KR20220032430A - 극저온 시험용 챔버 구조를 포함한 냉각시스템 - Google Patents

극저온 시험용 챔버 구조를 포함한 냉각시스템 Download PDF

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Abstract

본 발명은 극저온 실험이 필요한 시편에 액화질소 및 액화헬륨을 직접 분사함으로써, 고가의 액화헬륨 소모량을 줄이고 냉각 시간을 획기적으로 단축시키며 또한 이중 구조의 챔버를 통해 외부와 내부 온도 차이로부터 오는 온도 저하를 최소화하는 극저온 시험용 챔버 구조를 포함한 냉각시스템에 관한 것이다.

Description

극저온 시험용 챔버 구조를 포함한 냉각시스템{CHAMBER STRUCTURE AND COOLING SYSTEM FOR CRYOGENIC MATERIAL TESTING}
본 발명은 극저온 시험용 챔버 구조를 포함한 냉각시스템에 관한 것으로, 보다 구체적으로는, 극저온 실험이 필요한 시편에 액화질소 및 액화헬륨을 직접 분사함으로써, 고가의 액화헬륨 소모량을 줄이고 냉각 시간을 획기적으로 단축시키며 또한 이중 구조의 챔버를 통해 외부와 내부 온도 차이로부터 오는 온도 저하를 최소화하는 극저온 시험용 챔버 구조를 포함한 냉각시스템에 관한 것이다.
일반적으로, 극저온에서 금속 혹은 비금속으로 제작된 시편 혹은 부품의 기계적 시험을 위해서는 극저온 챔버를 이용하게 된다. 이때, 극저온 챔버는 시험 온도를 영하 170도까지 떨어뜨리게 되는데 이때 저온 냉매인 액화질소를 챔버 내에 분사하고, 팬으로 냉기를 순환시켜 저온 상태를 유지하게 된다. 하지만 영하 170도 이하 시험을 요할 경우에는 적합하지 않게 된다.
특히, 영하 170도 보다 낮은 영하 269도의 극저온 시험의 경우 진공 챔버 내부에 액화질소 혹은 액화헬륨을 분사하여 팬으로 냉기를 순환시켜 저온 상태를 유지하게 되는데, 이 경우 고가의 액화헬륨을 다량 주입하고 90분 이상 냉각 시간을 유지하여야 하기 때문에, 과도한 시험시간 소요로 인해 시험 주기가 길어져 시험에 많은 경제적손실이 야기되고 시험설비가 복잡해지는 문제점을 가지게 된다.
한국등록특허 10-0691306호
본 발명의 해결하고자 하는 과제는 극저온 실험이 필요한 시편에 액화질소 및 액화헬륨을 직접 분사함으로써, 고가의 액화헬륨 소모량을 줄이고 냉각 시간을 획기적으로 단축시키며 또한 이중 구조의 챔버를 통해 외부와 내부 온도 차이로부터 오는 온도 저하를 최소화하는 극저온 시험용 챔버 구조를 포함한 냉각시스템을 제공하고자 한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 극저온 시험용 챔버 구조를 포함한 냉각시스템은 내부에 시편이 수용되는 진공 챔버, 상기 진공 챔버의 상부에 위치되며, 상기 진공 챔버를 개폐하도록 마련된 챔버 커버 및 상기 진공 챔버 내 시편에 냉각제를 분사 가능하도록 마련되는 냉각제 분사부를 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 챔버 커버는 상기 진공 챔버의 상측에 끼움 결합되는 단열층, 상기 단열층에 하중을 부여하는 로드셀 축, 상기 단열층을 관통하여 상기 진공 챔버 내측 하부로 연장되며, 상기 시편을 상기 진공 챔버 내측 바닥면으로부터 일정한 높이로 이격시키기 위한 지지 프레임, 상기 진공 챔버 내에서 사용이 완료된 질소가스 및 헬륨가스를 외부로 배출시키기 위한 사용가스 배기 조절밸브, 상기 지지 프레임의 일측에 마련되며, 상기 시편의 온도를 측정하는 온도 센서 및 상기 로드셀 축 및 상기 지지 프레임의 외측 둘레를 따라 마련되며, 상기 로드셀 축 및 상기 지지 프레임과 상기 단열층 사이 틈새를 밀봉하는 실링 수단을 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 단열층은 서로 이격된 테프론 층 사이에 플라스틱 폼 또는 스티로폼 층이 개재된 3중의 적층구조인 것을 특징으로 할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 냉각제 분사부는 액화질소 공급부와 연결된 액화질소 공급 배관, 액화헬륨 공급부와 연결된 액화헬륨 공급 배관, 상기 액화질소 공급배관에 마련되는 액화질소 주입량 조절밸브, 상기 액화헬륨 공급배관에 마련되는 액화헬륨 주입량 조절밸브, 상기 액화질소 공급배관의 일측에 마련되는 액화질소 분사노즐 및 상기 액화헬륨 공급배관의 일측에 마련되는 액화헬륨 분사노즐을 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 액화질소 분사노즐은 상기 시편의 상부에 위치되어 액화질소를 상기 시편의 상측에서 하측 방향으로 분사되도록 하는 상부 액화질소 분사노즐 및 상기 시편을 상측에서 하측 방향으로 코일 형태로 감싸도록 위치되어 액화질소를 상기 시편의 측면에 분사되도록 하는 측면부 액화질소 분사노즐을 포함하고, 상기 액화헬륨 분사노즐은 상기 시편의 측면부에 위치되는 것을 특징으로 할 수 있다.
일 실시예에서, 본 발명은 상기 시편의 위치에 따라, 상기 액화질소 분사노즐 및 상기 액화헬륨 분사노즐의 위치를 조정하기 위한 조정수단을 더 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 진공 챔버는 이중 보온 구조를 가지는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명에 따르면, 극저온 실험이 필요한 시편에 액화질소 및 액화헬륨을 직접 분사함으로써, 고가의 액화헬륨 소모량을 줄이고 냉각 시간을 획기적으로 단축시키며 또한 이중 구조의 챔버를 통해 외부와 내부 온도 차이로부터 오는 온도 저하를 최소화할 수 있는 이점을 가진다.
또한 본 발명의 일 측면에 따르면, 이중 보온 구조의 진공 챔버를 적용함에 따라 비교적 가격이 저렴한 액화질소를 액화헬륨와 함께 사용할 수 있는 이점을 가진다.
또한 본 발명의 일 측면에 따르면, 액화질소를 시편의 상부 및 측면부에 고루 분사함으로써 냉각속도를 급격히 높여 급속 냉동이 가능하도록 하는 이점을 가진다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 극저온 시험용 챔버 구조를 포함한 냉각시스템(100)의 구성을 도시한 도면이다.
도 2는 도 1에 도시된 챔버 커버(120)를 상측에서 도시한 도면이다.
도 3은 도 1에 도시된 단열층(121) 로드셀 축(121), 지지 프레임(122)의 사이 공간에 마련되는 실링 수단(126)을 도시한 도면이다.
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시한다. 그러나 하기의 실시예는 본 발명을 보다 쉽게 이해하기 위하여 제공되는 것일 뿐, 실시예에 의해 본 발명의 내용이 한정되는 것은 아니다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 극저온 시험용 챔버 구조를 포함한 냉각시스템(100)의 구성을 도시한 도면이고, 도 2는 도 1에 도시된 챔버 커버(120)를 상측에서 도시한 도면이다.
도 1 및 도 2를 살펴보면, 본 발명의 일 실시예에 따른 극저온 시험용 챔버 구조를 포함한 냉각시스템(100)은 크게 진공 챔버(110), 챔버 커버(120), 냉각제 분사부(130) 및 온도 센서(140)를 포함하며, 추가적으로는 조정수단(미도시)을 더 포함할 수 있다.
진공 챔버(110)는 내부에 시편이 수용되는 내부 공간을 제공하며, 진공 챔버(110) 내외부의 온도 차에 따른 온도 저하를 최소화하도록 이중 보온 구조를 가지게 된다. 이를 위해, 진공 챔버(110)의 이중 내벽 사이에는 진공층이 형성된다.
진공 챔버(110)의 내부에는 후술되는 챔버 커버(120)로부터 연장되되 시편을 진공 챔버(110) 내측 바닥면으로부터 일정한 높이로 이격시키기 위한 지지 프레임(122)이 위치된다.
진공 챔버(110) 내의 시편에는 후술되는 냉각제 분사부(130)를 통해 분사되는 액화질소 및 액화헬륨이 기화된 상태로 남게 되는데, 이때 남은 가스는 후술되는 챔버 커버(120)의 사용가스 배기 조절밸브(123)를 통해 이러한 진공 챔버(110) 내 질소가스 및 헬륨가스가 외부로 배출될 수 있다.
챔버 커버(120)는 진공 챔버(110)의 상측으로부터 개폐되어 진공 챔버(110) 내에 시편이 수용되도록 하거나, 진공 챔버(110)로부터 제거되도록 마련된다.
이때, 챔버 커버(120)가 너무 가벼울 경우 진공 챔버(110)의 립시일을 잡아주는 힘이 부족할 수 있기 때문에, 챔버 커버(120)의 단열층(121)은 서로 이격된 테프론 층 사이에 플라스틱 폼 또는 스티로폼 층이 개재된 3중의 적층구조로 형성된다.
이러한 챔버 커버(120)는 진공 챔버(110)에 끼움 결합되는 단열층(121), 단열층에 하중을 부여하는 로드셀 축(122), 진공 챔버(110) 내측 하부로 연장되어 시편을 진공 챔버(110) 내측 바닥면으로부터 일정한 높이로 이격시키기 위한 지지 프레임(123) 및 진공 챔버(110) 내에서 사용이 완료된 질소가스 및 헬륨가스를 외부로 배출시키기 위한 사용가스 배기 조절밸브(124)를 포함하여 구성된다.
먼저, 단열층(121)은 3중 적층구조인 테프론층 및 플라스틱폼 층(혹은 스티로폼 층)으로 형성되며 후술되는 로드셀 축(121) 및 지지 프레임(122)이 단열층(121)을 관통하여 하측 방향으로 연장된다. 이때, 로드셀 축(121) 및 지지 프레임(122)과 단열층(121) 사이에는 가스 리크 방지 및 로드셀 축(121)의 상하 운동 시 마찰을 줄이기 위한 실링 수단(126)이 마련된다.
로드셀 축(122)은 단열층(121) 상부의 로드셀과 연결되어 단열층(121)에 일정한 하중을 가함으로써 진공 챔버(110)와의 밀착력을 강화하는 역할을 한다.
지지 프레임(123)은 진공 챔버(110)의 상측 내부에서 하측 방향으로 내려오는 한 쌍의 수직 지지 프레임(123a)과, 한 쌍의 수직 지지 프레임(123a)의 하부에 연결되는 수평 지지 프레임(123b)을 포함한다. 이때 수평 지지 프레임(123b)에 시편이 안착된다. 진공 챔버(110)의 상부는 챔버 커버(120)를 통해 개폐가 이루어진다.
한 쌍의 수직 지지 프레임(123a)은 챔버 커버(120)의 상부와 연결되며, 이때 한 쌍의 수직 지지 프레임(123a)은 단열층(121)의 3중 적층구조인 테프론층 및 플라스틱폼 층(혹은 스티로폼 층)을 관통하여 진공 챔버(110)의 내부로 연장된다.
이때, 한 쌍의 수직 지지 프레임(121a)의 일측에는 시편의 온도를 측정하는 온도 센서(125)가 마련된다.
냉각제 분사부(130)는 진공 챔버(110) 내 시편에 냉각제(액화질소 및 액화헬륨)을 분사 가능하도록 마련된다.
보다 구체적으로, 냉각제 분사부(130)는 외부의 액화질소 공급부(미도시)와 연결된 액화질소 공급 배관(131), 액화질소 공급 배관(131)에 마련되며 주입되는 액화질소량을 조절하기 위한 액화질소 주입량 조절밸브(132), 액화질소 공급 배관(132)의 일측에 하나 이상 마련되어 시편에 액화질소를 분사하도록 구성된 액화질소 분사노즐(133)을 포함한다.
냉각제 분사부(130)는 외부의 액화헬륨 공급부(미도시)와 연결된 액화헬륨 공급 배관(134), 액화헬륨 공급 배관(134)에 마련되며 주입되는 액화헬륨량을 조절하기 위한 액화헬륨 주입량 조절밸브(135), 액화헬륨 공급 배관(134)의 일측에 마련되며 시편에 액화헬륨을 분사하도록 구성된 액화헬륨 분사노즐(136)을 포함한다.
이때, 액화질소 분사노즐(133)은 시편의 상부에 위치되어 하측 방향으로 액화질소를 분사하는 상부 액화질소 분사노즐(133a)과, 시편을 상측에서 하측 방향으로 코일 형태로 감싸도록 형성되어 애고하질소를 시편의 측면에 골고루 분사되도록 하는 측면부 액화질소 분사노즐(133b)을 포함하여 구성된다.
이때 상부 액화질소 분사노즐(133a) 및 측면부 액화질소 분사노즐(133b)은 액화질소 공급배관(132)와 연결됨에 따라 시편의 상부 및 측면부에 액화질소를 골고루 분사함으로써 급격한 냉각이 진행되도록 한다.
또한, 액화헬륨 분사노즐(136)은 시편의 측면부에 위취되어 시편의 측면으로 액화질소를 분사하게 된다.
따라서, 액화질소 분사노즐(133) 및 액화헬륨 분사노즐(136)이 각각 액화질소 및 액화헬륨을 시편에 직접적으로 분사함에 따라 영하 269도의 극저온 시험 환경을 빠르게 구현할 수 있는 이점과, 질소와 헬륨을 함께 사용함으로써 고가의 헬륨소모량을 줄일 수 있는 이점을 가지게 된다.
또한, 일 실시예에서 본 발명은 시편의 위치에 따라 액화질소 분사노즐(133) 및 액화헬륨 분사노즐(136)의 위치(높낮이)를 조절하기 위한 조정수단(미도시)를 더 포함할 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
100: 극저온 시험용 챔버 구조를 포함한 냉각시스템
110: 진공 챔버
120: 챔버 커버
121: 단열층
122: 로드셀 축
123: 지지 프레임
123a: 수직 지지 프레임
123b: 수평 지지 프레임
124: 사용가스 배기 조절밸브
125: 온도 센서
126: 실링 수단
130: 냉각제 분사부
131: 액화질소 공급 배관
132: 액화질소 주입량 조절밸브
133: 액화질소 분사노즐
133a: 상부 액화질소 분사노즐
133b: 측면부 액화질소 분사노즐
134: 액화헬륨 공급 배관
135: 액화헬륨 주입량 조절밸브
136: 액화헬륨 분사노즐

Claims (7)

  1. 내부에 시편이 수용되는 진공 챔버;
    상기 진공 챔버의 상부에 위치되며, 상기 진공 챔버를 개폐하도록 마련된 챔버 커버; 및
    상기 진공 챔버 내 시편에 냉각제를 분사 가능하도록 마련되는 냉각제 분사부;를 포함하는 것을 특징으로 하는, 극저온 시험용 챔버 구조를 포함한 냉각시스템.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 챔버 커버는,
    상기 진공 챔버의 상측에 끼움 결합되는 단열층;
    상기 단열층에 하중을 부여하는 로드셀 축;
    상기 단열층을 관통하여 상기 진공 챔버 내측 하부로 연장되며, 상기 시편을 상기 진공 챔버 내측 바닥면으로부터 일정한 높이로 이격시키기 위한 지지 프레임;
    상기 진공 챔버 내에서 사용이 완료된 질소가스 및 헬륨가스를 외부로 배출시키기 위한 사용가스 배기 조절밸브;
    상기 지지 프레임의 일측에 마련되며, 상기 시편의 온도를 측정하는 온도 센서; 및
    상기 로드셀 축 및 상기 지지 프레임의 외측 둘레를 따라 마련되며, 상기 로드셀 축 및 상기 지지 프레임과 상기 단열층 사이 틈새를 밀봉하는 실링 수단;을 포함하는 것을 특징으로 하는, 극저온 시험용 챔버 구조를 포함한 냉각시스템.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 단열층은,
    서로 이격된 테프론 층 사이에 플라스틱 폼 또는 스티로폼 층이 개재된 3중의 적층구조인 것을 특징으로 하는, 극저온 시험용 챔버 구조를 포함한 냉각시스템.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 냉각제 분사부는,
    액화질소 공급부와 연결된 액화질소 공급 배관;
    액화헬륨 공급부와 연결된 액화헬륨 공급 배관;
    상기 액화질소 공급배관에 마련되는 액화질소 주입량 조절밸브;
    상기 액화헬륨 공급배관에 마련되는 액화헬륨 주입량 조절밸브;
    상기 액화질소 공급배관의 일측에 마련되는 액화질소 분사노즐; 및
    상기 액화헬륨 공급배관의 일측에 마련되는 액화헬륨 분사노즐;을 포함하는 것을 특징으로 하는, 극저온 시험용 챔버 구조를 포함한 냉각시스템.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 액화질소 분사노즐은,
    상기 시편의 상부에 위치되어 액화질소를 상기 시편의 상측에서 하측 방향으로 분사되도록 하는 상부 액화질소 분사노즐; 및
    상기 시편을 상측에서 하측 방향으로 코일 형태로 감싸도록 위치되어 액화질소를 상기 시편의 측면에 분사되도록 하는 측면부 액화질소 분사노즐;을 포함하고,
    상기 액화헬륨 분사노즐은 상기 시편의 측면부에 위치되는 것을 특징으로 하는, 극저온 시험용 챔버 구조를 포함한 냉각시스템.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 시편의 위치에 따라, 상기 액화질소 분사노즐 및 상기 액화헬륨 분사노즐의 위치를 조정하기 위한 조정수단;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 극저온 시험용 챔버 구조를 포함한 냉각시스템.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 진공 챔버는,
    이중 보온 구조를 가지는 것을 특징으로 하는, 극저온 시험용 챔버 구조를 포함한 냉각시스템.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102645636B1 (ko) * 2023-12-14 2024-03-11 국립목포대학교산학협력단 단열 구조체의 피로 시험 방법
KR20240088398A (ko) 2022-12-13 2024-06-20 한국재료연구원 극저온 인장시험용 챔버 및 그립 시스템

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60230034A (ja) * 1984-04-28 1985-11-15 Toshiba Corp 極低温度破壊靭性試験装置
JPH01254839A (ja) * 1988-04-05 1989-10-11 Japan Steel Works Ltd:The 極低温破壊靭性値を求める方法及び極低温下での破壊靭性試験装置
KR20040009664A (ko) * 2002-07-24 2004-01-31 미래산업 주식회사 반도체 소자 테스트 핸들러의 발열 보상장치
KR100691306B1 (ko) 2005-07-21 2007-03-09 (주)베스테크 고온 저온용 테스트 챔버 장치
KR20120012058A (ko) * 2010-07-30 2012-02-09 포항공과대학교 산학협력단 순환형 냉매분사기가 부착된 저온 피로 시험 장치 및 방법
KR20140014586A (ko) * 2012-07-25 2014-02-06 한국항공우주연구원 액체질소 직분사방식의 극저온열환경시험장치
KR20140086206A (ko) * 2012-12-28 2014-07-08 대우조선해양 주식회사 선박용 압력 용기의 센서 결선용 플랜지 장치
KR20150039995A (ko) * 2013-10-04 2015-04-14 한국표준과학연구원 무냉매 방식 극저온 시험장치
KR20190121669A (ko) * 2018-04-18 2019-10-28 성우인스트루먼츠 주식회사 샘플 홀더의 진동 저감을 위해 벨로우즈를 이용한 크라이오스탯

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60230034A (ja) * 1984-04-28 1985-11-15 Toshiba Corp 極低温度破壊靭性試験装置
JPH01254839A (ja) * 1988-04-05 1989-10-11 Japan Steel Works Ltd:The 極低温破壊靭性値を求める方法及び極低温下での破壊靭性試験装置
KR20040009664A (ko) * 2002-07-24 2004-01-31 미래산업 주식회사 반도체 소자 테스트 핸들러의 발열 보상장치
KR100691306B1 (ko) 2005-07-21 2007-03-09 (주)베스테크 고온 저온용 테스트 챔버 장치
KR20120012058A (ko) * 2010-07-30 2012-02-09 포항공과대학교 산학협력단 순환형 냉매분사기가 부착된 저온 피로 시험 장치 및 방법
KR20140014586A (ko) * 2012-07-25 2014-02-06 한국항공우주연구원 액체질소 직분사방식의 극저온열환경시험장치
KR20140086206A (ko) * 2012-12-28 2014-07-08 대우조선해양 주식회사 선박용 압력 용기의 센서 결선용 플랜지 장치
KR20150039995A (ko) * 2013-10-04 2015-04-14 한국표준과학연구원 무냉매 방식 극저온 시험장치
KR20190121669A (ko) * 2018-04-18 2019-10-28 성우인스트루먼츠 주식회사 샘플 홀더의 진동 저감을 위해 벨로우즈를 이용한 크라이오스탯

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20240088398A (ko) 2022-12-13 2024-06-20 한국재료연구원 극저온 인장시험용 챔버 및 그립 시스템
KR102645636B1 (ko) * 2023-12-14 2024-03-11 국립목포대학교산학협력단 단열 구조체의 피로 시험 방법

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