KR20210024558A - Continuous method of making glass ribbon and glass article as-drawn therefrom - Google Patents
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Abstract
유리 리본을 제조하기 위한 방법으로서, 상기 방법은: 캐스트 유리를 형성하기 위해 유리를 약 100 mm 내지 약 5 m의 폭(Wcast) 및 약 1 mm 내지 약 500 mm의 두께(t)를 갖는 캐스터(caster) 내로 유동시키는 단계; 상기 캐스터 내의 캐스트 유리를 적어도 108 Poise의 점도로 냉각시키는 단계; 상기 캐스트 유리를 캐스터로부터 운반하는 단계; 상기 캐스트 유리를 캐스터로부터 인발하는 단계, 상기 인발은 상기 캐스트 유리를 107 Poise 미만의 평균 점도로 가열하는 단계 및 상기 캐스트 유리를 Wcast 미만인 폭(Wribbon)을 갖는 유리 리본 내로 인발하는 단계를 포함하며; 및 이후에 상기 유리 리본을 주위(ambient) 온도로 냉각하는 단계를 포함한다. 또한, 상기 냉각, 운반 및 인발 단계 동안 캐스트 유리는 약 50 ℃ 이상에 있다. A method for manufacturing a glass ribbon, the method comprising: a caster having a width (W cast ) of about 100 mm to about 5 m and a thickness (t) of about 1 mm to about 500 mm to form a cast glass. flowing into (caster); Cooling the cast glass in the caster to a viscosity of at least 10 8 Poise; Conveying the cast glass from the caster; Drawing the cast glass from the caster, the drawing comprises heating the cast glass to an average viscosity of less than 10 7 Poise and drawing the cast glass into a glass ribbon having a width (W ribbon ) less than W cast. Includes; And thereafter cooling the glass ribbon to ambient temperature. Also, the cast glass is above about 50° C. during the cooling, conveying and drawing steps.
Description
본 출원은 2018년 7월 17일에 출원된 네덜란드 특허 출원 번호 제 2021322 호에 대한 우선권의 이익을 주장하며, 이의 내용은 본원에 의존되고 전체가 참조로서 본원에 포함된다. This application claims the benefit of priority to Dutch Patent Application No. 2021322, filed on July 17, 2018, the content of which is dependent on this application and is incorporated herein by reference in its entirety.
본 개시는 일반적으로 유리 리본을 제조하는 방법에 관한 것이고, 보다 구체적으로, 비교적 낮은 액상선 점도를 갖는 유리 조성물로부터 높은 치수 안정성을 갖는 유리 리본을 제조하는 연속적인 방법에 관한 것이다.The present disclosure relates generally to a method of making a glass ribbon, and more particularly, to a continuous method of making a glass ribbon having high dimensional stability from a glass composition having a relatively low liquidus viscosity.
낮은 액상선 점도 및 높은 굴절률을 갖는 유리 조성물로부터 렌즈 및 다른 광학 구성 요소를 제조하는 통상적인 방법은 이들 방법으로부터 발생하는 용융 유리의 낮은 사용 효율로 인해 매우 비싸다. 일반적으로, 이들 방법은 조성물을 최종 제품보다 훨씬 더 두꺼운 긴 바(bar) 내로 캐스팅하는 것을 포함한다. 즉, 이들 형성 방법은 최종 제품 형태 및 치수를 얻기 위한 추가적인 처리를 요구하는 캐스트 바를 생성한다.Conventional methods of making lenses and other optical components from glass compositions with low liquidus viscosity and high refractive index are very expensive due to the low efficiency of use of molten glass resulting from these methods. In general, these methods involve casting the composition into long bars that are much thicker than the final product. In other words, these forming methods produce cast bars that require additional processing to obtain the final product shape and dimensions.
이들 캐스트 바의 추가적인 처리는 종종 광범위하다. 특히, 캐스트 바는 이후 디스크로 절단된다. 다음으로, 디스크는 이의 외부 직경을 최종 제품 렌즈의 외부 치수로 폴리싱하기 위해 연마된다. 디스크는 이후 최종 렌즈 제품의 두께로 와이어 절단되고, 이후 최종 제품 렌즈의 요구되는 휨(warp) 및 치수 균일성을 달성하기 위해 상당한 그라인딩 및 폴리싱 단계에 도입된다. 결과적으로, 이들 유리 조성물로부터 렌즈 및 다른 광학 구성 요소를 형성하기 위한 통상적인 공정은 비용이 높고 용융 유리의 사용 효율이 낮다.The further processing of these cast bars is often extensive. In particular, the cast bar is then cut into disks. Next, the disc is polished to polish its outer diameter to the outer dimension of the final product lens. The disk is then wire cut to the thickness of the final lens product and then introduced into a significant grinding and polishing step to achieve the required warp and dimensional uniformity of the final product lens. As a result, conventional processes for forming lenses and other optical components from these glass compositions are expensive and the use efficiency of molten glass is low.
본 개시의 몇몇 관점에 따르면, 유리 리본을 제조하기 위한 방법이 제공되며, 상기 방법은: 캐스트 유리를 형성하기 위해 유리를 약 100 mm 내지 약 5 m의 폭(Wcast) 및 약 1 mm 내지 약 500 mm의 두께(t)를 갖는 캐스터(caster) 내로 유동시키는 단계; 상기 캐스터 내의 캐스트 유리를 적어도 108 Poise의 점도로 냉각시키는 단계; 상기 캐스트 유리를 캐스터로부터 운반하는 단계; 상기 캐스트 유리를 캐스터로부터 인발하는 단계, 상기 인발은 상기 캐스트 유리를 107 Poise 미만의 평균 점도로 가열하는 단계 및 상기 캐스트 유리를 Wcast 미만인 폭(Wribbon)을 갖는 유리 리본 내로 인발하는 단계를 포함하며; 및 이후에 상기 유리 리본을 주위(ambient) 온도로 냉각하는 단계를 포함한다. 또한, 상기 냉각, 운반 및 인발 단계 동안 캐스트 유리는 약 50 ℃ 이상에 있다.According to some aspects of the present disclosure, a method for manufacturing a glass ribbon is provided, the method comprising: a width W cast of about 100 mm to about 5 m and a width of about 1 mm to about 5 m to form a cast glass. Flowing into a caster having a thickness t of 500 mm; Cooling the cast glass in the caster to a viscosity of at least 10 8 Poise; Conveying the cast glass from the caster; Drawing the cast glass from the caster, the drawing comprises heating the cast glass to an average viscosity of less than 10 7 Poise and drawing the cast glass into a glass ribbon having a width (W ribbon ) less than W cast. Includes; And thereafter cooling the glass ribbon to ambient temperature. Also, the cast glass is above about 50° C. during the cooling, conveying and drawing steps.
본 개시의 몇몇 관점에 따르면, 유리 물품이 제공되며, 상기 유리 물품은: 약 1 mm 내지 약 25 mm의 두께 및 25 mm 내지 약 200 mm의 폭을 갖는 폴리싱되지 않은(unpolished) 유리 리본을 포함한다. 상기 유리 리본은 보로실리케이트 유리, 알루미노보로실리케이트 유리, 알루미노실리케이트 유리, 플루오로실리케이트 유리, 포스포실리케이트 유리, 플루오로포스페이트 유리, 설포포스페이트 유리, 게르마네이트 유리, 바나데이트 유리, 포스페이트 유리 및 보레이트 유리로 이루어지는 군으로부터 선택되는 조성물을 포함한다. 또한, 상기 조성물은 5×105 Poise 미만의 상부 액상선 점도를 포함한다. 또한, 상기 유리 리본은 약 0.01 ㎛ 내지 약 50 ㎛의 두께 변화 및 약 0.01㎛ 내지 약 200 ㎛의 휨을 갖는 유리 웨이퍼로 절단될 수 있다.According to some aspects of the present disclosure, a glass article is provided, the glass article comprising: an unpolished glass ribbon having a thickness of about 1 mm to about 25 mm and a width of 25 mm to about 200 mm. . The glass ribbon is borosilicate glass, aluminoborosilicate glass, aluminosilicate glass, fluorosilicate glass, phosphosilicate glass, fluorophosphate glass, sulfophosphate glass, germanate glass, vanadate glass, phosphate glass and It includes a composition selected from the group consisting of borate glass. In addition, the composition comprises an upper liquidus viscosity of less than 5×10 5 Poise. In addition, the glass ribbon may be cut into a glass wafer having a thickness change of about 0.01 μm to about 50 μm and a warp of about 0.01 μm to about 200 μm.
본 개시의 몇몇 관점에 따르면, 유리 물품이 제공되며, 상기 유리 물품은: 약 1 mm 내지 약 25 mm의 두께 및 100 mm 내지 약 200 mm의 폭을 갖는 폴리싱되지 않은 유리 웨이퍼를 포함한다. 상기 리본은 보로실리케이트 유리, 알루미노보로실리케이트 유리, 알루미노실리케이트 유리, 플루오로실리케이트 유리, 포스포실리케이트 유리, 플루오로포스페이트 유리, 설포포스페이트 유리, 게르마네이트 유리, 바나데이트 유리, 포스페이트 유리 및 보레이트 유리로 이루어지는 군으로부터 선택되는 조성물을 포함한다. 또한, 상기 조성물은 5×105 Poise 미만의 상부 액상선 점도를 더욱 포함한다. 또한, 상기 유리 웨이퍼는 약 0.01 ㎛ 내지 약 50 ㎛의 두께 변화 및 약 0.01㎛ 내지 약 200 ㎛의 휨을 갖는다.According to some aspects of the present disclosure, a glass article is provided, the glass article comprising: an unpolished glass wafer having a thickness of about 1 mm to about 25 mm and a width of 100 mm to about 200 mm. The ribbon is a borosilicate glass, aluminoborosilicate glass, aluminosilicate glass, fluorosilicate glass, phosphosilicate glass, fluorophosphate glass, sulfophosphate glass, germanate glass, vanadate glass, phosphate glass and borate. It includes a composition selected from the group consisting of glass. In addition, the composition further comprises an upper liquidus viscosity of less than 5×10 5 Poise. In addition, the glass wafer has a thickness change of about 0.01 μm to about 50 μm and a warp of about 0.01 μm to about 200 μm.
추가적인 특징 및 이점은 다음의 상세한 설명에서 설명될 것이며, 이는 그 설명으로부터 본 기술분야의 기술자에게 매우 명백하거나 다음의 상세한 설명, 청구 범위 및 첨부된 도면을 포함하는 본원에 기재된 구체예를 실시함으로써 인식될 것이다.Additional features and advantages will be described in the following detailed description, which is very obvious to those skilled in the art from that description or recognized by practicing the embodiments described herein, including the following detailed description, claims, and accompanying drawings. Will be.
전술한 일반적인 설명 및 다음의 상세한 설명 모두는 다양한 구체예를 설명하고 청구된 주제의 본질 및 특성을 이해하기 위한 개요 또는 프레임워크를 제공하는 의도임이 이해되어야 한다.It is to be understood that both the foregoing general description and the following detailed description are intended to describe various embodiments and provide an overview or framework for understanding the nature and nature of the claimed subject matter.
첨부된 도면은 다양한 구체예의 추가적인 이해를 제공하기 위해 포함되며, 본 명세서에 통합되어 명세서의 일부를 구성한다. 도면은 본원에 기재된 다양한 구체예를 예시하고, 설명과 함께 청구된 주제의 원리 및 작동을 설명하는 역할을 한다.The accompanying drawings are included to provide a further understanding of various embodiments, and are incorporated herein to form a part of the specification. The drawings illustrate various embodiments described herein and together with the description serve to explain the principles and operation of the claimed subject matter.
다음은 수반된 도면 내의 도면에 대한 설명이다. 도면은 반드시 축척일 필요는 없고, 도면의 특정 특징 및 특정 뷰(view)는 명확성 및 간결함을 위해 축척 또는 개략적으로 과장되어 표시될 수 있다.
도면에서:
도 1은 구체예에 따른 유리 리본을 제조하는 방법의 개략도이다.
도 2는 구체예에 따른 유리 리본을 제조하는 방법에 따라 사용될 수 있는 장치, 특히 오리피스(orifice), 캐스터 및 가열 장치를 갖는 용융 장치의 개략도이다.
도 3a 및 3b는 구체예에 따른 유리 리본을 제조하는 방법에서 사용되는 유리 유동용 아이소파이프(isopipe)를 갖는 오버플로우 형성 장치의 개략도이다.
전술한 요약 및 특정 발명 기술에 대한 다음의 상세한 설명은 도면과 함께 읽힐 때 보다 잘 이해될 것이다. 청구 범위는 도면에 도시된 정렬(arrangement) 및
수단으로서 제한되지 않음이 이해되어야 한다. 또한, 도면에 표시된 외관은 장치의 명시된 기능을 달성하기 위해 사용될 수 있는 많은 장식용 외관 중 하나이다.The following is a description of the drawings in the accompanying drawings. The drawings are not necessarily to scale, and certain features and specific views of the drawings may be scaled or schematically exaggerated for clarity and brevity.
In the drawing:
1 is a schematic diagram of a method of manufacturing a glass ribbon according to an embodiment.
Fig. 2 is a schematic diagram of a device that can be used according to a method of manufacturing a glass ribbon according to an embodiment, in particular a melting device having an orifice, a caster and a heating device.
3A and 3B are schematic diagrams of an overflow forming apparatus having an isopipe for glass flow used in a method of manufacturing a glass ribbon according to an embodiment.
The foregoing summary and the following detailed description of specific inventive techniques will be better understood when read in conjunction with the drawings. The claims are based on the arrangement shown in the drawings and
It should be understood that as a means, not limited. In addition, the appearance shown in the drawings is one of many decorative appearances that can be used to achieve the specified function of the device.
추가적인 특징 및 이점은 다음의 상세한 설명에서 설명될 것이며, 이는 상기 설명으로부터 본 기술 분야의 기술자에게 명백하거나, 다음의 설명, 청구 범위 및 첨부된 도면에 기재된 바와 같은 구체예를 실시함으로써 인식될 것이다.Additional features and advantages will be described in the following detailed description, which will be apparent to those skilled in the art from the above description, or will be recognized by practicing the embodiments as set forth in the following description, claims, and accompanying drawings.
본원에 사용된 바와 같이, 용어 "및/또는"은 2 이상의 항목의 목록에서 사용될 때, 나열된 항목 중 임의의 하나가 그 자체로 사용될 수 있거나, 나열된 항목 중 2 이상의 임의의 조합이 사용될 수 있음을 의미한다. 예를 들어, 조성물이 성분 A, B, 및/또는 C를 함유하는 것으로 기재된다면, 상기 조성물은 A만; B만; C만; A 및 B의 조합; A 및 C의 조합; B 및 C의 조합; 또는 A, B 및 C의 조합을 함유할 수 있다.As used herein, the term “and/or” when used in a list of two or more items indicates that any one of the listed items may be used by itself, or any combination of two or more of the listed items may be used. it means. For example, if the composition is described as containing components A, B, and/or C, the composition may contain only A; B only; C only; A combination of A and B; A combination of A and C; A combination of B and C; Or a combination of A, B and C.
이 문서에서, 제1 및 제2, 탑(top) 및 버텀(bottom) 등과 같은 관계 용어는 개체 또는 동작 사이의 실제 관계 또는 순서를 반드시 요구하거나 암시하지 않고 하나의 개체 또는 동작을 다른 개체 또는 동작과 구별하기 위하여만 사용된다.In this document, relational terms such as first and second, top and bottom, etc. do not necessarily require or imply an actual relationship or order between the objects or actions, and refer to one object or action as another object or action. It is used only to distinguish it from.
본 개시의 수정은 본 기술 분야의 기술자 및 본 개시를 제조 또는 사용하는 자에게 발생할 것이다. 따라서, 도면에 도시되고 전술한 구체예는 단지 예시의 목적을 위한 것이며 균등물 이론을 포함하는 특허법의 원리에 따라 해석되는 다음의 청구항에 의해 정의되는 본 개시의 범위를 제한하려는 것이 아님이 이해된다. Modifications of the present disclosure will occur to those skilled in the art and to those who make or use the present disclosure. Accordingly, it is understood that the embodiments shown in the drawings and described above are for illustrative purposes only and are not intended to limit the scope of the present disclosure as defined by the following claims, which are interpreted in accordance with the principles of patent law, including the theory of equivalents. .
본원에 사용된 바와 같이, 용어 "약"은 양, 크기, 제형, 파라미터, 및 다른 양 및 특성이 정확하지 않고 정확할 필요는 없으나, 원하는 대로, 허용 오차, 전환 인자, 반올림, 측정 오차 등, 및 본 기술 분야의 기술자에게 공지된 다른 인자를 반영하여 근사하거나 및/또는 보다 크거나 작을 수 있음을 의미한다. 용어 "약"이 값 또는 범위의 끝점을 설명하는데 사용되는 경우, 본 개시는 지칭된 특정 값 또는 끝점을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 명세서에서 수치 값 또는 범위의 끝점이 "약"을 언급하는지 여부에 관계 없이, 수치 값 또는 범위의 끝점은 두 구체예: "약"에 의해 수정되는 것, 및 "약"에 의해 수정되지 않는 것을 포함하는 것으로 의도도된다. 각 범위의 끝점은 다른 끝점과 관련하여 및 다른 끝점과 독립적으로 모두 중요하다는 것이 더욱 이해될 것이다.As used herein, the term “about” means that amounts, sizes, formulations, parameters, and other quantities and properties are not accurate and need not be accurate, but as desired, tolerances, conversion factors, rounding off, measurement errors, etc., and It is meant that it may be approximated and/or greater or less than by reflecting other factors known to those skilled in the art. When the term “about” is used to describe an endpoint of a value or range, it is to be understood that the present disclosure includes the specific value or endpoint referred to. Regardless of whether the end point of a numerical value or range in the specification refers to “about”, the end point of the numerical value or range is modified by two embodiments: “about” and not modified by “about”. It is also intended to include. It will be further understood that the endpoints of each range are important both in relation to the other endpoints and independently of the other endpoints.
본원에 사용되는 용어 "실질적인", "실질적으로" 및 이들의 변형은 설명된 특징이 값 또는 설명과 동일하거나 거의 동일하다는 것을 지적하기 위한 의도이다. 예를 들어, "실질적으로 평면"인 표면은 평면 또는 거의 평면인 표면을 지칭한다. 또한, "실질적으로"는 두 값이 동일하거나 거의 동일하다는 것을 나타내는 의도이다. 몇몇 구체예에서, "실질적으로"는 서로 약 5% 이내, 또는 서로 약 2% 이내와 같이 서로 약 10% 이내인 값을 지칭할 수 있다. The terms “substantially”, “substantially” and variations thereof, as used herein, are intended to indicate that the described feature is the same or nearly identical to the value or description. For example, a “substantially planar” surface refers to a planar or nearly planar surface. Also, "substantially" is intended to indicate that the two values are the same or about the same. In some embodiments, “substantially” can refer to values that are within about 10% of each other, such as within about 5% of each other, or within about 2% of each other.
본원에 사용된 방향 용어-예를 들어, 위, 아래, 오른쪽, 왼쪽, 앞, 뒤, 탑, 버텀-는 도면을 참조하면만 만들어지며 절대적인 방향을 의미하는 의도는 아니다.Directional terms used herein-for example, up, down, right, left, front, back, top, bottom-are made only with reference to the drawings and are not intended to imply an absolute direction.
본원에 사용된 용어 "상기(the)", "하나의(a, an)"는 "적어도 하나"를 의미하며, 명시적으로 달리 지시되지 않는 한 "단 하나"로 제한되어서는 안된다. 따라서, 예를 들어, "구성 요소"에 대한 언급은 문맥 상 명확하게 달리 지시되지 않는 한 2 이상의 이러한 구성 요소를 갖는 구체예를 포함한다.As used herein, the terms “the” and “a, an” mean “at least one” and should not be limited to “only one” unless explicitly indicated otherwise. Thus, for example, reference to “a component” includes embodiments having two or more such components unless the context clearly dictates otherwise.
본원에 사용된 바와 같이, 용어 "상부 액상선 점도" 및 "상부 액상선 온도"는 유리가 결정 없는 균일한 용융물을 형성하는 본 개시의 물품 및 방법에 사용되는 유리의 각각의 점도 및 온도를 지칭한다. 또한, 용어 "상부 액상선 점도" 및 "액상선 점도"는 본원에서 상호 교환적으로 사용되며; 용어 "상부 액상선 온도" 및 "액상선 온도" 또한 본원에서 상호 교환적으로 사용된다.As used herein, the terms "upper liquidus viscosity" and "upper liquidus temperature" refer to the respective viscosity and temperature of the glass used in the articles and methods of the present disclosure where the glass forms a crystal-free, uniform melt. do. Also, the terms "upper liquidus viscosity" and "liquidus viscosity" are used interchangeably herein; The terms "upper liquidus temperature" and "liquidus temperature" are also used interchangeably herein.
본원에서 또한 사용되는 바와 같이, "하부 액상선 점도" 및 "하부 액상선 온도"는 유리가 일 이상의 결정상의 성장에 민감할 수 있는 본 개시의 물품 및 방법에 사용되는 유리의 각각의 점도 및 온도를 지칭한다.As also used herein, “lower liquidus viscosity” and “lower liquidus temperature” refer to the viscosity and temperature of each of the glass used in the articles and methods of the present disclosure at which the glass may be sensitive to the growth of one or more crystalline phases. Refers to.
본원에 사용된 바와 같이, 본 개시의 물품 및 방법에 사용되는 유리의 "실투 구역(devitrification zone)"은 상부 액상선 온도 내지 하부 액상선 온도에 의해 주어지는 온도 범위, 예를 들어, 유리가 0.01 ㎛/분 초과의 일 이상의 결정상의 결정 성장을 경험하는 온도 범위이다.As used herein, the "devitrification zone" of the glass used in the articles and methods of the present disclosure is a temperature range given by the upper liquidus temperature to the lower liquidus temperature, for example, the glass is 0.01 μm. It is the temperature range that experiences crystal growth of more than one crystalline phase per minute.
본원에 사용된 바와 같이, 본 개시의 물품 및 방법에 사용되는 유리의 "평균 점도"는 언급된 공정 또는 방법 단계 동안 물품의 영역에 걸쳐 및 본 개시의 기술 분야의 통상의 기술자에 의해 이해되는 분석 및 측정 방법에 따라 평균 점도 값을 확인하기에 충분한 시간 동안 측정될 때의 본 개시의 유리, 유리 리본, 유리 시트 또는 다른 물품의 점도를 지칭한다. As used herein, the "average viscosity" of the glass used in the articles and methods of the present disclosure is analyzed over the area of the article during the stated process or method step and as understood by one of ordinary skill in the art of the present disclosure. And the viscosity of the glass, glass ribbon, glass sheet or other article of the present disclosure as measured for a time sufficient to determine the average viscosity value according to the measurement method.
본원에 사용된 바와 같이, 용어 "연속적인"은 어닐링 또는 재-인발과 같은 임의의 중간 및/또는 냉각-후 열 처리를 필요로 하지 않고, 유리 시트, 리본 및 다른 물품을 형성하도록 배열(configure)된 본 개시의 방법 및 공정을 지칭한다. 달리 말하면, 본 개시의 공정 및 방법은 인발 단계 전에 잘리거나 절단되지 않은 유리 시트, 유리 리본 및 다른 물품을 형성하도록 배열된다.As used herein, the term “continuous” does not require any intermediate and/or post-cooling heat treatment, such as annealing or re-drawing, and is configured to form glass sheets, ribbons, and other articles. ) Refers to the method and process of the present disclosure. In other words, the processes and methods of the present disclosure are arranged to form cut or uncut glass sheets, glass ribbons, and other articles prior to the drawing step.
본원에 사용된 바와 같이, "최대 결정 성장 속도"는 언급된 온도 또는 언급된 온도 범위 내에서 본 개시의 물품 및 방법에 사용되는 유리의 임의의 결정상의 최대 성장 속도를 의미하며, 예를 들어, ㎛/분 단위이다. 본원에서 또한 사용되는 바와 같이, "결정 성장 속도"는 언급된 온도 또는 언급된 온도 범위 내에서의 본 개시의 물품 및 방법에 사용되는 유리의 임의의 결정상의 성장 속도를 의미하며, 예를 들어, ㎛/분 단위이다.As used herein, "maximum crystal growth rate" means the maximum growth rate of any crystal phase of the glass used in the articles and methods of the present disclosure within the stated temperature or within the stated temperature range, for example, It is in units of μm/minute. As also used herein, “crystal growth rate” means the rate of growth of any crystalline phase of the glass used in the articles and methods of the present disclosure within the stated temperature or within the stated temperature range, for example, It is in units of μm/minute.
본원에 사용된 바와 같이, 본 개시의 유리 웨이퍼, 유리 리본, 유리 시트 또는 다른 물품의 "두께 변화"는 1 mm 이상의 두께를 갖는 물품에 대한 기계적 접촉 캘리퍼(caliper) 또는 마이크로미터, 또는 비-접촉 레이저 게이지에 의해 유리 웨이퍼, 유리 리본, 유리 시트, 또는 다른 물품의 최소 및 최대 두께 사이의 차이를 결정함으로써 측정된다.As used herein, a "thickness change" of a glass wafer, glass ribbon, glass sheet, or other article of the present disclosure refers to a mechanical contact caliper or micrometer, or non-contact, to an article having a thickness of at least 1 mm. It is measured by determining the difference between the minimum and maximum thickness of a glass wafer, glass ribbon, glass sheet, or other article by means of a laser gauge.
본원에 사용된 바와 같이, 본 개시의 유리 웨이퍼, 유리 리본, 유리 시트 또는 다른 물품의 "휨"은 물품을 함유하는 두 평면 사이의 거리에서, 물품의 평균 두께를 뺀 값에 따라 측정된다. 실질적으로 직사각형 형상을 갖는 본 개시의 유리 리본, 유리 시트 및 다른 유리 물품에 대해, 휨은 본 개시의 기술 분야의 통상의 기술자에 의해 이해되는 원리에 따라 측정된다. 특히, 휨은 웨이퍼의 외부 반경에서 5 mm를 뺀 것으로 정의되는 직경을 갖는 원형 측정 영역에서 평가된다.As used herein, the "warpage" of a glass wafer, glass ribbon, glass sheet, or other article of the present disclosure is measured as the distance between two planes containing the article, minus the average thickness of the article. For glass ribbons, glass sheets, and other glass articles of the present disclosure having a substantially rectangular shape, warpage is measured according to principles understood by one of ordinary skill in the art of the present disclosure. In particular, warpage is evaluated in a circular measurement area with a diameter defined as the outer radius of the wafer minus 5 mm.
본원에 사용된 바와 같이, 본 개시의 유리, 유리 리본, 유리 시트 또는 다른 물품의 "임계 냉각 속도"는 유리, 유리 시트 또는 다른 물품의 다중 샘플을 다양한, 선택된 냉각 속도에서의 유리 전이 온도로 용융시킴으로써 결정된다. 샘플은 이후 표준 절단 및 폴리싱 기술에 따라 단면-절단되고 벌크 및 이의 자유 표면(즉, 탑, 노출된 표면 및 도가니 등과의 계면을 갖는 버텀 표면)에서의 결정의 존재를 확인하기 위해 100x에서 광학 현미경으로 평가된다. 임계 냉각 속도는 표면 및 벌크에서 결정이 나타나지 않는 최저 냉각 속도를 갖는 샘플에 해당한다.As used herein, the “critical cooling rate” of a glass, glass ribbon, glass sheet, or other article of the present disclosure is the melting of multiple samples of the glass, glass sheet, or other article to a glass transition temperature at various, selected cooling rates. It is determined by The sample is then cross-sectioned according to standard cutting and polishing techniques and optical microscopy at 100x to confirm the presence of crystals in the bulk and its free surface (i.e., the top, the exposed surface and the bottom surface with the interface with the crucible, etc.). It is evaluated as. The critical cooling rate corresponds to the sample with the lowest cooling rate in which no crystals appear on the surface and in the bulk.
일반적으로 도면을 참조하고, 특히 도 1을 참조하면, 예시는 특정 구체예를 설명하기 위한 것이며 청구 범위가 첨부된 본 개시를 제한하는 목적이 아님이 이해될 것이다. 도면은 반드시 축척일 필요는 없으며, 도면의 특정 특징 및 특정 뷰는 명확성 및 간결함을 위해 축척 또는 개략적 형태로 과장되어 표시될 수 있다.With reference to the drawings in general, and in particular to FIG. 1, it will be understood that the illustrations are intended to illustrate specific embodiments and are not intended to limit the disclosure to which the claims are appended. The drawings are not necessarily to scale, and specific features and specific views of the drawings may be exaggerated and displayed in scale or schematic form for clarity and conciseness.
본 개시에 기재된 것은 유리 리본을 제조하는 방법, 및, 보다 구체적으로, 상대적으로 낮은 액상선 점도(예를 들어, < 5×105 Poise) 및/또는 상대적으로 높은 굴절률을 갖는 유리 조성물로부터 렌즈 및 다른 광학 요소용 유리 리본을 제조하는 연속적인 방법이다. 이러한 방법에 따라 생산된 유리 리본은 높은 치수 안정성 및 낮은 왜곡을 가지며, 의도한 최종 제품과 비슷한 최종 치수로 생산된다. 결과적으로, 본 개시의 방법에 따라 생산된 유리 리본은 제한된 후-처리를 요구한다. 결과적으로, 본 개시의 방법은 낮은 액상선 점도를 갖는 유리 조성물로부터 렌즈를 제조하는데 사용되는 통상적인 유리-형성 공정에 비해 상당히 낮은 제조 비용을 갖는다. 또한, 본 개시의 방법은 낮은 폐기물을 갖는, 용융된 대로의(as-melted) 유리의 상당히 많은 이용을 갖는다.Described in the present disclosure is a method of making a glass ribbon, and more specifically, a lens from a glass composition having a relatively low liquidus viscosity (e.g., <5×10 5 Poise) and/or a relatively high refractive index, and It is a continuous method of manufacturing glass ribbons for different optical elements. Glass ribbons produced according to this method have high dimensional stability and low distortion, and are produced with final dimensions similar to the intended final product. Consequently, glass ribbons produced according to the method of the present disclosure require limited post-treatment. As a result, the method of the present disclosure has a significantly lower manufacturing cost compared to conventional glass-forming processes used to manufacture lenses from glass compositions with low liquidus viscosity. In addition, the method of the present disclosure has a significant number of uses of as-melted glass with low waste.
특히, 본 개시의 유리 리본을 제조하는 방법은 임의의 생산-후 어닐링 또는 다른 생산-후 열 처리를 요구하지 않는다는 점에서 연속적이다. 상기 방법은 예를 들어 캐스터를 통해 캐스트 유리를 운반함으로써 실투 구역을 통한 주위 온도 초과의 온도(예를 들어, > 50 ℃)로의 냉각을 사용한다. 유리를 주위 온도 초과의 온도로 냉각한 후, 상기 방법은 실투 구역 내로의 일부 재-가열과 함께 추가적인 인발 단계를 사용한다. 인발 단계는 최종 제품(예를 들어, 높은 굴절률을 갖는 웨이퍼, 렌즈 또는 다른 광학 요소) 내의 의도된 것의 순서의 두께 치수를 갖는 유리 리본을 생성한다. 또한, 인발 단계는 유리하게는 실투의 가능성을 최소화하거나 제거하는 유리 점도 및 온도에서 제한된 기간 동안 수행된다. 또한, 상기 방법은 최종 제품, 예를 들어, 유리 리본, 웨이퍼, 렌즈 또는 다른 유리 물품을 얻기 위해 어닐링 또는 재-인발과 같은 임의의 후-냉각(즉, 주위 온도 도달 후) 열 처리를 요구하지 않는다는 점에서 특히 유리하다. 또한 유리하게는, 본 개시의 방법의 관점은 광학 요소의 휨 및/또는 두께 변화 수준을 충족하기 위해 임의의 추가적인 기계적 처리, 예를 들어, 폴리싱, 그라인딩 등을 요구하지 않는 유리 리본, 웨이퍼, 렌즈 또는 다른 유리 물품을 생성한다. In particular, the method of making the glass ribbon of the present disclosure is continuous in that it does not require any post-production annealing or other post-production heat treatment. The method uses cooling to a temperature above ambient (eg> 50° C.) through the devitrification zone, for example by conveying the cast glass through a caster. After cooling the glass to a temperature above ambient, the method uses an additional drawing step with some re-heating into the devitrification zone. The drawing step produces a glass ribbon with the order of thickness dimensions of the intended one in the final product (eg, a wafer, lens or other optical element having a high index of refraction). In addition, the drawing step is advantageously carried out for a limited period of time at a glass viscosity and temperature that minimizes or eliminates the possibility of devitrification. In addition, the method does not require any post-cooling (i.e. after reaching ambient temperature) heat treatment such as annealing or re-drawing to obtain the final product, e.g., a glass ribbon, wafer, lens or other glass article. It is particularly advantageous in that it does not. Also advantageously, aspects of the method of the present disclosure are glass ribbons, wafers, lenses that do not require any additional mechanical treatment, e.g. polishing, grinding, etc. to meet the level of warpage and/or thickness variation of the optical element. Or other glass articles.
이제 도 1을 참조하면, 유리 리본(30b)을 제조하는 방법(100)의 개략도가 제공된다. 도 1에 도시된 바와 같이, 유리 리본(30b)을 제조하는 방법(100)은 캐스트 유리(30a)를 형성하기 위해 용융 장치(10)로부터의 유리(30)를 약 200 mm 내지 약 5 m의 폭(Wcast)(22) 및 1 mm 이상의 두께(t)(24)(도 2 참조)를 갖는 개스터(20)으로 유동하는 단계(110)를 포함하도록 제공된다. 유리 리본(30b)을 제조하는 방법(100)은 캐스터(20) 내의 캐스트 유리(30a)를 적어도 108 Poise의 점도 및 50 ℃ 이상의 온도로 냉각하는 단계(120)를 더욱 포함한다. 유리 리본(30b)을 제조하는 방법(100)은 또한 캐스터(20)로부터 캐스트 유리(30a)를 운반하는 단계(130)를 포함한다. 또한, 유리 리본(30b)을 제조하는 방법(100)은 107 Poise 미만의 평균 점도에서 캐스트 유리(30a)를 캐스트 유리(30a)의 폭(Wcast)(22) 미만인 폭(Wribbon)을 갖는 유리 리본(30b) 및 최종 두께(24)(t)로 인발하는 단계(140)를 더욱 포함한다. 또한, 인발 단계(140)는 캐스트 유리(30a)를 107 Poise 미만의 평균 점도로 가열하는 단계를 포함한다. 유리 리본(30b)을 제조하는 방법(100)은 유리 리본(30b)을 주위 온도로 냉각하는 단계(150)를 더욱 포함한다.Referring now to FIG. 1, a schematic diagram of a
도 1에 도시된 유리를 유동하는 단계(110)와 관련하여, 적합한 용융 장치(10)는 용융 장치(10)를 떠나 캐스터(20)로 유동할 때 유리(30)의 대략적인 폭인 최대 치수(12)를 갖는 출구 요소(4)를 통해 유리(30)를 전달할 수 있다. 용융 장치(10)로부터 유동하는 유리(30)의 점도에 따라, 이는 출구 요소(4)의 최대 치수(12)와 거의 동일하거나, 이보다 작은 폭을 가질 수 있다. 유리 리본(30b)을 제조하는 방법(100)의 몇몇 구체예에 따르면, 출구 요소(4)의 최대 치수(12)는 캐스터(20)의 폭(Wcast)(22) 이하이다. 유리 리본(30b)을 제조하는 방법(100)의 몇몇 구체예에 따르면, 출구 요소(4)의 최대 치수는 캐스터(20)의 폭(Wcast)(22) 이하이다. 다른 구체예에서, 출구 요소(4)의 최대 치수(12)는 예를 들어, 상대적으로 낮은 상부 액상선 점도(예를 들어, 5 Poise 내지 5000 Poise)를 갖는 유리(30)의 조성물에 대해 캐스터(20)의 폭(Wcast)(22) 초과일 수 있다. 특히, 용융 시 이들 유리는 용융 장치(10)의 출구 요소(4)를 떠날 때 '넥(neck)'이 될 수 있으며, 이는 용융 장치(10)의 출구 요소(4)의 최대 치수(12)보다 작은 치수인 폭(22)을 갖는 캐스터(20)로 유동할 수 있도록 한다. Regarding the
다시 도 1에 도시된 유리 리본(30b)를 제조하는 방법(100)을 참조하면, 용융 장치(10)의 구체예는 출구 요소(4)가 오리피스의 형태의 출구 요소(4)와 함께 유리(30) 또는 용융기를 분배하는 역할을 하는 오버플로우 형성 장치를 포함한다. 후자의 구체예에서, 용융 장치(10)는 유리(30)가 아이소파이프의 형태로 오버플로우하고 출구 요소(4)를 따라 퍼지도록 하는 위어(weir)를 포함할 수 있다(예를 들어, 도 3a 및 3b에 도시된 아이소파이프를 갖는 오버플로우 형성 장치 참조). 이러한 구체예에서, 유리(30)는 아이소파이프의 한쪽 또는 양쪽 모두에 퍼질 수 있다. 전자의 구체예에서, 용융 장치(10)는 용융 장치(10)를 떠날 때 용융 유리(30)를 분배하는 오리피스를 갖는 용융기를 포함할 수 있다. 또한, 본 개시의 기술 분야의 통상의 기술자는 유리 리본(30b)를 제조하는 방법(100)에서의 사용에 적합한 다른 용융 장치(10)를 구성할 수 있다.Referring again to the
도 1에 도시된 유리 리본(30b)을 제조하는 방법(100)의 구체예에서, 유리(30)는 보로실리케이트 유리, 알루미노보로실리케이트 유리, 알루미노실리케이트 유리, 플루오로실리케이트 유리, 포스포실리케이트 유리, 플루오로포스페이트 유리, 설포포스페이트 유리, 게르마네이트 유리, 바나데이트 유리, 보레이트 유리, 및 포스페이트 유리를 포함하는 유리 조성물로부터 유래된다. 구체예에 따르면, 유리(30)는 렌즈 및 광학 구성 요소에 적합한 광학 특성(예를 들어, 투과율, 굴절률, 열팽창계수 등)을 나타내는 임의의 유리 조성물로부터 유래된다. 구체예에 따르면, 유리(30)는 다음의 유리 조성물(본원에서 "유리 A"로 지칭됨)로부터 유래된다: 40.2 mol% SiO2; 2.4 mol% B2O3; 11.3 mol% Li2O; 22.9 mol% CaO; 5.4 mol% La2O3; 3.8 mol% ZrO2; 4.8 mol% Nb2O5; 및 9.3 mol% TiO2. 또 다른 구체예에 따르면, 유리(30)는 다음의 유리 조성물(본원에서 "유리 B"로 지칭됨)로부터 유래된다: 42.7 mol% SiO2; 3.9 mol% B2O3; 4.7 mol% BaO; 26.6 mol% CaO; 4.5 mol% La2O3; 2.2 mol% ZrO2; 6.1 mol% Nb2O5; 및 9.3 mol% TiO2.In a specific example of the
도 1에 도시된 유리 리본(30b)을 제조하는 방법(100)의 몇몇 구체예에서, 유리(30)는 5×105 Poise 미만의 상부 액상선 점도를 포함한다. 몇몇 이행에 따르면, 유리(30)는 5×105 Poise 미만, 1×105 Poise 미만, 5×104 Poise 미만, 1×104 Poise 미만, 5×103 Poise 미만, 1×103 Poise 미만, 5×102 Poise 미만, 100 Poise 미만, 50 Poise 미만, 40 Poise 미만, 30 Poise 미만, 20 Poise 미만, 10 Poise 미만, 및 이들 수준 사이의 모든 상부 액상선 점도를 나타내는 조성물로 구성될 수 있다. 상기 방법의 몇몇 이행에 따르면, 단계(110) 동안의 유리(30)의 상부 액상선 점도는 5 Poise 내지 약 50000 Poise 범위이다. 또한, 상기 방법(100)의 특정 이행에서, 유리(30)는 약 1.5 내지 약 2.1의 굴절률을 갖는 유리 조성물로부터 유래된다. 몇몇 구체예에서, 유리(30)는 약 1.6 내지 약 2.0, 약 1.65 내지 약 1.9, 약 1.7 내지 약 1.85, 및 이들 수준 사이의 모든 굴절률 값을 갖는 유리 조성물로부터 유래된다.In some embodiments of the
다시 도 1에 도시된 유리 리본(30b)을 제조하는 방법(100)의 유동 단계(110)를 참조하면, 이 단계는 유리(30)가 1000 ℃ 이상의 온도에서 유동하도록 수행될 수 있다. 유리(30)는 약 1000 ℃ 내지 약 1500 ℃, 약 1000 ℃ 내지 약 1400 ℃, 약 1000 ℃ 내지 약 1300 ℃, 약 1000 ℃ 내지 약 1250 ℃, 약 1000 ℃ 내지 약 1200 ℃, 약 1000 ℃ 내지 약 1150 ℃, 및 이들 수준 사이의 모든 값의 온도에서 유동될 수 있다. 유동 단계(110)는 유리(30)가 용융 장치(10)로부터 유동할 때 5×104 Poise 미만의 점도를 갖도록 수행될 수 있다. 몇몇 이행에서, 유리(30)는, 용융 장치(10)의 출구 요소(4)를 떠나 캐스터(20) 내로 유동할 때, 5×104 Poise 미만, 1×104 Poise 미만, 5×103 Poise 미만, 1×103 Poise 미만, 5×102 Poise 미만, 100 Poise 미만, 50 Poise 미만, 40 Poise 미만, 30 Poise 미만, 20 Poise 미만, 10 Poise 미만, 및 이들 수준 사이의 모든 점도를 갖는다. 방법(100)의 몇몇 이행에 따르면, 유리(30)는, 용융 장치(10)를 떠날 때, 약 10 Poise 내지 약 1000 Poise, 또는 약 10 Poise 내지 약 50000 Poise 범위인 단계(110) 동안의 점도를 갖는다.Referring back to the
다시 도 1에 도시된 유리 리본(30b)를 제조하는 방법(100)의 단계(110)를 참조하면, 상기 단계는 캐스트 유리(30a)를 형성하기 위해 유리(30)를 약 200 mm 내지 약 5미터(m)의 폭(Wcast)(22) 및 약 1 mm 내지 약 500 mm의 두께(t)(24)를 갖는 캐스터(20)로 유동시키는 단계를 포함한다(도 2 참조). 몇몇 구체예에서, 캐스터(20)의 폭(Wcast)(22)은 약 200 mm 내지 약 5 미터(m), 약 250 mm 내지 약 5 m, 약 300 mm 내지 약 5 m, 약 350 mm 내지 약 5 m, 약 400 mm 내지 약 5 m, 약 450 mm 내지 약 5 m, 약 500 mm 내지 약 5 m, 및 이들 수준 사이의 모든 폭 값이다. 몇몇 이행에 따르면, 캐스터(20)의 폭(Wcast)(22)은 약 200 mm 내지 약 5 m, 약 200 mm 내지 약 4 m, 약 200 mm 내지 약 3 m, 약 200 mm 내지 약 2 m, 약 200 mm 내지 약 1 m, 약 200 mm 내지 약 0.9 m, 약 200 mm 내지 약 0.8 m, 약 200 mm 내지 약 0.7 m, 약 200 mm 내지 약 0.6 m, 약 200 mm 내지 약 0.5 m, 및 이들 수준 사이의 모든 폭 값이다. 또한, 몇몇 구체예에서, 캐스터(20)의 두께(t)(24)(도 2 참조)는 약 1 mm 이상, 약 7 mm 이상, 약 8 mm 이상, 약 9 mm 이상, 약 10 mm 이상, 약 15 mm 이상, 약 20 mm 이상, 약 25 mm 이상, 약 30 mm 이상, 약 35 mm 이상, 약 40 mm 이상, 약 45 mm 이상, 약 50 mm 이상, 또는 약 500 mm 까지의 임의의 두께이다.Referring back to step 110 of the
이제 도 1에 도시된 유리 리본(30b)를 제조하는 방법(100)의 단계(120)를 참조하면, 이 단계는 캐스터(20) 내의 캐스트 유리(30a)를 적어도 108 Poise의 점도 및 50 ℃ 이상의 온도로 냉각하기 위한 것이다. 이와 같이, 캐스터(20)는 다양한 구성, 예를 들어, 본 개시의 통상의 기술자에게 이해되는 바와 같이 추가적인 냉각 능력을 갖거나 갖지 않는 것일 수 있으며, 이는 예를 들어, 트랙터(40)에 의해 도 1에 표시된 화살표의 방향으로 운반될 때, 캐스트 유리(30a)를 50 ℃ 이상의 온도로 냉각하는 이의 실투 구역을 통해 유리(30)를 냉각할 수 있는 것이다. 캐스트 유리(30a)를 냉각하는 단계(120)는 임의의 결정상의 최대 성장 속도가 유리(30a)의 상부 액상선 점도로부터 하부 액상선 점도까지(본원에서 "실투 구역"으로도 지칭됨) 10 ㎛/분 미만이도록 수행될 수 있다. 몇몇 이행에서, 캐스트 유리(30a)를 냉각하는 단계(120)는 실투 구역을 통한 유리(30)의 임의의 결정상의 최대 성장 속도가 10 ㎛/분 미만, 9 ㎛/분 미만, 8 ㎛/분 미만, 7 ㎛/분 미만, 6 ㎛/분 미만, 5 ㎛/분 미만, 4 ㎛/분 미만, 3 ㎛/분 미만, 2 ㎛/분 미만, 1 ㎛/분 미만, 0.5 ㎛/분 미만, 0.1 ㎛/분 미만, 0.01 ㎛/분 미만, 및 이들 속도 미만 및/또는 사이의 모든 성장 속도가 되도록 수행된다. 특히, 유리 A 및 유리 B 조성물에 대한 최대 결정 성장 속도(Vmax)는 각각 1030 ℃에서 약 6 내지 7 ㎛/분 및 1050 ℃에서 약 2 내지 3㎛/분이다. 따라서, 방법(100)의 관점은 유리 A 또는 유리 B 조성물로부터 제조될 때 유리(30)의 결정 성장 속도가 이들 최대 결정 성장 속도(Vmax) 값 미만이 되도록 냉각 단계(120)를 수행하는 것을 포함한다. Referring now to step 120 of the
도 1에 도시된 유리 리본(30b)을 제조하는 방법(100)의 또 다른 관점에 따르면, 냉각 단계(120)는 캐스트 유리(30a)를 캐스트 유리(30a)에 대한 임계 냉각 속도 이상에서 소정의 온도(즉, 50 ℃ 이상)으로 냉각하기 위해 수행될 수 있다. 본원에 사용된 바와 같이, "임계 냉각 속도"는 주어진 유리 조성물의 다중 샘플을 다양한, 선택된 냉각 속도에서 유리 전이 온도까지 용융시킴으로써 결정된다. 샘플은 이후 표준 절단 및 폴리싱 기술에 따라 단면화되고, 벌크 및 자유 표면에서의(즉, 도가니 등과의 계면을 갖는 탑, 노출된 표면 및 버텀 표면) 결정의 존재를 확인하기 위해 100x에서 광학 현미경으로 평가된다. 임계 냉각 속도는 이의 표면 및 벌크에서 결정을 나타내지 않는 최저 냉각 속도를 갖는 샘플에 대응한다.According to another aspect of the
구체예에 따르면, 트랙터(40)는 각가 냉각 단계(120) 및 운반 단계(130) 동안 캐스터(20)를 통해 이동하고 이를 빠져나갈 때 캐스트 유리(30a)의 속도를 제어하기 위한 일 이상의 롤러를 포함한다. 유리하게는, 냉각 단계(120)는 캐스트 유리(30a)가 50 ℃ 아래로 떨어지지 않도록 보장하는 방식으로 수행되어, 상기 방법(100)이 각각 후속의 운반 단계(130) 및 인발 단계(140) 동안 발생하는 추가적인 가열의 관점에서 연속성을 유지할 수 있는 것을 보장한다. 몇몇 관점에서, 냉각 단계(120) 후에 캐스트 유리(30a)에 남아 있는 열 에너지는 각각 후속의 운반 및 인발 단계(130 및 140) 동안 이의 코어로부터 표면을 향해 캐스트 유리(30a)를 재-가열하는데 사용된다. According to an embodiment, the
도 1에 도시된 방법(100)의 몇몇 이행에서, 냉각 단계(120) 동안의 온도는 50 ℃ 이상, 100 ℃ 이상, 150 ℃ 이상, 200 ℃ 이상, 250 ℃ 이상, 300 ℃ 이상, 350 ℃ 이상, 400 ℃ 이상, 450 ℃ 이상, 500 ℃ 이상, 및 이들 하부 임계값 수준 사이의 모든 온도 값이다. 방법(100)의 이행에서, 냉각 단계(120)는 캐스터(20) 내의 캐스트 유리(30a)를 800 ℃ 미만 및 50 ℃ 이상의 온도로 냉각하는 단계를 포함한다. 방법(100)의 이행에 따르면, 유동, 냉각, 풀링(pulling) 및 인발 단계(110 내지 140)는 캐스트 유리(30a)가 50 ℃ 미만의 온도에 도달하지 않도록, 예를 들어, 상기 방법(100)이 연속적인 방식으로 수행될 수 있도록 수행된다. 방법(100)의 몇몇 구체예에 따르면, 냉각(120)의 단계는 캐스터(20) 내의 캐스트 유리(30a)가 적어도 108 Poise, 적어도 5×108 Poise, 적어도 109 Poise, 적어도 5×109 Poise, 적어도 1010 Poise, 적어도 5×1010 Poise 또는 보다 높은 점도에 있도록 수행된다. 유리 리본(30b)를 제조하는 방법(100)의 몇몇 관점에서, 냉각 단계(120)는 캐스트 유리(30a)가 약 650 ℃ 내지 약 750 ℃의 온도 및 적어도 109 Poise의 점도로 유지되도록 수행된다. In some implementations of the
다시 도 1에 도시된 유리 리본(30b)을 제조하는 방법(100)을 참조하면, 상기 방법은 캐스터(20)로부터 캐스트 유리(30a)를 운반하기 위한 운반 단계(130)를 더욱 포함한다. 단계(130)의 운반 관점은 트랙터(40)의 작용에 의해 부분적으로 영향을 받을 수 있다. 특히, 캐스트 유리(30a)는 단계(130) 동안 이동되거나 그렇지 않으면 트랙터(40)에 의해 캐스터(20)의 끝으로부터 가열기(50)의 선택적인 뱅크(bank)(50) 및 에지 롤러(60)를 향해 운반될 수 있다. 존재하는 경우, 가열기(50)는 캐스트 유리(30a)를 107 Poise 미만의 평균 점도로 가열하기 위한 다양한 구조물 및 구성 요소를 포함할 수 있으며, 이는 가열 요소, 유도 가열 요소, 적외선 가열 요소 및 본 개시의 기술 분야의 통상의 기술자에 의해 이해되는 다른 것을 포함하나, 이에 제한되지 않는다. 몇몇 구체예에서, 캐스트 유리(30a)를 107 Poise 미만의 평균 점도로 가열하는 단계(140)의 관점은 캐스트 유리(30a)에 임의의 추가적인 열 에너지를 부여하지 않는다. 예를 들어, 인발 단계(140)는 캐스트 유리(30a)의 코어가 캐스트 유리(30a)의 표면을 적어도 부분적으로 107 Poise 미만의 평균 점도로 가열하도록 수행될 수 있다.Referring back to the
또한, 캐스트 유리(30a)를 인발하는 인발 단계(140)는 캐스트 유리(30a)를 캐스터(20)의 폭(22)(Wcast) 이하인 폭(32)(Wribbon) 및 캐스트 유리(30a)의 두께(t)(24) 이하인 최종 두께(t)를 갖는 유리 리본(30b)로 인발하기 위해 수행된다(도 2 참조). 몇몇 관점에서, 유리 리본(30b)의 폭(32)(Wribbon)은 약 10 mm 내지 약 5 mm, 약 20 mm 내지 약 5 mm, 약 30 mm 내지 약 5 mm, 약 40 mm 내지 약 5 mm, 약 50 mm 내지 약 5 mm, 약 100 mm 내지 약 5 mm, 약 200 mm 내지 약 5 mm, 약 250 mm 내지 약 5 mm, 약 300 mm 내지 약 5 mm, 약 350 mm 내지 약 5 mm, 약 400 mm 내지 약 5 mm, 및 이들 수준 사이의 모든 폭 값이다. 캐스트 유리(30a)를 리본(30b)로 인발하는 단계(140)의 관점은 도 1에 도시된 에지 롤러(60)의 작용에 의해 부분적으로 영향받을 수 있다.In addition, the drawing
또한, 캐스트 유리(30a)를 인발하는 인발 단계(140)는 캐스트 유리(30a)를 캐스터(20)의 폭(22)(Wcast) 이하인 폭(32)(Wribbon) 및 캐스트 유리(30a)의 두께(t)(24) 이하인 최종 두께(t)(34)를 갖는 유리 리본(30b)으로 인발하도록 수행된다. 몇몇 관점에서, 유리 리본(30b)의 폭(32)(Wribbon)은 약 10 mm 내지 약 5 mm, 약 20 mm 내지 약 5 mm, 약 30 mm 내지 약 5 mm, 약 40 mm 내지 약 5 mm, 약 50 mm 내지 약 5 mm, 약 100 mm 내지 약 5 mm, 약 200 mm 내지 약 5 mm, 약 250 mm 내지 약 5 mm, 약 300 mm 내지 약 5 mm, 약 350 mm 내지 약 5 mm, 약 400 mm 내지 약 5 mm, 및 이들 수준 사이의 모든 폭 값이다. 캐스트 유리(30a)를 리본(30b)로 인발하는 단계(140)의 관점은 도 1에 도시된 에지 롤러(60)의 작용에 의해 부분적으로 영향을 받을 수 있다.In addition, the drawing
유리 리본(30b)을 제조하는 방법(100)의 몇몇 이행에 따르면, 인발 단계(140)는 30분 이하 동안(즉, 캐스트 유리(30a) 냉각을 위한 단계(120) 및 캐스트 유리(30a) 운반을 위한 단계(130) 후, 및 유리 리본(30b)의 주위 온도로의 냉각을 위한 후속 단계(150) 이전) 캐스트 유리(30a) 상에서 수행된다. 방법(100)에 따르면, 캐스트 유리(30a)는 단계(110 내지 140) 각각 동안 약 50 ℃ 이상의 온도에 있음이 이해되어야 한다. 몇몇 이행에서, 인발 단계(140)는 30분 이하, 25분 이하, 20분 이하, 15분 이하, 10분 이하, 5분 이하, 및 적어도 30초의 기간을 유지하는 동안 이들 상부 임계값 기간 미만의 모든 기간 동안 수행될 수 있다. 앞서 언급한 바와 같이, 유리 리본(30b)을 제조하는 방법(100)의 관점은 인발 단계(140) 동안의 온도 및/또는 시간이 유리하게는 캐스트 유리(30a)가 임의의 또는 매우 적은 결정화를 경험하지 않으면서, 캐스트 유리(30a)를 이 단계의 인발 관점에 영향을 미치도록 충분히 낮은 점도에서 유지하는 것-즉, 캐스트 유리(30a)를 캐스트 유리(30a)의 폭(22) 미만인 폭(32)을 갖는 유리 리본(30b)으로 변형시키는 것-을 보장하도록 최소화되도록 수행된다. According to some implementations of the
도 1에 도시된 유리 리본(30b)을 제조하는 방법(100)의 몇몇 구체예에 따르면, 운반 단계(130) 및 인발 단계(140)는 캐스트 유리(30a)가 107 Poise 미만, 5×106 Poise 미만, 106 Poise 미만, 5×105 Poise 미만, 105 Poise 미만, 5×104 Poise 미만인 반면, 104 Poise를 초과하는, 이들 수준 사이의 모든 평균 점도로 유지되도록 수행된다. 방법(100)의 몇몇 이행에서, 캐스트 유리(30a)의 평균 점도는 운반 단계(130) 및 인발 단계(140) 동안, 750 ℃ 내지 900 ℃의 온도에서 106 Poise 내지 104 Poise로 유지된다.According to some embodiments of the
도 1에 도시된 유리 리본(30b)을 제조하는 방법(100)을 다시 참조하면, 상기 방법의 최종 냉각 단계(150)는 유리 리본(30b)을 주위 온도로 냉각하는 단계를 포함할 수 있다. 앞서 언급한 바와 같이, 방법(100)의 구체예는 유리(30) 및 캐스트 유리(30a)가 단계(110 내지 140) 동안 50 ℃ 이상의 온도로 유지되도록 수행되어, 상기 방법(100)이 연속적인 방식으로 수행될 수 있음을 보장한다. 상기 방법(100)의 몇몇 구체예에 따르면, 단계(110 내지 140)는 50 ℃ 이상, 75 ℃ 이상, 100 ℃ 이상, 150 ℃ 이상, 200 ℃ 이상, 250 ℃ 이상, 300 ℃ 이상, 및 이들 온도 하한 사이의 모든 하부 온도 임계값의 온도에서 수행된다. 또한, 유리 리본(30b)을 냉각하기 위한 단계(150)는 본 개시의 기술 분야의 통상의 기술자에게 이해되는 바와 같이 외부 냉각과 함께, 또는 외부 냉각 없이 수행될 수 있다. 또한, 상기 방법(100)의 몇몇 관점에서, 에지 롤러(60)는 냉각 단계(150) 내의 몇몇 또는 모든 냉각에 영향을 미치는 냉각 능력을 포함할 수 있다. Referring back to the
도 1에 도시된 유리 리본(30b)을 제조하는 방법(100)을 다시 참조하면, 상기 방법(100)의 구체예는 유리 리본(30b)이 200 ㎛ 미만의 두께 변화를 갖도록 수행된다. 몇몇 구체예에 따르면, 유리 리본(30b)은 200 ㎛ 미만, 150 ㎛ 미만, 100 ㎛ 미만, 75 ㎛ 미만, 50 ㎛ 미만, 40 ㎛ 미만, 30 ㎛ 미만, 20 ㎛ 미만, 10 ㎛ 미만, 5 ㎛ 미만, 4 ㎛ 미만, 3 ㎛ 미만, 2 ㎛ 미만, 1 ㎛ 미만, 0.5 ㎛ 미만, 및 이들 수준 사이의 모든 두께 변화 수준을 가질 수 있다. 실용적인 관점에서, 방법(100)에 따라 제조된 유리 리본(30b)은 0.01 ㎛만큼 낮은 두께 변화를 가질 수 있다. 방법(100)의 몇몇 이행에서, 방법(100)에 의해 제조된 유리 리본(30b)은 500 ㎛ 미만의 휨을 갖는다. 몇몇 이행에 따르면, 방법(100)에 의해 생성된 유리 리본(30b)은 500 ㎛ 미만, 400 ㎛ 미만, 300 ㎛ 미만, 200 ㎛ 미만, 150 ㎛ 미만, 100 ㎛ 미만, 50 ㎛ 미만, 40 ㎛ 미만, 30 ㎛ 미만, 20 ㎛ 미만, 10 ㎛ 미만, 5 ㎛ 미만, 0.1 ㎛ 미만, 0.05 ㎛ 초과, 및 이들 수준 사이의 모든 휨 값의 휨을 갖는다. 실용적인 관점에서, 방법(100)에 따라 제조된 유리 리본(30b)은 0.01 ㎛만큼 낮은 휨을 가질 수 있다. 또한, 방법(100)의 몇몇 구체예는 유리 리본(30b)이 5 ㎛ 미만의 표면 거칠기(Ra)를 갖도록(임의의 후-처리 전에 측정될 때) 수행된다. 몇몇 이행에 따르면, 방법(100)에 의해 생성된 유리 리본(30b)은 5 ㎛ 미만, 4 ㎛ 미만, 3 ㎛ 미만, 2 ㎛ 미만, 1 ㎛ 미만, 0.75 ㎛ 미만, 0.5 ㎛ 미만, 0.25 ㎛ 미만, 0.1 ㎛ 미만, 50 nm 미만, 최저 10 nm, 및 이들 수준 사이의 모든 표면 거칠기 값을 갖는 표면 거칠기(Ra)를 갖는다. 구체예에 따르면, 방법(100)에 의해 생성된 유리 리본(30b)은 1 ㎛ 미만, 0.9 ㎛ 미만, 0.8 ㎛ 미만, 0.7 ㎛ 미만, 0.6 ㎛ 미만, 0.5 ㎛ 미만, 0.4 ㎛ 미만, 0.3 ㎛ 미만, 0.2 ㎛ 미만, 0.1 ㎛ 미만, 90 nm 미만, 80 nm 미만, 70 nm 미만, 60 nm 미만, 50 nm 미만, 40 nm 미만, 30 nm 미만, 20 nm 미만, 최저 10 nm, 및 이들 수준 사이의 모든 표면 거칠기 값의 표면 거칠기(Ra)를 갖는다.Referring back to the
이제 도 2를 참조하면, 본 개시에 따른 유리 리본(30b)(도 1 참조)을 제조하는 방법(100)에 따라 사용될 수 있는 장치의 개략도가 제공된다. 특히, 도 2는 다른 특징 가운데 오리피스(4a), 캐스터(20) 및 가열기(50)를 갖는 용융 장치를 도시한다. 모든 다른 측면에서, 도 2에 도시된 장치는 유리 리본(30b)(도 1 및 이전 설명 참조)을 제조하는 방법(100)과 함께 사용하기 위한 도 1에 도시된 장치와 동일하거나 실질적으로 유사하다. 따라서, 도 2에서 같은-번호의 요소는 도 1에 도시된 것과 동일 또는 실질적으로 유사한 기능 및 구조를 갖는다. 따라서, 방법(100)(도 1 참조)의 구체예에 따르면, 유동 단계(110)는 유리(30)를 5 미터(m) 미만의 최대 치수(12)를 갖는 용융 장치(10a)(도 2 참조)의 오리피스(4a)로부터 유동시킴으로써 수행될 수 있다. 오리피스(4a)의 최대 치수(12)는 캐스터(20)의 폭(Wcast) 이하일 수 있다. 또한, 오리피스(4a)의 폭(14)은 약 1 mm 이상, 약 2 mm 이상, 약 3 mm 이상, 약 4 mm 이상, 약 5 mm 이상, 약 7 mm 이상, 약 8 mm 이상, 약 9 mm 이상, 약 10 mm 이상, 약 15 mm 이상, 약 20 mm 이상, 약 25 mm 이상, 약 30 mm 이상, 약 35 mm 이상, 약 40 mm 이상, 약 45 mm 이상, 약 50 mm 이상, 또는 약 500 mm 까지의 임의의 폭일 수 있다.Turning now to FIG. 2, a schematic diagram of an apparatus that may be used in accordance with a
다시 도 2를 참조하면, 유동 단계(110)(도 1 참조) 동안 용융 장치(10a)로부터 유동하는 유리(30)의 점도에 따라, 유리(30)는 오리피스(4a)의 최대 치수와 거의 동일하거나, 이보다 작은 폭을 가질 수 있다. 이와 같이, 오리피스(4a)의 최대 치수(12)는 캐스터(20)의 폭(Wcast)(22) 이하일 수 있다. 다른 구체예에서, 오리피스(4a)의 최대 치수(12)는, 예를 들어 상대적으로 상부 액상선 점도가 낮은(예를 들어, 5 Poise 내지 50000 Poise) 유리(30)의 조성물에 대해 캐스터(20)의 폭(Wcast)보다 클 수 있다. 특히, 용융 시 이들 유리는 용융 장치(10a)의 오리피스(4a)를 떠날 때 '넥킹'될 수 있으며, 이는 이들이 용융 장치(10a)의 오리피스(4a)의 최대 치수(12)보다 작은 치수인 폭(22)을 갖는 캐스터(20) 내로 유동하도록 한다.Referring back to Fig. 2, depending on the viscosity of the
또한 도 2에 도시된 바와 같이, 유리 리본(30b)은 유리 리본(30b)의 폭(32)(Wribbon)과 실질적으로 동등한 것 내지 유리 리본(30b)의 폭(32)의 약 50% 범위의 외부 직경을 갖는 웨이퍼(36)로 절단될 수 있다. 구체예에서, 유리 리본(30b)으로부터 웨이퍼(36)를 절단하는 단계는 앞서 언급되고 도 1에 도시된 방법(100)의 냉각 단계(150) 후에 수행될 수 있다. 도 2에 예시적인 형태로 도시된 웨이퍼(36)는 디스크의 형태이다. 그럼에도 불구하고, 웨이퍼(36)는 정사각형, 직사각형, 원, 타원 및 다른 형태를 포함하나, 이에 제한되는 것은 아닌 다양한 형태를 취할 수 있다. 몇몇 구체예에 따르면, 웨이퍼(36)는 약 2 mm 이하의 두께(34)(t) 및 약 100 mm 내지 약 500 mm의 최대 치수(예를 들어, 직경, 폭 또는 다른 최대 치수)를 가질 수 있다. 몇몇 관점에서, 웨이퍼(36)는 약 1 mm 이하의 두께(34)(t) 및 150 mm 내지 약 300 mm의 최대 치수를 갖는다. 웨이퍼(36)는 또한 약 1 mm 내지 약 50 mm, 또는 약 1 mm 내지 약 25 mm 범위의 두께를 갖는다. 웨이퍼(36)는 또한 약 25 mm 내지 약 300mm, 약 50 mm 내지 약 250 mm, 약 50 mm 내지 약 200 mm, 또는 약 100 mm 내지 약 200 mm 범위의 최대 치수를 가질 수 있다. 유리하게는, 임의의 추가적인 표면 폴리싱 없이, 방법(100)에 따라 형성된 웨이퍼(36)는 유리 리본(30b)과 관련하여 앞서 언급된 동일한 두께 변화 수준, 표면 거칠기 및/또는 휨 수준을 나타낼 수 있다. 구체예에서, 웨이퍼(36)는 최종 제품, 예를 들어, 광학 적용을 위한 렌즈의 최종 치수를 얻기 위해 이의 외부 직경의 몇몇 제한된 그라인딩 및 폴리싱에 도입될 수 있다.Also, as shown in Figure 2, the
이제 도 3a 및 3b를 참조하면, 유리 리본(30b)을 제조하는 방법(도 1 참조)에서 사용되는 유리(30)를 유동시키기 위한 아이소파이프(8)를 갖는 오버플로우 용융 장치(10b)의 개략도가 구체예에 따라 제공된다. 특히, 오버플로우 용융 장치(10b)는 유리(30) 유동 단계(110) 동안 사용될 수 있다. 구체예에 따르면, 유리(30)는 방법(100)의 용융 관점에 따라 용융될 수 있으며 용기(6)으로부터 아이소파이프(8)로 유동될 수 있다. 용기(6)는 유리의 용융을 위해 본 기술 분야의 통상의 기술자에 의해 이해되는 다양한 가열 요소 중 임의의 것을 포함한다. 유리(30)가 아이소파이프(8)의 위어 또는 유사한 관점으로부터 오버플로우할 때, 이는 아이소파이프(8) 위로 유동하여 캐스터(20) 내로 아래로 유동한다(미도시). 도 3a 및 3b에서 예시적인 형태로 도시된 바와 같이, 오버플로우 용융 장치(10b)는 아이소파이프(8) 내의 위어를 포함할 수 있으며, 이는 유리(30)가 아이소파이프(8)의 외부 표면을 오버플로우하고 이를 따라 퍼지도록 한다. 이러한 구체예에서, 유리(30)는 아이소파이프(8)의 한 면 또는 양면 상에 폭(4b)로 퍼질 수 있다. 도 3a 및 3b에 도시된 바와 같이, 아이소파이프(8)는 수직으로부터 각도(9)만큼 각진 일 면을 갖는다. 전형적으로, 각도(9)는 약 0°내지 30°, 바람직하게는 0°내지 20°이다. 유리 리본(30b)을 제조하는 방법(100)의 구체예에 따르면(도 1 참조), 오버플로우 용융 장치(10b)는 5 m 미만의 폭(4b)를 가지며, 이는 캐스터(20)의 폭(22)(Wcast) 이하이다.Referring now to FIGS. 3A and 3B, a schematic diagram of an
예시적인 구체예 및 실시예가 예시의 목적으로 제시되었지만, 전술한 설명은 어떠한 방식으로든 본 개시 및 첨부된 청구항의 범위를 제한하는 의도가 아니다. 따라서, 변경 및 수정은 본 개시의 사상 및 다양한 원리를 실질적으로 벗어나지 않고 전술한 구체예 및 실시예에 대해 이루어질 수 있다. 이러한 모든 수정 및 변경은 본 개시의 범위 내에 포함되고 다음의 청구항에 의해 보호되도록 의도된다.While exemplary embodiments and examples have been presented for purposes of illustration, the foregoing description is not intended to limit the scope of the disclosure and appended claims in any way. Accordingly, changes and modifications may be made to the above-described embodiments and embodiments without substantially departing from the spirit and various principles of the present disclosure. All such modifications and changes are intended to be included within the scope of this disclosure and protected by the following claims.
Claims (28)
캐스트 유리를 형성하기 위해 유리를 약 100 mm 내지 약 5 m의 폭(Wcast) 및 약 1 mm 내지 약 500 mm의 두께(t)를 갖는 캐스터(caster) 내로 유동시키는 단계;
상기 캐스터 내의 캐스트 유리를 적어도 108 Poise의 점도로 냉각시키는 단계;
상기 캐스트 유리를 캐스터로부터 운반하는 단계;
상기 캐스트 유리를 캐스터로부터 인발하는 단계, 상기 인발은 상기 캐스트 유리를 107 Poise 미만의 평균 점도로 가열하는 단계 및 상기 캐스트 유리를 Wcast 미만인 폭(Wribbon)을 갖는 유리 리본 내로 인발하는 단계를 포함하며; 및 이후에
상기 유리 리본을 주위(ambient) 온도로 냉각하는 단계를 포함하고,
여기서 상기 냉각, 운반 및 인발 단계 동안 캐스트 유리는 약 50 ℃ 이상에 있는, 유리 리본을 제조하기 위한 방법. As a method for manufacturing a glass ribbon, the method comprises:
Flowing the glass into a caster having a width (W cast ) of about 100 mm to about 5 m and a thickness (t) of about 1 mm to about 500 mm to form a cast glass;
Cooling the cast glass in the caster to a viscosity of at least 10 8 Poise;
Conveying the cast glass from the caster;
Drawing the cast glass from the caster, the drawing comprises heating the cast glass to an average viscosity of less than 10 7 Poise and drawing the cast glass into a glass ribbon having a width (W ribbon ) less than W cast. Includes; And after
Cooling the glass ribbon to ambient temperature,
Wherein the cast glass is at least about 50° C. during the cooling, conveying and drawing steps.
상기 유동 단계는 유리를 약 50,000 Poise 내지 약 10 Poise의 점도에서 유동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유리 리본을 제조하기 위한 방법.The method according to claim 1,
Wherein said flowing step comprises flowing the glass at a viscosity of about 50,000 Poise to about 10 Poise.
상기 냉각, 운반 및 인발 단계 동안 캐스트 유리는 약 200 ℃ 이상에 있는 것을 특징으로 하는 유리 리본을 제조하기 위한 방법.The method according to any one of the preceding claims,
The method for manufacturing a glass ribbon, wherein the cast glass is at least about 200° C. during the cooling, conveying and drawing steps.
상기 캐스트 유리의 냉각 단계는 캐스터 내의 캐스트 유리가 적어도 109 Poise의 점도로 냉각되도록 수행되는 것을 특징으로 하는 유리 리본을 제조하기 위한 방법.The method according to any one of the preceding claims,
The method for manufacturing a glass ribbon, characterized in that the step of cooling the cast glass is carried out such that the cast glass in the caster is cooled to a viscosity of at least 10 9 Poise.
상기 인발 단계는 캐스트 유리가 106 Poise 미만의 평균 점도로 가열되도록 수행되는 것을 특징으로 하는 유리 리본을 제조하기 위한 방법. The method according to any one of the preceding claims,
The drawing step is performed such that the cast glass is heated to an average viscosity of less than 10 6 Poise.
상기 유리는 5×105 Poise 미만의 상부 액상선 점도(upper liquidus viscosity)를 포함하는 것을 특징으로 하는 유리 리본을 제조하기 위한 방법. The method according to any one of the preceding claims,
The method for making a glass ribbon, characterized in that the glass comprises an upper liquidus viscosity of less than 5×10 5 Poise.
상기 유리는 보로실리케이트 유리, 알루미노보로실리케이트 유리, 알루미노실리케이트 유리, 플루오로실리케이트 유리, 포스포실리케이트 유리, 플루오로포스페이트 유리, 설포포스페이트 유리, 게르마네이트 유리, 바나데이트 유리, 보레이트 유리, 및 포스페이트 유리로 이루어지는 군으로부터 선택되는 조성물을 포함하는 것을 특징으로 하는 유리 리본을 제조하기 위한 방법.The method according to any one of the preceding claims,
The glass is borosilicate glass, aluminoborosilicate glass, aluminosilicate glass, fluorosilicate glass, phosphosilicate glass, fluorophosphate glass, sulfophosphate glass, germanate glass, vanadate glass, borate glass, and A method for producing a glass ribbon comprising a composition selected from the group consisting of phosphate glasses.
상기 유동 단계는 유리를 1000 ℃ 이상의 온도에서 유동시키는 단계를 포함하며 상기 캐스트 유리를 냉각하는 단계는 상기 캐스터 내의 캐스트 유리를 800 ℃ 미만 및 50 ℃ 이상의 온도로 냉각하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유리 리본을 제조하기 위한 방법.The method according to any one of the preceding claims,
The flowing step includes flowing the glass at a temperature of 1000° C. or higher, and cooling the cast glass comprises cooling the cast glass in the caster to a temperature of less than 800° C. and 50° C. or higher. A method for making a glass ribbon.
상기 폭(Wcast)은 약 400 mm 내지 약 5 m이고 상기 두께(t)는 약 5 mm 내지 약 500 mm인 것을 특징으로 하는 유리 리본을 제조하기 위한 방법.The method according to any one of the preceding claims,
Wherein the width (W cast) is from about 400 mm to about 5 m and the thickness (t) is from about 5 mm to about 500 mm.
상기 인발 단계는 상기 캐스트 유리의 냉각 단계 후 약 30초 내지 약 30분 동안 상기 캐스트 유리 상에서 수행되는 것을 특징으로 하는 유리 리본을 제조하기 위한 방법. The method according to any one of the preceding claims,
The drawing step is performed on the cast glass for about 30 seconds to about 30 minutes after the step of cooling the cast glass.
상기 인발은 상기 캐스트 유리의 코어가 상기 캐스트 유리의 표면을 적어도 부분적으로 107 Poise 미만의 평균 점도로 가열하도록 수행되는 것을 특징으로 하는 유리 리본을 제조하기 위한 방법.The method according to any one of the preceding claims,
Wherein the drawing is performed such that the core of the cast glass at least partially heats the surface of the cast glass to an average viscosity of less than 10 7 Poise.
상기 유리 리본은 약 0.01 ㎛ 내지 약 50 ㎛의 두께 변화를 갖는 것을 특징으로 하는 유리 리본을 제조하기 위한 방법.The method according to any one of the preceding claims,
The method for manufacturing a glass ribbon, wherein the glass ribbon has a thickness variation of about 0.01 μm to about 50 μm.
상기 유리 리본은 약 0.01 ㎛ 내지 약 100 ㎛의 휨(warp)을 갖는 것을 특징으로 하는 유리 리본을 제조하기 위한 방법.The method according to any one of the preceding claims,
Wherein the glass ribbon has a warp of about 0.01 μm to about 100 μm.
상기 유동 단계는 유리를 약 100 mm 내지 약 5 mm의 폭을 갖는 용융 장치의 오리피스로부터 유동시킴으로써 수행되며, 상기 오리피스의 폭은 캐스터의 폭(Wcast) 이하인 것을 특징으로 하는 유리 리본을 제조하기 위한 방법.The method according to any one of the preceding claims,
The flow step is performed by flowing the glass from an orifice of a melting apparatus having a width of about 100 mm to about 5 mm, and the width of the orifice is less than or equal to the width of the caster (W cast ). Way.
상기 용융 장치는 오버플로우(overflow) 형성 장치인 것을 특징으로 하는 유리 리본을 제조하기 위한 방법.The method of claim 14,
The method for manufacturing a glass ribbon, characterized in that the melting device is an overflow forming device.
상기 캐스트 유리의 임의의 결정상의 최대 결정 성장 속도는 상기 캐스트 유리의 냉각, 운반 및 인발 단계 동안 약 0.01 ㎛/분 내지 약 10 ㎛/분인 것을 특징으로 하는 유리 리본을 제조하기 위한 방법.The method according to any one of the preceding claims,
A method for making a glass ribbon, wherein the maximum crystal growth rate of any crystalline phase of the cast glass is from about 0.01 μm/min to about 10 μm/min during the cooling, conveying and drawing steps of the cast glass.
상기 캐스트 유리의 임의의 결정상의 최대 결정 성장 속도는 상기 캐스트 유리의 냉각, 운반 및 인발 단계 동안 약 0.01 ㎛/분 내지 약 5 ㎛/분인 것을 특징으로 하는 유리 리본을 제조하기 위한 방법.The method according to any one of claims 1 to 15,
A method for manufacturing a glass ribbon, wherein the maximum crystal growth rate of any crystalline phase of the cast glass is from about 0.01 μm/min to about 5 μm/min during the cooling, conveying and drawing steps of the cast glass.
상기 유리의 조성물은 캐스트 유리의 상부 액상선 온도로부터 하부 액상선 온도까지 측정될 때, 약 0.01 ㎛/분 내지 1 ㎛/분 미만의 임의의 결정상의 결정 성장 속도를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 유리 리본을 제조하기 위한 방법.The method of claim 7,
The composition of the glass further comprises a crystal growth rate of any crystalline phase of about 0.01 μm/min to less than 1 μm/min, as measured from the upper liquidus temperature to the lower liquidus temperature of the cast glass. A method for manufacturing a ribbon.
상기 유리 리본은 약 0.01 ㎛ 내지 약 50 ㎛의 두께 변화를 갖는 것을 특징으로 하는 유리 리본을 제조하기 위한 방법.The method according to any one of claims 16 to 18,
The method for manufacturing a glass ribbon, wherein the glass ribbon has a thickness variation of about 0.01 μm to about 50 μm.
상기 유리 리본은 약 0.01 ㎛ 내지 약 100 ㎛의 휨을 갖는 것을 특징으로 하는 유리 리본을 제조하기 위한 방법.The method according to any one of claims 16 to 19,
The method for manufacturing a glass ribbon, wherein the glass ribbon has a warp of about 0.01 μm to about 100 μm.
상기 캐스트 유리를 냉각하는 단계는 캐스트 유리를 캐스트 유리에 대한 임계 냉각 속도 이상에서의 온도로 냉각시키기 위해 수행되는 것을 특징으로 하는 유리 리본을 제조하기 위한 방법.The method according to any one of claims 16 to 20,
The method for manufacturing a glass ribbon, characterized in that the step of cooling the cast glass is performed to cool the cast glass to a temperature above a critical cooling rate for the cast glass.
약 1 mm 내지 약 25 mm의 두께 및 25 mm 내지 약 200 mm의 폭을 갖는 폴리싱되지 않은(unpolished) 유리 리본을 포함하며,
여기서 상기 유리 리본은 보로실리케이트 유리, 알루미노보로실리케이트 유리, 알루미노실리케이트 유리, 플루오로실리케이트 유리, 포스포실리케이트 유리, 플루오로포스페이트 유리, 설포포스페이트 유리, 게르마네이트 유리, 바나데이트 유리, 포스페이트 유리 및 보레이트 유리로 이루어지는 군으로부터 선택되는 조성물을 포함하며,
여기서 상기 조성물은 5×105 Poise 미만의 상부 액상선 점도를 더욱 포함하고,
여기서 상기 유리 리본은 약 0.01 ㎛ 내지 약 50 ㎛의 두께 변화 및 약 0.01㎛ 내지 약 200 ㎛의 휨을 갖는 유리 웨이퍼로 절단될 수 있는, 유리 물품.As a glass article, the glass article comprises:
An unpolished glass ribbon having a thickness of about 1 mm to about 25 mm and a width of 25 mm to about 200 mm,
Here, the glass ribbon is borosilicate glass, aluminoborosilicate glass, aluminosilicate glass, fluorosilicate glass, phosphosilicate glass, fluorophosphate glass, sulfophosphate glass, germanate glass, vanadate glass, phosphate glass And a composition selected from the group consisting of borate glass,
Wherein the composition further comprises an upper liquidus viscosity of less than 5×10 5 Poise,
Wherein the glass ribbon can be cut into a glass wafer having a thickness change of about 0.01 μm to about 50 μm and a warp of about 0.01 μm to about 200 μm.
상기 유리 리본은 약 1.65 내지 약 1.90의 굴절률을 갖는 것을 특징으로 하는 유리 물품.The method of claim 22,
Wherein the glass ribbon has an index of refraction of about 1.65 to about 1.90.
상기 유리 리본은 약 0.01 ㎛ 내지 약 0.5 ㎛의 두께 변화 및 약 0.01 ㎛ 내지 약 10 ㎛의 휨을 갖는 유리 웨이퍼로 절단될 수 있는 것을 특징으로 하는 유리 물품.The method of claim 22 or 23,
Wherein the glass ribbon can be cut into a glass wafer having a thickness change of about 0.01 μm to about 0.5 μm and a warp of about 0.01 μm to about 10 μm.
상기 유리 리본은 약 0.01 ㎛ 내지 약 50 ㎛의 두께 변화 및 약 0.01 ㎛ 내지 약 200 ㎛의 휨을 갖는 것을 특징으로 하는 유리 물품.The method according to any one of claims 22 to 24,
The glass article, wherein the glass ribbon has a thickness change of about 0.01 μm to about 50 μm and a warp of about 0.01 μm to about 200 μm.
약 1 mm 내지 약 25 mm의 두께 및 100 mm 내지 약 200 mm의 폭을 갖는 폴리싱되지 않은 유리 웨이퍼를 포함하고,
여기서 상기 유리 웨이퍼는 보로실리케이트 유리, 알루미노보로실리케이트 유리, 알루미노실리케이트 유리, 플루오로실리케이트 유리, 포스포실리케이트 유리, 플루오로포스페이트 유리, 설포포스페이트 유리, 게르마네이트 유리, 바나데이트 유리, 포스페이트 유리 및 보레이트 유리로 이루어지는 군으로부터 선택되는 조성물을 포함하며,
여기서 상기 조성물은 5×105 Poise 미만의 상부 액상선 점도를 더욱 포함하고,
여기서 상기 유리 웨이퍼는 약 0.01 ㎛ 내지 약 50 ㎛의 두께 변화 및 약 0.01㎛ 내지 약 200 ㎛의 휨을 갖는, 유리 물품.As a glass article, the glass article comprises:
An unpolished glass wafer having a thickness of about 1 mm to about 25 mm and a width of 100 mm to about 200 mm,
Here, the glass wafer is borosilicate glass, aluminoborosilicate glass, aluminosilicate glass, fluorosilicate glass, phosphosilicate glass, fluorophosphate glass, sulfophosphate glass, germanate glass, vanadate glass, phosphate glass And a composition selected from the group consisting of borate glass,
Wherein the composition further comprises an upper liquidus viscosity of less than 5×10 5 Poise,
Wherein the glass wafer has a thickness change of about 0.01 μm to about 50 μm and a warp of about 0.01 μm to about 200 μm.
상기 유리 웨이퍼는 약 1.65 내지 약 1.90의 굴절률을 갖는 것을 특징으로 하는 유리 물품.The method of claim 26,
Wherein the glass wafer has a refractive index of about 1.65 to about 1.90.
상기 유리 웨이퍼는 약 0.01 ㎛ 내지 약 0.5 ㎛의 두께 변화 및 약 0.01㎛ 내지 약 10 ㎛의 휨을 갖는 것을 특징으로 하는 유리 물품.The method of claim 26 or 27,
The glass article, wherein the glass wafer has a thickness change of about 0.01 μm to about 0.5 μm and a warp of about 0.01 μm to about 10 μm.
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