KR20210116253A - Positioning method and positioning device - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 34
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 98
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims abstract description 18
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 abstract description 44
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 37
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 35
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 7
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 5
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000005661 hydrophobic surface Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
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- B25J11/00—Manipulators not otherwise provided for
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B25J—MANIPULATORS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES
- B25J15/00—Gripping heads and other end effectors
- B25J15/0023—Gripper surfaces directly activated by a fluid
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B25—HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
- B25J—MANIPULATORS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES
- B25J9/00—Programme-controlled manipulators
- B25J9/16—Programme controls
- B25J9/20—Programme controls fluidic
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/6715—Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
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- Power Engineering (AREA)
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Abstract
Description
본 발명은, 위치 결정 방법 및 위치 결정 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a positioning method and a positioning device.
액체의 표면 장력을 사용하여 복수의 편상체 (片狀體) 를 소정의 위치에 위치 결정하는 위치 결정 방법이 알려져 있다 (예를 들어, 문헌 1 : 일본 공개특허공보 2010-245452호 참조).A positioning method of positioning a plurality of flakes at a predetermined position using the surface tension of a liquid is known (for example, see Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-245452).
문헌 1 에 기재된 위치 결정 방법에서는, 지지 기판 (31) (지지 부재) 의 상면 (지지면) 에 형성된 친수막 (31a) (친수부) 상에 물 (액체) 을 도포하고, 친수부에 칩 (20) (편상체) 을 배치함으로써, 친수부에 있어서의 액체의 표면 장력으로 편상체를 소정 위치에 위치 결정한 후, 편상체가 지지면에 지지될 때까지 친수부의 액체가 증발하는 것을 기다려야 하기 때문에, 단위 시간당 처리 능력이 저하된다는 문제가 있다.In the positioning method described in Document 1, water (liquid) is applied on the hydrophilic film 31a (hydrophilic part) formed on the upper surface (support surface) of the support substrate 31 (support member), and the chip ( 20) By arranging (flaky body), after positioning the patchy body at a predetermined position with the surface tension of the liquid in the hydrophilic part, it is necessary to wait for the liquid of the hydrophilic part to evaporate until the patchy body is supported on the support surface. , there is a problem in that the processing capacity per unit time is lowered.
본 발명의 목적은, 단위 시간당 처리 능력이 저하되는 것을 방지할 수 있는 위치 결정 방법 및 위치 결정 장치를 제공하는 것에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a positioning method and a positioning device capable of preventing a decrease in processing capacity per unit time.
본 발명은, 청구항에 기재한 구성을 채용하였다.The present invention employs the configuration described in the claims.
본 발명에 의하면, 지지면에 있어서의 친수부로부터 액체를 회수하기 때문에, 편상체가 지지면에 지지될 때까지 친수부의 액체가 증발하는 것을 기다릴 필요가 없어, 단위 시간당 처리 능력이 저하되는 것을 방지할 수 있다.According to the present invention, since the liquid is recovered from the hydrophilic part on the support surface, there is no need to wait for the liquid of the hydrophilic part to evaporate until the flakes are supported on the support surface, preventing a decrease in processing capacity per unit time can do.
또, 지지면을 갖는 지지 부재의 내부에 형성된 유로로 친수부에 액체를 공급하면, 친수부에 확실하게 액체를 공급할 수 있다.In addition, if the liquid is supplied to the hydrophilic part through the flow path formed inside the support member having the support surface, the liquid can be reliably supplied to the hydrophilic part.
또, 친수부로부터 회수한 액체를 친수부에 재공급하면, 액체의 소비량을 억제할 수 있다.In addition, if the liquid recovered from the hydrophilic part is re-supplied to the hydrophilic part, the consumption of the liquid can be suppressed.
도 1a 는, 본 발명의 일 실시형태에 관련된 위치 결정 방법을 실시하는 위치 결정 장치의 설명도이다.
도 1b 는, 본 발명의 일 실시형태에 관련된 위치 결정 방법을 실시하는 위치 결정 장치의 설명도이다.
도 1c 는, 본 발명의 일 실시형태에 관련된 위치 결정 방법을 실시하는 위치 결정 장치의 설명도이다.
도 1d 는, 본 발명의 일 실시형태에 관련된 위치 결정 방법을 실시하는 위치 결정 장치의 설명도이다.
도 1e 는, 본 발명의 일 실시형태에 관련된 위치 결정 방법을 실시하는 위치 결정 장치의 설명도이다.1A is an explanatory diagram of a positioning device that implements a positioning method according to an embodiment of the present invention.
Fig. 1B is an explanatory diagram of a positioning device for implementing a positioning method according to an embodiment of the present invention.
Fig. 1C is an explanatory diagram of a positioning device for implementing a positioning method according to an embodiment of the present invention.
Fig. 1D is an explanatory diagram of a positioning device that implements a positioning method according to an embodiment of the present invention.
Fig. 1E is an explanatory diagram of a positioning device that implements a positioning method according to an embodiment of the present invention.
이하, 본 발명의 일 실시형태를 도 1a ∼ 도 1e 에 기초하여 설명한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described with reference to Figs. 1A to 1E.
또한, 본 실시형태에 있어서의 X 축, Y 축, Z 축은, 각각이 직교하는 관계에 있고, X 축 및 Y 축은, 소정 평면 내의 축으로 하고, Z 축은, 상기 소정 평면에 직교하는 축으로 한다. 또한, 본 실시형태에서는, Y 축과 평행인 도 1a ∼ 도 1e 의 앞쪽 방향에서 보았을 경우를 기준으로 하고, 방향을 나타낸 경우, 「상」이 Z 축의 화살표 방향이고 「하」가 그 역방향, 「좌」가 X 축의 화살표 방향이고 「우」가 그 역방향, 「전」이 Y 축과 평행인 도 1a ∼ 도 1e 중 앞쪽 방향이고 「후」가 그 역방향으로 한다.Further, in the present embodiment, the X axis, Y axis, and Z axis are in a relationship orthogonal to each other, the X axis and the Y axis are axes within a predetermined plane, and the Z axis is an axis orthogonal to the predetermined plane. . In addition, in this embodiment, on the basis of the case of seeing from the front direction of FIGS. 1A to 1E parallel to the Y axis, when the direction is indicated, "up" is the arrow direction of the Z axis, and "down" is the reverse direction, " 1A to 1E, in which "left" is the arrow direction of the X axis, "right" is the reverse direction, "front" is the forward direction in FIGS. 1A to 1E parallel to the Y axis, and "rear" is the reverse direction.
본 발명의 위치 결정 장치 (EA) 는, 물이나 알코올 용액 등의 액체 (LQ) 의 표면 장력을 사용하여 편상체로서의 반도체 칩 (이하, 간단히 「칩」이라고도 한다) (CP) 을 소정의 위치에 위치 결정하는 장치로서, 친수성을 갖는 친수부 (12F) 가 형성된 지지면 (12A) 의 친수부 (12F) 에서 칩 (CP) 을 지지하는 지지 수단 (10) 과, 친수부 (12F) 에 액체 (LQ) 를 공급하는 액체 공급 수단 (20) 과, 친수부 (12F) 로부터 액체 (LQ) 를 회수하는 액체 회수 수단 (30) 을 구비하고, 복수의 칩 (CP) 이 첩부된 접착 시트 (AS) 에 장력을 부여하여, 그들 칩 (CP) 의 상호 간격을 넓히는 이간 수단 (40) 과, 칩 (CP) 으로부터 접착 시트 (AS) 를 박리하는 박리 수단 (50) 의 근방에 배치되어 있다.The positioning device EA of the present invention uses the surface tension of a liquid LQ such as water or an alcohol solution to position a semiconductor chip (hereinafter simply referred to as a “chip”) CP as a flake body at a predetermined position. A positioning device, comprising: a support means 10 for supporting the chip CP in the
지지 수단 (10) 은, 구동 기기로서의 직동 모터 (11) 와, 직동 모터 (11) 의 출력축 (11A) 에 지지되고, 감압 펌프나 진공 이젝터 등의 감압 수단 (23) 에 의해 흡착 유지가 가능한 지지면 (12A) 을 갖는 지지 부재로서의 테이블 (12) 을 구비하고 있다. 본 실시형태의 경우, 감압 수단 (23) 은, 지지 수단 (10) 과 액체 회수 수단 (30) 에서 공유하는 구성으로 되어 있다.The support means 10 is supported by the
테이블 (12) 은, 상면에 형성된 오목부 (12B) 와, 테이블 (12) 의 내부에 형성되고, 오목부 (12B) 와 연통하는 유로 (12C) 와, 오목부 (12B) 내에 배치되고, 그 상면이 지지면 (12A) 으로 된 다공질 수지 등의 다공질 부재 (12D) 를 구비하고 있다.The table 12 is disposed in a
지지면 (12A) 에는, 도 1a 중 AA 를 부여한 도면에 나타내는 바와 같이, 소수성을 갖는 소수부 (12E) 가 격자상으로 형성되고, 당해 소수부 (12E) 에 의해 친수부 (12F) 가 구획되어 있다.In the
본 실시형태에서는, 소수부 (12E) 는, 지지면 (12A) 에 격자상으로 형성된 홈의 내면에, 접착제나 수지 등의 발수 재료 (12G) 가 도포된 구성으로 되고, 친수부 (12F) 는, 조면 (粗面) 가공, 블라스트 가공 등을 실시하는 조면 형성 수단에 의해, 거슬거슬한 거친 면이 되는 조면 처리가 실시된 구성으로 되어 있다.In the present embodiment, the
액체 공급 수단 (20) 은, 액체 (LQ) 를 수용하는 탱크 (21) 와, 가압 펌프나 터빈 등의 가압 수단 (22) 과, 감압 수단 (23) 과, 탱크 (21) 에 대한 가압 수단 (22) 및 감압 수단 (23) 의 연통 상태를 전환하는 전환 밸브 (24) 와, 배관 (25A) 을 개재하여 유로 (12C) 에 접속되고, 탱크 (21) 에 대한 유로 (12C) 의 연통 위치를 탱크 (21) 의 상부 및 저부로 전환하는 전환 밸브 (25) 를 구비하고, 지지면 (12A) 을 갖는 테이블 (12) 의 내부에 형성된 유로 (12C) 로 친수부 (12F) 에 액체 (LQ) 를 공급하는 구성으로 되어 있다. 또한, 탱크 (21) 는, 가압측 배관 (21A) 과 감압측 배관 (21B) 을 개재하여 전환 밸브 (25) 에 연통되어 있다.The liquid supply means 20 includes a
액체 회수 수단 (30) 은, 액체 공급 수단 (20) 과 겸용하는 구성이 채용되고, 지지면 (12A) 을 갖는 테이블 (12) 의 내부에 형성된 유로 (12C) 로 친수부 (12F) 로부터 액체 (LQ) 를 회수하는 구성으로 되어 있다.The liquid recovery means 30 is configured to serve both as the liquid supply means 20, and flows from the
이간 수단 (40) 은, 구동 기기로서의 복수의 직동 모터 (41) 와, 각 직동 모터 (41) 의 출력축 (41A) 에 지지되고, 1 쌍의 파지 갈고리 (42A) 를 갖는 유지 수단으로서 구동 기기로서의 척 실린더 (42) 를 구비하고 있다.The separation means 40 is supported by a plurality of
박리 수단 (50) 은, 구동 기기로서의 리니어 모터 (51) 와, 리니어 모터 (51) 의 슬라이더 (51A) 에 지지되고, 1 쌍의 파지 갈고리 (52A) 를 갖는 유지 수단으로서 구동 기기로서의 척 실린더 (52) 를 구비하고 있다.The peeling means 50 is a
이상의 위치 결정 장치 (EA) 의 동작을 설명한다. 또한, 위치 결정 장치 (EA) 에 의해 실시되는 이하의 공정은, 칩 (CP) 을 구비한 반도체 장치의 제조 방법에서 실시되는 것이다.The operation of the above positioning device EA will be described. In addition, the following processes implemented by positioning device EA are implemented by the manufacturing method of the semiconductor device provided with the chip CP.
먼저, 도 1a 로 나타내는 초기 위치에 각 부재가 배치된 위치 결정 장치 (EA) 에 대하여, 당해 위치 결정 장치 (EA) 의 사용자 (이하, 간단히 「사용자」라고 한다), 또는, 다관절 로봇이나 벨트 컨베이어 등의 도시되지 않은 반송 수단이, 접착 시트 (AS) 에 첩부된 복수의 칩 (CP) 을 테이블 (12) 상방의 소정 위치에 반송하면, 이간 수단 (40) 이 직동 모터 (41) 및 척 실린더 (42) 를 구동하여, 도 1a 중 2 점 쇄선으로 나타내는 바와 같이, 1 쌍의 파지 갈고리 (42A) 로 접착 시트 (AS) 를 파지한다. 이어서, 이간 수단 (40) 이 직동 모터 (41) 를 구동하여, 도 1b 에 나타내는 바와 같이, 접착 시트 (AS) 에 장력을 부여하여 복수의 칩 (CP) 의 상호 간격을 넓힌다 (이간 공정). 이 때, 각 칩 (CP) 은, 지지면 (12A) 의 각 친수부 (12F) 에 각각 대향 배치되도록, 상호 간격이 넓혀진다.First, with respect to the positioning device EA in which each member is disposed at the initial position shown in Fig. 1A, a user of the positioning device EA (hereinafter simply referred to as "user"), or an articulated robot or a belt When a conveyance means (not shown) such as a conveyor conveys the plurality of chips CP stuck on the adhesive sheet AS to a predetermined position above the table 12 , the separation means 40 is a
그 후, 지지 수단 (10) 이 직동 모터 (11) 를 구동하여, 도 1b 에 나타내는 바와 같이, 테이블 (12) 을 상승시켜 지지면 (12A) 을 칩 (CP) 에 맞닿게 한 후, 감압 수단 (23) 을 구동하여, 지지면 (12A) 에서의 칩 (CP) 의 흡착 유지를 개시한다 (지지 공정). 다음으로, 이간 수단 (40) 이 척 실린더 (42) 를 구동하여, 파지 갈고리 (42A) 에 의한 접착 시트 (AS) 의 파지를 해제한 후, 지지 수단 (10) 이 직동 모터 (11) 를 구동하여, 접착 시트 (AS) 가 척 실린더 (52) 좌방의 소정의 높이 위치에 도달할 때까지 테이블 (12) 을 하강시킨다.Then, after the support means 10 drives the
그리고, 박리 수단 (50) 이 리니어 모터 (51) 및 척 실린더 (52) 를 구동하여, 1 쌍의 파지 갈고리 (52A) 로 접착 시트 (AS) 의 우단부를 파지한다. 이어서, 지지 수단 (10) 이 직동 모터 (11) 를 구동하여, 테이블 (12) 을 하강시켜 초기 위치로 복귀시키면서, 박리 수단 (50) 이 리니어 모터 (51) 를 구동하여, 도 1c 에 나타내는 바와 같이, 척 실린더 (52) 를 좌방으로 이동시켜 칩 (CP) 으로부터 접착 시트 (AS) 를 박리한다 (박리 공정).And the peeling means 50 drives the
모든 칩 (CP) 으로부터 접착 시트 (AS) 가 박리되면, 박리 수단 (50) 이 리니어 모터 (51) 의 구동을 정지한 후, 척 실린더 (52) 를 구동하여, 파지 갈고리 (52A) 에 의한 접착 시트 (AS) 의 파지를 해제하여, 박리한 접착 시트 (AS) 의 하방에 위치하는 회수 상자나 회수 주머니 등의 도시되지 않은 회수 수단 내에 낙하시킨다. 그 후, 지지 수단 (10) 이 감압 수단 (23) 의 구동을 정지하여, 지지면 (12A) 에서의 칩 (CP) 의 흡착 유지를 해제하면, 액체 공급 수단 (20) 이 전환 밸브 (24, 25) 를 구동하여, 도 1d 에 나타내는 바와 같이, 가압측 배관 (21A) 을 개재하여 오목부 (12B) 와 가압 수단 (22) 을 연통시킨 후, 당해 가압 수단 (22) 을 구동하여, 탱크 (21) 내의 압력을 상승시킨다. 이로써, 가압측 배관 (21A), 전환 밸브 (25), 배관 (25A), 유로 (12C) 및 다공질 부재 (12D) 를 통하여, 지지면 (12A) 의 친수부 (12F) 에 액체 (LQ) 가 공급된다 (액체 공급 공정). 액체 (LQ) 가 친수부 (12F) 에 공급되면, 당해 액체 (LQ) 는, 친수부 (12F) 내에서 솟아올라, 도 1d 에 나타내는 바와 같이, 칩 (CP) 을 밀어 올린다. 칩 (CP) 이 액체 (LQ) 에 의해 밀려 올라가면, 당해 칩 (CP) 은, 도 1d 중 2 점 쇄선으로 나타내는 바와 같이, 액체 (LQ) 의 표면 장력에 의해 소정의 위치에 위치 결정된다.When the adhesive sheet AS is peeled off from all the chips CP, the peeling means 50 stops the driving of the
다음으로, 액체 공급 수단 (20) 이 가압 수단 (22) 의 구동을 정지하면, 액체 회수 수단 (30) 이 전환 밸브 (24, 25) 를 구동하여, 도 1e 에 나타내는 바와 같이, 감압측 배관 (21B) 을 개재하여 오목부 (12B) 와 감압 수단 (23) 을 연통시킨 후, 당해 감압 수단 (23) 을 구동하여, 탱크 (21) 내의 압력을 하강시킨다. 이로써, 다공질 부재 (12D), 유로 (12C), 배관 (25A), 전환 밸브 (25) 및 감압측 배관 (21B) 을 통하여, 지지면 (12A) 의 친수부 (12F) 상에 있던 액체 (LQ) 를 탱크 (21) 내에 회수한다 (액체 회수 공정). 친수부 (12F) 상에 있던 액체 (LQ) 가 회수되면, 칩 (CP) 이 지지면 (12A) 에 맞닿고, 당해 지지면 (12A) 에서의 칩 (CP) 의 흡착 유지가 개시된다. 이 때, 각 칩 (CP) 은, 소정의 위치, 소정의 각도로 위치 결정되고, 소정의 위치에 위치 결정한 상태에서 지지면 (12A) 에 지지된다. 또한, 액체 회수 공정에서 친수부 (12F) 로부터 회수한 액체 (LQ) 는, 다음 회의 액체 공급 공정에서 친수부 (12F) 에 재공급된다.Next, when the liquid supply means 20 stops the driving of the pressurization means 22, the liquid recovery means 30 drives the
그리고, 지지 수단 (10) 이 감압 수단 (23) 의 구동을 정지하여, 지지면 (12A) 에서의 칩 (CP) 의 흡착 유지를 해제한 후, 도시되지 않은 반송 수단이 지지면 (12A) 으로부터 칩 (CP) 을 반송하여, 리드 프레임이나 기판 등에 적층한다 (적층 공정). 이어서, 모든 칩 (CP) 이 지지면 (12A) 으로부터 반송되면, 각 수단이 각각의 구동 기기를 구동하여, 각 부재를 초기 위치로 복귀시키고, 이후 상기와 동일한 공정이 반복된다.And after the support means 10 stops the driving of the
이상과 같은 실시형태에 의하면, 지지면 (12A) 에 있어서의 친수부 (12F) 로부터 액체 (LQ) 를 회수하기 때문에, 칩 (CP) 이 지지면 (12A) 에 지지될 때까지 친수부 (12F) 의 액체 (LQ) 가 증발하는 것을 기다릴 필요가 없어, 단위 시간당 처리 능력이 저하되는 것을 방지할 수 있다.According to the above embodiment, since the liquid LQ is recovered from the
이상과 같이, 본 발명을 실시하기 위한 최선의 구성, 방법 등은, 상기 기재에서 개시되어 있지만, 본 발명은, 이것에 한정되지 않는다. 즉, 본 발명은, 주로 특정한 실시형태에 관하여 특별히 도시되며, 또한 설명되어 있지만, 본 발명의 기술적 사상 및 목적의 범위로부터 벗어나지 않고, 이상 서술한 실시형태에 대하여, 형상, 재질, 수량, 그 밖의 상세한 구성에 있어서, 당업자가 여러 가지 변형을 가할 수 있는 것이다. 또, 상기에 개시한 형상, 재질 등을 한정한 기재는, 본 발명의 이해를 용이하게 하기 위해 예시적으로 기재한 것이고, 본 발명을 한정하는 것은 아니기 때문에, 그들 형상, 재질 등의 한정의 일부 혹은 전부의 한정을 제외한 부재의 명칭으로의 기재는, 본 발명에 포함된다.As mentioned above, although the best structure, method, etc. for implementing this invention are disclosed by the said description, this invention is not limited to this. That is, the present invention is mainly shown and described in particular with respect to specific embodiments, but without departing from the scope of the technical spirit and object of the present invention, the shape, material, quantity, and other information of the above-described embodiment In the detailed configuration, various modifications can be made by those skilled in the art. In addition, the descriptions in which the shape, material, etc. disclosed above are limited are exemplarily described in order to facilitate the understanding of the present invention, and do not limit the present invention. Or description in the name of the member excluding all limitations is included in this invention.
예를 들어, 지지 수단 (10) 은, 액체 회수 수단 (30) 으로부터 독립된 감압 수단에 의해 지지면 (12A) 에서 칩 (CP) 을 흡착 유지해도 되고, 액체 회수 공정 후에 지지면 (12A) 에서 칩 (CP) 을 흡착 유지하지 않아도 된다.For example, the support means 10 may adsorb and hold the chips CP on the
소수부 (12E) 는, 소수성을 갖는 시트, 필름, 테이프 등을 지지면 (12A) 에 첩부하거나, 소수성을 발휘하는 표면 처리나 코팅을 지지면 (12A) 에 실시하여 구성해도 된다.The
친수부 (12F) 는, 친수성을 갖는 시트, 필름, 테이프 등을 지지면 (12A) 에 첩부하거나, 친수성을 발휘하는 표면 처리나 코팅을 지지면 (12A) 에 실시하여 구성해도 된다.The
액체 공급 수단 (20) 은, 노즐이나 호스 등으로 테이블 (12) 의 외측으로부터 지지면 (12A) 상에 액체 (LQ) 를 공급해도 되고, 액체 회수 공정에서 친수부 (12F) 로부터 회수한 액체 (LQ) 를 친수부 (12F) 에 재공급하지 않는 구성이어도 된다.The liquid supply means 20 may supply the liquid LQ onto the
액체 회수 수단 (30) 은, 액체 공급 수단 (20) 과 별체로 형성해도 되고, 이 경우, 테이블 (12) 의 유로 (12C) 를 액체 공급 수단 (20) 과 공용하여 당해 유로 (12C) 로부터 액체 (LQ) 를 회수해도 되고, 테이블 (12) 에 유로 (12C) 와는 별도의 회수용의 유로를 형성하고, 당해 회수용의 유로로부터 액체 (LQ) 를 회수해도 된다.The liquid recovery means 30 may be formed separately from the liquid supply means 20, and in this case, the flow passage 12C of the table 12 is shared with the liquid supply means 20, and the liquid is discharged from the flow passage 12C. (LQ) may be collect|recovered, and the flow path for collection|recovery different from the flow path 12C may be provided in the table 12, and the liquid LQ may be collect|recovered from the said flow path for recovery.
이간 수단 (40) 은, 접착 시트 (AS) 에, 예를 들어, 상하 방향으로 장력을 부여하거나, 우방, 좌방, 전방 및 후방의 4 방향, 우방 및 좌방의 2 방향, 좌전방, 좌후방 및 우방의 3 방향 또는, 전후좌우 방향의 성분을 포함하는 5 방향 이상으로 장력을 부여하여, 칩 (CP) 의 상호 간격을 넓혀도 되고, 접착 시트 (AS) 를 개재하여 칩 (CP) 과 일체화된 링 프레임 등의 프레임 부재가 사용되는 경우, 프레임 부재를 지지하여 접착 시트 (AS) 에 장력을 부여함으로써, 칩 (CP) 의 상호 간격을 넓혀도 되고, 레이저 조사 장치나 약액 부여 장치 등의 취약화 수단으로 물리적 또는 화학적으로 형성된 취약층이나, 커터날 등의 절단 수단으로 형성된 오목홈이나 절결에 의해, 복수의 칩 (CP) 에 개편화 가능한 상태로 된 반도체 웨이퍼 (이하, 간단히 「웨이퍼」라고도 한다) 가 첩부된 접착 시트 (AS) 에 장력을 부여함으로써, 웨이퍼를 복수의 칩 (CP) 으로 분할하여 칩 (CP) 의 상호 간격을 넓혀도 된다.The separation means 40 applies tension to the adhesive sheet AS in the vertical direction, for example, or in four directions of right, left, front and rear, two directions of right and left, front left, rear left and Tension may be applied in three or more right and left directions or in five or more directions including components in the forward, backward, left and right directions to widen the distance between the chips CP, and the chip CP may be integrated with the chip CP through the adhesive sheet AS. When a frame member such as a ring frame is used, by supporting the frame member and applying tension to the adhesive sheet AS, the mutual spacing between the chips CP may be widened, and the laser irradiation device, chemical solution applying device, etc. are weakened A semiconductor wafer (hereinafter simply referred to as a “wafer”) in a state capable of being divided into a plurality of chips CP by means of a weak layer physically or chemically formed by means or a concave groove or notch formed by a cutting means such as a cutter blade. ) by applying tension to the adhesive sheet AS affixed thereto, the wafer may be divided into a plurality of chips CP and the mutual spacing between the chips CP may be widened.
이간 수단 (40) 은, 본 발명의 위치 결정 장치 (EA) 에 구비되어 있어도 되고, 구비되어 있지 않아도 되고, 이간 수단 (40) 이 구비되어 있지 않은 경우, 다른 장치로 칩 (CP) 의 상호 간격을 넓혀도 된다.The separation means 40 may or may not be provided in the positioning device EA of the present invention. may be widened.
박리 수단 (50) 은, 본 발명의 위치 결정 장치 (EA) 에 구비되어 있어도 되고, 구비되어 있지 않아도 되고, 박리 수단 (50) 이 구비되어 있지 않은 경우, 다른 장치로 접착 시트 (AS) 를 박리해도 되고, 절단날 등의 절단 수단이나, 노즐 등의 기체 분사 수단에 의한 기체 분사에 의해, 접착 시트 (AS) 를 복수의 칩 (CP) 의 간극을 따라 절단하고, 절단된 접착 시트 (AS) 가 칩 (CP) 에 첩부된 상태로 해도 된다.The peeling means 50 may or may not be provided with the positioning device EA of this invention, and when the peeling means 50 is not provided, it peels the adhesive sheet AS with another apparatus. Alternatively, the adhesive sheet AS is cut along the gaps between the plurality of chips CP by gas injection by a cutting means such as a cutting blade or gas injection means such as a nozzle, and the cut adhesive sheet AS It is good also as a state affixed to the provisional chip CP.
위치 결정 장치 (EA) 는, 가압 롤러 등의 가압 부재로 칩 (CP) 또는 웨이퍼에 접착 시트 (AS) 를 첩부하는 첩부 수단이 구비되어 있어도 되고, 웨이퍼를 절단하여 복수의 칩 (CP) 으로 개편화하는 레이저 조사 장치나 절단날 등의 절단 수단이 구비되어 있어도 되고, 접착 시트 (AS) 를 개재하여 칩 (CP) 또는 웨이퍼와 프레임 부재를 일체화하는 일체화 수단이 구비되어 있어도 되고, 접착 시트 (AS) 에 첩부되어 있지 않은 복수의 칩 (CP) 을 도시되지 않은 반송 수단으로 반송하여, 지지면 (12A) 의 친수부 (12F) 상에 재치하는 구성이어도 된다.The positioning device EA may be provided with a affixing means for affixing the adhesive sheet AS to the chip CP or the wafer with a pressing member such as a pressing roller, and cut the wafer into pieces into a plurality of chips CP A cutting means such as a laser irradiation device or a cutting blade may be provided, or an integration means for integrating the chip CP or wafer and the frame member through an adhesive sheet AS may be provided, and the adhesive sheet AS ), the plurality of chips CP not affixed to the surface may be transported by a transport means (not shown) and placed on the
위치 결정 장치 (EA) 에서 사용하는 액체 (LQ) 는, 일정한 표면 장력을 갖는 것이면 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 에탄올, 프로판올, 글리세린 등을 포함하는 알코올 용액이어도 된다.The liquid LQ used in the positioning device EA will not be particularly limited as long as it has a constant surface tension, and for example, an alcohol solution containing ethanol, propanol, glycerin, or the like may be used.
상기 실시형태에서는, 편상체로서 복수의 칩 (CP) 을 위치 결정하는 것을 예시했지만, 편상체로는, 1 개의 칩 (CP) 이어도 된다.In the said embodiment, although positioning of the some chip|tip CP was illustrated as a flake body, one chip CP may be sufficient as a flake body.
지지 공정 및 액체 공급 공정은, 어느 쪽을 먼저 실시해도 되고, 지지 공정을 실시한 후에 액체 공급 공정을 실시해도 되고, 액체 공급 공정을 실시한 후에 지지 공정을 실시해도 된다. 액체 공급 공정을 실시한 후에 지지 공정을 실시하는 경우, 다른 장치로 칩 (CP) 을 그 상호 간격을 유지한 채로 접착 시트 (AS) 로부터 박리하고, 박리한 칩 (CP) 을 액체 공급 공정이 실시된 후에 지지면 (12A) 에 전사하여 지지시켜도 된다Either of the support step and the liquid supply step may be performed first, the liquid supply step may be performed after the support step is performed, or the support step may be performed after the liquid supply step is performed. In the case of carrying out the supporting process after performing the liquid supply process, the chips CP are peeled from the adhesive sheet AS while maintaining the mutual distance therebetween, and the peeled chips CP are subjected to the liquid supply process. You may make it transcribe|transfer and support to the
적층 공정이나 회수 공정은, 실시해도 되고, 실시하지 않아도 된다.A lamination process and a collection|recovery process may be implemented, and it is not necessary to implement it.
프레임 부재는, 링 프레임 이외에, 환상이 아닌 (외주가 연결되어 있지 않은) 것이나, 원형, 타원형, 다각형, 그 밖의 형상이어도 된다.A frame member other than a ring frame may be a thing which is not annular (the outer periphery is not connected), or a circular, elliptical, polygonal, or other shape may be sufficient as it.
본 발명에 있어서의 수단 및 공정은, 그들 수단 및 공정에 대하여 설명한 동작, 기능 또는 공정을 수행할 수 있는 한 전혀 한정되지 않고, 더구나, 상기 실시형태에서 나타낸 단순한 일 실시형태의 구성물이나 공정에 전혀 한정되지 않는다. 예를 들어, 지지 공정은, 친수성을 갖는 복수의 친수부가 형성된 지지면의 친수부에서 편상체를 지지하는 것이면 어떠한 공정이어도 되고, 출원 당초의 기술 상식에 대조하여 그 기술 범위 내의 것이면 전혀 한정되지 않는다 (그 밖의 수단 및 공정도 동일).The means and processes in the present invention are not limited at all as long as they can perform the operations, functions or processes described with respect to those means and processes, and furthermore, the structures and processes of a simple embodiment shown in the above embodiments are not at all involved. not limited For example, the support process may be any process as long as it supports the flakes in the hydrophilic part of the support surface on which a plurality of hydrophilic parts having hydrophilicity are formed, and it is not limited at all as long as it is within the technical scope at the time of filing in contrast to the technical common sense at the beginning of the application (Other means and processes are the same).
접착 시트 (AS) 나 편상체의 재질, 종별, 형상 등은, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 접착 시트 (AS) 나 편상체는, 원형, 타원형, 다각형, 그 밖의 형상이어도 되고, 접착 시트 (AS) 는, 감압 접착성, 감열 접착성 등의 접착 형태의 것이어도 된다. 또, 이와 같은 접착 시트 (AS) 는, 예를 들어, 접착제층만의 단층의 것, 기재와 접착제층 사이에 중간층을 갖는 것, 기재의 상면에 커버층을 갖는 등 3 층 이상의 것, 나아가서는, 기재를 접착제층으로부터 박리할 수 있는 소위 양면 접착 시트와 같은 것이어도 되고, 양면 접착 시트는, 단층 또는 복층의 중간층을 갖는 것이나, 중간층이 없는 단층 또는 복층의 것이어도 된다. 또, 편상체로는, 예를 들어, 식품, 수지 용기, 실리콘 반도체 칩이나 화합물 반도체 칩 등의 반도체 칩, 회로 기판, 광 디스크 등의 정보 기록 기판, 유리판, 강판, 도기, 목판 또는 수지 등의 단체물이어도 되고, 그들 2 이상으로 형성된 복합물이어도 되고, 임의의 형태의 부재나 물품 등도 대상으로 할 수 있다. 또한, 접착 시트 (AS) 는, 기능적, 용도적인 해석 대신에, 예를 들어, 정보 기재용 라벨, 장식용 라벨, 보호 시트, 다이싱 테이프, 다이 어태치 필름, 다이 본딩 테이프, 기록층 형성 수지 시트 등의 임의의 시트, 필름, 테이프 등이어도 된다.The material, type, shape, etc. of the adhesive sheet AS and the flakes are not particularly limited. For example, the adhesive sheet AS and the flakes may have a circular shape, an elliptical shape, a polygonal shape, or other shapes, and the adhesive sheet AS may have an adhesive form such as pressure-sensitive adhesive property or heat-sensitive adhesive property. In addition, such an adhesive sheet AS is, for example, a single layer of only the adhesive layer, an intermediate layer between the substrate and the adhesive layer, a cover layer on the upper surface of the substrate, etc. It may be a so-called double-sided adhesive sheet capable of peeling the base material from the adhesive layer, and the double-sided adhesive sheet may have a single or multi-layered intermediate layer, or may be a single-layer or multi-layered one without an intermediate layer. In addition, as the flaky body, for example, food, a resin container, a semiconductor chip such as a silicon semiconductor chip or a compound semiconductor chip, a circuit board, an information recording substrate such as an optical disk, a glass plate, a steel plate, ceramics, a wood plate or a resin It may be a single object, or a composite formed of two or more of them may be used, and members, articles, etc. of any shape can be used as objects. In addition, the adhesive sheet AS is, instead of a functional and usage analysis, for example, an information substrate label, a decorative label, a protective sheet, a dicing tape, a die attach film, a die bonding tape, a recording layer formation resin sheet. Any sheet, film, tape, etc. may be sufficient.
상기 실시형태에 있어서의 구동 기기는, 회동 모터, 직동 모터, 리니어 모터, 단축 로봇, 2 축 또는 3 축 이상의 관절을 구비한 다관절 로봇 등의 전동 기기, 에어 실린더, 유압 실린더, 로드리스 실린더 및 로터리 실린더 등의 액추에이터 등을 채용할 수 있는 데다가, 그것들을 직접적 또는 간접적으로 조합한 것을 채용할 수도 있다.The drive device in the above embodiment includes an electric device such as a rotary motor, a linear motor, a linear motor, a single-axis robot, a multi-joint robot having two or more joints, an air cylinder, a hydraulic cylinder, a rodless cylinder, and An actuator, such as a rotary cylinder, etc. can be employ|adopted, and what combined them directly or indirectly can also be employ|adopted.
상기 실시형태에 있어서, 가압 롤러나 가압 헤드 등의 가압 수단이나 가압 부재와 같은 피가압물을 가압하는 것이 채용되어 있는 경우, 상기에서 예시한 것에 대신하여 또는 병용하여, 롤러, 환봉, 블레이드재, 고무, 수지, 스펀지 등의 부재를 채용하거나, 대기나 가스 등의 기체의 분사에 의해 가압하는 구성을 채용해도 되고, 가압하는 것을 고무나 수지 등의 변형 가능한 부재로 구성해도 되고, 변형하지 않는 부재로 구성해도 되고, 지지 (유지) 수단이나 지지 (유지) 부재 등의 피지지 부재 (피유지 부재) 를 지지 (유지) 하는 것이 채용되어 있는 경우, 메카니컬 척이나 척 실린더 등의 파지 수단, 쿨롱력, 접착제 (접착 시트, 접착 테이프), 점착제 (점착 시트, 점착 테이프), 자력, 베르누이 흡착, 흡인 흡착, 구동 기기 등으로 피지지 부재를 지지 (유지) 하는 구성을 채용해도 되고, 절단 수단이나 절단 부재 등의 피절단 부재를 절단 또는, 피절단 부재에 절입이나 절단선을 형성하는 것이 채용되어 있는 경우, 상기에서 예시한 것에 대신하여 또는 병용하여, 커터날, 레이저 커터, 이온 빔, 화력, 열, 수압, 전열선, 기체나 액체 등의 분사 등으로 절단하는 것을 채용하거나, 적절한 구동 기기를 조합한 것으로 절단하는 것을 이동시켜 절단하도록 해도 된다.In the above embodiment, when pressurizing means such as a pressure roller or a pressure head or pressurizing an object such as a pressure member is employed, instead of or in combination with those exemplified above, a roller, a round bar, a blade material, A member such as rubber, resin, or sponge may be employed, or a configuration may be employed for pressurization by injection of gas such as air or gas, and the pressurization may be composed of a deformable member such as rubber or resin, or a member that does not deform In the case where supporting (holding) a support member (member to be held) such as a support (holding) means or a support (holding) member is employed, a gripping means such as a mechanical chuck or a chuck cylinder, the Coulomb force , Adhesive (adhesive sheet, adhesive tape), adhesive (adhesive sheet, adhesive tape), magnetic force, Bernoulli adsorption, suction adsorption, a structure in which the supported member is supported (holding) with a driving device, etc. may be adopted, cutting means or cutting When cutting a member to be cut, such as a member, or forming a cut or cut line in a member to be cut is employed, a cutter blade, laser cutter, ion beam, thermal power, or heat , cutting by water pressure, a heating wire, spraying of gas or liquid, etc. may be employed, or by combining an appropriate driving device, the cutting may be moved and cut.
Claims (4)
친수성을 갖는 친수부가 형성된 지지면의 상기 친수부에서 상기 편상체를 지지하는 지지 공정과,
상기 친수부에 액체를 공급하는 액체 공급 공정과,
상기 친수부로부터 상기 액체를 회수하는 액체 회수 공정을 실시하는 것을 특징으로 하는 위치 결정 방법.A positioning method for positioning a flake body at a predetermined position using the surface tension of a liquid, comprising:
A supporting step of supporting the flaky body in the hydrophilic part of the support surface on which the hydrophilic part having hydrophilicity is formed;
a liquid supply process of supplying a liquid to the hydrophilic part;
and performing a liquid recovery step of recovering the liquid from the hydrophilic part.
상기 액체 공급 공정에서는, 상기 지지면을 갖는 지지 부재의 내부에 형성된 유로로 상기 친수부에 상기 액체를 공급하는 것을 특징으로 하는 위치 결정 방법.The method of claim 1,
In the liquid supply step, the liquid is supplied to the hydrophilic part through a flow path formed inside the support member having the support surface.
상기 액체 공급 공정에서는, 상기 액체 회수 공정에서 상기 친수부로부터 회수한 액체를 상기 친수부에 재공급하는 것을 특징으로 하는 위치 결정 방법.3. The method according to claim 1 or 2,
In the liquid supply step, the liquid recovered from the hydrophilic section in the liquid recovery step is re-supplied to the hydrophilic section.
친수성을 갖는 친수부가 형성된 지지면의 상기 친수부에서 상기 편상체를 지지하는 지지 수단과,
상기 친수부에 액체를 공급하는 액체 공급 수단과,
상기 친수부로부터 상기 액체를 회수하는 액체 회수 수단을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 위치 결정 장치.A positioning device for positioning a flake body at a predetermined position using the surface tension of a liquid, comprising:
Supporting means for supporting the flat body in the hydrophilic part of the support surface having a hydrophilic part formed with hydrophilicity;
a liquid supply means for supplying a liquid to the hydrophilic part;
and liquid recovery means for recovering the liquid from the hydrophilic part.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020046319A JP7461183B2 (en) | 2020-03-17 | 2020-03-17 | Positioning method and positioning device |
JPJP-P-2020-046319 | 2020-03-17 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20210116253A true KR20210116253A (en) | 2021-09-27 |
Family
ID=77677626
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020210028363A KR20210116253A (en) | 2020-03-17 | 2021-03-03 | Positioning method and positioning device |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7461183B2 (en) |
KR (1) | KR20210116253A (en) |
CN (1) | CN113410173A (en) |
TW (1) | TW202141673A (en) |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI281717B (en) | 2006-05-17 | 2007-05-21 | Univ Tsinghua | Apparatus for aligning microchips on substrate and method for the same |
JP2011192663A (en) | 2010-03-11 | 2011-09-29 | Tokyo Electron Ltd | Mounting method and mounting device |
JP2015154031A (en) | 2014-02-19 | 2015-08-24 | 株式会社ディスコ | Chip arrangement table and chip arrangement method |
JP7091112B2 (en) | 2018-03-30 | 2022-06-27 | 東レエンジニアリング株式会社 | Chip component placement jig and chip component placement method |
-
2020
- 2020-03-17 JP JP2020046319A patent/JP7461183B2/en active Active
-
2021
- 2021-03-03 KR KR1020210028363A patent/KR20210116253A/en unknown
- 2021-03-09 TW TW110108274A patent/TW202141673A/en unknown
- 2021-03-16 CN CN202110281171.6A patent/CN113410173A/en active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW202141673A (en) | 2021-11-01 |
JP7461183B2 (en) | 2024-04-03 |
JP2021150368A (en) | 2021-09-27 |
CN113410173A (en) | 2021-09-17 |
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