KR20230119256A - 회전식 킬른 디코터를 위한 조절 가능한 킬른 플라이트및 관련 방법 - Google Patents

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KR20230119256A
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kiln
flight
height
base
adjustable
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KR1020237026331A
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Inventor
손준영
카메론 쾬토프
카메론 ??토프
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노벨리스 인크.
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Abstract

회전식 킬른을 위한 조절 가능한 킬른 플라이트 및 관련 방법이 개시된다. 킬른 플라이트는 회전식 킬른의 회전식 킬른 표면에 고정되도록 구성된 베이스를 포함한다. 일부 양태에서, 킬른 플라이트는 플라이트 바디의 각도 배향이 조절 가능하도록 베이스 상에 회전 가능하게 지지되는 플라이트 바디를 포함한다. 다양한 예에서, 킬른 플라이트는 킬른 플라이트의 높이가 조절 가능하도록 베이스에 대해 이동 가능하게 지지되는 높이 조절기를 포함한다. 조절 가능한 킬른 플라이트를 이용하여 회전식 킬른을 제어하는 방법은 회전식 킬른의 내부 킬른 표면에 고정된 베이스상에 킬른 플라이트를 지지하는 단계, 킬른 플라이트의 각도 배향 또는 킬른 플라이트의 높이 중 적어도 하나를 조절하는 단계를 포함한다.

Description

회전식 킬른 디코터를 위한 조절 가능한 킬른 플라이트 및 관련 방법{ADJUSTABLE KILN FLIGHT FOR ROTARY KILN DECOATER AND ASSOCIATED METHOD}
관련 출원에 대한 참조
본 출원은 회전식 킬른 디코터를 위한 조절 가능한 킬른 플라이트 및 관련 방법이라는 제목으로 2018 년 8 월 7 일에 출원된 미국 가출원 번호 62/715,333의 이익을 주장하며, 이의 내용은 그 전체가 본 출원에 참조로 통합된다.
기술 분야
본 출원은 회전식 킬른, 보다 상세하게는, 회전식 킬른을 위한 조절 가능한 플라이트(flight)에 관한 것이다.
회전식 킬른(rotary kiln)은 금속 재활용, 혼합, 쓰레기 소각, 스크랩(scrap) 건조 및 다른 다양한 애플리케이션을 포함하되 이에 한정되지 않는 다양한 애플리케이션에 사용된다. 하나의 비 제한적인 예로서, 재활용 알루미늄 (알루미늄 합금 포함)과 같은 금속 재활용 동안, 페인트, 래커 등과 같은 유기 코팅은 재활용 공정 동안 격렬한 가스 발생을 방지하기 위해 디코팅 공정(decoating process)으로 제거되어야 한다. 디코팅 공정의 일부로, 금속 스크랩은 디코팅 킬른에서 혼합되고, 이는 스크랩으로부터 코팅을 제거하기 위해 금속 스크랩과 열을 교환하도록 고온 가스를 재순환하는 열역학적 열 교환기이다. 킬른 내부의 킬른 플라이트는 스크랩을 들어 올린 다음 드롭하여 킬른 내부의 금속 스크랩을 분배하여 고온 가스와 열교환하고 스크랩을 진행시킨다. 그러나 기존의 킬른 플라이트는 킬른 배럴(kiln barrel)에 용접된 고체 조각이므로 킬른에서 고온 가스의 열 유속(heat flux)을 제어하지 않는 것으로 제한되며 다양한 오염 수준에서 유입되는 다양한 유형의 스크랩 재료에 대해 조절될 수 없다.
본 특허에서 사용되는 용어 "발명", "상기 발명", "본 발명"및 "상기 본 발명"는 본 특허의 모든 주제와 아래의 특허 청구 범위를 광범위하게 지칭하기 위한 것이다. 이러한 용어를 포함하는 진술은 본 출원에 설명된 주제를 제한하거나 아래의 특허 청구 범위의 의미 또는 범위를 제한하지 않는 것으로 이해되어야 한다. 본 특허에 포함된 발명의 실시예는 이 요약이 아니라 아래의 청구 범위에 의해 정의된다. 이 요약은 본 발명의 다양한 실시예에 대한 높은 수준의 개요이며 아래의 상세한 설명 섹션에서 추가로 설명되는 일부 개념을 소개한다. 이 요약은 청구된 주제의 핵심 또는 필수 특징을 식별하기 위한 것이 아니며, 청구된 주제의 범위를 결정하기 위해 별도로 사용하기 위한 것도 아니다. 주제는 본 특허의 전체 명세서, 임의의 또는 모든 도면 및 각각의 청구항의 적절한 부분을 참조하여 이해되어야 한다.
일부 예들에 따르면, 회전식 킬른용 킬른 플라이트는 회전식 킬른 표면에 고정되도록 구성된 베이스(base)와 상기 베이스에 회전 가능하게 지지되어 플라이트 바디의 각도 배향(angular orientation)이 조절될 수 있도록 구성된 플라이트 바디(flight body)를 포함한다.
특정 경우에, 플라이트 바디의 각도 배향은 최대 위치와 베이스 위치 사이에서 조절가능하다. 다양한 양태에서, 최대 위치와 베이스 위치 사이의 차이는 약 0° 내지 약 30°이다. 특정 예에서, 최대 위치와 베이스 위치 사이의 차이는 약 13° 내지 약 15°이다. 다양한 양태에 따라, 베이스는 슬롯과 같은 복수의 개구를 포함하고, 플라이트 바디는 복수의 지지체(support)를 포함하고, 각각의 지지체는 플라이트 바디의 각도 배향이 조절 가능하도록 대응하는 개구 내에서 이동 가능하다.
일부 예에서, 킬른 플라이트는 킬른 플라이트의 높이를 조절할 수 있도록 플라이트 바디에 이동 가능하게 지지되는 높이 조절기(height adjuster)를 포함한다. 다양한 예에서, 플라이트 바디는 복수의 높이 슬롯을 정의하고, 높이 조절기는 복수의 높이 지지체를 포함하고, 각각의 높이 지지체는 킬른 플라이트의 높이가 조절 가능하도록 대응하는 높이 개구 내에서 이동 가능하다. 특정 예에서, 높이 조절기는 플라이트 바디에 슬라이딩 가능하게 지지된다. 일부 경우에, 높이 조절기는 상단 에지를 포함하고, 상단 에지로부터 베이스까지의 거리가 킬른 플라이트의 높이이다. 다양한 양태에 따르면, 높이 조절기는 제 1 부분 및 제 2 부분을 포함하며, 여기서 제 2 부분은 상단 에지를 포함하고, 제 1 부분은 플라이트 바디에 슬라이딩 가능하게 지지되고, 제 2 부분 및 제 1 부분은 동일 평면에 있지 않다.
다양한 예들에 따르면, 회전식 킬른용 킬른 플라이트는 회전식 킬른 표면에 고정되도록 구성된 베이스와 상단 에지를 포함하고 베이스에 대해 이동 가능하게 지지되는 높이 조절기를 포함한다. 상단 에지로부터 상기 베이스까지의 거리는 킬른 플라이트의 높이이며, 높이 조절기는 킬른 플라이트의 높이를 조절할 수 있도록 베이스에 대해 상대적으로 이동 가능하다.
일부 양태에서, 높이 조절기는 제 1 부분 및 제 2 부분을 포함하고, 여기서 제 2 부분은 상단 에지를 포함하고, 제 2 부분 및 제 1 부분은 동일 평면에 있지 않다. 일부 경우에, 킬른 플라이트는 플라이트 바디의 각도 배향이 조절될 수 있도록 베이스에 회전 가능하게 지지되는 플라이트 바디를 포함한다. 다양한 양태에서, 높이 조절기는 플라이트 바디에 이동 가능하게 지지된다. 특정 예에 따르면, 플라이트 바디의 각도 배향은 최대 위치와 베이스 위치 사이에서 조절 가능하다. 특정 경우에, 최대 위치와 베이스 위치 사이의 차이는 약 0° 내지 약 30°, 예를 들어, 약 13° 내지 약 15°이다.
일부 경우에, 베이스는 복수의 개구를 포함하고, 플라이트 바디는 복수의 지지체를 포함하고, 각각의 지지체는 플라이트 바디의 각도 배향이 조절될 수 있도록 대응하는 개구 내에서 이동 가능하다. 특정 예에서, 플라이트 바디는 복수의 높이 슬롯을 정의하고, 높이 조절기는 복수의 높이 지지체를 포함하고, 각각의 높이 지지체는 킬른 플라이트의 높이가 조절 가능하도록 대응하는 높이 개구 내에서 이동 가능하다. 다양한 양태에서, 높이 조절기는 플라이트 바디에 슬라이딩 가능하게 지지된다. 특정 예에서, 킬른 플라이트의 높이는 최대 높이와 최소 높이 사이에서 조절 가능하다.
특정 예에 따르면, 회전식 킬른 시스템은 내부 킬른 표면을 포함하고 중심 축과 조절 가능한 킬른 플라이트를 정의하는 회전식 킬른을 포함한다. 조절 가능한 킬른 플라이트는 내부 킬른 표면에 고정된 베이스 및 중심 축에 대한 플라이트 바디의 각도 배향이 조절 가능하도록 베이스에 회전 가능하게 지지되는 플라이트 바디를 포함한다.
다양한 경우에, 플라이트 바디의 각도 배향은 중심 축을 기준으로 최대 위치와 베이스 위치 사이에서 조절 가능하다. 특정 경우에, 최대 위치와 베이스 위치 사이의 차이는 약 0° 내지 약 30°, 예를 들어, 약 13° 내지 약 15°이다. 특정 양태에서, 베이스는 복수의 개구를 포함하고, 플라이트 바디는 복수의 지지체를 포함하고, 각각의 지지체는 플라이트 바디의 각도 배향이 조절 가능하도록 대응하는 개구 내에서 이동 가능하다. 일부 양태에 따르면, 조절 가능한 킬른 플라이트는 높이 조절기를 더 포함하고, 높이 조절기는 상단 에지를 포함한다. 상단 에지에서 내부 킬른 표면까지의 거리는 조절 가능한 킬른 플라이트의 높이이며, 일부 경우에, 높이 조절기는 플라이트 바디에 이동 가능하게 지지되어 조절 가능한 킬른 플라이트의 높이를 조절할 수 있다.
일부 예들에서, 플라이트 바디는 복수의 높이 슬롯을 정의하고, 높이 조절기는 복수의 높이 지지체를 포함하고, 각각의 높이 지지체는 조절 가능한 킬른 플라이트의 높이가 조절 가능하도록 대응하는 높이 개구 내에서 이동 가능하다. 일부 측면에서, 높이 조절기는 플라이트 바디에 슬라이딩 가능하게 지지된다. 다양한 예들에서, 높이 조절기는 제 1 부분 및 제 2 부분을 포함하고, 제 2 부분은 상단 에지를 포함하고, 제 1 부분은 플라이트 바디 상에 슬라이딩 가능하게 지지되고, 제 2 부분과 제 1 부분은 동일 평면에 있지 않다. 특정 경우에, 베이스는 내부 킬른 표면에 용접된다.
다양한 양태에서, 조절 가능한 킬른 플라이트는 내부 킬른 표면에 배열된 복수의 조절 가능한 킬른 플라이트 중 제 1 조절 가능한 킬른 플라이트이다. 일부 예에 따르면, 회전식 킬른은 각각 조절 가능한 킬른 플라이트를 포함하는 제 1 구역 및 제 2 구역을 포함한다. 특정 경우에, 제 1 구역에 조절 가능한 킬른 플라이트의 각도 배향은 제 1 각도 배향이고, 제 2 구역에 조절 가능한 킬른 플라이트의 각도 배향은 제 1 각도 배향과 상이한 제 2 각도 배향이다.
일부 양태에 따르면, 회전식 킬른 시스템은 내부 킬른 표면을 갖는 회전식 킬른, 및 내부 킬른 표면에 고정된 베이스 및 베이스에 대해 이동 가능하게 지지되는 높이 조절기를 포함하는 조절 가능한 킬른 플라이트를 포함한다. 높이 조절기는 상단 에지를 포함하고, 상단 에지로부터 내부 킬른 표면까지의 거리는 조절 가능한 킬른 플라이트의 높이이고, 높이 조절기는 조절 가능한 킬른 플라이트의 높이가 조절 가능하도록 베이스에 대해 이동 가능하다.
특정 경우에, 높이 조절기는 제 1 부분과 제 2 부분을 포함하고, 제 2 부분은 상단 에지를 포함하고, 제 2 부분과 제 1 부분은 동일 평면에 있지 않다. 일부 예에서, 회전식 킬른은 중심 축을 정의하고, 조절 가능한 킬른 플라이트는 중심 축에 대한 플라이트 바디의 각도 배향이 조절 가능하도록 베이스에 회전 가능하게 지지되는 플라이트 바디를 더 포함한다. 일부 경우에, 높이 조절기는 플라이트 바디에 이동 가능하게 지지된다.
일부 경우에 따라 플라이트 바디의 각도 배향은 최대 위치와 베이스 위치 사이에서 조절 가능하다. 특정 측면에서, 최대 위치와 베이스 위치 사이의 차이는 약 0° 내지 약 30°, 예컨대, 약 13° 내지 약 15°이다. 다양한 예에서,베이스는 복수의 개구를 포함하고, 플라이트 바디는 복수의 지지체를 포함하고, 각각의 지지체는 플라이트 바디의 각도 배향이 조절 가능하도록 대응하는 개구 내에서 이동 가능하다. 일부 양태에서, 플라이트 바디는 복수의 높이 슬롯을 정의하고, 높이 조절기는 복수의 높이 지지체를 포함하고, 각각의 높이 지지체는 조절 가능한 킬른 플라이트의 높이가 조절 가능하도록 대응하는 높이 개구 내에서 이동 가능하다. 특정 경우에, 높이 조절기는 플라이트 바디에 슬라이딩 가능하게 지지된다. 일부 예에 따르면, 조절 가능한 킬른 플라이트의 높이는 최대 높이와 최소 높이 사이에서 조절 가능하다.
특정 예에서, 베이스는 내부 킬른 표면에 용접된다. 다양한 예에 따르면, 조절 가능한 킬른 플라이트는 내부 킬른 표면에 배열된 복수의 조절 가능한 킬른 플라이트 중 제 1 조절 가능한 킬른 플라이트이다. 일부 경우에, 회전식 킬른은 각각 조절 가능한 킬른 플라이트를 포함하는 제 1 구역 및 제 2 구역을 포함한다. 다양한 양태에서, 제 1 구역에 조절 가능한 킬른 플라이트의 높이는 제 1 높이이고, 제 2 구역에 조절 가능한 킬른 플라이트의 높이는 제 1 높이와 다른 제 2 높이이다.
특정 경우에 따라, 회전식 킬른을 제어하는 방법은 회전식 킬른의 내부 킬른 표면에 고정된 베이스에 킬른 플라이트를 지지하는 단계 및 상기 베이스에 상기 킬른 플라이트를 지지한 후 킬른 내부 표면에 대한 킬른 플라이트의 높이를 조절하는 단계를 포함한다. 킬른 플라이트의 높이는 킬른 플라이트의 상단 에지와 내부 킬른 표면 사이의 거리이다.
일부 경우에, 방법은 베이스에 대한 킬른 플라이트의 각도 배향을 조절하는 단계를 포함한다. 다양한 예에서, 각도 배향을 조절하는 단계는 베이스에 대해 킬른 플라이트의 플라이트 바디를 회전시키는 단계를 포함한다. 다양한 양태에서, 킬른 플라이트는 복수의 킬른 플라이트 중 제 1 킬른 플라이트이고, 킬른 플라이트의 높이를 조절하는 단계는 복수의 킬른 플라이트의 각각의 킬른 플라이트의 높이를 조절하는 단계를 포함한다. 특정 양태에서, 각각의 킬른 플라이트의 높이를 조절하는 단계는 회전식 킬른의 제 1 구역에 킬른 플라이트를 제 1 높이로 조절하는 단계 및 회전식 킬른의 제 2 구역에 킬른 플라이트를 제 1 높이와 다른 제 2 높이로 조절하는 단계를 포함한다.
다양한 양태에 따르면, 회전식 킬른을 제어하는 방법은 회전식 킬른의 내부 킬른 표면에 고정된 베이스에 킬른 플라이트를 지지하는 단계 및 베이스에 킬른 플라이트를 지지 한 후 회전식 킬른의 중심 축에 대한 킬른 플라이트의 각도 배향을 조절하는 단계를 포함한다.
다양한 예에서, 각도 배향을 조절하는 단계는 베이스에 대해 킬른 플라이트의 플라이트 바디를 회전시키는 단계를 포함한다. 일부 측면에서, 방법은 베이스에서 킬른 플라이트를 지지한 후 내부 킬른 표면에 대한 킬른 플라이트의 높이를 조절하는 단계를 포함하고, 킬른 플라이트의 높이는 킬른 플라이트의 상단 에지와 내부 킬른 표면 사이의 거리이다. 일부 예에서, 킬른 플라이트는 복수의 킬른 플라이트 중 제 1 킬른 플라이트이고, 킬른 플라이트의 각도 배향을 조절하는 단계는 복수의 킬른 플라이트의 각각의 킬른 플라이트의 각도 배향을 조절하는 단계를 포함한다. 다양한 양태에서, 복수의 킬른 플라이트의 각각의 킬른 플라이트의 각도 배향을 조절하는 단계는 회전식 킬른의 제 1 구역에 킬른 플라이트를 제 1 각도 배향으로 조절하는 단계 및 회전식 킬른의 제 2 구역에 킬른 플라이트를 제 1 각도 배향과 다른 제 2 각도 배향으로 조절하는 단계를 포함한다.
본 개시에 설명된 다양한 구현은 추가적인 시스템, 방법, 특징 및 이점을 포함할 수 있으며, 이는 본 명세서에서 반드시 명시적으로 개시될 수는 없지만 이하의 상세한 설명 및 첨부된 도면을 검토하면 당업자에게 명백할 것이다. 이러한 모든 시스템, 방법, 특징 및 이점은 본 개시 내용에 포함되고 첨부된 청구 범위에 의해 보호되도록 의도된다.
다음 도면의 특징 및 컴포넌트는 본 개시의 일반적인 원리를 강조하기 위해 예시된다. 일관성과 명확성을 위해 참조 문자를 일치시켜 도면 전체의 해당 기능 및 컴포넌트를 지정할 수 있다.
도 1은 본 개시의 양태에 따른 킬른 플라이트의 전면 사시도이다.
도 2는 도 1의 킬른 플라이트의 후면 사시도이다.
도 3은 도 1의 킬른 플라이트의 베이스 사시도이다.
도 4는 본 개시의 양태에 따른 킬른 시스템의 킬른에 도 3의 베이스의 사시도이다.
도 5는 도 1의 킬른 플라이트의 플라이트 바디의 사시도이다.
도 6은 도 5의 플라이트 바디의 전면도이다.
도 7은 도 1의 킬른 플라이트의 높이 조절기의 사시도이다.
도 8은 도 7의 높이 조절기의 전면도이다.
도 9는 본 개시의 양태에 따른 복수의 킬른 플라이트를 갖는 회전식 킬른 시스템의 단면도이다.
도 10은 본 개시의 양태에 따른 복수의 킬른 플라이트를 갖는 킬른의 단부도를 예시한다.
도 11은 스크랩 재료를 혼합하는 도 10의 킬른의 단부도를 예시한다.
본 발명의 실시예의 주제는 법적 요건을 충족하기 위해 구체적으로 여기에서 설명되지만, 이 설명이 반드시 청구 범위의 범위를 한정하려는 것은 아니다. 청구된 주제는 다른 방식으로 구체화될 수 있고, 다른 엘리먼트 또는 단계를 포함할 수 있으며, 다른 기존 또는 미래 기술과 함께 사용될 수 있다. 이 설명은 개별 단계의 순서 또는 엘리먼트의 배열이 명시적으로 설명된 경우를 제외하고는 다양한 단계 또는 엘리먼트 사이의 특정 순서 또는 배열을 암시하는 것으로 해석되어서는 안 된다. "위", "아래", "상부", "아래", "왼쪽", "오른쪽", "전면" 및 "후면"와 같은 방향 언급은 컴포넌트 및 방향이 언급하는 도면 (또는 도면들)에 설명되고 예시된 배향(orientation)을 지칭하기 위한 의도이다.
일부 양태에서, 디코팅 회전식 킬른과 같은 회전식 킬른을 위한 조절 가능한 플라이트가 개시된다. 조절 가능한 플라이트는 베이스, 플라이트 바디 및 높이 조절기를 포함한다. 특정 예에서, 플라이트 바디는 플라이트의 각도 배향이 조절 가능하도록 베이스에 대해 회전 가능하다. 다양한 양태에서, 높이 조절기는 조절기의 높이가 조절될 수 있도록 베이스에 대해 선형으로 움직일 수 있다. 특정 경우에, 플라이트 바디는 베이스에 제거 가능하게 부착되어, 플라이트 바디는 유사하거나 다른 플라이트 바디로 교체 또는 교환될 수 있고 원하는 대로 조절 가능하다. 조절 가능한 플라이트를 통해 회전식 킬른 내 재료의 체류 시간(residence time)을 제어하고 원하는 대로 조절할 수 있다.
도 1-8은 본 개시의 양태들에 따른 플라이트(100)의 예를 예시한다. 플라이트 (100)는 베이스 (102) 및 플라이트 바디 (104)와 높이 조절기 (106)를 포함하는 바디 어셈블리 (101)를 포함한다. 바디 어셈블리 (101)는 베이스 (102)에 대해 이동 가능하다. 일부 예들에서, 그리고 아래에서 상세히 설명되는 바와 같이, 플라이트 바디 (104)는 플라이트 바디 (104)의 각도 배향이 조절 가능하도록 베이스 (102) 상에 회전 가능하게 지지된다. 다양한 양태에서, 그리고 아래에서 상세히 설명되는 바와 같이, 높이 조절기 (106)는 플라이트 (100)의 높이가 조절될 수 있도록 베이스 (102)에 대해 선형으로 조절 가능하다. 다른 예에서, 플라이트 (100)는 회전 가능하고 선형으로 조절될 필요가 없다 (예를 들어, 플라이트 (100)는 선형으로 만 조절 가능하거나 회전 가능하게 만 조절 가능하다).
다양한 예에서, 베이스 (102)는 용접, 기계적 파스너(fastener) 및 다양한 다른 적절한 메커니즘(도 4 참조)을 포함하지만 이에 한정되지 않는 다양한 적절한 메커니즘을 통해 회전식 킬른 (402)의 내부 표면 (404)에 고정된다. 도 3에 도시된 바와 같이, 베이스 (102)는 베이스 슬롯 (108)과 같은 하나 이상의 개구를 정의한다. 베이스 슬롯 (108)의 수는 본 개시를 한정하는 것으로 간주되어서는 안 된다. 일부 예에서, 베이스 (102)는 베이스 플랜지(base flange) (110)를 옵션으로 포함하고, 베이스 슬롯 (108)은 베이스 플랜지 (110) 상에 정의된다. 다른 예에서, 베이스 슬롯 (108)은 베이스 (102)상의 다양한 다른 위치에 정의될 수 있다. 각각의 베이스 슬롯 (108)은 대향 단부 (112A-B)를 포함한다. 일부 경우에, 단부 (112A-B) 사이의 거리는 플라이트 바디 (104)가 베이스 (102)에 대해 위치할 수 있는 각도 배향의 범위에 대응한다. 다른 예에서, 베이스 슬롯 (108) 대신에 또는 이에 추가하여, 베이스 플랜지 (110) 또는 베이스 (102)상의 다른 적절한 위치에 다양한 간격으로 복수의 개구가 제공될 수 있다. 이러한 예에서, 각각의 개구는 베이스 (102)에 대한 플라이트 바디 (104)의 미리 정의된 각도 배향에 대응할 수 있다. 다른 예에서, 다양한 다른 각도 배향 조절 메커니즘이 이용될 수 있다.
도 1, 2, 5 및 6를 참조하여, 플라이트 바디 (104)는 전면 (114), 후면 (116) 및 바디 장착 플랜지 (118)를 포함한다. 선택적으로, 플라이트 바디 (104)는 베이스 (102) (도 2 및 6 참조)의 일부를 수용하는 절개부(cutout portion) (126)를 포함하지만, 다른 예에 포함될 필요는 없다.
바디 장착 플랜지 (118)는 플라이트 바디 (104)를 베이스 (102)에 연결하고 장착 개구 (120)와 같은 하나 이상의 장착 슬롯 또는 개구를 포함한다. 조립될 때, 각각의 장착 개구 (120)는 베이스 (102)의 대응하는 베이스 슬롯 (108)의 적어도 일부와 정렬된다. 지지체 (122)는 플라이트 바디 (104)를 베이스 (102)에 회전 가능하게 고정하기 위해 각각의 정렬된 장착 개구 (120) 및 베이스 슬롯 (108)을 통과하여 위치될 수 있다. 베이스 슬롯 (108)이 세장형(elongate)인 다양한 예에서, 각각의 지지체 (122)는 대향 단부 (112A-B) 사이에서 이동 가능하여 원하는 대로 베이스 (102)에 대한 플라이트 바디 (104)의 각도 배향을 제어하고 조절한다. 특정 예에서, 각각의 지지체 (122)는 플라이트 바디 (104)가 원하는 각도 배향에 위치될 때 베이스 (102)에 대한 플라이트 바디 (104)의 위치를 선택적으로 유지하기 위한 잠금 메커니즘(locking mechanism)을 포함한다. 다양한 양태에서, 지지체 (122)는 너트 및 볼트, 핀, 스냅 맞물림(snap engagement) 또는 다양한 다른 적절한 메커니즘을 포함하지만 이에 한정되지 않는 베이스 (102)에 대해 플라이트 바디 (104)를 회전 가능하게 지지하기 위한 다양한 지지 메커니즘일 수 있다.
일부 예들에서 그리고 도 1의 화살표 (124)로 표시된 바와 같이, 플라이트 바디 (104)는 베이스 위치로부터 최대 위치 (및 그 사이의 다양한 위치)로 회전 가능하다. 특정 예에서, 베이스 위치에 대한 최대 위치에서의 플라이트 바디 (104)의 각도 배향은 약 0° 내지 약 30°, 예컨대 약 0°, 약 1°, 약 2°, 약 3°, 약 4°, 약 5°, 약 6°, 약 7°, 약 8°, 약 9°, 약 10°, 약 11°, 약 12 °, 약 13°, 약 14°, 약 15°, 약 16°, 약 17°, 약 18°, 약 19°, 약 20°, 약 21°, 약 22°, 약 23°, 약 24°, 약 25°, 약 26°, 약 27°, 약 28°, 약 29° 및/또는 약 30°이다. 일부 예에서, 베이스 위치에 대한 최대 위치에서의 플라이트 바디 (104)의 각도 배향은 약 13° 내지 약 15°이다. 다른 예에서, 베이스 위치에 대한 최대 위치에서의 플라이트 바디 (104)의 각도 배향은 30°보다 클 수 있다.
도 2, 5 및 도 6에 가장 잘 도시된 바와 같이, 다양한 예에서, 플라이트 바디 (104)는 높이 조절 슬롯 (128)과 같은 하나 이상의 높이 조절 개구를 포함한다. 각각의 높이 조절 슬롯 (128)은 대향 단부 (130A-B)를 포함한다. 일부 예에서, 단부 (130A-B) 사이의 거리는 높이 조절기 (106)가 베이스 (102)에 대해 및/또는 플라이트 바디 (104)에 대해 위치할 수 있는 높이 위치의 범위에 대응한다. 다른 예에서, 높이 조절 슬롯 (128) 대신에 또는 그에 추가하여, 복수의 개구가 플라이트 바디 (104) 상에 다양한 간격으로 제공될 수 있다. 이러한 예들에서, 각각의 개구는 플라이트 (100)의 미리 정의된 높이에 대응할 수 있다. 다른 예들에서, 다양한 다른 높이 조절 메커니즘이 이용될 수 있다.
도 1, 2, 7, 및 8를 참조하여, 높이 조절기 (106)는 전면 (132), 후면 (134), 하단 에지 (136) 및 상단 에지 (138)를 포함한다. 특정 예에서, 상단 에지 (138)와 베이스 (102) 사이의 거리가 플라이트 (100)의 높이이다. 다른 예에서, 킬른에서 조립될 때, 상단 에지 (138)와 킬른의 내부 표면 사이의 거리는 플라이트 (100)의 높이이다. 높이 조절기는 플라이트(100)의 높이가 조절될 수 있도록 베이스 (102) 및 플라이트 바디 (104)에 대해 선형으로 이동 가능하다.
일부 예에서, 높이 조절기 (106)는 높이 조절기 (106)의 후면 (134)의 일부가 플라이트 바디 (104)의 전면 (114)의 일부와 겹치도록 (및 옵션으로 인접하도록) 플라이트 바디 (104) 상에 지지된다 (예를 들어, 도 1 및 2 참조). 다른 예에서, 높이 조절기 (106)는 다양한 다른 구성으로 플라이트 바디 (104)에 지지될 수 있다. 높이 조절기 (106)는 하나 이상의 지지 슬롯 또는 개구 (140)를 포함한다. 조립될 때, 각각의 지지 개구 (140)는 플라이트 바디 (104)의 대응하는 높이 조절 슬롯 (128)의 적어도 일부와 정렬된다. 지지체 (142)는 높이 조절기 (106)를 플라이트 바디 (104)에 고정시키는 한편, 플라이트 바디 (104)에 대한 높이 조절기 (106)의 선택적인 선형 이동을 허용하기 위해 각각의 정렬된 지지 개구 (140) 및 높이 조절 슬롯 (128)을 통과하여 위치할 수 있다. 일부 예에서, 지지체 (142)는 다른 예에 있을 필요는 없지만 지지체 (122)와 실질적으로 유사하다. 각각의 지지체 (142)는 높이 조절 슬롯 (128)의 대향 단부 (130A-B) 사이에서 이동 가능하여 원하는 대로 플라이트 (100)의 높이를 제어하고 조절한다. 지지체 (122)와 유사하게, 각각의 지지체 (142)는 높이 조절기 (106)가 원하는 높이에 위치할 때 플라이트 바디 (104)에 대한 높이 조절기 (106)의 위치를 선택적으로 유지하기 위한 잠금 메커니즘을 포함한다.
일부 예들에서 그리고 도 1의 화살표 (144)로 표시된 바와 같이, 높이 조절기 (106)는 최소 높이와 최대 높이 사이 뿐만 아니라 그 사이의 다양한 위치 사이에서 선형으로 이동 가능하다. 특정 예에서, 최소 높이와 최대 높이 사이의 차이는 약 0mm 내지 약 50mm, 예컨대, 약 0mm, 약 1mm, 약 2mm, 약 3mm, 약 4mm, 약 5mm, 약 6mm, 약 7mm, 약 8mm, 약 9mm, 약 10mm, 약 11mm, 약 12mm, 약 13mm, 약 14mm, 약 15mm, 약 16mm, 약 17mm, 약 18 mm, 약 19mm, 약 20mm, 약 21mm, 약 22mm, 약 23mm, 약 24mm, 약 25mm, 약 26mm, 약 27mm, 약 28mm, 약 29mm, 약 30mm, 약 31mm, 약 32mm, 약 33mm, 약 34mm, 약 35mm, 약 36mm, 약 37mm, 약 38mm, 약 39mm, 약 40mm, 약 41mm, 약 42mm, 약 43 mm, 약 44mm, 약 45mm, 약 46mm, 약 47mm, 약 48mm, 약 49mm 및/또는 약 50mm이다. 다른 예에서 최소 높이와 최대 높이의 차이는 50mm보다 크다. 일부 경우에, 최소 높이와 최대 높이 사이의 차이는 킬른의 직경, 처리될 재료 및/또는 다양한 다른 요인에 기반할 수 있다.
도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 높이 조절기 (106)는 선택적으로 동일 평면에 있지 않은 하나 이상의 부분을 포함한다. 도 1 내지 도 3의 예에서, 높이 조절기 (106)는 제 1 부분 (146) 및 제 1 부분 (146)과 동일 평면에 있지 않은 제 2 부분 (148)을 포함한다. 다른 예에서, 높이 조절기 (106)는 단일 부분 (도 9 참조) 또는 2 개 이상의 부분을 가질 수 있다. 높이 조절기 (106) 및 플라이트 바디 (104)가 평면 또는 평면 컴포넌트를 포함하는 것으로 예시되었지만, 높이 조절기 (106) 및/또는 플라이트 바디 (104)의 형상은 본 개시를 한정하는 것으로 간주되어서는 안 된다. 예를 들어, 높이 조절기 (106) 및/또는 플라이트 바디 (104)는 아치형(arcuate shaped), 물결 모양(wavy), 들쭉 날쭉한 형상(jagged), 또는 원하는 대로 다양한 다른 형상을 가질 수 있다. 다른 예에서, 높이 조절기 (106) 및/또는 플라이트 바디 (104)의 상이한 부분은 원하는 대로 상이한 형상을 가질 수 있다. 옵션으로, 플라이트 바디 (104) 및/또는 높이 조절기 (106)를 위해 다양한 적절한 형태 또는 형태의 조합이 사용될 수 있으며, 여전히 플라이트 바디 (100)가 회전 가능하고 및/또는 선형으로 조절될 수 있도록 허용한다.
도 9는 킬른 (902)의 내부 표면 (904) 상에 배열된 복수의 플라이트 (100)를 갖는 킬른 시스템 (900)의 예를 예시한다. 특정 예에서, 킬른 (902)은 킬른 (402)과 실질적으로 유사하다. 도 9에 도시된 바와 같이, 플라이트 (100) 중 일부는 단일 부분을 갖는 높이 조절기 (106)를 포함하고 다른 플라이트 (100)는 두 부분 (146, 148)을 갖는 높이 조절기를 포함한다.
킬른 (902)의 내부 표면 (904)은 킬른 챔버 (908)를 형성한다. 킬른 (902)의 길이 및/또는 직경은 원하는 대로 변경될 수 있다. 킬른 (902)은 중심 축 (906)을 중심으로 회전 가능하다. 킬른 챔버 (908)를 통한 유동 경로는 전체적으로 중심 축 (906)의 방향으로 연장된다. 플라이트 (100)의 각도 배향이 조절 가능한 일부 예에서, 각각의 플라이트 (100)의 베이스 위치는 옵션으로 플라이트 바디 (104)의 전면이 중심 축 (906)에 전체적으로 수직인 방향을 마주하는 위치에 대응한다. 플라이트 바디 (104)가 실질적으로 평면인 옵션의 예에서, 베이스 위치는 플라이트 바디 (104)가 전체적으로 중심 축 (906)에 평행한 위치에 대응할 수 있다. 다른 예들에서, 베이스 위치는 중심 축 (906)에 대해 다양한 다른 배향에 있을 수 있다.
공정 동안에 플라이트 (100)는 킬른 (902)이 회전할 때 킬른 챔버 (908)에 스크랩 재료를 들어 올려 떨어 뜨린다. 플라이트 (100)를 통해, 킬른 챔버 (908) 내의 스크랩 재료는 킬른 (902)의 둘레 주위 및 킬른 (902)의 길이를 따라 분배된다. 스크랩 재료의 들어 올려 떨어 뜨림(lifting and dropping)은 스크랩이 킬른 챔버 (908)를 통해 전진하게 만든다.
다양한 예에서, 킬른 시스템 (900)은 디코팅 킬른 시스템이고, 고온 가스는 킬른 챔버 (908)를 통해 순환하여 스크랩 재료와 결합하고 스크랩으로부터 코팅을 제거한다. 스크랩의 디코팅된 품질은 킬른의 체류 시간을 기준으로 할 수 있다. 다양한 예에서, 킬른 시스템 (900)의 스크랩 체류 시간은 플라이트 (100)의 높이 및/또는 플라이트 (100)의 각도 배향을 조절하거나 제어함으로써 제어될 수 있다. 특정 예에서, 더 큰 높이 (즉, 킬른 챔버 (908) 내로 더 증가)를 갖는 플라이트 (100)는 더 작은 높이를 갖는 플라이트 (100)에 비해 킬른 시스템 (900)에서 체류 시간을 증가시킬 수 있다. 다양한 예에서, 킬른 챔버 (908)를 통한 재료의 유동 경로를 더 방해하도록 회전 가능하게 위치된 플라이트 (100)는 유동 경로를 덜 방해하도록 배치된 플라이트에 비해 킬른 시스템에서 체류 시간을 증가시킬 수 있다. 각각의 플라이트 (100)의 베이스 위치가 플라이트 바디 (104)의 전면이 중심 축 (906)에 전체적으로 수직인 방향을 마주하는 위치에 대응하는 비 제한적인 일 예로서, 베이스 위치의 플라이트 (100)는 최대 위치에 플라이트(100)에 비해 체류 시간을 감소시킬 수 있다.
옵션으로, 일부 예에서, 킬른 (902)은 킬른 (902)의 길이를 따라 하나 이상의 구역을 포함한다. 일부 예에서, 구역은 한 구역의 스크랩 체류 시간이 다른 구역의 스크랩 체류 시간과 다르도록 제어 또는 조절된다. 하나의 비 제한적인 예로서, 하나의 구역에 있는 플라이트 (100)의 높이, 각도 위치 및/또는 프로파일은 다른 구역에 있는 플라이트 (100)의 높이, 각도 위치 및/또는 프로파일과 상이할 수 있다.
조절 가능한 플라이트 (100)를 통해, 단일 킬른 (902)는 다른 고정 요구 사항 (예를 들어, 재료, 밀도 등)이 있을 수 있는 여러 유형의 스크랩 (예를 들어, 헤비 게이지 시트 파쇄(heavy gauge sheet shreds), 캔 스크랩, 자동차 스크랩, 테트라 팩 스크랩(tetra-pack scrap), 호일 포장지, 껌 포장지에 접착된 종이, 등)을 수용하도록 조절 및 제어될 수 있다.
도 10 및 11은 회전식 킬른 시스템 (900)과 실질적으로 유사한 회전식 킬른 시스템 (1000)의 다른 예를 도시한다. 회전식 킬른 시스템 (500)은 스크랩 재료가 처리될 수 있도록 킬른 챔버 내에 플라이트 (100)의 배열을 포함한다 (도 11 참조).
회전식 킬른 시스템 (900)을 제어하는 방법이 또한 개시된다. 일 예에서, 방법은 회전식 킬른 (902)의 내부 표면 (904)에 고정되는 베이스 (102)상의 플라이트 (100)를 지지하는 단계를 포함한다. 방법은 또한 베이스 (102) 상에 플라이트 (100)를 지지한 후에 플라이트 (100)의 높이 및/또는 내부 표면 (904)에 대한 플라이트 (100)의 각도 배향을 조절하는 단계를 포함한다. 다양한 예에서, 플라이트 (100)의 높이 및/또는 플라이트 (100)의 각도 배향은 킬른 시스템 (900)에 의해 처리된 스크랩 재료의 스크랩 체류 시간을 제어하도록 제어된다.
특정 예에서, 방법은 복수의 플라이트 (100)의 높이 및/또는 각도 배향을 조절하는 단계를 포함한다. 일부 경우에, 복수의 플라이트를 조절하는 단계는 킬른 (902)의 제 1 구역에 있는 플라이트 (100)를 제 1 높이 및/또는 제 1 각도 배향으로 조절하는 단계 및 킬른 (902)의 제 2 구역에 있는 플라이트를 제 1 각도 배향과 다른 제 2 각도 배향 및/또는 제 1 높이와 상이한 제 2 높이로 조절하는 단계를 포함한다.
본 발명에 따른 킬른 플라이트를 구비한 회전식 킬른은 킬른 플라이트의 적어도 하나의 설정 (높이, 각도, 높이 조절기의 종류 등)을 제어함으로써 조절 및 제어가 가능하며, 이에 따라 공정 동안에 다양한 유형의 재료를 더 잘 수용 할 수 있다.
일부 경우에, 하나 이상의 킬른 플라이트의 높이를 조절할 수 있다. 특정 경우에, 더 짧은 킬른 플라이트가 더 높은 킬른 플라이트보다 작은 스크랩 재료와 맞물린다. 일부 측면에서, 킬른 플라이트는 동일한 공급 속도로 처리하기 위해 부피가 큰(bulkier) 스크랩 재료에 대해 더 키가 큰 스크랩으로 (즉, 더 낮은 밀도 스크랩) 그리고 더 무거운 스크랩에 대해 더 짧게 (즉, 더 높은 밀도 스크랩) 조절될 수 있다.
다양한 경우에, 하나 이상의 킬른 플라이트의 각도를 조절하여 킬른을 통한 스크랩 진행률 및 디코팅 량을 제어할 수 있다. 예를 들어, 일부 경우에, 킬른 플라이트의 더 작은 각도가 킬른을 통해 더 빠른 스크랩 진행률을 제공할 수 있고, 이는 스크랩이 킬른 내 체류 시간이 더 짧고 열교환 시간이 더 짧아서 이는 디코팅이 덜 발생할 수 있다는 것을 의미한다. 반대로, 일부 경우에, 킬른 플라이트 각도가 클수록 킬른을 통과하는 스크랩 진행 속도가 느려질 수 있고, 이는 스크랩이 킬른 내 체류 시간이 더 길고 열교환 시간이 길며 이는 더 많은 디코팅이 발생할 수 있다는 것을 의미한다.
다른 예에서, 플라이트 바디의 높이 조절기의 유형은 조절 및 제어될 수 있다. 특정 경우에, 높이 조절기의 각도 또는 형상이 킬른 내 스크랩 재료의 드롭 포인트를 제어할 수 있다. 다양한 양태에서, 높이 조절기의 각도 또는 형상은 킬른에 걸쳐 양호한 스크랩 분포를 달성하도록 제어될 수 있다.
다양한 양태에서, 각각의 킬른 플라이트의 베이스, 플라이트 바디 및 높이 조절기는 개별적으로 또는 부분적으로 교체될 수 있다. 개별적으로 교체할 수있는 별도의 컴포넌트를 사용하면 다른 것 중에서, 스크랩 유형, 스크랩 밀도 및/또는 스크랩 품질의 변화에 따라 플라이트 설정 (예를 들어, 높이, 각도, 높이 조절기 유형)을 빠르게 변경하고 조절할 수 있다.즉, 킬른 플라이트는 스크랩 유형, 스크랩 밀도 및/또는 스크랩 품질에 따라 다양한 설정 조합으로 쉽게 조절하거나 변경할 수 있다.
본 명세서에 설명된 개념에 따른 다양한 예시 유형의 추가 설명을 제공하는 "예"로 명시적으로 열거된 적어도 일부를 포함하는 예시적인 예의 집합이 이하에 제공된다. 이러한 예는 상호 배타적이거나, 포괄적이거나 제한적인 것은 아니다; 본 발명은 이러한 예시적인 예들에 한정되지 않고 발행된 청구 범위 및 그 균등물의 범위 내에서 가능한 모든 수정 및 변형을 포함한다.
예 1. 회전식 킬른용 킬른 플라이트에 있어서, 회전식 킬른 표면에 고정되도록 구성된 베이스; 및 상기 플라이트 바디의 각도 배향이 조절 가능하도록 상기 베이스 상에 회전 가능하게 지지되는 플라이트 바디를 포함한다.
예 2. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 킬른 플라이트에 있어서, 상기 플라이트 바디의 각도 배향은 최대 위치와 베이스 위치 사이에서 조절 가능하다.
예 3. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 킬른 플라이트에 있어서, 최대 위치와 베이스 위치의 차이가 약 0°내지 약 30°이다.
예 4. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 킬른 플라이트에 있어서, 최대 위치와 베이스 위치 사이의 차이가 약 13° 내지 약 15°이다.
예 5. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 킬른 플라이트에 있어서, 상기 베이스는 복수의 개구를 포함하고, 상기 플라이트 바디는 복수의 지지체를 포함하고, 각각의 지지체는 상기 각도 배향이 조절 가능하도록 대응하는 개구 내에서 이동 가능하다.
예 6. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 킬른 플라이트에 있어서, 상기 킬른 플라이트의 높이가 조절 가능하도록 상기 플라이트 바디 상에 이동 가능하게 지지되는 높이 조절기를 더 포함한다.
예 7. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 킬른 플라이트에 있어서, 상기 플라이트 바디는 복수의 높이 슬롯을 정의하고, 상기 높이 조절기는 복수의 높이 지지체를 포함하고, 각각의 높이 지지체는 상기 킬른 플라이트의 높이가 조절 가능하도록 대응하는 높이 개구 내에서 이동 가능하다.
예 8. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 킬른 플라이트에 있어서, 높이 조절기는 플라이트 바디에 슬라이딩 가능하게 지지된다.
예 9. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 킬른 플라이트에 있어서, 높이 조절기는 상단 에지를 포함하고, 상단 에지로부터 베이스까지의 거리가 킬른 플라이트의 높이이다.
예 10. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 킬른 플라이트에 있어서, 상기 높이 조절기는 제 1 부분 및 제 2 부분을 포함하고, 상기 제 2 부분은 상단 에지를 포함하고, 상기 제 1 부분은 플라이트 바디 상에서 슬라이딩 가능하게 지지되고, 상기 제 2 부분 및 상기 제 1 부분은 동일 평면에 있지 않다.
예 11. 회전식 킬른용 킬른 플라이트에 있어서, 베이스; 및 베이스에 대해 이동 가능하게 지지되고 상단 에지를 포함하는 높이 조절기를 포함하고, 상기 상단 에지로부터 상기 베이스까지의 거리는 킬른 플라이트의 높이이고, 상기 높이 조절기는 킬른 플라이트가 조절 가능하도록 상기 베이스에 대해 이동 가능하다.
예 12. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 킬른 플라이트에 있어서, 상기 높이 조절기는 제 1 부분 및 제 2 부분을 포함하고, 상기 제 2 부분은 상단 에지를 포함하고, 상기 제 2 부분 및 상기 제 1 부분이 동일 평면에 있지 않다.
예 13. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 킬른 플라이트에 있어서, 상기 플라이트 바디의 각도 배향이 조절 가능하도록 상기 베이스에 회전 가능하게 지지되는 플라이트 바디를 더 포함하고, 상기 높이 조절기는 플라이트 바디에 이동 가능하게 지지된다.
예 14. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 킬른 플라이트에 있어서, 상기 플라이트 바디의 각도 배향은 최대 위치와 베이스 위치 사이에서 조절 가능하다.
예 15. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 킬른 플라이트에 있어서, 상기 최대 위치와 베이스 위치 사이의 차이는 약 0° 내지 약 30°이다.
예 16. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 킬른 플라이트에 있어서, 상기 최대 위치와 상기 베이스 위치 사이의 차이는 약 13° 내지 약 15°이다.
예 17. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 킬른 플라이트에 있어서, 상기 베이스는 복수의 개구를 포함하고, 상기 플라이트 바디는 복수의 지지체를 포함하고, 각각의 지지체는 상기 플라이트 바디의 각도 배향이 조절 가능하도록 대응하는 개구 내에서 이동 가능하다.
예 18. 선행 또는 후속 예 중 임의의 것의 킬른 플라이트에 있어서, 상기 플라이트 바디는 복수의 높이 슬롯을 정의하고, 상기 높이 조절기는 복수의 높이 지지체를 포함하고, 각각의 높이 지지체는 상기 킬른 플라이트의 높이가 조절 가능하도록 대응하는 높이 개구 내에서 이동 가능하다.
예 19. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 킬른 플라이트에 있어서, 상기 높이 조절기는 플라이트 바디에 슬라이딩 가능하게 지지된다.
예 20. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 킬른 플라이트에 있어서, 상기 킬른 플라이트의 높이는 최대 높이와 최소 높이 사이에서 조절 가능하다.
예 21. 회전식 킬른 시스템에 있어서, 내부 킬른 표면을 포함하고 중심 축을 정의하는 회전식 킬른; 및 내부 킬른 표면에 고정된 베이스; 및 상기 중심 축에 대한 플라이트 바디의 각도 배향이 조절 가능하도록 베이스 상에 회전 가능하게 지지되는 플라이트 바디를 포함한다.
예 22. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 회전식 킬른 시스템에 있어서, 플라이트 바디의 각도 배향은 중심 축에 대해 최대 위치와 베이스 위치 사이에서 조절 가능하다.
예 23. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 회전식 킬른 시스템에 있어서, 상기 최대 위치와 상기 베이스 위치 사이의 차이는 약 0° 내지 약 30°이다.
예 24. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 회전식 킬른 시스템에 있어서, 상기 최대 위치와 상기 베이스 위치 사이의 차이는 약 13° 내지 약 15°이다.
예 25. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 회전식 킬른 시스템에 있어서, 상기 베이스는 복수의 개구를 포함하고, 상기 플라이트 바디가 복수의 지지체를 포함하고, 각각의 지지체는 상기 플라이트 바디의 각도 배향이 조절 가능하도록 대응하는 개구 내에서 이동 가능하다.
예 26. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 회전식 킬른 시스템에 있어서, 상기 조절 가능한 킬른 플라이트는 높이 조절기를 더 포함하고, 상기 높이 조절기는 상단 에지를 포함하고, 상기 상단 에지로부터 내부 킬른 표면까지의 거리는 조절 가능한 킬른 플라이트의 높이이고, 높이 조절기는 조절 가능한 킬른 플라이트의 높이가 조절 가능하도록 플라이트 바디에 이동 가능하게 지지된다.
예 27. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 회전식 킬른 시스템에 있어서, 상기 플라이트 바디는 복수의 높이 슬롯을 정의하고, 상기 높이 조절기는 복수의 높이 지지체를 포함하고, 각각의 높이 지지체는 조절 가능한 킬른 플라이트의 높이가 조절 가능하도록 대응하는 높이 개구 내에서 이동 가능하다.
예 28. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 회전식 킬른 시스템에 있어서, 높이 조절기는 플라이트 바디에 슬라이딩 가능하게 지지된다.
예 29. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 회전식 킬른 시스템에 있어서, 상기 높이 조절기는 제 1 부분 및 제 2 부분을 포함하고, 상기 제 2 부분은 상단 에지를 포함하고, 상기 제 1 부분이 상기 플라이트 바디 상에 슬라이딩 가능하게 지지되고, 상기 제 2 부분과 상기 제 1 부분은 동일 평면에 있지 않다.
예 30. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 회전식 킬른 시스템에 있어서, 상기 베이스는 내부 킬른 표면에 용접된다.
예 31. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 회전식 킬른 시스템에 있어서, 상기 조절 가능한 킬른 플라이트는 내부 킬른 표면에 배열된 복수의 조절 가능한 킬른 플라이트 중 제 1 조절 가능한 킬른 플라이트이다.
예 32. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 회전식 킬른 시스템에 있어서, 상기 회전식 킬른은 각각 조절 가능한 킬른 플라이트를 포함하는 제 1 구역 및 제 2 구역을 포함하고, 상기 제 1 구역에 조절 가능한 킬른 플라이트의 각도 배향은 제 1 각도 배향이고, 상기 제 2 구역에 조절 가능한 킬른 플라이트의 각도 배향은 제 1 각도 배향과 다른 제 2 각도 배향이다.
예 33. 회전식 킬른 시스템에 있어서, 내부 킬른 표면을 포함하는 회전식 킬른; 및 내부 킬른 표면에 고정된 베이스; 및 상기 베이스에 대해 이동 가능하게 지지되고 상단 에지를 포함하는 높이 조절기를 포함하고, 상기 상단 에지로부터 내부 킬른 표면까지의 거리는 조절 가능한 킬른 플라이트의 높이이고, 상기 높이 조절기는 조절 가능한 킬른 플라이트의 높이가 조절 가능하도록 상기 베이스에 대해 이동 가능하다.
예 34. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 회전식 킬른 시스템에 있어서, 상기 높이 조절기는 제 1 부분과 제 2 부분을 포함하고, 상기 제 2 부분은 상단 에지를 포함하고, 상기 제 2 부분과 상기 제 1 부분은 동일 평면에 있지 않다.
예 35. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 회전식 킬른 시스템에 있어서, 상기 회전식 킬른은 중심 축을 정의하고, 조절 가능한 킬른 플라이트는 상기 중심 축에 대한 상기 플라이트 바디의 각도 배향이 조절 가능하도록 상기 베이스에 회전 가능하게 지지된 플라이트 바디를 더 포함하고, 상기 높이 조절기는 플라이트 바디에 이동 가능하게 지지된다.
예 36. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 회전식 킬른 시스템에 있어서, 상기 플라이트 바디의 각도 배향은 최대 위치와 베이스 위치 사이에서 조절 가능하다.
예 37. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 회전식 킬른 시스템에 있어서, 상기 최대 위치와 상기 베이스 위치의 차이는 약 0° 내지 약 30°이다.
예 38. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 회전식 킬른 시스템에 있어서, 상기 최대 위치와 상기 베이스 위치 사이의 차이는 약 13°내지 약 15°이다.
예 39. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 회전식 킬른 시스템에 있어서, 상기 베이스는 복수의 개구를 포함하고, 상기 플라이트 바디가 복수의 지지체를 포함하고, 각각의 지지체는 상기 플라이트 바디의 각도 배향이 조절 가능하도록 대응하는 개구 내에서 이동 가능하다.
예 40. 선행 또는 후속 예 중 임의의 것의 회전식 킬른 시스템에 있어서, 상기 플라이트 바디는 복수의 높이 슬롯을 정의하고, 상기 높이 조절기는 복수의 높이 지지체를 포함하고, 각각의 높이 지지체는 조절 가능한 킬른 플라이트의 높이가 조절 가능하도록 대응하는 높이 개구 내에서 이동 가능하다.
예 41. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 회전식 킬른 시스템에 있어서, 상기 높이 조절기는 플라이트 바디 상에서 슬라이딩 가능하게 지지된다.
예 42. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 회전식 킬른 시스템에 있어서, 상기 조절 가능한 킬른 플라이트의 높이는 최대 높이와 최소 높이 사이에서 조절 가능하다.
예 43. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 회전식 킬른 시스템에 있어서, 상기 베이스는 내부 킬른 표면에 용접된다.
예 44. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 회전식 킬른 시스템에 있어서, 상기 조절 가능한 킬른 플라이트는 내부 킬른 표면에 배열된 복수의 조절 가능한 킬른 플라이트 중 제 1 조절 가능한 킬른 플라이트이다.
예 45. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 회전식 킬른 시스템에 있어서, 상기 회전식 킬른은 각각 조절 가능한 킬른 플라이트를 포함하는 제 1 구역 및 제 2 구역을 포함하고, 상기 제 1 구역에 조절 가능한 킬른 플라이트의 높이는 제 1 높이이고, 상기 제 2 구역에 조절 가능한 킬른 플라이트의 높이는 제 1 높이와 상이한 제 2 높이이다.
예 46. 회전식 킬른 제어 방법에 있어서, 회전식 킬른의 내부 킬른 표면에 고정된 베이스에 킬른 플라이트를 지지하는 단계; 및 상기 베이스 상에 킬른 플라이트를 지지한 후 킬른 플라이트의 높이를 내부 킬른 표면에 대해 조절하는 단계를 포함하고, 상기 킬른 플라이트의 높이는 킬른 플라이트의 상단 에지와 상기 내부 킬른 표면 사이의 거리이다.
예 47. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 방법에 있어서, 상기 베이스에 대한 킬른 플라이트의 각도 배향을 조절하는 단계를 더 포함한다.
예 48. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 방법에 있어서, 상기 각도 배향을 조절하는 단계는 상기 베이스에 대해 킬른 플라이트의 플라이트 바디를 회전시키는 단계를 포함한다.
예 49. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 방법에 있어서, 상기 킬른 플라이트는 복수의 킬른 플라이트 중 제 1 킬른 플라이트이고, 상기 킬른 플라이트의 높이를 조절하는 단계는 복수의 킬른 플라이트의 각각의 킬른 플라이트의 높이를 조절하는 단계를 포함한다.
예 50. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 방법에 있어서, 각각의 킬른 플라이트의 높이를 조절하는 단계는 회전식 킬른의 제 1 구역에 킬른 플라이트를 제 1 높이로 조절하는 단계 및 회전식 킬른의 제 2 구역에 킬른 플라이트를 상기 제 1 높이와 다른 제 2 높이로 조절하는 단계를 포함한다.
예 51. 회전식 킬른 제어 방법에 있어서, 회전식 킬른의 내부 킬른 표면에 고정된 베이스에 킬른 플라이트를 지지하는 단계; 및 상기 베이스 상에 킬른 플라이트를 지지한 후에 회전식 킬른의 중심 축에 대한 킬른 플라이트의 각도 배향을 조절하는 단계를 포함한다.
예 52. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 방법에 있어서, 상기 각도 배향을 조절하는 단계는 상기 베이스에 대해 킬른 플라이트의 플라이트 바디를 회전시키는 단계를 포함한다.
예 53. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 방법에 있어서, 상기 베이스에 킬른 플라이트를 지지한 후 내부 킬른 표면에 대해 킬른 플라이트의 높이를 조절하는 단계를 더 포함하고, 상기 킬른 플라이트의 높이는 킬른 플라이트의 상단 에지와 내부 킬른 표면 사이의 거리이다.
예 54. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 방법에 있어서, 상기 킬른 플라이트는 복수의 킬른 플라이트 중 제 1 킬른 플라이트이고, 상기 킬른 플라이트의 각도 배향을 조절하는 단계는 상기 복수의 킬른 플라이트 중 각각의 킬른 플라이트의 각도 배향을 조절하는 단계를 포함한다.
예 55. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 방법에 있어서, 각각의 킬른 플라이트의 각도 배향을 조절하는 단계는 회전식 킬른의 제 1 구역에 킬른 플라이트를 제 1 각도 배향으로 조절하고 회전식 킬른의 제 2 구역에 킬른 플라이트를 상기 제 1 각도 배향과 상이한 제 2 각도 배향으로 조절하는 단계를 포함한다.
예 56. 회전식 킬른용 킬른 플라이트에 있어서, 회전식 킬른 표면에 고정되도록 구성된 베이스; 및 바디 어셈블리로서, 상기 바디 어셈블리가 상기 베이스에 대해 조절 가능하도록 상기 베이스 상에 이동 가능하게 지지되는, 상기 바디 어셈블리를 포함한다.
예 57. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 킬른 플라이트에 있어서, 상기 바디 어셈블리는 상기 베이스에 대해 각도 배향이 조절 가능하도록 상기 베이스 상에 회전 가능하게 지지되는 플라이트 바디를 포함한다.
예 58. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 킬른 플라이트에 있어서, 상기 플라이트 바디의 각도 배향은 최대 위치와 베이스 위치 사이에서 조절 가능하다.
예 59. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 킬른 플라이트에 있어서, 상기 최대 위치와 상기 베이스 위치 사이의 차이는 약 0° 내지 약 30°이다.
예 60. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 킬른 플라이트에 있어서, 상기 베이스는 복수의 개구를 포함하고, 상기 플라이트 바디는 복수의 지지체를 포함하고, 각각의 지지체는 상기 플라이트 바디의 각도 배향이 상기 베이스에 대해 조절 가능하도록 대응하는 개구 내에서 이동 가능하다.
예 61. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 킬른 플라이트에 있어서, 상기바디 어셈블리는 높이 조절기를 포함하고, 상기 높이 조절기는 상단 에지를 포함하고, 상기 상단 에지로부터 상기 베이스까지의 거리가 킬른 플라이트의 높이이고, 상기 높이 조절기는 킬른 플라이트의 높이가 조절 가능하도록 상기 베이스에 대해 이동 가능하게 지지된다.
예 62. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 킬른 플라이트에 있어서, 상기 바디 어셈블리는 플라이트 바디를 더 포함하고, 상기 높이 조절기는 킬른 플라이트의 높이가 조절 가능하도록 상기 플라이트 바디에 이동 가능하게 지지된다.
예 63. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 킬른 플라이트에 있어서, 상기 플라이트 바디는 복수의 높이 슬롯을 정의하고, 상기 높이 조절기는 복수의 높이 지지체를 포함하고, 각각의 높이 지지체는 킬른 플라이트의 높이가 조절 가능하도록 대응하는 높이 개구 내에서 이동 가능하다.
예 64. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 킬른 플라이트에 있어서, 상기 높이 조절기는 제 1 부분 및 제 2 부분을 포함하고, 상기 제 2 부분은 상단 에지를 포함하고, 상기 제 1 부분은 상기 플라이트 바디에 슬라이드 가능하게 지지되고, 상기 제 2 부분 및 상기 제 1 부분은 동일 평면에 있지 않다.
예 65. 회전식 킬른 시스템으로서, 내부 킬른 표면을 포함하는 회전식 킬른; 및 내부 킬른 표면에 고정된 베이스; 및 바디 어셈블리로서, 상기 바디 어셈블리가 내부 킬른 표면에 대해 조절 가능하도록 상기 베이스 상에 이동 가능하게지지되는, 상기 바디 어셈블리를 포함한다.
예 66. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 회전식 킬른 시스템에 있어서, 상기 회전식 킬른은 중심 축을 정의하고, 상기 바디 어셈블리는 상기 중심 축에 대한 플라이트 바디의 각도 배향이 조절 가능하도록 상기 베이스 상에 회전 가능하게 지지된 상기 플라이트 바디를 포함한다.
예 67. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 회전식 킬른 시스템에 있어서, 상기 플라이트 바디의 각도 배향이 중심 축에 대해 최대 위치와 베이스 위치 사이에서 조절 가능하고, 최대 위치와 상기 베이스 위치 사이의 차이는 약 0°내지 약 30°이다.
예 68. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 회전식 킬른 시스템에 있어서, 상기 바디 어셈블리는 상단 에지를 포함하는 높이 조절기를 포함하고, 상기 상단 에지로부터 내부 킬른 표면까지의 거리는 조절 가능한 킬른 플라이트의 높이이고, 상기 높이 조절기는 조절 가능한 킬른 플라이트의 높이가 내부 킬른 표면에 대해 조절 가능하도록 상기 베이스에 대해 이동 가능하게 지지된다.
예 69. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 회전식 킬른 시스템에 있어서, 상기 회전식 킬른은 중심 축을 정의하고, 상기 바디 어셈블리는 상기 중심 축에 대한 상기 플라이트 바디의 각도 배향이 조절 가능하도록 상기 베이스에 회전 가능하게 지지된 플라이트 바디를 더 포함하고, 상기 높이 조절기는 플라이트 바디에 이동 가능하게 지지된다.
예 70. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 회전식 킬른 시스템에 있어서, 상기 베이스는 내부 킬른 표면에 고정된다.
예 71. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 회전식 킬른 시스템에 있어서, 상기 조절 가능한 킬른 플라이트는 내부 킬른 표면에 배열된 복수의 조절 가능한 킬른 플라이트 중 제 1 조절 가능한 킬른 플라이트이고, 상기 회전식 킬른은 조절 가능한 킬른 플라이트를 포함하는 제 1 구역 및 제 2 구역을 포함하고, 상기 제 1 구역의 조절 가능한 킬른 플라이트의 각도 배향 또는 높이는 제 2 구역의 조절 가능한 킬른 플라이트의 각도 배향 또는 높이와 상이하다.
예 72. 회전식 킬른을 제어하는 방법에 있어서, 회전식 킬른의 내부 킬른 표면에 킬른 플라이트의 베이스를 지지하는 단계로서, 상기 베이스는 상기 내부 킬른 표면에 고정되는, 상기 킬른 플라이트의 베이스를 지지하는 단계; 상기 베이스 상에 상기 킬른 플라이트의 바디 어셈블리를 지지하는 단계로서, 상기 바디 어셈블리는 상기 베이스 및 내부 킬른 표면에 대해 이동 가능한, 상기 바디 어셈블리를 지지하는 단계; 및 상기 바디 어셈블리를 상기 베이스에 대해 이동시킴으로써 상기 킬른 플라이트의 바디 어셈블리를 조절하는 단계를 포함한다.
예 73. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 방법에 있어서, 상기 킬른 플라이트의 높이는 킬른 플라이트의 상단 에지와 내부 킬른 표면 사이의 거리이고, 상기 바디 어셈블리를 조절하는 단계는 킬른 플라이트 높이를 조절하는 단계를 포함한다.
예 74. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 방법에 있어서, 상기 베이스에 대한 바디 어셈블리의 각도 배향을 조절하는 단계를 더 포함한다.
예 75. 선행 또는 후속 예 중 어느 하나의 방법에 있어서, 상기 킬른 플라이트는 복수의 킬른 플라이트 중 제 1 킬른 플라이트이고, 상기 회전식 킬른은 킬른 플라이트를 포함하는 제 1 구역 및 킬른 플라이트를 포함하는 제 2 구역을 포함하고, 상기 바디 어셈블리를 조절하는 단계는 제 1 구역에 킬른 플라이트의 각도 배향 또는 높이를 제 1 배향으로 조절하는 단계, 제 2 구역에 킬른 플라이트의 각도 배향 또는 높이를 상기 제 1 배향과 상이한 제 2 배향으로 조절하는 단계를 포함한다.
전술한 양태들은 단지 구현의 가능한 예들일 뿐이며, 단지 본 개시의 원리들의 명확한 이해를 위해 설명된다. 본 개시 내용의 사상 및 원리로부터 실질적으로 벗어나지 않고 전술한 실시예 (들)에 대해 많은 변형 및 수정이 이루어질 수 있다. 이러한 모든 수정 및 변경은 본 개시 내용의 범위 내에서 본 출원에 포함되도록 의도되고, 개별적인 양태 또는 엘리먼트 또는 단계의 조합에 대한 모든 가능한 청구 범위는 본 개시 내용에 의해 지지되도록 의도된다. 더욱이, 특정 용어가 본 명세서 및 이하의 청구 범위에서 사용되었지만, 그것들은 일반적이고 설명적인 의미로만 사용되며, 설명된 발명을 한정하기 위한 목적이나 이하의 청구 범위를 위한 것이 아니다.

Claims (20)

  1. 회전식 킬른을 위한 킬른 플라이트에 있어서,
    베이스로서, 베이스의 일부가 회전식 킬른 표면에 부착될 수 있는 베이스; 및
    높이 조절기를 포함하는 바디 어셈블리를 포함하고,
    상기 높이 조절기는 상기 베이스에 대해 슬라이딩 가능하거나 또는 선형으로 이동 가능하고, 상기 높이 조절기는 상단 에지를 포함하고,
    상기 상단 에지로부터 상기 회전식 킬른 표면에 부착될 수 있는 상기 베이스의 상기 일부까지의 거리는 상기 킬른 플라이트의 높이이고,
    상기 높이 조절기는 상기 킬른 플라이트의 높이가 조절 가능하도록 상기 베이스에 대해 이동 가능한, 킬른 플라이트.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 높이 조절기는 제1 부분 및 제2 부분을 포함하고, 상기 제2 부분은 상기 상단 에지를 포함하고, 상기 제2 부분과 상기 제1 부분은 동일 평면에 있지 않는(non-coplanar), 킬른 플라이트.
  3. 제1항에 있어서,
    플라이트 바디의 각도 배향(angular orientation)이 조절 가능하도록 상기 베이스 상에 회전 가능하게 지지되는 플라이트 바디를 더 포함하고, 상기 높이 조절기는 상기 플라이트 바디에 이동 가능하게 지지되는, 킬른 플라이트.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 플라이트 바디의 상기 각도 배향은 최대 위치와 베이스 위치 사이에서 조절 가능한, 킬른 플라이트.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 최대 위치와 상기 베이스 위치 사이의 차이는 약 0° 내지 약 30°인, 킬른 플라이트.
  6. 제3항에 있어서,
    상기 베이스는 복수의 개구를 포함하고, 상기 플라이트 바디는 복수의 지지체를 포함하고, 각각의 지지체는 상기 플라이트 바디의 상기 각도 배향이 상기 베이스에 대해 조절 가능하도록 대응하는 개구 내에서 이동 가능한, 킬른 플라이트.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 베이스 상에 지지되는 플라이트 바디를 더 포함하고, 상기 플라이트 바디는 복수의 높이 슬롯을 형성하고, 상기 높이 조절기는 복수의 높이 지지체를 포함하고, 각각의 높이 지지체는 상기 킬른 플라이트의 높이가 조절 가능하도록 대응하는 높이 개구 내에서 이동 가능한, 킬른 플라이트.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 높이 조절기는 상기 플라이트 바디 상에 슬라이딩 가능하게 지지되는, 킬른 플라이트.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 킬른 플라이트의 높이는 최대 높이와 최소 높이 사이에서 슬라이딩으로 또는 선형으로 조절 가능한, 킬른 플라이트.
  10. 회전식 킬른 시스템에 있어서,
    내부 킬른 표면을 포함하는 회전식 킬른; 및
    조절 가능한 킬른 플라이트로서,
    상기 내부 킬른 표면의 일부에 고정되는 베이스; 및
    상기 킬른 표면의 상기 일부와 대향하여 이격된 상단 에지를 포함하는 높이 조절기를 포함하는, 조절 가능한 킬른 플라이트를 포함하고,
    상기 상단 에지로부터 상기 베이스가 고정되는 상기 내부 킬른 표면의 상기 일부까지의 거리는 상기 조절 가능한 킬른 플라이트의 높이이고,
    상기 높이 조절기는 사이 조절 가능한 킬른 플라이트의 높이가 조절 가능하도록 상기 베이스에 대해 이동 가능한, 회전식 킬른 시스템.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 높이 조절기는 제1 부분 및 제2 부분을 포함하고, 상기 제2 부분은 상기 상단 에지를 포함하고, 상기 제2 부분과 상기 제1 부분은 동일 평면에 있지 않는, 회전식 킬른 시스템.
  12. 제10항에 있어서,
    상기 회전식 킬른은 중심 축을 정의하고, 상기 조절 가능한 킬른 플라이트는 상기 중심 축에 대한 플라이트 바디의 각도 배향이 조절 가능하도록 상기 베이스 상에 회전 가능하게 지지되는 플라이트 바디를 더 포함하고, 상기 높이 조절기는 상기 플라이트 바디에 이동 가능하게 지지되는, 회전식 킬른 시스템.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 플라이트 바디의 상기 각도 배향은 최대 위치와 베이스 위치 사이에서 조절 가능하고, 상기 최대 위치와 상기 베이스 위치 사이의 차이는 약 0° 내지 약 30°인, 회전식 킬른 시스템.
  14. 제10항에 있어서,
    상기 조절 가능한 킬른 플라이트는 플라이트 바디를 더 포함하고, 상기 플라이트 바디는 복수의 높이 슬롯을 형성하고, 상기 높이 조절기는 복수의 높이 지지체를 포함하고, 각각의 높이 지지체는 상기 조절 가능한 킬른 플라이트의 높이가 조절 가능하도록 대응하는 높이 슬롯 내에서 이동 가능한, 회전식 킬른 시스템.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 높이 조절기는 상기 플라이트 바디 상에 슬라이딩 가능하게 지지되는, 회전식 킬른 시스템.
  16. 제10항에 있어서,
    상기 베이스는 상기 내부 킬른 표면에 고정되는, 회전식 킬른 시스템.
  17. 회전식 킬른을 제어하는 방법에 있어서,
    킬른 플라이트의 높이 조절기를 슬라이딩 하거나 선형으로 이동시킴으로써 회전식 킬른의 내부 킬른 표면의 일부에 고정된 베이스 상에서 킬른 플라이트의 높이를 조절하는 단계를 포함하고,
    상기 킬른 플라이트의 높이는 상기 킬른 플라이트의 상단 에지와 상기 베이스가 고정되는 상기 내부 킬른 표면의 상기 일부 사이의 거리인, 회전식 킬른을 제어하는 방법.
  18. 제17항에 있어서,
    상기 베이스에 대한 상기 킬른 플라이트의 각도 배향을 조절하는 단계를 더 포함하는, 회전식 킬른을 제어하는 방법.
  19. 제17항에 있어서,
    상기 킬른 플라이트는 복수의 킬른 플라이트 중 제1 킬른 플라이트이고,
    상기 킬른 플라이트의 높이를 조절하는 단계는 상기 복수의 킬른 플라이트의 각각의 킬른 플라이트의 높이를 조절하는 단계를 포함하는, 회전식 킬른을 제어하는 방법.
  20. 제19항에 있어서,
    각각의 킬른 플라이트의 높이를 조절하는 단계는, 상기 회전식 킬른의 제1 구역에서 상기 복수의 킬른 플라이트 중 적어도 하나의 킬른 플라이트를 제1 높이로 조절하는 단계 및 상기 회전식 킬른의 제2 구역에서 상기 복수의 킬른 플라이트 중 적어도 하나의 킬른 플라이트를 상기 제1 높이와 상이한 제2 높이로 조절하는 단계를 포함하는, 회전식 킬른을 제어하는 방법.
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