KR900701944A - 투명도전성 세라믹 피막을 형성하기 위한 도포액, 투명도전성 세라믹 피막을 부착한 기재 및 이것의 제조방법, 및 투명도전성 세라믹 피막을 부착한 기재를 사용하는 방법 - Google Patents

투명도전성 세라믹 피막을 형성하기 위한 도포액, 투명도전성 세라믹 피막을 부착한 기재 및 이것의 제조방법, 및 투명도전성 세라믹 피막을 부착한 기재를 사용하는 방법

Info

Publication number
KR900701944A
KR900701944A KR1019900700854A KR900700854A KR900701944A KR 900701944 A KR900701944 A KR 900701944A KR 1019900700854 A KR1019900700854 A KR 1019900700854A KR 900700854 A KR900700854 A KR 900700854A KR 900701944 A KR900701944 A KR 900701944A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
transparent conductive
conductive ceramic
coating liquid
ceramic film
substrate
Prior art date
Application number
KR1019900700854A
Other languages
English (en)
Other versions
KR950013731B1 (ko
Inventor
히라이 토시하루
아베 요네지
코마츄 미치오
Original Assignee
쓰나시마 켄끼치
쇼쿠바이 가세이 고교 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 쓰나시마 켄끼치, 쇼쿠바이 가세이 고교 가부시끼가이샤 filed Critical 쓰나시마 켄끼치
Publication of KR900701944A publication Critical patent/KR900701944A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR950013731B1 publication Critical patent/KR950013731B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/24—Electrically-conducting paints
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23—Oxides
    • C03C17/25—Oxides by deposition from the liquid phase
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
    • C23C18/1204—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
    • C23C18/1208—Oxides, e.g. ceramics
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
    • C23C18/1229—Composition of the substrate
    • C23C18/1245—Inorganic substrates other than metallic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/14—Decomposition by irradiation, e.g. photolysis, particle radiation or by mixed irradiation sources
    • C23C18/143—Radiation by light, e.g. photolysis or pyrolysis
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21—Oxides
    • C03C2217/23—Mixtures
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Manufacturing Of Electric Cables (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

투명도전성 세라믹 피막을 형성하기 위한 도포액, 투명도전성 세라믹 피막을 부착한 기재 및 이것의 제조방법, 및 투명도전성 세라믹 피막을 부착한 기재의 사용하는 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 자동원고 공급장치를 구비한 복사기의 사시도이다. 제2도는 기재의 해상력을 측정하는데에 사용된 바아 챠트(bar chart)의 설명도이다. 제3도는 기재의 해상력을 측정하는데에 사용된 장치의 설명도이다.

Claims (21)

  1. 아세틸아세톤에이트 킬레이트 화합물과 도전성 물질이 물과 유기용매의 혼합용매중에 균일하게 용해 또는 분산되어 있는 것을 특징으로 하는, 투명도전성 세라믹 피막형성용 도포액.
  2. 아세틸아세톤에이트 킬레이트 화합물(디알콕시비스아세틸 아세톤에에이토지르코늄은 제외함), 실리콘 화합물 및 도전성 물질이 물과 유기용매의 혼합용매중에 균일하게 용해 또는 분산되어 있는 것을 특징으로 하는, 투명도전성 세라믹 피막형성용 도포액.
  3. 아세틸아세톤에이트 킬레이트 화합물, 실리콘 이외의 금속의 알콕사이드, 및 도전성 물질이 물과 유기용매의 혼합용매중에 균일하게 분산 또는 용해되어 있는 것을 특징으로 하는, 투명도전성 세라믹 피막 형성용 도포액.
  4. 아세틸아세톤에이트 킬레이트 화합물, 실리콘 화합물, 실리콘 이외의 금속의 알콕사이드, 및 도전성 물질이 물과 유기용매의 혼합용매내에 균일하게 용해 또는 분산되어 있는 것을 특징으로 하는, 투명도전성 세라믹 피막형성용 도포액.
  5. 제1 내지 4항중 어느 한 항에 있어서, 아세틸아세톤에이트 킬레이트 화합물이 하기 일반식(Ⅰ)게 표시된 화합물 및/ 또는 이것의 축합물들중의 최소한 한가지의 화합물임을 특징으로 하는, 투명도전성 세라믹 피막형성용 도포액:
    상기식에서, a+b는 2 내지 4이고, a는 0 내지 3이고, b는 1 내지 4이고, R은 CnH2n+1-(n=3 또는 4)이고, X는 CH3-, CH3O-, C2H5- 또는 C2H5O-이고, M은 제ⅠB족, 제ⅡA, B족, 제ⅢA, B족, 제ⅣA, B족, 제ⅤA, B족, 제ⅥA, 제ⅦA족, 및 제Ⅷ족에서 선택된 원소 또는 바나딜(VO)이다.
  6. 제2 또는 4항에 있어서, 실리콘 화합물이 하기 일반식(Ⅱ)로 표시된 화합물 및/ 또는 이것의 축합물중 최소한 한가지의 화합물임을 특징으로 하는, 투명도전성 세라믹 피막형성용 도포액:
    Ra-Si(OR´)4-a(Ⅱ)
    상기식에서, R은 CnH2n+1-(n은 1 내지 4임), 수소원자 또는 할로겐원자이고, R´은 CnH2n+1-(n은 1 내지 4임), 수소원자 또는 CnH2n+1, OC2H4-(n은 1 내지 4임)이고a는 0 내지 3이다.
  7. 제3 또는 4항에 있어서, 실리콘 이외의 금속의 알콕사이드가 하기 일반식(Ⅲ)으로 표시된 화합물 또는 축합물들중 최소한 한가지의 화합물인 것을 특징으로 하는 투명도전성 세라믹 피막형성용 도포액:
    M2(OR)n(Ⅲ)
    상기식에서, n은 M의 원자가와 같은 정수이고, R은 알킬 또는 CnH2n+1-O(n은 3 내지 10임)이고, M2는 실리콘 이외의 금속이다.
  8. 제1 내지 7항중 어느 한 항에 있어서, 도전성 물질은 산화 주석, 안티몬, 불소 또는 인으로 도우핑된 산화주석:산화인듐: 또는 주석 또는 불소로서 도우핑된 산화인듐인 것을 특징으로 하는, 투명 도전성 피막형성용 도포액.
  9. 기재와, 이 기재위에 제1 내지 8항중 어느 한 항의 도포액으로 형성한 투명도전성 세라믹 피막으로 이루어져 있으며, 표면 저항이 103내지 1011Ω/이고, 전체 광선 투과율이 최소한 85% 이고 헤이즈가 10%이하인 것을 특징으로 하는, 투명도전성 세라믹 피막을 부착한 기재.
  10. 기재와, 이 기재위에서 제1 내지 8항중 어느 한 항의 도포액으로 형성한 투명도전성 세라믹 피막으로 이루어져 있으며, 표면 저항이 103내지 1011Ω/이고 광택도가 30 내지 100% 인 것을 특징으로 하는, 투명도전성 세라믹 피막을 부착한 기재.
  11. 기재와, 이 기재위에서 제1 내지 8항중 어느 한 항의 도포액으로 형성한 투명도전성 세라믹 피막과, 이 피막위에서 투명보호막 형성용 도포액으로 형성한 투명보호막으로 이루어져 있으며, 표면저항이 103내지 1011Ω/이고, 전체 광선투과율이 85% 이상이고, 헤이즈가 10% 이하인 것을 특징으로 하는, 투명도전성 세라믹 피막을 부착한 부재.
  12. 기재와, 이 기재위에서 제1 내지 8항중 어느 한 항의 도포액으로 형성한 투명도전성 세라믹 피막과, 이 피막위에서 투명 보호막형성용 도포액으로 형성한 투명보호막으로 이루어져 있으며, 표면 저항이 10 내지 10Ω/이고 광택도가 30 내지 100% 인 것을 특징으로 하는, 투명도전성 세라믹 피막을 부착한 부재.
  13. 예열에 의해 40 내지 90℃의 온도에서 유지된 기재를 제1 내지 8항중 어느 한 항의 도포액으로 도포한후, 건조 및/ 또는 하는 것을 특징으로 하는, 투명도전성 세라믹 피막을 부착한 기재의 제조방법.
  14. 제1 내지 8항중 어느 한 항의 도포액을 사용하여 투명 도전성 세라믹 피막을 부착한 기재를 제조하는 방법에 있어서, (Ⅰ)도포액으로 기재를 도포하는 단계, (2)도포한 기재를 건조하는 단계 및 (3) 건조한 피막을 가열하는 단계들중의 최소한 한 단계 동안에 및/ 또는 단계후에 가시광선에 비해 짧은 파장을 갖는 전자파를 상기를 피막에 조사하는 것을 특징으로 하는, 투명도전성 세라믹 피막을 부착한 기재의 제조방법.
  15. 기재위에서 제1 내지 8항중 어느 한 항의 도포액으로 형성한 투명도전성 세라믹 피막을 형성하고, 기재의 최소한 도포면을 예열로서 40 내지 90℃로 유지한 후, 기재의 예열면을 투명보호막 형성용 도포액으로 도포하고, 건조 및/ 또는 가열하는 것을 특징으로 하는 투명도전성 세라믹 피막을 부착한 기재의 제조방법.
  16. 제1 내지 8항중 어느 한 항의 도포액으로 기재위에 투명도전성 세라믹 피막을 형성한 후 기재의 도포면위에 투명보호막을 형성하여, 투명도전성 세라믹 피막을 부착한 기재를 제조하는 방법에 있어서, (1) 도포한 기재를 투명보호막 형성용 도포액으로 도포하는 단계, (2) 도포한 투명보호막을 건조하는 단계 및 (3) 건조한 투명 보호막을 가열하는 단계들 중의 최소한 한 단계후에 및/또는 단계 동안에 가시광선에 비해 짧은 파장을 갖는 전자파를 투명보호막에 조사하는 것을 특징으로 하는, 투명도전성 세라믹 피막을 부착한 기재의 제조방법.
  17. 기재와, 이 기재위에서 제1 내지 8항중 어느 한 항의 도포액으로 형성한 투명도전성 세라믹 피막으로 이루어지며 표면저항이 103내지 1011Ω/이고, 전체 광선투과율이 85% 이상 이고, 헤이즈가 10% 이하이고 해상력이 50 bars/cm 이상인 투명도전성 세라믹 피막을 부착한 기재를 전면판으로 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 표시장치.
  18. 기재와, 이 기재위에서 제1 내지 8항중 어느 한 항의 도포액으로 형성한 투명도전성 세라믹 피막으로 이루어지며 표면저항이 103내지 1011Ω/이고, 광택도가 30 내지 100% 이고 해상력이 50bars/cm이상인 투명도전성 세라믹 피막을 부착한 기재를 전면판으로 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 표시장치.
  19. 기재와, 이 기재위에서 제1 내지 8항중 어느 한 항의 도포액으로 형성한 투명도전성 세라믹 피막과 , 이 피막위에서 투명 보호막 형성용 도포액으로 형성한 투명보호막으로 이루어지며, 표면 저항이 103내지 1011Ω/이고, 광택도가 30 내지 100% 이고 해상력이 50bars/cm이상인 투명도전성 세라믹 피막을 부착한 기재를 전면판으로 구비하는 것을 특징으로 하는 표시장치.
  20. 기재와, 이 기재위에서 제1 내지 8항중 어느 한 항의 도포액으로 형성한 투명도전성 세라믹 피막으로 이루어져 있으며, 표면 저항이 103내지 1011Ω/이고, 전체 광선투과율이 85% 이상이고 헤이즈가 10% 이하인 투명도전성 세라믹 피막을 부착한 기재를 천판 유리로서 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 복사기.
  21. 기재와, 이 기재위에서 제1 내지 8항중 어느 한 항의 도포액으로 형성한 투명도전성 세라믹 피막과, 이 피막위에서 투명보호막 형성용 도포액으로 형성한 투명보호막으로 이루어지며, 표면 저항이 103내지 1011Ω/이고, 전체 광선투과율이 85% 이상이고 헤이즈가 10% 이하인 투명도전성 세라믹 피막을 부착한 기재를 천판유리로서 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 복사기.
    ※ 참고사항 : 최초출원내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019900700854A 1988-08-24 1989-08-24 투명도전성 세라믹 피막 형성용 도포액, 투명도전성 세라믹 피막을 부착한 기재 및 이것의 제조방법 및 투명도전성 세라믹 피막을 부착한 기재를 사용하는 방법 KR950013731B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63/210362 1988-08-24
JP21036288 1988-08-24
PCT/JP1989/000866 WO1990002157A1 (en) 1988-08-24 1989-08-24 Coating fluid for forming transparent conductive ceramic coating, base material coated with transparent conductive ceramic and production thereof, and application of base material coated with transparent conductive ceramic

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR900701944A true KR900701944A (ko) 1990-12-05
KR950013731B1 KR950013731B1 (ko) 1995-11-15

Family

ID=16588114

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019900700854A KR950013731B1 (ko) 1988-08-24 1989-08-24 투명도전성 세라믹 피막 형성용 도포액, 투명도전성 세라믹 피막을 부착한 기재 및 이것의 제조방법 및 투명도전성 세라믹 피막을 부착한 기재를 사용하는 방법

Country Status (5)

Country Link
US (2) US5382383A (ko)
EP (1) EP0423337B1 (ko)
KR (1) KR950013731B1 (ko)
DE (1) DE68923000T2 (ko)
WO (1) WO1990002157A1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100755013B1 (ko) * 2002-07-27 2007-09-06 후지필름 이미징 컬러런츠 리미티드 방법, 조성물 및 화합물

Families Citing this family (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5376308A (en) * 1990-11-21 1994-12-27 Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. Coating solution for forming transparent conductive coating and process for preparing same
JP3485918B2 (ja) * 1991-12-26 2004-01-13 アトフィナ・ケミカルズ・インコーポレイテッド ガラス基体の被覆法
US5623059A (en) * 1992-03-09 1997-04-22 Novo Nordisk A/S Method for protection of proteolysis-susceptible protein during protein production in a fluid medium
JP3139918B2 (ja) * 1993-12-28 2001-03-05 株式会社キャディック・テクノロジ−・サ−ビス 耐火物成形品の製造方法および耐火物成形品用バインダ
SG54108A1 (en) * 1994-03-31 1998-11-16 Catalysts & Chem Ind Co Coating solution for formation of coating and use thereof
US5580662A (en) * 1995-03-09 1996-12-03 Chunghwa Picture Tubes, Ltd. Antistatic coating for video display screen
GB2302101B (en) * 1995-06-09 1999-03-10 Glaverbel A glazing panel having solar screening properties
GB2302102B (en) * 1995-06-09 1999-03-10 Glaverbel A glazing panel having solar screening properties and a process for making such a panel
US6231971B1 (en) * 1995-06-09 2001-05-15 Glaverbel Glazing panel having solar screening properties
CA2178032A1 (en) * 1995-06-09 1996-12-10 Robert Terneu Glazing panel having solar screening properties
AU6992796A (en) * 1995-09-15 1997-04-01 Rhodia Chimie Titanium dioxide-based photocatalytic coating substrate, and titanium dioxide-based organic dispersions
US5652477A (en) * 1995-11-08 1997-07-29 Chunghwa Picture Tubes, Ltd. Multilayer antistatic/antireflective coating for display device
US5773150A (en) * 1995-11-17 1998-06-30 Chunghwa Picture Tubes, Ltd. Polymeric antistatic coating for cathode ray tubes
US5910371A (en) 1996-01-04 1999-06-08 Francel; Josef Composite glass article and method of manufacture
KR100234170B1 (ko) * 1996-12-10 2000-01-15 손욱 투명도전성 박막 형성용 조성물, 이를 이용한 투명도전성 박막의 제조방법 및 표면도전성 물품
JP3137660B2 (ja) * 1997-05-13 2001-02-26 麒麟麦酒株式会社 ガラス質被膜形成コーティング剤、ならびにそれを用いたコーティング方法およびコーティング装置
FR2775914B1 (fr) * 1998-03-13 2000-04-21 Saint Gobain Vitrage Procede de depot de couches a base d'oxyde(s) metallique(s)
US6436541B1 (en) 1998-04-07 2002-08-20 Ppg Industries Ohio, Inc. Conductive antireflective coatings and methods of producing same
KR100347666B1 (ko) * 1998-09-08 2002-11-18 주식회사 엘지화학 투명한 대전방지 내마모성 피복 조성물 및 그의 제조방법
US6358567B2 (en) * 1998-12-23 2002-03-19 The Regents Of The University Of California Colloidal spray method for low cost thin coating deposition
DE19943789A1 (de) * 1999-09-13 2001-03-15 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zur Abscheidung von Zirkonoxid-Schichten unter Verwendung von löslichen Pulvern
GB9929647D0 (en) * 1999-12-16 2000-02-09 Univ Cranfield Fabrication of high density ferroelectric thick films
US6623662B2 (en) 2001-05-23 2003-09-23 Chunghwa Picture Tubes, Ltd. Carbon black coating for CRT display screen with uniform light absorption
KR20030012506A (ko) * 2001-08-01 2003-02-12 삼성코닝 주식회사 디스플레이장치용 무반사 무정전 다층 박막
US6746530B2 (en) 2001-08-02 2004-06-08 Chunghwa Pictures Tubes, Ltd. High contrast, moisture resistant antistatic/antireflective coating for CRT display screen
US6521346B1 (en) 2001-09-27 2003-02-18 Chunghwa Picture Tubes, Ltd. Antistatic/antireflective coating for video display screen with improved refractivity
KR20050033523A (ko) * 2001-10-05 2005-04-12 이케이씨 테크놀로지, 인코포레이티드 패턴화된 비정질 필름의 제조를 위한 광분해성 전환 방법
US6764580B2 (en) * 2001-11-15 2004-07-20 Chungwa Picture Tubes, Ltd. Application of multi-layer antistatic/antireflective coating to video display screen by sputtering
KR20030048654A (ko) * 2001-12-12 2003-06-25 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 액정표시장치
US7015280B2 (en) * 2002-03-22 2006-03-21 Northern Illinois University Conductive emulsion for preparing surface for powder coating
US6656331B2 (en) 2002-04-30 2003-12-02 Chunghwa Picture Tubes, Ltd. Application of antistatic/antireflective coating to a video display screen
KR101102115B1 (ko) * 2004-07-08 2012-01-02 닛키 쇼쿠바이카세이 가부시키가이샤 실리카계 미립자의 제조방법, 피막 형성용 도료 및피막부착 기재
US7341784B2 (en) * 2004-09-10 2008-03-11 General Electric Company Light management film and its preparation and use
JP2010537427A (ja) * 2007-08-23 2010-12-02 エスアールアイ インターナショナル 有機カソードを用いるエレクトロルミネッセントデバイス
US8185166B2 (en) 2008-10-24 2012-05-22 Apple Inc. Thermal spray coating for seamless and radio-transparent electronic device housing
US20150371725A1 (en) * 2013-02-04 2015-12-24 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Inorganic material paste for electronic components such as resistors and dielectrics, and method of producing same

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56165202A (en) * 1980-05-23 1981-12-18 Hitachi Ltd Conductive paste
DE3300589A1 (de) * 1983-01-11 1984-07-12 Schott Glaswerke, 6500 Mainz Verfahren zur herstellung von indiumoxid-zinnoxid-schichten
DE3584012D1 (de) * 1985-01-22 1991-10-10 Saint Gobain Vitrage Verfahren zur herstellung eines pulvers auf basis von indium-formiat zur herstellung einer duennen beschichtung auf einem substrat, insbesondere auf glas.
EP0195493B1 (en) * 1985-03-22 1993-03-24 Toray Industries, Inc. Transparent article and process for preparation thereof
EP0225342B1 (en) * 1985-05-14 1990-08-22 ATOCHEM NORTH AMERICA, INC. (a Pennsylvania corp.) Method of producing transparent, haze-free tin oxide coatings
JPS62280286A (ja) * 1986-05-29 1987-12-05 Taiyo Bussan Kk 静電気防止性コ−テイング組成物
JPH0798911B2 (ja) * 1986-12-16 1995-10-25 触媒化成工業株式会社 導電性被膜形成用塗布液
JPH0645484B2 (ja) * 1987-03-20 1994-06-15 セントラル硝子株式会社 複写機用ガラスおよびその製造方法
WO1989003114A1 (en) * 1987-09-30 1989-04-06 Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. Transparent conductive ceramic-coated base, process for its production, and its use

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100755013B1 (ko) * 2002-07-27 2007-09-06 후지필름 이미징 컬러런츠 리미티드 방법, 조성물 및 화합물

Also Published As

Publication number Publication date
DE68923000D1 (de) 1995-07-13
WO1990002157A1 (en) 1990-03-08
US5382383A (en) 1995-01-17
EP0423337A4 (en) 1991-06-12
KR950013731B1 (ko) 1995-11-15
US5424008A (en) 1995-06-13
EP0423337A1 (en) 1991-04-24
EP0423337B1 (en) 1995-06-07
DE68923000T2 (de) 1995-11-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR900701944A (ko) 투명도전성 세라믹 피막을 형성하기 위한 도포액, 투명도전성 세라믹 피막을 부착한 기재 및 이것의 제조방법, 및 투명도전성 세라믹 피막을 부착한 기재를 사용하는 방법
DE69213482T2 (de) Beschichtungszusammensetzung zum Herstellen von isolierenden Schichten und Masken
DE69318996T2 (de) Organosilikonpolymere und Farbstoffe, die eine nichtlineare Reaktion zeigen
KR830008938A (ko) 투명체 도체 필름의 제조 조성물 및 방법
ATE370920T1 (de) Im sol-gel-verfahren hergestellte widerstands- und leitfähige beschichtung
KR970065656A (ko) 흑색 착색 조성물, 고내열성 차광부재, 어레이기판, 액정표시소자 및 어레이기판의 제조방법
WO1987004273A1 (en) Photosensitive emulsion for coating plastic film
US3453106A (en) Compositions exhibiting persistent internal polarization where a photoconductive material is dispersed in a polysiloxane resin derived from trifunctional monomers
KR0169151B1 (ko) 감광성부재, 감광성부재를 사용한 전자사진 기록장치, 및 감광성부재의 제조방법
MY106134A (en) Coating process.
DE1943386B2 (de) Elektrophotographisches aufzeichnungsmaterial
JPS5742019A (en) Liquid crystal display device
EP0017093A1 (de) Entwicklungskammer
KR920018056A (ko) 유기금속성 화합물
DE2723799A1 (de) Verfahren zum entfernen von selenschichten
US2904457A (en) Manufacture of conductive glass paper
JPS56143412A (en) Liquid crystal display element
DE69005626T2 (de) Photographischer und kinematographischer Film enthaltend eine antistatische Schicht.
KR910006787A (ko) 전자사진 유기 광전도체
ATE40977T1 (de) Verfahren zum aufbringen einer zinnoxidschicht auf ein substrat ausgehend von gasfoermigen zinnverbindungen.
JPS5724678A (en) Method of forming transparent electroconductive film
CN108623717B (zh) 一种多官能度苯甲酰类大分子光引发剂及其制备方法
Kabeta et al. Photochemical conversion of electrically conductive polysilane films into insulators
JPS55164256A (en) Formation of film on metal substrate
JPS565354A (en) Paste for forming transparent conductive film

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application
J2X1 Appeal (before the patent court)

Free format text: APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL

G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20051111

Year of fee payment: 11

LAPS Lapse due to unpaid annual fee