KR950005810B1 - Crt manufacturing method - Google Patents

Crt manufacturing method Download PDF

Info

Publication number
KR950005810B1
KR950005810B1 KR1019920021334A KR920021334A KR950005810B1 KR 950005810 B1 KR950005810 B1 KR 950005810B1 KR 1019920021334 A KR1019920021334 A KR 1019920021334A KR 920021334 A KR920021334 A KR 920021334A KR 950005810 B1 KR950005810 B1 KR 950005810B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
ray tube
cathode ray
panel
coating
heat treatment
Prior art date
Application number
KR1019920021334A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR940012474A (en
Inventor
정종인
Original Assignee
삼성전관주식회사
박경팔
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전관주식회사, 박경팔 filed Critical 삼성전관주식회사
Priority to KR1019920021334A priority Critical patent/KR950005810B1/en
Publication of KR940012474A publication Critical patent/KR940012474A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR950005810B1 publication Critical patent/KR950005810B1/en

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/20Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2209/00Apparatus and processes for manufacture of discharge tubes
    • H01J2209/01Generalised techniques
    • H01J2209/012Coating
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2229/00Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
    • H01J2229/88Coatings
    • H01J2229/882Coatings having particular electrical resistive or conductive properties
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2229/00Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
    • H01J2229/89Optical components associated with the vessel
    • H01J2229/8913Anti-reflection, anti-glare, viewing angle and contrast improving treatments or devices
    • H01J2229/8915Surface treatment of vessel or device, e.g. controlled surface roughness

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)

Abstract

The method includes the steps of coating a diffused reflection and antistatic composite on the external surface of panel, and heat-treating the coated surface of panel, and heat-treating the coated surface by irradiating microwaves (12) of 0.9-10 GHz from a magnetron (8) onto the coated surface for 0.5-60 minutes in a electromagnetic shielded space by a metal plate (9), thereby forming a coating film on the external surface of panel to reduce the heat-treating time and simplify the heat-treating equipments.

Description

음극선관의 제조방법Method of manufacturing cathode ray tube

제1도는 음극선관의 화상표시부 단면의 모식도로서, 패널의 외표면에 코팅조성물을 도포한 후, 열처리하기 전의 모습을 나타내고,1 is a schematic view of a cross section of an image display portion of a cathode ray tube, which shows a state before coating the coating composition on the outer surface of the panel and before heat treatment;

제2도는 음극선관의 화상표시부 단면의 모식도로서, 패널의 외표면에 코팅조성물을 도포하고 열처리한후의 모습을 나타내며,2 is a schematic view of the cross section of the image display portion of the cathode ray tube, showing the state after the coating composition is applied to the outer surface of the panel and heat-treated,

제3도는 본 발명의 방법에 따라 마이크로파를 이용하여 코팅물질을 가열하기 위한 장치를 개략적으로 나타낸 도면이고,3 is a schematic representation of an apparatus for heating a coating material using microwaves in accordance with the method of the present invention,

제4도는 본 발명의 실시예에서의 마그네트론(磁電管 : magnetron)의 동작방법을 나타내기 위한 그래프로서, y는 전압 인가 주기이고 x/y는 듀티값이다.4 is a graph for illustrating a method of operating a magnetron in an embodiment of the present invention, where y is a voltage application period and x / y is a duty value.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

1 : 코팅물질 2 : 염료1: coating material 2: dye

3 : 패널 4 : 형광막3: panel 4: fluorescent film

5 : 알루미늄 증착막 6 : 섀도우마스크5: aluminum deposition film 6: shadow mask

7 : 금속장벽 8 : 마그네트론부7: metal barrier 8: magnetron portion

9 : 금속판 10 : 음극선관지지대9: metal plate 10: cathode ray tube support

11 : 공기 12 : 마이크로파11: air 12: microwave

13 : 배기구 14 : 가스 채취용 모세관13 exhaust port 14 gas capillary tube

본 발명은 음극선관의 제조방법에 관한 것으로서, 상세하게는 대전방지, 방현성 및/또는 색감향상을 위해 패널의 외표면에 수행하는 코팅처리후의 열처리 방법을 개선함으로써, 표시품질의 향상을 기한 음극선관의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a cathode ray tube, and more particularly, to improve display quality by improving a heat treatment method after coating treatment performed on an outer surface of a panel for antistatic, anti-glare and / or color enhancement. It relates to a method for producing a tube.

일반적으로 패널의 외면은 매끄러운 유리면이기 때문에 외광이 반사되어 화면에 나타나는 문자, 도형 등 화상의 선명도가 떨어져 이를 보기 어렵게 되는 문제가 있다. 이 문제를 해결하기 위해 장치의 화상부 외면에는 요철 무늬를 형성시키는 등 적절한 처리를 위하여 외광이 난반사되도록 하고 있다. 또한 음극선관의 동작중, 또는 동작이 종료된 후에 패널의 외면에는 정전하가 축적되는데 이 때문에 패널 외면에는 먼지가 앉게되고, 사람이 이와 접촉시 전기적 쇼크를 받는 등의 문제가 야기된다. 이를 해결하기 위해 실라놀기를 사용하여 공기중의 수분을 흡수시키고 그 수분에 의하여 패널 외면의 표면저항을 감소시키는 방법과, 초미립자 금속 또는 도전성 산화물을 분산시킨 액을 패널 외면에 코팅하는 등의 방법을 사용하고 있는데 이를 대전방지막이라고 한다.In general, since the outer surface of the panel is a smooth glass surface, external light is reflected, and thus, the sharpness of an image such as a character or a figure appearing on the screen is difficult to see. To solve this problem, external light is diffusely reflected for proper processing such as forming an uneven pattern on the outer surface of the image portion of the apparatus. In addition, electrostatic charges are accumulated on the outer surface of the panel during or after the operation of the cathode ray tube, which causes dust to sit on the outer surface of the panel, and causes problems such as electric shock when a person contacts it. To solve this problem, a method of absorbing moisture in the air by using a silanol group and reducing the surface resistance of the outer surface of the panel by the moisture, and coating the outer surface of the panel with a liquid in which ultrafine metal or conductive oxide is dispersed This is called antistatic film.

상기한 외광의 난반사를 위해서는 대개 SiO2계 물질을 피복하고, 대전방지를 위해서는 도전성 투명막즉, SnO2계 등의 금속물질을 피복하고 있으며 최근에는 색감에는 향상을 위해 여기에 염로를 더 포함시켜 피복하고 있다.The diffuse reflection of the external light is usually coated with a SiO 2 material, and for the antistatic, a conductive transparent film, that is, a metal material such as SnO 2 is coated. In recent years, a color layer is further included to improve the color. Doing.

상기한 코팅막의 형성을 위해서는 알콕사이드(alkoxide)계의 조성물을 사용하여 졸-겔법을 이용하는데, 도포법으로는 스핀코팅법(spin coating)이나 스프레이 코팅법(spray coating)을 사용한다. 코팅시 코팅물질 내에서는 알콕사이드의 가수분해 반응이 일어나므로 패널 외면의 초기 피복물질에는 무기 중합체와 물 또는알콜계의 유기물이 포함되는데, 원하는 코팅막 성분을 얻고 물 또는 알콜계의 유기물을 증발시키기 위해서는 열처리 공정이 필수적이다. 이 열처리 공정은 통상, 코팅조성물이 피복된 음극선관을, 전기 히터에 의한 저항가열이나 버너에 의한 열원을 이용하여 가열하게 되어 있는 가열로를 통과시켜, 음극선관 전체를 소정의 온도(통상 200 내지 300℃)로 가열하는 것으로 행한다. 가열을 통해 알콕사이드는 분해되어 산화물로 되고 잔류되었던 물이나 유기물은 증발되어 패널의 외표면에는 코밍막 형성 성분만 남게 된다.In order to form the coating film, a sol-gel method using an alkoxide-based composition is used, and a spin coating method or a spray coating method is used as a coating method. During coating, the alkoxide hydrolysis reaction occurs in the coating material, so the initial coating material on the outer surface of the panel includes an inorganic polymer and water or alcohol-based organic material. In order to obtain a desired coating film component and to evaporate water or alcohol-based organic material, heat treatment is performed. The process is essential. This heat treatment step usually passes a cathode ray tube coated with a coating composition through a heating furnace which is heated by resistance heating by an electric heater or a heat source by a burner, and the entire cathode ray tube is passed through a predetermined temperature (usually 200 to 200). 300 ° C.). By heating, the alkoxide is decomposed to become an oxide, and the remaining water or organic matter is evaporated, leaving only the comb film forming component on the outer surface of the panel.

통상적으로 이용되는 상기 졸-겔법의 기본 공정을 화학식으로 표현하면 다음과 같다.When the basic process of the sol-gel method commonly used is expressed by the chemical formula is as follows.

[가수분해 반응][Hydrolysis reaction]

M (OR)Z+H2O → M(OR)Z-1OH +ROHM (OR) Z + H 2 O → M (OR) Z-1 OH + ROH

[축합반응][Condensation reaction]

M(OR)Z-1OH +M(OR)Z→(RO)Z-1M-O-M(OR)Z-1+H2OM (OR) Z-1 OH + M (OR) Z → (RO) Z-1 MOM (OR) Z-1 + H 2 O

2M(OR)Z-1OH -(RO)Z-1M -O-M(OR)Z-1+H2O2M (OR) Z-1 OH-(RO) Z-1 M -OM (OR) Z-1 + H 2 O

(상기식에서 M(OR)Z는 금속 알콕사이드, R은 알킬기(CnH2n+1)이고 M은 금속이다. CJ.Brlnker et al., Thin Solid Films, 20, 97-108,(1991) 참조)(Wherein M (OR) Z is a metal alkoxide, R is an alkyl group (C n H 2n + 1 ) and M is a metal. See CJ Brnker et al., Thin Solid Films, 20, 97-108, (1991). )

상기식에서 열처리전 고밍된 물질은 (RO)Z-1M-O-M(OR0)Z-1, ROH 및 H2O가 혼합되어 있는 상태인데, 가열공정에 의해 ROH 및 H2O는 증발되며 (RO)Z-M-O-M(OR)Z-1은 분해되어 M-O-M상의 산화물로 된다.In the above formula, the material hardened before the heat treatment is a mixture of (RO) Z-1 MOM (OR0) Z-1 , ROH, and H 2 O, and ROH and H 2 O are evaporated by a heating process and (RO) Z -MOM (OR) Z-1 decomposes to become an oxide of the MOM phase.

그런데 이러한 가열공정을 통해 얻어지는 코팅막은 상기한 메카니즘에 따라 코팅물질이 결정화되는 반응이 완전히 진행되어 M-0-M상의 물질로 수득되지 못하고, 대부분이 무정형 상태로 얻어지게 되므로 완전히 결정화된 고팅밍막에 비해 경도나 도전성이 떨어지게 된디. 이 문제를 해결하기 위하여 가열온도를 높이게 되면, 음극선관 내부에서 가스가 방출되어 진공도가 저하되거나 응력에 의한 유리 파손 등의 문제가 더욱 심각하게 수반되며, 코팅질내에 염료를 포함시킨 경우에는 높은 온도 조건하에서 염로가 분해되거나그 효과가 저하되므로 바람직하지가 못하다. 이와 같이 상치되는 조건을 고려하여 산업적으로는 상기 200내지 300℃의 가열 온도 범위를 적정한 선으로 채용하고 있다.By the way, the coating film obtained through the heating process is not completely obtained as M-0-M phase of the coating material is crystallized according to the above mechanism, and most of the coating film is obtained in an amorphous state. Hardness and conductivity are inferior in comparison. In order to solve this problem, when the heating temperature is increased, gas is released from inside the cathode ray tube, and the problem of vacuum degree decreases or glass breakage due to stress is more seriously accompanied. It is not preferable because the salt is decomposed or the effect is lowered under the conditions. In view of such conflicting conditions, industrially, the heating temperature range of 200 to 300 ° C. is adopted as an appropriate line.

그러나 상기한 온도범위에서도 여전히 흡착가스 방출로 인하여 음극선관내의 진공도가 저하되므로 전자방출계 및 전자총에서의 특성이 저하된다. 이는 배기공정이 가열과 수반되어 행해져도 도포물질의 열처리 공정에서 미량의 잔류 흡착 가스성분이 재방출되므로 여전히 남게되는 문제로서 음극선관의 품질을 전체적으로 저하시키는 요인이 된다. 그리고 가열로 연한 응력차로 유리의 파손이 발생된다는 문제도 있다. 더구나가 열조건에 의한 연속적 생산을 위해서는 이에 알맞는 가열로가 필요할 뿐아니라, 파손방지를 위해 가열시느리게 승온하거나 가열처리후 느리게 냉각하게 되면 통상 3 내지 4시간이 소요되므로 대량생산에 커다란 장애요소가 되며 에너지적으로 커다란 손실이 되어 새로운 처리법이 요구되고 있는 실정이다.However, even in the above temperature range, the vacuum degree in the cathode ray tube is still lowered due to the release of adsorption gas, thereby deteriorating the characteristics of the electron emission system and the electron gun. This is a problem that remains even though the exhaust process is carried out with heating, since a small amount of residual adsorption gas components are re-emitted in the heat treatment process of the coating material, which is a factor that lowers the quality of the cathode ray tube as a whole. Moreover, there also exists a problem that breakage of glass arises by the soft stress difference by heating. Moreover, not only a suitable heating furnace is required for continuous production under thermal conditions, but also it takes 3 to 4 hours to heat up slowly to prevent breakage or to cool down slowly after heat treatment, which is a major obstacle to mass production. It becomes a huge energy loss and requires a new treatment method.

한편, 마이크로파(microwave)는 주파수 범위가 0.3 내지 300GHz이고, 파장이 1㎜ 내지 1m인 전자파(electromagnetlc wave)로서, 물질의 종류, 온도에 따라 투과, 흡수 또는 반사가 일어나는 정도로 달리하는 특성을 가지고 있다. 마이크로파를 이용한 가열은 음식물 조리수단으로서 보편화되어 있고, 산업적으로는 세라믹스 분야에서 건조 및 소결방법으로 시도되고 있으며 일부 실용화되고 있는 상태이다. 이러한 마이크로파를 이용한 가열에 있어서 재료의 특성과 결부되는 상관관계식은 연구자들에 따라 다르게 발표되지만 이들은 모두 대동소이며 재료의 비유전상수, 유전 손실을(tan∂또는 loss tangent), 주파수(또는 파장)에 관련된다. 대표적인 관계식을 보면 다음과 같다.On the other hand, the microwave (wave) is an electromagnetic wave (electromagnetlc wave) having a frequency range of 0.3 to 300GHz, a wavelength of 1mm to 1m, and has a characteristic that the degree of transmission, absorption or reflection occurs depending on the type of material and temperature . Microwave heating is widely used as a food cooking means, and industrially, it has been tried as a drying and sintering method in the field of ceramics, and is in a state of practical use. The correlations associated with the properties of materials in these microwave heating methods are different for different researchers, but they are all homomorphic and depend on the material's relative dielectric constant, dielectric loss (tan∂ or loss tangent), and frequency (or wavelength). Related. Representative relations are as follows.

P=σ|E|2=2πfε0εr'tanδ|E|2 P = σ | E | 2 = 2πfε 0 ε r ' tanδ | E | 2

(상기식에서 P는 단위부피당 흡수되는 마이크로파 출력(W/㎡), σ는 총유효 전도도(s/m), E는 내부 전장의 크기(V/m), f는 주파수(GHz), ε0진공에서의 유전율, εr'은 비유전율이고, tanδ는 loss tangent이 이다)Where P is the microwave power absorbed per unit volume (W / ㎡), σ is the total effective conductivity (s / m), E is the magnitude of the internal electric field (V / m), f is frequency (GHz), and ε 0 vacuum Permittivity at, ε r 'is the relative dielectric constant and tanδ is the loss tangent)

상기식에서는 f, εr', tanδ및 E가 상호의존적이며, E는 재료의 크기, 형태, 시료의 위치 등에 따라 변하기 때문에 현실적으로 적용하기 어려우나 흡수출력과 재료의 유전특성 및 마이크로파 특성과의 상관관계의 의미는 알 수 있다. 또한 재료내에 마이크로파가 침투되어 전파되는 동안 전장은 재료에 흡수되어 감쇄된다. 이러한 현상을 나타내는 변수로서 침투거리 D는 재료에 침투한 마이크로파의 출력이 반으로 감소하는 깊이로서 다음식으로 표현되고 있다.In the above formula, f, ε r ' , tanδ and E are interdependent, and E is difficult to apply because it changes according to the size, shape, and sample position of the material, but the correlation between absorption power and dielectric and microwave characteristics of the material The meaning is unknown. In addition, the electric field is absorbed and attenuated by the material while microwaves penetrate and propagate in the material. As a parameter representing this phenomenon, the penetration distance D is a depth at which the power of the microwave penetrating the material is reduced in half and is expressed by the following equation.

(상기식에서 λ0는 자유공간에서의 파장을 나타낸다)0 represents the wavelength in free space)

본 발명의 목적은 상기와 같이 액상 코팅물질을 음극선관의 패널 외표면에 도포후 가열처리를 행함에 따라 수반되는 문제점과, 미량의 잔류 흡착가스 성분이 도포물질의 열처리 공정에서 재방출되어 음극선관의 진공도를 저하시키며 이에 따라 전자방출계 및 전자총에서의 특성이 저하되는 문제를 해결하고자 하는 것으로 코팅물질의 가열처리에 상기한 마이크로파를 이용함으로써 품질이 향상된 음극선관의 제조방법을 제공하고자 하는 것이다.The object of the present invention is that the liquid coating material is applied to the panel outer surface of the cathode ray tube as described above, followed by a heat treatment, and a trace amount of the residual adsorption gas component is re-released in the heat treatment process of the coating material, so that the cathode ray tube The purpose of the present invention is to solve the problem of lowering the degree of vacuum and deteriorating characteristics of the electron emission system and the electron gun, and to provide a method of manufacturing a cathode ray tube having improved quality by using the microwaves for heat treatment of a coating material.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에서는 음극선관의 패널 외표면에 외광의 난반사 및 대전방지용 코팅 조성물을 코팅한 후, 이를 열처리하여 코팅막을 제조하는 공정을 포함하는 음극선관의 제조방법에 있어서, 상기 열처리 공정이 금속판에 의해 전자기적으로 차폐된 공간에서, 음극선관의 상기 코팅 조성물이 코팅된 패널의 외표면에, 마그네트론의 동작에 의해 마이크로파를 조사함으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 음극선관의 제조방법을 제공한다.In the present invention in order to achieve the above object, in the method for manufacturing a cathode ray tube comprising a step of coating a diffused reflection and antistatic coating composition of the external light on the outer surface of the cathode ray tube, the heat treatment to produce a coating film, the heat treatment The process is carried out by irradiating microwaves by the operation of a magnetron to the outer surface of the panel coated with the coating composition of the cathode ray tube in a space electromagnetically shielded by a metal plate. do.

특히 상기 마이크로파의 주파수는 0.9 내지 10GHz인 것이 바람직하며, 상기 마이크로파를 발생시키기 위한 마그네트론의 전압 인가주기는 0.1 내지 30초이고, 듀티티값이 0.1 내지 0.5인 것이 바람직하다.In particular, the frequency of the microwave is preferably from 0.9 to 10GHz, the voltage application period of the magnetron for generating the microwave is preferably 0.1 to 30 seconds, the duty value is 0.1 to 0.5.

또한 상기 외광의 난반사 및/또는 대전방지를 위한 코팅 조성물에는 음극선관의 색감 향상을 위해 염료를 더 포함시킬 수 있다.In addition, the coating composition for diffuse reflection and / or antistatic of the external light may further include a dye for improving the color of the cathode ray tube.

마이크로파의 특성과 재료 특성과의 상관관계를 활용하여 본 발명자는 음극선관 화상표시부 재로들의 유전특성을 측정한 결과, 패널유리와 도포물질의 유전특성에 있어서 조사되는 마이크로파의 주파수, 온도 및 도포물질에 함유된 성분에 따라 도포물질의 유전특성이 약 4 내지 10배 커서(패널의 비유전상수 : 10-20, 도포물질의 비유전상수 : 80-100), 도포물질이 선택적으로 높게 가열될 수 있기 때문에 마이크로파에 의한코팅물질의 열처러가 가능하다는 것에 착안하게 되었다. 즉, 종래에는 코팅물질을 가열, 건조시키기 위해서 음극선관을 가열로로 통과시키기 때문에 음극선관 전체가 가열되는 것이 보편적이지만, 본 발명의 방법에 의하면 열처리가 필요한 패널 상부의 코팅물질만을 선택적으로 가열 할 수 있어서 시간과 에너지를 절약하면서도 우수한 가열효과를 얻을 수 있게 된다는 것이다.By utilizing the correlation between the characteristics of the microwave and the material, the present inventors measured the dielectric properties of the cathode ray tube image display material. Depending on the components contained, the dielectric properties of the coating material are about 4 to 10 times larger (the relative dielectric constant of the panel: 10-20, the dielectric constant of the coating material: 80-100), and the microwave can be selectively heated. It has been conceived that heat treatment of the coating material is possible. That is, conventionally, the entire cathode ray tube is heated because the cathode ray tube is passed through a heating furnace to heat and dry the coating material. However, according to the method of the present invention, only the coating material on the upper part of the panel which needs heat treatment can be selectively heated. It is possible to save time and energy while achieving excellent heating effect.

제1도 및 제2도는 음극선관의 화상표시부 단면의 모식도로서, 통상의 방법에 따라 패널의 외표면에 코팅 조성물을 도포하여 열처리하기 전(제1도) 및 열처리한 후(제2도)의 모습을 나타낸다. 제1도 및 제2도에 나타난 바와 같이 통상 음극선관은 형광막(4)외 휘도를 높이기 위하여 형광막(4)의 섀도우마스크(6)쪽 표면에 소정 간격으로 이격되게 알루미늄 증착막(5)이 광반사를 유도하도록 구비되어 있다.1 and 2 are schematic diagrams of the cross section of the image display portion of the cathode ray tube, which are applied to the outer surface of the panel according to a conventional method before the heat treatment (FIG. 1) and after the heat treatment (FIG. 2). Show the appearance. As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the cathode ray tube generally includes an aluminum vapor deposition film 5 spaced at a predetermined interval on the surface of the shadow mask 6 side of the fluorescent film 4 in order to increase luminance outside the fluorescent film 4. It is provided to induce light reflection.

여기에서 코팅 조성물을 패널의 외표면에 도포한 후 코팅물질(1)의 열처리를 위해 마이크로파를 조사할때, 이 마이크로파의 파장, 강도 및 인가방법에 따라 어떤 경우에는 상기 알루미늄 증착막(5)의 탈락 현상과 함께 형광막(4)의 갈라짐이 발생되고, 장시간 처리한 경우에는 코팅물질 뿐만 아니라 패널(3)의 온도가 상승하기도 하고, 마이크로파의 조사방법에 따라 코팅물질이 국부적으로 가열되어 패널(3)의 유리파손을 수반하는 일이 일어날 수도 있다.Here, when the coating composition is applied to the outer surface of the panel and then irradiated with microwaves for heat treatment of the coating material (1), depending on the wavelength, intensity and application method of the microwave, in some cases the aluminum deposition film (5) dropping out With the development, cracking of the fluorescent film 4 occurs, and in the case of treatment for a long time, not only the coating material but also the temperature of the panel 3 may increase, and the coating material is locally heated according to the microwave irradiation method, and thus the panel 3 Accompanied by glass breakage of) may occur.

제3도는 본 발명의 음극선관 패널 외면 가열장치를 나타내는 개략도로서 패널(3)의 상부에서 마그네트론부(8)로부터 마이크로파(12)가 조사되도록 되어 있다. 음극선관의 패널부를 제외한 하부는 금속판(9)으로가려져 있으며 챔버 내부의 가스배기를 위해 배기구(13)가 설치되어 있다. 배기구(13)에는 공정시간을 결정하기 위해 가스 채취용 모세관(14)이 구비되어 있는데 이를 통해 채취된 가스는 질량분석기(quadrupole mass spectrometer)에 의해 분석된다. 공정은 가스내에 유기물 및 수분이 거의 검출되지 않는 시점에서 종료하도록 하는데 본 발명의 방법에 의하면 1분 이내에서 약 60분 정도까지 소요되는 것을 알 수 있었다.3 is a schematic view showing the cathode ray tube panel outer surface heating apparatus of the present invention, wherein the microwaves 12 are irradiated from the magnetron portion 8 on the upper portion of the panel 3. The lower portion of the cathode ray tube, except for the panel portion, is covered by a metal plate 9, and an exhaust port 13 is provided for gas exhaust inside the chamber. The exhaust port 13 is provided with a capillary tube 14 for gas collection to determine the process time, the gas collected through this is analyzed by a quadrupole mass spectrometer. The process was terminated at the point where almost no organic matter and moisture was detected in the gas. According to the method of the present invention, it was found that it takes from about 1 minute to about 60 minutes.

이하 본 발명의 실시예 및 그 결과를 설명하기로 한다. 코팅물질 및 공정조건은 표 1에, 결과는 표 2에 나타나 있다.Hereinafter, embodiments of the present invention and the results will be described. Coating materials and process conditions are shown in Table 1 and the results are shown in Table 2.

[표 1]TABLE 1

[표 2]TABLE 2

코팅액의 적용방법에 있어서는 종래와 동일한 방식으로 원료 조성물을 혼합하여 코팅하거나 각 원료 조성물 용액을 각각 적용한 후 열처리를 반복하여 적용하였으며, 액의 종류에 따라서는 본 발명의 방법에서는 특성상의 차이가 적어 구분하지 않았다.In the application method of the coating liquid, the raw material composition was mixed and coated in the same manner as in the prior art, or each raw material composition solution was applied, and the heat treatment was repeatedly applied. Depending on the type of the liquid, the difference in properties is small in the method of the present invention. Did not do it.

공정시간은 패널부 코팅물질에서 증발되는 유기물 성분의 가스나 수분이 검출되는 경향으로 결정하였는데, 유기물 가스나 수분이 급격히 감소된 후에도 열처리 효과를 제공하기 위해 조건에 따라 수초 내지 수십초 지난후에 공정을 종료하였으며, 형광막의 손상이 의심되는 조건에서는 공정후 배면에서의 막관찰을 위해 패널부 만에 대하여 실시하였다. 일부 공정에서는 패널면의 온도 상승 및 패널의 크랙 여부를 관찰하기 위해 가스 방출 특성과 무관하게 임의로 시간을 설정하어 열처리를 실시하였는데 실시예의 번호옆에(*) 표시가 된 것이 이 경우이다.The process time was determined by the tendency to detect the gas or moisture of the organic component evaporated from the coating material of the panel, and after a few seconds to several tens of seconds depending on the conditions to provide a heat treatment effect even after the organic gas or moisture is rapidly reduced. In the condition that the damage of the fluorescent film is suspected, only the panel part was carried out for the observation of the film on the back side after the process. In some processes, heat treatment was performed by arbitrarily setting a time regardless of the gas release characteristics to observe the temperature rise of the panel surface and whether the panel was cracked. In this case, a symbol (*) is indicated beside the number of the embodiment.

패널면 온도와 코팅된 부위의 열처리 효과는 이론적으로 결부시키기 어렵지만 최종 상태로서 비교한 결과, 패널과 코팅층의 유전특성차 및 열용량차로 인하여 패널면의 온도 상승은 그다지 크지 않으나(약 25-105℃), 실제 도포층의 가열온도 효과는 수백도에 달하는 것으로 예측된다. 본 실시예에서는 도포층의 온도와 페널 온도를 구분하여 측정하지는 않았다. 본 실시예에서와 같이 코팅후의 열처리 효과는 통상의 가열온도가 수백도인 종래의 경우와 동등 이상의 특성을 보이지만 패널부의 온도 상승이 상기와 같이 억제되는 것은, 각 재질의 유전 특성의 차이에 의해 도포부의 온도 상승은 크나 이 크기차에 기인한 밀용량의 차이에 의해 각 부위의 온도는 서로 상쇄되어 전체 폐널의 온도 상승이 억제되는 것으로 생각된다.The temperature of the panel surface and the heat treatment effect of the coated area are theoretically difficult to be combined. However, as a result of the comparison, the temperature of the panel surface is not very high due to the difference in dielectric properties and heat capacity of the panel and the coating layer (about 25-105 ° C). In fact, the heating temperature effect of the actual coating layer is expected to reach several hundred degrees. In this example, the temperature of the coating layer and the panel temperature were not measured separately. As in the present embodiment, the heat treatment effect after coating shows the same or more characteristics as the conventional case where the ordinary heating temperature is several hundred degrees, but the increase in the temperature of the panel portion is suppressed as described above, because of the difference in dielectric properties of each material. The negative temperature rise is large, but it is thought that the temperature of each part is canceled by the difference in the density capacity due to this size difference, so that the temperature rise of the entire closed board is suppressed.

표 2에 나타단 효과의 표시는 기존의 방법에 따라 200℃의 온도로 가열하여 얻어진 음극선관의 제반 특성과 비교하여 ◎; 우수, ○; 유사, △; 다소 문제가 있음 및 ×; 불량으로 표기하였는데 이는 본 발명자가 임의로 책정한 것이다.The indications of the effects shown in Table 2 are compared with the general characteristics of the cathode ray tube obtained by heating to a temperature of 200 ° C. according to a conventional method; Excellent, ○; Similar, Δ; Somewhat problematic and ×; It is marked as bad, which is devised by the present inventors arbitrarily.

표 2의 결과에 나타난 바와 같이, 동일출력에서는 조사되는 마이크로파의 주파수가 낮을수록 형광막의 영향이나 패널 유리의 온도 상승이 컸으며 고주파수일수록 열처리 효과는 우수하였으나 공정시간이 너무 짧아 오히려 제어하기 곤란한 점이 있었다.As shown in the results of Table 2, at the same output, the lower the frequency of the irradiated microwave, the greater the effect of the fluorescent film or the temperature rise of the panel glass, and the higher the frequency, the better the heat treatment effect, but the process time was too short and difficult to control. .

본 실시예에서 나타난 바와 같이 마이크로파를 연속적으로 조사한 경우에는, 패널의 온도가 상승되는 속도가 너무 빨라 패널이 파손될 우려가 있으며, 음극선관 펀넬과의 응력차이로 인해 패널 측면부에서 크랙이 발생하여 파손되는 경우도 있었다. 마이크로파를 연속적으로 조사하는것 보다는 간헐적으로 조사함으로써 지나치게 빠른 온도 상승이 억제되어 균일한 특성을 갖는 것이 얻어진다는 것을 알 수 있었다.In the case of continuously irradiating the microwaves as shown in the present embodiment, the panel temperature is too fast to rise, which may cause the panel to break, and due to stress differences with the cathode ray tube funnel, cracks may occur in the panel side part. There was a case. It was found that by intermittently irradiating the microwaves rather than continuously irradiating it, an excessively fast temperature rise can be suppressed and a homogeneous characteristic can be obtained.

제4도는 본 발명의 실시예에서의 마그네트론(磁電管; magnetron)의 동작방법을 나타내기 위한 그래프이다. 그래프에서 y는 전압인가 주기를 뜻하며 x/y는 듀티를 뜻하는데 마이크로파의 주파수에 따라서 전압 인가주기는 약 1 내지 30초가 바람직하며 듀티는 0.1 내지 0.5일때 우수한 막특성(부착성, 대전 감쇄율, 색감, 방현성등)을 갖는 코팅막이 얻어졌다.4 is a graph showing a method of operating a magnetron in an embodiment of the present invention. In the graph, y means voltage application period and x / y means duty, and the voltage application period is preferably about 1 to 30 seconds depending on the frequency of microwaves. When the duty is 0.1 to 0.5, excellent film characteristics (adhesiveness, charge decay rate, color sense) , Anti-glare, etc.) was obtained.

이상과 같이 본 발명의 음극선관 제조방법에 의하면 코팅액의 도포후 열처리 공정에 소요되는 시간이 기존의 3-4시간에서 수분 내지 수십분 이내로 감소되면서도 종래의 방법에 따라 얻어지는 코팅막과 동등 또는 그 이상으로 우수한 특성을 갖는 코팅막을 얻을 수 있게 된다.As described above, according to the cathode ray tube manufacturing method of the present invention, the time required for the heat treatment process after application of the coating liquid is reduced to within several minutes to several tens of minutes in the existing 3-4 hours, and is equivalent to or better than the coating film obtained according to the conventional method. A coating film having characteristics can be obtained.

또한 설비면에 있어서도 종래의 방법에서는 대규모의 가열로가 필요한 까닭에 투자비가 지대하지만, 본 발명에 의하면 간단한 금속 구조물과 마이크로파 발생장치 등으로 소요설비가 단순화되어 저렴한 투자로서 공정에 소요되는 비용이 크게 절감될 뿐만 아니라 우수한 특성을 갖는 코팅막을 제조할 수 있다는 효과를 얻을 수 있게 된다.In addition, in terms of equipment, the investment cost is large because a large-scale heating furnace is required in the conventional method, but according to the present invention, the required equipment is simplified with a simple metal structure, a microwave generator, etc. In addition to savings, it is possible to obtain an effect of producing a coating film having excellent characteristics.

Claims (5)

음극선관의 패널의 표면에 외공의 난반사 및 대전방지용 코팅 조성물을 코팅한 후, 이를 열처리 하여 코팅막을 제조하는 공정을 포함하는 음극선관의 제조방법에 있어서, 사익 열처리 공정이 금속파네 의해 전자기적으로 차폐된 공간에서, 음극선관의 상기 코팅 조성물이 코팅된 패널의 외표면에, 마그네트론의 동작에 의한 마이크로파를 조사함으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 음극선관의 제조방법.In the method of manufacturing a cathode ray tube comprising the step of coating the diffuse reflection and antistatic coating composition of the outer pores on the surface of the panel of the cathode ray tube, and then heat-treating it to prepare a coating film, the heat treatment heat treatment step is electromagnetic shielding by metal panes Method of manufacturing a cathode ray tube, characterized in that carried out by irradiating microwaves by the operation of the magnetron on the outer surface of the panel coated with the coating composition of the cathode ray tube in the space. 제1항에 있어서, 상기 마이크로파의 주파수가 0.9 내지 10GHz인 것을 특징으로 하는 음극선관의 제조방법.The method of manufacturing a cathode ray tube according to claim 1, wherein the microwave has a frequency of 0.9 to 10 GHz. 제1항에 있어서, 상기 마이크로파를 발생시키기 위한 마그네트론의 전압 인가주기가 0.1 내지 30초이고, 듀티값이 0.1 내지 0.5인 것을 특징으로 하는 음극선관의 제조방법.The method of manufacturing a cathode ray tube according to claim 1, wherein a voltage application period of the magnetron for generating microwaves is 0.1 to 30 seconds, and a duty value is 0.1 to 0.5. 제1항에 있어서, 상기 마이크로파의 조사시간이 0.5 내지 60분인 것을 특징으로 하는 음극선관의 제조방법.The method of manufacturing a cathode ray tube according to claim 1, wherein the microwave irradiation time is 0.5 to 60 minutes. 제1항에 있어서, 상기 코팅 조성물이 염료를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 음극선관의 제조방법.The method of claim 1, wherein the coating composition further comprises a dye.
KR1019920021334A 1992-11-13 1992-11-13 Crt manufacturing method KR950005810B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019920021334A KR950005810B1 (en) 1992-11-13 1992-11-13 Crt manufacturing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019920021334A KR950005810B1 (en) 1992-11-13 1992-11-13 Crt manufacturing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR940012474A KR940012474A (en) 1994-06-23
KR950005810B1 true KR950005810B1 (en) 1995-05-31

Family

ID=19343093

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019920021334A KR950005810B1 (en) 1992-11-13 1992-11-13 Crt manufacturing method

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR950005810B1 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
KR940012474A (en) 1994-06-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0705483B1 (en) Method of curing a film
Chatelon et al. Morphology of SnO2 thin films obtaibed by the sol-gel technique
DE60218109T2 (en) A method for producing a transparent conductive layer, a transparent and conductive layer produced by this method, and material containing this layer
US7690961B2 (en) Plasma display panel and process for producing the plasma display panel
US3811855A (en) Method of treating a glass body to provide an ion-depleted region therein
DE3518197A1 (en) METHOD FOR REMOVING METALIONS FROM BODIES OF GLASS, CERAMIC MATERIALS AND OTHER AMORPHOUS MATERIALS AND CRYSTALLINE MATERIALS
DE3330032A1 (en) TREATMENT METHOD FOR CARRYING OUT A PLASTIC FLOW OF A GLASS LAYER ON A SEMICONDUCTOR BOARD
TWI620228B (en) Plasma treatment apparatus and plasma treatment method
KR100707054B1 (en) Plasma display panel manufacturing method for achieving luminescence characteristics
BR8806157A (en) PERFECTED LUMINESCENT LAMP AND PROCESS AND APPLIANCE FOR COATING ELECTRUMUMINESCENT FLUORESCENDING PARTICLES
JP2000026139A (en) Coating method with insulating film and glass substrate for image display using same
KR950005810B1 (en) Crt manufacturing method
KR20010061304A (en) A method for preparation of transparent conductive thin-film by Rapid Thermal Annealing Method and a transparent conductive thin-film prepared by the method
DE3736917C2 (en) Apparatus for microwave plasma-assisted deposition of semiconductor layers from the gas phase
DE19951207A1 (en) Semiconductor device
JP4075647B2 (en) Method for manufacturing protective film for FPD
CN101183152A (en) Shielding method of optical measurement system
CN101887831B (en) Plasma display panel and method for producing the same
KR100216485B1 (en) Baking method of surface tinfilm for crt
GB1585605A (en) Method of sealing a mount assembly in the neck of a cathode-ray tube
KR100710333B1 (en) Burning apparatus for plasma display panel and manufacturing method of plasma display panel using the same
KR20000040522A (en) Heating and drying method for emulsion layer of brawn tube
KR860000845Y1 (en) Door screen for a electric range
Lu et al. Enhanced bulk oxygen outdiffusion from LiNbO 3 induced by preferential sputtering of oxygen at elevated temperatures
EP0475763B1 (en) Glass front-panel for a cathode ray tube and production method of the same

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20070427

Year of fee payment: 13

LAPS Lapse due to unpaid annual fee