KR950034365A - 평판 디스플레이의 애노드 플레이트 및 이의 제조 방법 - Google Patents

평판 디스플레이의 애노드 플레이트 및 이의 제조 방법 Download PDF

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이. 네이드 부르스
지. 에반스 다론
알. 서머펠트 스코트
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Abstract

전계 방출평판 디스플레이 장치용 애노드 플레이트(50)는 장치의 애노드 전극을 포함하며, 형광체들(54R,42G,54B)로 덮혀 있는 평행한 도전성 스트라이프들(52)을 다수로 갖는 투명한 평탄 기판(58)을 포함한다. 실제적으로 불투명한 전기적 절연물질(56)이 도전체(52)간 간격들 내에서 기판(58)상에 부착되어, 장치내외의 주변 광 통로에 대한 방벽으로서 작용한다. 불투명 물질(56)의 전기적 절연 특성은 도전성 스트라이프들(52) 상호간 전기적 절연을 상승시키며, 증가된 누설 전류에 기인한 브레이크다운의 위험을 감소시킨다. 불투명 물질(56)은 바람직하게 불순물이 안에 분산된 글래스를 포함하며, 이불순물들은 하나 이상의 유기 염료들을 포함할 수 있고, 전자기 스펙트럼의 가시 광 범위에 걸쳐 비교적 균일한 불투명을 제공하도록 선택된다. 또는, 불순물들은 코발트와 같은 전이 금속의 흑색 산화물을 포함할 수 있다. 불투명 물질(56)은 TEOS 용액에 염료 또는 금속 이온들의 소스를 혼합하고, 글래스 기판(58)상에 그 혼합물을 스핀 또는 퍼지게 하고, 유기물들 및 솔벤트들을 추출해 내기 위해서 그 혼합물을 큐어하여 형성된다. 애노드 플레이트(50)를 제조하는 두 가지 방법들이 개시되어 있다.

Description

평판 디스플레이의 애노드 플레이트 및 이의 제조 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따른 전계 방출 평판 디스플레이 장치에서 사용하기 위한 애노드 플레이트에 대한 단면도.

Claims (32)

  1. 전계 발광(field emission) 장치에서 사용하기 위한 애노드 플레이트(plate)에 있어서, 실제적으로 투명한 기판; 상기 기판 상에 서로 이격된 전기적 도전 영역들; 상기 도전 영역들 상의 발광 물질; 및 상기 기판 상에서 상기 도전 영역들간 간격들 내에 있는 실제적으로 불투명한 전기적 절연 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 발광 장치용 애노드 플레이트.
  2. 제1항에 있어서, 상기 실제적으로 불투명한 전기적 절연 물질은 가시 광 투과율을 50% 이하로 감소시키는 불순물이 혼합된 글래스를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 발광 장치용 애노드 플레이트.
  3. 제2항에 있어서, 상기 불순물들은 전이 금속 산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 발광 장치용 애노드 플레이트.
  4. 제2항에 있어서, 상기 불순물들은 1개의 전이 금속 잉상의 산화물들을 포함하며, 상기 금속 산화물들은 가시 광 스펙트럼에 걸쳐 실제적으로 불투명을 제공하도록 선택되는 것을 특징으로 하는 전계 발광 장치용 애노드 플레이트.
  5. 제2항에 있어서, 상기 불순물들은 유기 염료(organic dye)를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 발광 장치용 애노드 플레이트.
  6. 제2항에 있어서, 상기 불순물들은 1종류 이상의 유기 염료를 포함하며, 이들 염료들은 가시 광 스펙트럼에 걸쳐 실제적으로 불투명을 제공하도록 선택되는 것을 특징으로 하는 전계 발광 장치용 애노드 플레이트.
  7. 전자 방출(emission)디스플레이 장치에 있어서, 전자들을 방출시키는 수단을 포함하는 에미터 구조물; 상기 에미터 구조물에 대향하는 실제적으로 평탄한 면을 가지며, 실제적으로 투명한 기판; 상기 기판 상에 서로 이격된 전기적 도전 영역들; 상기 도전 영역들 상의 발광 물질; 및 상기 기판 상에서 상기 도전 영역들간 간격들 내에 있는 실제적으로 불투명한 전기적 절연 물질을 포함하는 디스플레이 판넬; 및 상기 방출 수단에 의해 방출된 전자들을 상기 도전 영역들을 향하여 가속시키기 위해서 상기 에미터 구조물과 상기 디스플레이 판넬간에 전위를 인가하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 전자 방출 디스플레이 장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 실제적으로 부투명한 전기적 절연 물질은 가시 광 투과율을 50% 이하로 감소시키는 불순물이 혼합된 글래스를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자방출 디스플레이 장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 불순물들은 전이 금속 산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 전자 방출 디스플레이 장치.
  10. 제8항에 있어서, 상기 불순물들은 1개의 전이 금속 이상의 산화물들을 포함하며, 상기 금속 산화물들은 가시 광 스펙트럼에 걸쳐 실제적으로 불투명을 제공하도록 선택되는 것을 특징으로 하는 전자 방출 디스플에이장치.
  11. 제8항에 있어서, 상기 불순물들은 유기 염료를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자 방출 디스플레이 장치.
  12. 제8항에 있어서, 상기 불순물들은 1종류 이상의 유기 염료를 포함하며, 이들 염료들은 가시 광 스펙트럼에 걸쳐 실제적으로 불투명을 제공하도록 선택되는 것을 특징으로 하는 전자 방출 디스플레이 장치.
  13. 전계 방출 장치용 애노드 플레이트 제조 방법에 있어서, 상호 이격된 전기적 도전 영역들을 표면 상에 구비한 실제적으로 투명한 기판을 준비하는 단계; 실제적으로 불투명한 전기적 절연 물질 용액을 제공하는 단계; 상기 실제적으로 불투명한 물질로 상기 표면을 코팅하는 단계; 상기 도전 영역들 위의 에리어(area)들로부터 상기 불투명 물질을 제거하는 단계; 및 상기 도전 영역들 상에 발광 물질을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 장치용 애노드 플레이트 제조 방법.
  14. 제13항에 있어서, 실제적으로 불투명한 전기적 절연 물질 용액을 제공하는 상기 단계는 테트라에틸오소 실리케이트(TEOS)와 솔벤트로 된 용액을 제공하는 서브-단계; 및 가시 광 투과율을 감소시키는 불순물들은 상기 TEOS 용액에 첨가하는 서브-단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 장치용 애노드 플레이트 제조 방법.
  15. 제14항에 있어서, 불순물들을 첨가하는 상기 단계는 상기 TEOS 용액에 전이 금속 화합물을 첨가하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 장치용 애노드 플레이트 제조 방법.
  16. 제15항에 있어서, 상기 전이 금속은 코발트 및 구리를 포함하는 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 전계 방출 장치용 애노드 플레이트 제조 방법.
  17. 제15항에 있어서, 상기 화합물은 코발트 나이트레이트(Co(NO3)2)를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 장치용 애노드 플레이트 제조 방법.
  18. 제17항에 있어서, 상기 용액에 부탄올을 첨가시키는 서브-단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 장치용 애노드 플레이트 제조 방법.
  19. 제14항에 있어서, 불순물들을 첨가시키는 상기 단계는 상기 TEOS 용액에 유기 염료를 첨가시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 장치용 애노드 플레이트 제조 방법.
  20. 제14항에 있어서, 불순물들을 첨가시키는 상기 단계는 1종류 이상의 유기 염료를 첨가시키는 단계를 포함하며, 이들 염료들은 가시 광 스펙트럼에 걸쳐 실제적으로 불투명을 제공하도록 선택되는 것을 특징으로 하는 전계 방출 장치용 애노드 플레이트 제조 방법.
  21. 제13항에 있어서, 상기 실제적으로 불투명한 물질로 상기 표면에 코팅하는 단계는 상기 기판을 스핀(spin)하는 단계; 및 상기 기판 상에 걸쳐 상기 용액을 분산시키도록 상기 표면 상으로 상기 용액을 배분하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 장치용 애노드 플레이트 제조 방법.
  22. 제13항에 있어서, 상기 실제적으로 불투명한 물질로 상기 표면을 코팅하는 상기 단계는 상기 표면 상으로 상기 용액이 퍼지게 하는(spreading) 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 장치용 애노드 플레이트 제조 방법.
  23. 전계 방출 장치용 애노드 플레이트 제조 방법에 있어서, 실제적으로 투명한 기판을 제공하는 단계; 상기 기판의 표면 상에 투명한 전기적 도전 물질 층을 중착하는 단계; 상기 도전 물질로 된 실제적으로 평행한 스트라이프(stripe)들이 형성되게 상기 도전 물질 층의 일부분들을 제거하는 단계; 실제적으로 불투명한 전기적 절연 물질 용액으로 상기 표면을 코팅하는 단계; 상기 불투명 물질을 큐어(cure)하기 위해서 상기 기판을 가열하는 단계; 상기 도전 영역들 위의 에리어들로부터 상기 큐어된 불투명 물질을 제거하는 단계; 및 상기 도전 영역들 상에 발광 물질을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 장치용 애노드 플레이트 제조 방법.
  24. 제23항에 있어서, 상기 도전 물질 층의 일부분들을 제거하는 상기 단계는 포토레지스트 층으로 상기 표면을 코딩하는 서브-단계; 상기 실제적으로 평행한 스트라이프들에 대응하는 영역들을 노출시키도록 상기 포토레지스트 층을 마스킹하는 서브-단계; 상기 포토레지스트 층의 상기 노출된 영역들을 현상하는 서브-단계; 상기 도전 물질 층의 영역들을 노출시키기 위해서 상기 포토레지스트 층의 상기 현상된 영역들을 제거하는 서브-단계; 상기 도전 물질 층의 상기 노출된 영역들을 제거하는 서브-단계; 및 상기 포토레지스트 층의 남아 있는 영역들을 제거하는 서브-단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 장치용 애노드 플레이트 제조 방법.
  25. 제24항에 있어서, 상기 도전 물질 층의 상기 노출된 영역들을 제거하는 상기 단계는 불화 수소산 및 염화 제2철로 된 용액으로 상기 도전 물질을 습식 에칭하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 장치용 애노드 플레이트 제조 방법.
  26. 제23항에 있어서, 상기 도전 영역들 상의 에리어들로부터 상기 큐어된 불투명 물질을 제거하는 상기 단계는 포토레지스트 층으로 상기 큐어된 불투명 물질을 코팅하는 서브-단계; 상기 실제적으로 평행한 스트라이프들간 간격들에 대응하는 영역들을 노출시키기 위해서 상기 포토레지스트 층을 마스킹하는 서브-단계; 상기 포토레지스트 층의 상기 노출된 영역들을 현상하는 서브-단계; 상기 큐어된 불투명 물질 층의 영역들을 노출시키기 위해서 상기 포토레지스트 층의 상기 현상된 영역들을 제거하는 서브-단계; 상기 큐어된 불투명 물질 층의 상기 노출된 영역들을 제거하는 단계; 및 상기 포토레지스트 층의 남아 있는 영역들을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 장치용 애노드 플레이트 제조 방법.
  27. 제26항에 있어서, 상기 큐어된 불투명 물질 층의 상기 노출된 영역들을 제거하는 상기 단계는 버퍼된 불화 수소산 용액으로 상기 도전 물질을 습식 에칭하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 장치용 애노드 플레이트 제조 방법.
  28. 전계 방출 장치용 애노드 플레이트 제조 방법에 있어서, 실제적으로 투명한 기판을 제공하는 단계 상기 기판의 표면 상에 투명한 전기적 도전 물질 층을 증착하는 단계; 상기 도전 물질로 된 실제적으로 평행한 스트라이프(stripe)들이 형성되게 상기 도전 물질 층의 일부분들을 제거하는 단계; 실제적으로 불투명한 전기적 절연 물질 용액을 제공하는 단계; 상기 용액으로 상기 표면을 코팅하는 단계; 상기 도전 영역들 상의 에리어들로부터 상기 불투명 물질을 제거하는 단계; 상기 불투명 물질을 큐어하기 위해서 상기 기판을 가열하는 단계; 및 상기 도전 영역들 상에 발광 물질을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 장치용 애노드 플레이트 제조 방법.
  29. 제28항에 있어서, 상기 도전 물질 층의 일부분들을 제거하는 상기 단계는 포토레지스트 층으로 상기 표면을 코팅하는 단계; 상기 실제적으로 평행한 스트랑이프들에 대응하는 영역들을 노출시키기 위해서 상기 포토레지스트 층을 마스킹하는 서브-단계; 상기 포토레지스트 층의 상기 노출된 영역들을 현상하는 서브-단계; 상기 도전 물질 층의 영역들을 노출시키기 위해서 상기 포토레지스트 층의 상기 현상 안된 영역들을 제거하는 서브-단계; 및 상기 도전 물질 층의 상기 노출된 영역들을 제거하는 서브-단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 장치용 애노드 플레이트 제조 방법.
  30. 제29항에 있어서, 상기 도전 물질 층의상기 노출된 영역들을 제거하는 상기 단계는 불화 수소산 및 염화 제2철로 된 용액으로 상기 도전 물질을 습식 에칭하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 장치용 애노드 플레이트 제조 방법.
  31. 제29항에 있어서, 상기 도전 영역들 상의 에리어들로부터 상기 불투명 물질을 제거하는 상기 단계는 상기 포토레지스트 층의 남아 있는 영역들, 및 상기 포토레지스트 층의 상기 남아 있는 영역들 상의상기 불투명 물질로 된 영역들을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 장치용 애노드 플레이트 제조 방법.
  32. 제31항에 있어서, 상기 포토레지스트는 네거티브 포토레지스트이며, 상기 포토레지스트 층의 상기 남아 있는 영역들은 크실렌(xylene) 및 포토레지스트 솔벤트로 제거되는 것을 특징으로 하는 전계 방출 장치용 애노드 플레이트 제조 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950012835A 1994-05-24 1995-05-23 평판 디스플레이의 애노드 플레이트 및 이의 제조 방법 KR950034365A (ko)

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