KR20200143774A - 진공 건조 장치 - Google Patents

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KR20200143774A KR1020190071234A KR20190071234A KR20200143774A KR 20200143774 A KR20200143774 A KR 20200143774A KR 1020190071234 A KR1020190071234 A KR 1020190071234A KR 20190071234 A KR20190071234 A KR 20190071234A KR 20200143774 A KR20200143774 A KR 20200143774A
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Abstract

진공 건조 장치는 기판 상에 토출시킨 약액, 특히 포토레지스트에 잔류하는 솔벤트를 제거하도록 상기 약액을 진공 분위기에서 건조시키는 것으로써, 진공 챔버, 스테이지, 지지핀, 활주부를 포함할 수 있다. 상기 진공 챔버는 상기 진공 분위기를 제공하도록 구비될 수 있다. 상기 스테이지는 상기 진공 챔버에 투입되는 상기 기판이 안착되도록 구비될 수 있다. 상기 지지핀은 상기 스테이지에 안착되는 상기 기판의 이면을 접촉 지지하도록 구비될 수 있다. 상기 활주부는 상기 지지핀이 상기 스테이지의 사방으로 활주 가능하도록 구비될 수 있다.

Description

진공 건조 장치{VACUUM DRYER}
본 발명은 진공 건조 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게 본 발명은 기판 상에 토출시킨 약액에 잔류하는 솔벤트를 제거하도록 약액을 진공 분위기에서 건조시키는 진공 건조 장치에 관한 것이다.
유기 EL 소자 등과 같은 디스플레이 소자를 제조하기 위해서는 기판에 각종 패턴이나 컬러필터 등을 형성해야 하는데, 이러한 각종 패턴이나 컬러필터 등은 포토리소그래피 공정을 통해 형성할 수 있다.
포토리소그래피 공정은 기판 상에 포토레지스트를 도포하는 공정, 포토레지스트를 잔류하는 솔벤트를 제거하는 공정, 포토레지스트를 베이킹시키는 공정, 포토레지스트를 노광시키는 공정, 포토레지스트를 현상하는 공정 등을 포함할 수 있다.
포토레지스트에 잔류하는 솔벤트를 제거하는 공정은 진공 건조 장치를 사용하여 기판에 도포시킨 포토레지스트를 진공 분위기에서 건조시킴에 의해 달성할 수 있다. 그리고 진공 건조 장치에는 스테이지에 안착되는 기판의 이면을 접촉 지지하는 지지핀이 구비될 수 있다.
지지핀은 기판의 다양한 크기에 따라 대응할 수 있도록 스테이지의 다양한 위치에 형성하는 탭에 삽입되는 구조를 갖도록 구비될 수 있다.
이에, 필요에 따라 탭에 삽입되어 있는 지지핀을 탭으로부터 탈거하기도 하는데, 이때 파티클이 빈번하게 발생할 수 있다. 아울러, 탭이 형성되지 않는 부분에서는 기판의 이면을 지지하지 못하는 상황까지 발생할 수 있다.
본 발명의 일 과제는 파티클의 발생을 최소화함과 아울러 다양한 크기를 갖는 기판의 이면을 충분하게 지지할 수 있는 진공 건조 장치를 제공하는데 있다.
상기 본 발명의 일 과제를 달성하기 위한 예시적인 실시예들에 따른 진공 건조 장치는 기판 상에 토출시킨 약액, 특히 포토레지스트에 잔류하는 솔벤트를 제거하도록 상기 약액을 진공 분위기에서 건조시키는 것으로써, 진공 챔버, 스테이지, 지지핀, 활주부를 포함할 수 있다. 상기 진공 챔버는 상기 진공 분위기를 제공하도록 구비될 수 있다. 상기 스테이지는 상기 진공 챔버에 투입되는 상기 기판이 안착되도록 구비될 수 있다. 상기 지지핀은 상기 스테이지에 안착되는 상기 기판의 이면을 접촉 지지하도록 구비될 수 있다. 상기 활주부는 상기 지지핀이 상기 스테이지의 사방으로 활주 가능하도록 구비될 수 있다.
실시예들에 있어서, 상기 활주부는 상기 기판의 이면과 접촉 지지하는 상기 지지핀의 일측단과 반대쪽의 상기 지지핀의 타측단을 수용할 수 있는 레일 구조를 갖도록 구비될 수 있다.
실시예들에 있어서, 상기 활주부에 수용되는 상기 지지핀의 타측단은 너트 체결에 의해 상기 활주부에 고정되도록 구비될 수 있다.
실시예들에 있어서, 상기 활주부는 상기 스테이지 자체에 형성될 수 있다.
실시예들에 있어서, 상기 활주부는 플레이트 구조물에 형성하여 상기 스테이지에 부착되는 구조일 수 있다,
실시예들에 있어서, 상기 활주부는 상기 스테이지의 사방에 라인 구조를 갖도록 형성되는 라인홈에 삽입되는 구조일 수 있다.
실시예들에 있어서, 상기 활주부는 상기 스테이지의 사방에 격자 구조를 갖도록 형성될 수 있다.
예시적인 실시예들에 따른 진공 건조 장치는 지지핀에 의한 파티클의 발생을 최소화할 수 있기 때문에 솔벤트를 제거하기 위한 기판의 진공 건조에 대한 공정 신뢰도의 향상을 기대할 수 있다.
또한, 예시적인 실시예들에 따른 진공 건조 장치는 다양한 크기를 갖는 기판의 이면을 충분하게 지지할 수 있기 때문에 장치 사용에 따른 효율성의 향상을 기대할 수 있다.
다만, 본 발명의 효과는 상기 언급한 효과에 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 진공 건조 장치를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
도 2는 도 1의 진공 건조 장치에 구비되는 활주부를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
도 3 내지 도 5는 도 2의 활주부에 대한 다양한 예들을 나타내는 도면들이다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 실시예를 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조 부호를 유사한 구성 요소에 대해 사용하였다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "이루어진다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다. 도면상의 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 사용하고 동일한 구성 요소에 대해서 중복된 설명은 생략한다.
도 1은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 진공 건조 장치를 설명하기 위한 개략적인 도면이고, 도 2는 도 1의 진공 건조 장치에 구비되는 활주부를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 예시적인 실시예들에 따른 진공 건조 장치(100)는 기판(11) 상에 토출시킨 약액에 잔류하는 솔벤트를 제거하도록 약액을 진공 분위기에서 건조시키는 것으로써, 진공 챔버(13), 스테이지(21), 지지핀(23), 활주부(25) 등을 포함할 수 있다.
진공 챔버(13)는 진공 분위기를 제공하도록 구비되는 것으로써, 상부 챔버(15) 및 하부 챔버(17)로 이루어질 수 있다. 특히, 진공 챔버(13)는 상부 챔버(15) 및 하부 챔버(17)의 결합시 오링(19) 등을 사용하여 보다 긴밀하게 외부와 차단시킴으로써 진공 분위기를 제공할 수 있다.
스테이지(21)는 기판(11)이 안착되도록 구비될 수 있다. 즉, 스테이지(21)는 진공 챔버(13)로 투입되는 기판(11)이 안착되도록 구비될 수 있다.
그리고 예시적인 실시예들에 따르면, 스테이지(21)에 안착되는 기판(11)은 지지핀(23)에 의해 지지되는 구조를 가질 수 있다. 특히, 지지핀(23)은 스테이지(21)에 안착되는 기판(11)의 이면을 접촉 지지하도록 구비될 수 있다. 지지핀(23)은 기판(11)의 이면에 대한 접촉시 점접촉하는 구조를 갖도록 구비될 수 있다.
또한, 지지핀(23)은 스테이지(21)의 전체면에 다수대가 배치되는 구조를 갖도록 구비될 수 있다. 다수개의 지지핀(23)은 스테이지(21)의 전체면에 고른 분포를 갖도록 배치될 수 있다.
활주부(25)는 스테이지(21)의 전체면에 사방으로 확장되는 구조를 갖도록 구비될 수 있다. 특히, 활주부(25)는 스테이지(21)의 사방에 격자 구조를 갖도록 구비될 수 있다. 즉, 활주부(25)는 스테이지(21)의 전체면에 바둑판 무늬 패턴 구조를 갖도록 구비될 수 있다.
그리고 활주부(25)는 지지핀(23)이 활주 가능한 구조를 갖도록 구비될 수 있다. 즉, 활주부(25)는 지지핀(23)이 스테이지(21)의 사방으로 활주 가능하도록 구비될 수 있다.
따라서 예시적인 실시예들에서의 활주부(25)는 지지핀(23)의 타측단을 수용할 수 있는 레일 구조를 갖도록 구비될 수 있다. 이에, 지지핀(23)은 활주부(25)의 레일에 수용되는 상태에서 활주부(25)를 따라 활주함에 의해 스테이지(21)의 전체면 중에 원하는 위치 어디에나 배치될 수 있고, 고른 분포를 갖도록 배치될 수 있다.
활주부(25)에 수용되는 지지핀(23)이 활주부(25)에 고정되지 않을 경우 기판(11)을 안정적으로 지지하지 못하는 상황이 발생할 것이다. 이에, 예시적인 실시예들에서는 활주부(25)에 수용되는 지지핀(23)을 원하는 위치에 배치시킬 경우 해당 지지핀(23)을 활주부(25)에 고정시켜야 할 것이다.
언급한 지지핀(23)의 타측단은 기판(11)의 이면과 접촉 지지하는 지지핀(23)의 일측단과 반대쪽인 것으로 정의할 수 있다.
도 3 내지 도 5는 도 2의 활주부에 대한 다양한 예들을 나타내는 도면들이다.
도 3 내지 도 5를 참조하면, 지지핀(23)의 활주부(25)에서의 고정은 활주부(25)에 수용되는 지지핀(23)의 타측단을 너트(31) 체결시킴에 의해 달성할 수 있다. 이에, 지지판의 타측단의 일부는 너트(31) 체결이 가능한 볼트 구조를 갖도록 구비될 수 있다.
따라서 지지핀(23)을 활주부(25)를 따라 활주시켜 스테이지(21)의 원하는 위치에 배치시킨 후 너트(31) 체결을 통하여 지지핀(23)을 스테이지(21)의 원하는 위치에 고정시킬 수 있다.
특히 예시적인 실시예들에 따르면, 활주부(25)가 스테이지(21)의 전체면에 격자 구조를 갖도록 구비되기 때문에 스테이지(21)의 전체면에서의 원하는 위치에 지지핀(23)을 배치, 고정시킬 수 있다.
그러므로 예시적인 실시예들에 따른 진공 건조 장치(100)는 지지핀(23)에 의한 파티클의 발생을 최소화할 수 있기 때문에 기판(11)의 진공 건조에 대한 공정 신뢰도의 향상을 기대할 수 있고, 다양한 크기를 갖는 기판(11)의 이면을 충분하게 지지할 수 있기 때문에 장치 사용에 따른 효율성의 향상을 기대할 수 있다.
그리고 언급한 진공 건조 장치(100)의 경우에는 기판(11)에 도포하는 포토레지스트로부터 솔벤트를 제거하기 위한 것에 적용할 수 있기에 디스플레이 소자의 제조에 보다 적극적으로 사용할 수 있다.
예시적인 실시예들에 따르면, 활주부(25)는 다양한 구조를 갖도록 구비될 수 있다.
먼저 도 3에 도시된 바와 같이, 활주부(25)는 스테이지(21) 자체에 형성되도록 구비될 수 있다. 즉, 스테이지(21) 자체에 레일 구조를 갖는 홈을 형성할 수 있는 것이다.
그리고 도 4를 참조하면, 활주부(25)는 플레이트 구조물에 형성하여 스테이지(21)에 부착시키는 구조를 갖도록 구비될 수 있다. 즉, 활주부(25)는 스테이지(21)와 거의 유사한 크기를 갖는 플레이트 구조물에 레일 구조를 갖는 홈을 형성한 후, 이를 스테이지(21)에 부착시키는 구조를 갖도록 구비될 수 있다. 이와 달리, 활주부(25)는 스테이지(21)의 길이와 거의 유사한 길이를 갖는 라인 구조의 플레이트 구조물을 다수개를 마련하여 그들 각각에 홈을 형성한 후, 이들을 스테이지(21)에 부착시키는 구조를 갖도록 구비될 수도 있다.
또한 도 5를 참조하면, 활주부(25)는 스테이지(21)의 사방에 라인 구조를 갖도록 형성되는 라인홈(51)에 삽입되는 구조를 갖도록 구비될 수 있다. 즉, 활주부(25)는 스테이지(21) 자체에 라인 구조를 갖는 라인홈(51)을 형성함과 아울러 라인 구조의 플레이트 구조물에 레일 구조를 갖는 홈을 형성한 후, 라인홈(51)에 라인 구조의 플레이트 구조물을 삽입시키는 구조를 갖도록 구비될 수 있다.
이와 같이 예시적인 실시예들에 따르면, 활주부(25)는 다양한 구조를 갖도록 구비될 수 있다.
언급한 바와 같이, 본 발명에서의 진공 건조 장치(100)는 지지핀(23)을 탭에 삽입, 탈거하는 구조가 아닌 활주부(25)를 따라 활주시키는 구조이기에 그 설치시 파티클의 발생을 최소화할 수 있고, 더불어 스테이지(21) 전체면에 걸쳐 활주부(25)를 형성할 수 있기 때문에 다양한 크기를 갖는 기판(11)에 보다 용이하게 대응이 가능할 것이다.
예시적인 실시예들에 따른 진공 건조 장치는 기판에 도포하는 약액, 특히 포토레지스트로부터 솔벤트를 제거하기 위한 것에 적용할 수 있기에 유기 EL 소자 등과 같은 디스플레이 소자의 제조에 보다 적극적으로 사용할 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
11 : 기판 13 : 진공 챔버
15 : 상부 챔버 17 : 하부 챔버
19 : 오링 21 : 스테이지
23 : 지지핀 25 : 활주부
31 : 너트 51 : 라인홈
100 : 진공 건조 장치

Claims (7)

  1. 기판 상에 토출시킨 약액에 잔류하는 솔벤트를 제거하도록 상기 약액을 진공 분위기에서 건조시키는 진공 건조 장치에 있어서,
    상기 진공 분위기를 제공하도록 구비되는 진공 챔버;
    상기 진공 챔버에 투입되는 상기 기판이 안착되도록 구비되는 스테이지;
    상기 스테이지에 안착되는 상기 기판의 이면을 접촉 지지하도록 구비되는 지지핀; 및
    상기 지지핀이 상기 스테이지의 사방으로 활주 가능하도록 구비되는 활주부를 포함하는 것을 특징으로 진공 건조 장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 활주부는 상기 기판의 이면과 접촉 지지하는 상기 지지핀의 일측단과 반대쪽의 상기 지지핀의 타측단을 수용할 수 있는 레일 구조를 갖도록 구비되는 것을 특징으로 하는 진공 건조 장치.
  3. 제2 항에 있어서,
    상기 활주부에 수용되는 상기 지지핀의 타측단은 너트 체결에 의해 상기 활주부에 고정되도록 구비되는 것을 특징으로 하는 진공 건조 장치.
  4. 제2 항에 있어서,
    상기 활주부는 상기 스테이지 자체에 형성되는 것을 특징으로 하는 진공 건조 장치.
  5. 제2 항에 있어서,
    상기 활주부는 플레이트 구조물에 형성하여 상기 스테이지에 부착시키는 것을 특징으로 진공 건조 장치.
  6. 제2 항에 있어서,
    상기 활주부는 상기 스테이지의 사방에 라인 구조를 갖도록 형성되는 라인홈에 삽입되는 구조인 것을 특징으로 하는 진공 건조 장치.
  7. 제1 항에 있어서,
    상기 활주부는 상기 스테이지의 사방에 격자 구조를 갖도록 형성되는 것을 특징으로 하는 진공 건조 장치.
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