KR20210075953A - manufacturing device of an artificial marble and manufacturing method of an artificial marble and artificial marble by the same - Google Patents

manufacturing device of an artificial marble and manufacturing method of an artificial marble and artificial marble by the same Download PDF

Info

Publication number
KR20210075953A
KR20210075953A KR1020210078063A KR20210078063A KR20210075953A KR 20210075953 A KR20210075953 A KR 20210075953A KR 1020210078063 A KR1020210078063 A KR 1020210078063A KR 20210078063 A KR20210078063 A KR 20210078063A KR 20210075953 A KR20210075953 A KR 20210075953A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
marble
resin composition
pattern
mold
base resin
Prior art date
Application number
KR1020210078063A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
이성영
한병철
김태우
백연주
Original Assignee
(주)엘지하우시스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)엘지하우시스 filed Critical (주)엘지하우시스
Priority to KR1020210078063A priority Critical patent/KR20210075953A/en
Publication of KR20210075953A publication Critical patent/KR20210075953A/en

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C39/00—Shaping by casting, i.e. introducing the moulding material into a mould or between confining surfaces without significant moulding pressure; Apparatus therefor
    • B29C39/02—Shaping by casting, i.e. introducing the moulding material into a mould or between confining surfaces without significant moulding pressure; Apparatus therefor for making articles of definite length, i.e. discrete articles
    • B29C39/12—Making multilayered or multicoloured articles
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C39/00—Shaping by casting, i.e. introducing the moulding material into a mould or between confining surfaces without significant moulding pressure; Apparatus therefor
    • B29C39/22—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
    • B29C39/24—Feeding the material into the mould
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
    • B29D99/001—Producing wall or panel-like structures, e.g. for hulls, fuselages, or buildings
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
    • B29D99/0057—Producing floor coverings
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
    • B29L2031/00—Other particular articles
    • B29L2031/10—Building elements, e.g. bricks, blocks, tiles, panels, posts, beams

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Civil Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)

Abstract

The present invention relates to a device for manufacturing artificial marble with a clear marble pattern, a method for manufacturing artificial marble with a clear marble pattern, and artificial marble manufactured thereby, wherein the device enables easy manufacture of artificial marble with a clear marble pattern with a clear visual distinction from a base unit.

Description

마블패턴이 선명한 인조대리석 제조장치와 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조방법 및 이에 의해 제조된 인조대리석 {manufacturing device of an artificial marble and manufacturing method of an artificial marble and artificial marble by the same}An apparatus for manufacturing an artificial marble having a clear marble pattern, a method for manufacturing an artificial marble having a clear marble pattern, and an artificial marble manufactured thereby {manufacturing device of an artificial marble and manufacturing method of an artificial marble and artificial marble by the same}

본 발명은 인조대리석 제조장치, 제조방법 및 인조대리석에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 길이가 짧고 가늘며, 바탕부로부터 시각적 구분이 명확한 선명한 마블패턴을 포함하는 인조대리석의 제조가 용이하게 이루어질 수 있도록 하는 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조장치와 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조방법 및 이에 의해 제조된 인조대리석에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for manufacturing artificial marble, a manufacturing method, and artificial marble, and more particularly, to an artificial marble having a short and thin length and a clear marble pattern with a clear visual distinction from the base. The present invention relates to an apparatus for manufacturing an artificial marble having a clear marble pattern, a method for manufacturing an artificial marble having a clear marble pattern, and an artificial marble manufactured by the same.

건축물 등의 내외장재로서 천연대리석이 활용되고 있다.Natural marble is being used as interior and exterior materials for buildings, etc.

천연대리석은 고유의 물 흐르듯이 이어지는 자연스런 흐름 무늬, 예컨대 '마블패턴'을 포함하므로 건축물 등의 내외장재로서 천연대리석을 적용함에 따라 마블패턴을 통한 자연스럽고 고급스러운 장식 효과를 얻을 수 있다.Since natural marble includes a natural flow pattern that flows like water, for example, 'marble pattern', natural and luxurious decorative effect can be obtained through marble pattern by applying natural marble as interior and exterior materials of buildings.

그러나 천연대리석은, 원석 절단 과정 및 연마 과정 등의 다양한 과정을 거쳐 제품화되므로 제조가 번거로운 문제가 있었고, 제품 하중이 상당하므로 시공이 번거로운 문제가 있었으며, 제품 단가가 상당하여 시공시 비용상의 부담이 따르는 문제가 있었다.However, since natural marble is commercialized through various processes such as cutting and polishing of raw stones, there was a problem in manufacturing cumbersome, and there was a problem that construction was cumbersome because the product load was considerable, and the cost burden was burdened during construction due to the considerable unit price of the product. There was a problem.

상기의 문제를 해소하고자 '인조대리석'이 개발된바 있다.To solve the above problems, 'artificial marble' has been developed.

인조대리석은 원료가 되는 수지 조성물을 판 형태로 성형한 후 경화시킨 것으로, 제조 공정이 비교적 간단하여 제조가 용이하고, 제품 하중이 비교적 경량이어서 시공이 용이하며, 제품 단가가 비교적 저렴하여 시공시의 비용 부담을 덜 수 있다.Artificial marble is made by molding a resin composition, which is a raw material, into a plate shape and then hardening it. The manufacturing process is relatively simple, so it is easy to manufacture, and the product load is relatively light, so it is easy to construct. can reduce the cost burden.

이러한 인조대리석에 천연대리석과 같은 마블패턴을 구현하기 위한 제조방법의 일 예로 대한민국 공개특허공보 제10-2007-0025445호(공개일 : 2007. 03. 08)는 바탕부를 형성하는 베이스 수지 조성물과 마블패턴을 형성할 2종 이상의 착색 수지 조성물을 각각 제조 후 베이스 수지 조성물을 슈트 하단에 투입하고 베이스 수지 조성물보다 비중이 높고 점도는 낮은 착색 수지 조성물을 베이스 수지 조성물 상단에 투입한 후 각 수지 조성물 간의 비중 및 점도 차이에 의해 자연스럽게 각 수지 조성물끼리 경계를 이루면서 부분적으로 섞이게 하여 마블패턴이 구현된 인조대리석을 제조하도록 한 것을 개시하고 있다.As an example of a manufacturing method for realizing a marble pattern such as natural marble on artificial marble, Korean Patent Application Laid-Open No. 10-2007-0025445 (published on March 08, 2007) discloses a base resin composition forming a base and marble After preparing each of two or more colored resin compositions to form a pattern, the base resin composition is added to the bottom of the chute, and a colored resin composition having a higher specific gravity and lower viscosity than the base resin composition is added to the top of the base resin composition, and then the specific gravity between each resin composition and by partially mixing each resin composition while forming a boundary between them naturally due to a difference in viscosity, to manufacture artificial marble embodying a marble pattern.

그러나 이러한 종래의 마블패턴 인조대리석은 도 18에 도시된 바와 같이 마블패턴의 길이가 길고 두꺼우며, 바탕부와의 경계가 명확하지 않아 다양한 외관 구현이 불가능한 단점이 있었다.However, as shown in FIG. 18 , the conventional marble pattern artificial marble has a long and thick marble pattern, and the boundary with the base is not clear, making it impossible to implement various appearances.

한편, 인조대리석에 화강석과 같은 외관을 구현하기 위해 다양한 색상의 투명칩 또는 불투명칩을 바탕부를 형성하는 베이스 수지 조성물에 첨가하고 있다. 예를 들어, 대한민국 등록특허공보 제10-0621281호(공고일 : 2016. 09. 06.)에서는 바탕부를 형성하는 베이스 수지 조성물에 마블칩을 첨가한 후 경화시켜 도 17에 도시된 바와 같이 바탕부로부터 시각적으로 명확히 구분되는 마블칩 패턴을 형성함으로써 장식 효과를 부여하고 있다.On the other hand, in order to realize an appearance like granite on artificial marble, transparent chips or opaque chips of various colors are added to the base resin composition forming the base. For example, in Republic of Korea Patent Publication No. 10-0621281 (announced date: September 06, 2016), marble chips are added to the base resin composition forming the base, and then cured to form the base, as shown in FIG. A decorative effect is given by forming a visually distinct marble chip pattern.

그러나 종래 인조대리석에 포함되는 칩은 인조대리석의 두께가 통상 10~15mm 정도이므로 칩의 입자크기 또한 0.1~15mm 범위 이내의 소형일 수밖에 없고, 베이스 수지 조성물에 첨가될 때 이미 완전 경화된 상태이므로 천연대리석의 마블패턴과 같이 상대적으로 크기가 크면서 바탕부 내에서 자연스런 흐름 무늬를 형성하는 것이 불가능하며, 주형 단계에서 바탕부와의 경계면에서 크랙이 발생하는 문제점이 있다.However, since the chip included in the conventional artificial marble has a thickness of about 10 to 15 mm, the particle size of the chip is also inevitably small within the range of 0.1 to 15 mm, and when it is added to the base resin composition, it is already in a fully cured state. As the marble pattern is relatively large, it is impossible to form a natural flow pattern in the base, and there is a problem in that cracks occur at the interface with the base in the molding stage.

또한, 칩을 포함하는 종래 인조대리석은 칩 함량이 적을 경우 인조대리석에 구현된 칩 패턴이 빈약하여 장식 효과가 미미하므로 천연 화강석과 같은 느낌을 구현하기 위해서는 베이스 수지 조성물에 다량의 칩을 투입하여야 하므로 칩 투입량 증가에 따른 제조 비용이 상승하게 되는 문제점이 있다.In addition, when the chip content of the conventional artificial marble including chips is small, the chip pattern implemented in the artificial marble is poor and the decorative effect is insignificant. Therefore, in order to implement a feeling like natural granite, a large amount of chips must be put into the base resin composition. There is a problem in that the manufacturing cost increases due to the increase in the amount of chip input.

상기의 이유로 해당 분야에서는 종래 인조대리석의 마블패턴에 비해 길이가 짧고 가늘며, 바탕부로부터 시각적 구분이 명확한 선명한 마블패턴을 포함하는 인조대리석의 제조가 용이하게 이루어질 수 있도록 하는 인조대리석 제조장치 및 인조대리석 제조방법의 개발이 요구되는 실정이다.For the above reasons, in the field, an artificial marble manufacturing apparatus and artificial marble that are shorter and thinner than the conventional marble pattern of artificial marble, and include a clear marble pattern with a clear visual distinction from the base, can be easily manufactured. There is a need to develop a manufacturing method.

대한민국 공개특허공보 제10-2007-0025445호(2007. 03. 08. 공개)Republic of Korea Patent Publication No. 10-2007-0025445 (published on March 08, 2007)

본 발명은 상기와 같은 실정을 감안하여 제안된 것으로, 종래 인조대리석에 마블패턴을 형성하였을 때 바탕부로부터 마블패턴의 시각적 구분이 곤란함에 따라 장식 효과가 저하되었던 문제의 해소를 위한 마블패턴 인조대리석의 제조가 용이하게 이루어질 수 있도록 하는 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조장치와 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조방법 및 이에 의해 제조된 인조대리석을 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been proposed in consideration of the above situation, and when a marble pattern is formed on conventional artificial marble, it is difficult to visually distinguish the marble pattern from the base, and thus the decorative effect is lowered. An object of the present invention is to provide an apparatus for manufacturing an artificial marble having a clear marble pattern, a method for manufacturing an artificial marble having a clear marble pattern, and an artificial marble manufactured by the apparatus, which can be easily manufactured.

또한, 본 발명은 종래 인조대리석에서 칩의 입자 크기가 0.1~15mm 범위 이내임에 따라 칩 패턴의 크기가 상대적으로 소형일 수밖에 없어 천연대리석의 마블패턴과 같이 상대적으로 크기가 큰 칩 패턴의 형성이 불가하였던 문제 및 칩이 완전 경화된 것임에 따라 천연대리석의 마블패턴과 같이 바탕부 내에서 자연스런 흐름 무늬를 형성하는 것이 불가하여 다양한 외관구현에 한계가 있었던 문제의 해소를 위한 마블패턴 인조대리석의 제조가 용이하게 이루어질 수 있도록 하는 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조장치와 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조방법 및 이에 의해 제조된 인조대리석을 제공하는데 그 목적이 있다.In addition, in the present invention, as the particle size of the chip in the conventional artificial marble is within the range of 0.1 to 15 mm, the size of the chip pattern is inevitably relatively small, so the formation of a relatively large chip pattern like the marble pattern of natural marble is difficult. Manufacture of marble pattern artificial marble to solve the impossible problem and the problem that it was impossible to form a natural flow pattern in the base part like the marble pattern of natural marble as the chip was completely hardened, and there was a limitation in realizing various appearances An object of the present invention is to provide an apparatus for manufacturing an artificial marble having a clear marble pattern, a method for manufacturing an artificial marble having a clear marble pattern, and an artificial marble manufactured thereby.

또한, 본 발명은 칩을 포함하는 종래 인조대리석에서 칩 함량이 적을 경우 인조대리석에 구현된 칩 패턴이 빈약하여 장식 효과가 미미함에 따라 천연 화강석과 같은 느낌을 구현하기 위해 베이스 수지 조성물에 다량의 칩을 투입함으로써 칩 투입량 증가에 따라 제조 비용이 상승하였던 문제의 해소를 위한 마블패턴 인조대리석의 제조가 용이하게 이루어질 수 있도록 하는 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조장치와 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조방법 및 이에 의해 제조된 인조대리석을 제공하는데 그 목적이 있다.In addition, in the present invention, when the chip content is small in the conventional artificial marble including chips, the chip pattern implemented in the artificial marble is poor and the decorative effect is insignificant. In order to realize a feeling like natural granite, a large amount of chips is added to the base resin composition. A device for manufacturing artificial marble with a clear marble pattern, a method for manufacturing artificial marble with a clear marble pattern, and a method for manufacturing artificial marble with a clear marble pattern so that the production of marble pattern artificial marble can be easily made to solve the problem of increased manufacturing cost due to the increase in chip input by inputting An object of the present invention is to provide an artificial marble manufactured by

상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조장치는, 어느 하나의 컬러로 착색된 베이스 수지 조성물이 수용되는 몰드; 상기 베이스 수지 조성물이 수용된 상기 몰드를 일 방향으로 이동시키는 컨베이어; 상기 컨베이어 상부에 배치되어 노즐을 통해 상기 베이스 수지 조성물과 다른 컬러로 착색된 제1마블 수지 조성물을 상기 몰드에 수용된 상기 베이스 수지 조성물에 간헐적으로 토출시키는 제1디스펜서; 및 상기 노즐을 상하 및 좌우로 간헐적 이동시키는 이동수단;을 포함한다.An apparatus for manufacturing artificial marble having a clear marble pattern according to the present invention for achieving the above object includes: a mold in which a base resin composition colored in any one color is accommodated; a conveyor for moving the mold in which the base resin composition is accommodated in one direction; a first dispenser disposed on the conveyor and intermittently discharging a first marble resin composition colored in a color different from that of the base resin composition to the base resin composition accommodated in the mold through a nozzle; and a moving means for intermittently moving the nozzle up and down and left and right.

또한, 상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조방법은, 어느 하나의 컬러로 착색된 베이스 수지 조성물을 몰드에 수용시키는 단계; 컨베이어를 통해 상기 베이스 수지 조성물이 수용된 상기 몰드를 일 방향으로 이동시키는 단계; 및 상기 컨베이어 상부에 설치되는 제1디스펜서의 노즐을 통해 이동 중의 상기 몰드 내에 수용된 상기 베이스 수지 조성물에 상기 베이스 수지 조성물과 다른 컬러로 착색된 제1마블 수지 조성물을 간헐적으로 토출시켜 상기 베이스 수지 조성물에 의해 형성되는 바탕부에 상기 제1마블 수지 조성물에 의해 형성되는 비정형의 제1마블패턴을 형성하는 단계;를 포함한다.In addition, the method for producing an artificial marble having a clear marble pattern according to the present invention for achieving the above object includes the steps of accommodating a base resin composition colored in any one color in a mold; moving the mold in which the base resin composition is accommodated in one direction through a conveyor; And by intermittently discharging the first marble resin composition colored in a color different from the base resin composition to the base resin composition accommodated in the mold during movement through the nozzle of the first dispenser installed on the conveyor, to the base resin composition Including; forming an amorphous first marble pattern formed by the first marble resin composition on the base formed by the.

본 발명에 의한 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조장치와 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조방법은, 제1디스펜서의 노즐을 통해 제1마블 수지 조성물을 간헐적으로 토출함으로써 몰드에 수용된 베이스 수지 조성물에 제1마블패턴을 형성하는바, 종래 인조대리석의 마블패턴에 비해 길이가 짧고 가늘며 시각적 구분이 명확한 마블패턴이 형성된 인조대리석의 제조가 용이할 수 있다.The apparatus for manufacturing an artificial marble having a clear marble pattern and a method for manufacturing an artificial marble having a clear marble pattern according to the present invention intermittently discharge the first marble resin composition through the nozzle of the first dispenser to add the first marble to the base resin composition accommodated in the mold. Since the pattern is formed, it may be easier to manufacture the artificial marble in which the marble pattern is shorter and thinner and visually distinguishable compared to the conventional marble pattern of artificial marble.

또한, 본 발명에 의한 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조장치와 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조방법은, 제1디스펜서 외에 제2,3디스펜서의 노즐을 통해 제2,3마블 수지 조성물을 간헐적으로 토출함으로써 제2,3마블패턴을 형성할 수 있는바, 제1,2,3마블패턴 각각을 통해 장식 효과를 부여할 수 있으므로 마블패턴에 의한 장식 효과를 더욱 높일 수 있다.In addition, the apparatus for manufacturing an artificial marble having a clear marble pattern and a method for manufacturing an artificial marble having a clear marble pattern according to the present invention can be achieved by intermittently discharging the second and third marble resin compositions through nozzles of the second and third dispensers in addition to the first dispenser. Since the second and third marble patterns can be formed, a decorative effect can be provided through each of the first, second, and third marble patterns, so that the decorative effect by the marble pattern can be further enhanced.

도 1은 본 발명에 의한 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조장치의 구조를 설명하기 위한 개략도.
도 2는 본 발명에 의한 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조장치에서 제1디스펜서가 복수로 마련된 형태를 보인 예시도.
도 3은 본 발명에 의한 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조장치에서 이동수단에 의한 노즐의 이동을 설명하기 위한 예시도.
도 4는 본 발명에 의한 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조장치에서 노즐이 관체에 의해 제1디스펜서에 연결된 형태를 보인 예시도.
도 5는 본 발명에 의한 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조장치에서 관체를 포함하는 노즐이 상기 제1디스펜서에 복수로 설치된 형태를 보인 예시도.
도 6은 본 발명에 의한 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조방법의 개략적 공정도.
도 7은 본 발명에 의한 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조방법에서 베이스 수지 조성물의 몰드 내 수용을 보인 예시도.
도 8은 본 발명에 의한 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조방법에서 컨베이어에 의한 몰드 이동을 보인 예시도.
도 9는 본 발명에 의한 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조방법에서 제1디스펜서를 통한 제1마블 수지 조성물의 토출을 보인 예시도.
도 10은 본 발명에 의한 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조방법에서 제2디스펜서를 통한 제2마블 수지 조성물의 토출을 보인 예시도.
도 11은 본 발명에 의한 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조방법에서 제3디스펜서를 통한 제3마블 수지 조성물의 토출을 보인 예시도.
도 12는 본 발명에 의한 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조방법에 의해 제조된 인조대리석의 일 형태 예시 사진.
도 13은 본 발명에 의한 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조방법에 의해 제조된 인조대리석에서 제1마블패턴의 부분 확대 사진.
도 14는 본 발명에 의한 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조방법에 의해 제조된 인조대리석에서 제2마블패턴의 부분 확대 사진.
도 15는 본 발명에 의한 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조방법에 의해 제조된 인조대리석에서 제3마블패턴의 부분 확대 사진.
도 16은 본 발명에 의한 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조방법의 다른 실시예에 의해 제조된 인조대리석의 단면 사진.
도 17은 종래 칩 패턴이 형성된 인조대리석의 예시 사진.
도 18은 종래 마블패턴이 형성된 인조대리석의 예시 사진.1 is a schematic view for explaining the structure of the artificial marble manufacturing apparatus having a clear marble pattern according to the present invention.
2 is an exemplary view showing a form in which a plurality of first dispensers are provided in the apparatus for manufacturing artificial marble having a clear marble pattern according to the present invention.
3 is an exemplary view for explaining the movement of the nozzle by the moving means in the artificial marble manufacturing apparatus having a clear marble pattern according to the present invention.
Figure 4 is an exemplary view showing a form in which the nozzle is connected to the first dispenser by the tube in the artificial marble manufacturing apparatus having a clear marble pattern according to the present invention.
5 is an exemplary view showing a form in which a plurality of nozzles including a tube body are installed in the first dispenser in the apparatus for manufacturing artificial marble having a clear marble pattern according to the present invention.
6 is a schematic process diagram of a method for manufacturing artificial marble having a clear marble pattern according to the present invention.
7 is an exemplary view showing the acceptance of a base resin composition in a mold in the method for manufacturing artificial marble having a clear marble pattern according to the present invention.
8 is an exemplary view showing the movement of the mold by the conveyor in the artificial marble manufacturing method with a clear marble pattern according to the present invention.
9 is an exemplary view showing the discharging of the first marble resin composition through the first dispenser in the artificial marble manufacturing method having a clear marble pattern according to the present invention.
10 is an exemplary view showing the discharging of the second marble resin composition through the second dispenser in the artificial marble manufacturing method having a clear marble pattern according to the present invention.
11 is an exemplary view showing the discharge of the third marble resin composition through the third dispenser in the method for manufacturing artificial marble having a clear marble pattern according to the present invention.
12 is an exemplary photograph of one form of artificial marble manufactured by the method for manufacturing artificial marble having a clear marble pattern according to the present invention.
13 is a partially enlarged photograph of the first marble pattern in the artificial marble manufactured by the method for manufacturing the artificial marble having a clear marble pattern according to the present invention.
14 is a partially enlarged photograph of a second marble pattern in artificial marble manufactured by the method for manufacturing artificial marble having a clear marble pattern according to the present invention.
15 is a partially enlarged photograph of a third marble pattern in artificial marble manufactured by the method for manufacturing artificial marble having a clear marble pattern according to the present invention.
16 is a cross-sectional photograph of artificial marble manufactured by another embodiment of the method for manufacturing artificial marble having a clear marble pattern according to the present invention.
17 is an exemplary photograph of an artificial marble on which a conventional chip pattern is formed.
18 is an exemplary photograph of an artificial marble having a conventional marble pattern formed thereon.

이하, 첨부 도면에 의거 본 발명에 대하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in detail based on the accompanying drawings.

도 1에 도시된 바와 같이 본 발명에 의한 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조장치(A)는, 몰드(10); 컨베이어(20); 제1디스펜서(30a); 및 이동수단(40)을 포함한다.As shown in Figure 1, the artificial marble manufacturing apparatus (A) having a clear marble pattern according to the present invention includes a mold (10); conveyor 20; a first dispenser (30a); and a moving means 40 .

상기 몰드(10)는 그 내부에 어느 하나의 컬러로 착색된 베이스 수지 조성물(B)이 수용된다.The mold 10 accommodates the base resin composition (B) colored in any one color therein.

이와 같은 상기 몰드(10)는 상부가 개방됨으로써 개방된 상부를 통해 상기 베이스 수지 조성물(B)의 투입이 가능하다.As such, the mold 10 is opened so that the base resin composition (B) can be introduced through the opened upper part.

상기 컨베이어(20)는 상기 베이스 수지 조성물(B)이 수용된 상기 몰드(10)를 일 방향으로 이동시킨다.The conveyor 20 moves the mold 10 in which the base resin composition (B) is accommodated in one direction.

이와 같은 상기 컨베이어(20)는 모터(도면상 미도시) 구동에 의한 롤러(21)의 회전에 의해 주행함으로써 그 상부에 안착되는 상기 몰드(10)의 일 방향 자동 이동이 가능하다.The conveyor 20 is driven by the rotation of the roller 21 by driving a motor (not shown in the drawing), thereby enabling the automatic movement of the mold 10 seated thereon in one direction.

상기 제1디스펜서(30a)는 상기 컨베이어(20) 상부에 배치되어 노즐(31)을 통해 상기 베이스 수지 조성물(B)과 다른 컬러로 착색된 제1마블 수지 조성물(M1)을 간헐적으로 토출시킨다.The first dispenser 30a is disposed on the conveyor 20 and intermittently discharges the first marble resin composition M1 colored in a color different from that of the base resin composition B through the nozzle 31 .

따라서, 상기 베이스 수지 조성물(B)에 의해 형성되는 바탕부(100)에 상기 제1마블 수지 조성물(M1)에 의한 제1마블패턴(200a)이 형성된다.Accordingly, the first marble pattern 200a by the first marble resin composition M1 is formed on the base portion 100 formed by the base resin composition (B).

이와 같은 상기 제1디스펜서(30a)는 도 2에 도시된 바와 같이 좌우로 간격을 두고 복수로 설치될 수 있다.As shown in FIG. 2 , a plurality of the first dispensers 30a may be installed at intervals from left to right.

따라서, 복수의 상기 제1디스펜서(30a) 각각으로부터 상기 제1마블 수지 조성물(M1)이 토출됨으로써 단일로 설치된 상기 제1디스펜서(30a)로부터 상기 제1마블 수지 조성물(M1)이 토출될 때에 비해 단위 시간당 상기 제1마블 수지 조성물(M1)의 토출 개수가 배가된다.Therefore, compared to when the first marble resin composition (M1) is discharged from the first dispenser (30a) installed singly by discharging the first marble resin composition (M1) from each of the plurality of first dispensers (30a) The number of discharges of the first marble resin composition (M1) per unit time is doubled.

그리고 상기 제1디스펜서(30a)에서 상기 노즐(31)은 온오프밸브(도면상 미도시) 작동에 의해 간헐적(노즐의 개방 유지 시간은 일정할 수 있으나, 노즐의 개방 주기가 불규칙한 것을 의미함)으로 개폐된다. And in the first dispenser 30a, the nozzle 31 is intermittently operated by an on/off valve (not shown in the drawing) (the nozzle opening and holding time may be constant, but the nozzle opening period is irregular) is opened with

따라서, 상기 제1디스펜서(30a)의 상기 노즐(31)을 통해 상기 제1마블 수지 조성물(M1)이 간헐적으로 토출된다.Accordingly, the first marble resin composition M1 is intermittently discharged through the nozzle 31 of the first dispenser 30a.

이때, 상기 노즐(31)은 도 4에 도시된 바와 같이 상기 제1디스펜서(30a)에 연결되는 유연 재질의 관체(32)를 포함할 수 있다.In this case, the nozzle 31 may include a tube body 32 made of a flexible material connected to the first dispenser 30a as shown in FIG. 4 .

상기 노즐(31)이 상기 관체(32)에 의해 상기 제1디스펜서(30a)에 연결되면 상기 이동수단(40)에 의해 상기 노즐(31) 자체의 이동이 가능하다.When the nozzle 31 is connected to the first dispenser 30a by the tube body 32 , the nozzle 31 itself can be moved by the moving means 40 .

여기서, 상기 관체(32)를 포함하는 상기 노즐(31)은 도 5에 도시된 바와 같이 상기 제1디스펜서(30a)에 복수로 설치될 수 있다.Here, a plurality of the nozzles 31 including the tube body 32 may be installed in the first dispenser 30a as shown in FIG. 5 .

상기 제1디스펜서(30a)에 상기 관체(32)를 포함하는 상기 노즐(31)이 복수로 마련되면 하나의 상기 제1디스펜서(30a)를 통해 복수 지점에 상기 제1마블 수지 조성물(M1)의 동시 토출이 가능하므로 단일로 설치된 상기 제1디스펜서(30a)의 단일 노즐(31)로부터 상기 제1마블 수지 조성물(M1)이 토출될 때에 비해 단위 시간당 상기 제1마블 수지 조성물(M1)의 토출 개수가 배가된다.When a plurality of nozzles 31 including the tubular body 32 are provided in the first dispenser 30a, the first marble resin composition M1 is formed at a plurality of points through one first dispenser 30a. Since simultaneous discharge is possible, the number of discharges of the first marble resin composition (M1) per unit time compared to when the first marble resin composition (M1) is discharged from the single nozzle (31) of the first dispenser (30a) installed singly is doubled

그리고 상기 노즐(31)은 그 내경이 0.2-1.5cm로 형성될 수 있다.And the nozzle 31 may have an inner diameter of 0.2-1.5 cm.

상기 노즐(31)의 내경이 0.2cm 미만인 경우, 상기 제1마블 수지 조성물(M1)의 토출량 감소에 의해 상기 제1마블패턴(200a)의 가로 길이 및 세로 길이가 0.2cm 미만으로 지나치게 작게 형성되므로 장식 효과가 미미할 수 있고, 상기 노즐(31)의 내경이 1.5cm를 초과하는 경우, 상기 제1마블 수지 조성물(M1)의 토출량 증가에 의해 상기 제1마블패턴(200a)의 가로 길이 및 세로 길이가 3cm를 초과하여 지나치게 크게 형성되며 심미감이 저하될 수 있는바, 상기 노즐(31)은 그 내경이 0.2-1.5cm로 형성되는 것이 바람직하다.When the inner diameter of the nozzle 31 is less than 0.2 cm, the horizontal length and the vertical length of the first marble pattern 200a are formed to be too small to less than 0.2 cm due to the reduction in the discharge amount of the first marble resin composition M1. The decorative effect may be insignificant, and when the inner diameter of the nozzle 31 exceeds 1.5 cm, the horizontal length and vertical length of the first marble pattern 200a by an increase in the discharge amount of the first marble resin composition M1 is formed excessively larger than 3 cm, and the aesthetic feeling may be deteriorated. It is preferable that the nozzle 31 has an inner diameter of 0.2-1.5 cm.

그리고 상기 노즐(31)은 그 선단이 상기 몰드(10) 바닥면으로부터 0.1-2.5cm 상부에 배치될 수 있다.In addition, the nozzle 31 may have a tip disposed at an upper portion of 0.1-2.5 cm from the bottom surface of the mold 10 .

상기 노즐(31)의 선단이 상기 몰드(10) 바닥면으로부터 0.1cm 미만의 상부에 배치되는 경우, 상기 베이스 수지 조성물(B) 표면과의 사이 간격이 지나치게 협소해짐에 따라 상기 제1마블 수지 조성물(M1)의 토출에 간섭이 따를 수 있고, 상기 노즐(31)의 선단이 상기 몰드(10) 바닥면으로부터 2.5cm를 초과하여 상부에 배치되는 경우, 상기 베이스 수지 조성물(B) 표면과의 상기 간격이 지나치게 넓어짐에 따라 상기 제1마블 수지 조성물(M1)이 상기 베이스 수지 조성물(B)의 하단에 미치지 못할 수 있는바, 상기 노즐(31)은 그 선단이 상기 몰드(10) 바닥면으로부터 0.1-2.5cm 상부에 배치되는 것이 바람직하다.When the tip of the nozzle 31 is disposed at an upper portion of less than 0.1 cm from the bottom surface of the mold 10, the first marble resin composition as the distance between the base resin composition (B) and the surface becomes too narrow. Interference may follow the discharge of (M1), and when the tip of the nozzle 31 is disposed above 2.5 cm from the bottom surface of the mold 10, the base resin composition (B) and the surface of the base resin composition (B) As the gap is too wide, the first marble resin composition (M1) may not reach the lower end of the base resin composition (B), and the nozzle 31 has a tip of 0.1 from the bottom surface of the mold 10 . -It is desirable to be placed at the top of 2.5 cm.

상기 이동수단(40)은 상기 노즐(31)(관체를 포함하는 노즐의 경우, 노즐 자체가 될 수 있고, 제1디스펜서에 고정된 노즐의 경우, 제1디스펜서를 포함할 수 있음)을 상하 및 좌우로 간헐적(이동 방향 및 이동 폭이 불규칙한 것을 의미함) 이동시킨다.The moving means 40 moves the nozzle 31 (in the case of a nozzle including a tube body, the nozzle itself, or in the case of a nozzle fixed to the first dispenser, it may include the first dispenser) up and down and Intermittently move left and right (meaning that the movement direction and movement width are irregular).

이와 같은 상기 이동수단(40)은 구동체(도면상 미도시)의 구동에 의해 상하 및 좌우로 이동하는 가동부(41); 및 상기 가동부(41)를 이동 가능하게 지지하는 지지부(42);를 포함할 수 있다.Such a moving means 40 includes a movable part 41 that moves up and down and left and right by driving a driving body (not shown in the drawing); and a support part 42 for movably supporting the movable part 41 .

따라서, 도 3에 도시된 바와 같이 상기 가동부(41)에 상기 노즐(31)을 포함하는 상기 제1디스펜서(30a)를 고정하거나, 도면에는 미도시 하였지만 상기 가동부(41)에 상기 제1디스펜서(30a)에 연결되는 상기 관체(32)를 포함하는 상기 노즐(31) 자체를 고정시킴으로써 상기 이동수단(40)에 의해 상기 노즐(31)의 간헐적 이동이 가능하다.Therefore, as shown in FIG. 3, the first dispenser 30a including the nozzle 31 is fixed to the movable part 41, or the first dispenser 30a including the nozzle 31 is fixed to the movable part 41, although not shown in the drawing. By fixing the nozzle 31 itself including the tube body 32 connected to 30a), intermittent movement of the nozzle 31 is possible by the moving means 40 .

여기서, 상기 구동체는 상기 가동부(41)를 상하 및 좌우로 이동시킬 수 있도록 하는 것이라면 통상의 어떠한 구조 및 방식의 것이어도 무방하며, 그 일례로는 실린더일 수 있고, 다른 일례로는 모터에 의해 구동하는 랙 및 피니언일 수 있다.Here, the driving body may be of any conventional structure and method as long as it allows the movable part 41 to move up and down and left and right, and an example thereof may be a cylinder, and in another example, by a motor It can be rack and pinion driving.

또한, 본 발명에 의한 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조장치(A)는, 상기 컨베이어(20) 상부에 배치되어 노즐(31)을 통해 제2마블 수지 조성물(M2)을 간헐적으로 토출시키는 제2디스펜서(30b)를 더 포함할 수 있다.In addition, the artificial marble manufacturing apparatus (A) having a clear marble pattern according to the present invention is a second dispenser disposed on the conveyor 20 and intermittently discharging the second marble resin composition (M2) through the nozzle 31 (30b) may be further included.

이때, 상기 제2디스펜서(30b)는 상기 제2마블 수지 조성물(M2)을 토출하는 것일 뿐 실질적으로 상기 제1디스펜서(30a)와 동일하므로 상기 제2디스펜서(30b)에 관한 상세한 설명은 생략한다.At this time, since the second dispenser 30b merely discharges the second marble resin composition M2 and is substantially the same as the first dispenser 30a, a detailed description of the second dispenser 30b will be omitted. .

다만, 상기 제2디스펜서(30b)는 상기 제1디스펜서(30a)의 후방에 배치, 일례로 상기 컨베이어(20)에 안착된 이동 전의 상기 몰드(10)의 선단으로부터 0-5cm 후방에 배치되는 상기 제1디스펜서(30a)로부터 후방으로 이격되어 상기 컨베이어(20)에 안착된 이동 전의 상기 몰드(10)의 선단으로부터 3-8cm 후방에 배치될 수 있다.However, the second dispenser 30b is disposed at the rear of the first dispenser 30a, for example, 0-5 cm rearward from the tip of the mold 10 before moving, which is seated on the conveyor 20. It may be spaced rearward from the first dispenser 30a and disposed 3-8 cm rearward from the front end of the mold 10 before moving, which is seated on the conveyor 20 .

따라서, 상기 컨베이어(20) 상부에 상기 제1디스펜서(30a)와 함께 상기 제2디스펜서(30b)가 배치되더라도 상호 간의 간섭이 방지된다.Therefore, even when the second dispenser 30b is disposed on the conveyor 20 together with the first dispenser 30a, mutual interference is prevented.

또한, 본 발명에 의한 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조장치(A)는, 상기 컨베이어(20) 상부에 배치되어 노즐(31)을 통해 제3마블 수지 조성물(M3)을 간헐적으로 토출시키는 제3디스펜서(30c)를 더 포함할 수 있다.In addition, the artificial marble manufacturing apparatus (A) having a clear marble pattern according to the present invention is a third dispenser disposed on the conveyor 20 and intermittently discharging the third marble resin composition (M3) through the nozzle 31 (30c) may be further included.

이때, 상기 제3디스펜서(30c)는 상기 제3마블 수지 조성물(M3)을 토출하는 것일 뿐 실질적으로 상기 제1디스펜서(30a)와 동일하므로 상기 제3디스펜서(30c)에 관한 상세한 설명은 생략한다.At this time, since the third dispenser 30c merely discharges the third marble resin composition M3 and is substantially the same as the first dispenser 30a, a detailed description of the third dispenser 30c will be omitted. .

다만, 상기 제3디스펜서(30c)는 상기 제2디스펜서(30b)의 후방에 배치, 일례로 상기 컨베이어(20)에 안착된 이동 전의 상기 몰드(10)의 선단으로부터 3-8cm 후방에 배치되는 상기 제2디스펜서(30b)로부터 후방으로 이격되어 상기 컨베이어(20)에 안착된 이동 전의 상기 몰드(10)의 선단으로부터 5-10cm 후방에 배치될 수 있다.However, the third dispenser 30c is disposed at the rear of the second dispenser 30b, for example, 3-8 cm rearward from the front end of the mold 10 seated on the conveyor 20 before moving. It may be spaced rearward from the second dispenser 30b and disposed 5-10 cm rearward from the front end of the mold 10 before moving, which is seated on the conveyor 20 .

따라서, 상기 컨베이어(20) 상부에 상기 제1디스펜서(30a) 및 제2디스펜서(30b)와 함께 상기 제3디스펜서(30c)가 배치되더라도 상호 간의 간섭이 방지된다.Accordingly, even when the third dispenser 30c is disposed on the conveyor 20 together with the first dispenser 30a and the second dispenser 30b, mutual interference is prevented.

한편, 도 6에 도시된 바와 같이 본 발명에 의한 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조방법은, 베이스 수지 조성물을 몰드에 수용시키는 단계(S1); 몰드를 일 방향으로 이동시키는 단계(S2); 및 제1마블패턴을 형성하는 단계(S3);를 포함한다.On the other hand, as shown in FIG. 6 , the method for manufacturing artificial marble having a clear marble pattern according to the present invention includes the steps of accommodating a base resin composition in a mold (S1); moving the mold in one direction (S2); and forming a first marble pattern (S3).

상기 베이스 수지 조성물을 몰드에 수용시키는 단계(S1)는 어느 하나의 컬러로 착색된 상기 베이스 수지 조성물(B)을 상기 몰드(10)에 수용시킨다.In the step (S1) of accommodating the base resin composition in the mold, the base resin composition (B) colored in any one color is accommodated in the mold 10 .

상기 베이스 수지 조성물(B)은 베이스 수지, 무기충전제, 안료 및 기타 첨가제를 포함한다.The base resin composition (B) includes a base resin, an inorganic filler, a pigment and other additives.

상기 베이스 수지는 불포화 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지, 에폭시계 수지 등이 사용 가능하고, 바람직하게는 가공성 및 내후성이 우수한 아크릴계 수지를 이용할 수 있다. 상기 아크릴계 수지는 PMMA(poly methyl methacrylate) 및 아크릴계 단량체를 포함할 수 있다.As the base resin, an unsaturated polyester-based resin, an acrylic resin, an epoxy-based resin, etc. may be used, and preferably, an acrylic resin having excellent processability and weather resistance may be used. The acrylic resin may include poly methyl methacrylate (PMMA) and an acrylic monomer.

상기 무기충전제는 수산화알루미늄, 수산화 마그네슘, 알루민산 칼슘, 알루미나, 실리카 등의 무기분말 중 1종 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The inorganic filler may be used by mixing one or more of inorganic powders such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium aluminate, alumina, and silica.

상기 무기충전제는 상기 베이스 수지 100중량부에 대하여 150~250중량부로 포함될 수 있다. The inorganic filler may be included in an amount of 150 to 250 parts by weight based on 100 parts by weight of the base resin.

상기 안료는 유기 안료 또는 무기 안료일 수 있으며, 그 종류 및 색상은 특별히 제한하지 않는다. 상기 안료는 상기 베이스 수지 100중량부에 대하여 5중량부 이하로 포함될 수 있다.The pigment may be an organic pigment or an inorganic pigment, and the type and color thereof are not particularly limited. The pigment may be included in an amount of 5 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the base resin.

상기 기타 첨가제는 중합개시제, 소포제, 커플링제, 자외선 흡수제, 이형제, 중합억제제, 산화방지제 및 촉매로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상일 수 있다. 상기 기타 첨가제의 함량은 본 발명에서 특별히 제한하지 않으며, 인조대리석의 물성 조절을 위해 통상의 기술자가 적당한 양을 첨가하여 사용할 수 있다.The other additives may be at least one selected from the group consisting of a polymerization initiator, an antifoaming agent, a coupling agent, a UV absorber, a release agent, a polymerization inhibitor, an antioxidant, and a catalyst. The content of the other additives is not particularly limited in the present invention, and a person skilled in the art may add an appropriate amount to control the physical properties of the artificial marble.

한편, 상기 베이스 수지 조성물(B)의 점도는 20~120 Ps인 것이 바람직하다.On the other hand, it is preferable that the viscosity of the base resin composition (B) is 20 to 120 Ps.

상기 베이스 수지 조성물(B)의 점도가 20 Ps 미만인 경우, 상기 제1마블패턴을 형성하는 단계(S3)에서 상기 제1마블패턴(200a)을 형성하는 상기 제1마블 수지 조성물(M1)과 쉽게 혼합되어 상기 제1마블 수지 조성물(M1)에 의해 형성되는 상기 제1마블패턴(200a)의 가장자리가 쉽게 번져 상기 베이스 수지 조성물(B)에 의해 형성되는 상기 바탕부(100)로부터 상기 제1마블패턴(200a)의 시각적 구분이 곤란할 수 있고, 상기 베이스 수지 조성물(B)의 점도가 120 Ps를 초과하는 경우, 비정형의 상기 제1마블패턴(200a)의 구현이 곤란하므로 상기 베이스 수지 조성물(B)은 그 점도가 20~120 Ps인 것이 바람직하다.When the viscosity of the base resin composition (B) is less than 20 Ps, the first marble resin composition (M1) for forming the first marble pattern (200a) in the step (S3) of forming the first marble pattern (M1) and easily The first marble from the base part 100 formed by the base resin composition (B) by easily spreading the edges of the first marble pattern 200a formed by the first marble resin composition (M1) by mixing. It may be difficult to visually distinguish the pattern 200a, and when the viscosity of the base resin composition (B) exceeds 120 Ps, it is difficult to implement the amorphous first marble pattern 200a, so the base resin composition (B) ) preferably has a viscosity of 20 to 120 Ps.

선택적으로, 상기 베이스 수지 조성물(B)은 칩을 더 포함할 수 있다.Optionally, the base resin composition (B) may further include a chip.

상기 칩은 착색되지 않은 투명칩이거나 상기 바탕부(100) 및 상기 제1마블패턴(200a)과 다른 컬러로 착색된 투명칩 또는 불투명칩일 수 있으며, 상기 칩 자체의 형태, 컬러 및 투명도로 인한 칩 패턴(110)이 가능하다.The chip may be an uncolored transparent chip or a transparent chip or an opaque chip colored in a color different from that of the base part 100 and the first marble pattern 200a. A pattern 110 is possible.

상기 칩의 제조는 통상의 인조대리석용 칩 제조방법을 따르더라도 무방하며, 그 일례로는 상기 칩 제조용 수지 조성물을 판 형태로 성형한 후 경화시켜 얻어지는 판재를 분쇄기로써 분쇄함으로써 제조할 수 있다.The chip may be manufactured according to a conventional method for manufacturing chips for artificial marble, and an example thereof may be manufactured by molding the resin composition for manufacturing chips into a plate shape and then curing the plate material obtained by hardening the chip with a grinder.

상기 몰드를 일 방향으로 이동시키는 단계(S2)는 상기 컨베이어(20)를 통해 상기 베이스 수지 조성물(B)이 수용된 상기 몰드(10)를 일 방향으로 이동시킨다.In the step (S2) of moving the mold in one direction, the mold 10 in which the base resin composition (B) is accommodated is moved in one direction through the conveyor 20 .

상기 제1마블패턴을 형성하는 단계(S3)는 상기 컨베이어(20) 상부에 설치되는 상기 제1디스펜서(30a)의 상기 노즐(31)을 통해 이동 중의 상기 몰드(10) 내에 수용된 상기 베이스 수지 조성물(B)에 상기 베이스 수지 조성물(B)과 다른 컬러로 착색된 상기 제1마블 수지 조성물(M1)을 간헐적으로 토출시켜 상기 베이스 수지 조성물(B)에 의해 형성되는 상기 바탕부(100)에 상기 제1마블 수지 조성물(M1)에 의해 형성되는 비정형의 상기 제1마블패턴(200a)을 형성한다.In the step (S3) of forming the first marble pattern, the base resin composition accommodated in the mold 10 while moving through the nozzle 31 of the first dispenser 30a installed on the conveyor 20. (B) by intermittently discharging the first marble resin composition (M1) colored in a color different from the base resin composition (B) to the base portion 100 formed by the base resin composition (B). The amorphous first marble pattern 200a formed by the first marble resin composition M1 is formed.

이때, 상기 제1마블패턴(200a)은 가로 폭 및 세로 폭이 0.2-3cm로 형성될 수 있다.In this case, the first marble pattern 200a may have a horizontal width and a vertical width of 0.2-3 cm.

상기 제1마블패턴(200a)의 가로 폭 및 세로 폭이 0.2cm 미만인 경우, 상기 바탕부(100)로부터의 식별이 곤란함에 따라 장식 효과가 미미할 수 있고, 상기 제1마블패턴(200a)의 가로 폭 및 세로 폭이 3cm를 초과하는 경우, 그 크기로 인하여 부자연스러움이 느껴져 장식 효과가 저하될 수 있는바, 상기 제1마블패턴(200a)은 가로 폭 및 세로 폭이 0.2-3cm로 형성되는 것이 바람직하다.When the horizontal width and the vertical width of the first marble pattern 200a are less than 0.2 cm, the decorative effect may be insignificant as it is difficult to identify from the base part 100, and the horizontal width of the first marble pattern 200a is less than 0.2 cm. When the width and the vertical width exceed 3 cm, the decorative effect may be lowered due to the feeling of unnaturalness due to the size, and the first marble pattern 200a is formed to have a horizontal width and a vertical width of 0.2-3 cm. desirable.

그리고 상기 제1마블패턴(200a)은 상기 바탕부(100) 내에 복수 개가 불규칙적 간격으로 상호 이격 배치됨으로써 천연대리석의 마블패턴과 같이 자연스러운 배치가 가능하다.In addition, a plurality of the first marble patterns 200a are arranged to be spaced apart from each other at irregular intervals in the base portion 100, so that natural arrangement is possible like a marble pattern of natural marble.

그리고 상기 제1마블패턴(200a)은 상기 바탕부(100)의 표면 및 표면 하부에 형성됨으로써 상기 바탕부(100)의 절단면에서 표면은 물론 표면 하부에도 상기 제1마블패턴(200a)이 존재하므로 인조대리석 제품 이음부에서 상기 바탕부(100)의 절단면이 노출되더라도 상기 제1마블패턴(200a)에 의한 장식이 가능하다.And the first marble pattern 200a is formed on the surface and the lower surface of the base part 100, so that the first marble pattern 200a is present on the lower surface as well as the surface at the cut surface of the base part 100. Even if the cut surface of the base part 100 is exposed at the joint part of the artificial marble product, decoration by the first marble pattern 200a is possible.

또한, 본 발명에 의한 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조방법은, 제2마블패턴을 형성하는 단계(S4)를 포함할 수 있다.In addition, the method for manufacturing artificial marble having a clear marble pattern according to the present invention may include the step (S4) of forming a second marble pattern.

상기 제2마블패턴을 형성하는 단계(S4)는 상기 컨베이어(20) 상부에 설치되는 상기 제2디스펜서(30b)의 상기 노즐(31)을 통해 이동 중의 상기 몰드(10) 내에 수용된 상기 베이스 수지 조성물(B)에 상기 제2마블 수지 조성물(M2)을 간헐적으로 토출시켜 상기 베이스 수지 조성물(B)에 의해 형성되는 상기 바탕부(100)에 상기 제2마블 수지 조성물(M2)에 의해 형성되는 비정형의 제2마블패턴(200b)을 형성한다.In the step (S4) of forming the second marble pattern, the base resin composition accommodated in the mold 10 while moving through the nozzle 31 of the second dispenser 30b installed on the conveyor 20. Atypical formed by the second marble resin composition (M2) on the base 100 formed by the base resin composition (B) by intermittently discharging the second marble resin composition (M2) to (B) of the second marble pattern 200b is formed.

이때, 상기 제2마블패턴(200b)은 상기 제2마블 수지 조성물(M2)로 형성되는 점을 제외하고 상기 제1마블패턴(200a)과 실질적으로 동일하므로 상기 제2마블패턴(200b)에 관한 상세한 설명은 생략한다.At this time, since the second marble pattern 200b is substantially the same as the first marble pattern 200a except that it is formed of the second marble resin composition M2, the second marble pattern 200b Detailed description will be omitted.

또한, 본 발명에 의한 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조방법은, 제3마블패턴을 형성하는 단계(S5)를 포함할 수 있다.In addition, the method for manufacturing artificial marble having a clear marble pattern according to the present invention may include the step (S5) of forming a third marble pattern.

상기 제3마블패턴을 형성하는 단계(S5)는 상기 컨베이어(20) 상부에 설치되는 상기 제3디스펜서(30c)의 상기 노즐(31)을 통해 이동 중의 상기 몰드(10) 내에 수용된 상기 베이스 수지 조성물(B)에 상기 제3마블 수지 조성물(M3)을 간헐적으로 토출시켜 상기 베이스 수지 조성물(B)에 의해 형성되는 상기 바탕부(100)에 상기 제3마블 수지 조성물(M3)에 의해 형성되는 비정형의 제3마블패턴(200c)을 형성한다.Forming the third marble pattern (S5) is the base resin composition accommodated in the mold 10 while moving through the nozzle 31 of the third dispenser 30c installed on the conveyor 20. Atypical formed by the third marble resin composition (M3) on the base 100 formed by the base resin composition (B) by intermittently discharging the third marble resin composition (M3) to (B) of the third marble pattern 200c is formed.

이때, 상기 제3마블패턴(200c)은 상기 제3마블 수지 조성물(M3)로 형성되는 점을 제외하고 상기 제1마블패턴(200a)과 실질적으로 동일하므로 상기 제3마블패턴(200c)에 관한 상세한 설명은 생략한다.At this time, since the third marble pattern 200c is substantially the same as the first marble pattern 200a except that it is formed of the third marble resin composition M3, the third marble pattern 200c Detailed description will be omitted.

한편, 상기 제1,2,3마블패턴(200a, 200b, 200c) 각각을 형성하기 위한 상기 제1,2,3마블 수지 조성물(M1, M2, M3)은 상기 베이스 수지 조성물(B)과 안료의 종류 및/또는 함량의 차이에 의해 색상이 다르다는 것을 제외하고 동일한 수지 조성물일 수 있다. 또는 상기 베이스 수지 조성물(B)과 상이한 수지 조성물일 수도 있다. 상이한 수지 조성물을 이용한 경우의 일 예는 베이스 수지는 동일하되, 무기충전제 함량을 조절하여 비중을 작거나 크게 한 것일 수 있으며, 또는 다른 예로 베이스 수지를 상이한 것을 사용한 것 등일 수 있다.On the other hand, the first, second, and third marble resin compositions (M1, M2, M3) for forming the first, second, and third marble patterns (200a, 200b, 200c), respectively, include the base resin composition (B) and the pigment It may be the same resin composition except that the color is different due to the difference in the type and/or content of the resin composition. Alternatively, it may be a resin composition different from the base resin composition (B). An example of using a different resin composition is that the base resin is the same, but the specific gravity is small or large by adjusting the content of the inorganic filler, or as another example, a different base resin may be used.

또한, 상기 제1,2,3마블패턴(200a, 200b, 200c)의 총 개수는 상기 바탕부(100) 30cm×30cm의 단위 표면적 내에 50~100개, 60~90개 또는 65개~85개로 형성됨으로써 상기 바탕부(100) 내에 마블패턴이 풍성해지므로 장식 효과가 향상될 뿐만 아니라 실제 칩 함량 이상의 칩을 포함한 것과 같은 풍성한 장식 효과 구현이 가능하다.In addition, the total number of the first, second, and third marble patterns 200a, 200b, and 200c is 50 to 100, 60 to 90, or 65 to 85 within a unit surface area of 30 cm × 30 cm of the base 100. Since the marble pattern is rich in the base 100 by being formed, not only the decorative effect is improved, but also a rich decorative effect such as including chips exceeding the actual chip content can be realized.

또한, 본 발명에 의한 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조방법은 경화시키는 단계(S6)를 더 포함할 수 있다.In addition, the method for manufacturing artificial marble having a clear marble pattern according to the present invention may further include the step of hardening (S6).

상기 경화시키는 단계(S6)는 상기 몰드(10) 내에 수용됨에 따라 판형으로 성형되는 상기 베이스 수지 조성물(B)을 70~140℃의 온도에서 경화시킨다.In the curing step (S6), the base resin composition (B), which is molded into a plate shape as it is accommodated in the mold 10, is cured at a temperature of 70 to 140°C.

본 발명에 의한 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조장치를 이용한 인조대리석의 제조에 관하여 상세히 설명하면 다음과 같다.The manufacturing of artificial marble using the artificial marble manufacturing apparatus having a clear marble pattern according to the present invention will be described in detail as follows.

먼저, 상기 베이스 수지 조성물(B)이 상기 몰드(10)에 수용된다.First, the base resin composition (B) is accommodated in the mold (10).

본 발명에서 상기 몰드(10)는 상부가 개방되는바, 도 7에 도시된 바와 같이 개방된 상부를 통해 상기 베이스 수지 조성물(B)을 투입함으로써 상기 베이스 수지 조성물(B)이 상기 몰드(10)에 수용된다.In the present invention, the mold 10 has an open top, and as shown in FIG. 7 , by injecting the base resin composition (B) through the open top, the base resin composition (B) is formed in the mold 10 . is accepted in

다음으로, 상기 베이스 수지 조성물(B)이 수용된 상기 몰드(10)가 일 방향으로 이동된다.Next, the mold 10 in which the base resin composition (B) is accommodated is moved in one direction.

본 발명에서 상기 베이스 수지 조성물(B)이 수용된 상기 몰드(10)는 도 8에 도시된 바와 같이 상기 컨베이어(20)에 안착되는바, 상기 컨베이어(20)의 주행에 의해 상기 몰드(10)가 일 방향으로 이동된다.In the present invention, the mold 10 in which the base resin composition (B) is accommodated is seated on the conveyor 20 as shown in FIG. 8 , and the mold 10 is moved by the running of the conveyor 20 . moved in one direction.

다음으로, 이동 중의 상기 몰드(10) 내에 수용된 상기 베이스 수지 조성물(B)에 상기 제1마블 수지 조성물(M1)이 토출된다.Next, the first marble resin composition (M1) is discharged to the base resin composition (B) accommodated in the mold 10 during movement.

본 발명에서 상기 컨베이어(20) 상부에는 상기 제1디스펜서(30a)가 배치되는바, 상기 제1디스펜서(30a)의 상기 노즐(31)을 개방시킴으로써 도 9에 도시된 바와 같이 상기 제1마블 수지 조성물(M1)이 이동 중의 상기 몰드(10) 내에 수용된 상기 베이스 수지 조성물(B)에 토출된다.In the present invention, the first dispenser 30a is disposed above the conveyor 20. As shown in FIG. 9, the first marble resin is opened by opening the nozzle 31 of the first dispenser 30a. The composition (M1) is discharged to the base resin composition (B) accommodated in the mold 10 during movement.

이때, 상기 제1마블 수지 조성물(M1)은 상기 베이스 수지 조성물(B)과 다른 컬러로 착색되는바, 상기 제1마블 수지 조성물(M1)이 토출됨에 따라 도 13에 도시된 바와 같이 상기 베이스 수지 조성물(B)에 의해 형성되는 상기 바탕부(100)로부터 시각적으로 구분되는 상기 제1마블패턴(200a)이 형성된다.At this time, the first marble resin composition (M1) is colored in a different color from that of the base resin composition (B), and as the first marble resin composition (M1) is discharged, as shown in FIG. 13 , the base resin The first marble pattern 200a visually distinguished from the base portion 100 formed by the composition (B) is formed.

다만, 상기 베이스 수지 조성물(B)에 토출되는 상기 제1마블 수지 조성물(M1)이 상기 베이스 수지 조성물(B)과 쉽게 혼합되는 경우, 번짐 등에 의해 상기 바탕부(100)로부터 상기 제1마블패턴(200a)의 시각적 구분이 곤란할 수 있다.However, when the first marble resin composition (M1) discharged to the base resin composition (B) is easily mixed with the base resin composition (B), the first marble pattern from the base part 100 due to bleeding, etc. (200a) may be difficult to distinguish visually.

그러나 본 발명에서 상기 제1마블 수지 조성물(M1)과 상기 베이스 수지 조성물(B)은 각각의 점도가 20~120 Ps인바, 상기 제1마블 수지 조성물(M1) 및 베이스 수지 조성물(B)의 점도 특성상 상기 제1마블 수지 조성물(M1)이 상기 베이스 수지 조성물(B) 내에서 쉽게 흐트러지지 않으므로 상기 바탕부(100)로부터 상기 제1마블패턴(200a)의 시각적 구분이 명확, 다시 말해 상기 제1마블패턴(200a)이 선명해질 수 있다.However, in the present invention, the first marble resin composition (M1) and the base resin composition (B) each have a viscosity of 20 to 120 Ps, and the viscosity of the first marble resin composition (M1) and the base resin composition (B) is Since the first marble resin composition (M1) is not easily disturbed in the base resin composition (B) due to its characteristics, the visual distinction of the first marble pattern (200a) from the base part (100) is clear, that is, the first The marble pattern 200a may become clear.

그리고 본 발명에서 상기 바탕부(100)에 형성되는 상기 제1마블패턴(200a)은 도 12에 도시된 바와 같이 복수 개가 불규칙적 간격으로 상호 이격 배치될 수 있으므로 천연대리석의 자연적 무늬와 같이 자연스러운 배치가 가능하다.In addition, in the present invention, since a plurality of the first marble patterns 200a formed on the base 100 may be arranged to be spaced apart from each other at irregular intervals as shown in FIG. 12, a natural arrangement such as a natural pattern of natural marble is not possible. It is possible.

이때, 상기 제1마블패턴(200a)은, 상기 제1디스펜서(30a)의 상기 노즐(31)이 간헐적으로 개폐되고, 상기 노즐(31)(제1디스펜서에 노즐이 고정된 경우, 노즐을 포함하는 제1디스펜서 전체일 수 있고, 제1디스펜서와 노즐이 별도 관체로 연결된 경우, 노즐 자체일 수 있음)이 상기 이동수단(40)에 의해 좌우로 방향 및 폭을 달리하여 간헐적으로 이동함에 따라 복수 개가 불규칙적 간격으로 상호 이격 배치될 수 있다.At this time, the first marble pattern 200a includes the nozzle 31 of the first dispenser 30a intermittently opened and closed, and the nozzle 31 (when the nozzle is fixed to the first dispenser, the nozzle is included) may be the whole of the first dispenser, and when the first dispenser and the nozzle are connected by a separate tube, the nozzle itself) moves intermittently by the moving means 40 in different directions and widths to the left and right. Dogs may be spaced apart from each other at irregular intervals.

즉, 상기 노즐(31)이 상기 온오프밸브 작동에 의해 간헐적으로 개폐됨에 따라 상기 제1마블패턴(200a)이 전후로 간격을 두고 간헐적으로 형성되고, 상기 노즐(31)이 상기 이동수단(40)에 의해 좌우로 간헐적으로 이동함에 따라 상기 제1마블패턴(200a)이 좌우로 간격을 두고 간헐적으로 형성되므로 이에 의해 상기 제1마블패턴(200a) 복수 개가 불규칙적 간격으로 상호 이격 배치될 수 있다. 더욱 상세히는 상기 노즐(31)은 좌우로 간헐적으로 이동하며 간헐적으로 개폐되고, 상기 베이스 수지 조성물(B)이 수용된 상기 몰드(10)가 일 방향으로 이동함에 의해 실제 상기 제1마블패턴(200a)은 사선 방향으로 간헐적으로 형성될 수 있다.That is, as the nozzle 31 is intermittently opened and closed by the on-off valve operation, the first marble pattern 200a is intermittently formed at intervals before and after, and the nozzle 31 moves the moving means 40 . As the first marble pattern 200a is intermittently formed with an interval from side to side as it intermittently moves from side to side by , a plurality of the first marble pattern 200a may be arranged to be spaced apart from each other at irregular intervals. In more detail, the nozzle 31 intermittently moves left and right to open and close intermittently, and the mold 10 in which the base resin composition (B) is accommodated moves in one direction to actually move the first marble pattern 200a. may be intermittently formed in an oblique direction.

또한, 본 발명에서 상기 바탕부(100)에 형성되는 상기 제1마블패턴(200a)은 도 16에 도시된 바와 같이 상기 바탕부(100)의 표면 및 표면 하부에 형성되는바, 상기 바탕부(100)의 절단면 표면은 물론 표면 하부에도 상기 제1마블패턴(200a)이 존재하므로 상기 바탕부(100)의 절단면이 노출되는 인조대리석 제품 이음부에서도 상기 제1마블패턴(200a)에 의한 장식이 가능하다.In addition, in the present invention, the first marble pattern 200a formed on the base part 100 is formed on the surface and the lower surface of the base part 100 as shown in FIG. 16 , the base part ( Since the first marble pattern 200a exists not only on the cut surface of 100), but also on the lower surface of the surface, the decoration by the first marble pattern 200a is also performed at the joint of the artificial marble product where the cut surface of the base 100 is exposed. It is possible.

이때, 상기 제1마블패턴(200a)은 상기 베이스 수지 조성물(B)로의 상기 노즐(31) 삽입 깊이에 따라 상기 바탕부(100)의 표면 및 표면 하부에 형성될 수 있다.At this time, the first marble pattern 200a may be formed on the surface and the lower surface of the base part 100 according to the insertion depth of the nozzle 31 into the base resin composition (B).

즉, 상기 이동수단(40)에 의해 상하로 유동하는 상기 노즐(31)이 상기 베이스 수지 조성물(B)에 상대적으로 더 깊이 삽입되어 상기 제1마블 수지 조성물(M1)이 상기 베이스 수지 조성물(B)의 하단에 토출되는 경우, 상기 바탕부(100)의 표면에 상기 제1마블패턴(200a)이 형성될 수 있고, 상기 노즐(31)이 상기 베이스 수지 조성물(B)에 상대적으로 얕게 삽입되어 상기 제1마블 수지 조성물(M1)이 상기 베이스 수지 조성물(B)의 중간부로 토출되는 경우, 상기 바탕부(100)의 표면 하부에 상기 제1마블패턴(200a)이 형성될 수 있다.That is, the nozzle 31 flowing up and down by the moving means 40 is inserted relatively deeper into the base resin composition (B) so that the first marble resin composition (M1) is the base resin composition (B). ), the first marble pattern 200a may be formed on the surface of the base 100, and the nozzle 31 is relatively shallowly inserted into the base resin composition (B). When the first marble resin composition (M1) is discharged to the middle part of the base resin composition (B), the first marble pattern 200a may be formed on the lower surface of the base part 100 .

여기서, 상기 제1마블패턴(200a)은 상기 바탕부(100)의 저면 및 저면 상부에 형성되는 것으로 보일 수 있으나, 상기 몰드(10) 내에 수용된 상기 베이스 수지 조성물(B)은 경화를 거쳐 뒤집힘에 따라 그 하단면이 실제로는 인조대리석 제품의 상면이 되는바, 상기 제1마블 수지 조성물(M1)이 상기 베이스 수지 조성물(B)의 하단 및 중간부로 토출됨에 따라 상기 바탕부(100)의 표면 및 표면 하부에 상기 제1마블패턴(200a)이 형성된다.Here, the first marble pattern 200a may be seen to be formed on the bottom surface and the bottom surface upper part of the base part 100, but the base resin composition (B) accommodated in the mold 10 is cured and turned over. Accordingly, the lower surface of the artificial marble product is actually the upper surface of the artificial marble product, and as the first marble resin composition (M1) is discharged to the lower and middle portions of the base resin composition (B), the surface and The first marble pattern 200a is formed under the surface.

또한, 본 발명에서 상기 몰드(10) 내에 수용된 상기 베이스 수지 조성물(B)에는 상기 제1마블 수지 조성물(M1)과 더불어 상기 제2마블 수지 조성물(M2)이 토출될 수 있다.In addition, the second marble resin composition (M2) together with the first marble resin composition (M1) may be discharged to the base resin composition (B) accommodated in the mold 10 in the present invention.

본 발명에서 상기 컨베이어(20) 상부에는 상기 제1디스펜서(30a)와 더불어 상기 제1디스펜서(30a) 후방에 위치하는 상기 제2디스펜서(30b)가 배치될 수 있는바, 상기 제2디스펜서(30b)의 상기 노즐(31)을 개방시킴으로써 도 10에 도시된 바와 같이 상기 제2마블 수지 조성물(M2)이 이동 중의 상기 몰드(10) 내에 수용된 상기 베이스 수지 조성물(B)에 토출될 수 있다.In the present invention, the second dispenser 30b positioned behind the first dispenser 30a and the first dispenser 30a may be disposed above the conveyor 20, and the second dispenser 30b ) by opening the nozzle 31, the second marble resin composition (M2) can be discharged to the base resin composition (B) accommodated in the mold 10 during movement as shown in FIG.

이때, 상기 제2마블 수지 조성물(M2)은 상기 베이스 수지 조성물(B) 및 제1마블 수지 조성물(M1)과 다른 컬러로 착색될 수 있는바, 상기 제2마블 수지 조성물(M2)이 토출됨에 따라 상기 베이스 수지 조성물(B)에 의해 형성되는 상기 바탕부(100) 및 제1마블패턴(200a)과 시각적으로 구분되는 상기 제2마블패턴(200b)이 형성될 수 있다.At this time, the second marble resin composition (M2) may be colored in a color different from that of the base resin composition (B) and the first marble resin composition (M1), so that the second marble resin composition (M2) is discharged. Accordingly, the second marble pattern 200b visually distinguishable from the base portion 100 and the first marble pattern 200a formed by the base resin composition (B) may be formed.

따라서, 상기 제1마블패턴(200a) 및 제2마블패턴(200b) 각각의 형태 및 컬러를 통한 장식이 가능할 수 있다.Accordingly, decoration through the shape and color of each of the first marble pattern 200a and the second marble pattern 200b may be possible.

여기서, 상기 제2마블패턴(200b)의 가로 폭 및 세로 폭은 상기 제1마블패턴(200a)의 가로 폭 및 세로 폭에 비해 크거나 작게 형성될 수 있다.Here, the horizontal width and vertical width of the second marble pattern 200b may be formed to be larger or smaller than the horizontal width and vertical width of the first marble pattern 200a.

즉, 상기 제2디스펜서(30b) 및 제1디스펜서(30a)의 상기 노즐(31) 개방 시간을 동일하게 유지하면서 상기 노즐(31) 직경을 달리함으로써 상기 제2마블패턴(200b)의 가로 폭 및 세로 폭은 상기 제1마블패턴(200a)의 가로 폭 및 세로 폭에 비해 크거나 작게 형성될 수 있다.That is, by varying the diameter of the nozzle 31 while maintaining the same opening time of the nozzle 31 of the second dispenser 30b and the first dispenser 30a, the horizontal width of the second marble pattern 200b and The vertical width may be formed to be larger or smaller than the horizontal and vertical widths of the first marble pattern 200a.

또한, 상기 제2디스펜서(30b) 및 제1디스펜서(30a)의 상기 노즐(31) 노즐 직경을 동일하게 형성하면서 상기 노즐(31) 개방 시간을 달리함으로써 상기 제2마블패턴(200b)의 가로 폭 및 세로 폭이 상기 제1마블패턴(200a)의 가로 폭 및 세로 폭에 비해 크거나 작게 형성될 수 있다.In addition, the horizontal width of the second marble pattern 200b by varying the opening time of the nozzle 31 while forming the nozzle 31 of the second dispenser 30b and the first dispenser 30a with the same nozzle diameter and a vertical width may be formed to be larger or smaller than the horizontal and vertical widths of the first marble pattern 200a.

또한, 본 발명에서 상기 몰드(10) 내에 수용된 상기 베이스 수지 조성물(B)(B)에는 상기 제1마블 수지 조성물(M1) 및 제2마블 수지 조성물(M2)과 더불어 상기 제3마블 수지 조성물(M3)이 토출될 수 있다.In addition, in the present invention, the base resin composition (B) (B) accommodated in the mold 10 includes the first marble resin composition (M1) and the second marble resin composition (M2) as well as the third marble resin composition ( M3) can be discharged.

본 발명에서 상기 컨베이어(20) 상부에는 상기 제1디스펜서(30a) 및 제2디스펜서(30b)와 더불어 상기 제2디스펜서(30b) 후방에 위치하는 상기 제3디스펜서(30c)가 배치될 수 있는바, 상기 제3디스펜서(30c)의 상기 노즐(31)을 개방시킴으로써 도 11에 도시된 바와 같이 상기 제3마블 수지 조성물(M3)이 이동 중의 상기 몰드(10) 내에 수용된 상기 베이스 수지 조성물(B)에 토출될 수 있다.In the present invention, the third dispenser 30c located behind the second dispenser 30b along with the first dispenser 30a and the second dispenser 30b may be disposed above the conveyor 20 in the present invention. , as shown in FIG. 11 by opening the nozzle 31 of the third dispenser 30c, the base resin composition (B) accommodated in the mold 10 while the third marble resin composition (M3) is moving can be discharged into

이때, 상기 제3마블 수지 조성물(M3)은 상기 베이스 수지 조성물(B), 제1마블 수지 조성물(M1) 및 제2마블 수지 조성물(M2)과 다른 컬러로 착색될 수 있는바, 상기 제3마블 수지 조성물(M3)이 토출됨에 따라 상기 베이스 수지 조성물(B)에 의해 형성되는 상기 바탕부(100)와 상기 바탕부(100)에 형성되는 상기 제1마블패턴(200a) 및 제2마블패턴(200b)과 시각적으로 구분되는 상기 제3마블패턴(200c)이 형성될 수 있다.In this case, the third marble resin composition (M3) may be colored in a color different from that of the base resin composition (B), the first marble resin composition (M1), and the second marble resin composition (M2). As the marble resin composition (M3) is discharged, the base part 100 formed by the base resin composition (B) and the first marble pattern 200a and the second marble pattern formed on the base part 100 The third marble pattern 200c that is visually distinguished from the 200b may be formed.

따라서, 상기 제1마블패턴(200a), 제2마블패턴(200b) 및 제3마블패턴(200c) 각각의 형태 및 컬러를 통한 장식이 가능할 수 있다.Accordingly, decoration through the shape and color of each of the first marble pattern 200a, the second marble pattern 200b, and the third marble pattern 200c may be possible.

여기서, 상기 제3마블패턴(200c)의 가로 폭 및 세로 폭은 상기 제1마블패턴(200a) 및 제2마블패턴(200b)의 가로 폭 및 세로 폭에 비해 크거나 작게 형성될 수 있다.Here, the horizontal and vertical widths of the third marble pattern 200c may be larger or smaller than the horizontal and vertical widths of the first marble pattern 200a and the second marble pattern 200b.

즉, 상기 제3디스펜서(30c), 제2디스펜서(30b) 및 제1디스펜서(30a)의 상기 노즐(31) 개방 시간을 동일하게 유지하면서 상기 노즐(31) 직경을 달리함으로써 상기 제3마블패턴(200c)의 가로 폭 및 세로 폭이 상기 제1마블패턴(200a) 및 제2마블패턴(200b)의 가로 폭 및 세로 폭에 비해 크거나 작게 형성될 수 있다.That is, by varying the nozzle 31 diameter while maintaining the same nozzle 31 opening time of the third dispenser 30c, the second dispenser 30b, and the first dispenser 30a, the third marble pattern The horizontal and vertical widths of 200c may be greater or smaller than the horizontal and vertical widths of the first marble pattern 200a and the second marble pattern 200b.

또한, 상기 제3디스펜서(30c), 제2디스펜서(30b) 및 제1디스펜서(30a)의 상기 노즐(31) 노즐 직경을 동일하게 형성하면서 상기 노즐(31) 개방 시간을 달리함으로써 상기 제3마블패턴(200c)의 가로 폭 및 세로 폭이 상기 제1마블패턴(200a) 및 제2마블패턴(200b)의 가로 폭 및 세로 폭에 비해 크거나 작게 형성될 수 있다.In addition, by forming the nozzle 31 of the third dispenser 30c, the second dispenser 30b, and the first dispenser 30a with the same nozzle diameter and varying the opening time of the nozzle 31, the third marble The horizontal width and vertical width of the pattern 200c may be formed to be larger or smaller than the horizontal width and vertical width of the first marble pattern 200a and the second marble pattern 200b.

한편, 본 발명에서 상기 제1,2,3제3마블 수지 조성물(M1, M2, M3)이 토출됨에 됨에 상기 제1,2,3마블패턴(200a, 200b, 200c)이 형성되는 상기 베이스 수지 조성물(B)은 이후로 상온에서 경화 또는 오븐 등의 가열장치에서 경화됨으로써 이에 의해 인조대리석이 제조된다.On the other hand, in the present invention, as the first, second, and third marble resin compositions (M1, M2, M3) are discharged, the first, second, and third marble patterns (200a, 200b, 200c) are formed on the base resin. The composition (B) is then cured at room temperature or cured in a heating device such as an oven, thereby producing artificial marble.

실시예Example

이하, 본 발명의 일 실시예를 통해 본 발명에 대해 더욱 상세히 설명한다. 다만, 본 발명은 하기의 실시예에 한정되지 아니하므로 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위 내에서 변경 가능하며, 그와 같은 변경은 이하 청구범위 기재에 의하여 정의되는 본 발명의 보호범위 내에 있게 된다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail through an embodiment of the present invention. However, since the present invention is not limited to the following examples, it can be changed within the scope without departing from the gist of the present invention claimed in the claims, and such changes are the protection of the present invention defined by the following claims. will be within range.

1. 베이스 수지 조성물의 제조1. Preparation of base resin composition

폴리메틸메타크릴레이트 20중량부, 메틸메타크릴레이트 40중량부, 수산화알루미늄 50중량부, 안료 3중량부, 중합개시제 1중량부, 칩 20 중량부, 기타 첨가제 3중량부를 포함하는 베이스 수지 조성물을 제조하였다.A base resin composition comprising 20 parts by weight of polymethyl methacrylate, 40 parts by weight of methyl methacrylate, 50 parts by weight of aluminum hydroxide, 3 parts by weight of pigment, 1 part by weight of polymerization initiator, 20 parts by weight of chips, and 3 parts by weight of other additives prepared.

상기 베이스 수지 조성물(B)의 점도는 60ps(Brookfield viscometer) 이었다.The viscosity of the base resin composition (B) was 60ps (Brookfield viscometer).

2. 제1,2,2. Articles 1, 2, 3마블3 Marvel 수지 조성물의 제조 Preparation of resin composition

폴리메틸메타크릴레이트 20중량부, 메틸메타크릴레이트 40중량부, 수산화알루미늄 50중량부, 안료 3중량부, 중합개시제 1중량부, 기타 첨가제 3중량부를 포함하는 제1마블 수지 조성물(M1)을 제조하였다.A first marble resin composition (M1) comprising 20 parts by weight of polymethyl methacrylate, 40 parts by weight of methyl methacrylate, 50 parts by weight of aluminum hydroxide, 3 parts by weight of a pigment, 1 part by weight of a polymerization initiator, and 3 parts by weight of other additives prepared.

상기 제1마블 수지 조성물(M1)과 동일한 조성이되 안료만 다른 색상의 안료로 3중량부 첨가한 제2마블 수지 조성물(M2)을 제조하였다.A second marble resin composition (M2) having the same composition as the first marble resin composition (M1) but adding 3 parts by weight of a pigment of a different color was prepared.

상기 제1,2마블 수지 조성물(M1, M2)과 동일한 조성이되 안료만 다른 색상의 안료로 3중량부 첨가한 제3마블 수지 조성물(M3)을 제조하였다. A third marble resin composition (M3) having the same composition as the first and second marble resin compositions (M1, M2) but adding 3 parts by weight of a pigment of a different color was prepared.

상기 제1,2,3마블 수지 조성물(M1, M2, M3)의 점도는 60ps(Brookfield viscometer) 이었다.The viscosity of the first, second, and third marble resin compositions (M1, M2, M3) was 60 ps (Brookfield viscometer).

3. 마블패턴이 구현된 인조대리석의 제조3. Manufacture of artificial marble embodying marble pattern

저장조 내에 수용된 상기 베이스 수지 조성물(B)을 몰드(10)에 투입하였다.The base resin composition (B) accommodated in the storage tank was put into the mold 10 .

상기 베이스 수지 조성물(B)이 수용된 상기 몰드(10)를 컨베이어(20)에 안착시켜 일 방향으로 이동시켰다.The mold 10 in which the base resin composition (B) was accommodated was seated on the conveyor 20 and moved in one direction.

상기 컨베이어(20) 상부에 배치되되, 이동 전의 상기 몰드(10) 선단으로부터 3cm 후방에 배치되는 제1디스펜서(30a)의 노즐(31)을 통해 이동 중의 상기 몰드(10) 내에 수용된 상기 베이스 수지 조성물(B)에 상기 베이스 수지 조성물(B)과 다른 컬러로 착색된 상기 제1마블 수지 조성물(M1)을 토출시켰다. 상기 제1디스펜서(30a)는 이동수단(40)으로써 상하 및 좌우로 간헐적으로 이동시켰으며, 상기 노즐(31)은 온오프밸브로써 간헐적으로 개폐시켰다.The base resin composition disposed on the conveyor 20 and accommodated in the mold 10 during movement through the nozzle 31 of the first dispenser 30a disposed 3 cm rearward from the tip of the mold 10 before movement. The first marble resin composition (M1) colored in a color different from the base resin composition (B) was discharged to (B). The first dispenser 30a was intermittently moved up and down and left and right as a moving means 40, and the nozzle 31 was intermittently opened and closed as an on/off valve.

상기 컨베이어(20) 상부에 배치되되, 이동 전의 상기 몰드(10) 선단으로부터 6cm 후방에 배치되는 제2디스펜서(30b)의 노즐(31)을 통해 이동 중의 상기 몰드(10) 내에 수용된 상기 베이스 수지 조성물(B)에 상기 베이스 수지 조성물(B) 및 제1마블 수지 조성물(M1)과 다른 컬러로 착색된 상기 제2마블 수지 조성물(M2)을 토출시켰다. 상기 제2디스펜서(30b)는 이동수단(40)으로써 상하 및 좌우로 간헐적으로 이동시켰으며, 상기 노즐(31)은 온오프밸브로써 간헐적으로 개폐시켰다.The base resin composition disposed on the conveyor 20 and accommodated in the mold 10 during movement through the nozzle 31 of the second dispenser 30b disposed 6 cm rearward from the tip of the mold 10 before movement. The second marble resin composition (M2) colored in a color different from that of the base resin composition (B) and the first marble resin composition (M1) was discharged to (B). The second dispenser 30b was intermittently moved up and down and left and right as a moving means 40, and the nozzle 31 was intermittently opened and closed as an on/off valve.

상기 컨베이어(20) 상부에 배치되되, 이동 전의 상기 몰드(10) 선단으로부터 9cm 후방에 배치되는 제3디스펜서(30c)의 노즐(31)을 통해 이동 중의 상기 몰드(10) 내에 수용된 상기 베이스 수지 조성물(B)에 상기 베이스 수지 조성물(B), 제1마블 수지 조성물(M1) 및 제2마블 수지 조성물(M2)과 다른 컬러로 착색된 상기 제3마블 수지 조성물(M3)을 토출시켰다. 상기 제3디스펜서(30c)는 이동수단(40)으로써 상하 및 좌우로 간헐적으로 이동시켰으며, 상기 노즐(31)은 온오프밸브로써 간헐적으로 개폐시켰다.The base resin composition disposed on the conveyor 20 and accommodated in the mold 10 during movement through the nozzle 31 of the third dispenser 30c disposed 9 cm rearward from the tip of the mold 10 before movement. The third marble resin composition (M3) colored in a color different from the base resin composition (B), the first marble resin composition (M1), and the second marble resin composition (M2) was discharged to (B). The third dispenser 30c was intermittently moved up and down and left and right as a moving means 40, and the nozzle 31 was intermittently opened and closed as an on-off valve.

상기 몰드(10)에 수용된 상기 제1,2,3마블 수지 조성물(M1, M2, M3)이 토출된 베이스 수지 조성물(B)을 완전 경화시켜 인조대리석을 제조하였다.The base resin composition (B) from which the first, second, and third marble resin compositions (M1, M2, M3) accommodated in the mold 10 were completely cured to prepare artificial marble.

상기 인조대리석에서 상기 베이스 수지 조성물(B)에 의해 형성된 바탕부(100)를 확인하였고, 상기 바탕부(100) 내에서 상기 제1마블 수지 조성물(M1)에 의해 형성된 복수 개의 제1마블패턴(200a), 상기 제2마블 수지 조성물(M2)에 의해 형성된 복수 개의 제2마블패턴(200b) 및 상기 제3마블 수지 조성물(M3)에 의해 형성된 복수 개의 제3마블패턴(200c)을 확인하였다.In the artificial marble, the base part 100 formed by the base resin composition (B) was confirmed, and a plurality of first marble patterns formed by the first marble resin composition (M1) in the base part 100 ( 200a), a plurality of second marble patterns 200b formed by the second marble resin composition (M2), and a plurality of third marble patterns 200c formed by the third marble resin composition (M3) were confirmed.

상기 제1,2,3마블패턴(200a, 200b, 200c)은 비정형으로 형성되었고, 불규칙적 간격으로 배치되었다.The first, second, and third marble patterns 200a, 200b, and 200c were irregularly formed and arranged at irregular intervals.

상기 제1마블패턴(200a) 어느 하나, 상기 제2마블패턴(200b) 어느 하나 및 상기 제3마블패턴(200c) 어느 하나의 가로 폭 및 세로 폭을 측정하였으며, 그 결과는 아래의 표 1과 같다.The horizontal width and vertical width of any one of the first marble pattern 200a, any one of the second marble pattern 200b, and any one of the third marble pattern 200c were measured, and the results are shown in Table 1 below same.

제1마블패턴1st marble pattern 제2마블패턴2nd marble pattern 제3마블패턴3rd Marble Pattern 가로 폭width 2.2cm2.2cm 1.9cm1.9 cm 1.8cm1.8 cm 세로 폭vertical width 2.3cm2.3cm 2.1cm2.1 cm 2.4cm2.4cm

상기의 표 1을 통해 상기 제1,2,3마블패턴(200a, 200b, 200c)은, 각각의 가로 폭 및 세로 폭이 상기 칩 패턴(110)의 가로 폭(1.5mm 이하) 및 세로 폭(1.5mm 이하)에 비해 크고, 종래 인조대리석 마블패턴의 가로 폭 및 세로 폭에 에 비해 작으며, 상기 바탕부(100)와의 경계가 명확하여 상기 바탕부(100)로부터 시각적 구분이 명확, 다시 말해 선명함을 확인할 수 있었다.According to Table 1 above, the first, second, and third marble patterns 200a, 200b, and 200c have a horizontal width and a vertical width of the chip pattern 110 (1.5 mm or less) and a vertical width ( 1.5mm or less), it is smaller than the horizontal and vertical widths of the conventional artificial marble marble pattern, and the boundary with the base part 100 is clear, so that the visual distinction from the base part 100 is clear, that is, clarity could be observed.

10 : 몰드
20 : 컨베이어
21 : 롤러
30a : 제1디스펜서
30b : 제2디스펜서
30c : 제3디스펜서
31 : 노즐
32 : 관체
40 : 이동수단
41 : 가동부
42 : 지지부
100 : 바탕부
110 : 칩 패턴
200a : 제1마블패턴
200b : 제2마블패턴
200c : 제3마블패턴
A : 인조대리석 제조장치
B : 베이스 수지 조성물
M1 : 제1마블 수지 조성물
M2 : 제2마블 수지 조성물
M3 : 제3마블 수지 조성물
S1 : 베이스 수지 조성물을 몰드에 수용시키는 단계
S2 : 몰드를 일 방향으로 이동시키는 단계
S3 :제1마블패턴을 형성하는 단계
S4 : 제2마블패턴을 형성하는 단계
S5 : 제3마블패턴을 형성하는 단계
S6 : 경화시키는 단계10: mold
20: conveyor
21 : roller
30a: first dispenser
30b: second dispenser
30c: third dispenser
31: nozzle
32: tube
40: means of transportation
41: movable part
42: support
100: base part
110: chip pattern
200a: first marble pattern
200b: 2nd marble pattern
200c: 3rd marble pattern
A: Artificial marble manufacturing equipment
B: base resin composition
M1: first marble resin composition
M2: 2nd marble resin composition
M3: 3rd marble resin composition
S1: accommodating the base resin composition in the mold
S2: moving the mold in one direction
S3: Forming a first marble pattern
S4: Forming a second marble pattern
S5: Forming a third marble pattern
S6: hardening step

Claims (15)

어느 하나의 컬러로 착색된 베이스 수지 조성물(B)을 몰드(10)에 수용시키는 단계;
컨베이어(20)를 통해 상기 베이스 수지 조성물(B)이 수용된 상기 몰드(10)를 일 방향으로 이동시키는 단계; 및
상기 컨베이어(20) 상부에 설치되며, 선단이 상기 몰드(10)의 바닥면에서 0.1~2.5cm 위쪽에 위치한 제1디스펜서(30a)의 노즐(31)을 상하 및 좌우로 이동시키면서 이동 중의 상기 몰드(10) 내에 수용된 상기 베이스 수지 조성물(B)에 상기 베이스 수지 조성물(B)과 다른 컬러로 착색된 제1마블 수지 조성물(M1)을 간헐적으로 토출시켜 상기 베이스 수지 조성물(B)에 의해 형성되는 바탕부(100)에 상기 제1마블 수지 조성물(M1)에 의해 형성되는 비정형의 제1마블패턴(200a)을 형성하는 단계;를 포함하는 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조방법.
accommodating the base resin composition (B) colored in any one color in the mold 10;
moving the mold 10 in which the base resin composition (B) is accommodated in one direction through a conveyor 20; and
The mold in motion while moving the nozzle 31 of the first dispenser 30a installed above the conveyor 20 and positioned 0.1 to 2.5 cm above the bottom surface of the mold 10 vertically and horizontally Formed by the base resin composition (B) by intermittently discharging the first marble resin composition (M1) colored in a color different from the base resin composition (B) to the base resin composition (B) accommodated in (10) Forming an amorphous first marble pattern (200a) formed by the first marble resin composition (M1) on the base (100); a method for manufacturing artificial marble having a clear marble pattern, including a.
 제1항에 있어서,
상기 컨베이어(20)의 상부에 설치되되, 상기 제1디스펜서(30a)로부터 간격을 두고 후방에 배치되며, 선단이 상기 몰드(10)의 바닥면에서 0.1~2.5cm 위쪽에 위치한 제2디스펜서(30b)의 노즐(31)을 상하 및 좌우로 이동시키면서 이동 중의 상기 몰드(10) 내에 수용된 상기 베이스 수지 조성물(B)에 제2마블 수지 조성물(M2)을 간헐적으로 토출시켜 상기 베이스 수지 조성물(B)에 의해 형성되는 상기 바탕부(100)에 상기 제2마블 수지 조성물(M2)에 의해 형성되는 비정형의 제2마블패턴(200b)을 형성하는 단계;를 더 포함하는 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조방법.
According to claim 1,
A second dispenser (30b) installed on the conveyor (20), disposed behind at a distance from the first dispenser (30a), the tip of which is located 0.1 to 2.5 cm above the bottom surface of the mold (10) ) by intermittently discharging the second marble resin composition (M2) to the base resin composition (B) accommodated in the mold 10 during movement while moving the nozzle 31 of the upper and lower sides and left and right to the base resin composition (B) Forming an amorphous second marble pattern (200b) formed by the second marble resin composition (M2) on the base portion (100) formed by .
 제2항에 있어서,
상기 컨베이어(20)의 상부에 설치되되, 상기 제2디스펜서(30b)로부터 간격을 두고 후방에 배치되며, 선단이 상기 몰드(10)의 바닥면에서 0.1~2.5cm 위쪽에 위치한 제3디스펜서(30c)의 노즐(31)을 상하 및 좌우로 이동시키면서 이동 중의 상기 몰드(10) 내에 수용된 상기 베이스 수지 조성물(B)에 제3마블 수지 조성물(M3)을 간헐적으로 토출시켜 상기 베이스 수지 조성물(B)에 의해 형성되는 상기 바탕부(100)에 상기 제3마블 수지 조성물(M3)에 의해 형성되는 비정형의 제3마블패턴(200c)을 형성하는 단계;를 더 포함하는 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조방법.
3. The method of claim 2,
A third dispenser 30c installed on the upper part of the conveyor 20, disposed at the rear with a distance from the second dispenser 30b, and the tip of which is located 0.1 to 2.5 cm above the bottom surface of the mold 10 ) by intermittently discharging the third marble resin composition (M3) to the base resin composition (B) accommodated in the mold 10 during movement while moving the nozzle 31 of the base resin composition (B) Forming an amorphous third marble pattern (200c) formed by the third marble resin composition (M3) on the base portion 100 formed by .
 제3항에 있어서,
상기 제1,2,3마블 수지 조성물(M1, M2, M3)은, 상기 제1,2,3디스펜서(30a, 30b, 30c)의 상기 노즐(31)이 온오프밸브 작동에 의해 간헐적으로 개폐됨에 따라 전후로 간격을 두고 간헐적으로 토출되고, 상기 제1,2,3디스펜서(30a, 30b, 30c)의 상기 노즐(31)이 이동수단(40)에 의해 좌우로 간헐적으로 이동함에 따라 좌우로 간격을 두고 간헐적으로 토출되는 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조방법.
4. The method of claim 3,
The first, second, and third marble resin compositions M1, M2, and M3 are intermittently opened and closed by the nozzle 31 of the first, second, and third dispensers 30a, 30b, 30c by an on-off valve operation. It is intermittently discharged at a distance from the front and rear, and as the nozzles 31 of the first, second, and third dispensers 30a, 30b, and 30c are intermittently moved left and right by the moving means 40, they are intermittently spaced from side to side. A method of manufacturing artificial marble with a clear marble pattern that is intermittently discharged.
 제4항에 있어서,
상기 제2마블 수지 조성물(M2)은 상기 베이스 수지 조성물(B) 및 제1마블 수지 조성물(M1)과 다른 컬러로 착색되고, 상기 제3마블 수지 조성물(M3)은 상기 베이스 수지 조성물(B), 제1마블 수지 조성물(M1) 및 제2마블 수지 조성물(M2)과 다른 컬러로 착색되는 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조방법.
5. The method of claim 4,
The second marble resin composition (M2) is colored in a color different from that of the base resin composition (B) and the first marble resin composition (M1), and the third marble resin composition (M3) is the base resin composition (B) , A method for manufacturing artificial marble in which a marble pattern colored in a color different from that of the first marble resin composition (M1) and the second marble resin composition (M2) is clear.
 제3항에 있어서,
상기 제1,2,3마블패턴(200a, 200b, 200c)은, 가로 폭 및 세로 폭이 0.2-3cm로 형성되고, 그 총 개수가 상기 베이스 수지 조성물(B) 30cm×30cm의 단위 표면적 내에 50~100개인 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조방법.
4. The method of claim 3,
The first, second, and third marble patterns 200a, 200b, and 200c are formed to have a horizontal width and a vertical width of 0.2-3 cm, and the total number is 50 within a unit surface area of 30 cm × 30 cm of the base resin composition (B) A manufacturing method of artificial marble with a clear marble pattern of ~100 pieces.
 제1항 내지 제6항 중의 어느 하나 제조방법으로 제조되는 인조대리석으로서,
베이스 수지 조성물(B)로 형성되는 바탕부(100) 내에 형성되되, 제1마블 수지 조성물(M1)로 형성되고, 가로 폭 및 세로 폭이 0.2-3cm로 형성되는 제1마블패턴(200a)을 포함하는 인조대리석.
An artificial marble manufactured by the manufacturing method of any one of claims 1 to 6,
A first marble pattern (200a) formed in the base part 100 formed of the base resin composition (B), formed of the first marble resin composition (M1), and having a horizontal width and a vertical width of 0.2-3 cm. including artificial marble.
 어느 하나의 컬러로 착색된 베이스 수지 조성물(B)이 수용되는 몰드(10);
상기 베이스 수지 조성물(B)이 수용된 상기 몰드(10)를 일 방향으로 이동시키는 컨베이어(20);
상기 컨베이어(20) 상부에 배치되되, 선단이 상기 몰드(10)의 바닥면에서 0.1~2.5cm 위쪽에 위치하는 노즐(31)을 통해 상기 베이스 수지 조성물(B)과 다른 컬러로 착색된 제1마블 수지 조성물(M1)을 상기 몰드(10)에 수용된 상기 베이스 수지 조성물(B)에 간헐적 토출시키는 제1디스펜서(30a); 및
상기 제1디스펜서(30a)를 상하 및 좌우로 구동시켜주는 가동부(41) 및 상기 가동부(41)를 이동 가능하게 지지해주는 지지부(42)로 구성되어 상기 노즐(31)이 상하 및 좌우로 이동되면서 상기 제1마블 수지 조성물(M1)이 상기 베이스 수지 조성물(B)에 토출될 수 있도록 해주는 이동수단(40);을 포함하는 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조장치.
a mold 10 in which the base resin composition (B) colored in any one color is accommodated;
a conveyor 20 for moving the mold 10 in which the base resin composition (B) is accommodated in one direction;
Doedoe disposed on the conveyor 20, the tip of the first colored in a different color from the base resin composition (B) through the nozzle 31 positioned 0.1 ~ 2.5cm above the bottom surface of the mold 10 a first dispenser (30a) for intermittently discharging the marble resin composition (M1) to the base resin composition (B) accommodated in the mold (10); and
It consists of a movable part 41 for driving the first dispenser 30a up and down and left and right and a support part 42 for movably supporting the movable part 41 so that the nozzle 31 is moved up and down and left and right. An apparatus for manufacturing artificial marble having a clear marble pattern, including a moving means (40) that allows the first marble resin composition (M1) to be discharged to the base resin composition (B).
 제8항에 있어서,
상기 컨베이어(20) 상부에 배치되어 노즐(31)을 통해 제2마블 수지 조성물(M2)을 상기 몰드(10)에 수용된 상기 베이스 수지 조성물(B)에 간헐적으로 토출시키는 제2디스펜서(30b)를 더 포함하는 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조장치.
9. The method of claim 8,
A second dispenser (30b) disposed on the conveyor (20) and intermittently discharging the second marble resin composition (M2) through the nozzle (31) to the base resin composition (B) accommodated in the mold (10) An artificial marble manufacturing device with a clear marble pattern including more.
 제9항에 있어서,
상기 컨베이어(20) 상부에 배치되어 노즐(31)을 통해 제3마블 수지 조성물(M3)을 상기 몰드(10)에 수용된 상기 베이스 수지 조성물(B)에 간헐적으로 토출시키는 제3디스펜서(30c)를 더 포함하는 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조장치.
10. The method of claim 9,
A third dispenser (30c) disposed on the conveyor (20) and intermittently discharging the third marble resin composition (M3) through the nozzle (31) to the base resin composition (B) accommodated in the mold (10) An artificial marble manufacturing device with a clear marble pattern including more.
 제10항에 있어서,
상기 제1,2,3디스펜서(30a, 30b, 30c)는, 전후로 간격을 두고 이격 배치되되, 상기 컨베이어(20)에 안착된 이동 전의 상기 몰드(10) 선단으로부터 순차적으로 0-5cm 후방, 3-8cm 후방, 5-10cm 후방에 배치되는 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조장치.
11. The method of claim 10,
The first, second, and third dispensers 30a, 30b, and 30c are spaced apart from the front and rear, and are sequentially 0-5 cm rearward from the tip of the mold 10 before moving, seated on the conveyor 20, 3 -8cm rear, 5-10cm rear artificial marble manufacturing device with clear marble pattern.
 제11항에 있어서,
상기 제1,2,3디스펜서(30a, 30b, 30c)는 상기 노즐(31)을 간헐적으로 개폐시키는 온오프밸브를 포함하는 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조장치.
12. The method of claim 11,
The first, second, and third dispensers (30a, 30b, 30c) include an on-off valve for intermittently opening and closing the nozzle (31), an artificial marble manufacturing apparatus having a clear marble pattern.
 제12항에 있어서,
상기 노즐(31)은, 상기 제1,2,3디스펜서(30a, 30b, 30c)에 연결되는 유연 재질의 관체(32)를 포함하고, 상기 관체(32)를 포함하는 상기 노즐(31)은 상기 제1,2,3디스펜서(30a, 30b, 30c) 각각에 복수로 설치되는 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조장치.
13. The method of claim 12,
The nozzle 31 includes a tube body 32 of a flexible material connected to the first, second, and third dispensers 30a, 30b, 30c, and the nozzle 31 including the tube body 32 is An apparatus for manufacturing an artificial marble having a clear marble pattern, which is installed in plurality in each of the first, second, and third dispensers (30a, 30b, 30c).
 제12항에 있어서,
상기 노즐(31)은 그 내경이 0.2-1.5cm로 형성된 것인 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조장치.
13. The method of claim 12,
The nozzle 31 is an artificial marble manufacturing apparatus having a clear marble pattern that is formed with an inner diameter of 0.2-1.5 cm.
 제11항에 있어서,
상기 제2,3디스펜서(30b, 30c)의 노즐(31) 선단은 상기 몰드(10)의 바닥면에서 0.1~2.5cm 위쪽에 위치하는 것인 마블패턴이 선명한 인조대리석 제조장치.12. The method of claim 11,
The tip of the nozzle 31 of the second and third dispensers 30b and 30c is positioned 0.1 to 2.5 cm above the bottom surface of the mold 10. An apparatus for manufacturing an artificial marble having a clear marble pattern.
KR1020210078063A 2018-01-17 2021-06-16 manufacturing device of an artificial marble and manufacturing method of an artificial marble and artificial marble by the same KR20210075953A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210078063A KR20210075953A (en) 2018-01-17 2021-06-16 manufacturing device of an artificial marble and manufacturing method of an artificial marble and artificial marble by the same

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180006196A KR20190087859A (en) 2018-01-17 2018-01-17 manufacturing device of an artificial marble and manufacturing method of an artificial marble and artificial marble by the same
KR1020210078063A KR20210075953A (en) 2018-01-17 2021-06-16 manufacturing device of an artificial marble and manufacturing method of an artificial marble and artificial marble by the same

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180006196A Division KR20190087859A (en) 2018-01-17 2018-01-17 manufacturing device of an artificial marble and manufacturing method of an artificial marble and artificial marble by the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20210075953A true KR20210075953A (en) 2021-06-23

Family

ID=67468818

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180006196A KR20190087859A (en) 2018-01-17 2018-01-17 manufacturing device of an artificial marble and manufacturing method of an artificial marble and artificial marble by the same
KR1020210078063A KR20210075953A (en) 2018-01-17 2021-06-16 manufacturing device of an artificial marble and manufacturing method of an artificial marble and artificial marble by the same

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180006196A KR20190087859A (en) 2018-01-17 2018-01-17 manufacturing device of an artificial marble and manufacturing method of an artificial marble and artificial marble by the same

Country Status (1)

Country Link
KR (2) KR20190087859A (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102291282B1 (en) * 2019-11-05 2021-08-18 곽재곤 Artificial marble pattern forming manufacturing apparatus

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20070025445A (en) 2005-09-02 2007-03-08 주식회사 엘지화학 Artificial marble having natural marble pattern and process for preparing the same

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20070025445A (en) 2005-09-02 2007-03-08 주식회사 엘지화학 Artificial marble having natural marble pattern and process for preparing the same

Also Published As

Publication number Publication date
KR20190087859A (en) 2019-07-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20180194164A1 (en) Stratified and agglomerated artificial stone article
KR100719831B1 (en) The manufacture method of pattern-articial marble
KR101259219B1 (en) Process for preparing artificial marble having marble pattern
JP2008524020A (en) Artificial marble having crack pattern and manufacturing method thereof
KR102371586B1 (en) Manufacturing method of engineered stone with wave pattern
KR20070025445A (en) Artificial marble having natural marble pattern and process for preparing the same
KR20210075953A (en) manufacturing device of an artificial marble and manufacturing method of an artificial marble and artificial marble by the same
KR100975380B1 (en) Artificial marble and preparation method thereof
KR102274067B1 (en) manufacturing device of an artificial marble and manufacturing method of an artificial marble using the same
KR102280748B1 (en) an artificial marble having marble patterns
KR102288019B1 (en) A method and a device for manufacturing artificial marble having stripe pattern
KR101770878B1 (en) Apparatus for making imitation marble and manufacturing method of imitation marble using the same
KR20080064758A (en) A transparent stripe chip, an artificial marble comprising the same and preparation method thereof
KR100989406B1 (en) Manufacturing method of chip for scagliola
KR100619635B1 (en) Artificial Marble Having Non-Direction Pattern and Method for Continuous Preparing the Same
KR20230101709A (en) Artificial marble and manufacturing method thereof
KR20070113454A (en) Stripe artificial marble and process for preparing the same
KR20100092101A (en) Artificial marble using extra-large chip and process for preparing the same
KR100532164B1 (en) Method of Manufacturing Artificial Marble Having 3-dimension Bubbled Pattern
KR20090115533A (en) The manufacture method of pattern-articial marble
KR20240101014A (en) Manufacturing method of artificial marble
KR100875078B1 (en) Artificial marble having a pattern in the stripes and its manufacturing method
KR100933910B1 (en) Braille block and method for producing the same
KR101101634B1 (en) Artificial marble having texture pattern in stripe pattern
KR20100079972A (en) Apparatus and method for supplying liquid raw material of scagliola

Legal Events

Date Code Title Description
A107 Divisional application of patent
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
X091 Application refused [patent]
AMND Amendment
X601 Decision of rejection after re-examination