KR950011535A - 고무-개질된 폴리스티렌 수지 조성물 및 사출성형품 - Google Patents

고무-개질된 폴리스티렌 수지 조성물 및 사출성형품 Download PDF

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Abstract

본 발명은 매트릭스로서 작용하는 폴리스티렌 수지 및 그 중에 분산된 연질 성분 입자를 포함하며, 하기 조건 (a) 내지 (d)를 충족시키는 고무-개질된 폴리스티렌 수지 조성물 및 이 조성물로 부터 제조된 사출성형품에 관한 것이다.
(a)매트릭스로서 작용하는 폴리스티렌 수지가 하기 조건을 만족시킨다;
150,000≤Mw≤500,000
2≤Bn(Mz)≤20
상기 식에서 Mw는 중량평균 분자량이고, Bn(Mz)는 Z-평균 분자량(Mz)에서 분기수 또는 분기점의 수이다. (b)조성물의 연질 성분입자가 0.1내지 10㎛의 평균 입경 (Dp)을 갖는다, (c)조성물의 연질 성분 입자가 3내지 30의 평균 지수를 갖는다. (d)연질 성분 입자의 비율(중량을 기준으로 함)이 5내지 30중량%이다.

Description

고무-개질된 폴리스티렌 수지 조성물 및 사출성형품
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (7)

  1. 매트릭스로서 작용하는 폴리스티렌 수지 및 그 중에 분산된 연질 성분 입자를 포함하며, 하기 조건(a)내지(d)를 충족시키는 고무-개질된 폴리스티렌 수지 조성물: (a)매트릭스로서 작용하는 폴리스티렌 수지가 하기 조건을 만족시킨다;
    150,000≤Mw≤50,000
    2≤Bn(Mz)≤20
    상기식에서 Mw는 중량평균 분자량이고, Bn(Mz)는 Z-평균 분자칼(Mz)에서 분기수 또는 분기점의 수이다. (b)조성물중의 연질 성분입자가 0.1내지 10㎛의 평균 입경 (Dp)을 갖는다: (c)조성물중의 연질 성분 입자가 3내지 30의 평균 지수를 갖는다. (d)연질 성분 입자의 비율(중량을 기준으로 함)이 5내지 30중량%이다.
  2. 제1항에 있어서, 연질 성분 입자가 0.1내지 1.5㎛의 평균 입경(Dp)를 갖는 고무-개질된 폴리스티렌 수지 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 매트릭스 폴리스티렌 수지가 Z-평균 분자량(Mz)에서 분기수 또는 분기점의 수 3내지 15를 갖는 고무-개질된 폴리스티렌 수지 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 연질 성분 입자가 8내지 20의 팽윤지수를 갖는 고무-개질된 폴리스티렌 수지 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 연질 성분 입자의 비율이 8내지 30중량%인 고무-개질된 폴리스티렌 수지 조성물.
  6. 제2항에 따른 고무-개질된 폴리스티렌 수지 조성물로부터 제조된 사출성형품.
  7. 90%이상의 광택 감소도를 갖는, 제2항에 따른 고무-개질된 폴리스티렌 수지 조성물로부터 제조된 사출성형품.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019940020212A 1993-10-18 1994-08-17 고무-개질된폴리스티렌수지조성물및사출성형품 KR100297071B1 (ko)

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