KR960005664Y1 - Stabilizer of controlling a strip's speed for a hot-dipped coating line - Google Patents

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Abstract

내용없음.None.

Description

용융도금라인의 스트립 주행 안정화장치Strip running stabilization device of hot dip plating line

제 1 도는 종래 용융도금라인의 개략 구성도1 is a schematic configuration diagram of a conventional hot-dip plating line

재 2 도는 본 고안에 따른 스트립 주행 안정화 장치가 설치된 용융도금 라인의 개략 구성도2 is a schematic configuration diagram of a hot-dip plating line equipped with a strip running stabilization device according to the present invention

제 3 도 (a) 및 (b)는 본 고안에 의한 스트립 주행 안정화 장치의 개략사시도 및 그 설명도3 (a) and (b) is a schematic perspective view and explanatory view of the strip running stabilization device according to the present invention

제 4 도는 본 고안의 적용 전후 상태의 진동모드를 도시한 그래프4 is a graph showing the vibration mode of the state before and after the application of the present invention

제 5 도는 본 고안의 적용 전후 상태의 진폭 변동 결과를 도시한 그래프이다.5 is a graph showing amplitude variation results before and after application of the present invention.

* 도면 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of drawings

1 : 스트립 2 : 도금조1 strip 2 plating bath

4 : 싱크롤(Sink Roll) 5 : 가스 와이핑(Wiping) 노즐4: Sink Roll 5: Gas Wiping Nozzle

6 : 상부롤 8 : 가스 노즐6: upper roll 8: gas nozzle

9 : 정압 유치패드 10 : 사이드 플레이트9: static pressure attracting pad 10: side plate

본 고안은 용융도금라인 및 산세도금라인의 스트립 주행 안정화 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 스트립이 주행하는 가스 와이핑 노즐의 상방에 정압 유체 패드와 그 양측으로 사이트 플레이트를 각각 설치하여 싱크롤(Sink Roll)과 상부롤 사이에서 발생되는 스트립의 진동과 사행을 강제적으로 억제시킴으로서 와이핑(wiping) 노즐을 스트립에 근접시킴으로 인하여 용융도금라인의 스트립 주행 안정화로 인한 스트립의 도금 두께 편차를 감소시키고, 스트립의 주행중 발생되는 진폭을 최대로 줄이면서 스트립의 사행을 방지시킬 수 있도록 한 용융도금라인의 스트립 주행 안정화 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a strip running stabilization device of the hot-dip galvanizing line and pickling plating line, more specifically, the hydrostatic pressure pad and the site plate on both sides of the sink plate (top) of the gas wiping nozzle that the strip is running, respectively By forcibly suppressing the vibration and meandering of the strip generated between the sink roll and the upper roll, the wiping nozzle is brought close to the strip, thereby reducing the thickness variation of the strip due to the strip running stabilization of the hot dip plating line. The present invention relates to a strip running stabilization device of a hot-dip galvanizing line which can prevent the meandering of the strip while minimizing the amplitude generated during the running of the strip.

일반적으로 알려져 있는 용융도금라인의 구조에 있어서는 제 1 도에 도시한 바와같이, 스트립(1)이 침적되는 도금조(2)의 도금욕(3) 내에 싱크롤(4)이 설치되며 이와 수직 방향으로 스트립을 안내하는 텃치롤(7)과, 그 상측에 가스 와이핑 노즐(5)이 양측에 설치되며, 이송되는 스트립(1)의 방향을 변환시켜 주는 상부를 (6)이 설치되는 구성으로 이루어진다.In the structure of a generally known hot dip plating line, as shown in FIG. 1, the sink roll 4 is installed in the plating bath 3 of the plating bath 2 in which the strip 1 is deposited, and is perpendicular thereto. The quench roll (7) for guiding the strip to the upper side, and the gas wiping nozzle (5) is installed on both sides, and the upper portion (6) for changing the direction of the conveyed strip (1) is installed Is done.

이와같은 용융도금라인에서는, 제 1 도에 도시한 바와같이, 스트립(1)이 도금조(2)에 들어가, 도금조중의 도금욕(3)에 침적됨으로서 그 스트립(1) 표면에 도금금속이 부착되도록 한다. 도금욕(3)중의 스트립(1)은 싱크롤(4)에 의해 방향이 변화되어 도금욕(3)에서 수직방향으로 인출된다.In such a hot-dip plating line, as shown in FIG. 1, the strip 1 enters the plating bath 2 and is deposited in the plating bath 3 in the plating bath so that the plating metal is deposited on the surface of the strip 1. To be attached. The strip 1 in the plating bath 3 is changed in direction by the sink roll 4 and drawn out from the plating bath 3 in the vertical direction.

도금욕(3)에서 인출된 스트립(1)에 대해서는 스트립(1)에 대한 대칭위치에 배치된 가스 와이핑 노즐(5)에서 기체가 분출되고, 따라서 스트립(1) 표면의 잉여도금 금속이 깎여 원하는 두께의 도금부착량으로 된다.With respect to the strip 1 withdrawn from the plating bath 3, gas is blown out at the gas wiping nozzle 5 disposed at a symmetrical position with respect to the strip 1, so that the excess plating metal on the surface of the strip 1 is cut off. It becomes the plating adhesion amount of desired thickness.

이 후 스트립(1)은 아직 응고 되기 전에 수직방향으로 이송되고, 상부롤(6) 위치에서 방향변환되어 다음 공정으로 보내어지게 된다.The strip 1 is then conveyed in the vertical direction before it is still solidified, redirected at the upper roll 6 position and sent to the next process.

이때, 스트립(1)을 수직방향으로 이송하는 거리는, 스트립(1)상의 도금층이 완전히 응고 될때까지의 거리이므로 통상 매우 길게 되고, 최근에는 고속통과판(150m/min)의 경우 30m를 넘게 되는 것이다.At this time, the distance for transporting the strip 1 in the vertical direction is usually very long since it is the distance until the plating layer on the strip 1 is completely solidified, and more recently, in the case of the high-speed pass plate (150 m / min), it is more than 30 m. .

따라서, 고속으로 주행하는 스트립(1)은 롤들에 의해 직접 지지할 수 없기 때문에 스트립(1)에 생기는 횡방향의 진도과, 스트립의 사행이 크게 되어 안정된 가스와이핑 작업을 실시하기 어렵게 되며, 이로 인하여 스트립 표면으로 도금 부착에 생기는 편차가 커지게 되는 문제점이 있었던 것이다.Therefore, since the strip 1 traveling at high speed cannot be directly supported by the rolls, the lateral progress occurring on the strip 1 and the meandering of the strip become large, making it difficult to perform a stable gas wiping operation. There was a problem that the deviation caused by plating adhesion to the strip surface is increased.

최근에는, 상기와 같은 스트립의 진동과 사행을 방지하기 위한 방법으로서 일본 특허공보 소 56-153136호 및 동 공보 소57-101657호 등에서와 같이, 스트립에 생기는 진동등의 진폭을 정압패드에 의해 억제하도록 하는 것이 제안된 바 있다.Recently, as a method for preventing the vibration and meandering of the strip as described above, as in Japanese Patent Application Laid-Open No. 56-153136, 57-101657, etc., the amplitude of vibration light generated in the strip is suppressed by the static pressure pad. It has been suggested to do so.

그러나, 스트립의 도금 부착량 제어의 주인자인 스트립 진동을 억제시키기 위해서는 많은 유량을 필요로 하게 되고, 사행방지에는 전혀 효과가 없게 되어 설비적으로 무의미하게 되는 것이다.However, in order to suppress the strip vibration, which is the owner of the plating deposition amount control of the strip, a large flow rate is required, and it is ineffective at all to prevent meandering, and thus becomes equipmentless.

또한, 스트립의 진동은 여러가지 용인에 의해 발생되지만, 실제 라인에서 발생되는 진동의 원인은 매우 복잡한 관계로 여러가지의 진동패턴이 있게 되고, 이는 또 시시각각 변화하게 됨으로써, 정압 패스만으로는 스트립의 진폭 정점을 억제시키는데 한계가 있게 되며, 그 효과 역시 거의 없게 되는 단점이 있는 것이다.In addition, although the vibration of the strip is generated by various factors, the cause of the vibration generated in the actual line is very complicated, and there are various vibration patterns, which are changed every moment, thereby suppressing the amplitude peak of the strip by the static pressure path alone. There is a limit to this, the effect is that there is little disadvantage.

본 고안은 상기한 바와같이 종래의 제반 문제점들을 개선하기 위하여 안출된 것으로서 그 목적은, 스트립이 주행하는 가스 와이핑 노즐의 상방에 정압 유체 패드와 그 양측으로 사이트 플레이트를 각각 설치하여 싱크롤(Sink Roll)과 상부를 사이에서 발생되는 스트립의 진동과 사행을 강제적으로 억제시켜 와이핑(wiping) 노즐을 스트립에 근접시킴으로 인하여 용융도금라인의 스트립 주행 안정화로 인한 스트립의 도금두께 편차를 감소시키고, 스트립의 주행중 발생되는 진폭을 최대로 줄이면서 스트립의 사행을 방지시킬 수 있는 용융도금라인의 스트립 주행 안정화 장치를 제공하는데 있다.The present invention has been made to solve the conventional problems as described above, the purpose of the sink roll (Sink) by installing a static pressure fluid pad and the side plates to both sides of the gas wiping nozzle that the strip is running, respectively By virtue of suppressing the vibration and meandering of the strip generated between the roll and the upper part, the wiping nozzle is brought close to the strip, thereby reducing the plating thickness variation of the strip due to the stabilization of the strip running of the hot dip plating line. It is to provide a strip running stabilization device of the hot-dip galvanizing line that can prevent the meandering of the strip while maximally reducing the amplitude generated during the running of.

이하, 첨부된 도면에 의거하여 본 고안의 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

제 2 도는 본 고안에 따른 스트립 주행 안정화 장치가 설치된 용융 도금라인의 개략 구성도이고, 제 3 도(a)및 (b)는 본 고안에 의한 스트립 주행 안정화 장치의 개략 사시도 및 제 3 도(a)의 설명도로서, 스트립(1)이 침적되는 도금조(2)의 도금욕(3) 내에 싱크롤(4)이 설치되며, 이와 수직방향으로 스트립(1)이 안내되는 텃치롤(7)과 그 상측에 가스 와이핑 노즐(5)이 스트립(1)의 양측에 설치되며, 이송되는 스트립(1)의 방향을 변화시켜주는 상부롤(6)이 설치된다.2 is a schematic configuration diagram of a hot-dip plating line in which a strip running stabilization device according to the present invention is installed, and FIGS. 3A and 3B are a schematic perspective view and a third view of the strip running stabilization device according to the present invention. As an explanatory view of FIG. 1, the sink roll 4 is installed in the plating bath 3 of the plating bath 2 in which the strip 1 is deposited, and the quench roll 7 in which the strip 1 is guided in a direction perpendicular thereto. Gas wiping nozzles 5 are installed on both sides of the strip 1 and upper rolls 6 for changing the direction of the strip 1 to be transported.

상기 가스 와이핑 노즐(5) 장착부와 상부롤(6) 장착부 사이에는 본 고안에 따른 스트립 주행 안정화 장치가 설치되고, 이는 스트립(1)을 감싸도록 설치되어 적정한 공간을 형성하도록 된 정압 유체패드(9)와 사이드 플레이트(10)를 가지는데, 상기 정압 유체패드(9)는 스트립(1)의 양표면 외측으로 일정 간격 떨어져 평행하게 위치되고 그 폭은 스트립(1)의 폭보다 더 크게 이루어지며 스트립(1) 이동방향에 대한 적정한 길이를 덮을 수 있도록 설치되며, 상기 사이드 플레이트(10)는 정압 유체패드(9)에 의하여 이루어지는 내부 공간을 스트립(1)의 폭방향 단부측에서 폐쇄할 수 있도록 설치된다.Between the gas wiping nozzle (5) mounting portion and the upper roll (6) mounting portion is provided with a strip running stabilization device according to the present invention, which is installed to surround the strip (1) to form a proper space (static pressure fluid pad ( 9) and a side plate 10, wherein the hydrostatic fluid pads 9 are located parallel to the outer surface of the strip 1 at some distance apart, the width of which is greater than the width of the strip 1 The strip 1 is installed to cover an appropriate length in the moving direction, and the side plate 10 is configured to close the internal space formed by the hydrostatic fluid pad 9 at the widthwise end side of the strip 1. Is installed.

물론, 상기 사이드 플레이트(10)는 도면에 도시한 바와같이 정압 유체패드(9) 각각에 대하여 복수개가 갖추어져 서로 접촉함으로서 대략의 사각형상의 공간을 이루도록 하여도 좋고, 도면에 도시하지는 않았지만 복수개로 이루어지는 정압 유체패드(9)의 대향 단부를 서로 연결하여 대략의 사각형상의 공간을 이루도록 고정하는 형상으로 된 일체형으로 마련되어도 좋다.Of course, a plurality of side plates 10 may be provided for each of the positive pressure fluid pads 9 and contact each other to form a substantially rectangular space as shown in the drawings, and although not shown in the drawings, a plurality of positive pressures may be provided. The opposing ends of the fluid pads 9 may be provided in one piece in a shape of being connected to each other and fixed to form a substantially rectangular space.

상기 정압 유체패드(9)는 스트립(1)의 양단부측에 스트립(1)의 길이방향과 나란한 슬릿(Slit) 형상의 가스노즐(8)을 각각 형성하며, 이러한 가스노즐(8)은 스트립(1)의 중앙부측으로 적정한 경사, 바람직하게는 45°를 가지도록 하여 그 가스노즐(8)을 통하여 분사되는 고압의 가스가 스트립(1)의 단부에서 중앙부를 향하여 분사되는 것이다.The hydrostatic fluid pad 9 forms a slit-shaped gas nozzle 8 which is parallel to the longitudinal direction of the strip 1 on both end sides of the strip 1, and the gas nozzle 8 is a strip ( The high-pressure gas injected through the gas nozzle 8 so as to have a proper inclination, preferably 45 °, toward the center of 1) is injected from the end of the strip 1 toward the center.

물론, 상기 가스노즐(8)을 통하여는 적정한 정도의 압력을 가지는 가스가 분사될 수 있도록 하여야 하며, 이는 그 가스노즐(8) 각각이 미도시된 가스압축기에 연결되도록 하여도 좋고, 상기 정압 유체패드(9)를 일측 변으로 하는 대략의 직육면체 형상의 가스공급공간을 마련한 후 그 가스공급 공간에 가스압축기를 연결하여도 좋다.Of course, a gas having an appropriate pressure may be injected through the gas nozzle 8, and each of the gas nozzles 8 may be connected to a gas compressor not shown, and the positive pressure fluid The gas supply space of the substantially rectangular parallelepiped shape which has the pad 9 as one side may be provided, and a gas compressor may be connected to the gas supply space.

이와같이 구조로 구성된 본 고안의 작용 및 효과를 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation and effects of the present invention composed of a structure as described above are as follows.

제 2 도 및 제 3 도에 도시한 바와같이, 와이핑노즐(5)과 상부롤(6) 사이에 설치되는 정압 유체패드(9)는 주행중인 스트립(1)의 전후면에 각각 설치되어 그 스트립(1)에 대하여 대칭되도록 배치된다.As shown in Figs. 2 and 3, the hydrostatic fluid pads 9 provided between the wiping nozzles 5 and the upper rolls 6 are respectively installed on the front and rear surfaces of the strip 1 running. It is arranged symmetrically with respect to the strip 1.

이때, 와이핑 노즐(5)로 부터 분사되는 기체는 스트립(1)면을 따라 상승을 하게 되고, 정압 유체 패드(9)의 가스노즐(8)을 통해 분출되는 유체(이하에서는 가스로 설명한다)의 흐름은 스트립(1)면에 압력을 가하게 되는데, 이는 스트립(1)의 양단부에서 중앙부측으로 분사되어 중앙부에서는 스트립 (1)과 거의 평행한 흐름을 가지게 되며, 스트립 단부에서의 가스는 사이드 플레이트(10)에 의하여 외부로 빠져나가지 않으면서 스트립의 사행을 방지하기 위한 역할을 수행하게 된다.At this time, the gas injected from the wiping nozzle 5 rises along the surface of the strip 1, and the fluid ejected through the gas nozzle 8 of the hydrostatic fluid pad 9 (hereinafter, will be described as gas). The flow of) exerts pressure on the surface of the strip (1), which is injected from both ends of the strip (1) to the center part and has a flow almost parallel to the strip (1) at the center part, and the gas at the end of the strip (10) serves to prevent meandering of the strip without exiting to the outside.

즉, 스트립(1)에 사행이 발생하여 어느 일측 단부가 사이드 플레이트(10)에 접근하면, 후술하는 바와같이 사이드 플레이트(10)의 면압력 P가 상승하여 스트립의 사행 교정력이 발생한다. 그리고, 상기 사이드 플레이트(10)에 의해 스트립(1)에 미치는 지지력은 더욱 강해지게 되며, 종래와 동일한 가스 유량일 경우에는 보다 높은 지지력을 얻을 수 있고, 동일한 지지력을 얻을 경우에는 작은 가스유량으로도 충분하다.That is, when meandering occurs in the strip 1 and one end approaches the side plate 10, the surface pressure P of the side plate 10 rises to generate meandering straightening force of the strip as described later. In addition, the bearing force applied to the strip 1 by the side plate 10 becomes stronger, and in the case of the same gas flow rate as in the prior art, a higher bearing force can be obtained, and in the case of obtaining the same bearing force, even with a small gas flow rate. Suffice.

상기와 같이 정압 유체패드(9)를 스트립(1)에 대칭으로 배치하면, 스트립 양측의 정압유체패드(9) 존재 범위에서 정압력이 발생되며, 이 정압력 P는 하기 식 1로 표시되는데, 스트립 (1)과 정압 유체패드(9) 사이의 거리 h는 정량적인 상관관계가 있다. When the static pressure fluid pad 9 is disposed symmetrically on the strip 1 as described above, the static pressure is generated in the presence range of the static pressure fluid pad 9 on both sides of the strip, and the static pressure P is represented by the following equation 1, The distance h between the strip 1 and the hydrostatic fluid pad 9 is quantitatively correlated.

1 2 1 2

Claims (1)

스트립(1)이 침적되는 도금조(2)의 도금욕(3)내에 싱크롤(4)이 설치되며, 이와 수직 방향으로 스트립(1)이 안내되는 텃치롤(7)과 그 상측에 가스 와이핑 노즐(5)이 양측에 설치되며, 이송되는 스트립(1)방향을 변화시켜주는 상부롤(6)이 설치된 구조에 있어서, 상기 가스 와이핑 노즐(5)과 상부롤(6) 사이에는 스트립(1)을 감싸는 공간을 형성하도록 정압 유체패드(9)와 사이드 플레이트(10)가 설치되고, 스트립(1)의 양표면부에 설치되는 상기 정압 유체패드(9)는 스트립(1)의 양측 단부에서 폭방향 중앙부를 향하여 압축가스를 분사 할 수 있도록 가스압축기와 연결된 가스노즐(8)을 가짐을 특징으로 하는 용융도금 라인의 스트립 주행 안정화 장치.The sink roll 4 is installed in the plating bath 3 of the plating bath 2 in which the strip 1 is deposited, and the quench roll 7 in which the strip 1 is guided in a vertical direction thereof and a gas wire on the upper side thereof. In the structure in which the ping nozzle 5 is installed at both sides and the upper roll 6 which changes the direction of the conveyed strip 1 is installed, the strip between the gas wiping nozzle 5 and the upper roll 6 is provided. The hydrostatic fluid pad 9 and the side plate 10 are provided to form a space surrounding the (1), and the hydrostatic fluid pad 9, which is installed on both surfaces of the strip 1, has both sides of the strip 1; And a gas nozzle (8) connected to the gas compressor so that the compressed gas can be injected from the end toward the center portion in the width direction.
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