KR930008344B1 - Plating baths controlling device - Google Patents

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KR930008344B1
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다다시 후꾸다
신지 마쓰오까
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가부시끼가이샤 산신세이사꾸쇼
야기시따 아이사부로오
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating

Abstract

내용 없음.No content.

Description

도금욕 관리장치Plating bath management device

제 1 도는 본 발명의 도금욕 관리장치의 구성을 표시한 공정도.1 is a process chart showing the configuration of the plating bath management apparatus of the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

1 : 도금조 2a, 2b, 2c : 세정조1: plating bath 2a, 2b, 2c: cleaning bath

3c, 3d : 탈이온장치 3f : 여과장치3c, 3d: deionizer 3f: filter

4 : 증발농축기 4a : 충전재4: evaporator 4a: filler

4b : 액분배기 4c : 데미스터(demister)4b: liquid distributor 4c: demister

4d : 데미스터세정노즐 4e : 배기팬4d: Demister cleaning nozzle 4e: Exhaust fan

4f : 배기덕트 4g : 세정노즐4f: exhaust duct 4g: cleaning nozzle

4h : 세정실 4i : 데미스터4h: cleaning chamber 4i: demister

5b : 가열기 6c : 타이어5b: heater 6c: tire

6d : 밸브6d: valve

본 발명은 도금장치에 관한 것이며, 특히 크로즈드화된 도금장치에 관한 것이다.The present invention relates to a plating apparatus, and more particularly to a closed plating apparatus.

도금제품을 제조하는데 있어서 도금조로부터 꺼낸 도금제품을 순차적으로 이송하면서 침지세정하기 위한 복수의 세정조를 설치하고, 최종단계의 세정조에 청정한 세정액을 공급함과 동시에 최종단(段)의 세정조로 부터 순차적으로 전단(前段)의 세정조를 거쳐 도금조로 세정액을 이송함으로써 세정액중의 도금용 약품을 회수하여 도금용 약품의 주변환경(enviroment)을 오염시키는 것을 방지하는 방법은 공지이다.In manufacturing plated products, a plurality of cleaning tanks for immersion and washing are installed while sequentially transferring the plating products taken out of the plating tank, and a clean cleaning solution is supplied to the cleaning tank at the final stage, and the cleaning tank at the final stage is sequentially Therefore, a method of recovering the plating chemical in the cleaning liquid by transferring the cleaning liquid to the plating tank via the front cleaning tank is prevented from contaminating the environment of the plating chemical.

또 도금을 계속해서 실시하면 도금욕이 열화되기 때문에 생성된 흙탕형상 현탁물을 여과등에 의해 제거하던가 소모된 도금용약품을 보충하던가 하여 도금욕의 성분을 조정하여 도금욕을 재생시켜 사용하는 방법도 공지이다.In addition, if the plating is carried out continuously, the plating bath deteriorates. Thus, the generated mud suspension may be removed by filtration or the like may be replenished, and the plating bath may be regenerated to adjust the components of the plating bath. It is known.

또한 농도가 저하된 도금욕을 공기와 접촉시켜서 증발농축하고, 또한 잉여로된 욕성분을 전해 제거함과 동시에 부족하게된 욕성분을 보충하는 방법도 공지되어 있다(특공소 57-27959).In addition, a method is known in which a plating bath having a reduced concentration is brought into contact with air to evaporate and concentrate, and further, by electrolytically removing excess bath components and replenishing the insufficient bath components (Public Works 57-27959).

이와같은 종래개술을 이용하여 도금공정을 크로즈드화함에 있어서, 도금제품의 세정액을 회수하는 방법을 채용하면 도금욕이 희석될 뿐만 아니라 액량이 증가하게 되어 도금욕의 농축이 필요하게 된다.In closing the plating process using such a conventional technique, if the method of recovering the cleaning liquid of the plated product is adopted, not only the plating bath is diluted but also the liquid amount is increased, and the plating bath needs to be concentrated.

이와같은 도금욕의 농축을 접촉효율이 좋은 기액향류식의 증발농축기를 사용하여 실시하려고하면 배출기 체중으로의 미스트(mist)의 동반이 일어나서 도금용 약품이 주변환경으로 빠져나오는 사태가 생긴다.When the concentration of the plating bath is performed using a gas-liquid countercurrent evaporative concentrator having good contact efficiency, there is a situation in which a mist for the body weight of the ejector is accompanied, causing the plating chemical to escape into the surrounding environment.

그래서 이러한 미스트의 동반을 억제하기 위해 충전밀도가 높은 데미스트를 증발 농축기의 배출기체 출구 부근에 설치하여 미스트를 포착하려고 하면 미스트중의 도금용약품이 석출해서 고화하여 데미스터가 막힌다고 하는 창해가 일어나기 때문에, 빈번하게 데미스터의 청소를 행하지 않으면 안되므로 도금욕 관리의 작업 효율을 저하시킨다고 하는 문제가 있었다.Therefore, in order to suppress the accompanying mist, if a high-density dam is installed near the outlet gas outlet of the evaporator, the mist is trapped and the plating chemical in the mist precipitates and solidifies to block the mist. In order to prevent this from happening, the demister needs to be cleaned frequently, resulting in a reduction in the work efficiency of plating bath management.

그래서 본 발명은 이와같은 결점이 없고 장기간에 걸쳐서 연속하여 도금욕 관리를 하기 위한 증발 농축운전을 행할 수 있는 개량된 도금욕관리장치를 제공하려고 하는 것이다.Therefore, the present invention seeks to provide an improved plating bath management apparatus capable of carrying out the evaporative concentration operation for continuously managing the plating bath over a long period of time without such drawbacks.

상술한 바와같이 본 발명의 목적은 도금용 도금조와, 도금제품을 순차적으로 이송하면서 침지시켜 세정하기 위한 복수의 세정조와, 최종단의 세정조에 청정한 세정액을 공급하는 수단과, 이 최종단의 세정조로부터 세정액을 순차적으로 전단의 세정조를 경유하여 이 도금조로 이송하는 수단과, 기액향류식의 증발농축기와, 이 도금조로부터 도금욕을 이 증발농축기로 이송하는 수단과, 이 증발농축기로 부터 농축된 도금욕을 이 도금조로 이송하는 수단을 구비한 도금장치에 있어서, 이 증발농축기에는 배출기체중의 미세한 방울(fine droplet)을 포착하기 위한 복수단의 데미스터를 설치함과 동시에 상기의 세정조의 중간단의 조로부터의 세정액을 전단의 데미스터로 간혈적으로 공급하는 수단과 후단의 데미스터의 앞으로 연속적으로 공급하고 또한 이 중간단의 조로 회수하는 수단을 설치하여, 도금용 약품이 주변환경으로 빠져 나오는 것을 방지하도록 한 것을 특징으로 하는 도금욕 관리 장치에 의해 달성된다.As described above, an object of the present invention is to provide a plating bath for plating, a plurality of cleaning baths for immersing and cleaning a plated product sequentially, a means for supplying a clean cleaning liquid to the cleaning tank at the final stage, and the cleaning tank at this final stage. Means for sequentially conveying the washing liquid from the plating tank via the washing tank at the front end, a gas-liquid countercurrent evaporator, a means for transferring the plating bath from the plating tank to the evaporator, and concentrated from the evaporator. A plating apparatus comprising a means for transferring a plated bath to the plating bath, wherein the evaporative concentrator is provided with a plurality of stages of demisters for capturing fine droplets in the exhaust gas and at the same time in the middle of the cleaning bath. Means for intermittently supplying the cleaning liquid from the tank of the stage to the front-end demister, and continuously supplied to the front side of the demister. A means for collecting the intermediate stage is provided, and the plating bath management device is characterized in that the plating chemical is prevented from escaping into the surrounding environment.

본 발명의 도금욕 관리장치에 있어서는 복수의 세정조에서 순차적으로 침지세정되면서 이송되는 도금제품의 흐름과 역방향으로 최종단의 세정조로 부터 순차적으로 전단의 세정조를 경유하여 이 도금조로 세정액을 이송함으로써 도금제품과 함께 도금조에서 빠져나온 도금용약품을 도금조로 회수한다.In the plating bath management apparatus of the present invention, the cleaning solution is transferred to the plating bath via the cleaning tank at the front end sequentially from the cleaning tank at the final stage in the reverse direction to the flow of the plating product transferred while being immersed and washed in the plurality of cleaning tanks sequentially. The plating chemicals that have come out of the plating bath together with the plated product are recovered to the plating bath.

또, 도금욕을 농축하기 위해 증발농축기에 복수단의 데미스터가 설치되어 있으나 상기의 세정조의 중간단의 조로부터 세정액 즉 현저하게 더럽지 않은 세정액을 후단의 데미스터의 앞으로 연속적으로 공급하여 배출기체를 세정한 후 원래의 조로 회수하기 때문에 후단의 데미스터를 통과하여 도금용 약품이 주변환경으로 빠져나오는 일이 없다.In order to concentrate the plating bath, the evaporative concentrator is provided with a plurality of stage demisters, but the cleaning liquid, that is, the cleaning liquid that is not significantly dirty, is continuously supplied from the tank of the middle stage of the cleaning tank to the rear stage of the demister. After washing, it is recovered in the original tank, so that the plating chemicals do not escape to the surrounding environment through the rear demister.

또한, 상기와 같은 세정액을 간헐적으로 전단의 데미스터에 공급하여 세정하고 데미스터에 포착된 도금용 약품을 증발농축기를 경유하여 도금조로 회수하기 때문에 증발 농축기의 운전을 저해하지 않고 데미스터의 막힘을 예방할 수 있다.In addition, the cleaning solution as described above is intermittently supplied to the demister of the front end, and the plating chemical captured by the demister is recovered to the plating tank via the evaporator. Therefore, the blockage of the demister is prevented without inhibiting the operation of the evaporator. It can be prevented.

[실시예]EXAMPLE

본 발명의 도금용 관리장치를 제 1 도에 의하여 설명한다. 1은 도금조이고, 예를들면 경질크롬도금욕등이 수용되어 있다. 또 2a, 2b, 2c는 각각 세정조로서 도금조(1)로부터 꺼내어진 도금제품은 최전단의 세정조(2a)의 세정액에 침지되어서 도금욕의 세정,제거가 행하여 진다. 그후 도금제품은 차단의 세정조(2b)에 이송되어 다시 같은 방법으로 세정이 되어 순차로 최종단의 세정조(2c)에 이르러서 마무리 세정이 행하여 진다. 최종단의 세정조(2c)에는 청정한 세정수가 관통로(pipeline) (3a)로부터 공급이 되도록 되어있고, 이 청정한 세정수는 계외로 부터의 버진워터(virgin water)인데, 공공의 공업용수 또는 수도물이 그대로 사용되며, 또 예를들면 펌프(3b)에 의하여 이온 교환수지를 수용한 탈이온장치(3c, 3d)로 세정액을 순환시켜 청정화하도록 되어 있다.The plating management apparatus of this invention is demonstrated by FIG. 1 is a plating bath, for example, a hard chrome plating bath is accommodated. In addition, 2a, 2b, and 2c are washing tanks, respectively, and the plated product taken out from the plating tank 1 is immersed in the cleaning liquid of the cleaning tank 2a at the foremost stage, and the plating bath is cleaned and removed. After that, the plated product is transferred to the blocking washing tank 2b and washed again in the same manner, and the final washing is carried out to the washing tank 2c at the final stage. In the final stage washing tank 2c, clean washing water is supplied from a pipeline 3a. The clean washing water is virgin water from outside the system, which is public industrial water or tap water. This is used as it is, and for example, the cleaning liquid is circulated through the deionizers 3c and 3d in which the ion exchange resin is accommodated by the pump 3b to purify it.

이 청정한 세정수는 전단의 세정조(2b)에 수위차를 이용하여 이송되고, 순차적으로 동일하게 최전단의 세정조(2a)에 이송되거나, 이 사이에 도금제품의 세정에 순차적으로 사용되므로 최전단의 세정조(2a)내의 세정액에는 도금조(1)로부터 반출된 도금용 약품이 축적되어 있다.The clean washing water is transferred to the washing tank 2b at the front end by using the water level difference, and is sequentially transferred to the washing tank 2a at the foremost stage in the same order, or used sequentially to wash the plated product therebetween. The plating chemicals carried out from the plating tank 1 are accumulated in the cleaning liquid in the cleaning tank 2a at the front end.

이와같은 세정조(2a)내의 세정액은 펌프(3e)에 의하여 예컨대 여과장치(3f)를 경유하여 도금조(1)로 이송된다.The cleaning liquid in the cleaning tank 2a is transferred to the plating tank 1 by the pump 3e, for example, via the filtering device 3f.

또한 3g는 도금조(1)의 도금 욕수준을 검지하여 펌프(3e)의 운전을 제어하기 위한 콘트롤러이다.3g is a controller for detecting the plating bath level of the plating tank 1 to control the operation of the pump 3e.

4는 증발농축기이고, 예를들면 내부에 기액접촉용의 충전재(4a) 등이 수용되어있고, 액분배기(4b), 데미스터(4c), 데미스터 세정노즐(4d), 배기팬(4e)이 설치되어 있다.4 is an evaporation concentrator, for example, the gaseous-contact filler 4a etc. are accommodated inside, and the liquid distributor 4b, the demister 4c, the demister cleaning nozzle 4d, and the exhaust fan 4e are contained, for example. Is installed.

또 배기덕트(4f)의 중간에는 내부에 세정노즐(4g)를 설치한 세정실(4h)이 형성되어 있으며, 세정실(4h)의 후방에 데미스터(4i)가 설치되어 있다. 그리고 도금조(1)내의 도금욕은 펌프(5a)에 의하여 가열기(5b)를 경유하여 액분배기(4b)에 이송되어 충전재(4a)를 통하여 공기와 접촉하여 증발농축된 후 도금조(1)에 복귀하도록 되어 있다.In the middle of the exhaust duct 4f, a cleaning chamber 4h in which a cleaning nozzle 4g is provided is formed, and a demister 4i is provided behind the cleaning chamber 4h. The plating bath in the plating bath 1 is transferred to the liquid distributor 4b via the heater 5b by the pump 5a, and is then evaporated and concentrated in contact with air through the filling material 4a. It is supposed to return to.

중간단의 세정조(2b)내의 세정액은 펌프(6a)에 의하여 연속적으로 세정노즐(4g)에 이송되어, 세정실(4h)내에서 배기와 접촉한 후, 세정실(4h)의 바닥부로부터 관통로(6b)를 거쳐서 세정조(2b)에 복귀되도록 되어 있다. 또 펌프(6a)로부터 이송되는 세정액의 일부는 타이머(6c)에 의하여 제어되어서 간헐적으로 작동하는 밸브(6d)를 거쳐서 데미스터 세정노즐(4d)에 분배되어, 데미스터(4c)를 세정한 후 도금욕과 합류하여 도금조(1)에 들어가도록 되어 있다.The cleaning liquid in the washing tank 2b at the intermediate stage is continuously transferred to the cleaning nozzle 4g by the pump 6a, and in contact with the exhaust gas in the cleaning chamber 4h, and then from the bottom of the cleaning chamber 4h. It is made to return to the washing tank 2b via the penetration path 6b. A part of the cleaning liquid transferred from the pump 6a is distributed to the demister cleaning nozzle 4d via the valve 6d which is controlled by the timer 6c and operates intermittently to clean the demister 4c. Joined with the plating bath is to enter the plating bath (1).

이와같이 구성된 본 발명의 도금을 관리장치에서는 비교적 도금용 약품의 축적이 적은 세정액에 의하여 전단의 데미스터(4c)를 간헐적으로 세정하도록 하였으므로, 데미스터의 막힘이 일어나지 않고 도금욕을 과도하게 묽게하지 않으면서 효율이 좋게 도금욕의 증발농축을 할 수 있다. 또 전단의 데미스터(4c)에서 포착되지 못한 미스트는 세정실(4h)내에서 연속적으로 세정된후에 후단의 데미스터(4i)에서 완전하게 포착이 된다.In the plating apparatus of the present invention configured as described above, the demister 4c at the front end is intermittently cleaned by a cleaning liquid with relatively little accumulation of chemicals for plating, so that the demister is not clogged and the plating bath is not excessively diluted. Therefore, the plating bath can be evaporated and concentrated efficiently. In addition, the mist which cannot be trapped by the demister 4c at the front end is completely trapped by the demister 4i at the rear end after being continuously washed in the cleaning chamber 4h.

본 발명의 도금욕 관리장치는 도금조로부터 꺼내어진 도금제품을 순차적으로 세정함으로써 도금약품을 회수하여 도금조에 복귀시키는 동시에 도금욕의 농도의 저하를 기액향류식의 증발농축기에 의하여 방지하고 있는 것으로, 증발농축기로부터의 미스트에 동반하는 도금약품의 회수를, 상기의 도금제품의 세정액중의 도금약품의 축적도가 비교적으로 적은것으로 의한 세정으로 행하므로 증발농축기의 운전이 효율적이고, 크로즈드 시스템의 유지가 용이한 이점이 있다.Plating bath management apparatus of the present invention by sequentially cleaning the plating product taken out of the plating bath to recover the plating chemicals and return to the plating bath, and prevents the concentration of the plating bath is reduced by the gas-liquid countercurrent evaporator, The recovery of the plating chemical accompanying the mist from the evaporator is performed by the relatively small accumulation of the plating chemical in the cleaning liquid of the plating product, so that the operation of the evaporator is efficient and the closed system is maintained. There is an easy advantage.

Claims (1)

도금조와, 도금제품을 순차적으로 이송하면서 침지시켜 세정하기 위한 복수의 세정조와, 최종단의 세정조에 청정한 세정액을 공급하는 수단과, 이 최종단의 세정조로 부터 세정액을 순차적으로 전단의 세정조를 경유하여 이 도금조로 이송하는 수단과, 기액향류식의 증발농축기와, 이 도금조로 부터 도금욕을 이 증발농축기로 이송하는 수단과, 이 증발농축기로 부터 농축된 도금욕을 이 도금조로 이송하는 수단을 구비한 도금장치에 있어서, 이 증발농축기에는 배출기체중의 미세한 방울을 포착하기 위한 복수의 데미스터를 설치함과 동시에 상기의 세정조의 중간단의 조로부터의 세정액을 전단의 데미스터로 간헐적으로 공급하는 수단과, 후단의 데미스터의 앞으로 연속적으로 공급하고 또한 이 중간단의 조로 회수하는 수단을 설치하여, 도금용약품이 주변환경으로 빠져나오는 것을 방지하도록 한 것을 특징으로 하는 도금욕 관리 장치.A plating tank, a plurality of cleaning tanks for immersing and cleaning the plated product in succession, means for supplying a clean cleaning liquid to the cleaning tank at the final stage, and the cleaning solution from the cleaning tank at the final stage, sequentially through the cleaning tank at the front end. Means for transferring the plating bath to the plating bath, a gas-liquid countercurrent evaporator, a means for transferring the plating bath from the plating bath to the evaporator, and a means for transferring the plating bath concentrated from the evaporator to the plating bath. In the plating apparatus provided, the evaporative concentrator is provided with a plurality of demisters for capturing fine droplets in the exhaust gas and intermittently supplying the cleaning liquid from the tank at the intermediate stage of the cleaning tank to the shear demister. Means and a means for continuously supplying the demister at the rear stage and collecting the tank at the intermediate stage. The plating bath management apparatus, characterized in that to prevent the escaping into the surrounding environment.
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