KR880013949A - 세팔로스포린 화합물 및 그의 제조방법 - Google Patents

세팔로스포린 화합물 및 그의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR880013949A
KR880013949A KR870005444A KR870005444A KR880013949A KR 880013949 A KR880013949 A KR 880013949A KR 870005444 A KR870005444 A KR 870005444A KR 870005444 A KR870005444 A KR 870005444A KR 880013949 A KR880013949 A KR 880013949A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
compound
hydroxyphenyl
group
substituted
lower alkyl
Prior art date
Application number
KR870005444A
Other languages
English (en)
Other versions
KR890004694B1 (ko
Inventor
이사오 나가꾸라
스수무 나까니시
Original Assignee
원본미기재
화이자 인코포레이티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 원본미기재, 화이자 인코포레이티드 filed Critical 원본미기재
Priority to KR1019870005444A priority Critical patent/KR890004694B1/ko
Publication of KR880013949A publication Critical patent/KR880013949A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR890004694B1 publication Critical patent/KR890004694B1/ko

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/14Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
    • C07D501/16Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
    • C07D501/207-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
    • C07D501/247-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/14Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
    • C07D501/16Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
    • C07D501/207-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
    • C07D501/247-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
    • C07D501/48Methylene radicals, substituted by hetero rings

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Cephalosporin Compounds (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

[발명의 명칙]
세팔로스포린 화합물 및 그의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (13)

  1. 일반식(Ⅲ)의 7-아미노-3-치환된 세팔로스포린 화합물을 일반식(Ⅳ)의 아실화제와 반응시킨 다음,Q가 보호된 아미노그룹일 경우, 보호그룹을 제거함을 특징으로 하며, 일반식(Ⅱ)의 세팔로스포린 항균 화합물, 또는 그의 약제학적으로 혀용되는 염 또는 생체내에서 가수분해 가능한 에스테르를 제조하는 방법.
    상기 식에서, R1은 카복실, 시아노, 할로겐 또는 보호된 카복실그룹에 의해 치환된 저급알킬이고 : A는 페닐, 치환된 페닐, 티에닐 또는 치환된 티에닐이며, 여기에서 치환체는 저급알킬, 하이드록실 도는 할로이고 : Q는 아미노 또는 보호된 아미노그룹이다.
  2. 제1항에 있어서, 아실화제를 혼합무수물, 산 클로라이드, 산 이미다졸리드 또는 활성 에스테르로 전환시켜 활성화하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 아실화제를 산 클로라이드로 전환시켜 활성화하는 방법.
  4. 제3항에 있어서, 반응을 유기용매중, 저온(-20℃ 내지 0℃)에서 수행하는 방법.
  5. 제4항에 있어서, 유기용매를 디클로로메탄, 클로로포름, 디에틸에테르, 테트라하이드로푸란, 에틸아세테이트, 아세톤 및 N, N-디메틸포름아미드로 이루어진 그룹중에서 선택하는 방법.
  6. 제1항 내지 제5항중 어느 한 항에 있어서, R'가 -CH2-CH2-COOH, -CH2-CH2-F, -CH2-CH2-CN 또는 -C(CH3)2-COOH 이며 : A가 4-하이드록시페닐, 3,5-디메틸-4-하이드록시페닐, 3,4-디하이드록시페닐 또는 3-플루오로-4-하이드록시페닐인 방법.
  7. 다음 일반식(Ⅱ)의 화합물 또는 그의 약제학적으로 허용되는 염 또는 생체내에서 가수분해 가능한 에스테르.
    상기 식에서, R는 카복실, 시아노, 할로겐, 도는 보호된 카복실그룹에 의해 치환된 저급알킬이며 : A는 페닐, 치환된 페닐, 티에닐 또는 치환된 티에닐이며, 이때 치환체는 저급알킬, k이드록실 및 하로로 이루어진 그룹중에서 선택된다.
  8. 제7항에 있어서, R'가 -CH2-COOH, -CH2-CH2-F, -CH2-CN 및로 이루어진 그룹중에서 선택되는 화합물.
  9. 제8항에 있어서 A가 4-하이드록시페닐, 3,5-디메틸-4-하이드록시페닐, 3,4-디하이드로기페닐 및 3-플루오로-4-하이드록시페닐 중에서 선택되는 화합물.
  10. 제9항에 있어서, 7-(2-(2-아미노티아졸-4-일)-2-신-카복시메톡시이미노아세트아미도)-3-(3-플루오로-4-하이드록시페닐)메틸-Δ3-세펨-4-카복실산인 화합물.
  11. 제9항에 있어서, 7-(2-(2-아미노티아졸-4-일)-2-신-카복시메톡시이미노아세트아미도)-3-(2,4-디하이드록시페닐)메틸-Δ3-세펨-4-카복실산인 화합물.
  12. 제9항에 있어서, 7-(2-(2-아미노티아졸-4-일)-2-신-(1-카복시-1-메틸에톡시이미노)아세트아미도)-3-(3,4-디하이드록시페닐)메틸-Δ3-세펨-4-카복실산인 화합물.
  13. 제7항의 화합물 및 약제학적으로 허용되는 희석제 또는 담체를 함유하는 약제학적 조성물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019870005444A 1987-05-30 1987-05-30 세팔로스포린 화합물 및 그의 제조 방법 KR890004694B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019870005444A KR890004694B1 (ko) 1987-05-30 1987-05-30 세팔로스포린 화합물 및 그의 제조 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019870005444A KR890004694B1 (ko) 1987-05-30 1987-05-30 세팔로스포린 화합물 및 그의 제조 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR880013949A true KR880013949A (ko) 1988-12-22
KR890004694B1 KR890004694B1 (ko) 1989-11-25

Family

ID=19261795

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019870005444A KR890004694B1 (ko) 1987-05-30 1987-05-30 세팔로스포린 화합물 및 그의 제조 방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR890004694B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100400498B1 (ko) * 2000-11-16 2003-10-08 씨제이 주식회사 세펨 유도체 또는 그 염의 신규한 제조방법

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100400498B1 (ko) * 2000-11-16 2003-10-08 씨제이 주식회사 세펨 유도체 또는 그 염의 신규한 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR890004694B1 (ko) 1989-11-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
IE45452B1 (en) 7-oxyiminoacylaminocephalosporins
JPS597717B2 (ja) セフアロスポリン誘導体およびその製造法
KR890017258A (ko) 신규 세팔로스포린 유도체 및 그의 제조방법
KR880013949A (ko) 세팔로스포린 화합물 및 그의 제조방법
EP1228074A4 (en) A METHOD FOR THE PRODUCTION OF HIGH PURITY CEFPODOXIM PROXETILE
JPH09504306A (ja) グリタリル7−aca誘導体とその調整のためのプロセス
US4132789A (en) 7-[2-(2-Imino-4-thiazolin-4-yl)-2-sulfoacetamido]cephalosporins and antibacterial compositions containing them
US4092309A (en) Derivatives of amoxicillin
CA1038374A (fr) Derives de la cephalosporine, leur preparation et les compositions qui les contiennent
KR890002107B1 (ko) 세팔로스포린 유도체의 제조방법
US4158733A (en) 7β-Acyloxy-3-acetoxymethyl cephalosporins
KR890002174A (ko) 삼환성 세팜 화합물, 그의 제조방법 및 용도
US4959495A (en) Process for the preparation of intermediates used to produce aminothiazoloximino cephalosporins
US3222363A (en) Carbocycloxyalkyl cephalosporins
CA1069499A (en) Cephalosporin esters
US4376200A (en) Heterocyclic thiomethylation of the 3-position of 7-aminocephalosporanic acids
US4126745A (en) 7-Methoxycephalosporin derivatives
US4058609A (en) 7-Dithioacetamido cephalosporins
CA1084907A (fr) Derives de la cephalosporine, leur preparation et les compositions qui les contiennent
US5574153A (en) Oxime derivatives of cephalosporanic structure
US3943128A (en) 7-Trifluoromethylsulfinylacetamido cephalosporins
KR830001970B1 (ko) 세파로스포린 유도체의 제조방법
HU194560B (en) Process for producing alkali salt of /3s/-3-square bracket opened-figure bracket opened-/2-protected amino-4-thiazolyl/-acetyl-figure bracket closed -amino-square bracket closed-4-alkyl-2-oxo-1-azetidinyl-sulfonic acid
KR810001669B1 (ko) 세팔로스포린 유도체의 제조방법
US5066799A (en) Intermediates for the preparation of aminothiazoloximino cephalosporins

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 19931014

Year of fee payment: 5

LAPS Lapse due to unpaid annual fee