NL1007216C2 - Werkwijze voor het vervaardigen van een stamper voor het voortbrengen van optische schijven, aldus verkregen stamper en optische schijf verkregen onder toepassing van een dergelijke stamper. - Google Patents
Werkwijze voor het vervaardigen van een stamper voor het voortbrengen van optische schijven, aldus verkregen stamper en optische schijf verkregen onder toepassing van een dergelijke stamper. Download PDFInfo
- Publication number
- NL1007216C2 NL1007216C2 NL1007216A NL1007216A NL1007216C2 NL 1007216 C2 NL1007216 C2 NL 1007216C2 NL 1007216 A NL1007216 A NL 1007216A NL 1007216 A NL1007216 A NL 1007216A NL 1007216 C2 NL1007216 C2 NL 1007216C2
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- exposure step
- stamper
- photoresist
- additional
- additional exposure
- Prior art date
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 58
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 28
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 25
- PQGYICACOSZSFB-WMGZZIQCSA-N (NE)-N-[[(1R,2R,3S,5S)-3-(3,4-dichlorophenyl)-8-methyl-8-azabicyclo[3.2.1]octan-2-yl]methylidene]hydroxylamine Chemical compound C1([C@@H]2[C@@H](\C=N\O)[C@H]3CC[C@@H](C2)N3C)=CC=C(Cl)C(Cl)=C1 PQGYICACOSZSFB-WMGZZIQCSA-N 0.000 claims 1
- 241001061260 Emmelichthys struhsakeri Species 0.000 claims 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 5
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 238000009987 spinning Methods 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000010076 replication Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/161—Coating processes; Apparatus therefor using a previously coated surface, e.g. by stamping or by transfer lamination
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0057—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0064—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture mediums or carriers characterised by the selection of the material
- G11B23/0085—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture mediums or carriers characterised by the selection of the material intermediate mediums using a photosensitive material, e.g. photo-resist
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/261—Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/263—Preparing and using a stamper, e.g. pressing or injection molding substrates
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
Korte aanduiding: Werkwijze voor het vervaardigen van een stamper voor het voortbrengen van optische schijven, aldus verkregen stamper en optische schijf verkregen onder toepassing van een dergelijke stamper.
5
De onderhavige uitvinding heeft betrekking op een werkwijze voor het vervaardigen van een stamper voor het voortbrengen van optische schijven omvattende het aanbrengen van een fotolak op een stamperplaat en het structureren van de aangebrachte fotolaklaag, waarbij 10 het structureren achtereenvolgens het belichten, ontwikkelen en verwarmen omvat. Verder heeft de onderhavige uitvinding betrekking op een stamper voor het voortbrengen van optische schijven en op optische schijven.
Een dergelijke werkwijze is bekend uit de ten name van de onderhavige aanvragers ingediende Nederlandse octrooiaanvrage 9400225. 15 Volgens de daarin beschreven werkwijze voor het vervaardigen van een stamper wordt op een stamperplaat een fotolaklaag aangebracht waarna de aangebrachte fotolaklaag wordt gestructureerd. Het structureren van de aangebrachte fotolaklaag omvat achtereenvolgens het selectief belichten en ontwikkelen van de aangebrachte fotolaklaag waarbij het structureren 20 van de aangebrachte fotolaklaag in het bijzonder als aanvullende handeling voorts het verwarmen van de selectief belichte fotolaklaag omvat. Daarnaast omvat het structureren van de aangebrachte fotolaklaag verder het vóór het ontwikkelen van de fotolaklaag integraal belichten van de fotolaklaag. De stappen van het achtereenvolgens selectief belichten, verwarmen en 25 integraal belichten alvorens het onwikkelen wordt uitgevoerd, zijn voor de deskundigen op dit gebied ook wel bekend onder de aanduiding "image reversal process". Volgens het in deze Nederlandse octrooiaanvrage uitgevoerde voorbeeld werd een negatief werkende fotolak door middel van opspinnen op een blanke 300 micrometer dikke nikkelschil bekleed, die bij 30 dit experiment op een standaard 8 inch CD-glassubstraat was gelijmd. In de uiteindelijke uitvoeringsvorm, zoals commercieel toegepast, is er echter geen sprake meer van een glassubstraat. Na het droogslingeren van het nikkel schil/glassubstraat-samenstel bij een constante temperatuur van 80°C werd de opgebrachte negatief werkende fotolaklaag gedroogd. Na afkoel en 35 werd het samenstel met behulp van een masterregistratiesysteem (MRS) met een golflengte van 459 nm belicht. Direct na het belichten werd het 1007216 2 samenstel verwarmd en vervolgens afgekoeld waarna gedurende 4 minuten integrale belichting plaatsvond. Aldus werden de niet-belichte delen van de op de nikkel schil aangebrachte negatief werkende fotolaklaag alsnog belicht. Het samenstel werd vervolgens ontwikkeld en op dezelfde manier 5 als na de belichting opnieuw verwarmd en vervolgens afgekoeld met als verschil dat de ingestelde oventemperatuur nu 140°C bedroeg.
Deze laatstgenoemde warmtebehandeling, ook wel hardbake genoemd, wordt nu echter in de praktijk uitgevoerd bij een temperatuur van 200°C. Een nadeel van een dergelijk hoge temperatuur van de laatste 10 warmtebehandeling is dat de na het ontwikkelen gevormde, zogenaamde fotolakpaaltjes hun structuur of geometrie verliezen en meer of minder uitvloeien. Doordat de geometrie van de fotolakpaaltjes ten gevolge van de noodzakelijke warmtebehandeling bij hoge temperatuur zal veranderen, voldoet de verkregen stamper vaak niet meer aan de gewenste nauwkeurige 15 specificaties voor het voortbrengen van optische schijven, hetgeen aldus ongewenst is.
Het doel van de onderhavige uitvinding is daarom een werkwijze voor het vervaardigen van een stamper, zoals vermeld in de aanhef, te verschaffen, welke werkwijze de hiervoor genoemde problemen 20 elimineert.
Een ander doel van de onderhavige uitvinding is een werkwijze voor het vervaardigen van een stamper, zoals vermeld in de aanhef, te verschaffen, welke werkwijze een bepaalde vloeiing van de fotolakpaaltjes toestaat zodat de gewenste, voor massa replicatie vereiste 25 paalgeometrie kan worden gestuurd.
Deze doelen zijn door de onderhavige uitvinders verrassenderwijze bereikt door te voorzien in een werkwijze, zoals vermeld in de aanhef, die wordt gekenmerkt doordat de ontwikkelde fotolaklaag vóór de laatste warmtebehandeling, ook wel hardbake genoemd, wordt onderworpen 30 aan een aanvullende belichtingsstap.
Een dergelijke aanvullende bel ichtingsstap zorgt voor oxidatiereacties in de fotolak, in het bijzonder in de buitenste lagen van de fotolak, welke oxidatiereacties leiden tot uitharding en een hogere glasovergangstemperatuur, waardoor de structuur van de tijdens de 35 ontwikkel stap gevormde fotolakpaaltjes door de navolgende warmtebehandeling bij hoge temperatuur niet nadelig wordt beïnvloed.
1007216 3
De voor de laatste warmtebehandeling uit te voeren aanvullende belichtingsstap volgens de onderhavige uitvinding wordt bij voorkeur uitgevoerd in het gebied waarin de fotochemische harding van de fotolak plaatsvindt, te weten in het gebied waarin absorptie van de 5 elektromagnetische straling optreedt, bij voorkeur in het gebied 200-320 nanometer, met name bij voorkeur in het gebied 240-260 nanometer.
De keuze van het toe te passen golflengtegebied van de aanvullende belichtingsstap is van invloed op het hardingsproces van de fotolak. Hoewel de wetenschappelijke verklaring met betrekking tot de 10 relatie tussen de golflengte en de uitharding van de fotolak enigszins onduidelijk is voor de deskundigen op dit gebied, veronderstellen de onderhavige uitvinders dat het volgende van toepassing is. Opgemerkt dient te worden dat de onderhavige uitvinders in geen geval zijn beperkt door een dergelijke verklaring. In het gebied met een lange golflengte, 15 bijvoorbeeld 300-320 nanometer, is de indringdiepte van de UV-straling groot en zal de fotolak volledig uitharden. Bij een golflengte van 240-260 nanometer is de absorptie van de fotolak groot waardoor de indringdiepte van de UV-straling gering is en aldus zal slechts de buitenste laag van de fotolak uitharden. In deze laatste uitvoeringsvorm is, door de 20 combinatie van het belichten in een bijzonder golflengtegebied en het vervolgens verwarmen, het mogelijk om de paalgeometrie van de fotolakpaal-tjes te beïnvloeden. Indien de absorptiepiek zich bevindt in het gebied 240-260 nanometer, hetgeen voor novolak-harsen geldt, zal een aanvullende bel ichtingsstap buiten dit hiervoor genoemde gebied geen voldoende 25 absorptie teweegbrengen. Een onvoldoende uitharding van de fotolaklaag is het resultaat, hetgeen betekent dat de structuur van de fotolakpaaltjes bij de navolgende warmtebehandeling bij hoge temperatuur zal worden beïnvloed en meer of minder zal uitvloeien, hetgeen in bepaalde uitvoeringsvormen gewenst is.
30 De belichtingstijd van de aanvullende bel ichtingsstap volgens de onderhavige uitvinding ligt bij voorkeur in het gebied 1-125 seconden, met name bij voorkeur in het gebied 2-30 seconden. Uit experimentele gegevens is gebleken dat een belichtingstijd korter dan 1 seconde leidt tot onvoldoende oxidatiereacties in de fotolaklaag hetgeen 35 onvoldoende uitharding tot stand brengt. Een belichtingstijd langer dan 125 seconden geeft geen aanvullende werking op de in de fotolaklaag 1007216 4 geïnduceerde oxidatiereacties. Daarnaast is een belichtingstijd langer dan 125 seconden ongewenst omdat ten gevolge van de ozonproductie de fotolakpaaltjes, welke paaltjes voornamelijk uit organisch materiaal bestaan, langzaam worden aangetast en zullen verdampen, hoofdzakelijk als 5 H20 en C02. Bovendien is bij een dergelijk lange belichtingstijd de warmteproductie ten gevolge van de aanvullende belichtingsstap volgens de onderhavige uitvinding hoog waardoor de temperatuur tot boven de glastemperatuur kan oplopen waardoor de geometrie van de fotolakpaaltjes alsnog nadelig wordt beïnvloed.
10 De effectieve dosering of energiedichtheid van de aanvullende belichtingsstap volgens de onderhavige uitvinding ligt bij voorkeur in het gebied 4·10'4 - 5·10'2 J/cm2, bij voorkeur in het gebied 8·ΙΟ'4 - 1,2·10"2 J/cm2. Indien de effectieve dosering van de aanvullende bel ichtingsstap volgens de onderhavige uitvinding lager is dan 4· 10"4 J/cm2, 15 wordt geen voldoende verknoping in de fotolaklaag tot stand gebracht. Indien de effectieve dosering van de aanvullende bel ichtingsstap volgens de onderhavige uitvinding groter is dan 5·10'ζ J/cm2, treedt geen significant effect met betrekking tot het verknopen in de fotolaklaag op. Volgens de onderhavige uitvinding wordt onder effectieve dosering verstaan 20 het produkt van de dosering en de gevoeligheid van het belichte materiaal bij de toegepaste golflengte. Voor novolak-hars ligt de maximale gevoeligheid bij een waarde van λ = 250 nanometer waardoor de toegepaste energiedosering bij een golflengte van 250 nanometer nagenoeg overeenkomt met de effectieve dosering. Het is duidelijk dat een golflengte anders 25 dan 250 nanometer een hogere energiedosering vereist om dezelfde effectieve dosering en dus dezelfde werking te verkrijgen als bij een golflengte van 250 nanometer.
In een bij voorkeur toegepaste uitvoeringsvorm van de werkwijze volgens de onderhavige uitvinding wordt de aanvullende 30 bel ichtingsstap uitgevoerd onder rotatie. Doordat de stamper tijdens het aanvullend belichten wordt geroteerd, treedt over het volledige oppervlak van de stamper het verknopen in de fotolaklaag op waardoor een goede egaliteit wordt bereikt.
Daarnaast verdient het de voorkeur de aanvullende 35 bel ichtingsstap uit te voeren onder verwarmen. Het verwarmen zorgt ervoor dat de verknoping in de fotolaklaag sneller plaatsvindt waardoor de Ί 00721 6 5 belichtingstijd van de aanvullende belichtingsstap volgens de onderhavige uitvinding kan worden verkort, hetgeen de productiesnelheid doet toenemen.
In de werkwijze volgens de onderhavige uitvinding wordt bij voorkeur voor het aanbrengen van de foto!akiaag een negatieve fotolak 5 toegepast. Belichte gebieden van een laag van negatief werkende fotolaklaag blijven na ontwikkelen bestaan, terwijl niet-belichte gebieden door ontwikkelen worden verwijderd. De werkwijze volgens de onderhavige uitvinding is echter niet beperkt tot de toepassing van een bijzondere negatieve fotolak. Meer in het bijzonder is de werkwijze volgens de 10 onderhavige uitvinding geschikt voor het beïnvloeden van de paalgeometrie van fotolakpaaltjes, ongeacht de bijzondere herkomst van de toegepaste fotolak, te weten een positieve fotolak of negatieve fotolak. Door in overeenstemming met de voorgestelde werkwijze op een stamperplaat, die in principe direct in de spuitgietmachine zou kunnen worden geplaatst, 15 een negatief werkende fotolaklaag aan te brengen en te structureren, kunnen zowel de metallisatie- als galvanisatiestappen worden overgeslagen.
In een bij voorkeur toegepaste uitvoeringsvorm van de werkwijze volgens de onderhavige uitvinding wordt het belichten, waarmee niet de aanvullende belichtingsstap volgens de onderhavige uitvinding 20 wordt bedoeld, uitgevoerd in twee stappen, te weten een eerste selectieve bel ichtingsstap en een tweede integrale bel ichtingsstap. Door het selectief belichten van de negatief werkende fotolak wordt in de belichte gebieden een zuur opgewekt. Door het verwarmen na het selectief belichten van de negatief werkende fotolak wordt deze in de belichte gebieden verknoopt 25 onder de katalyse van het zuur. Door het integraal belichten wordt nu ook in de niet-belichte gebieden een zuur opgewekt, dat ervoor zorgt dat bij het ontwikkelen de niet-selectief belichte en dus niet-verknoopte gebieden sneller oplossen. Ten gevolge van de verwarmingsstap na het ontwikkelen worden de selectief belichte en dus verknoopte gebieden verstevigd door 30 verdere verknoping van polymeerketens, waarbij volgens de onderhavige uitvinding een dergelijke verwarmingsstap wordt voorafgegaan door een aanvullende belichtingsstap zoals hiervoor reeds is beschreven.
De onderhavige uitvinding heeft verder betrekking op een stamper voor het voortbrengen van optische schijven, welke stamper 35 wordt gekenmerkt doordat deze is verkregen onder toepassing van de werkwijze volgens de onderhavige uitvinding.
1007216 6
De onderhavige uitvinding heeft verder betrekking op een optische schijf, welke schijf wordt gekenmerkt doordat deze is verkregen onder toepassing van de stamper volgens de onderhavige uitvinding.
5 De onderhavige uitvinding zal hierna onder verwijzing naar bijzondere voorbeelden nader worden beschreven. Het moet echter duidelijk zijn dat de onderhavige uitvinding in geen geval is beperkt tot dergelijke bijzondere voorbeelden. Het moet duidelijk zijn dat de beschreven voorbeelden door deskundigen op dit gebied enigszins kunnen 10 worden aangepast zonder hierbij het wezen van de onderhavige uitvinding, zoals vermeld in de bijgevoegde conclusies, te verlaten.
Voorbeeld 1
Om de werking van een aanvullende belichtingsstap nader te onderzoeken, werd een aantal stampers vervaardigd waarbij alle proces-15 parameters, behalve de belichtingstijd en -dosering, constant werden gehouden. Als belichtingsbron werd een door Philips in de handel gebrachte kwiklamp van het type HOK 4/120SE-UV-lamp toegepast. Deze lamp heeft een spectrum dat het gebied 200-300 nanometer omvat waarbij een piek bij een golflengte van 250 nanometer waarneembaar is. De werking van de aanvullende 20 bel ichtingsstap op de paalgeometrie werd bepaald aan de hand van paalprofielmetingen op de AFM en ordemetingen op de HD-D0M.
De toegepaste instellingen waren als volgt:
Fotolaklaag: AZ5214E, opspinnen bij 600 25 omwentelingen per minuut
Eerste verwarmingsstap: 90°C, 5 minuten
Laserbundelregistratie-apparaat (LBR): NA 0,45, lasergolflengte:413 nm Tweede verwarmingsstap: 115°C, gedurende 5 minuten
Belichting: 2 minuten, PLS (380 nm UV-lamp) 30 Ontwikkel stap: verhouding ontwikkelaar en demi- water: 1:3,5
Aanvullende belichtingsstap volgens de onderhavige uitvinding: gedurende 0, 15, 60 of 150 seconden
Laatste verwarmingsstap: 200°C, gedurende 5 minuten 35
De resultaten van de AFM-metingen aan de onder 1007216 7 verschillende omstandigheden van de belichtingsstap verkregen stampers (na het toepassen van de laatste verwarmingsstap, bij 200°C gedurende 5 minuten) worden in de hierna weergegeven tabel samengevat.
Mon- Belich- Dosering Paal- Paal- Paal- Helling Helling 5 ster, tings- (J cm'2) hoogte breedte breedte linker- rechter-nummer tijd (nm) op halve bij hoek hoek (seconde) hoogte voet (graden) (graden) (nm) (nm) D148 0 0 157 691 1044 22 22 D144 15 6·10'3 175 550 685 56 60 D146 60 2,4·10'2 177 591 709 61 63 10 D147 150 6·10'2 163 580 709 56 57
Uit de hiervoor weergegeven tabel is de werking van de aanvullende belichtingsstap op de geometrie van de fotolakpaaltjes 15 duidelijk waarneembaar. Het niet toepassen van een aanvullende belichtingsstap in monster Dl48, welke werkwijze de stand van de techniek beschrijft, in het bijzonder de Nederlandse octrooiaanvrage 9400225, leidt tot een uitgevloeide paalgeometrie met de vorm van een Gaussische verdelingscurve. Uit de tabel kan verder worden opgemaakt dat reeds bij 20 een dosering van 6·10'3 J/cmz (een belichting gedurende 15 seconden) de oorspronkelijke paalgeometrie nagenoeg blijft behouden, hoewel er in de laatste verwarmingsstap nog enige vloeiing van de fotolakpaaltjes plaatsvindt. Uit de tabel kan verder worden opgemaakt dat een verlenging van de belichtingstijd na 60 seconden geen wezenlijke invloed meer heeft op 25 de geometrie van de fotolakpaaltjes. Uit aanvullende experimenten is tevens gebleken dat bij een korte belichtingstijd, te weten 5 en 10 seconden, in de laatste verwarmingsstap slechts een geringe vloeiing optrad.
Voorbeeld 2
Dezelfde aanvullende belichtingsstap als toegepast 30 in voorbeeld 1 werden uitgevoerd, waarbij de aldus behandelde stampers werden onderzocht op het gebied van de hechting met Ercopell. Indien een stamper niet werd behandeld met een aanvullende belichtingsstap (belichtingstijd: 0 seconde) bleek de hechting met Ercopell groot te zijn, hetgeen resulteerde in het feit dat Ercopell vrijwel niet meer van de stamper was 1007216 8 te verwijderen. Bij een aanvullende belichtingsstap van 5 seconden was de hechting tussen de afdeklaag van Ercopell en het stamper-oppervlak voldoende klein, waardoor verwijdering van de afdeklaag mogelijk is. Dit wijst erop dat de oppervlaktesamenstelling van de resist ten gevolge van 5 de aanvullende belichtingsstap gunstig wordt veranderd.
tl 00721 6
Claims (13)
1. Werkwijze voor het vervaardigen van een stamper voor het voortbrengen van optische schijven omvattende het aanbrengen van een 5 fotolak op een stamperplaat en het structureren van de aangebrachte fotolaklaag, omvattende het achtereenvolgens belichten, ontwikkelen en verwarmen, met het kenmerk, dat de ontwikkelde fotolaklaag vóór de warmtebehandeling wordt onderworpen aan een aanvullende belichtingsstap.
2. Werkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat 10 de aanvullende belichtingsstap wordt uitgevoerd in het gebied 200-320 nm.
3. Werkwijze volgens conclusies 1-2, met het kenmerk, dat de aanvullende belichtingsstap wordt uitgevoerd in het gebied 240-260 nm.
4. Werkwijze volgens conclusies 1-3, met het kenmerk, dat de effectieve dosering van de aanvullende belichtingsstap ligt in het 15 gebied 4·10'4 - 5·10'2 J/cmz.
5. Werkwijze volgens conclusie 4, met het kenmerk, dat de effectieve dosering van de aanvullende belichtingsstap ligt in het gebied 8·10’4 - 1,2·10'2 J/cm2.
6. Werkwijze volgens conclusies 1-5, met het kenmerk, dat 20 de belichtingstijd van de aanvullende bel ichtingsstap ligt in het gebied 1- 125 seconden.
7. Werkwijze volgens conclusie 6, met het kenmerk, dat de belichtingstijd van de aanvullende belichtingsstap ligt in het gebied 2- 30 seconden.
8. Werkwijze volgens een van de voorafgaande conclusies, met het kenmerk, dat de aanvullende bel ichtingsstap wordt uitgevoerd onder rotatie.
9. Werkwijze volgens een van de voorafgaande conclusies, met het kenmerk, dat de aanvullende bel ichtingsstap wordt uitgevoerd onder 30 verwarmen.
10. Werkwijze volgens een van de voorafgaande conclusies, met het kenmerk, dat voor het aanbrengen van de fotolaklaag een negatieve fotolak wordt toegepast.
11. Werkwijze volgens een van de voorafgaande conclusies, 35 met het kenmerk, dat het belichten wordt uitgevoerd in twee stappen, omvattende een eerste selectieve belichtingsstap en een tweede integrale 1007- - 3 bel ichtingsstap, waarbij voordat de tweede integrale belichtingsstap wordt uitgevoerd de selectief belichte fotolaklaag wordt verwarmd.
12. Stamper voor het voortbrengen van optische schijven, met het kenmerk, dat deze is verkregen door toepassing van de werkwijze 5 volgens een van de conclusies 1-11.
13. Optische schijf, met het kenmerk, dat deze is verkregen onder toepassing van de stamper volgens conclusie 12. 1007216 SAMENWERKINGSVERDRAG (PCI) RAPPORT BETREFFENDE NIEUWHEIDSONDERZOEK VAN INTERNATIONAAL TYPE lOE.VTlFiKATIE VAN OE NATIONALE AANVRAGE j KenmetK van oe aanvrager ol van ae gemacnugöe j i [ _i 38853/AB/pa_ j Neoerianase aanvrage nr ; inoeongsoaum 1007216 I 7 oktober 1997 Ingeroepen voorrangscaxm ! _ I_ ____ Aanvrager (Naam) ! ODME INTERNATIONAL B.V. j i Daum van nat verraeK voor ββη οηΰβηοβκ van intern a a on aai type j Door oe Insanae voor intemasonaai OnoerroeK (ISA) aan net ! verroen voor een cnaerioex van msemaoonaaJ type Beoeneno nr. i j SN 30070 NL I j I --- —-----: 1 I. CLASSIFICATIE VAN HET ONDERWERP (tij Becassmg van verscfiillenoe dasuficaoes. alle aasuficaoesytnöoien opgeven) j Volgens ae Insmaoonaie eta subcase (IPC) Int.Cl.6: G 11 B 7/26, G 03 F 7/16, G 11 B 23/00 __J II. ONDERZOCHTE GEBIEDEN VAN DE TECHNIEK j I.. : __Onaereccnte minimum documentatie__! Classificatiesysteem 1_Classificanesvrrooien _;_! ! i Int.Cl.6: | G 11 B, G 03 F ! i ! i . ί i _i_! Onoerzocnte anöere cocumenaae aan ae minimum accumenaoe voer rover aergetijxe aocumenen m ae onderzochte geoeaen i(n j opgenomen I j i i ί i ' I j _______j ll(,| ! GEEN ONDERZOEK MCGEL1JK VOOR BEPAALDE CONCLUSIES {oomentmgen co aanvuliirgsolad) | IIV.· 1 GE9REK AAN EENHEID VAN UITVINDING (cpmerKingen oo aanvullincsaiaC' om PC7.ISA/20 Kaï C£ ISSa
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL1007216A NL1007216C2 (nl) | 1997-10-07 | 1997-10-07 | Werkwijze voor het vervaardigen van een stamper voor het voortbrengen van optische schijven, aldus verkregen stamper en optische schijf verkregen onder toepassing van een dergelijke stamper. |
| DE69805322T DE69805322T2 (de) | 1997-10-07 | 1998-10-07 | Verfahren zur herstellung einer matrize zur erzeugung optischer platten, so erhaltene matrize sowie dadurch erzeugte optische platte |
| US10/608,502 USRE39434E1 (en) | 1997-10-07 | 1998-10-07 | Method of manufacturing a stamper for producing optical discs, a stamper thus obtained and an optical disc obtained by using such a stamper |
| US09/529,011 US6423477B1 (en) | 1997-10-07 | 1998-10-07 | Method of manufacturing a stamper for producing optical discs, a stamper thus obtained and an optical disc obtained by using such a stamper |
| EP98949249A EP1027702B1 (en) | 1997-10-07 | 1998-10-07 | A method of manufacturing a stamper for producing optical discs, a stamper thus obtained and an optical disc obtained by using such a stamper |
| AU95606/98A AU9560698A (en) | 1997-10-07 | 1998-10-07 | Method of manufacturing a stamper for producing optical discs, a stamper th us obtained and an optical disc obtained by using such stamper |
| PCT/NL1998/000576 WO1999018572A1 (nl) | 1997-10-07 | 1998-10-07 | Werkwijze voor het vervaardigen van een stamper voor het voortbrengen van optische schijven, aldus verkregen stamper en optische schijf verkregen onder toepassing van een dergelijke stamper |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL1007216 | 1997-10-07 | ||
| NL1007216A NL1007216C2 (nl) | 1997-10-07 | 1997-10-07 | Werkwijze voor het vervaardigen van een stamper voor het voortbrengen van optische schijven, aldus verkregen stamper en optische schijf verkregen onder toepassing van een dergelijke stamper. |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NL1007216C2 true NL1007216C2 (nl) | 1999-04-08 |
Family
ID=19765797
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL1007216A NL1007216C2 (nl) | 1997-10-07 | 1997-10-07 | Werkwijze voor het vervaardigen van een stamper voor het voortbrengen van optische schijven, aldus verkregen stamper en optische schijf verkregen onder toepassing van een dergelijke stamper. |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6423477B1 (nl) |
| EP (1) | EP1027702B1 (nl) |
| AU (1) | AU9560698A (nl) |
| DE (1) | DE69805322T2 (nl) |
| NL (1) | NL1007216C2 (nl) |
| WO (1) | WO1999018572A1 (nl) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL1009106C2 (nl) | 1998-05-08 | 1999-11-09 | Od & Me Bv | Werkwijze voor het vervaardigen van een stamper, stamper verkregen volgens een dergelijke werkwijze alsmede optische schijf verkregen onder toepassing van een dergelijke stamper. |
| JP3104699B1 (ja) | 1999-06-01 | 2000-10-30 | 株式会社ニコン | 細溝付き成形基板の製造方法 |
| NL1015524C2 (nl) * | 2000-06-26 | 2001-12-28 | Otb Group Bv | Werkwijze ter vervaardiging van een substraat om te worden toegepast in een stampervervaardigingsproces, alsmede substraat verkregen volgens een dergelijke werkwijze. |
| FR2826494B1 (fr) * | 2001-06-26 | 2003-10-10 | Francois Xavier Pirot | Procede de fabrication d'une matrice de disques optiques |
| US7344825B2 (en) * | 2002-04-04 | 2008-03-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method of fabricating semiconductor device, and developing apparatus using the method |
| US6943124B1 (en) * | 2002-07-17 | 2005-09-13 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company | Two step exposure to strengthen structure of polyimide or negative tone photosensitive material |
| US7875419B2 (en) * | 2002-10-29 | 2011-01-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for removing resist pattern and method for manufacturing semiconductor device |
| EP1513144A2 (en) * | 2003-08-26 | 2005-03-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for producing a master disk of a recording medium, method for producing a stamper, method for producing a recording medium, master disk of a recording medium, stamper of a recording medium, and recording medium |
| US7115488B2 (en) * | 2003-08-29 | 2006-10-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method of manufacturing semiconductor device |
| US20050151283A1 (en) * | 2004-01-08 | 2005-07-14 | Bajorek Christopher H. | Method and apparatus for making a stamper for patterning CDs and DVDs |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0667608A1 (en) * | 1994-02-14 | 1995-08-16 | ODME International B.V. | A method of manufacturing a matrix for producing optical disks without the medium of a master |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02173285A (ja) * | 1988-12-24 | 1990-07-04 | Nippon Columbia Co Ltd | スタンパの製造方法 |
| JP3428064B2 (ja) * | 1993-04-20 | 2003-07-22 | ソニー株式会社 | 光ディスク基板の製造方法 |
-
1997
- 1997-10-07 NL NL1007216A patent/NL1007216C2/nl not_active IP Right Cessation
-
1998
- 1998-10-07 EP EP98949249A patent/EP1027702B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-10-07 WO PCT/NL1998/000576 patent/WO1999018572A1/nl active IP Right Grant
- 1998-10-07 DE DE69805322T patent/DE69805322T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-10-07 AU AU95606/98A patent/AU9560698A/en not_active Abandoned
- 1998-10-07 US US09/529,011 patent/US6423477B1/en not_active Ceased
- 1998-10-07 US US10/608,502 patent/USRE39434E1/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0667608A1 (en) * | 1994-02-14 | 1995-08-16 | ODME International B.V. | A method of manufacturing a matrix for producing optical disks without the medium of a master |
| NL9400225A (nl) * | 1994-02-14 | 1995-09-01 | Od & Me Bv | Werkwijze voor het zonder tussenkomst van een master vervaardigen van een stamper voor het voortbrengen van optische schijven. |
Non-Patent Citations (3)
| Title |
|---|
| "Photoresist Stabilization System", SOLID STATE TECHNOLOGY, vol. 27, no. 7, June 1984 (1984-06-01), WASHINGTON, NEW YORK, USA, pages 45 - 46, XP002067936 * |
| ALLEN R ET AL: "DEEP U.V. HARDENING OF POSITIVE POLTORESIST PATTERNS", JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, vol. 29, no. 6, June 1982 (1982-06-01), pages 1379 - 1381, XP002047660 * |
| HIRAOKA & PACANSKY: "UV-Hardening of Resist Patterns", IBM TECHNICAL DISCLOSURE BULLETIN, vol. 24, no. 3, August 1981 (1981-08-01), pages 1468, XP002067935 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| AU9560698A (en) | 1999-04-27 |
| EP1027702B1 (en) | 2002-05-08 |
| USRE39434E1 (en) | 2006-12-19 |
| DE69805322T2 (de) | 2002-11-21 |
| EP1027702A1 (en) | 2000-08-16 |
| US6423477B1 (en) | 2002-07-23 |
| DE69805322D1 (de) | 2002-06-13 |
| WO1999018572A1 (nl) | 1999-04-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| NL1007216C2 (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een stamper voor het voortbrengen van optische schijven, aldus verkregen stamper en optische schijf verkregen onder toepassing van een dergelijke stamper. | |
| KR100248442B1 (ko) | 광디스크의 제조방법 | |
| JP3039165B2 (ja) | 光記録膜及びその製造方法 | |
| JPH0638299B2 (ja) | 案内溝付光デイスクの製造方法 | |
| US20060099532A1 (en) | Method for manufacturing a substrate for use in a stamper manufacturing process, as well as a substrate obtained by using such a method | |
| JPH01260650A (ja) | 光記録媒体の製造方法 | |
| WO2002049009A2 (en) | Photolithographic method for fabricating micro-relief optical original discs, cards and other optical elements and micro-miniaturized devices | |
| JPWO2003030159A1 (ja) | 光学記録媒体およびその製造方法 | |
| US20070082293A1 (en) | Method of producting a fluorescent optical information carrier and the apparatus and carrier thereof | |
| JP4364546B2 (ja) | レジストパターン形成方法およびレジストパターン形成装置 | |
| JP3596543B2 (ja) | スタンパーとその製造方法及び光ディスク並びにブランクス | |
| JP3181998B2 (ja) | 重合体の製造方法及び架橋体の製造方法 | |
| JP3187067B2 (ja) | 光ディスク製造方法 | |
| JP2728676B2 (ja) | 光学的情報記録原盤の製造方法 | |
| JP3136759B2 (ja) | スタンパ、その製造方法、及び光記録媒体 | |
| JP2006525540A (ja) | フォトリソグラフィプロセス方法、スタンパ、該スタンパの使用及び光データ記憶媒体 | |
| JP2001005175A (ja) | 情報記録媒体用フォトレジスト | |
| WO1992020016A1 (en) | Hologram and its formation method | |
| JPH02210632A (ja) | 光カード用スタンパの製造方法 | |
| JPH08147768A (ja) | 光ディスク原盤製造方法 | |
| JPH04298833A (ja) | 光ディスク用原盤の作製方法 | |
| JP2004152397A (ja) | 光ディスク成型用基盤、その製造方法、及び光ディスク成型用基盤のブランクス | |
| JPH07287879A (ja) | 光記録媒体用スタンパの製造方法 | |
| JPS62200545A (ja) | 光記録媒体およびその製造方法 | |
| JP2005032281A (ja) | 光ディスク原盤の製造方法と光ディスク原盤とスタンパの製造方法とスタンパ及び光ディスク |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PD2B | A search report has been drawn up | ||
| SD | Assignments of patents |
Owner name: OTB GROUP B.V. |
|
| VD1 | Lapsed due to non-payment of the annual fee |
Effective date: 20040501 |