KR20220125581A - 기판 이송 장치의 청소 장치 및 기판 이송 장치의 청소 방법 - Google Patents

기판 이송 장치의 청소 장치 및 기판 이송 장치의 청소 방법 Download PDF

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장민구
조태현
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Abstract

기판 이송 장치의 청소 장치가 제공된다. 몇몇 실시예들에 따른 기판 이송 장치의 청소 장치는 제1 및 제2 영역을 가지는 레일을 따라 주행하는 주행 유닛, 레일 및 레일 상에 배치된 레일 구조체를 포함하는 레일 유닛, 및 레일 상에 배치되어 흡입 노즐을 축으로 회전하는 흡입부를 포함하는 세정 유닛을 포함하되, 세정 유닛이 레일 구조체와 접촉함과 동시에 흡입부가 흡입 노즐을 축으로 회전한다.

Description

기판 이송 장치의 청소 장치 및 기판 이송 장치의 청소 방법 {Cleaning device for substrate transfer device and cleaning method for substrate transfer method}
본 발명은 기판 이송 장치의 청소 장치 및 기판 이송 장치의 청소 방법에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 또는 디스플레이 장치는 실리콘 웨이퍼 또는 유리 기판과 같은 기판에 대하여 일련의 제조 공정들을 반복적으로 수행함으로써 제조될 수 있다. 예를 들면, 기판 상에 회로 패턴들을 형성하기 위하여 증착, 사진 식각, 산화, 이온 주입, 세정 등의 제조 공정들이 선택적 및/또는 반복적으로 수행될 수 있다.
이와 같은 제조 공정들은 오염 관리가 이루어지는 클린룸 내에서 수행될 수 있다. 이러한 제조 공정들 사이에서의 기판 이송은 복수개의 기판들이 수납된 캐리어 예를 들어, 풉(Front Opening Unified Pod, FOUP), 쉬핑 박스(Front Opening Shipping Box, FOSB) 등을 이용하여 공정을 처리하는 공정 설비로 기판을 제공하거나, 기판을 공정 설비로부터 회수한다. 이러한 캐리어는 일반적으로 물류 이송 장치(Overhead Hoist Transport, OHT)에 의해 이송될 수 있다. 물류 이송 장치는 공정 처리 전의 기판들이 수납된 캐리어를 이송하여 비어 있는 저장 구조에 적재하고, 공정 처리된 기판들이 수납된 캐리어를 저장 구조로부터 픽업하여 외부로 반송한다.
OHT 장치와 같은 천장 주행 이송 장치는, 클린룸의 천장에 설치된 주행 레일과, 주행 레일 상에서 이동 가능하도록 구성된 주행 유닛을 포함할 수 있다. 주행 유닛의 하부에는 이송 대상물의 운반을 위한 호이스트 유닛이 장착될 수 있다.
한편, 천장 주행 이송 장치의 레일 유닛에는 주행 유닛과 레일 유닛 사이의 마찰로 인하여 오염 물질이 발생하는 경우가 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는 천장 주행 이송 장치의 레일 유닛과 주행 유닛 간의 구름 접촉에 의해 발생한 오염 물질을 보다 효과적으로 제거하기 위한 것이다.
본 발명의 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 기판 이송 장치의 청소 장치는, 제1 및 제2 영역을 가지는 레일을 따라 주행하는 주행 유닛, 레일 및 레일 상에 배치된 레일 구조체를 포함하는 레일 유닛, 및 레일 상에 배치되어 흡입 노즐을 축으로 회전하는 흡입부를 포함하는 세정 유닛을 포함하되, 세정 유닛이 레일 구조체와 접촉함과 동시에 흡입부가 흡입 노즐을 축으로 회전한다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 기판 이송 장치의 청소 장치는, 기판을 이송하도록 레일을 따라 주행하는 주행 유닛, 레일 및 레일 상에 배치된 레일 구조체를 포함하는 레일 유닛, 및 레일 상에 배치되어 탄성 부재에 의해 탄성력을 제공받아 회전하는 흡입부를 포함하는 세정 유닛을 포함하되, 세정 유닛이 레일 구조체와 접촉함과 동시에 흡입부가 회전한다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 기판 이송 장치의 청소 장치를 이용한 기판 이송 장치의 청소 방법에 있어서, 기판 이송 장치의 청소 장치는, 레일 및 레일 구조체를 포함하는 레일 유닛, 레일 상을 주행하는 주행 유닛, 및 흡입부를 포함하는 세정 유닛을 포함하고, 기판 이송 장치의 청소 방법은, 주행 유닛이 레일의 제1 영역에 진입하고, 레일 구조체에 세정 유닛이 접촉하고, 흡입부가 일 방향으로 회전하는 것이 동시에 일어나는 제1 주행 공정이 수행된 이후에, 주행 유닛이 레일의 제1 영역을 벗어나 제1 영역과 연결된 제2 영역에 진입하고, 레일 구조체와 상기 세정 유닛이 이격되고, 흡입부가 일 방향과 반대되는 타 방향으로 회전하는 것이 동시에 일어나는 제2 주행 공정이 수행된다.
기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
도 1은 몇몇 실시예들에 따른 기판 이송 장치의 청소 장치를 설명하기 위한 예시적인 도면이다.
도 2는 도 1의 A를 확대한 것을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 3은 도 1의 세정 유닛의 흡입부가 회전되는 경우를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 4는 도 1의 세정 유닛의 분해 사시도를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 5는 몇몇 실시예들에 따른 주행 유닛이 레일 상에서 주행하는 모습을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 6은 몇몇 실시예들에 따른 기판 이송 장치의 청소 장치를 주행 방향의 후방에서 바라본 모습을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 7은 몇몇 실시예들에 따른 기판 이송 장치의 청소 장치가 레일의 직선부를 주행하는 모습을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 8(a)는 몇몇 실시예들에 따른 기판 이송 장치의 청소 장치가 레일의 제2 영역의 직선부를 주행하는 모습을 상면에서 바라본 도면이다.
도 8(b)는 몇몇 실시예들에 따른 기판 이송 장치의 청소 장치가 레일의 제1 영역의 직선부에 진입하는 모습을 상면에서 바라본 도면이다.
도 9는 몇몇 실시예들에 따른 기판 이송 장치의 청소 장치가 레일의 곡선부를 주행하는 모습을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 10은 몇몇 실시예들에 따른 기판 이송 장치의 청소 장치가 레일의 제1 영역의 곡선부를 주행하는 모습을 상면에서 바라본 도면이다.
도 1은 몇몇 실시예들에 따른 기판 이송 장치의 청소 장치를 설명하기 위한 예시적인 도면이다. 도 2는 도 1의 A를 확대한 것을 개략적으로 나타낸 도면이다. 도 3은 도 1의 세정 유닛의 흡입부가 회전되는 경우를 개략적으로 나타낸 도면이다. 도 4는 도 1의 세정 유닛의 분해 사시도를 개략적으로 나타낸 도면이다. 도 5는 몇몇 실시예들에 따른 주행 유닛이 레일 상에서 주행하는 모습을 개략적으로 나타낸 도면이다. 도 6은 몇몇 실시예들에 따른 기판 이송 장치의 청소 장치를 주행 방향의 후방에서 바라본 모습을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 1 및 도 2를 참고하면, 몇몇 실시예들에 따른 기판 이송 장치의 청소 장치(1000)는 주행 유닛(100), 레일 유닛(200) 및 세정 유닛(300)을 포함할 수 있다.
본 발명의 몇몇 실시예에서, 제1 방향(DR1)은 후술하는 주행 유닛(100)이 주행하는 방향을 의미한다. 제2 방향(DR2)은 제1 방향(DR1)과 상이한 방향을 의미하며, 예로서 제1 방향(DR1)과 교차하는 방향을 의미할 수 있다. 제3 방향(DR3)은 제1 및 제2 방향(DR1, DR2) 각각과 상이한 방향을 의미하며, 예로서, 제1 및 제2 방향(DR1, DR2) 각각과 교차하는 방향을 의미할 수 있다.
주행 유닛(100)은 레일(230) 상에 제2 방향(DR2)으로 서로 이격 배치되는 제1 및 제2 구동 휠(110, 210)과, 제1 및 제2 구동 휠(110, 210)이 장착되는 주행부(130)를 포함한다. 도 5를 참조하면, 제1 구동 휠(110)은 제1 주행 휠(111) 및 제1 가이드 휠(112)을 포함한다. 제2 구동 휠(120)은 제2 주행 휠(121) 및 제2 가이드 휠(122)을 포함한다. 또한, 주행 유닛(100)은 주행부(130) 상에 배치되며 분기 지점에서 주행 유닛(100)을 지지하고 안내하기 위한 보조 휠(140)을 구비할 수 있다.
보조 휠(140)의 위치 변경에 의하여 주행 유닛(100)의 주행 방향이 분기되고 주행 유닛(100)은 곡선부로 진입하게 된다. 주행 유닛(100)이 레일(230)의 곡선부로 진입하게 되면 주행 휠(111, 121)이 아닌 가이드 휠(112, 122)에 의해 주행 유닛(100)이 주행될 수 있다.
보조 휠(140)은 주행 유닛(100)의 상면에 구비되며, 보조 레일(141)과 접촉하여 회전한다. 보조 휠(140)이 보조 레일(141)의 곡선부와 접촉하면, 레일(230)의 분기 영역에서 보조 휠(140)이 분기 주행하거나, 레일(230)의 합류 영역에서 주행 유닛(100)이 합류 주행할 수 있다. 보조 휠(140)이 보조 레일(141)과 접촉하여 회전하므로, 주행 유닛(100)의 분기 영역이나 레일(230)의 합류 영역에서 주행 유닛(100)의 주행 방향을 가이드할 수 있다.
레일 유닛(200)은 레일(230) 및 레일(230) 상에 배치된 레일 구조체(240)를 포함한다. 구체적으로 도시되지는 않았으나, 레일(230)은 제2 방향(DR2)으로 서로 이격 배치된 제1 및 제2 레일을 포함한다. 또한 레일(230)은 레일 구조체(240)가 배치된 제1 영역(210) 및 제1 영역(210)과 연결되고 레일 구조체(240)가 배치되지 않은 제2 영역(220)을 가진다. 제1 영역(210)은 제1 직선부(210_1)와 제1 곡선부(210_2)를 가지고 제2 영역(220)은 제2 직선부(220_1)를 가진다.
레일 구조체(240)는 제1 영역(210)의 제1 직선부(210_1)에서 레일 지지부(241)를 포함하고, 제1 영역(210)의 제1 곡선부(210_2)에서 가이드 레일(242)을 포함한다. 레일 지지부(241)는 레일(230) 사이의 간격을 유지하여 레일 유닛(200)의 균형을 맞추는 역할을 수행한다. 가이드 레일(242)은 주행 유닛(100)이 레일(230)의 곡선부를 주행 시, 구동 휠(110, 120)의 슬립(slip) 등을 방지하여 주행 유닛(100)의 균형을 맞추는 역할을 수행한다.
세정 유닛(300)은 흡입 노즐(320) 및 레일(230) 상에 배치되어 흡입 노즐(320)을 축으로 회전하는 흡입부(310)를 포함한다. 세정 유닛(300)이 레일 구조체(240)와 접촉함과 동시에 도 3에 도시된 바와 같이 흡입부(310)가 흡입 노즐(320)을 축으로 회전한다. 흡입부(310)는 후술하는 탄성 부재(350)에 의해 탄성력을 제공받아 회전할 수 있다. 구체적으로 도시되지는 않았으나, 흡입부(310)는 제1 및 제2 레일 상에 각각 배치된 제1 및 제2 흡입부를 포함한다.
세정 유닛(300)은, 제1 영역(210)의 제1 직선부(210_1)에서 레일 지지부(241)와 접촉하고, 제1 영역(210)의 곡선부(210_2)에서 가이드 레일(242)과 접촉한다. 세정 유닛(300)은 흡입부(310)를 레일(230) 상에서 가이드하는 가이드 롤러(330)를 더 포함한다. 레일 구조체(240)의 일 측면은 가이드 롤러(330)와 접촉한다. 즉, 제1 영역(210)의 제1 직선부(210_1)에서 레일 지지부(241)의 내측면은 가이드 롤러(330)와 접촉한다. 또한 제1 영역(210)의 곡선부(210_2)에서 가이드 레일(242)의 내측면은 가이드 롤러(330)와 접촉한다.
도 7은 몇몇 실시예들에 따른 기판 이송 장치의 청소 장치가 레일의 직선부를 주행하는 모습을 개략적으로 나타낸 도면이다. 도 8(a)는 몇몇 실시예들에 따른 기판 이송 장치의 청소 장치가 레일의 제2 영역의 직선부를 주행하는 모습을 상면에서 바라본 도면이다. 도 8(b)는 몇몇 실시예들에 따른 기판 이송 장치의 청소 장치가 레일의 제1 영역의 직선부에 진입하는 모습을 상면에서 바라본 도면이다. 도 9는 몇몇 실시예들에 따른 기판 이송 장치의 청소 장치가 레일의 곡선부를 주행하는 모습을 개략적으로 나타낸 도면이다. 도 10은 몇몇 실시예들에 따른 기판 이송 장치의 청소 장치가 레일의 제1 영역의 곡선부를 주행하는 모습을 상면에서 바라본 도면이다.
도 8(a)를 참조하면, 주행 유닛(100)이 제1 영역(210)의 제1 직선부(210_1)에 진입하기 전, 주행 유닛(100)이 제2 영역(220)의 제2 직선부(220_1)에서 주행한다.
도 8(b)를 참조하면, 제1 영역(210)의 제1 직선부(210_1)에서 세정 유닛(300)이 레일 지지부(241)와 접촉함과 동시에 흡입부(310)가 일 방향으로 회전한다. 즉, 주행 유닛(100)이 레일(230)의 제1 영역(210)에 진입하고, 레일 구조체(240)에 세정 유닛(300)이 접촉하고, 흡입부(310)가 일 방향으로 회전하는 것이 동시에 일어나는 제1 주행 공정이 수행된다.
이후에, 제2 영역(220)의 제2 직선부(220_1)에서 레일 지지부(241)와 세정 유닛(300)이 서로 이격됨과 동시에 흡입부(310)가 일 방향과 반대되는 타 방향으로 회전한다. 즉, 주행 유닛(100)이 레일(230)의 제1 영역(210)을 벗어나 제1 영역(210)과 연결된 제2 영역(220)에 진입하고, 레일 구조체(240)와 세정 유닛(300)이 이격되고, 흡입부(310)가 일 방향과 반대되는 타 방향으로 회전하는 것이 동시에 일어나는 제2 주행 공정이 수행된다.
도 9 및 도 10을 참조하면, 제1 영역(210)의 제1 곡선부(210_2)에서 세정 유닛(300)이 가이드 레일(242)과 접촉함과 동시에 흡입부(310)가 일 방향으로 회전한다. 즉, 주행 유닛(100)이 레일(230)의 제1 영역(210)에 진입하고, 레일 구조체(240)에 세정 유닛(300)이 접촉하고, 흡입부(310)가 일 방향으로 회전하는 것이 동시에 일어나는 제1 주행 공정이 수행된다.
이후에, 제2 영역(220)의 제2 직선부(220_1)에서 가이드 레일(242)과 세정 유닛(300)이 서로 이격됨과 동시에 흡입부(310)가 일 방향과 반대되는 타 방향으로 회전한다. 즉, 주행 유닛(100)이 레일(230)의 제1 영역(210)을 벗어나 제1 영역(210)과 연결된 제2 영역(220)에 진입하고, 레일 구조체(240)와 세정 유닛(300)이 이격되고, 흡입부(310)가 일 방향과 반대되는 타 방향으로 회전하는 것이 동시에 일어나는 제2 주행 공정이 수행된다.
레일(230)의 제1 영역(210)에서, 흡입부(310)는 주행 유닛(100)이 주행하는 제1 방향(DR1)과 교차하는 제2 방향(DR2)을 기준으로, 흡입 노즐(320)의 중심 축(R)으로부터 세정 유닛(300)이 후퇴하는 방향(DR4, DR5, DR6)에 이르는 각도가 소정 각도(θ)가 되도록 배치된다.
도 8(b) 및 도 10을 참조하면, 제2 방향(DR2)을 기준으로, 제1 흡입부는(311) 반시계 방향으로 소정 각도(θ) 회전한 위치에 배치된다. 예로서, 제1 흡입부(311)의 회전 각도는 90°이하일 수 있다.
도 9를 참조하면, 제2 방향(DR2)을 기준으로, 흡입부(310)는 시계 방향으로 소정 각도(θ) 회전한 위치에 배치된다. 예로서, 흡입부(310)의 회전 각도는 90°이하일 수 있다. 즉, 제1 주행 공정에 있어서, 흡입부(310)는 주행 유닛(100)이 주행하는 제1 방향(DR1)과 교차하는 제2 방향(DR2)을 기준으로 소정 각도(θ) 회전한 위치에 배치된다.
도 8(a)를 참조하면, 레일(230)의 제2 영역(220)에서, 흡입부(310)는 주행 유닛(100)이 주행하는 제1 방향(DR1)과 교차하는 제2 방향(DR2)으로 배치된다. 즉, 제2 주행 공정에 있어서, 흡입부(320)는 제2 방향(DR2)으로 배치된다. 제1 및 제2 주행 공정이 반복됨에 따라, 세정 유닛(300)에 의해 레일 유닛(200) 상의 오염물질이 보다 효과적으로 세정될 수 있다.
즉, 세정 유닛(300)의 흡입부(310)가 소정 각도로 회전됨에 따라, 레일 유닛(200) 상의 세정 영역을 더욱 확보할 수 있다. 또한, 주행 유닛(100)을 정지시키지 않고도 제1 및 제2 주행 공정을 반복 수행할 수 있어, 세정 공정의 효율성을 증대시킬 수 있다.
세정 유닛(300)은 흡입부(310) 및 흡입 노즐(320)을 지지하는 지지 부재(340) 및 지지 부재(340) 상에 배치된 완충 부재(360)를 더 포함할 수 있다. 지지 부재(340)는 흡입부(310)가 과도하게 회전되는 것을 방지하고 완충 부재(360)는 회전에 따른 충격이나 진동을 완충하는 역할을 할 수 있다. 지지 부재(340)는 예로서, 알루미늄(Al) 등을 포함할 수 있다. 완충 부재(360)는 예로서, 우레탄 등을 포함할 수 있다.
세정 유닛(300)은 흡입부(310)를 회전시키도록 탄성력을 제공하는 탄성 부재(350)를 더 포함할 수 있다. 탄성 부재(350)는 예로서, 토션 스프링(torsion spring)일 수 있다. 또한 세정 유닛(300)은 탄성 부재(350)와 회전 가이드 부재(370) 사이에 배치된 링(390)을 더 포함할 수 있다. 세정 유닛(300)은 흡입 노즐(320) 및 흡입부(310) 사이에 배치되어 회전운동을 돕는 회전 가이드 부재(370)를 더 포함할 수 있다. 회전 가이드 부재(370)는 흡입부(310)의 회전 운동을 가이드해줌으로써, 결과적으로 흡입부(310)의 움직임을 원활하게 할 수 있다. 회전 가이드 부재(370)는 예로서, 리니어 부쉬일 수 있다.
한편, 세정 유닛(300)은 제3 방향(DR3)으로의 위치를 감지할 수 있는 센서 브라켓(380)을 더 포함할 수 있다. 또한, 구체적으로 도시되지는 않았으나, 세정 유닛(300)은 흡입부(310)의 외부에 차단 시트를 더 포함할 수 있다. 차단 시트는 흡입부(310)가 오염 물질을 흡입하는 때에 외부의 이물질이나 바람 등의 영향을 차단하여 차압을 높임으로써, 흡입 효율을 증대시킬 수 있다.
구체적으로 도시되지는 않았으나, 베이스 패널이 레일 유닛(200)의 상부에 배치될 수 있다. 베이스 패널은 반도체 생산 라인의 천장에 인접하게 설치될 수 있다. 베이스 패널은 레일(230)과 나란한 방향 즉 제1 방향(DR1)으로 연장될 수 있다. 베이스 패널(500)은 제1 방향(DR1)과 교차하는 제2 방향(제1 방향(DR2)으로 서로 이격된 복수 개로 형성될 수 있다. 또한, 베이스 패널(500)의 하부면에는 전술한 보조 휠(140)의 위치를 조절하기 위한 보조 레일(141)이 배치될 수 있다.　
도 6을 참조하면, 호이스트(hoist) 유닛(400)이 레일(230)의 하부에 배치되어 주행 유닛(100)에 의해 이송된다. 호이스트(hoist) 유닛(400)은 연결 축(410)을 통해 주행 유닛(100)과 연결되어 레일(230)의 하부에 배치된다. 본 발명의 몇몇 실시예에서, 호이스트(hoist) 유닛(400)은 반도체 장치 제조 공정이 수행되는 공정 설비들 및 공정 설비들 간에 기판이 수납된 캐리어를 이송한다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
100: 주행 유닛 110, 120: 제1 및 제2 구동 휠
200: 레일 유닛 210, 220: 제1 및 제2 영역
230: 레일 240: 레일 구조체
241: 레일 지지부 242: 가이드 레일
300: 세정 유닛 310: 흡입부
320: 흡입 노즐 330: 가이드 롤러
340: 지지 부재 350: 탄성 부재
360: 완충 부재 370: 회전 가이드 부재

Claims (10)

  1. 제1 및 제2 영역을 가지는 레일을 따라 주행하는 주행 유닛;
    상기 레일 및 상기 레일 상에 배치된 레일 구조체를 포함하는 레일 유닛; 및
    상기 레일 상에 배치되어 흡입 노즐을 축으로 회전하는 흡입부를 포함하는 세정 유닛을 포함하되,
    상기 세정 유닛이 상기 레일 구조체와 접촉함과 동시에 상기 흡입부가 상기 흡입 노즐을 축으로 회전하는, 기판 이송 장치의 청소 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 영역은 직선부와 곡선부 및 상기 제2 영역은 직선부를 각각 가지고,
    상기 레일 구조체는, 상기 제1 영역의 직선부에서 레일 지지부 및 상기 제1 영역의 곡선부에서 가이드 레일을 각각 포함하고,
    상기 세정 유닛은, 상기 제1 영역의 직선부에서 상기 레일 지지부 및 상기 제1 영역의 곡선부에서 상기 가이드 레일과 각각 접촉하는, 기판 이송 장치의 청소 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 제1 영역의 직선부에서 상기 세정 유닛이 상기 레일 지지부와 접촉함과 동시에 상기 흡입부가 일 방향으로 회전한 이후에, 상기 제2 영역의 직선부에서 상기 레일 지지부와 상기 세정 유닛이 서로 이격됨과 동시에 상기 흡입부가 상기 일 방향과 반대되는 타 방향으로 회전하는, 기판 이송 장치의 청소 장치.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 제1 영역의 곡선부에서 상기 세정 유닛이 상기 가이드 레일과 접촉함과 동시에 상기 흡입부가 일 방향으로 회전한 이후에, 상기 제2 영역의 직선부에서 상기 가이드 레일과 상기 세정 유닛이 서로 이격됨과 동시에 상기 흡입부가 상기 일 방향과 반대되는 타 방향으로 회전하는, 기판 이송 장치의 청소 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 레일의 제1 영역에서, 상기 흡입부는 상기 주행 유닛이 주행하는 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 기준으로 소정 각도 회전한 위치에 배치되는, 기판 이송 장치의 청소 장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 레일의 제2 영역에서, 상기 흡입부는 상기 주행 유닛이 주행하는 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 배치되는, 기판 이송 장치의 청소 장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 세정 유닛은 상기 흡입부를 상기 레일 상에서 가이드하는 가이드 롤러를 더 포함하고,
    상기 레일 구조체의 일 측면은 상기 가이드 롤러와 접촉하는, 기판 이송 장치의 청소 장치.
  8. 기판을 이송하도록 레일을 따라 주행하는 주행 유닛;
    상기 레일 및 상기 레일 상에 배치된 레일 구조체를 포함하는 레일 유닛; 및
    상기 레일 상에 배치되어 탄성 부재에 의해 탄성력을 제공받아 회전하는 흡입부를 포함하는 세정 유닛을 포함하되,
    상기 세정 유닛이 상기 레일 구조체와 접촉함과 동시에 상기 흡입부가 회전하는, 기판 이송 장치의 청소 장치.
  9. 기판 이송 장치의 청소 장치를 이용한 기판 이송 장치의 청소 방법에 있어서,
    상기 기판 이송 장치의 청소 장치는,
    레일 및 레일 구조체를 포함하는 레일 유닛, 상기 레일 상을 주행하는 주행 유닛, 및 흡입부를 포함하는 세정 유닛을 포함하고,
    상기 기판 이송 장치의 청소 방법은,
    상기 주행 유닛이 상기 레일의 제1 영역에 진입하고, 상기 레일 구조체에 상기 세정 유닛이 접촉하고, 상기 흡입부가 일 방향으로 회전하는 것이 동시에 일어나는 제1 주행 공정이 수행된 이후에,
    상기 주행 유닛이 상기 레일의 제1 영역을 벗어나 상기 제1 영역과 연결된 제2 영역에 진입하고, 상기 레일 구조체와 상기 세정 유닛이 이격되고, 상기 흡입부가 상기 일 방향과 반대되는 타 방향으로 회전하는 것이 동시에 일어나는 제2 주행 공정이 수행되는, 기판 이송 장치의 청소 방법.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 제1 영역은 직선부와 곡선부를 가지고,
    상기 레일 구조체는, 상기 제1 영역의 직선부에서 레일 지지부 및 상기 제1 영역의 곡선부에서 가이드 레일을 각각 포함하고,
    상기 세정 유닛은, 상기 제1 영역의 직선부 및 상기 제1 영역의 곡선부 각각에서 상기 레일 지지부 및 상기 가이드 레일과 접촉하는, 기판 이송 장치의 청소 방법.
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