997-11-19
SE9704171L (sv) 1998-05-21
IT1296467B1 (it) 1999-06-25
GB9722825D0 (en) 1997-12-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NO318981B1 (no) Hydroksyfenyltriaziner
US6509399B2 (en) Non-yellowing part-tertiary-alkyl phenyl substituted triazine and pyrimidine ultraviolet light absorbers
US6537670B1 (en) Bis(alkyleneoxybenzophenone) ultraviolet light absorbers
US7087753B2 (en) Naphthyltriazines as stabilizers for organic material
JP2004513122A (ja) 非黄変化性オルト−ジアルキルアリール置換されたトリアジン紫外光吸収剤
CA2336246A1 (en) Red-shifted trisaryl-1,3,5-triazine ultraviolet light absorbers
US6242597B1 (en) Trisaryl-1,3,5-triazine ultraviolet light absorbers
US6239275B1 (en) Trisaryl-1,3,5-triazine ultraviolet light absorbers containing hindered phenols
EP1089984B1 (en) Non-yellowing para-tertiary-alkyl phenyl substituted triazine and pyrimidine ultraviolet light absorbers
US6117997A (en) Hydroxyphenyltriazines
US6384113B1 (en) Benzocycle-substituted triazine and pyrimidine ultraviolet light absorbers
KR20010053056A (ko) 벤조사이클-치환 트리아진 및 피리미딘 자외선 흡수제
KR100562926B1 (ko) 히드록시페닐트리아진
MXPA97008911A (en) Hidroxifeniltriazi
MXPA00011724A (en) Benzocycle-substituted triazine and pyrimidine ultraviolet light absorbers
MXPA00004300A (en) Trisaryl-1,3,5-triazine ultraviolet light absorbers
CH692916A5 (de) Triphenyltriazine enthaltend zwei freie und eine substituierte Hydroxyfunktion.