KR840004766A - 모노아조 화합물의 제조방법 - Google Patents

모노아조 화합물의 제조방법 Download PDF

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Abstract

내용 없음

Description

모노아조 화합물의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (4)

  1. 다음 일반식(2)의 화합물을 다음 일반식(3)의 방향족 아민과 반응시키거나, 또는 다음 일반식(4)의 아조 화합물을 다음 일반식(5)의 디할로게노트리아지닐 화합물과 반응시킴을 특징으로 하는 다음 일반식(1)의 아조 화합물의 제조방법.
    상기식에서,
    M은 수소원자, 또는 등가의 금속을 나타내고,
    D는 벤젠핵 또는 나프탈렌핵을 나타내며,
    R1은 수소원자, 탄소수 1 내지 4의 알킬그룹, 또는 설포그룹을 나타내고,
    R2는 수소원자, 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬그룹을 나타내며,
    R3는 수소원자, 탄소수 1 내지 4의 알킬그룹, 또는 탄소수 1 내지 4의 알콕시 그룹을 나타내고,
    R4는 수소원자, 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬그룹, 또는 탄소수 1 내지 4의 알콕시 그룹을 나타내며, (R1, R2, R3및 R4는 서로 동일하거나 또는 다를수 있다.)
    Y는 불소원자, 또는 브롬원자 또는 바람직하게 염소원자를 나타내고,
    X는 각각의 경우에 있어 β-설파토에틸그룹, 또는 β-티오설파토에틸 그룹, 또는 β-클로로에틸 그룹, 또는 비닐그룹을 나타내며 2개의 X는 서로 동일하거나 또는 다를 수 있다.
    일반식-SO2-X는 벤젠핵에 있어 아조그룹 또는 아실화한 아미노그룹에 대해 메타-또는 파라-위치에 결합되고 나프탈렌핵에 있어서는 어느 위치에서나 결합될 수 있다. (일반식(1))
    일반식-SO3M의 2번째 그룹은 아미노나프톨디설폰산기에 있어 각기 아실화한 아미노그룹에 대해 메타-또는 파라-위치에 결합된다. (일반식(1)).
    일반식-SO3M의 2번째 그룹은 아미노 나프톨디설폰산기에 있어 각기 아실화한 아미노그룹(일반식(2)).
    아미노그룹(일반식(4))에 대해 메타-또는 파라-위치에 결합될 수 있고, 일반식-SO2-X 그룹은 벤젠핵에 있어 각기 아실화한 아미노그룹(일반식(5)), 아미노그룹(일반식(3))에 대해 메타-또는 파라-위치에 결합될 수 있다.
  2. 제1항의 일반식(1) 화합물을 염료로서 사용함을 특징으로 하여, 염료를 섬유에 적용하고 필요시 가열 및/또는 산결합제 존재하에 고착시키는 하이드록실-및/또는 카복스아미드 함유물질의 염색방법.
  3. 다음 일반식(6)의 아미노 화합물의 디아조니움염 및 제1항의 일반식(3)의 아닐린 화합물을 순서에 관계없이 1-(2',4'-디할로게노-1',3',5'-트리아진-6'-일)-아미노-8-나프톨-3,6-또는-4,6-디설폰산과 반응시킴을 특징으로 하는 일반식(1)의 아조 화합물의 제조방법.
    상기식에서
    D, R1, R2및 X는 상술한 바와 같고 -SO2X 그룹은 벤젠핵에 있어 각기 아미노그룹에 대해 메타-또는 파라-위치에 결합된다.
  4. 제1항의 일반식(1)의 아조 화합물을 20 내지 70중량% 함유시킴을 특징으로 하는, 물질의 염색(착색) 용조성물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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