KR900017094A - 기상표면 처리장치 및 방법 - Google Patents

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Abstract

내용 없음.

Description

기상표면 처리장치 및 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 제1실시예에 의한 기판표면처리장치를 나타낸 개략도.
제2도는 불화수소 HF 및 물 H2O와의 혼합액의 증기압력도.
제3도는 각 공비점에서 전압력과 불화수소의 조성비 사이의 관계를 나타낸 도표.

Claims (36)

  1. 기판표면처리장치에 있어서, 기설정 조건하에서 공비현상을 나타내는 적어도 2종의 액체의 혼합액을 수용하고 윗부분에 공지의 혼합증기를 생성하도록 공간을 가지는 액체수용수단과, 기설정의 공비조건을 설정하도록 상기 액체용기를 조절하기 위한 공비조건 설정수단과, 상기 공비조건하에서 생성된 적어도 2종의 이상의 액체의 혼합액에 의한 혼합증기와, 상기의 공비의 혼합증기를 사용하여 피처리물의 표면을 처리하기 위한 표면처리수단을 구비하여 구성됨을 특징으로 하는 표면처리장치.
  2. 특허청구의 범위 제1항에 있어서, 상기 공비조건 설정수단은 온도와 압력을 기설정의 공비조건에 맞도록 설정하게 구성됨을 특징으로 하는 표면처리장치.
  3. 특허청구의 범위 제2항에 있어서, 상기의 적어도 2종 이상의 액체의 혼합액은 불화수소와 물의 혼합액이 포함되도록 함을 특징으로 하는 표면처리장치.
  4. 특허청구의 범위 제2항에 있어서, 상기의 2종의 액체는 염산과 물을 포함함을 특징으로 하는 표면처리장치.
  5. 특허청구의 범위 제2항에 있어서, 상기의 적어도 2종 이상의 액체의 혼합액은 질산과 물의 혼합액이 포함되도록 함을 특징으로 하는 표면처리장치.
  6. 특허청구의 범위 제2항에 있어서, 상기 표면처리수단은 상기 피처리물의 표면을 처리하기 위한 피처리물 보지실과, 상기 피처리물 보지실로 상기 공비 혼합증기를 공급하기 위한 공비혼합기공급수단을 포함하도록 구성됨을 특징으로 하는 표면처리장치.
  7. 특허청구의 범위 제6항에 있어서, 상기 표면처리장치는 상기 공간과 상기 피처리물 보지수단 및 공비혼합증기공급수단을 기설정의 온도로 유지시키기 위한 온도제어수단이 포함되도록 함을 특징으로 하는 표면처리장치.
  8. 특허청구의 범위 제6항에 있어서, 상기 기설정온도는 상기 공비혼합증기의 이슬점 이상의 온도임을 특징으로 하는 표면처리장치.
  9. 특허청구의 범위 제2항에 있어서, 상기 피처리물 보지실내의 상기 공비혼합증기의 농도를 감소시키기위한 가스희석수단을 더 부가하여 구성됨을 특징으로 하는 표면처리장치.
  10. 특허청구의 범위 제2항에 있어서, 상기 액체수용수단에 상기한 적어도 2종 이상의 액체의 혼합액을 공급하기 위한 액체공급수단을 더 부가하여 구성됨을 특징으로 하는 표면처리장치.
  11. 특허청구의 범위 제10항에 있어서, 상기 액체수용수단은 상기의 적어도 2종 이상의 액체의 혼합액의 보유량을 검출하기 위한 보유량 검출수단을 구비하고, 상기 액체공급수단은 상기 보유량 검출수단으로부터의 검출신호에 응답하여 작동되게 구성됨을 특징으로 하는 표면처리장치.
  12. 특허청구의 범위 제10항에 있어서, 상기 액체수용수단은 상기 수용된 혼합액을 교반하기 위한 교반수단을 포함함을 특징으로 하는 표면처리장치.
  13. 특허청구의 범위 제2항에 있어서, 상기 공간으로 희석용 가스를 공급하여 의사-공비혼합증기를 생성하기 위한 희석용 가스공급수단이 더 부가되어 구성됨을 특징으로 하는 표면처리장치.
  14. 특허청구의 범위 제13항에 있어서, 상기 표면처리수단은 상기 피처리물의 표면을 처리하기 위한 피처리물 보지실과 상기 피처리물 보지실로 의사-공비혼합증기를 공급하기위한 의사-공비혼합증기공급수단을 포함하도록 구성됨을 특징으로 하는 표면처리장치.
  15. 특허청구의 범위 제14항에 있어서, 상기 표면처리장치는 상기 공간과, 피처리물 보지수단 및 의사-공비혼합증기 이송수단을 기설정온도로 유지시키기 위한 온도제어수단을 포함하도록 구성됨을 특징으로 하는 표면처리장치.
  16. 특허청구의 범위 제15항에 있어서, 상기 기설정온도는 의사-공비혼합증기의 이슬점 이상의 온도임을 특징으로 하는 표면처리장치.
  17. 특허청구의 범위 제13항에 있어서, 상기 희석용 가스는 불활성 가스임을 특징으로 하는 표면처리장치.
  18. 특허청구의 범위 제17항에 있어서, 상기 불활성 가스는 질소가스임을 특징으로 하는 표면처리장치.
  19. 특허청구의 범위 제13항에 있어서, 상기 표면처리장치는 상기 액체수용수단의 상기 공간내의 공비혼합증기의 압력에 따라 상기 희석용 가스공급수단이 희석용 가스를 공급하도록 제어하기 위한 제어수단을 더 부가하여 구성됨을 특징으로 하는 표면처리장치.
  20. 특허청구의 범위 제19항에 있어서, 상기 공간내의 압력은 대기압과 동일하게 유지되고, 상기 희석용 가스는 상기 공간내의 압력이 대기압보다도 같거나 또는 더 높게 되도록 공급되어지게 구성됨을 특징으로 하는 표면처리장치.
  21. 표면처리방법에 있어서, 기설정조건하에서 공비현상을 나타내는 적어도 2종 이상의 액체의 혼합액을 구비하는 단계와, 상기 혼합액이 기설정의 공비조건을 만족시키도록 제어하는 단계와, 상기한 적어도 2종 이상의 액체의 혼합액의 공비혼합증기를 상기 공비조건하에서 생성되도록 하는 단계와, 상기 공비혼합증기를 사용하여 피처리물의 표면을 처리하는 단계를 구비하여 구성됨을 특징으로 하는 표면처리방법.
  22. 특허청구 범위 제21항에 있어서, 상기 공비조건을 제어하는 단계는 압력과 온도를 기설정의 공비조건에 맞도록 설정하는 단계를 포함하도록 함을 특징으로 하는 표면처리방법.
  23. 특허청구의 범위 제22항에 있어서, 상기 2종 이상의 액체는 불화수소 및 물임을 특징으로 하는 표면처리방법.
  24. 특허청구의 범위 제22항에 있어서, 상기 2종 이상의 액체는 염산과 물임을 특징으로 하는 표면처리방법.
  25. 특허청구의 범위 제22항에 있어서, 상기 표면처리를 수행하는 단계는, 상기 피처리물의 표면처리를 수행하기 위하여 피처리물 보지실로 상기 공비혼합증기를 이송하는 단계가 포함되도록 함을 특징으로 하는 표면처리방법.
  26. 특허청구의 범위 제25항에 있어서, 상기 표면처리를 수행하는 단계는, 상기 피처리물 보지실을 상기 공비혼합증기가 이슬이 맺는 것을 저지하는 기설정의 온도로 유지하고, 상기 피처리물 보지실에 상기 공비혼합증기를 공급하는 단계를 포함하도록 함을 특징으로 하는 표면처리방법.
  27. 특허청구의 범위 제22항에 있어서, 상기 피처리물 보지실내의 혼합증기의 농도를 감소시키기 위한 희석가스를 공급하는 단계가 더 부가됨을 특징으로 하는 표면처리방법.
  28. 특허청구의 범위 제22항에 있어서, 적어도 2종 이상의 액체의 혼합액을 구비하는 단계는 상기 액체수용실로 상기의 적어도 2종의 액체를 분리하여 공급하는 단계를 포함하도록 함을 특징으로 하는 표면처리방법.
  29. 특허청구의 범위 제21항에 있어서, 상기 혼합액을 구비하는 단계는, 상기 혼합액을 수용하기 위한 수용수단을 구비하는 단계와, 상기 혼합액 수용수단으로 상기 혼합액을 공급하는 단계가 포함되도록 하여, 상기 혼합액이 수용되어 있지 않는 상기 혼합액 수용수단내의 영역에 공간을 형성하도록 하고, 상기 공비혼합증기가 상기 공간내에서 생성되도록 하며, 상기 공비조건을 설정하는 단계는 기설정온도에서, 상기 혼합액 수용수단을 설정하는 단계가 포함되도록 하며, 상기 표면처리방법은 상기 공간내의 압력이 대기압과 같거나 또는 더욱 높게 되도록 상기 공간으로 희석용 가스를 공급함으로서 의사-공비혼합증기를 생성하도록 하는 단계가 더 부가되도록 함을 특징으로 하는 표면처리방법.
  30. 특허청구의 범위 제29항에 있어서, 상기 희석용 가스를 공급하는 단계는 상기 혼합액 수용수단내의 공비 혼합증기의 압력에 따라 상기 희석용 가스를 공급하는 단계를 포함하도록 함을 특징으로 하는 표면처리방법.
  31. 특허청구의 범위 제29항에 있어서, 상기 피처리물의 표면처리를 수행하기 위하여 상기 공간으로부터 상기 피처리물 보지실로 상기 의사-공비혼합증기를 공급하는 단계를 더 부가하여 상기 의사-공비혼합증기의 온도가, 상기 혼합증기의 생성시부터 상기 피처리물의 처리시까지, 혼합증기의 이슬점 보다 더 높게 유지시키도록 함을 특징으로 하는 표면처리방법.
  32. 특허청구의 범위 제29항에 있어서, 상기 피처리물이 표면처리를 수행하기 위해 상기 피처리물 보지실내의 공비혼합증기의 농도를 경감시키기 위한 희석용 가스를 공급하는 단계가 더 부가되도록 함을 특징으로 하는 표면처리방법.
  33. 특허청구의 범위 제32항에 있어서, 상기 희석용 가스를 기설정온도로 유지시키는 단계가 더 부가되게 함을 특징으로 하는 표면처리방법.
  34. 특허청구의 범위 제9항에 있어서, 상기 온도제어수단은 상기 기설정온도로 상기 희석수단을 유지시키도록 구성됨을 특징으로 하는 표면처리장치.
  35. 특허청구의 범위 제13항에 있어서, 상기 온도제어수단은 상기 기설정온도로 상기 희석용 가스공급수단을 유지시키도록 구성됨을 특징으로 하는 표면처리장치.
  36. 특허청구의 범위 제22항에 있어서, 상기 2종의 액체는 질산과 물임을 특징으로 하는 표면처리방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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