MXPA06012087A - Revestimientos antimanchas para substratos antirreflejantes. - Google Patents

Revestimientos antimanchas para substratos antirreflejantes.

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Abstract

Esta invencion se refiere a composiciones antimanchas para substratos antirreflejantes. Mas particularmente esta invencion se refiere a metodos para depositar composiciones antimanchas sobre substratos antirreflejantes. En particular, esta invencion se refiere a un metodo para depositar una composicion antimanchas sobre un substrato antirreflejante que comprende vaporizar una composicion antimanchas y depositar la composicion antimanchas sobre un substrato antirreflejante. En otro aspecto, esta invencion se refiere a un metodo para preparar una pila de peliculas antirreflejantes que comprende depositar una capa antirreflejante sobre la superficie de un substrato antirreflejante y depositar con vapor una capa antimanchas sobre la superficie de la capa antirreflejante. En otro aspecto mas, esta invencion se refiere a un metodo para depositar una composicion antimanchas sobre un lente oftalmico revestido con antirreflejante, que comprende vaporizar una composicion antimanchas y depositar la composicion antimanchas sobre un lente oftalmico revestido con antirreflejante.

Description

preferidos por los consumidores gracias a sus aspectos cosméticos mejorados y transmitancia o factor de transmisión óptica mejorado. Una transmitancia mejorada es de particular importancia para aplicaciones tales como conducción nocturna. Típicamente, los lentes oftálmicos antirreflejantes consisten en un lente base de policarbonato u otro plástico que porta un revestimiento duro, con propiedades antirrefle antes conferidas por una pila multicapas de óxidos metálicos depositados al vacío. La capa más exterior en la mayoría de las pilas antirreflectoras es dióxido de silicio. Si se deja sin tratar, la alta energía superficial y estructura porosa de la pila antirreflectora se contamina fácilmente y es difícil de limpiar. Más aún, las propiedades antirreflectoras son extremadamente sensibles a y fácilmente comprometidas por niveles residuales de contaminación orgánica tal como grasa de la piel. Así, la industria de los lentes oftálmicos ha desarrollado una clase de revestimientos hidrofóbicos que son aplicados a lentes antirreflectivos en una etapa de procesamiento final . Alquilsilanos cloro- o alcoxi-funcionales de bajo peso molecular tales como octil- o perfluorooctilsilanos depositados desde la fase de vapor se usan comúnmente en revestimientos hidrofóbicos convencionales . Estas películas en la escala de grosor de monocapa pueden sellar en forma efectiva la superficie y proporcionar algunas propiedades antimanchas sin interferir con las propiedades ópticas de la pila antirreflectora . Sin embargo, la durabilidad de estas películas a la abrasión por frotamiento en seco es relativamente deficiente, y la industria continúa buscando un tratamiento con mejor repelencia inicial a grasa y manchas. Este problema ha sido resuelto ampliamente por un número de nuevos revestimientos antimanchas que comprenden silanos de perfluoropoliéter .
BREVE DESCRIPCIÓN DE LA INVENCIÓN La presente invención proporciona un método para revestir un substrato antirreflejante con una composición antimanchas. En una modalidad, la presente invención proporciona un método para depositar una composición antimanchas sobre un substrato antirreflejante que comprende vaporizar una composición antimanchas y depositar la composición antimanchas sobre un substrato antirreflejante, en donde la composición antimanchas se selecciona del grupo que consiste en: CnF2n+lO (CF (CF3) CF20) ZCF (CF3) C (0)NHCxH2xSi (L) 3 en donde n es l a 4, z es 3 a aproximadamente 15 y x es 1 a aproximadamente 10 y L se selecciona del grupo que consiste en -OR y -NR'2, en donde R es un grupo alquilo que contiene 1 a aproximadamente 10 átomos de carbono y R' se selecciona del grupo que consiste en H y un grupo alquilo que contiene 1 a alrededor de 10 átomos de carbono; X-CF (CF3) (OCF2CF (CF3) )mO (CnF2n) O (CF (CF3) CF20) qCF (CF3) -X, en donde m es un entero de 0 a aproximadamente 40, n es un entero de 2 a 4, q es un entero de 0 a aproximadamente 40, en donde tanto m como q no son iguales a 0, ? X es C (O) H (C¾) gSi (L) 3 en donde q es 1 a aproximadamente 10 y L se selecciona del grupo que consiste en -OR y -NR'2 en donde R es un grupo alquilo que contiene 1 a aproximadamente 10 átomos de carbono y R' se selecciona del grupo que consiste en H y un grupo alquilo que contiene 1 a aproximadamente 10 átomos de carbono; y XCF20 (CF20) m (C2F4O) PCF2X en donde m es 1 a aproximadamente 20, p es 1 a aproximadamente 20 y X es -C (O) NH (C¾) qSi (L) 3 en donde q es 1 a aproximadamente 10 y L se selecciona del grupo que consiste en -OR y -NR'2 en donde R es un grupo alquilo que contiene 1 a aproximadamente 10 átomos de carbono y R' se selecciona del grupo que consiste en H y un grupo alquilo que contiene 1 a aproximadamente 10 átomos de carbono; y combinaciones de los mismos, en donde el peso molecular promedio de la composición antimanchas es de aproximadamente 800 a aproximadamente 6, 000. En una modalidad preferida, el substrato transparente puede comprender un lente oftálmico. Además, se prefiere que la capa antirreflejante sea seleccionada del grupo que consiste en un óxido metálico, un fluoruro metálico, un nitruro metálico y un sulfuro metálico. Se prefiere más una capa antirrefle ante de dióxido de silicio. En un aspecto preferido, la invención proporciona un método para depositar varias capas antirrefle antes sobre la superficie del substrato transparente antes de depositar con vapor de la capa antimanchas .
DESCRIPCIÓN DETALLADA DE LA I3WENCIÓN Gracias a sus pesos moleculares más altos, los silanos de perfluoropoliéter se aplican típicamente mediante técnicas conocidas tales como revestimiento con rodillos continuo, tal como con un revéstidor de grabado, o revestimiento por inmersión. Estas técnicas de aplicación tienen un número de desventajas, incluyendo el problema de que fabricar equipo de precisión a escala automatizada puede ser muy costoso para cada sitio y requiere de espacio en piso adicional y podría requerir de trabajo adicional para llevarse a cabo. Estas técnicas de revestimiento tradicionales también pueden causar la contaminación de la superficie del lente a través de manejo y exposición adicionales al ambiente, llevando a pérdidas de rendimiento correspondientemente más bajas. De esta manera, existe en la técnica la necesidad de métodos alternativos de deposición de silanos de perfluoropoliéter.
La presente invención proporciona un método para revestir un substrato antirreflejante con una composición antimanchas. En una modalidad, la presente invención proporciona un método para depositar una composición antimanchas sobre un substrato antirreflejante, que comprende vaporizar una composición antimanchas y depositar la composición antimanchas sobre un substrato antirreflejante, en donde la composición antimanchas se selecciona del grupo que consiste en: CnF2n+iO (CF (CF3 ) CF20) ZCF (CF3 ) C (0) HCxH2xSi (L) 3 en donde n es l a 4, z es 3 a aproximadamente 15 y x es 1 a aproximadamente 10 y L se selecciona del grupo que consiste en -OR y -NR'2/ en donde R es un grupo alquilo que contiene 1 a aproximadamente 10 átomos de carbono y R' se selecciona del grupo que consiste en H y un grupo alquilo que contiene 1 a alrededor de 10 átomos de carbono; X-CF (CF3 ) (OCF2CF (CF3 ) ) mO (CnF2n) O (CF (CF3 ) CF20) qCF (CF3 ) -X, en donde m es un entero de 0 a aproximadamente 40, n es un entero de 2 a 4, q es un entero de 0 a aproximadamente 40, en donde tanto m como q no son iguales a 0, y X es -C (O)NH (CH2) qSi (L) 3 en donde q es 1 a aproximadamente 10 y L se selecciona del grupo que consiste en -OR y - R'2 en donde R es un grupo alquilo que contiene 1 a aproximadamente 10 átomos de carbono y R' se selecciona del grupo que consiste en H y un grupo alquilo que contiene 1 a aproximadamente 10 átomos de carbono; y XCF20 (CF20) m (C2F40) PCF2X en donde m es 1 a aproximadamente 20, p es 1 a aproximadamente 20 y X es -C (O) NH (CH2) qSi (L) 3 en donde q es 1 a aproximadamente 10 y L se selecciona del grupo que consiste en -OR y -NR'2 en donde R es un grupo alquilo que contiene 1 a aproximadamente 10 átomos de carbono y R' se selecciona del grupo que consiste en H y un grupo alquilo que contiene 1 a aproximadamente 10 átomos de carbono; y combinaciones de los mismos, en donde el peso molecular promedio de la composición antimanchas es de aproximadamente 800 a aproximadamente 6, 000. En una modalidad preferida la ' composición antimanchas tiene un peso molecular promedio de aproximadamente 900 a 4,000. La composición antimanchas se selecciona de preferencia del grupo que consiste en C3F70 (CF (CF3) CF20) 2CF (CF3 ) C (O) HC3H6Si (OCH3 ) 3 , XCF20 ( F20) m (C2F4O ) pCF2X en donde X es -C (0)NH(CH2)3Si (OC¾)3 y combinaciones de los mismos. Más preferiblemente, la composición antimanchas es C3F70(CF(CF3)CF20)2CF(CF3)C(0) HC3H6Si(OCH3)3. Cuando la composición antimanchas es C3F70(CF(CF3)CF20)zCF(CF3)C(0) HC3H6Si (OCH3)3, el peso molecular promedio es de preferencia entre 1,000 y 3,000. La composición antimanchas se deposita de preferencia con un espesor de ¦ aproximadamente 20 a 500 ángstroms, muy preferiblemente 40 a 100 ángstroms. En otro aspecto, la composición antimanchas se deposita de preferencia como una monocapa. Las condiciones bajo las cuales la composición antimanchas es vaporizada pueden variar de acuerdo con la estructura y peso molecular de la composición antimanchas. En un aspecto de la invención, se prefiere que la vaporización pueda tener lugar a presiones de menos de aproximadamente 0.01 mmHg. En otro aspecto de la invención, la vaporización puede tener lugar a temperaturas de por lo menos aproximadamente 80°C. En otro aspecto más de la presente invención, la vaporización comprende poner la composición antimanchas y el substrato antirreflejante en una cámara, calentar la cámara (que contiene la composición antimanchas) , y reducir la presión en la cámara. La invención proporciona también un método en el que la cámara es calentada antes de poner la composición antimanchas y substrato antirreflejante en la cámara. En una modalidad preferida, el substrato antirrefle ante comprende un lente oftálmico antirreflejante . Más aún, el lente oftálmico antirreflejante puede comprender una resina de policarbonato y un revestimiento antirrefle ante sobre la superficie de la resina de policarbonato.
La presente invención proporciona también un método para depositar una composición antimanchas sobre un lente oftálmico revestido con antirreflejante que comprende vaporizar una composición antimanchas y depositar la composición antimanchas sobre un lente oftálmico revestido con antirreflejante, en donde la composición antimanchas se selecciona del grupo que consiste en: CnF2n+iO (CF (CF3 ) CF20) ZCF (CF3 ) C (O) NHCxH2xSi (L) 3 en donde n es l a 4, z es 3 a aproximadamente 15 y x es 1 a aproximadamente 10 y L se selecciona del grupo que consiste en -OR y -NR'2, en donde R es un grupo alquilo que contiene 1 a aproximadamente 10 átomos de carbono y R' se selecciona del grupo que consiste en H y un grupo alquilo que contiene 1 a alrededor de 10 átomos de carbono; X-CF(CF3) (OCF2CF(CF3) )mO(CnF2n)0(CF(CF3)CF20)gCF(CF3)-X, en donde m es un entero de 0 a aproximadamente 40, n es un entero de 2 a 4, q es un entero de 0 a aproximadamente 40, en donde tanto m como q no son iguales a 0, y X es C(0)NH(CH2)qSi (L)3 en donde q es 1 a aproximadamente 10 y L se selecciona del grupo que consiste en -OR y -NR'2 en donde R es un grupo alquilo que contiene 1 a aproximadamente 10 átomos de carbono y R' se selecciona del grupo que consiste en H y un grupo alquilo que contiene 1 a aproximadamente 10 átomos de carbono; y XCF20(CF20)m(C2F40)pCF2X en donde m es 1 a aproximadamente 20, p es 1 a aproximadamente 20 y X es -C (O)NH (CH2) qSi (L) 3 en donde q es 1 a aproximadamente 10 y L se selecciona del grupo que consiste en -OR y - R'2 en donde R es un grupo alquilo que contiene 1 a aproximadamente 10 átomos de carbono y R' se selecciona del grupo que consiste en H y un grupo alquilo que contiene 1 a aproximadamente 10 átomos de carbono; y combinaciones de los mismos, en donde la composición antimanchas se coloca en una primera cámara y el lente oftálmico revestido con antirrefle ante se pone en una segunda cámara conectada a la primera cámara de tal forma que la composición antimanchas vaporizada proveniente de la primera cámara pueda depositarse sobre el lente oftálmico revestido con antirrefle ante en la segunda cámara. En otro aspecto de la invención, la segunda cámara puede permanecer a temperatura ambiente mientras que la primera cámara sea calentada. La presente invención proporciona también un método para depositar la composición antimanchas sobre un antirrefle ante que puede comprender colocar la composición antimanchas y el substrato antirrefle ante en una misma cámara, calentar la cámara (que contiene la composición antimanchas) , y reducir la presión en la cámara. Bajo tales condiciones, el substrato antirreflejante y la composición antimanchas pueden ser calentados hasta la misma temperatura. En un aspecto más , la presente invención proporciona un método para preparar un artículo antirreflejante, que comprende depositar una capa antirreflejante sobre la superficie de un substrato transparente y depositar con vapor una capa antimanchas sobre la superficie de la capa antirreflejante, en donde la capa antirreflejante se selecciona del grupo que consiste en: CnF2n+iO (CF (CF3 ) CF20) ZCF (CF3) C (0) HCxH2xSi (L) 3 en donde n es l a 4; z es 3 a aproximadamente 15 y x es 1 a aproximadamente 10 y L se selecciona del grupo que consiste en -OR y -NR'2, en donde R es un grupo alquilo que contiene 1 a aproximadamente 10 átomos de carbono y R' se selecciona del grupo que consiste en H y un grupo alquilo que contiene 1 a alrededor de 10 átomos de carbono; X-CF (CF3 ) (OCF2CF (CF3 ) ) mO (CnF2n) O (CF (CF3 ) CF20) gCF (CF3 ) -X, en donde m es un entero de 0 a aproximadamente 40, n es un entero de 2 a 4, q es un entero de 0 a aproximadamente 40, en donde tanto m como q no son iguales a 0, y X es C (O)NH (CH2) qSi (L) 3 en donde q es 1 a aproximadamente 10 y L se selecciona del grupo que consiste en -OR y -NR'2 en donde R es un grupo alquilo que contiene 1 a aproximadamente 10 átomos de carbono y R' se selecciona del grupo que consiste en H y un grupo alquilo que contiene 1 a aproximadamente 10 átomos de carbono; y XCF20 (CF20) m (C2F4O) PCF2X en donde m es 1 a aproximadamente 20, p es 1 a aproximadamente 20 y X es -C (O)NH (C¾) qSi (L) 3 en donde g es 1 a aproximadamente 10 y L se selecciona del grupo que consiste en -OR y -NR'2 en donde R es un grupo alquilo que contiene 1 a aproximadamente 10 átomos de carbono y R' se selecciona del grupo que consiste en H y un grupo alquilo que contiene 1 a aproximadamente 10 átomos de carbono; y combinaciones de los mismos, en donde el peso molecular promedio de la composición antimanchas es de aproximadamente 800 a aproximadamente 6, 000.
Revestimientos antirreflejantes Los revestimientos antirreflejantes pueden incluir una o más capas de material depositadas sobre un substrato transparente (es decir, transmisor de luz) , tal como vidrio, cuarzo o substratos poliméricos orgánicos, incluyendo metacrilato de polimetilo, poliestireno, cloruro de polivinilo, politiouretano , polietileno, polipropileno, policarbonato, poliimida y poliésteres, particularmente tereftalato de polietileno. El revestimiento antirreflej ante más simple es una sola capa de un material transparente que tiene un índice de refracción menor que aquel del substrato sobre el cual es depositado. Los revestimientos antirreflejantes de varias capas incluyen dos o más capas de material dieléctrico sobre un substrato, en donde al menos una capa tiene un índice de refracción más alto que el índice de refracción del substrato. Se les conoce comúnmente como pilas de películas antirrefle antes . El revestimiento antirreflejante puede ser provisto por una amplia variedad de materiales. De preferencia, el revestimiento antirreflejante es provisto por una película delgada de óxido metálico, y muy preferiblemente , por una delgada película de óxido metálico revestida por chisporroteo. En la presente, "óxido metálico" incluye óxidos de métales individuales (incluyendo metaloides) así como óxidos de aleaciones metálicas. Los óxidos metálicos que se prefieren incluyen óxidos de silicio, los cuales pueden ser agotados de oxígeno (es decir, en donde la cantidad de oxígeno en el óxido se menor que la cantidad estequiométrica) . De preferencia, la película de óxido metálico sobre la superficie más exterior incluye óxidos de silicio (SiOx, en donde x no es mayor que 2), aunque otros materiales adecuados incluyen óxidos de estaño, titanio, niobio, zinc, zirconio, tantalio, itrio, aluminio, cerio, tungsteno, bismuto, indio y mezclas de los mismos. Ejemplos específicos incluyen Sn02, Ti02, Nb205, ZnO, Zr02, Ta205, Y203, A1203, Ce02, 03, Bi20, ln203 e ITO (óxido de indio estaño) . Las películas de óxido metálico revestidas por chisporroteo se prefieren sobre las películas evaporadas térmicamente porgue las películas revestidas por chisporroteo tienen densidades más altas y son más duras, más lisas y más estables que las películas evaporadas térmicamente. Aunque estas películas de óxidos metálicos revestidas por chisporroteo son relativamente porosas y consisten en racimos de partículas con diámetros en el orden de aproximadamente 5 nanómetros a aproximadamente 30 nanómetros medidos mediante microscopía de fuerza atómica, son los suficientemente impermeables a agua y gases que pueden alterar sus propiedades mecánicas, eléctricas y ópticas.
Substrato transparente Los substratos transparentes adecuados incluyen vidrio y materiales termoplásticos transparentes tales como poli (met) acrilato, policarbonato, politiouretanos , poliestireno, copolímeros de estireno, tales como copolímero de acrilonitrilo-butadieno-estireno y copolímero de acrilonitrilo-estireno, ésteres de celulosa, particularmente acetato de celulosa y copolímero de acetato-butirato de celulosa, cloruro de polivinilo, poliolefinas , tales como polietileno y polipropileno, poliimida, óxido de polifenileno y poliésteres, particularmente tereftalato de polietileno. El término "poli (met) acrilato" (o "acrílico") incluye materiales conocidos comúnmente como laminado acrílico colado, acrílico estirado, poli (metilmetacrilato) "????" , poli (metacrilato) , poli (acrilato) , poli (metilmetacrilato-co-etilacrilato) , y similares. El grosor del substrato puede variar, sin embargo, para películas orgánicas flexibles varía típicamente de alrededor de 0.1 mm a aproximadamente 1 mm. Además, el substrato polimérico orgánico puede hacerse mediante una variedad de métodos diferentes. Por ejemplo, el material termoplástico puede extrudirse y luego cortarse hasta la dimensión deseada. Puede ser moldeado para formar la forma y dimensiones deseadas. Asimismo, puede ser colado en celdas y subsecuentemente calentado y estirado para formar el substrato polimérico orgánico. El substrato sobre el cual se deposita el revestimiento antirreflejante puede incluir una superficie imprimada. La superficie imprimada puede resultar de la aplicación de una capa de imprimador químico, tal como una capa de acrílico, o de grabado químico, irradiación con haz electrónico, tratamiento de corona, grabado con plasma o coextrusión de capas promotoras de adhesión. Estas sustancias imprimadas están disponibles comercialmente . Por ejemplo, un substrato de tereftalato de polietileno imprimado con un látex de acrilato acuoso está disponible de Imperial Chemical Industries Films, Hopewell, N.C. El substrato también puede incluir un revestimiento promotor de adhesión para mejorar la adhesión entre el revestimiento antirreflejante y el substrato. Estos revestimientos están disponibles comercialmente. El revestimiento de incremento de adhesión es particularmente deseable para usarse sobre substratos poliméricos orgánicos flexibles . Además de incrementar la adhesión del revestimiento antirrefle ante a un substrato polimérico orgánico imprimado o no imprimado, un revestimiento de incremento de adhesión también puede proporcionar durabilidad incrementada a un revestimiento antirreflejante sobre un substrato polimérico orgánico flexible al mejorar la resistencia a rayones del revestimiento antirreflejante.
Composición antimanchas/capa antimanchas La presente invención proporciona un método para depositar una composición antimanchas sobre un substrato antirreflejante que comprende vaporizar una composición antimanchas y depositar la composición antimanchas sobre un substrato antirreflejante. Un substrato antirreflejante es cualquier substrato transparente que es parte de una pila de películas antirreflejantes , o cualquier substrato transparente que tiene una superficie que es cubierta completamente o en parte con una composición antirrefle ante. La composición antirreflejante es de preferencia un óxido metálico, fluoruro metálico, nitruro metálico, sulfuro metálico antirreflejantes , o similares. En forma muy preferible la composición antirreflejante es un óxido metálico antirreflejante, y muy preferiblemente, la composición antirrefle ante es una película de óxido metálico antirreflejante revestida por chisporroteo (que comprende de preferencia óxidos de silicio) . Una composición antimanchas de la presente invención hace a una superficie más resistente a la contaminación, tal como de grasa de la piel proveniente de huellas digitales, por ejemplo. También hace a la superficie más fácil de limpiar, de' preferencia ya sea con frotación en seco o con agua y detergente. Más aún, causa muy poca o ninguna disrupcion de las propiedades químicas de la superficie a la cual es aplicada, particularmente la superficie antirrefle ante de una pila de películas. Es decir, el revestimiento antimanchas de la presente invención no incrementa significativamente la reflectividad de la pila de películas . Los artículos producidos por el método de la presente invención incluyen un substrato, tal como vidrio o un substrato polimérico orgánico, que tiene opcionalmente una superficie imprimada sobre la cual se reviste un revestimiento de incremento de adhesión opcional, una composición antirreflejante, de preferencia, una pila de películas de varias capas, y una composición antimanchas. De preferencia, el substrato es flexible y el artículo completo puede ser almacenado en forma de rollo. Las composiciones antimanchas de la presente invención incluyen aquellas seleccionadas del grupo que consiste en CnF2n+iO (CF (CF3) CF20) ZCF (CF3) C (0) HCxH2xSi (L)/3, en donde n es l a 4, z es 3 a aproximadamente 15 y x es 1 a aproximadamente 10 y L se selecciona del grupo que consiste en -OR y -MR' 2, en donde R es un grupo alquilo que contiene 1 a aproximadamente 10 átomos de carbono y R' se selecciona del grupo que consiste en H y un grupo alquilo que contiene 1 a alrededor de 10 átomos de carbono; X- CF(CF3) (OCF2CF(CF3) )mO (CnF2ll) O (CF (CF3) CF20) qCF (CF3) -X, en donde m es un entero de 0 a aproximadamente 40, n es un entero de 2 a 4, q es un entero de 0 a aproximadamente 40, en donde tanto m como q no son iguales a 0; XCF20 (CF20) m (C2F40) PCF2X, en donde m es 1 a aproximadamente 20,. p es 1 a aproximadamente 20 y X es -C (0)WH(CH2) gSi (L) 3 en donde q es 1 a aproximadamente 10 y L se selecciona del grupo que consiste en -OR y -MR' 2 en donde R es un grupo alquilo que contiene 1 a aproximadamente 10 átomos de carbono y R' se selecciona del grupo que consiste en H y un grupo alquilo que contiene 1 a aproximadamente 10 átomos de carbono; y combinaciones de los mismos, en donde el peso molecular promedio de la composición antimanchas es de aproximadamente 800 a aproximadamente 6,000. Por antimanchas se intenta decir que las composiciones, cuando son aplicadas a la superficie de un substrato antirrefle ante, incrementan tanto la hidrofobicidad como la hidrofilicidad del substrato antirreflejante . La hidrofobicidad e hidrofilicidad pueden medirse al determinar los ángulos de contacto estáticos usando hexadecano y agua, respectivamente, usando un instrumento de Análisis de Forma de Caída de russ (disponible de Kruss GmbH, Alemania) . El grosor total de la composición antimanchas resulta de equilibrar el deseo de un revestimiento grueso para incrementar las propiedades antimanchas y de durabilidad con el deseo de un revestimiento delgado para mantener las propiedades antirrefle antes del substrato antirreflejante. Típicamente, el grosor de revestimiento total de una composición antimanchas de la presente invención es de aproximadamente 20 a 500 ángstroms, muy preferiblemente alrededor de 40 a 100 ángstroms. Las composiciones antimanchas usadas en el método de la presente invención tienen de preferencia un peso molecular promedio de 800 a aproximadamente 6,000, muy preferiblemente 900 a 4,000. Las modalidades preferidas de la composición antimanchas incluyen: C3F70 (CF (CF3 ) CF20) ZCF (CF3 ) C (O) HC3H6Si (0C¾ ) 3 , XCF20(XF20)m(C2F40)pCF2X y X- CF(CF3) (OCF2CF(CF3) )mO (CnF2n) O (CF (CF3) CF20) gCF (CF3) -X, en donde m es un entero de 0 a aproximadamente 40, n es un entero de 2 a 4, q es un entero de 0 a aproximadamente 40, en donde tanto m como q no son iguales a 0; en donde X es -C (O)NH (C¾) 3Si (OCH3 ) 3 y combinaciones de los mismos. Más preferiblemente, la composición antimanchas es C3F70(CF(CF3)CF20)zCF(CF3)C(0) HC3H6Si(OCH3 ) 3 . Cuando la composición antimanchas es C3F70(CF(CF3)CF20)zCF(CF3)C(0)NHC3H6Si(OCH3)3, se prefiere que el peso molecular promedio sea de aproximadamente 900 a 4,000, muy preferiblemente alrededor de 1,200. Cuando la composición antimanchas es XCF20 (XF20)m(C2F40)pCF2X en donde X es -C (0)NH(C¾) 3Si (OCH3)3, el peso molecular promedio que más se prefiere es de aproximadamente 2,200. Las composiciones pueden ser revestidas o adsorbidas sobre soportes inertes para facilidad de manejo, tal como se conoce en la técnica. Puede hacerse referencia a solicitudes estadounidenses publicadas 2003/0003227.
Vaporización El método de la presente invención incluye depositar una composición antimanchas sobre un substrato antirreflejante, en donde el método comprende vaporizar una composición antimanchas y depositar la composición antimanchas sobre un substrato antirreflejante . Se han usado una amplia variedad de métodos de revestimiento para aplicar composiciones antimanchas tales como revestimiento por aspersión, revestimiento por cuchilla, revestimiento por inmersión, revestimiento por menisco, revestimiento de flujo, revestimiento con rodillos y similares . Estas técnicas comúnmente requieren del uso de un solvente con la composición antimanchas y de equipo que pudiera ser prohibitivo por su costo al nivel de escala de fabricación. Además, estas técnicas requieren de espacio en piso de fabricación adicional y podrían requerir de trabajo adicional para llevarlas a cabo. El método de deposición de la presente invención puede reducir las oportunidades para la contaminación de la superficie del lente a través de manejo adicional y exposición al ambiente, llevando a pérdidas de rendimiento correspondientemente más bajas. Así, el método de la presente invención hace posible la aplicación de las composiciones antimanchas a lentes antirreflejantes bajo condiciones de procesamiento similares a , quellas usadas en la industria para otras aplicaciones, con costos de equipo capitales reducidos y con la necesidad de uso de solventes eliminada . El método de la presente invención comprende vaporizar una composición antimanchas. Por vaporizar se intenta decir que se imparte energía suficiente a la composición antimanchas como para causar que la composición antimanchas forme un vapor en la fase de gas . La vaporización requiere que la estructura química de la composición antimanchas no cambie cuando entre en la fase de gas. En un aspecto, vaporizar la composición antimanchas puede incluir impartir energía mediante, por ejemplo, calentamiento, radiación con microondas y similares. De preferencia, la temperatura es de al menos aproximadamente 80°C. En forma más preferible, la temperatura no excede la temperatura de descomposición de la composición antimanchas. En otro aspecto, vaporizar la composición puede tener lugar a presiones menores que la presión ambiente. Muy 'preferiblemente, la vaporización tiene lugar a presiones de menos de aproximadamente 1 mmHg, muy preferiblemente menos de aproximadamente 0.01 mmHg. Vaporizar la composición antimanchas puede incluir de preferencia tanto calentar la composición antimanchas arriba de la temperatura ambiente, muy preferiblemente arriba de alrededor de 80°C, y reducir la presión que rodee la composición antimanchas debajo de la presión ambiente, muy preferiblemente a menos de alrededor de 0.01 mmHg, simultáneamente. Las cámaras y equipo de vacío útiles se conocen en la técnica. Una unidad disponible comercialmente es la 900DLS disponible de Satis Vacuum of America, Grove Port, OH.
Deposición El método de la presente invención incluye también depositar la composición antimanchas sobre un substrato antirrefle ante. Cuando son depositadas sobre el substrato antirrefle ante, las composiciones antimanchas del presente método imparten propiedades antimanchas . La durabilidad del substrato resultante a la abrasión por frotamiento en seco para las composiciones antimanchas de la presente invención es muy superior en comparación con otras composiciones antimanchas . Depositar la composición antimanchas sobre el substrato antirrefle ante puede comprender colocar la composición antimanchas y el substrato antirreflejante en una misma cámara, calentar la cámara (que contiene la composición antimanchas) , y reducir la presión en la cámara. Bajo tales condiciones, el substrato antirreflejante y la composición antimanchas pueden ser calentados hasta la misma temperatura. En otro aspecto de la invención, la composición antimanchas puede ser colocada en una primera cámara y el substrato antirreflejante puede ser colocado en una segunda cámara, en donde las cámaras sean conectadas, por ejemplo, por medio de un tubo de vidrio. En este aspecto, la primera cámara que aloja la composición antimanchas puede ser calentada arriba de la temperatura ambiente, muy preferiblemente arriba de 80°C. La segunda cámara puede ser también calentada arriba de la temperatura ambiente, o muy preferiblemente puede dejarse a temperatura ambiente. Como alternativa, la segunda cámara puede ser enfriada hasta la temperatura ambiente. Cuando la composición antimanchas se coloca en una primera cámara y el substrato antirreflejante puede ser colocado en una segunda cámara, en donde las cámaras estén conectadas, por ejemplo, por un tubo de vidrio, la presión en ambas cámaras puede ser la misma. De preferencia, la presión en ambas cámaras está debajo de la presión atmosférica, muy preferiblemente debajo de 0.01 mmHg . Además, la presente invención contempla que el tamaño y forma de las primera y segunda cámaras pueden ser alterados para de esta manera maximizar la cantidad de composición antimanchas depositada sobre el substrato antirrefle ante en la segunda cámara. Más aún, los medios para conectar las primera y segunda cámaras así como la disposición espacial relativa de las dos cámaras (así como la orientación vertical u horizontal de las cámaras) pueden ser alterados para maximizar la cantidad de composición antimanchas depositada sobre el substrato antirrefle ante en la segunda cámara.
Ej emplos Las ventajas de la presente invención se ilustran por los siguientes ejemplos. Los materiales particulares y cantidades de los mismos descritos en estos ejemplos, así como otras condiciones y detalles, deben ser interpretados como aplicando ampliamente en la técnica y no deben ser considerados como limitando indebidamente la invención.
Método de Medición de Ángulo de Contacto Estático Se determinaron ángulos de contacto estáticos tanto para agua como hexadecano usando un goniómetro "KRUSS G120/G140 MKI" (disponible de Kruss E. U, A, Charlotte, NC) . Los ángulos de contacto se midieron antes (inicial) y directamente después de abrasión (abrasión) , a menos que se indique lo contrario . Los valores son los valores promedio de 4 mediciones y se reportan en grados . El valor de medición mínimo para un ángulo de contacto fue de 20. Un valor <20 significó que el líquido se asperjó sobre la superficie .
Método de Medición de Ángulo de Contacto Dinámico . En donde reportaron, ángulos de contacto de avance y retorno se midieron usando un analizador de ángulo de contacto de video VCA-2500XE (AST Products, Billerica, MA) . Para ambos métodos de medición de ángulos de contacto, valores más grandes de- ángulos de contacto indicaron mejor repelencia.
Método de revestimiento por inmersión 1 Se usó un revestidor por inmersión automatizado (Unislide™ Assemblies, Velmex Inc., Bloomfield, Y) para la inmersión, a una velocidad de extracción de 3-4 mm/seg. Los portaobjetos de microscopio se revistieron por inmersión en una solución preparada recientemente de 0.1% en peso de FC en HFE-7100. (disponible de 3M Company, St. Paul). Los portaobjetos de microscopio se colocaron en un horno de aire forzado a 60°C durante 1 hora y se enfriaron antes de la prueb .
Prueba de Abrasión/Frotamiento Se probó la durabilidad de los revestimientos usando un abrasímetro lineal "PAUL GARDNER" Modelo 12VFI, disponible de Paul N. Gardner Co., Pompano Beach, FL. Cada portaobjetos de vidrio, que tenía una capa de material depositada por vapor sobre éste, se frotó usando un paño "3M HIGH PERFORMANCE" (disponible de 3M Company, St. Paul, MN) cubriendo una almohadilla abrasiva "PAUL GARDNER WA-2225" (450.0 g; dimensiones: 10.5 cm x 5.1 cm) para el número adecuado reportado de ciclos de abrasión.
Cámara de Deposición de Vapor 1 La cámara de deposición de vapor 1 fue un matraz de reacción de vidrio de dos litros, que consistía de dos piezas, cada una con una junta de vidrio mate (disponible de Ace Glass Co. , Vineland, NJ; matraz de reacción de 2 litros, No. de catalogo 6511-56; Cabeza de Matraz, No. de catalogo 6512-20) . Para lograr un vacío más alto, se aplicó grasa de silicón a la junta de vidrio mate. La cámara se fijó en una posición vertical a un soporte y el portaobjetos de vidrio que se revestiría (25 x 75 mm; disponible de VWR Scientific, West Chester, PA) se colocó en la pieza inferior de la cámara. La pieza superior de la cámara tenía puntos de acceso para un termopar (J- ype, disponible de Qmega Engineering, Stamford, CT) vacuometro y un puerto de despegue a una bomba de aceite de silicón. El termopar se puso en contacto con el vidrio) .
Cámara de Deposición de Vapor 2 La cámara de deposición de vapor 2 fue un recipiente de vidrio de dos litros personalizado, que consistía de una cámara de vacío cilindrica de 22 cm de largo por 11 cm de diámetro, un extremo del cual se conecta por medio de una junta de anillo o a un tubo de muestra. El otro extremo de la cámara de vacío se conecta a una fuente de vacío. La cámara de vacío consistía de dos piezas unidad por una junta de anillo o para permitir el desensamble e inserción de los substratos a ser tratados. La cámara de vacío se fijó en posición horizontal.
Ejemplo 1 Deposición de Vapor de Silaño HFPO Se colocó dentro de la cámara de deposición de vapor 1 un frasco de 5 dracmas (dracma = 1.772 gramos) que contenía aproximadamente 3 gotas de silaño HFPO, y un portaobjetos de microscopio (25 x 75 mm; disponible de VWR Scientific, West Chester. PA) . Se logró usando una bomba de vacío de aceite de silicón de 0.002 mm de Hg (0.27 Pascal) y la cámara se calentó entonces a 90°C (temperatura externa de vidrio) usando una manta eléctrica. La muestra se sometió a este calor y presión durante una hora, luego se enfrió la cámara, el vacío se rompió y la cámara se abrió. La muestra de revestimiento efectuada se probó usando la prueba de Medición de Ángulo de Contacto Estático listado arriba. Los resultados están listados en la Tabla 1.
Ejemplo 2 Deposición de Vapor de Disilano PFPE En la cámara de deposición de vapor 1 se colocó un frasco de de 5 dracmas (dracma = 1.772 gramos) que contenía alrededor de 3 gotas de disilano PFPE y un portaobjetos de microscopio (25 x 75 mm) . Se logró usando una bomba de vacío de aceite de silicón, un vacío de 0.003 mm de Hg (0.4 Pascal) y la cámara se calentó entonces a 150°C (temperatura externa de vidrio) usando una manta eléctrica. La muestra se sometió a este calor y presión durante 30 minutos, luego se enfrió la cámara, el vacío se rompió y la cámara se abrió. La muestra de revestimiento efectuada se probó usando la prueba de Medición de Ángulo de Contacto Estático listado arriba. Los resultados están listados en la Tabla 1.
Ejemplo Comparativo C-l El Ejemplo comparativo C-l es un portaobjetos de microscopio sin tratar, limpio. Tabla 1 Ejemplos 3 - 8 Se prepararon los ejemplos 3 - 8 al usar primero una manta eléctrica para calentar la cámara de deposición de vapor 1 a la temperatura listada en la Tabla 2. La temperatura se midió en el interior de la cámara (1 cm desde la ubicación de la muestra) . Después un frasco de 5 dracmas (dracma = 1.772 gramos) que contenía alrededor de 3 gotas de fluoroquímico (FC) como se lista en la Tabla 2 y un portaobjetos de microscopio (25 x 75 mm) se colocaron dentro de la cámara. Usando una bomba de vacío de aceite de silicón, la cámara caliente se sometió a un vacío de 0.002 mm de Hg (0.27 Pascal). La muestra se sometió a este calor y presión durante 3 minutos, luego se enfrió la cámara, el vacío se rompió y la cámara se abrió. La muestra de revestimiento correspondiente se probó usando la prueba de Abrasión/Raspado y el agua y hexadecano usando la prueba de Medición de Ángulo de Contacto Estático listados arriba. Los resultados están listados en la Tabla 2.
Ejemplo Comparativo C-2 El Ejemplo Comparativo C-2 se preparó usando métodos de revestimiento por inmersión estándares como se describió en Método de Revestimiento por Inmersión 1.
Tabla 2 **Datos no registrados Ejemplo 9 Se preparó el Ejemplo 9 siguiendo el procedimiento listado para el Ejemplo 6 con la excepción de que el portaobjetos de microscopio se reemplazó con un lente oftálmico (resina de policarbonato con resistencia a rayaduras y revestimiento antirreflejante, disponible de Twin City Optical, Minneapolis, M ) y la muestra se mantuvo a 150°C y vacío de 0.002 mm Hg (0.27 Pascal) durante 5 minutos. La muestra de revestimiento efectuada se probó usando las pruebas de Abrasión/Frotamiento y agua con la prueba de Medición de Ángulo de Contacto Estático listados arriba. ' Los resultados están listados en la Tabla 3.
Tabla 3 Ejemplos 10 - 13 La Cámara de Deposición de Vapor 2 , adaptada con un tubo de muestra (14.0 cm) , se cargó con fluoroquímico (FC; 0.4 g) como se listó en la Tabla 4, y un portaobjetos de microscopio de vidrio (25 x 75 mm) que ha sido limpiado usando un tratamiento UV/ozono como sigue: los portaobjetos se sometieron durante 5 minutos a luz ultravioleta y ozono en un aparato en el cual una lámpara ultravioleta (lámpara ultravioleta (12.5 cm por 12.5 cm) obtenida bajo la designación comercial "UV GRID LAMP " de BH , Claremont, California, modelo 88-9102- 02) se adaptó en una caja de hoja de metal pequeña (13 cm de ancho por 14 cm de profundidad por 15 cm de altura) de forma tal que la lámpara se suspendió 8 cm arriba de la parte inferior de la caja. Un soporte pequeño de laboratorio se usó para colocar piezas de oblea de sílice para ser limpiadas tan cerca como fuera posible a la lámpara ultravioleta sin contactar físicamente la lámpara. El frente de la caja es una puerta, con bisagras en la parte superior, lo que permite que las muestras sean insertadas y removidas. Un orificio pequeño en un lado de la caja se unió a una fuente de oxígeno que fluyó dentro de la caja a una velocidad de aproximadamente 1 a 5 litros por minuto estándares. Usando una bomba de Difusión de Mercurio, se logró un vacío de menos de 1 x 10"4 mbar . El tubo de muestra entonces se calentó a 300-310°C durante 30 minutos. Se enfrió la cámara, el vacío se rompió y la cámara se abrió. Las muestras de revestimiento efectuadas se removieron de la cámara y se calentaron adicionalmente a 80°C durante 1 hora, se enfriaron a temperatura ambiente y luego se probaron usando los Métodos de Medición de Ángulo de Contacto Estático y Dinámico listados arriba. Los resultados están listados en la Tabla 4.
Tabla 4 Ejemplos 13 - 15 La Cámara de Deposición de Vapor 2, adaptada con un tubo de muestra (9.0 cm) , se cargo con Silano HFPO (0.4 g) , y tres portaobjetos de microscopio de vidrio (disponible de XX) que habían sido limpiados usando un tratamiento de UV/ozono. Usando una bomba de difusión de mercurio, se logró un vacío de menos de 1 x 10"4 mbar . El tubo de muestra se calentó entonces a 320°C durante 1 hora. Bajo estas condiciones se observó exceso de Silano HFPO líquido sobre los portaobjetos de vidrio, con la deposición más grande de líquido siendo sobre el portaobjetos de vidrio más cercano a la muestra de tubo ("Cerca" designación en Tabla 5) . La cámara se enfrió, el vacío se rompió y la cámara se abrió. Las muestras de revestimiento efectuadas se removieron de la cámara y se calentaron adicionalmente a 80°C durante 1 hora, se enfriaron a temperatura ambiente, se pulieron ligeramente con un " IMWIPE" (disponible de Kimberly Clark, Roswell, GA) , y luego se probaron usando los Métodos de Medición de Ángulo de Contacto Estático de agua. Los resultados están listados en la Tabla 5.
Tabla 5 Ejemplos 16 - 18 Se prepararon los Ejemplos 16 - 18 siguiendo el procedimiento descrito para los Ejemplos 13 - 14, con la excepción de que el vacío se aplicó a 6 x 10~5 rabar y la longitud del tubo de muestra fue de 14.0 cm. No se observó exceso de líquido sobre los portaobjetos de vidrio tras la remoción de la cámara.
Tabla 6 Se hace constar que con relación a esta fecha, el mejor método conocido por la solicitante para llevar a la práctica la citada invención, es el que resulta claro de la presente descripción de la invención.

Claims (12)

  1. REIVINDICACIONES Habiéndose descrito la invención como antecede, se reclama como propiedad lo contenido en las siguientes reivindicaciones : 1. Un método para depositar una composición antimanchas sobre un substrato antirreflejante, caracterizado porque comprende vaporizar una composición antimanchas y depositar la composición antimanchas sobre un substrato antirreflejante, en donde la composición antimanchas se selecciona del grupo que consiste en: CnF2n+iO (CF (CF3) CF20) ZCF (CF3) C (0)NHCxH2xSi (L) 3 en donde n es 1 a 4, z es 3 a 15 y x es 1 a 10 y L se selecciona del grupo que consiste en -OR y -NR'2, en donde R es un grupo alquilo que contiene 1 a 10 átomos de carbono y R' se selecciona del grupo que consiste en H y un grupo alquilo que contiene 1 a 10 átomos de carbono; X-CF (CF3 ) (OCF2CF (CF3 ) ) mO (CnF2n) O (CF (CF3 ) CF20) gCF (CF3) - , en donde m es un entero de 0 a 40, n es un entero de 2 a 4, q es un entero de 0 a 40, en donde tanto m como q no son iguales a 0, y X es -C (O) NH (CH2) gSi (L) 3 en donde q es 1 a 10 y L se selecciona del grupo que consiste en -OR y -NR'2 en donde R es un grupo alquilo que contiene 1 a 10 átomos de carbono y R' se selecciona del grupo que consiste en H y un grupo alquilo que contiene 1 a 10 átomos de carbono; XCF20 (CF20) m (C2F40) PCF2X en donde m es 1 a 20, p es 1 a 20 y X es -C (O)NH (C¾) gSi (L) 3 en donde q es 1 a 10 y L se selecciona del grupo que consiste en -OR y - R'2 en donde R es un grupo alquilo que contiene 1 a 10 átomos de carbono y R' se selecciona del grupo que consiste en H y un grupo alquilo que contiene 1 a 10 átomos de carbono; y combinaciones de los mismos, en donde el peso molecular promedio de la composición antimanchas es de 800 a .6, 000.
  2. 2. El método de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque la composición antimanchas se selecciona del grupo que consiste en: C3F70(CF(CF3)CF20)zCF(CF3)C(0)NHC3H6Si(OCH3)3, en donde z es 3 a 15; X-CF(CF3) (OCF2CF (CF3 ) ) mO (CnF2n) O (CF (CF3 ) CF20) qCF (CF3 ) -X, en donde m es un entero de 0 a 40, n es un entero de 2 a 4, q es un entero de 0 a 40, en donde tanto m como q no son iguales a 0 y X es -C(0) H(CH2)3Si(OCH3)3; XCF20 (CF20) m (C2F40) PCF2X en donde m es 1 a 20, p es 1 a 20 y X es -C (O) H (CH2) 3Si (OC¾) 3 y combinaciones de los mismos .
  3. 3. El método de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque la composición antimanchas es C3F70(CF(CF3)CF20)zCF(CF3)C(0)NHC3H6Si(OCH3)3, en donde z es 3 a 15. .
  4. El método de conformidad con cualquiera de las reivindicaciones 1 a 3, caracterizado porque la vaporización tiene lugar a presiones de menos de 0.01 mHg.
  5. 5. El método de conformidad con cualquiera de las reivindicaciones 1 a 3, caracterizado porque la vaporización tiene lugar a temperaturas de por lo menos 80°C.
  6. 6. El método de conformidad con cualquiera de 'las reivindicaciones 1 a 3, caracterizado porque la composición antimanchas tiene un peso molecular promedio de 900 a 4,000.
  7. 7. El método de conformidad con cualquiera de las reivindicaciones 1 a 3 , caracterizado porque la composición antimanchas depositada sobre el substrato antirrefle ante tiene un espesor de 20 a 500 ángstroms .
  8. 8. El método de conformidad con cualquiera de las reivindicaciones 1 a 7, caracterizado porque la composición antimanchas depositada sobre el substrato antirreflejante forma una monocapa.
  9. 9. El método de conformidad con cualquiera de las reivindicaciones 1 a 8, caracterizado porque el substrato antirreflejante comprende un lente oftálmico antirreflejante.
  10. 10. El método de conformidad con la reivindicación 9, caracterizado porque el lente oftálmico antirreflejante comprende una resina de policarbonato y un revestimiento antirreflejante sobre la superficie de la resina de policarbonato .
  11. 11. Un método para depositar una composición antimanchas sobre un lente oftálmico revestido con antirreflejante, caracterizado porque comprende vaporizar una composición antimanchas y depositar la composición antimanchas sobre un lente oftálmico revestido con antirrefle ante, en donde la composición antimanchas se selecciona del grupo que consiste en: CnF2n+iO (CF (CF3 ) CF20) ZCF (CF3) C (O) NHCxH2xSi (L) 3 en donde n es l a 4, z es 3 a l5 x es l a l0 y L se selecciona del grupo que consiste en -0R y - R'2/ en donde R es un grupo alquilo que contiene 1 a 10 átomos de carbono y R' se selecciona del grupo que consiste en H y un grupo alquilo que contiene 1 a 10 átomos de carbono; X-CF(CF3) (OCF2CF(CF3) )mO (CnF2n) O (CF (CF3) CF20) qCF (CF3) -X, en donde m es un entero de 0 a 40, n es un entero de 2 a 4, q es un entero de 0 a 40, en donde tanto m como q no son iguales a 0, y X es -C (0) H (CH2) gSi (L) 3 en donde q es 1 a 10 y L se selecciona del grupo que consiste en -OR y -NR'2 en donde R es un grupo alquilo que contiene 1 a 10 átomos de carbono y R' se selecciona del grupo que consiste en H y un grupo alquilo que contiene 1 a 10 átomos de carbono; XCF20 (CF20) m (C2F40) PCF2X en donde m es 1 a 20, p es 1 a 20 y X es -C (O)NH (CH2) qSi (L) 3 en donde q es 1 a 10 y L se selecciona del grupo que consiste en -OR y -NR'2 en donde R es un grupo alquilo que contiene 1 a 10 átomos de carbono y R' se selecciona del grupo que consiste en H y un grupo alquilo que contiene 1 a 10 átomos de carbono; y combinaciones de los mismos, en donde el peso molecular promedio de la composición antimanchas es de 800 a 6,000 y en donde la composición antimanchas se coloca en una primera cámara y el lente oftálmico revestido con antirreflejante se pone en una segunda cámara conectada a la primera cámara de tal forma que la composición antimanchas vaporizada proveniente de la primera cámara pueda depositarse sobre el lente oftálmico revestido con antirreflejante en la segunda cámara.
  12. 12. El método de conformidad con la reivindicación 11, caracterizado porgue la primera cámara es calentada, la segunda cámara permanece a temperatura ambiente, y la presión tanto en la primera como en la segunda cámara está debajo de la presión atmosférica.
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