KR20230101710A - Method and appratus for manufacturing artificial marble - Google Patents

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임재호
이성영
박환석
남해림
안해연
백연주
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Abstract

Provided in the present invention is a method for manufacturing artificial marbles and an apparatus for manufacturing artificial marbles, wherein the method comprises the following steps: discharging a marble resin composition using a multi-axis nozzle into a mold; discharging a base resin composition on the discharged marble resin composition; and curing the marble resin composition and the base resin composition.

Description

인조대리석의 제조 방법 및 장치{METHOD AND APPRATUS FOR MANUFACTURING ARTIFICIAL MARBLE}Method and apparatus for manufacturing artificial marble {METHOD AND APPRATUS FOR MANUFACTURING ARTIFICIAL MARBLE}

본 출원은 2021년 12월 29일에 한국특허청에 제출된 한국 특허 출원 제10-2021-0191120호의 출원일의 이익을 주장하며, 그 내용 전부는 본 명세서에 포함된다. This application claims the benefit of the filing date of Korean Patent Application No. 10-2021-0191120 filed with the Korean Intellectual Property Office on December 29, 2021, all of which are incorporated herein.

본 발명은 인조대리석의 제조 방법 및 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a method and apparatus for manufacturing artificial marble.

건축물 등의 내외장재로서 천연대리석이 활용되고 있다. 그러나, 원석 절단 과정 및 연마 과정 등의 다양한 과정을 거쳐 제품화되고, 큰 하중을 가지므로 시공이 번거로우며, 제품 단가가 상당하여 시공시 비용상의 부담이 따르는 문제가 있다.Natural marble is used as an interior and exterior material for buildings. However, it is commercialized through various processes such as a rough stone cutting process and a polishing process, and has a large load, so construction is cumbersome, and the unit price of the product is considerable, so there is a problem of cost burden during construction.

이에, 천연대리석을 대체할 수 있는 제품들의 개발이 시도되고 있다. Thus, the development of products that can replace natural marble is being attempted.

천연대리석의 대체품으로 개발된 인조대리석의 경우, 수지 조성물을 판 형태로 성형한 후 경화시킨 것으로, 제조 공정이 간단하고, 제품 하중이 경량이어서, 시공이 용이하며, 제품 단가가 저렴하다. In the case of artificial marble developed as an alternative to natural marble, a resin composition is molded into a plate shape and then cured, and the manufacturing process is simple, the product weight is light, the construction is easy, and the product unit price is low.

상기 인조대리석에 천연대리석과 같은 마블 패턴을 구현하기 위한 제조방법으로서 바탕부를 형성하는 베이스 수지 조성물과 마블 패턴을 형성할 착색 수지 조성물을 각각 제조한 후 베이스 수지 조성물에 착색 수지 조성물을 투입한 후 경화하는 방법이 사용되고 있다. 구체적으로, 패턴이 있는 인조대리석은 베이스 수지 조성물에 노즐을 침지시켜 안료 및/또는 칩을 포함하는 마블 수지 조성물을 주형하고 부분혼합한 후 경화하는 방식으로 제조된다. 하지만 이 경우 베이스와 마블 패턴의 경계면이 부자연스럽고, 침지된 노즐로 인한 주변부 오염과 기포 혼입 우려로 원하는 마블 패턴을 구현하는데 제약이 있다. As a manufacturing method for implementing a marble pattern like natural marble on the artificial marble, a base resin composition for forming a base part and a colored resin composition for forming a marble pattern are prepared, respectively, and then the colored resin composition is added to the base resin composition and then cured. method is being used. Specifically, patterned artificial marble is manufactured by immersing a nozzle in a base resin composition to mold a marble resin composition including pigments and/or chips, partially mixing, and then curing. However, in this case, the interface between the base and the marble pattern is unnatural, and there are limitations in implementing the desired marble pattern due to concerns about contamination of the surrounding area and mixing of air bubbles due to the submerged nozzle.

인조대리석 이외에, 타일의 경우에도, 무기질 기재에 패턴을 인쇄하여 제작되는데, 이러한 인쇄 제품들은 제품의 측면 또는 단면에는 패턴을 가질 수 없는 한계가 있다.In addition to artificial marble, even in the case of tiles, patterns are printed on inorganic substrates, and these printed products have limitations in that they cannot have patterns on the side or cross section of the product.

천연대리석의 대체품으로서, 천연대리석과 같은 자연스럽고 고급스러운 장식 효과를 낼 수 있는 제품의 개발이 필요하다. As a substitute for natural marble, it is necessary to develop a product that can produce a natural and luxurious decorative effect like natural marble.

한국 공개특허 제10-2010-0092098호Korean Patent Publication No. 10-2010-0092098

본 출원의 실시상태들은 베이스와 마블 패턴의 경계면이 자연스럽고, 베이스 수지에 의한 노즐의 오염이 없으며, 마블 패턴 형성시 베이스 수지 조성물 중에서의 노즐부의 움직임에 의한 패턴에의 영향이 없어 마블 패턴 불량이 개선되고, 기포 발생 우려가 적은 인조대리석의 제조 방법 및 장치를 제공하고자 한다. In the exemplary embodiments of the present application, the interface between the base and the marble pattern is natural, there is no contamination of the nozzle by the base resin, and there is no effect on the pattern due to the movement of the nozzle part in the base resin composition during formation of the marble pattern, so there is no marble pattern defect. It is intended to provide a method and apparatus for manufacturing artificial marble that is improved and less likely to generate bubbles.

본 출원의 일 실시상태는 몰드 내에 다축 노즐을 이용하여 마블 수지 조성물을 토출하는 단계; 상기 토출된 마블 수지 조성물 상에 베이스 수지 조성물을 토출하는 단계; 및 상기 마블 수지 조성물 및 베이스 수지 조성물을 경화하는 단계를 포함하는 인조대리석의 제조방법을 제공한다. An exemplary embodiment of the present application includes discharging a marble resin composition using a multi-axial nozzle in a mold; discharging a base resin composition onto the discharged marble resin composition; and curing the marble resin composition and the base resin composition.

본 출원의 또 하나의 실시상태는 몰드; 상기 몰드 내에 마블 수지 조성물을 토출하는 노즐을 포함하고, 상기 노즐을 다축으로 이동시키는 마블 수지 조성물 토출부; 및상기 마블 수지 조성물 토출부로부터 토출된 마블 수지 조성물 상에 베이스 수지 조성물을 토출하도록 구비된 베이스 수지 조성물 토출부를 포함하는 인조대리석의 제조장치를 제공한다.Another exemplary embodiment of the present application is a mold; a marble resin composition ejection unit comprising a nozzle for discharging the marble resin composition into the mold and moving the nozzle multiaxially; and a base resin composition discharge unit provided to discharge the base resin composition onto the marble resin composition discharged from the marble resin composition discharge unit.

본 출원의 또 하나의 실시상태는 전술한 실시상태에 따른 인조대리석의 제조방법에 의하여 제조된 인조대리석을 제공한다. Another embodiment of the present application provides artificial marble manufactured by the method for manufacturing artificial marble according to the above-described embodiment.

본 출원의 또 하나의 실시상태는 Y자 패턴을 포함하는 아크릴레이트계 인조대리석을 제공한다. Another exemplary embodiment of the present application provides an acrylate-based artificial marble including a Y-shaped pattern.

본 출원의 실시상태들에 따르면, 인조대리석의 마블 패턴 형성시 베이스 수지에 의한 노즐의 오염이 없으며, 기포 발생 우려가 적다. 또한, 마블 패턴 형성시 베이스 수지 조성물 중에서의 노즐부의 움직임에 의하여 패턴 형태가 영향을 받아 마블 패턴 불량이 발생하는 것을 방지할 수 있고, 베이스 수지 조성물과 마블 수지 조성물 간의 영향력이 적어 자연스러운 패턴을 구현할 수 있으며, 좀더 다양한 패턴 형태를 구현할 수 있다. 또한, Y자 형태의 분지 구조의 마블 패턴을 구현할 수 있다. According to the exemplary embodiments of the present application, when forming a marble pattern of artificial marble, there is no contamination of the nozzle by the base resin, and there is little concern about the generation of air bubbles. In addition, when the marble pattern is formed, it is possible to prevent a marble pattern defect from occurring because the pattern shape is affected by the movement of the nozzle part in the base resin composition, and a natural pattern can be realized because the influence between the base resin composition and the marble resin composition is small. And more diverse pattern types can be implemented. In addition, a Y-shaped branched marble pattern may be implemented.

도 1(a)는 본 발명의 일 실시상태에 따른 마블 패턴 형성 단계이고, 도 1(b)는 본 발명의 다른 실시상태에 따른 마블 패턴 형성 단계이다.
도 2는 본 발명의 일 실시상태에 따른 인조대리석의 제조장치 모식도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시상태에 따른 인조대리석의 제조장치의 평면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시상태에 따른 마블 수지 조성물 토출부의 사시도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시상태에 따른 인조대리석의 제조장치 모식도이다.
도 6은 실시예에서 제작한 인조대리석의 마블 패턴 형상을 촬영한 사진이다.
도 7(a)은 본 발명의 일 실시상태에 따른 인조대리석을 도시한 평면도이고, 도 7(b)는 도 7(a)의 C-C'선에 따라 절단하여 도시한 단면도이다.
Figure 1 (a) is a marble pattern forming step according to one embodiment of the present invention, Figure 1 (b) is a marble pattern forming step according to another embodiment of the present invention.
2 is a schematic view of an apparatus for manufacturing artificial marble according to an exemplary embodiment of the present invention.
3 is a plan view of an apparatus for manufacturing artificial marble according to an exemplary embodiment of the present invention.
4 is a perspective view of a marble resin composition discharge unit according to an exemplary embodiment of the present invention.
5 is a schematic view of an apparatus for manufacturing artificial marble according to another embodiment of the present invention.
6 is a photograph of the marble pattern shape of the artificial marble produced in Example.
FIG. 7(a) is a plan view showing an artificial marble according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 7(b) is a cross-sectional view taken along line C-C′ of FIG. 7(a).

이하, 첨부 도면을 기초로 본 출원의 실시상태들에 대하여 상세히 설명한다. 다만, 첨부된 도면은 상기 실시상태들을 예시하기 위한 것이며, 본 발명의 범위를 한정하기 위한 것은 아니다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present application will be described in detail based on the accompanying drawings. However, the accompanying drawings are for exemplifying the above embodiments, and are not intended to limit the scope of the present invention.

본 출원의 일 실시상태는 몰드 내에 다축 노즐을 이용하여 마블 수지 조성물을 토출하는 단계(S10), 토출된 마블 수지 조성물 상에 베이스 수지 조성물을 토출하는 단계(S20) 및 마블 수지 조성물 및 베이스 수지 조성물을 경화하는 단계(S30)를 포함하는 인조대리석의 제조방법을 제공한다. An exemplary embodiment of the present application includes discharging a marble resin composition in a mold using a multi-axial nozzle (S10), discharging a base resin composition on the discharged marble resin composition (S20), and the marble resin composition and the base resin composition. It provides a method for manufacturing artificial marble comprising the step (S30) of curing.

상기 실시상태에 따르면, 마블 수지 조성물을 베이스 수지 조성물의 토출 전에 몰드 내에 토출함으로써, 마블 패턴 형성시 베이스 수지 조성물에 의한 노즐의 오염이 없으며, 기포 발생 우려가 적고, 노즐이 좌우로 이동하더라도 먼저 토출된 마블 패턴에 간섭을 일으키지 않으므로, 패턴 불량을 방지할 수 있다. According to the above embodiment, by discharging the marble resin composition into the mold before discharging the base resin composition, there is no contamination of the nozzle by the base resin composition during formation of the marble pattern, there is little risk of bubble generation, and even if the nozzle moves left and right, the nozzle is discharged first. Since it does not interfere with the marble pattern, pattern defects can be prevented.

또한, 다축 노즐을 이용하여 마블 수지 조성물을 토출함으로써 패턴 구현에 자유도가 높고, 상대적으로 다양한 패턴 설계가 가능하다. 또한, 상기와 같이 마블 수지 조성물을 먼저 토출하기 때문에 다축 노즐을 사용하는 경우에도 베이스 수지 조성물의 영향 없이 선명한 마블 패턴을 형성할 수 있다. In addition, by discharging the marbled resin composition using a multi-axis nozzle, the degree of freedom in pattern implementation is high and relatively various pattern designs are possible. In addition, since the marble resin composition is first discharged as described above, a clear marble pattern can be formed without the influence of the base resin composition even when a multi-axis nozzle is used.

본 명세서에서, 다축 노즐이란 하나의 마블 수지 조성물 토출부에 하나 이상의 노즐이 결합된 것을 의미하며, 마블 수지 조성물 토출부가 별도의 축 또는 이동수단에 결합됨으로써 상하좌우로 이동가능한 것을 의미한다. In the present specification, a multi-axis nozzle means that one or more nozzles are coupled to one marble resin composition ejection unit, and means that the marble resin composition ejection unit is movable up, down, left, and right by being coupled to a separate shaft or moving means.

마블 수지 조성물을 토출하는 단계는 인조대리석에 마블 패턴을 형성하는 단계이다. 몰드는 어느 일 방향(Y방향)으로 이송되는 컨베이어 상에 구비된 이송판을 포함할 수 있다. The step of discharging the marble resin composition is a step of forming a marble pattern on the artificial marble. The mold may include a transfer plate provided on a conveyor that is transferred in one direction (Y direction).

도 1(a)는 본 발명의 일 실시상태에 따른 마블 패턴 형성 단계이고, 도 1(b)는 본 발명의 다른 실시상태에 따른 마블 패턴 형성 단계이다. Figure 1 (a) is a marble pattern forming step according to one embodiment of the present invention, Figure 1 (b) is a marble pattern forming step according to another embodiment of the present invention.

일 실시예에 따른 마블 수지 조성물(M)을 토출하는 단계는 다축 노즐이 하나의 노즐을 포함할 수 있다. 그리고, 마블 수지 조성물(M)을 토출하는 단계는 다축 노즐이 제1 방향(①)으로 진행하며 마블 수지 조성물(M)을 토출하는 단계(11a), 제1 방향(①)으로 진행된 다축 노즐이 제1 방향(①)의 역방향으로 복귀하는 단계(11b) 및 복귀한 다축 노즐 제2 방향(②)으로 진행하며 마블 수지 조성물(M)을 토출하는 단계(11c)를 포함할 수 있다. In the step of discharging the marbled resin composition (M) according to an embodiment, a multi-axis nozzle may include one nozzle. In addition, the step of discharging the marble resin composition (M) is the step (11a) of ejecting the marble resin composition (M) while the multi-axial nozzle moves in a first direction (①), and the multi-axial nozzle proceeds in the first direction (①). It may include a step (11b) of returning in a direction opposite to the first direction (①) and a step (11c) of discharging the marble resin composition (M) while proceeding in the second direction (②) of the returned multi-axis nozzle.

이때, 제1 방향(①)과 제2 방향(②)은 적어도 일부가 겹칠 수 있는데, 제1 방향과 제2 방향이 겹치는 영역은 토출되는 마블 수지 조성물(M)의 토출양을 조절하여 제1 방향(①)과 제2 방향(②)이 겹치는 영역과 겹치지 않은 영역의 마블 수지 조성물 토출양과 편차를 감소시킬 수 있다. At this time, the first direction (①) and the second direction (②) may overlap at least a part, and the area where the first direction and the second direction overlap is controlled by the discharge amount of the marble resin composition (M) to be discharged to achieve the first It is possible to reduce the discharge amount and deviation of the marbled resin composition in the area where the direction (①) and the second direction (②) overlap and do not overlap.

다른 실시예에 따른 마블 수지 조성물(M)을 토출하는 단계는 다축 노즐이 두 개의 노즐(이하, 제1 노즐 및 제2 노즐이라고 함)을 포함할 수 있다. 그리고, 마블 수지 조성물(M)을 토출하는 단계는 제1 노즐이 제1 방향(①)으로 진행되며 마블 수지 조성물(M)을 토출하는 단계(12a) 및 제2 노즐이 제2 방향(②)으로 진행되며 마블 수지 조성물을 토출하는 단계(12b)를 포함할 수 있다. 이때, 제1 방향(①)과 제2 방향(②)은 적어도 하나의 교차점을 공유할 수 있다. In the step of discharging the marbled resin composition M according to another embodiment, the multiaxial nozzle may include two nozzles (hereinafter referred to as a first nozzle and a second nozzle). In addition, the step of discharging the marbled resin composition (M) is the step (12a) of discharging the marbled resin composition (M) by the first nozzle in a first direction (①) and the step (12a) of discharging the marbled resin composition (M) by the second nozzle in a second direction (②). and discharging the marbled resin composition (12b). At this time, the first direction (①) and the second direction (②) may share at least one intersection point.

그리고, 도 1은 마블 패턴을 Y자 형태로 도시하고 있으나, 마블 패턴은 분지 구조를 갖는 패턴이라면 특별히 한정하지 않는다. And, although FIG. 1 shows the marble pattern in the shape of Y, the marble pattern is not particularly limited as long as it has a branched structure.

베이스 수지 조성물을 토출하는 단계(S20)는 마블 수지 조성물 위에 베이스 수지 조성물을 토출하는 단계이다. 몰드는 컨베이어에 의하여 일측에서 타측으로 이동될 수 있다. 따라서, 컨베이어는 베이스 수지 조성물을 일측에서 타측으로 이동시킬 수 있다. Discharging the base resin composition (S20) is a step of discharging the base resin composition on the marble resin composition. The mold may be moved from one side to the other side by a conveyor. Accordingly, the conveyor may move the base resin composition from one side to the other side.

베이스 수지 조성물을 토출하는 단계(S20)에 있어서, 수지 조성물의 조성에 따라 경화 조건이 선택될 수 있으며, 예컨대 70℃~140℃의 온도에서 경화시킬 수 있다. In the step of discharging the base resin composition (S20), curing conditions may be selected according to the composition of the resin composition, and may be cured at a temperature of, for example, 70°C to 140°C.

상기 베이스 수지 조성물(B)은 베이스 수지 및 무기충전제를 포함할 수 있으며, 필요에 따라 안료 및 기타 첨가제를 더 포함할 수 있다. The base resin composition (B) may include a base resin and an inorganic filler, and may further include a pigment and other additives if necessary.

상기 베이스 수지는 불포화 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지, 에폭시계 수지 등이 사용 가능하고, 바람직하게는 가공성 및 내후성이 우수한 아크릴계 수지를 이용할 수 있다. 상기 아크릴계 수지는 PMMA(poly methyl methacrylate)를 포함할 수 있으며, 필요에 따라 아크릴계 단량체를 더 포함할 수 있다.The base resin may be an unsaturated polyester resin, an acrylic resin, an epoxy resin, or the like, and preferably an acrylic resin having excellent processability and weather resistance. The acrylic resin may include PMMA (poly methyl methacrylate), and may further include an acrylic monomer if necessary.

상기 무기충전제는 수산화알루미늄, 수산화 마그네슘, 알루민산 칼슘, 알루미나, 실리카 등의 무기분말 중 1종 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The inorganic filler may be used by mixing one or two or more of inorganic powders such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium aluminate, alumina, and silica.

상기 무기충전제는 상기 베이스 수지 100중량부에 대하여 30~75중량부로 포함될 수 있고, 바람직하게는, 60~70 중량부로 포함될 수 있다. The inorganic filler may be included in an amount of 30 to 75 parts by weight, preferably 60 to 70 parts by weight, based on 100 parts by weight of the base resin.

상기 안료는 유기 안료 또는 무기 안료일 수 있으며, 그 종류 및 색상은 특별히 제한하지 않는다. 상기 안료는 상기 베이스 수지 100중량부에 대하여 5중량부 이하로 포함될 수 있다.The pigment may be an organic pigment or an inorganic pigment, and its type and color are not particularly limited. The pigment may be included in an amount of 5 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the base resin.

상기 기타 첨가제는 중합개시제, 소포제, 커플링제, 자외선 흡수제, 이형제, 중합억제제, 산화방지제 및 촉매로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상일 수 있다. 상기 기타 첨가제의 함량은 특별히 제한하지 않으며, 인조대리석의 물성조절을 위해 통상의 기술자가 적당한 양을 첨가하여 사용할 수 있다. 상기 첨가제 각각의 함량은 필요에 따라 결정될 수 있으며, 예컨대, 상기 베이스 수지 100 중량부에 대하여 10 중량부 이하, 구체적으로 0.001 중량부 내지 10 중량부로 포함될 수 있다. The other additives may be at least one selected from the group consisting of a polymerization initiator, an antifoaming agent, a coupling agent, an ultraviolet absorber, a release agent, a polymerization inhibitor, an antioxidant, and a catalyst. The content of the other additives is not particularly limited, and a person skilled in the art may add and use an appropriate amount to adjust the physical properties of artificial marble. The content of each of the additives may be determined as needed, and for example, may be included in an amount of 10 parts by weight or less, specifically 0.001 part by weight to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the base resin.

일 예에 따르면, 상기 베이스 수지 조성물(B)은 아크릴계 수지, 아크릴계 단량체, 무기 충전제, 안료 및 산화방지제를 포함할 수 있다. According to one example, the base resin composition (B) may include an acrylic resin, an acrylic monomer, an inorganic filler, a pigment, and an antioxidant.

상기 베이스 수지 조성물(B)은 전술한 경화 단계에 의하여 인조대리석에는 상기 조성물의 경화물 형태로 존재할 수 있다. 여기서, 경화물이란 수지 조성물에 포함된 성분들이 그대로 또는 경화조건에 따라 중합 및/또는 건조된 상태를 의미한다. 여기서, 중합이란 경화단계에서 주어진 경화조건에 의하여, 수지 조성물 내의 성분들이 서로 화학적 반응을 하는 것을 의미한다. 중합 여부는 수지 조성물에 첨가되는 성분들 및/또는 경화조건에 따라 달라질 수 있다. The base resin composition (B) may exist in the form of a cured product of the composition in artificial marble by the curing step described above. Here, the cured product means a state in which the components included in the resin composition are polymerized and/or dried according to curing conditions or as is. Here, polymerization means that the components in the resin composition chemically react with each other according to the curing conditions given in the curing step. Polymerization may vary depending on components added to the resin composition and/or curing conditions.

한편, 상기 베이스 수지 조성물(B)의 점도는 20~120 Ps일 수 있다. 상기 베이스 수지 조성물(B)의 점도가 20 Ps 이상으로 하는 경우, 마블 수지 조성물과 쉽게 혼합되지 않아, 선명한 경계를 갖는 마블 패턴을 형성하는 데 유리하다. 상기 베이스 수지 조성물(B)의 점도가 120 Ps 이하인 경우 비정형의 마블 패턴을 구현하는 것이 가능하다. Meanwhile, the viscosity of the base resin composition (B) may be 20 to 120 Ps. When the viscosity of the base resin composition (B) is 20 Ps or more, it is not easily mixed with the marble resin composition and is advantageous in forming a marble pattern having a clear boundary. When the viscosity of the base resin composition (B) is 120 Ps or less, it is possible to implement an atypical marble pattern.

선택적으로, 상기 베이스 수지 조성물(B)은 칩을 더 포함할 수 있다.Optionally, the base resin composition (B) may further include chips.

상기 칩은 착색되지 않은 투명칩이거나 상기 베이스 수지 또는 마블 패턴과 다른 컬러로 착색된 투명칩 또는 불투명칩일 수 있으며, 상기 칩 자체의 형태, 컬러 및 투명도로 인한 칩 패턴의 형성이 가능하다. 상기 칩의 제조는 통상의 인조대리석용 칩 제조방법을 따르더라도 무방하며, 그 일례로는 상기 칩 제조용 수지 조성물을 판 형태로 성형한 후 경화시켜 얻어지는 판재를 분쇄기로 분쇄함으로써 제조할 수 있다.The chip may be an uncolored transparent chip, or a transparent chip or opaque chip colored in a different color from the base resin or marble pattern, and a chip pattern may be formed due to the shape, color, and transparency of the chip itself. The chip may be manufactured by following a conventional chip manufacturing method for artificial marble, and as an example, it may be manufactured by molding the resin composition for chip manufacturing into a plate shape and then pulverizing the plate material obtained by curing the chip.

상기 마블 수지 조성물은 상기 베이스 수지 조성물(B)과 안료의 유무, 안료의 종류 및/또는 함량의 차이에 의해 색상이 다르다는 것을 제외하고 동일한 수지 조성물일 수 있고, 상기 베이스 수지 조성물(B)과 상이한 수지 조성물일 수도 있다. 상이한 수지 조성물을 이용한 경우의 일 예는 베이스 수지는 동일하되, 무기충전제 함량을 조절하여 비중을 작거나 크게 한 것일 수 있으며, 또는 다른 예로 베이스 수지를 상이한 것을 사용한 것 등일 수 있다. 마블 수지 조성물을 토출하는 다축 노즐에서 토출하는 마블 수지 조성물은 동일하거나 상이할 수 있다. 예컨대 복수의 마블 수지 조성물은 서로 상이한 컬러의 마블 패턴을 형성할 수 있는 조성물일 수 있다. The marble resin composition may be the same resin composition as the base resin composition (B) except that the color is different due to the presence or absence of a pigment, the type and/or content of the pigment, and may be different from the base resin composition (B). It may be a resin composition. One example of using different resin compositions is that the base resin is the same, but the specific gravity is reduced or increased by adjusting the content of the inorganic filler, or another example may be that a different base resin is used. The marble resin composition ejected from the multi-axis nozzle ejecting the marble resin composition may be the same or different. For example, a plurality of marble resin compositions may be compositions capable of forming marble patterns of different colors.

그리고, 본 발명에 따른 인조대리석의 제조방법은 몰드(10)에 마블 수지 조성물(M)을 토출하기 전 베이스 수지 조성물(B)을 토출하는 단계(S0)를 더 포함할 수 있다. In addition, the manufacturing method of artificial marble according to the present invention may further include a step (S0) of discharging the base resin composition (B) before discharging the marble resin composition (M) into the mold 10.

베이스 수지 조성물(B)을 토출하는 단계(S0)는 몰드(10)에 베이스 수지 조성물(B)을 0 초과 5㎜ 이하의 두께로 토출될 수 있다. 바람직하게 베이스 수지 조성물(B)은 1㎜ 내지 3㎜ 두께로 토출될 수 있고, 더 바람직하게 베이스 수지 조성물(B)은 1㎜ 내지 2㎜ 두께로 토출될 수 있다. In the step (S0) of discharging the base resin composition (B), the base resin composition (B) may be discharged into the mold 10 to a thickness greater than 0 and less than or equal to 5 mm. Preferably, the base resin composition (B) may be ejected in a thickness of 1 mm to 3 mm, and more preferably, the base resin composition (B) may be ejected in a thickness of 1 mm to 2 mm.

몰드(10)에 마블 수지 조성물(M)을 토출하기 전 베이스 수지 조성물(B)을 토출하여 상기 두께를 만족하는 베이스 층(베이스 수지 조성물(B)의 경화물)을 형성함으로써, 인조대리석 표면에 패턴(마블 수지 조성물(M)의 경화물)이 선명하게 나타날 수 있다. By discharging the base resin composition (B) before discharging the marble resin composition (M) into the mold 10 to form a base layer (cured product of the base resin composition (B)) satisfying the above thickness, the surface of the artificial marble is A pattern (cured product of the marble resin composition (M)) can appear clearly.

다시 말해, 베이스 수지 조성물(B)은 마블 수지 조성물(M)이 침투되는 구성으로, 베이스 수지 조성물(B)의 두께가 5㎜를 초과하면 마블 수지 조성물(M)의 침투 후에도 인조대리석 표면과 패턴 사이 베이스 층의 두께가 두꺼워 인조대리석 표면에 패턴이 보이지 않을 수 있다. In other words, the base resin composition (B) has a configuration in which the marble resin composition (M) penetrates, and when the thickness of the base resin composition (B) exceeds 5 mm, the surface and pattern of the artificial marble even after the marble resin composition (M) penetrates. The thickness of the SAI base layer is thick, so the pattern may not be visible on the surface of the artificial marble.

그리고, 몰드(10)에 마블 수지 조성물(M)을 토출하기 전 베이스 수지 조성물(B)을 토출하여 일정 두께를 갖는 층을 형성함으로써, 인조대리석의 표면 전체가 베이스 수지 조성물(B)의 경화물로 이루어져 인조대리석의 표면 및 인조대리석에 포함된 패턴에 기포 및 핀홀이 발생될 우려가 감소할 수 있다.In addition, by discharging the base resin composition (B) before discharging the marble resin composition (M) into the mold 10 to form a layer having a certain thickness, the entire surface of the artificial marble is a cured product of the base resin composition (B). Concerning the occurrence of air bubbles and pinholes on the surface of the artificial marble and patterns included in the artificial marble can be reduced.

이하에서는 전술한 인조대리석의 제조방법을 수행할 수 있는 인조대리석의 제조장치에 대하여 설명한다. 다만, 중복된 설명을 피하기 위하여, 전술한 제조방법과 관련한 설명, 예시, 작용원리 및 효과가 이하의 장치에 적용될 수 있다.Hereinafter, an apparatus for manufacturing artificial marble capable of performing the above-described method for manufacturing artificial marble will be described. However, in order to avoid redundant description, descriptions, examples, operating principles, and effects related to the above manufacturing method may be applied to the following devices.

도 2는 본 발명의 일 실시상태에 따른 인조대리석의 제조장치(100) 모식도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시상태에 따른 인조대리석의 제조장치(100)의 평면도이고, 도 4는 본 발명의 일 실시상태에 따른 마블 수지 조성물 토출부(20)의 사시도이다. Figure 2 is a schematic diagram of an artificial marble manufacturing apparatus 100 according to an exemplary embodiment of the present invention, Figure 3 is a plan view of an artificial marble manufacturing apparatus 100 according to an exemplary embodiment of the present invention, Figure 4 is a plan view of the present invention It is a perspective view of the marble resin composition discharge unit 20 according to an exemplary embodiment.

본 발명에 따른 인조대리석의 제조장치(100)는 연속적으로 인조대리석의 제조공정이 이뤄지는 것으로, 몰드(10), 마블 수지 조성물 토출부(20) 및 베이스 수지 조성물 토출부(30)를 포함할 수 있다. The artificial marble manufacturing apparatus 100 according to the present invention continuously manufactures artificial marble, and may include a mold 10, a marble resin composition discharge unit 20 and a base resin composition discharge unit 30. there is.

몰드(10)는 어느 일 방향으로 이송되는 컨베이어(1) 상에 구비된 이송판을 포함할 수 있다. 몰드(10)은 컨베이어(1)에 의하여 우측에서 좌측으로 이동한다. 이 때, 노즐(61)을 통하여 마블 수지 조성물(M)이 토출된 후 베이스 수지 조성물(B)가 그 위에 토출된다. 컨베이어(1)는 상기 베이스 수지 조성물(B)을 일 방향(도 2의 우측으로부터 좌측으로 향하는 방향)으로 이동시킨다. 컨베이어는 모터(도면상 미도시) 구동에 의한 롤러(2)의 회전에 의해 주행함으로써 그 상부에 안착되는 베이스 수지 조성물(B)을 일 방향으로 자동 이동시키는 것이 가능하다. 이 때, 컨베이어(1) 상의 이송판은 평판으로 구성될 수 있으며, 이송 후 바로 경화 공정에 적용될 수 있다. The mold 10 may include a transfer plate provided on the conveyor 1 that is transferred in one direction. The mold 10 moves from right to left by the conveyor 1. At this time, after the marble resin composition (M) is discharged through the nozzle 61, the base resin composition (B) is discharged thereon. Conveyor 1 moves the base resin composition (B) in one direction (direction from right to left in FIG. 2). The conveyor is capable of automatically moving the base resin composition (B) seated thereon in one direction by traveling by the rotation of the roller 2 driven by a motor (not shown). At this time, the transfer plate on the conveyor 1 may be composed of a flat plate, and may be applied to a curing process immediately after transfer.

마블 수지 조성물 토출부(20)는 몰드(10) 내에 마블 수지 조성물(M)을 토출하는 노즐(21)을 포함하고, 노즐(21)을 다축으로 이동시킬 수 있다. 따라서, 마블 수지 조성물 토출부(20)는 노즐(21), 노즐(21)에 마블 수지 조성물을 공급하는 디스펜서(22) 및 디스펜서의 위치를 제어하는 이동수단(23)을 포함할 수 있다. The marbled resin composition ejection unit 20 includes a nozzle 21 for discharging the marbled resin composition M into the mold 10, and the nozzle 21 can be moved multiaxially. Accordingly, the marble resin composition ejection unit 20 may include a nozzle 21, a dispenser 22 for supplying the marble resin composition to the nozzle 21, and a moving means 23 for controlling the position of the dispenser.

노즐(21)은 마블 수지 조성물(M)을 토출하기 위한 관 형상일 수 있다. 노즐(21)의 재질은 공정 조건, 예컨대 베이스 수지 조성물의 점도와 같은 물성이나 이송속도, 토출하는 마블 수지 조성물의 물성, 형성하고자 하는 마블 패턴의 형태 등을 고려하여 요구되는 물성을 갖는 것으로 결정될 수 있다. 일 예로서, 노즐(21)은 테플론 소재로 구성될 수 있다. 테플론은 우수한 슬립성, 내화학성, 내마모성, 압축강도 및 인장강도를 가지며, 형상을 가공하기에 유리하다. 테플론 이외에 폴리에틸렌(PE), 폴리프로필렌(PP) 재질로 이루어진 노즐을 사용할 수도 있다. 노즐(21)은 각각 형상 및/또는 재질이 동일할 수도 있고 서로 상이할 수도 있다. 각 노즐(21)의 구경은 필요에 따라 다양하게 설정될 수 있다. The nozzle 21 may have a tubular shape for discharging the marbled resin composition M. The material of the nozzle 21 may be determined to have required physical properties in consideration of process conditions, for example, physical properties such as the viscosity of the base resin composition, transport speed, physical properties of the marble resin composition to be discharged, and the shape of the marble pattern to be formed. there is. As an example, the nozzle 21 may be made of a Teflon material. Teflon has excellent slip properties, chemical resistance, abrasion resistance, compressive strength and tensile strength, and is advantageous for processing into shapes. In addition to Teflon, nozzles made of polyethylene (PE) or polypropylene (PP) materials may be used. The nozzles 21 may have the same shape and/or material, or may be different from each other. The caliber of each nozzle 21 may be variously set as needed.

노즐(21)은 하나 이상이 포함될 수 있다. 예를 들어, 마블 수지 조성물 토출부(20)가 두 개 이상의 노즐(21)을 포함할 경우, 각각의 노즐(21)에서 토출되는 마블 수지 조성물은 색상, 입자의 크기, 점성 및 조성 중 어느 하나 이상이 상이할 수 있다. 그리고, 각각의 노즐(21)은 마블 수지 조성물(M)이 토출되는 토출구의 지름이 상이하게 구비될 수 있다. 따라서, 노즐은 다양한 각도와 굵기로 마블 수지 조성물을 토출하여, 다양한 각도와 굵기를 갖는 사선 무늬의 패턴을 형성할 수 있다. One or more nozzles 21 may be included. For example, when the marble resin composition dispensing unit 20 includes two or more nozzles 21, the marble resin composition discharged from each nozzle 21 has one of color, particle size, viscosity, and composition. Ideals may be different. In addition, each nozzle 21 may have a different diameter of a discharge port through which the marble resin composition M is discharged. Accordingly, the nozzle may discharge the marble resin composition at various angles and thicknesses to form oblique pattern patterns having various angles and thicknesses.

마블 수지 조성물 토출부(20)가 두 개 이상의 노즐(21)을 포함할 경우, 노즐(21)은 1㎝ 미만 간격으로 이격되어 구비될 수 있다. 그리고, 노즐(21)은 컨베이어의 진행 방향(Y 방향)과 수직되는 방향(X 방향)으로 이격되어 구비될 수 있다. When the marble resin composition discharge unit 20 includes two or more nozzles 21, the nozzles 21 may be spaced apart from each other at an interval of less than 1 cm. Also, the nozzles 21 may be spaced apart from each other in a direction (X direction) perpendicular to the moving direction (Y direction) of the conveyor.

상기 노즐(21)은, 필요에 따라, 형성하고자 하는 마블 패턴의 형상에 따라 마블 수지 조성물을 간헐적으로 토출할 수 있다. 간헐적 토출을 위하여 상기 노즐은 노즐 밸브(22a, 22b)의 작동에 의해 토출구 개방 유지 시간을 제어할 수 있다. 여기서 “간헐적”이란 “연속”에 반대되는 표현으로, 토출 시기와 주기는 필요에 따라 결정될 수 있다. The nozzle 21 may intermittently discharge the marble resin composition according to the shape of a marble pattern to be formed, if necessary. For intermittent discharge, the nozzle may control the opening time of the discharge port by operating the nozzle valves 22a and 22b. Here, "intermittent" is an expression opposite to "continuous", and the discharge timing and cycle may be determined as needed.

일 예에 따르면, 상기 노즐(21)은 몰드(10)의 바닥면으로부터 0.5 cm 내지 3 cm의 높이에서 마블 수지 조성물(M)을 토출하도록 제어될 수 있다. According to one example, the nozzle 21 may be controlled to discharge the marble resin composition M at a height of 0.5 cm to 3 cm from the bottom surface of the mold 10 .

상기 노즐(21)을 포함하는 마블 수지 조성물 토출부(20)는 1개만 구비될 수도 있으나, 2개 또는 3개 이상이 구비될 수 있다. Although only one marble resin composition ejection unit 20 including the nozzle 21 may be provided, two or three or more may be provided.

도 5는 본 발명의 다른 실시상태에 따른 인조대리석의 제조장치 모식도이다. 2개 이상의 마블 수지 조성물 토출부(20)는 상기 컨베이어의 흐름 방향과 평행한 방향으로 배치될 수 있다. 도 2에는 마블 수지 조성물 토출부(20)가 1개 구비된 예를 도시한 것이고, 도 5에는 마블 수지 조성물 토출부(20)가 2개 구비된 예를 도시한 것이나, 필요에 따라 3개 이상이 구비될 수도 있다. 5 is a schematic view of an apparatus for manufacturing artificial marble according to another embodiment of the present invention. Two or more marble resin composition discharge units 20 may be disposed in a direction parallel to the flow direction of the conveyor. FIG. 2 shows an example in which one marble resin composition discharge unit 20 is provided, and FIG. 5 shows an example in which two marble resin composition discharge units 20 are provided, but three or more units are shown if necessary. may be provided.

본 출원의 또 하나의 실시상태에 있어서, 전술한 실시상태의 상기 노즐(21)의 위치는 이동수단(23)에 의하여 제어될 수 있다. 상기 이동수단(23)의 구동은 주형 로봇에 의하여 제어될 수 있다. In another exemplary embodiment of the present application, the position of the nozzle 21 in the aforementioned exemplary embodiment may be controlled by the moving means 23 . The driving of the moving means 23 may be controlled by a mold robot.

상기 이동수단(23)은 상기 노즐(21)을 Y 방향(컨베이어 진행 방향), X 방향(노즐(21) 나열 방향) 및 Z 방향 중 어느 하나 이상의 방향으로 이동시킨다. 이 때 이동은 간헐적으로 수행될 수 있으며, 이동 방향 및 이동 폭이 필요에 따라 결정될 수 있다. 도 3 및 4에 따르면, 상기 이동수단(23)은 구동체(도면상 미도시)의 구동에 의해 X, Y 및 Z 방향 중 어느 하나 이상의 방향으로 이동하는 가동부(23a); 및 상기 가동부(23a)를 지지하는 지지부(23b)를 포함할 수 있다. The moving means 23 moves the nozzle 21 in any one or more directions of the Y direction (the conveyor moving direction), the X direction (the direction in which the nozzles 21 are arranged), and the Z direction. At this time, the movement may be performed intermittently, and the movement direction and movement width may be determined as needed. According to Figures 3 and 4, the moving means 23 is a movable unit (23a) that moves in any one or more directions of the X, Y and Z directions by the drive of the driving body (not shown on the drawing); and a support part 23b supporting the movable part 23a.

이동수단(23)은 사용자에 의해 기 저장된 모양의 패턴을 기초로 노즐(21)을 이동시킬 수 있다. 이동수단(23)은 X 및 Y 방향으로 이동하면서 마블 패턴의 형태를 조절하여 분지 구조를 갖는 마블 패턴을 형성할 수 있다. 여기서, 분지 구조는 가지 무늬 및 Y자 패턴 중 어느 하나 이상을 포함할 수 있다. The moving unit 23 may move the nozzle 21 based on a pre-stored pattern by the user. The moving means 23 may form a marble pattern having a branched structure by adjusting the shape of the marble pattern while moving in the X and Y directions. Here, the branching structure may include any one or more of a branch pattern and a Y-shaped pattern.

그리고, 이동수단(23)은 Z 방향으로 노즐을 이동시켜 마블 패턴의 굵기를 조절할 수 있다. 이동수단(23)은 XY, XZ 및 YZ 중 어느 하나의 방향으로 이동하는 2축 이동을 하거나, XYZ 방향으로 이동하는 3축 이동을 할 수 있다. Also, the moving unit 23 may adjust the thickness of the marble pattern by moving the nozzle in the Z direction. The moving means 23 may perform 2-axis movement in any one of XY, XZ, and YZ directions, or 3-axis movement in XYZ directions.

도 2에는 상기 이동수단(23)과 상기 노즐(21) 사이에 구비된 디스펜서(22)가 구비된다. 상기 디스펜서(22)는 상기 노즐(21)에 마블 수지 조성물을 공급하는 역할을 할 수 있다. 노즐(21)에 공급되는 마블 수지 조성물의 종류 및 양은 동일할 수도 있으나, 각각 서로 상이하게 조절할 수도 있다. 2, a dispenser 22 provided between the moving means 23 and the nozzle 21 is provided. The dispenser 22 may serve to supply the marble resin composition to the nozzle 21 . The type and amount of the marbled resin composition supplied to the nozzle 21 may be the same, but may be adjusted differently from each other.

이 때, 상기 가동부(23a)의 일측은 상기 디스펜서(22)에 고정될 수도 있고, 필요에 따라 상기 노즐(21)에 직접 고정됨으로써 노즐의 위치를 제어할 수 있다. 상기 가동부(23a)의 타측은 상기 지지부(23b)에 고정된다. At this time, one side of the movable part 23a may be fixed to the dispenser 22 or, if necessary, directly fixed to the nozzle 21 to control the position of the nozzle. The other side of the movable part 23a is fixed to the support part 23b.

상기 가동부(23a)을 이동하는 구동체는 상기 가동부(23a)를 X, Y 및 Z방향 중 어느 하나 이상의 방향으로 이동시킬 수 있도록 하는 것이라면 통상의 어떠한 구조 및 방식의 것이어도 무방하며, 그 일례로는 실린더일 수 있고, 다른 일례로는 모터에 의해 구동하는 랙 및 피니언일 수 있다. The driving body for moving the movable part 23a may be of any conventional structure and method as long as it can move the movable part 23a in one or more directions among the X, Y, and Z directions. May be a cylinder, another example may be a rack and pinion driven by a motor.

일 실시예에 있어서, 마블 수지 조성물 토출부(20)가 하나의 노즐(21)을 포함할 경우, 가동부(23a)는 노즐(21)을 제1 방향으로 이동하여 마블 패턴 중 주축부(도면상 미도시)를 형성할 수 있다. 그리고, 가동부(23a)는 노즐(21)을 시작 위치로 이동시킨 후, 제2 방향으로 이동시켜 주축부에서 분지된 분지부(도면상 미도시)를 형성할 수 있다. In one embodiment, when the marble resin composition ejection unit 20 includes one nozzle 21, the movable unit 23a moves the nozzle 21 in a first direction to form a main shaft part (on the drawing) of the marble pattern. not shown) can be formed. In addition, the movable part 23a may move the nozzle 21 to the starting position and then move it in the second direction to form a branching part (not shown in the drawing) branched from the main shaft part.

다른 실시예에 있어서, 마블 수지 조성물 토출부(20)가 두 개의 노즐(21)을 포함하는 경우, 디스펜서(22)에 포함된 노즐 밸브(22a, 22b)를 조절하여 제1 노즐에만 마블 수지 조성물을 공급하고, 제1 노즐이 제1 방향으로 이동하며 마블 패턴 중 주축부를 형성할 수 있다. 그 후, 제1 노즐에는 마블 수지 조성물의 공급을 중단한 후 제2 노즐에 마블 수지 조성물을 공급하여 제2 노즐을 제2 방향으로 이동시켜 마블 패턴 중 분지부를 형성할 수 있다. In another embodiment, when the marble resin composition discharge unit 20 includes two nozzles 21, the nozzle valves 22a and 22b included in the dispenser 22 are adjusted to supply the marble resin composition only to the first nozzle. is supplied, and the first nozzle moves in a first direction to form a main axis part of the marble pattern. Thereafter, the supply of the marbled resin composition to the first nozzle may be stopped, and then the marbled resin composition may be supplied to the second nozzle to move the second nozzle in a second direction to form branching portions in the marble pattern.

다른 실시예에 따른 마블 수지 조성물 토출부(20)는 제1 및 제2 노즐에 각각 색상, 입자의 크기, 점도 및 조성 중 어느 하나 이상이 상이한 마블 수지 조성물을 공급할 수 있다. The marble resin composition ejection unit 20 according to another embodiment may supply marble resin compositions having at least one different color, particle size, viscosity, and composition to the first and second nozzles, respectively.

그리고, 다른 실시예에 따른 마블 수지 조성물 토출부(20)는 제1 방향으로 이동한 후, 제1 방향의 역방향으로 주축부의 1/3 내지 2/3 위치까지 이동된 후 제2 방향으로 이동할 수 있다. Further, the marble resin composition discharge unit 20 according to another embodiment may move in a first direction, move in a direction opposite to the first direction to a position 1/3 to 2/3 of the main shaft, and then move in a second direction. there is.

또는, 마블 수지 조성물 토출부(20)는 제1 노즐과 제2 노즐이 각각 제1 방향과 제2 방향으로 이동될 수 있다. 다시 말해, 제1 노즐과 제2 노즐은 디스펜서와 각각 별도의 축으로 결합될 수 있다.Alternatively, in the marble resin composition ejection unit 20, the first nozzle and the second nozzle may move in the first direction and the second direction, respectively. In other words, the first nozzle and the second nozzle may be coupled to the dispenser through separate shafts.

베이스 수지 조성물 토출부(30)는 경사판을 이용하여 베이스 수지 조성물(B)을 마블 수지 조성물이 토출된 몰드(10)에 토출시킬 수 있다. 구체적으로, 베이스 수지 조성물(B)은 상기 경사판에 의하여 하향 유동된다. 이와 같은 상기 경사판은 일단이 타단 비해 하부에 위치함으로써 베이스 수지 조성물(B)을 하향 유동할 수 있는 것이면 경사각이 특별히 제한되지는 않으며, 예컨대 0~40°의 경사각, 바람직하게는 5~25°의 경사각을 가질 수 있다. The base resin composition discharge unit 30 may discharge the base resin composition (B) into the mold 10 from which the marble resin composition is discharged by using an inclined plate. Specifically, the base resin composition (B) flows downward by the inclined plate. As long as one end of the inclined plate is positioned lower than the other end so that the base resin composition (B) can flow downward, the inclination angle is not particularly limited, for example, an inclination angle of 0 to 40 °, preferably 5 to 25 °. It can have an inclination angle.

일 실시상태에 따르면, 상기 인조대리석의 제조장치(100)는 상기 마블 수지 조성물(M) 및 베이스 수지 조성물(B)을 경화하는 경화부를 더 포함한다. According to one embodiment, the artificial marble manufacturing apparatus 100 further includes a curing unit for curing the marble resin composition (M) and the base resin composition (B).

상기 경화부는 경화수단을 포함할 수 있다. 경화수단은 경화조건에 따라 결정될 수 있으며, 열경화를 하는 경우에는 가온 또는 가열을 위한 수단이 구비될 수 있다. 도 2에는 경화수단이 도시되어 있지 않지만, 도 2에서 베이스 수지 조성물(B)이 토출된 후, 몰드(10)에 담긴 조성물에 경화가능한 조건, 예컨대 70℃~140℃의 온도 조건을 적용함으로써 경화가 이루어질 수 있다. The curing part may include a curing means. The curing means may be determined according to curing conditions, and in the case of thermal curing, means for heating or heating may be provided. Although a curing means is not shown in FIG. 2, after the base resin composition (B) is discharged in FIG. 2, it is cured by applying curable conditions to the composition contained in the mold 10, for example, a temperature condition of 70° C. to 140° C. can be done

일 실시상태에 따르면, 상기 인조대리석의 제조장치(100)는 사용자가 마블 패턴의 형태 또는 마블 수지 조성물 토출부(20)의 이동 방향을 입력하는 입력부 및 상기 입력부에서 마블 패턴의 형태 또는 마블 수지 조성물 토출부(20)의 이동 방향 데이터를 전달받아, 마블 수지 조성물 토출부(20)의 이동 및 노즐 밸브(22a, 22b)의 온오프를 제어하는 제어부를 더 포함할 수 있다. According to an exemplary embodiment, the artificial marble manufacturing apparatus 100 includes an input unit through which the user inputs the shape of the marble pattern or the moving direction of the marble resin composition ejection unit 20, and the shape of the marble pattern or the marble resin composition in the input unit. The controller may further include a control unit that receives movement direction data of the discharge unit 20 and controls the movement of the marble resin composition discharge unit 20 and the on/off of the nozzle valves 22a and 22b.

추가의 실시상태에 따르면, 전술한 실시상태들에 따른 제조방법에 의하여 제조된 인조대리석을 제공한다. 상기 인조대리석은 표면에서 Y자 형태의 분지 구조를 갖는 마블 패턴을 가질 수 있다. According to a further embodiment, an artificial marble manufactured by the manufacturing method according to the above-described embodiment is provided. The artificial marble may have a marble pattern having a Y-shaped branching structure on the surface.

분지 구조를 갖는 마블 패턴은 주축부 및 주축부에서 분지되는 분지부를 포함할 수 있다. 그리고, 주축부와 분지부는 색상, 입자의 크기 및 조성 중 어느 하나 이상이 상이할 수 있다. The marble pattern having a branched structure may include a main shaft portion and a branch portion branched off from the main shaft portion. In addition, at least one of color, particle size, and composition of the main shaft portion and the branch portion may be different from each other.

또 다른 실시상태에 따르면, 인조대리석은 Y자 패턴을 포함하는 아크릴레이트계 인조대리석을 포함할 수 있다. According to another embodiment, the artificial marble may include acrylate-based artificial marble including a Y-shaped pattern.

이 때, Y자 패턴은 폭이 20~30㎜인 선으로 형성될 수 있다. 그리고, Y자 패턴은 폭 1㎝ 이상, 길이 30㎝ 이상, 바람직하게는 폭 0.5㎝ 이상, 길이 20㎝ 이상의 크기로 형성될 수 있다. 여기서, Y자 패턴의 폭은 일 단부에서 타 단부까지 길이가 가장 짧은 길이를 의미하고, 길이는 가장 긴 길이를 의미할 수 있다. At this time, the Y-shaped pattern may be formed as a line having a width of 20 to 30 mm. In addition, the Y-shaped pattern may be formed in a size of 1 cm or more in width and 30 cm or more in length, preferably 0.5 cm or more in width and 20 cm or more in length. Here, the width of the Y-shaped pattern may mean the shortest length from one end to the other end, and the length may mean the longest length.

그리고, Y자 패턴은 주축부 및 상기 주축부에서 분지되는 분지부를 포함하고, 상기 주축부와 상기 분지부는 색상, 입자의 크기 및 조성 중 어느 하나 이상이 상이할 수 있다. Further, the Y-shaped pattern includes a main shaft portion and a branch portion branched from the main shaft portion, and the main shaft portion and the branch portion may differ in at least one of color, particle size, and composition.

아크릴레이트계 인조대리석은 수지 및 무기충전제를 포함할 수 있으며, 필요에 따라 가교제, 가교촉진제 등을 더 포함할 수 있다. 이때, 수지는 아크릴계 수지 및 아크릴 단량체를 포함할 수 있고, 아크릴계 수지 10 내지 50중량% 및 아크릴 단량체 50 내지 90중량%를 포함할 수 있다. Acrylate-based artificial marble may include a resin and an inorganic filler, and may further include a crosslinking agent, a crosslinking accelerator, and the like, if necessary. At this time, the resin may include an acrylic resin and an acrylic monomer, and may include 10 to 50% by weight of the acrylic resin and 50 to 90% by weight of the acrylic monomer.

아크릴계 단량체는 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 부틸메타크릴레이트, 2-에틸헥실메타크릴레이트, 벤질메타크릴레이트 및 글리시딜메타크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되는 메타크릴레이트 단량체 단독 또는 2종 이상의 혼합물이고, 상기 아크릴계 수지는 상기 아크릴계 단량체의 중합체 1종 이상 포함할 수 있다. The acrylic monomer is selected from the group consisting of methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, benzyl methacrylate and glycidyl methacrylate, alone or in combination with two It is a mixture of more than one species, and the acrylic resin may include at least one polymer of the acrylic monomer.

그리고, 본 발명에 따른 인조대리석은 제1 색을 가지는 제1 영역(A1), 제2 색을 가지는 제2 영역(A2)을 포함한다. 도 7(a)은 본 발명의 일 실시상태에 따른 인조대리석(1000)을 도시한 평면도이고, 도 7(b)는 도 1(a)의 C-C'선에 따라 절단하여 도시한 단면도이다.Also, the artificial marble according to the present invention includes a first area A1 having a first color and a second area A2 having a second color. 7(a) is a plan view showing an artificial marble 1000 according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 7(b) is a cross-sectional view taken along line C-C′ of FIG. 1(a) .

인조대리석(1000)은 수지 및 무기충전제를 포함하는 조성물의 경화물로, 제1 영역 및 제2 영역(A2)은 수지 및 무기충전제를 포함하는 조성물의 경화물이다. The artificial marble 1000 is a cured product of a composition including a resin and an inorganic filler, and the first area and the second area A2 are a cured product of a composition including a resin and an inorganic filler.

제1 영역(A1)은 삼차원적으로 끊김 없이 연결될 수 있다. 다시 말해, 인조대리석(1000)에 포함된 제1 영역(A1)은 인조대리석(1000)의 너비, 두께 및 길이 방향으로 연결할 경우 끊김 없이 연결될 수 있다. 따라서, 인조대리석(1000)의 표면과 수직되는 방향 또는 수평되는 방향으로 단면을 자를 경우, 모든 단면에 제1 영역(A1)이 포함되어 있을 수 있다. The first area A1 may be connected seamlessly in three dimensions. In other words, when the first area A1 included in the artificial marble 1000 is connected in the width, thickness, and length directions of the artificial marble 1000, it can be seamlessly connected. Accordingly, when cross sections are cut in a direction perpendicular to or horizontal to the surface of the artificial marble 1000, the first area A1 may be included in all cross sections.

여기서, 인조대리석(1000)의 두께는 인조대리석(1000)의 마주보는 두 면, 즉, 표면과 이면 사이 거리를 의미한다. 그리고, 인조대리석(1000)의 너비와 길이는 인조대리석(1000) 표면의 가로와 세로 길이를 의미한다. Here, the thickness of the artificial marble 1000 means the distance between the two facing surfaces of the artificial marble 1000, that is, the front and back surfaces. Also, the width and length of the artificial marble 1000 refer to the horizontal and vertical lengths of the surface of the artificial marble 1000.

제2 영역(A2)은 제1 영역(A1)에 의해 고립됨으로써 독립적으로 위치되는 영역이다. 즉, 제2 영역(A2)은 제1 영역(A1)에 의해 둘러싸여 있을 수 있다. 제2 영역(A2)의 모든 표면은 제1 영역(A1)과 직접 접촉할 수 있다. 그리고, 인조대리석(1000)은 하나 이상의 제2 영역(A2)을 포함할 수 있다. The second area A2 is an area independently positioned by being isolated by the first area A1. That is, the second area A2 may be surrounded by the first area A1. All surfaces of the second area A2 may directly contact the first area A1. In addition, the artificial marble 1000 may include one or more second regions A2.

제2 영역(A2)은 인조대리석(1000)의 표면에서 육안으로 보일 수 있다. The second area A2 may be visible to the naked eye from the surface of the artificial marble 1000 .

제2 영역(A2)은 제1 영역(A1)으로 침범되는 침범무늬일 수 있다. 인조대리석(1000)의 표면에 대하여 수직 방향으로 제2 영역(A2)을 포함하는 단면에서 제1 영역(A1)은 제2 영역(A2)의 일단부와 인조대리석(1000)의 표면 사이 및 제2 영역(A2)의 타단부와 인조대리석(1000)의 이면 사이 위치될 수 있다. 이때, 제2 영역(A2)은 제2 영역(A2)의 일단부와 인조대리석(1000)의 표면 사이 위치되는 제1 영역(A1)으로 침범되어 위치될 수 있다. The second area A2 may be an invasion pattern that invades the first area A1. In a cross section including the second area A2 in a direction perpendicular to the surface of the artificial marble 1000, the first area A1 is between one end of the second area A2 and the surface of the artificial marble 1000 and It may be located between the other end of the second region A2 and the back surface of the artificial marble 1000. In this case, the second area A2 may be positioned to invade the first area A1 positioned between one end of the second area A2 and the surface of the artificial marble 1000 .

그리고, 인조대리석(1000)에 포함된 하나 이상의 제2 영역(A2)은 침범 방향이 모두 동일할 수 있다. 즉, 하나 이상의 제2 영역(A2)은 인조대리석(1000)의 표면 방향으로 침범될 수 있다. In addition, one or more second areas A2 included in the artificial marble 1000 may all have the same invasion direction. That is, one or more second regions A2 may be invaded in the surface direction of the artificial marble 1000 .

제2 영역(A2)은 베인(vein) 패턴일 수 있다. 베인 패턴(Vein Pattern)이란 정맥 또는 나뭇가지를 닮은 패턴을 의미하는 것으로서, 일정 이상의 길이를 갖도록 연속된 패턴을 의미한다. 즉, 제2 영역(A2)은 일정 길이방향으로 연장되고, 하나 이상의 제2 영역(A2)은 각각 연장 방향이 상이할 수 있다. 그리고, 제2 영역(A2)은 직선 형태가 아닌 특정 형태의 곡선일 수 있다. The second area A2 may have a vein pattern. A vein pattern refers to a pattern resembling a vein or a branch, and refers to a pattern that is continuous to have a certain length or more. That is, the second area A2 may extend in a predetermined longitudinal direction, and the one or more second areas A2 may have different extending directions. Also, the second area A2 may have a specific curved shape rather than a straight line shape.

예를 들어, 제1 영역(A1)이 베이스 영역, 즉, 베이스 수지 조성물의 경화물이면, 제2 영역(A2)은 패턴 수지 조성물이 경화된 패턴 영역일 수 있다. For example, if the first area A1 is a base area, that is, a cured product of the base resin composition, the second area A2 may be a pattern area in which the pattern resin composition is cured.

인조대리석은 제3 색을 가지는 제3 영역(A3)을 더 포함할 수 있다. 제3 영역(A3)은 제1 영역(A1)과 제2 영역(A2)과 인접하게 위치될 수 있다. 즉, 제3 영역(A3)은 제2 영역(A2)의 경계에서 제1 영역(A1)으로 연장 형성될 수 있다. 제2 영역(A2)과 제3 영역(A3)의 경계는 CIE LAB 색공간의 색좌표(L*, a*, b*)의 명도차이로 구분할 수 있다. 제2 영역(A2)의 CIE LAB 색공간의 색좌표(L* 2, a* 2, b* 2)에서 명도(L*)가 달라지는 지점이 제2 영역(A2)과 제3 영역(A3)의 경계가 될 수 있다. The artificial marble may further include a third area A3 having a third color. The third area A3 may be positioned adjacent to the first area A1 and the second area A2. That is, the third area A3 may extend from the boundary of the second area A2 to the first area A1. The boundary between the second area A2 and the third area A3 can be distinguished by a difference in brightness of color coordinates (L * , a * , b * ) of the CIE LAB color space. In the color coordinates (L * 2 , a * 2 , b * 2 ) of the CIE LAB color space of the second area A2, the point where the lightness (L*) is different is the difference between the second area A2 and the third area A3. can be a boundary.

일 실시예에 있어서, 제1 영역(A1)의 CIE LAB 색공간의 색좌표(L* 1, a* 1, b* 1)의 값은 제2 영역(A2)의 CIE LAB 색공간의 색좌표(L* 2, a* 2, b* 2)의 값 보다 클 수 있다. 즉, 제1 영역(A1)은 제2 영역(A2) 보다 밝은 색을 가질 수 있다. In an embodiment, the value of the color coordinates (L * 1 , a * 1 , b * 1 ) of the CIE LAB color space of the first area A1 is the color coordinate (L of the CIE LAB color space of the second area A2). * 2 , a * 2 , b * 2 ). That is, the first area A1 may have a brighter color than the second area A2.

제3 영역(A3)의 제3 색은 하나 이상의 색을 포함할 수 있다. 좀 더 상세하게 제3 영역(A3)의 CIE LAB 색공간의 색좌표(L* 3, a* 3, b* 3)의 값은 제2 영역(A2)에서 제1 영역(A1)으로 갈수록 커질 수 있다. 이때, 제3 영역(A3)의 a* 3, b* 3은 제2 영역(A2)의 a* 2, b* 2과 동일할 수 있다. 즉, 제3 영역(A3)은 제2 영역(A2)과의 경계선에서 제1 영역(A1)으로 갈수록 명도만 높아질 수 있다. The third color of the third area A3 may include one or more colors. In more detail, the value of the color coordinates (L * 3 , a * 3 , b * 3 ) of the CIE LAB color space of the third area A3 may increase from the second area A2 to the first area A1. there is. In this case, a * 3 and b * 3 of the third area A3 may be the same as a * 2 and b * 2 of the second area A2. That is, only the brightness of the third area A3 may increase from the boundary line with the second area A2 toward the first area A1.

또는, 제1 영역(A1)의 CIE LAB 색공간의 색좌표(L* 1, a* 1, b* 1)와 제3 영역(A1)의 색좌표(L* 3, a* 3, b* 3)로 계산된 색차(△E)는 제2 영역(A2)에서 제1 영역(A1)으로 갈수록 커질 수 있다. Alternatively, the color coordinates (L * 1 , a * 1 , b * 1 ) of the CIE LAB color space of the first area A1 and the color coordinates (L * 3 , a * 3 , b * 3 ) of the third area A1 The color difference ΔE calculated by ΔE may increase from the second area A2 to the first area A1.

즉, 제2 영역(A2)과 제3 영역(A3)은 패턴 영역이 되며, 제3 영역(A3)은 제2 영역(A2)과의 경계면에서 제1 영역(A1)의 경계면 방향으로 밝게 그라데이션 될 수 있다. That is, the second area A2 and the third area A3 become pattern areas, and the third area A3 has a bright gradation in the direction from the boundary surface with the second area A2 to the boundary surface with the first area A1. It can be.

다른 실시예에 있어서, 제1 영역(A1)의 CIE LAB 색공간의 색좌표(L* 1, a* 1, b* 1)의 값은 제2 영역(A2)의 CIE LAB 색공간의 색좌표(L* 2, a* 2, b* 2)의 값 보다 작을 수 있다. 즉, 제1 영역(A1)은 제2 영역(A2) 보다 어두운 색을 가질 수 있다. In another embodiment, the value of the color coordinates (L * 1 , a * 1 , b * 1 ) of the CIE LAB color space of the first area A1 is the color coordinate (L of the CIE LAB color space of the second area A2). * 2 , a * 2 , b * 2 ). That is, the first area A1 may have a darker color than the second area A2.

제3 영역(A3)의 제3 색은 하나 이상의 색을 포함할 수 있다. 좀 더 상세하게 제3 영역(A3)의 CIE LAB 색공간의 색좌표(L* 3, a* 3, b* 3)의 값은 제2 영역(A2)에서 제1 영역(A1)으로 갈수록 작아 질 수 있다. 이때, 제3 영역(A3)의 a* 3, b* 3은 제2 영역(A2)의 a* 2, b* 2과 동일할 수 있다. 즉, 제3 영역(A3)은 제2 영역(A2)과의 경계선에서 제1 영역(A1)으로 갈수록 명도만 작아질 수 있다. The third color of the third area A3 may include one or more colors. In more detail, the value of the color coordinates (L * 3 , a * 3 , b * 3 ) of the CIE LAB color space of the third area A3 decreases from the second area A2 to the first area A1. can In this case, a * 3 and b * 3 of the third area A3 may be the same as a * 2 and b * 2 of the second area A2. That is, only the brightness of the third area A3 may decrease from the boundary line with the second area A2 toward the first area A1.

또는, 제1 영역(A1)의 CIE LAB 색공간의 색좌표(L* 1, a* 1, b* 1)와 제3 영역(A1)의 색좌표(L* 3, a* 3, b* 3)로 계산된 색차(△E)는 제2 영역(A2)에서 제1 영역(A1)으로 갈수록 작아 질 수 있다. Alternatively, the color coordinates (L * 1 , a * 1 , b * 1 ) of the CIE LAB color space of the first area A1 and the color coordinates (L * 3 , a * 3 , b * 3 ) of the third area A1 The color difference ΔE calculated by ΔE may decrease from the second area A2 to the first area A1.

즉, 제2 영역(A2)과 제3 영역(A3)은 패턴 영역이 되며, 제3 영역(A3)은 제2 영역(A2)과의 경계면에서 제1 영역(A1)의 경계면 방향으로 어둡게 그라데이션 될 수 있다. That is, the second area A2 and the third area A3 become pattern areas, and the third area A3 has a dark gradation from the boundary surface with the second area A2 toward the boundary surface with the first area A1. It can be.

여기서, 색차(△E)는 하기 수학식 중 어느 하나에 의해 계산된 것일 수 있다. Here, the color difference (ΔE) may be calculated by any one of the following equations.

[수학식 1][Equation 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

[수학식 2][Equation 2]

Figure pat00002
Figure pat00002

이하, 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 다만, 이하의 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 이에 의하여 본 발명의 범위가 한정될 것을 의미한 것은 아니다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail through examples. However, the following examples are intended to illustrate the present invention, and are not meant to limit the scope of the present invention thereby.

<베이스 수지 조성물의 제조><Preparation of base resin composition>

폴리메틸메타크릴레이트 20 중량부, 메틸메타크릴레이트 40 중량부, 수산화알루미늄 50 중량부, 안료 3 중량부, 중합개시제 1 중량부, 칩 20 중량부 및 첨가제 3 중량부를 포함하는 베이스 수지 조성물을 제조하였다. Preparation of a base resin composition comprising 20 parts by weight of polymethyl methacrylate, 40 parts by weight of methyl methacrylate, 50 parts by weight of aluminum hydroxide, 3 parts by weight of pigment, 1 part by weight of polymerization initiator, 20 parts by weight of chips, and 3 parts by weight of additives did

<마블 수지 조성물의 제조><Preparation of Marble Resin Composition>

폴리메틸메타크릴레이트 20 중량부, 메틸메타크릴레이트 40 중량부, 수산화알루미늄 50 중량부, 안료 3 중량부, 중합개시제 1 중량부, 및 첨가제 3 중량부를 포함하는 제1 마블 수지 조성물(M1)을 제조하였다. A first marble resin composition (M1) comprising 20 parts by weight of polymethyl methacrylate, 40 parts by weight of methyl methacrylate, 50 parts by weight of aluminum hydroxide, 3 parts by weight of pigment, 1 part by weight of polymerization initiator, and 3 parts by weight of additives manufactured.

상기 제1 마블 수지 조성물(M1)과 동일한 조성이되, 다른 색상의 안료로 3 중량부를 첨가한 제2 마블 수지 조성물(M2)을 제조하였다. A second marble resin composition (M2) having the same composition as the first marble resin composition (M1) but adding 3 parts by weight of a pigment of a different color was prepared.

상기 제1 및 제2 마블 수지 조성물(M1, M2)과 종일한 조성이되, 다른 색상의 안료로 3 중량부를 첨가한 제3 마블 수지 조성물(M3)을 제조하였다. A third marble resin composition (M3) having the same composition as the first and second marble resin compositions (M1 and M2) but adding 3 parts by weight of a pigment of a different color was prepared.

<마블 패턴을 갖는 인조대리석의 제조><Manufacture of artificial marble having a marble pattern>

도 2와 같이 몰드(10)가 설치된 컨베이어를 일 방향으로 이동시켰다. 상기 컨베이어 상단에 배치된 노즐 밸브(22a, 22b)가 설치된 주형 로봇에 상기 제1 및 제2 마블 수지 조성물이 상하 및 좌우로 토출되어 도 6과 같이 기 설계한 패턴 무늬를 구현하였다. 도 2의 노즐(21)은 노즐 밸브(22a, 22b)로 간헐적으로 토출되거나 연속 토출될 수 있다. As shown in FIG. 2, the conveyor on which the mold 10 is installed was moved in one direction. The first and second marble resin compositions were ejected vertically and left and right to a mold robot equipped with nozzle valves 22a and 22b disposed on top of the conveyor to realize a pre-designed pattern as shown in FIG. 6 . The nozzle 21 of FIG. 2 may be discharged intermittently or continuously through the nozzle valves 22a and 22b.

상기 노즐 밸브(22a, 22b)가 설치된 주형 로봇은 이축 이동이 가능한 설비이며, 지정된 좌표로 상하 및 좌우 또는 대각선 이동을 할 수 있다. The mold robot in which the nozzle valves 22a and 22b are installed is a facility capable of biaxial movement, and can move up and down, left and right, or diagonally at designated coordinates.

제1 내지 제3 마블 수지 조성물을 이용하여 구현한 패턴의 폭은 1.5 내지 3 수준을 구현할 수 있으며, 필요에 의해 2가지 이상의 마블 수지 조성물을 혼합하여 3 내지 10cm의 폭을 갖는 패턴을 구현할 수 있다. The width of the pattern implemented using the first to third marble resin compositions may be 1.5 to 3 levels, and if necessary, a pattern having a width of 3 to 10 cm may be implemented by mixing two or more marble resin compositions. .

마블 수지 조성물 혼합은 2가지 이상의 마블 수지 조성물을 혼합하여 디스펜서(22)에 공급하거나, 마블 수지 조성물이 토출되는 노즐(21)의 토출구가 접하도록 제어하여 혼합할 수 있다. In the mixing of the marbled resin composition, two or more kinds of the marbled resin composition may be mixed and supplied to the dispenser 22, or the marbled resin composition may be mixed by controlling the discharge port of the nozzle 21 to come into contact with each other.

도 6과 같은 Y자 형태의 분지 구조를 갖는 마블 패턴을 갖는 인조대리석을 제작하였다. Artificial marble having a marble pattern having a Y-shaped branching structure as shown in FIG. 6 was manufactured.

100: 인조대리석의 제조장치
1: 컨베이어
2: 롤러
10: 몰드
20: 마블 수지 조성물 토출부
21: 노즐
22: 디스펜서
22a, 22b: 노즐 밸브
23: 이동수단
23a: 가동부
23b: 지지부
30: 베이스 수지 조성물 토출부
M: 마블 수지 조성물
B: 베이스 수지 조성물
100: manufacturing apparatus for artificial marble
1: Conveyor
2: roller
10: mold
20: marble resin composition discharge unit
21: nozzle
22: dispenser
22a, 22b: nozzle valve
23: means of transportation
23a: moving part
23b: support
30: base resin composition discharge unit
M: marble resin composition
B: base resin composition

Claims (30)

몰드 내에 다축 노즐을 이용하여 마블 수지 조성물을 토출하는 단계;
상기 토출된 마블 수지 조성물 상에 베이스 수지 조성물을 토출하는 단계; 및
상기 마블 수지 조성물 및 베이스 수지 조성물을 경화하는 단계를 포함하는 인조대리석의 제조방법.
discharging a marble resin composition using a multi-axial nozzle into a mold;
discharging a base resin composition onto the discharged marble resin composition; and
A method for producing artificial marble comprising curing the marble resin composition and the base resin composition.
청구항 1에 있어서, 상기 몰드는 어느 일방향으로 이송되는 컨베이어 상에 구비된 이송판인 것인 인조대리석의 제조방법. The method of claim 1, wherein the mold is a transfer plate provided on a conveyor that is transferred in one direction. 청구항 1에 있어서, 상기 마블 수지 조성물을 토출하는 단계는 상기 다축 노즐이 제1 방향으로 진행하며 상기 마블 수지 조성물을 토출하는 단계, 제1 방향으로 진행된 상기 다축 노즐이 상기 제1 방향의 역방향으로 복귀하는 단계 및 복귀한 상기 다축 노즐이 제2 방향으로 진행하며 상기 마블 수지 조성물을 토출하는 단계를 반복하는 것인 인조대리석의 제조방법. The method of claim 1, wherein the ejecting of the marbled resin composition comprises ejecting the marbled resin composition while the multi-axial nozzle moves in a first direction, and the multi-axial nozzle that has traveled in the first direction returns in a direction opposite to the first direction. and repeating the steps of ejecting the marble resin composition while the returned multi-axis nozzle moves in a second direction. 청구항 3에 있어서, 상기 제1 및 제2 방향은 적어도 일부가 겹치는 것인 인조대리석의 제조방법.The method of claim 3, wherein at least a portion of the first and second directions overlap. 청구항 1에 있어서, 상기 마블 수지 조성물을 토출하는 단계는 상기 다축 노즐에 포함된 제1 노즐이 제1 방향으로 진행되며 상기 마블 수지 조성물을 토출하는 단계 및 상기 다축 노즐에 포함된 제2 노즐이 제2 방향으로 진행되며 상기 마블 수지 조성물을 토출하는 단계를 포함하는 것인 인조대리석의 제조방법. The method of claim 1, wherein the discharging of the marbled resin composition includes discharging the marbled resin composition while a first nozzle included in the multi-axial nozzle moves in a first direction, and a second nozzle included in the multi-axial nozzle moves in a first direction. A method for producing artificial marble comprising the step of discharging the marble resin composition in two directions. 몰드;
상기 몰드 내에 마블 수지 조성물을 토출하는 노즐을 포함하고, 상기 노즐을 다축으로 이동시키는 마블 수지 조성물 토출부; 및
상기 마블 수지 조성물 토출부로부터 토출된 마블 수지 조성물 상에 베이스 수지 조성물을 토출하도록 구비된 베이스 수지 조성물 토출부를 포함하는 인조대리석의 제조장치.
Mold;
a marble resin composition ejection unit comprising a nozzle for discharging the marble resin composition into the mold and moving the nozzle multiaxially; and
An apparatus for manufacturing artificial marble comprising a base resin composition discharge unit provided to discharge a base resin composition onto the marble resin composition discharged from the marble resin composition discharge unit.
청구항 6에 있어서, 상기 몰드는 어느 일방향으로 이송되는 컨베이어 상에 구비된 이송판인 것인 인조대리석의 제조장치. The apparatus for manufacturing artificial marble according to claim 6, wherein the mold is a transfer plate provided on a conveyor that is transferred in one direction. 청구항 6에 있어서, 상기 노즐에 상기 마블 수지 조성물을 공급하는 디스펜서 및 상기 디스펜서의 위치를 제어하는 이동수단을 포함하는 것인 인조대리석의 제조장치.The apparatus for manufacturing artificial marble according to claim 6, comprising a dispenser for supplying the marble resin composition to the nozzle and a moving means for controlling the position of the dispenser. 청구항 8에 있어서, 상기 디스펜서는 노즐에 각각 제공되는 마블 수지 조성물의 양을 조절하기 위한 노즐 밸브를 포함하는 것인 인조대리석의 제조장치. The apparatus for manufacturing artificial marble according to claim 8, wherein the dispenser includes a nozzle valve for adjusting the amount of the marble resin composition supplied to each nozzle. 청구항 6에 있어서, 상기 마블 수지 조성물 토출부는 2개 이상이 배치되는 것인 인조대리석의 제조장치. The apparatus for manufacturing artificial marble according to claim 6, wherein two or more of the marble resin composition dispensing units are disposed. 청구항 7에 있어서, 상기 베이스 수지 조성물 토출부는 상기 컨베이어의 이송 방향으로 상기 마블 수지 조성물 토출부의 후단에 배치되는 것인 인조대리석의 제조장치. The apparatus for manufacturing artificial marble according to claim 7, wherein the base resin composition discharging unit is disposed at a rear end of the marble resin composition discharging unit in the conveying direction of the conveyor. 청구항 11에 있어서, 상기 베이스 수지 조성물 토출부는 상기 베이스 수지 조성물을 하향 유동시키는 경사판을 포함하는 것인 인조대리석의 제조장치. The apparatus for manufacturing artificial marble according to claim 11, wherein the base resin composition discharge unit includes an inclined plate through which the base resin composition flows downward. 청구항 6에 있어서, 상기 마블 수지 조성물 및 베이스 수지 조성물을 경화하는 경화부를 더 포함하는 인조대리석의 제조장치. The apparatus for manufacturing artificial marble according to claim 6, further comprising a curing unit for curing the marble resin composition and the base resin composition. 청구항 6에 있어서, 상기 다축은 2축 또는 3축 노즐인 것인 인조대리석의 제조장치. The apparatus for manufacturing artificial marble according to claim 6, wherein the multi-axis is a 2-axis or 3-axis nozzle. 청구항 6에 있어서, 상기 인조대리석의 제조장치는 연속적으로 공정이 이뤄지는 것인 인조대리석의 제조장치. The apparatus for manufacturing artificial marble according to claim 6, wherein the manufacturing apparatus for artificial marble continuously performs the process. 청구항 6에 있어서, 상기 마블 수지 조성물 토출부는 분지 구조를 포함하는 패턴으로 상기 마블 수지 조성물을 토출하는 것인 인조대리석의 제조장치. The apparatus for manufacturing artificial marble according to claim 6, wherein the marble resin composition ejection unit ejects the marble resin composition in a pattern including a branched structure. 청구항 1 내지 5 중 어느 한 항에 따른 제조방법에 의하여 제조된 인조대리석. An artificial marble manufactured by the manufacturing method according to any one of claims 1 to 5. 청구항 17에 있어서, 상기 인조대리석은 표면에서 Y자 형태의 분지 구조를 갖는 마블 패턴을 갖는 것인 인조대리석. The artificial marble according to claim 17, wherein the artificial marble has a marble pattern having a Y-shaped branching structure on its surface. 청구항 18에 있어서, 상기 마블 패턴은 주축부 및 상기 주축부에서 분지되는 분지부를 포함하고, 상기 주축부와 상기 분지부는 색상, 입자의 크기 및 조성 중 어느 하나 이상이 상이한 것인 인조대리석. The artificial marble of claim 18, wherein the marble pattern includes a main shaft portion and a branch portion branched off from the main shaft portion, and the main shaft portion and the branch portion are different from each other in at least one of color, particle size, and composition. Y자 패턴을 포함하는 아크릴레이트계 인조대리석. Acrylate-based artificial marble containing a Y-shaped pattern. 청구항 20에 있어서, 상기 아크릴레이트계 인조 대리석은 수지 및 무기충전제를 포함하고,
상기 수지는 아크릴계 수지 10 중량% 내지 50 중량% 및 아크릴계 단량체 50 중량% 내지 90중량%를 포함하는 것인 아크릴레이트계 인조대리석.
The method according to claim 20, wherein the acrylate-based artificial marble includes a resin and an inorganic filler,
The resin is an acrylate-based artificial marble comprising 10% to 50% by weight of an acrylic resin and 50% to 90% by weight of an acrylic monomer.
청구항 20에 있어서, 상기 Y자 패턴은 폭 1㎝ 이상, 길이 30㎝ 이상인 것인 아크릴레이트계 인조대리석. The acrylate-based artificial marble according to claim 20, wherein the Y-shaped pattern has a width of 1 cm or more and a length of 30 cm or more. 청구항 20에 있어서, 상기 Y자 패턴은 폭 0.5㎝ 이상, 길이 20㎝ 이상인 것인 아크릴레이트계 인조대리석. The acrylate-based artificial marble according to claim 20, wherein the Y-shaped pattern has a width of 0.5 cm or more and a length of 20 cm or more. 청구항 20에 있어서, 상기 Y자 패턴은 주축부 및 상기 주축부에서 분지되는 분지부를 포함하고, 상기 주축부와 상기 분지부는 색상, 입자의 크기 및 조성 중 어느 하나 이상이 상이한 것인 아크릴레이트계 인조대리석. The method according to claim 20, wherein the Y-shaped pattern includes a main shaft portion and a branch portion branched from the main shaft portion, and the main shaft portion and the branch portion are different in at least one of color, particle size, and composition. artificial marble. 청구항 20에 있어서, 상기 아크릴레이트계 인조대리석은 제1 색을 가지는 제1 영역, 제2 색을 가지는 제2 영역을 포함하고, 수지 및 무기충전제를 포함하는 조성물의 경화물이며,
상기 제1 영역은 삼차원적으로 끊김 없이 연결되고,
상기 제2 영역은 상기 제1 영역에 의해 고립되는 하나 이상의 독립 영역인 것인 아크릴레이트계 인조대리석.
The method according to claim 20, wherein the acrylate-based artificial marble includes a first region having a first color and a second region having a second color, and is a cured product of a composition containing a resin and an inorganic filler,
The first region is three-dimensionally seamlessly connected,
The second region is one or more independent regions isolated by the first region, acrylate-based artificial marble.
청구항 25에 있어서, 상기 제2 영역은 상기 인조대리석의 표면에 대하여 수직 방향으로 상기 제2 영역을 포함하는 단면에서 상기 제2 영역의 일단부와 상기 인조대리석의 표면 사이에 위치되는 상기 제1 영역으로 침범된 침범무늬인 것인 아크릴레이트계 인조대리석.The first region of claim 25, wherein the second region is located between one end of the second region and the surface of the artificial marble in a cross section including the second region in a direction perpendicular to the surface of the artificial marble. Acrylate-based artificial marble that is an invasion pattern invaded by. 청구항 20에 있어서, 상기 아크릴레이트계 인조대리석은 제3 색을 가지는 제3 영역을 포함하고,
상기 제3 영역의 제3 색은 하나 이상의 색을 포함하는 것인 아크릴레이트계 인조대리석.
The method according to claim 20, wherein the acrylate-based artificial marble includes a third region having a third color,
The third color of the third region includes at least one color of acrylate-based artificial marble.
청구항 27에 있어서, 상기 제1 영역의 CIE LAB 색공간의 색좌표(L* 1, a* 1, b* 1)의 명도(L* 1)는 상기 제2 영역의 CIE LAB 색공간의 색좌표(L* 2, a* 2, b* 2)의 명도(L* 2) 보다 크거나 작은 것인 아크릴레이트계 인조대리석. 28. The method of claim 27, wherein the lightness (L * 1) of the color coordinates (L * 1 , a * 1 , b * 1 ) of the CIE LAB color space of the first region is the color coordinate (L of the CIE LAB color space of the second region) * 2 , a * 2 , b * 2 ) Acrylate-based artificial marble that is larger or smaller than the lightness (L * 2 ). 청구항 28에 있어서, 상기 제3 영역의 CIE LAB 색공간의 색좌표(L* 3, a* 3, b* 3)의 명도(L* 3)는 상기 제2 영역에서 상기 제1 영역으로 갈수록 커지거나 작아지는 것인 아크릴레이트계 인조대리석. The method according to claim 28, wherein the lightness (L * 3) of the color coordinates (L * 3 , a * 3 , b * 3 ) of the CIE LAB color space of the third region increases from the second region to the first region, or Acrylate-based artificial marble that gets smaller. 청구항 28에 있어서, 상기 제1 영역의 CIE LAB 색공간의 색좌표(L* 1, a* 1, b* 1)와 상기 제3 영역의 색좌표(L* 3, a* 3, b* 3)로 계산된 색차(△E)는 상기 제2 영역에서 상기 제1 영역으로 갈수록 커지거나 줄어드는 것인 아크릴레이트계 인조대리석. The method according to claim 28, wherein the color coordinates (L * 1 , a * 1 , b * 1 ) of the CIE LAB color space of the first region and the color coordinates (L * 3 , a * 3 , b * 3 ) of the third region The calculated color difference (ΔE) increases or decreases from the second area to the first area.
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