KR20240050418A - Multi-layered copper particles with excellent corrosion resistance - Google Patents
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Abstract
본 발명은 표면에 전기 전도성이 우수하면서 동시에 내식성과 구리 입자와의 결합력이 우수한 니켈 금속층이 형성된 구리 입자를 제공하는 것을 목적으로 한다. 상기와 같은 목적을 달성하기 위해, 본 발명에서는 상기 제 1 층 위에 형성되면서 니켈을 포함하는 제 2 층을 포함하는 다층 구조의 구리 입자를 제공할 수 있다.The purpose of the present invention is to provide copper particles having a nickel metal layer formed on the surface, which has excellent electrical conductivity and at the same time excellent corrosion resistance and bonding power with copper particles. In order to achieve the above object, the present invention can provide copper particles with a multilayer structure including a second layer containing nickel and formed on the first layer.
Description
본 발명은 표면에 니켈 코팅층을 가지는 다층 구조의 구리 입자에 관한 것으로, 특히 구리 입자 표면에 먼저 산화은을 포함하는 결합층을 형성하고 이후 치밀성과 결합성이 향상된 니켈 금속층이 표면에 형성됨으로써 전기 전도성과 내산화성이 향상된 다층 구조의 구리 입자 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a multi-layered copper particle having a nickel coating layer on the surface. In particular, a bonding layer containing silver oxide is first formed on the surface of the copper particle, and then a nickel metal layer with improved density and bonding properties is formed on the surface to improve electrical conductivity and It relates to copper particles with a multilayer structure with improved oxidation resistance and a method of manufacturing the same.
전도성 입자는 전자재료에서 매우 광범위하게 사용되고 있다. 그중 구리 입자는 높은 전도성을 가지고 있으며, 가격 경쟁력 또한 높기 때문에 많은 전자부품의 전기 전도성이 필요한 필름, 접착제, 코팅 슬러리 등에 다양하게 활용이 되고 있다.Conductive particles are very widely used in electronic materials. Among them, copper particles have high conductivity and are highly price competitive, so they are widely used in films, adhesives, and coating slurries that require electrical conductivity for many electronic components.
그런데, 이러한 구리 입자는 은에 근접하는 높은 전기 전도도를 가지고 있고, 가격은 은과 비교할 때 매우 낮지만 내산화성이 떨어지는 문제가 있다. 이러한 낮은 내산화성으로 인한 신뢰성이 떨어지는 문제로 구리 입자가 적용될 수 있는 분야는 매우 제한적이다. However, these copper particles have a high electrical conductivity approaching that of silver, and their price is very low compared to silver, but they have the problem of poor oxidation resistance. Due to the problem of low reliability due to low oxidation resistance, the areas in which copper particles can be applied are very limited.
따라서, 표면에 내산화성이 높으면서 전기 전도성을 가지는 보호 코팅층을 형성할 수 있으면 이러한 낮은 신뢰성 문제를 해결할 수 있게 된다. 이러한 보호 코팅층으로는 니켈 또는 은으로 이루어지는 코팅층이 적용된다.Therefore, if a protective coating layer with high oxidation resistance and electrical conductivity can be formed on the surface, this problem of low reliability can be solved. As this protective coating layer, a coating layer made of nickel or silver is applied.
이러한 코팅층에 있어서 관건은 핀홀이나 낮은 밀도의 보호 코팅층이 형성되지 않아야 하는 것인데, 보호 코팅층에 핀홀이 있거나 밀도가 낮으면 이로 인해 코어인 구리 입자의 급속한 산화가 일어날 수 있기 때문이다.The key to this coating layer is that no pinholes or a low-density protective coating layer are formed. This is because pinholes or a low-density protective coating layer can cause rapid oxidation of the core copper particles.
따라서, 보호 코팅층이 있는 구리 입자에서 중요한 점은 치밀한 밀도의 결함이 없는 보호 코팅층의 형성에 있게 된다. Therefore, the important point in copper particles with a protective coating layer is the formation of a dense, defect-free protective coating layer.
본 발명은 표면에 전기 전도성이 우수하면서 동시에 내식성과 구리 입자와의 결합력이 우수한 니켈 금속층이 형성된 구리 입자를 제공하는 것을 목적으로 한다. The purpose of the present invention is to provide copper particles having a nickel metal layer formed on the surface, which has excellent electrical conductivity and at the same time excellent corrosion resistance and bonding power with copper particles.
본 발명의 또 다른 목적은 구리 입자 표면에 전기 전도성이 우수하면서 동시에 내식성과 구리 입자와의 결합력이 우수한 니켈 금속층을 저가에 형성할 수 있는 복합 구리 입자 제조 방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing composite copper particles that can form a nickel metal layer on the surface of the copper particles at low cost, having excellent electrical conductivity and at the same time excellent corrosion resistance and bonding strength with the copper particles.
상기와 같은 목적을 달성하기 위해, 본 발명에서는 구리 입자 표면에 형성되는 산화은을 포함하는 제 1 층과 상기 제 1 층 위에 형성되면서 니켈을 포함하는 제 2 층을 포함하는 다층 구조의 구리 입자를 제공할 수 있다.In order to achieve the above object, the present invention provides a copper particle with a multilayer structure comprising a first layer containing silver oxide formed on the surface of the copper particle and a second layer containing nickel formed on the first layer. can do.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 구리 입자의 형상은, 구상, 판상, 덴드라이트상 또는 이들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나이고, 상기 구리 입자의 입도는 레이저 산란 방식의 입도분석기로 분석할 때 D50이 0.1~100㎛ 범위일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the shape of the copper particle is any one selected from the group consisting of spherical shape, plate shape, dendrite shape, or a combination thereof, and the particle size of the copper particle is analyzed with a laser scattering type particle size analyzer. When doing so, D 50 may be in the range of 0.1 to 100㎛.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 제 1 층은 금속 은을 더 포함하고, 상기 금속 은에서 은 원소에 대한 상기 산화은에서 은 원소의 몰 비율(Agx+/Ag0 ( 0< x ≤3 ))이 10~100범위일 수 있다. In one embodiment of the invention, the first layer further comprises metallic silver, and the molar ratio of elemental silver in the silver oxide to elemental silver in the metallic silver (Ag x+ /Ag 0 (0<x ≤3)) This can be in the range of 10 to 100.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 제 1 층은 주석을 더 포함할 수 있다. In one embodiment of the present invention, the first layer may further include tin.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 제 1 층은 상기 구리 입자 표면에 형성되는 주석층과 상기 주석층 위에 형성된 산화은층을 포함할 수 있다. In one embodiment of the present invention, the first layer may include a tin layer formed on the surface of the copper particle and a silver oxide layer formed on the tin layer.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 제 1 층에 포함되는 은의 함량은 상기 내산화 구리 입자 전체 중량의 10~1,000 ppm일 수 있다. In one embodiment of the present invention, the content of silver included in the first layer may be 10 to 1,000 ppm based on the total weight of the oxidation-resistant copper particles.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 제 1 층은 상기 구리 입자 표면에서 불연속적인 아일랜드 형태일 수 있다. In one embodiment of the present invention, the first layer may be in the form of discontinuous islands on the surface of the copper particle.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 제 2 층은 상기 니켈과 함께 인을 더 포함할 수 있고, 상기 제 2 층에서 상기 인은 0.1~13 중량%일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the second layer may further include phosphorus along with the nickel, and the phosphorus in the second layer may be 0.1 to 13% by weight.
본 발명에 따른 다층 구조의 구리 입자 제조 방법은, (a) 구리 입자 표면에 산화은을 코팅하는 제 1 층 형성 단계 및 (b) 상기 제 1 층 위에 니켈을 무전해 도금하여 니켈을 포함하는 제 2 층을 형성하는 단계를 포함할 수 있다. The method for manufacturing multi-layered copper particles according to the present invention includes (a) forming a first layer of coating silver oxide on the surface of the copper particle, and (b) electroless plating nickel on the first layer to form a second layer containing nickel. It may include forming a layer.
또한, (a)단계에서 상시 산화은과 함께 주석을 코팅할 수 있다.Additionally, tin can always be coated with silver oxide in step (a).
또한, 상기 (a)단계 전에, 주석층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다. In addition, before step (a), a step of forming a tin layer may be further included.
본 발명에 따른 다층 구조의 구리 입자는 저가이면서 전기 전도도와 내식성이 우수하여 전기 전도도가 필요한 다양한 전자부품에 적용이 가능하고, 표면 금속층의 결합력이 우수하여 적용되는 부품의 경량화와 전도성 및 신뢰성 향상을 이룰 수 있게 된다. The multi-layered copper particles according to the present invention are inexpensive and have excellent electrical conductivity and corrosion resistance, so they can be applied to various electronic components that require electrical conductivity, and the bonding power of the surface metal layer is excellent, making the applied components lighter and improving conductivity and reliability. It can be achieved.
또한, 본 발명에서 제공하는 다층 구조의 구리 입자 제조 방법을 통해 저가의 공정을 통해 전도성과 신뢰성이 우수한 다층 구조의 구리 입자의 대량 생산이 가능하게 된다. In addition, the method for manufacturing copper particles with a multi-layer structure provided by the present invention makes it possible to mass-produce copper particles with a multi-layer structure with excellent conductivity and reliability through a low-cost process.
도 1은 본 발명에 따른 실시예와 비교예에 따른 다층 구조 구리 입자의 주사전자현미경 이미지이다.
도 2는 본 발명에 따른 일 실시예에서의 다층 구조 구리 입자에 대한 X-선 광전자분광법(X-ray Photoelectron Spectroscopy, XPS)에 따른 분석 결과를 나타낸다. 1 is a scanning electron microscope image of multilayer-structured copper particles according to Examples and Comparative Examples according to the present invention.
Figure 2 shows analysis results using X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS) on multilayered copper particles in an embodiment according to the present invention.
발명의 실시를 위한 최선의 형태Best mode for carrying out the invention
이하 본 발명의 실시예에 대하여 첨부된 도면을 참고로 그 구성 및 작용을 설명하기로 한다. 하기에서 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략할 것이다. 또한, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 '포함'한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Hereinafter, the configuration and operation of an embodiment of the present invention will be described with reference to the attached drawings. In describing the present invention below, if a detailed description of a related known function or configuration is judged to unnecessarily obscure the gist of the present invention, the detailed description will be omitted. In addition, when a part is said to 'include' a certain component, this does not mean excluding other components, but may include other components, unless specifically stated to the contrary.
구리 입자는 다양한 형상과 크기의 입자를 만들 수 있다. 하지만, 재료의 특성상 내산화성, 내식성, 내화학성 등은 매우 낮기 때문에 사용환경과 시간의 경과에 따라 빠르게 전기 전도성이 낮아지는 것을 막을 수 없다. 이를 극복하기 위해 표면에 보호층으로 전도성 금속층을 형성하면 다양한 형상과 크기의 구리 입자에 높은 수준의 내산화성 등을 부여할 수 있게 된다. 이러한 보호층으로 니켈이나 은이 많이 사용되는데, 은은 귀금속으로 가격이 높은 문제가 있어 니켈을 보호층으로 형성하고자 하는 시도가 많이 있다.Copper particles can be made into particles of various shapes and sizes. However, due to the nature of the material, oxidation resistance, corrosion resistance, and chemical resistance are very low, so it is impossible to prevent electrical conductivity from rapidly decreasing depending on the usage environment and the passage of time. To overcome this, forming a conductive metal layer as a protective layer on the surface can provide a high level of oxidation resistance to copper particles of various shapes and sizes. Nickel or silver is often used as this protective layer, but silver is a precious metal and has a high price, so there are many attempts to form nickel as a protective layer.
한편, 보호층으로 니켈이 적용되는 경우에는 니켈 보호층이 핀홀과 같은 결함이 없이 치밀하게 형성되는 것이 중요한데 핀홀과 같은 결함이 있게 되면 이를 중심으로 급속도로 부식이 진행되기 때문이다. Meanwhile, when nickel is applied as a protective layer, it is important that the nickel protective layer is formed densely without defects such as pinholes, because if there is a defect such as a pinhole, corrosion progresses rapidly around it.
이를 위해 본 발명에서는, 구리 입자 표면에 형성되는 산화은을 포함하는 제 1 층과 상기 제 1 층 위에 형성되면서 니켈을 포함하는 제 2 층을 포함하는 다층 구조의 구리 입자를 제공할 수 있다. To this end, the present invention can provide copper particles with a multilayer structure including a first layer containing silver oxide formed on the surface of the copper particle and a second layer containing nickel formed on the first layer.
본 발명의 발명자들은 니켈 보호층의 형성 전에 산화은을 포함하는 결합층이 형성되면 최종 니켈 보호층의 치밀성 향상되고 구리 입자와의 결합력도 증가하는 것을 알게 되었고, 이로부터 구리 입자의 표면에 직접 니켈을 포함하는 보호층을 형성하기 보다는 중간에 산화은을 포함하는 결합층을 형성함으로써 니켈 보호층이 핀홀 없이 치밀하게 형성되는 다층 구조의 구리 입자를 개발할 수 있게 되었다. The inventors of the present invention found that when a bonding layer containing silver oxide is formed before forming the nickel protective layer, the density of the final nickel protective layer is improved and the bonding strength with the copper particles is also increased. From this, nickel is directly deposited on the surface of the copper particles. By forming a bonding layer containing silver oxide in the middle rather than forming a protective layer containing silver oxide, it was possible to develop copper particles with a multi-layer structure in which the nickel protective layer is densely formed without pinholes.
본 발명에서 코어가 되는 구리 입자는 다양한 형상의 입자가 될 수 있는데, 구상, 판상, 덴드라이트상 또는 이들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나일 수 있다. 다양한 산업 분야에 사용되는 구리 입자는 그 적용되는 분야에 따라 구상, 판상, 덴드라이트상 등이 사용될 수 있고 이들을 서로 혼합하여 사용할 수도 있다. 한편, 이들 입자의 크기는 레이저 산란 방식의 입도분석기로 분석할 때 D50이 0.1~100㎛ 범위일 수 있는데, 여기서 D50은 입자들의 누적 백분율이 50%에 도달할 때의 해당 입도를 의미한다. D50 기준으로 구리 입자의 입도가 0.1 ㎛미만이면 입자 간의 응집이 심하여 취급이 어렵고 증가하는 비표면적으로 인해 표면 니켈층 형성에 어려움이 있게 된다. 한편 100 ㎛을 초과하면 입자의 무게가 증가하여 전자부품 등에 원활하게 적용하기 어려울 수 있다. In the present invention, the copper particles that become the core may be particles of various shapes, and may be any one selected from the group consisting of spherical shape, plate shape, dendrite shape, or a combination thereof. Copper particles used in various industrial fields may be spherical, plate-shaped, dendrite-shaped, etc. depending on the field of application, and may be used by mixing them together. Meanwhile, when the size of these particles is analyzed with a laser scattering type particle size analyzer, D 50 may range from 0.1 to 100㎛, where D 50 refers to the particle size when the cumulative percentage of particles reaches 50%. . Based on D 50 , if the particle size of the copper particles is less than 0.1 ㎛, agglomeration between particles is severe, making handling difficult, and forming a surface nickel layer is difficult due to the increased specific surface area. On the other hand, if it exceeds 100 ㎛, the weight of the particles increases, making it difficult to apply them smoothly to electronic components.
본 발명에서, 산화은을 포함하는 제 1 층은 주석을 더 포함할 수 있는데, 주석은 산화은이 원활하게 구리 입자 표면에 부착되도록 유도하기 위해 사용되는 원소로 수용액에서 코팅 작업을 진행하는 경우 은 원소의 구리 입자 표면으로의 부착을 돕게 된다. 이러한 주석은 산화은과 함께 제 1 층을 이룰 수도 있고, 산화은을 포함하는 제 1 층과 구리 입자 표면 사이에 형성될 수도 있다. In the present invention, the first layer containing silver oxide may further include tin. Tin is an element used to induce silver oxide to smoothly adhere to the surface of copper particles, and when coating in an aqueous solution, copper of the silver element is used. It helps the adhesion to the particle surface. This tin may form a first layer together with silver oxide, or may be formed between the first layer containing silver oxide and the surface of the copper particle.
본 발명에서 산화은을 포함하는 제 1 층은 산화은과 함께 금속 은을 더 포함할 수 있는데, 금속 은이 더 포함되면 제 2 층에 포함되는 금속인 니켈과의 결합을 보다 더 강하게 할 수 있다. 산화은은 구리와의 결합을 강하게 하고, 금속 은은 이러한 산화은과의 강하게 결합되면서 동시에 같은 금속인 니켈과의 강한 결합을 제공함으로써 결과적으로 니켈을 포함하는 제 2 층과 구리 입자와의 결합력을 더 강화시키게 된다.In the present invention, the first layer containing silver oxide may further include metallic silver along with the silver oxide. If metallic silver is further included, the bond with nickel, a metal included in the second layer, can be strengthened. Silver oxide strengthens the bond with copper, and metallic silver bonds strongly with silver oxide and at the same time provides a strong bond with nickel, which is the same metal, thereby further strengthening the bond between the second layer containing nickel and the copper particles. do.
이때, 제 1 층에서 금속 은의 은 원소에 대한 산화은에서의 은 원소의 몰 비율(Agx+/Ag0 ( 0< x ≤3 ))이 10~100범위인 것이 바람직하다. At this time, the molar ratio of the silver element in the silver oxide to the silver element in the metallic silver in the first layer ( Ag
상술한 바와 같이 금속 은을 포함하는 것이 산화은을 포함하는 제 1 층과 니켈을 포함하는 제 2 층의 결합을 강하게 하지만, 산화은에서의 은 원소에 비해 금속 은에서의 은 원소의 비율이 너무 높으면 그만큼 산화은을 통한 제 1 층의 구리 입자 표면과의 결합력이 낮아지기 때문에 바람직하지 않다. 따라서, 산화은의 은 원소에 대한 금속 은에서의 은 원소의 몰 비율은 산화은에서의 은 원소의 비율이 더 높도록 10~100인 것이 바람직하다. 이러한 몰 비율의 측정은 X선 광전자 분광법(X-ray Photoelectron Spectroscopy, XPS)으로 측정될 수 있다.As described above, containing metallic silver strengthens the bond between the first layer containing silver oxide and the second layer containing nickel, but if the ratio of the silver element in the metallic silver is too high compared to the silver element in the silver oxide, This is undesirable because the bonding force of the first layer with the surface of the copper particles through silver oxide is lowered. Therefore, the molar ratio of the silver element in the metallic silver to the silver element in the silver oxide is preferably 10 to 100 so that the ratio of the silver element in the silver oxide is higher. This molar ratio can be measured using X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS).
여기서, 산화은에서 은의 산화수는 +1 ~ +3까지 가능하고, 비정질상에서는 산화수가 정수가 아닐 수도 있기 때문에 산화은에서 은의 산화수는 0을 초과하면서 3이하일 수 있게 된다.Here, the oxidation number of silver in silver oxide can range from +1 to +3, and in the amorphous phase, the oxidation number may not be an integer, so the oxidation number of silver in silver oxide can exceed 0 and be 3 or less.
또한, 제 1 층에 포함되는 은의 함량은 상기 다층 구조 구리 입자 전체 중량의 10~1,000 ppm 일 수 있다.Additionally, the content of silver included in the first layer may be 10 to 1,000 ppm based on the total weight of the multilayer structure copper particles.
제 1 층에 형성되는 금속 은 또는 산화은은 일정 함량 이상이어야 제 2 층에 만족할 만한 결합력을 제공할 수 있고, 너무 많으면 공정 비용이 높아지기 때문에 바람직하지 않기 때문이다. 보다 바람직하게는 10~500 ppm일 수 있다.This is because the amount of metallic silver or silver oxide formed in the first layer must be above a certain amount to provide satisfactory bonding strength to the second layer, and too much is undesirable because the process cost increases. More preferably, it may be 10 to 500 ppm.
또한, 본 발명에서 제 1 층은 구리 입자 표면에 불연속적으로 형성되는 아일랜드 형태일 수 있다. 제 1 층은 내산화성을 부여하는 제 2 층에 코어인 구리 입자와의 결합력을 강화시키는 층으로서 불연속적인 아일랜드 형태이어도 충분히 제 2 층에 결합력을 제공할 수 있다.Additionally, in the present invention, the first layer may be in the form of an island discontinuously formed on the surface of the copper particle. The first layer is a layer that strengthens the bonding force with the core copper particles of the second layer, which provides oxidation resistance, and can sufficiently provide bonding force to the second layer even if it is in the form of a discontinuous island.
한편, 제 1 층은 연속적인 필름 형태일 수도 있는데, 이 경우 제 1 층은 구리 입자 표면적의 최소 50% 이상을 차지하게 된다. 연속적 필름 형태인 경우에도 적어도 입자 표면적의 50%이상이어야 충분한 결합력을 제 2 층에 제공할 수 있기 때문이다.Meanwhile, the first layer may be in the form of a continuous film, in which case the first layer occupies at least 50% of the surface area of the copper particles. Even in the case of a continuous film, the particle surface area must be at least 50% or more to provide sufficient bonding force to the second layer.
산화은을 포함하는 제 1 층 위에는 내산화성이 우수한 금속인 니켈을 포함하는 제 2 층이 형성된다. 니켈을 내산화성, 내화학성이 우수하면서 동시에 비교적 높은 전기 전도성을 가지기 때문에 다층 구조의 구리 입자가 우수한 전기 전도성과 신뢰성을 동시에 가지도록 한다. A second layer containing nickel, a metal with excellent oxidation resistance, is formed on the first layer containing silver oxide. Because nickel has excellent oxidation resistance and chemical resistance while also having relatively high electrical conductivity, the multi-layered copper particles have excellent electrical conductivity and reliability at the same time.
이러한 니켈을 포함하는 제 2 층은 니켈뿐만 아니라 인을 더 포함할 수 있는데, 인이 포함됨으로써 전기 전도도는 다소 낮아지지만 내화학성과 내산화성의 향상이 이루어지기 때문에 신뢰성이 중요한 부품에 사용되는 경우에는 제 2 층에 니켈과 함께 인을 포함하는 것이 바람직하다. 인을 포함하는 경우, 제 2 층에서 인의 함량은 0.1~13.0 중량%인 것이 바람직한데, 너무 낮으면 원하는 내화학성과 내산화성의 향상이 이루어지지 않고, 13 중량%를 넘는 인을 포함하면 충분한 전기 전도성을 얻을 수 없기 때문이다. The second layer containing nickel may further contain phosphorus in addition to nickel. The inclusion of phosphorus slightly lowers the electrical conductivity, but improves chemical resistance and oxidation resistance, so when used in parts where reliability is important, It is desirable to include phosphorus along with nickel in the second layer. When phosphorus is included, the phosphorus content in the second layer is preferably 0.1 to 13.0% by weight. If it is too low, the desired improvement in chemical resistance and oxidation resistance will not be achieved, and if phosphorus is included in excess of 13% by weight, sufficient electrical power will not be achieved. This is because conductivity cannot be obtained.
한편, 전기 전도성의 측면에서는 인의 함량은 낮은 것이 유리하기 때문에 전기 전도성이 중요한 분야에서는 니켈층에서의 인의 함량은 0.1~6 중량%인 것이 바람직하다.Meanwhile, in terms of electrical conductivity, a low phosphorus content is advantageous, so in fields where electrical conductivity is important, the phosphorus content in the nickel layer is preferably 0.1 to 6% by weight.
또한, 본 발명에서는 (a) 구리 입자 표면에 산화은을 코팅하는 제 1 층 형성 단계, (b) 상기 제 1 층 위에 니켈을 무전해 도금하는 제 2 층 형성단계를 포함하는 다층 구조의 구리 입자의 제조 방법을 제공할 수 있다.In addition, in the present invention, a multi-layer structure of copper particles comprising (a) a first layer forming step of coating silver oxide on the surface of the copper particle, and (b) a second layer forming step of electroless plating nickel on the first layer. A manufacturing method can be provided.
구리 입자 표면에는 산화은을 포함하는 제 1 층을 형성하는데 산화은과 함께 주석을 함께 코팅할 수 있다. 주석은 구리 입자의 표면에서 산화은의 결합력을 높여줄 수 있게 된다.A first layer containing silver oxide is formed on the surface of the copper particle, and tin can be coated together with the silver oxide. Tin can increase the bonding strength of silver oxide on the surface of copper particles.
또한, 보다 정밀한 제어를 위해서 구리 입자 표면에 주석층을 먼저 형성한 후 산화은을 포함하는 제 1 층을 형성할 수 있다. Additionally, for more precise control, a tin layer may first be formed on the surface of the copper particle, and then a first layer containing silver oxide may be formed.
산화은을 포함하는 제 1 층의 형성은 pH 8이상의 알칼리 수용액에서 이루어질 수 있다. 산화은은 pH 8 이상의 알칼리 분위기에서 잘 형성되기 때문이다. 보다 바람직하게는 pH 8~10 범위의 수용액에서 이루어질 수 있다. Formation of the first layer containing silver oxide may be achieved in an alkaline aqueous solution of pH 8 or higher. This is because silver oxide is easily formed in an alkaline atmosphere of pH 8 or higher. More preferably, it can be done in an aqueous solution with a pH ranging from 8 to 10.
또한, 다층 구조의 구리 입자 제조 방법에서, (a) 단계 이후 (b) 단계 전에 pH 8~11 이고, 온도 20~80℃인 수용액에서 상기 산화은을 포함하는 제 1 층이 형성된 구리 입자를 교반하여 상기 산화은 양을 조절하는 후처리 단계를 더 포함할 수 있다.In addition, in the method for producing copper particles with a multi-layer structure, after step (a) and before step (b), the copper particles on which the first layer containing the silver oxide is formed are stirred in an aqueous solution with a pH of 8 to 11 and a temperature of 20 to 80 ° C. A post-processing step of controlling the amount of silver oxide may be further included.
수용액 중에서 제 1 층을 형성하는 경우 수용액 중의 은 이온이 환원되어 산화은이 아닌 금속 은으로 구리 입자 표면에 부착될 수 있다. 이러한 금속 은의 비율이 너무 높아지면 구리 입자 및 제 2 층과의 결합력이 낮아질 수 있기 때문에 바람직하지 않다. 따라서, 산화은의 함량을 원하는 수준으로 높이기 위해 적절한 온도의 알칼리 수용액에서 처리함으로써 산화은의 양을 조절할 수 있다.When forming the first layer in an aqueous solution, silver ions in the aqueous solution may be reduced and attached to the surface of the copper particles as metallic silver rather than silver oxide. If the ratio of metallic silver becomes too high, it is undesirable because the bonding strength with the copper particles and the second layer may be lowered. Therefore, the amount of silver oxide can be controlled by treatment in an aqueous alkaline solution at an appropriate temperature to increase the content of silver oxide to a desired level.
이렇게 산화은 양을 조절한 후 내산화성이 우수한 니켈을 포함하는 제 2 층을 형성함으로써 전도성을 부여하는 동시에 신뢰성이 높은 다층 구조의 구리 입자를 제공할 수 있게 된다.After controlling the amount of silver oxide in this way, a second layer containing nickel with excellent oxidation resistance is formed, thereby providing conductivity and providing copper particles with a highly reliable multilayer structure.
발명의 실시를 위한 형태Forms for practicing the invention
이하, 본 발명을 충분히 이해하기 위해서 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부Below, in order to fully understand the present invention, preferred embodiments of the present invention are attached.
도면을 참조하여 설명한다.The description will be made with reference to the drawings.
본 발명의 실시예는 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이며, 아래의 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시예로 한정되는 것은 아니다. 오히려, 이들 실시예는 본 개시를 더욱 충실하고 완전하게 하며 당업자에게 본 발명의 사상을 완전하게 전달하기 위하여 제공되는 것이다.The embodiments of the present invention are provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art, and the examples below may be modified in various other forms, and the scope of the present invention is limited. It is not limited to the examples below. Rather, these embodiments are provided to make the disclosure more faithful and complete and to fully convey the spirit of the invention to those skilled in the art.
[실시예 1][Example 1]
탈이온수 100g에 탈지제(제품명 에이스크린, 일본 오쿠노케미컬사) 20g 을 투입하고 60℃로 승온하였다. 여기에 D50 20㎛인 구형의 구리 입자 20g을 투입하고 교반하면서 30분 구리 입자 표면에 부착된 유기물과 불순물을 제거하는 전처리를 실시하였다. 이후 구리 입자를 회수하고 다시 탈이온수 100g에서 교반하여 3회 세정한 후 회수하였다.20 g of degreaser (product name: A-screen, Okuno Chemical, Japan) was added to 100 g of deionized water, and the temperature was raised to 60°C. Here, 20 g of spherical copper particles with a D 50 of 20 ㎛ were added and stirred for 30 minutes to remove organic substances and impurities attached to the surface of the copper particles. Afterwards, the copper particles were recovered, stirred in 100 g of deionized water, washed three times, and then recovered.
회수된 구리 입자를 탈이온수 100g에 질산은(AgNO3) 0.15g을 용해한 질산은 용액에 투입하고 교반하였다. 이때 28% 농도의 암모니아수를 점적방식으로 투입하여 pH를 9.1로 조절하였다.The recovered copper particles were added to a silver nitrate solution in which 0.15 g of silver nitrate (AgNO 3 ) was dissolved in 100 g of deionized water and stirred. At this time, 28% concentration of ammonia water was added dropwise to adjust the pH to 9.1.
온도는 40℃로 유지하고 1시간 교반하여 산화은층을 형성하였다. 1시간 후 여과 회수 하고 이후 탈이온수 200g에서 교반하여 3회 세정한 후 회수하였다. 산화은층이 형성된 분말을 일부 채취하여 X선 광전자 분광법(X-ray Photoelectron Spectroscopy, XPS)를 통한 표면분석을 실시하였다.The temperature was maintained at 40°C and stirred for 1 hour to form a silver oxide layer. After 1 hour, it was collected by filtration, washed three times by stirring in 200 g of deionized water, and then recovered. A portion of the powder with the silver oxide layer formed was collected and surface analysis was performed using X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS).
산화은층까지 형성된 분말을 회수하고, 무전해도금법을 이용하여 니켈 코팅층을 형성하였다. 탈이온수 용액 300g에 염화니켈(NiCl2·6H2O) 20g, 소듐아세테이트(sodium acetate) 10g, 말레인산(Maleic acid) 5g, 환원제인 차아인산나트륨(sodium hypophosphate) 30g, 리드아세테이트(lead acetate) 3㎖를 포함하여 조성된 니켈 도금액에 산화은층까지 형성된 분말을 투입하고 교반하여 70∼90℃로 2시간동안 무전해도금하였다.The powder formed up to the silver oxide layer was recovered, and a nickel coating layer was formed using an electroless plating method. In 300g of deionized water solution, 20g of nickel chloride (NiCl 2 6H 2 O), 10g of sodium acetate, 5g of maleic acid, 30g of sodium hypophosphate as a reducing agent, and 3 lead acetate. The powder formed up to the silver oxide layer was added to the nickel plating solution containing mL, stirred, and electroless plating was performed at 70-90°C for 2 hours.
[실시예 2][Example 2]
구리 입자의 표면에 부착된 유기물이나 불순물을 제거하는 전처리는 실시예 1과 동일하게 진행하였고, 이후 주석층을 형성하였다. 주석층은 구리 입자를 탈이온수 100g에 염화제일주석(SnCl2·2H2O) 1.5g과 염산(HCl 35% 용액) 1ml를 녹인 수용액에 투입하고 30분 동안 교반하여 형성하였다. 수용액의 온도 35℃로 유지하였다. 이후 산화은을 포함하는 제 1 층과 니켈을 포함하는 제 2 층의 형성은 실시예 1과 동일하게 실시하였다. Pretreatment to remove organic substances or impurities attached to the surface of the copper particles was performed in the same manner as in Example 1, and then a tin layer was formed. The tin layer was formed by adding copper particles to an aqueous solution of 1.5 g of stannous chloride (SnCl 2 ·2H 2 O) and 1 ml of hydrochloric acid (HCl 35% solution) dissolved in 100 g of deionized water and stirring for 30 minutes. The temperature of the aqueous solution was maintained at 35°C. Thereafter, the formation of the first layer containing silver oxide and the second layer containing nickel was performed in the same manner as in Example 1.
[실시예 3][Example 3]
전처리와 제 1 층 형성은 실시예 1과 동일하게 진행하였다. 이후 니켈층의 형성은 탈이온수 용액 300g에 염화니켈(NiCl2·6H2O) 20g, 소듐아세테이트(sodium acetate) 10g, 암모니아수 3g, 환원제인 차아인산나트륨(sodium hypophosphate) 10g과 하이드라진(Hydrazine) 10g, 리드아세테이트(lead acetate) 1㎖를 포함하여 조성된 니켈 도금액에 산화은층까지 형성된 분말을 투입하고 교반하여 40~60℃로 1시간동안 무전해도금하였다.Pretreatment and first layer formation were carried out in the same manner as in Example 1. Afterwards, the nickel layer was formed by adding 20 g of nickel chloride (NiCl 2 6H 2 O), 10 g of sodium acetate, 3 g of ammonia water, 10 g of sodium hypophosphate as a reducing agent, and 10 g of Hydrazine in 300 g of deionized water solution. , the powder formed up to the silver oxide layer was added to a nickel plating solution containing 1 ml of lead acetate, stirred, and electroless plating was performed at 40-60°C for 1 hour.
[비교예 1][Comparative Example 1]
실시예 1과 동일하게 구리 입자를 전처리를 하였다. 이후 산화은층을형성하지 않고 바로 무전해도금을 실시하여 니켈을 포함하는 제 2 층을 형성하였다. 니켈의 무전해도금은 실시예 1과 동일하게 진행하였다.Copper particles were pretreated in the same manner as in Example 1. Afterwards, electroless plating was performed immediately without forming a silver oxide layer to form a second layer containing nickel. Electroless plating of nickel was performed in the same manner as in Example 1.
[비교예 2][Comparative Example 2]
실시예 1과 동일하게 구리 입자 표면에 산화은을 포함하는 제 1 층까지 형성하였다. 이후 수용액에 아스코르빈산(Ascorbic acid)을 투입하여 표면에 있는 산화은을 금속 은 상태로 만들고, 이후 무전해도금을 실시하여 니켈을 포함하는 제 2 층을 형성하였다. 니켈의 무전해도금은 실시예 1과 동일하게 진행하였다.In the same manner as Example 1, a first layer containing silver oxide was formed on the surface of the copper particle. Afterwards, ascorbic acid was added to the aqueous solution to change the silver oxide on the surface into a metallic silver state, and then electroless plating was performed to form a second layer containing nickel. Electroless plating of nickel was performed in the same manner as in Example 1.
이렇게 만들어진 다층 구조의 구리 입자에 대해 제 1 층 형성 후 산화은과 금속은의 은 원소비율 분석, 니켈 함량 및 인 함량 분석 그리고 주사전자현미경(Scanning Electron Microscope, SEM)을 통한 코팅상태 관찰을 진행하였다. 은 원소비율은 제 1 층 형성 후 샘플을 채취하여 XPS를 통해 분석하였다. 니켈 함량 및 인 함량은 유도결합플라즈마 질량분석기(Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometer, ICP)를 통해 분석을 진행하였다.After forming the first layer of the multi-layered copper particles created in this way, analysis of the silver element ratio of silver oxide and metallic silver, analysis of nickel content and phosphorus content, and observation of the coating state through a scanning electron microscope (SEM) were conducted. The silver element ratio was analyzed through XPS by collecting samples after forming the first layer. Nickel content and phosphorus content were analyzed using an inductively coupled plasma mass spectrometer (ICP).
신뢰성은 실시예와 비교예를 통해 만들어진 구리 입자를 아크릴 바인더와 일정량 혼합하여 폴리이미드 필름 위에 도포하고 건조한 후 이를 용융된 납 위에서 30초 간 유지한 후 전도도를 측정하는 리플로우(reflow) 테스트를 통해 평가하였다. Reliability was determined through a reflow test in which a certain amount of copper particles made through examples and comparative examples were mixed with an acrylic binder, applied on a polyimide film, dried, held on molten lead for 30 seconds, and then the conductivity was measured. evaluated.
그 결과는 아래 표 1에서 나타내었다. 여기서 니켈 함량은 전체 다층 구조의 구리 입자를 기준으로 니켈 원소가 차지하는 중량%를 나타낸 것이고, 인 함량은 니켈을 포함하는 제 2 층에서의 함량을 중량%로 나타내었다. The results are shown in Table 1 below. Here, the nickel content represents the weight percent of the nickel element based on the copper particles of the entire multilayer structure, and the phosphorus content represents the content in the second layer containing nickel in weight percent.
도 1에서는 실시예에 따른 다층 구조 구리 입자의 주사전자현미경 사진을 나타낸다. 도 1(a) 및 (b)는 각각 실시예 1과 실시예 2에 따른 샘플의 주사전자현미경 이미지이이고, 도 1(c) 및 (d)는 비교예 1 및 비교예 2에 따른 샘플의 주사전자현미경 이미지이다. Figure 1 shows a scanning electron micrograph of a multilayer-structured copper particle according to an example. Figures 1(a) and (b) are scanning electron microscope images of samples according to Example 1 and Example 2, respectively, and Figures 1(c) and (d) are scanning electron microscope images of samples according to Comparative Example 1 and Comparative Example 2. This is an electron microscope image.
실시예 1 및 2에 따른 샘플은 모두 치밀한 코팅층이 형성된 것을 나타내지만, 중간 산화은 층이 없는 비교예 1의 경우 치밀하지 못한 니켈층이 형성된 것을 볼 수 있었다. 또한, 금속은이 대부분인 제 1 층이 형성된 경우 니켈층의 형성이 안정적으로 이루어졌지만 중간에 핀홀이 있는 것을 볼 수 있었다. The samples according to Examples 1 and 2 all showed that a dense coating layer was formed, but in the case of Comparative Example 1 without an intermediate silver oxide layer, a poor nickel layer was formed. In addition, when the first layer containing mostly silver metal was formed, the nickel layer was formed stably, but a pinhole was seen in the middle.
도 2는 실시예 21에 따른 샘플에서 제 1 층의 산화은과 금속은의 은 원소 비율을 측정한 결과이다. XPS결과로 환원된 상태의 은 비율과 산화 상태의 은 비율을 피크 비율을 통해 측정할 수 있게 된다. 실시예 1에서의 이들 몰 비율(Agx+/Ag0 )은 92.4이었다. Figure 2 shows the results of measuring the ratio of silver elements between silver oxide and metallic silver in the first layer in the sample according to Example 21. As a result of XPS, the ratio of silver in the reduced state and the ratio of silver in the oxidized state can be measured through the peak ratio. Their molar ratio (Ag x+ /Ag 0 ) in Example 1 was 92.4.
한편 표 1에서 나타낸 바와 같이 내식성은 리플로우 테스트를 통해 평가하였는데, 실시예 1 내지 3에서는 리플로우 테스트 후에도 다층 구조의 구리 입자를 이용한 필름의 저항은 양호하였으나, 코팅층 형성이 불안정한 비교예 1 및 2에서는 저항이 크게 증가하였고, 보호층이 없는 일반의 구리 입자를 이용한 필름에서는 저항이 너무 높아 측정이 불가능하였다. Meanwhile, as shown in Table 1, corrosion resistance was evaluated through a reflow test. In Examples 1 to 3, the resistance of the film using multilayer copper particles was good even after the reflow test, but in Comparative Examples 1 and 2, the coating layer formation was unstable. The resistance increased significantly, and in a film using ordinary copper particles without a protective layer, the resistance was so high that measurement was impossible.
Claims (9)
상기 제 1 층 위에 형성되면서 니켈을 포함하는 제 2 층을 포함하는, 다층 구조의 구리 입자.a first layer comprising silver oxide formed on the surface of the copper particles,
Copper particles having a multilayer structure, comprising a second layer comprising nickel and formed over the first layer.
상기 구리 입자의 형상은, 구상, 판상, 덴드라이트상 또는 이들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나이고, 상기 구리 입자의 입도는 레이저 산란 방식의 입도분석기로 분석할 때 D50이 0.1~100㎛ 범위인, 다층 구조의 구리 입자.According to claim 1,
The shape of the copper particles is one selected from the group consisting of spherical shape, plate shape, dendrite shape, or a combination thereof, and the particle size of the copper particles is D 50 of 0.1 to 100 when analyzed with a laser scattering type particle size analyzer. Copper particles with a multilayer structure in the ㎛ range.
상기 제 1 층은 금속 은을 더 포함하고, 상기 금속 은에서 은 원소에 대한 상기 산화은에서 은 원소의 몰 비율(Agx+/Ag0 ( 0< x ≤3 ))이 10 ~ 100범위인, 다층 구조의 구리 입자.According to claim 1,
The first layer further comprises metallic silver, and the molar ratio of the silver element in the silver oxide to the silver element in the metallic silver (Ag x+ /Ag 0 (0<x≤3)) is in the range of 10 to 100. Copper particles in the structure.
상기 제 1 층은 주석을 더 포함하는, 다층 구조의 구리 입자.According to claim 1,
Copper particles with a multilayer structure, wherein the first layer further includes tin.
상기 제 1 층에 포함되는 은의 함량은, 상기 내산화 구리 입자 전체 중량의 10~1,000 ppm인, 다층 구조의 구리 입자.According to claim 1,
The content of silver contained in the first layer is 10 to 1,000 ppm of the total weight of the oxidation-resistant copper particles.
상기 제 2 층은 상기 니켈과 함께 인을 더 포함하는, 다층 구조의 구리 입자.According to claim 1,
The second layer further includes phosphorus along with the nickel.
상기 제 2 층에서 상기 인은 0.1~13 중량%인, 다층 구조의 구리 입자.According to claim 6,
Copper particles with a multilayer structure, wherein the phosphorus in the second layer is 0.1 to 13% by weight.
(b) 상기 제 1 층 위에 니켈을 무전해 도금하여 니켈을 포함하는 제 2 층을 형성하는 단계를 포함하는, 다층 구조의 구리 입자 제조 방법.(a) forming a first layer of coating silver oxide on the surface of the copper particles; and
(b) electroless plating nickel on the first layer to form a second layer containing nickel.
상기 (a)단계 전에, 주석층을 형성하는 단계를 더 포함하는, 다층 구조의 구리 입자 제조 방법.According to claim 8,
A method for producing copper particles with a multilayer structure, further comprising forming a tin layer before step (a).
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| JP4863988B2 (en) * | 2005-01-25 | 2012-01-25 | 積水化学工業株式会社 | Conductive fine particles and anisotropic conductive material |
| US7642463B2 (en) * | 2008-01-28 | 2010-01-05 | Honeywell International Inc. | Transparent conductors and methods for fabricating transparent conductors |
| JP5485575B2 (en) * | 2008-03-27 | 2014-05-07 | 積水化学工業株式会社 | Conductive fine particles, anisotropic conductive material, and connection structure |
| JP5375343B2 (en) * | 2009-06-04 | 2013-12-25 | 日立金属株式会社 | Bonding material, manufacturing method thereof, and mounting method using the same |
| WO2012133627A1 (en) * | 2011-03-31 | 2012-10-04 | 戸田工業株式会社 | Silver-coated copper powder and method for producing same, silver-coated copper powder-containing conductive paste, conductive adhesive agent, conductive film, and electric circuit |
| JP5581291B2 (en) * | 2011-09-29 | 2014-08-27 | 株式会社日本触媒 | Conductive fine particles |
| JP6245792B2 (en) * | 2012-03-29 | 2017-12-13 | デクセリアルズ株式会社 | Conductive particle, circuit connection material, mounting body, and manufacturing method of mounting body |
| KR101396444B1 (en) * | 2013-05-06 | 2014-05-22 | 한화케미칼 주식회사 | Method of preparing front electrode of solar cell and solar cell using the same |
| EP2995397B1 (en) * | 2013-05-10 | 2017-08-16 | LG Chem, Ltd. | Copper containing particle and method for manufacturing same |
| EP3208842A1 (en) * | 2016-02-19 | 2017-08-23 | Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG | Method for manufacturing a substrate plate, substrate plate, method of manufacturing a semiconductor module and semiconductor module |
| KR102150161B1 (en) * | 2018-09-27 | 2020-08-31 | 주식회사 씨앤씨머티리얼즈 | Nickel-coated super-abrasive particles with excellent magnetic properties and wire saw using the same |
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