KR910020930A - 반도체 소자의 구동 방법 및 구동장치 - Google Patents

반도체 소자의 구동 방법 및 구동장치 Download PDF

Info

Publication number
KR910020930A
KR910020930A KR1019910007840A KR910007840A KR910020930A KR 910020930 A KR910020930 A KR 910020930A KR 1019910007840 A KR1019910007840 A KR 1019910007840A KR 910007840 A KR910007840 A KR 910007840A KR 910020930 A KR910020930 A KR 910020930A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
base layer
base
emitter layer
electrode
Prior art date
Application number
KR1019910007840A
Other languages
English (en)
Inventor
가쯔요시 마세
Original Assignee
아오이 죠이찌
가부시끼가이샤 도시바
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 아오이 죠이찌, 가부시끼가이샤 도시바 filed Critical 아오이 죠이찌
Publication of KR910020930A publication Critical patent/KR910020930A/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/68Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/70Bipolar devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/68Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/70Bipolar devices
    • H01L29/74Thyristor-type devices, e.g. having four-zone regenerative action
    • H01L29/749Thyristor-type devices, e.g. having four-zone regenerative action with turn-on by field effect
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/68Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/70Bipolar devices
    • H01L29/74Thyristor-type devices, e.g. having four-zone regenerative action
    • H01L29/744Gate-turn-off devices
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/04Modifications for accelerating switching
    • H03K17/0406Modifications for accelerating switching in composite switches
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/51Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
    • H03K17/56Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices
    • H03K17/567Circuits characterised by the use of more than one type of semiconductor device, e.g. BIMOS, composite devices such as IGBT

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Electronic Switches (AREA)
  • Thyristors (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

반도체 소자의 구동 방법 및 구동장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명의 MAGT의 제1실시예로 구동 방법을 포함한 동작의 타이밍 챠트.

Claims (3)

  1. 적어도 사이리스터와, 이 사이리스터의 베이스에 채널 영역을 갖는 FET를 구조적으로 복합하여, 사이리스터 동작 및 FET 동작 모두를 행하는 반도체 소자의 구동 방법에 있어서, 상기 반도체 소자를 턴 오프 시킬때, 상기 사이리스터 동작을 정지시키고 그후 상기 FET 동작을 정지시키는 것을 특징으로하는 반도체 소자의 구동 방법.
  2. 반도체 기판(10)의 한쪽 면으로 노출하는 제1도전형의 제1에미터층(12)와, 상기 제1에미터층에 접하고, 상기 기판의 다른쪽 면으로 일부를 노출하는 제2도전형의 제1베이층(14)와, 상기 제1베이스층내에 형성되고 상기 다른쪽 면으로 노출하는 제1도전형의 제2베이스층(16)과, 상기 제2베이스층내에 형성되고 상기 다른쪽 면으로 노출하는 제2도전형의 제2베이스층(18)을 갖고 있고, 상기 제1에미터층 및 제2에미터층에 각각 형성된 제1주전극(32) 및 제2주전극(28)과, 상기 제1베이스층 및 제2에미터층을 각각 드레인/소스로 하여 상기 제2베이스층의 다른쪽 면 영역의 일부를 채널 영역(22)으로 하여 이 채널 영역상에 게이트 절연막(24)을 끼워 게이트 전극(26)을 형성시켜 MOS트랜지스터를 구성하고, 상기 제2베이스층에 직접 접속하는 베이스 전극(30)이 형성되어 GTO사이리스터가 형성된 반도체 소자의 구동 방법에 있어서, 상기 제2베이스층에 소정 전위를 인가하여 상기 GTO사이리스터를 동작시키고, 상기 게이트 전극에 소정 전위가 인가되어 상기 MOS트랜지스터를 동작시키며, 상기 반도체 소자는 GTO 사이리스터 및 MOS 트랜지스터 쌍방의 동작을 행하는 도통 상태이고, 상기 반도체 소자를 턴오프 시킬때, 상기 베이스 전극에 소정 전위를 인가해서 상기 제2에미터층과 제2베이스층을 역바이어스로 하여 GTO사이리스터 동작을 정지시키고, 그후, 상기 게이트 전극에 인가되고 있는 소정 전위를 변동시켜 상기 MOS트랜지스터 동작을 정지시키는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 구동 방법.
  3. 반도체 기판(10)의 한쪽 면으로 노출하는 제1도전형의 제1에미터층(12)와, 상기 제1에미터층에 접하고, 상기 기판의 다른쪽면으로 일부를 노출하는 제2도전형의 제1베이층(14)와, 상기 제1베이스층내에 형성되어 상기 다른쪽 면으로 노출하는 제1도전형의 제2베이스층(16)과, 상기 제2베이스층내에 형성되어 상기 다른쪽 면으로 노출하는 제2도전형의 제2베이스층(18)을 갖고 있고, 상기 제1에미터층 및 제2에미터층에 각각 형성된 제1의 주전극(32) 및 제2의 주전극(28)과, 상기 제1베이스층 및 제2에미터층을 각각 드레인/소스로 하여 상기 제2베이스층의 다른쪽 면 영역의 일부를 채널 영역(22)으로 하고 그 채널 영역상에 게이트 절연막(24)을 끼워 게이트 전극(26)을 형성시킴으로써 MOS트랜지스터를 구성되고, 상기 제2베이스층에 직접 접속하는 베이스 전극(30)이 형성되어 GTO 사이리스터가 구성된 반도체 소자의 구동 장치에 있어서, 제1제어 신호를 받아서 상기 베이스전극에 소정 전위를 인가해서 제2에미터층과 제2베이스층을 역바이어스로 해서 상기 GTO 사이리스터 동작을 정지시키는 제1정지수단과, 그후 제2제어 신호를 받아서 상기 게이트 전극으로 인가되고 있는 소정 전위를 변동시켜 상기 MOS트랜지스터 동작을 정지시키는 제2정지수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 구동 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019910007840A 1990-05-16 1991-05-15 반도체 소자의 구동 방법 및 구동장치 KR910020930A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP02-124191 1990-05-16
JP2124191A JPH0421211A (ja) 1990-05-16 1990-05-16 半導体素子の駆動方法およびその駆動装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR910020930A true KR910020930A (ko) 1991-12-20

Family

ID=14879241

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019910007840A KR910020930A (ko) 1990-05-16 1991-05-15 반도체 소자의 구동 방법 및 구동장치

Country Status (3)

Country Link
EP (1) EP0463325A3 (ko)
JP (1) JPH0421211A (ko)
KR (1) KR910020930A (ko)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5561393A (en) * 1992-02-03 1996-10-01 Fuji Electric Co., Ltd. Control device of semiconductor power device
JP3070360B2 (ja) * 1993-10-28 2000-07-31 富士電機株式会社 ダブルゲ−ト型半導体装置の制御装置
US5459339A (en) * 1992-02-03 1995-10-17 Fuji Electric Co., Ltd. Double gate semiconductor device and control device thereof
EP0848497B1 (en) * 1992-05-01 2002-10-23 Fuji Electric Co., Ltd. Control device for double gate semiconductor device
GB9525363D0 (en) * 1995-12-12 1996-02-14 Lynxvale Ltd Semiconductor device

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SE392783B (sv) * 1975-06-19 1977-04-18 Asea Ab Halvledaranordning innefattande en tyristor och en felteffekttransistordel
EP0367301A3 (en) * 1984-06-22 1990-05-16 Hitachi, Ltd. Semiconductor switch circuit
GB2164790A (en) * 1984-09-19 1986-03-26 Philips Electronic Associated Merged bipolar and field effect transistors

Also Published As

Publication number Publication date
EP0463325A3 (en) 1992-03-04
JPH0421211A (ja) 1992-01-24
EP0463325A2 (en) 1992-01-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR910017676A (ko) 박막트랜지스터
KR870005464A (ko) 반도체장치
TW373318B (en) Semiconductor device and the manufacturing method thereof
KR840001392A (ko) 절연 게이트형 전계효과 트랜지스터(Insulated gate field effect transistor)
KR960015962A (ko) 박막트랜지스터
KR910017655A (ko) 반도체장치
KR930001438A (ko) 정적 반도체 메모리 장치
KR910002007A (ko) 금속-반도체 전계효과 트랜지스터(mesfet) 장치
KR900007114A (ko) 전력용 반도체장치
EP0382165A3 (en) High-voltage semiconductor device having silicon-on-insulator structure with reduced on-resistance
KR830006822A (ko) 반도체집적회로장치
KR960032771A (ko) 접합 전계 효과 트랜지스터를 갖는 반도체 장치
KR910020930A (ko) 반도체 소자의 구동 방법 및 구동장치
KR870000764A (ko) 누설 전류개선형 mis fet 반도체장치
ATE127618T1 (de) Halbleiteranordnung mit verbessertem transistor vom isolierten gatetyp.
KR910020740A (ko) 반도체기억장치
KR900019244A (ko) 반도체기억장치
KR930005353A (ko) 전력스위칭용모스트랜지스터
KR920008964A (ko) 전송 전하 증폭 장치
KR930022601A (ko) 반도체 장치의 제조방법
KR930024173A (ko) 박막트랜지스터 및 박막트랜지스터를 사용한 에스램(sram)
KR920022506A (ko) 정전기 파괴에 대한 높은 내성을 갖는 출력 버퍼
KR930001502A (ko) 박막 트랜지스터와 이것을 제조하기위한 방법
KR960019769A (ko) 박막트랜지스터 및 그 제조방법
KR920015367A (ko) 반도체 메모리장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application