KR20200075822A - 조리기 흄 처리 시스템 및 조리기 - Google Patents

Abstract

조리기 흄 처리 시스템에 있어서, 상기 조리기 흄 처리 시스템은 밀봉 조리 캐비티(A100), 조리 기기(A101) 및 제1 흄 처리 장치(A200)를 포함하고; 조리 기기(A101)는 밀봉 조리 캐비티(A100)에 설치되며; 제1 흄 처리 장치(A200)에는 제1 흄 유입구(A201) 및 제1 흄 배출구(A202)가 설치되고, 제1 흄 유입구(A201)는 조리 기기(A101)와 연통되며, 제1 흄 배출구(A202)는 밀봉 조리 캐비티(A100)의 외부에 연통된다. 밀봉 조리 캐비티(A100)를 설치하여, 조리기에 의해 생성된 흄을 상기 밀봉 조리 캐비티에 밀봉시켜, 제1 흄 처리 장치(A200)의 처리를 거쳐야만 환경에 배출시킴으로써, 환경에 대한 조리기 흄의 영향을 감소시킨다.

Description

조리기 흄 처리 시스템 및 조리기

본 발명은 스마트 제조 및 스마트 서비스 기술 분야에 관한 것으로, 특히 조리기 흄 처리 시스템 및 조리기에 관한 것이다.

스마트 기술의 발전에 따라, 현재 사회는 스마트화 시대에 신속하게 들어서고 있다. 기존의 주방 기기에서 전기밥솥, 전기압력솥, 인덕션 레인지 등 기기는 자동화를 구현할 수 있지만, 일부분 기기는 사용자가 수동으로 조작해야 하는데, 예를 들어, 냄비 본체 등 이러한 기기는 스마트화 수요를 만족시킬 수 없으므로, 사람들이 조리 절차에 시간을 소모해야 한다. 자동화 수요의 구동 하에, 시중에 자동 조리 기능을 구비하는 일부 조리기가 출시되었고, 광범위하게 사용되는 추세를 보이고 있다. 자동 조리 기기의 설계에 있어서, 흄 처리는 항상 어려운 문제이다. 자동 조리기의 조리 과정에서, 흄 오염 문제도 사용자가 우려하는 문제이다. 구체적으로, 기존의 조리기에는 하기와 같은 문제가 보편적으로 존재한다.

1. 흄 제거 시스템이 부족하므로, 세척이 매우 번거롭고, 흄이 기계의 틈새에 들어가기만 하면, 세척하기 어려워 세균이 쉽게 번식하여, 사용자 건강에 영향준다.

2. 흄을 제때에 배출하지 못하면, 기계의 사용 수명에 영향준다.

3. 흄을 철저하게 처리하지 못하면, 처리 후 대량의 흄이 여전히 공기에 배출되어 주위 환경을 오염시킨다.

4. 전용 흄 처리 기기는 비싸고 원가가 비교적 높다.

본 발명의 실시예의 목적은, 기존의 조리기에 존재하는 흄 처리가 철저하지 못하고 흄 오염 문제를 효과적으로 해결할 수 있는 조리기 흄 처리 시스템 및 조리기를 제공하는 것이다.

상기 목적을 구현하기 위하여, 본 발명의 실시예는 조리기 흄 처리 시스템을 제공하고, 상기 조리기 흄 처리 시스템은 밀봉 조리 캐비티, 조리 기기 및 제1 흄 처리 장치를 포함하며; 상기 조리 기기는 상기 밀봉 조리 캐비티 내에 설치되고; 상기 제1 흄 처리 장치에는 제1 흄 유입구 및 제1 흄 배출구가 설치되며, 상기 제1 흄 유입구는 상기 조리 기기와 연통되고, 상기 제1 흄 배출구는 상기 밀봉 조리 캐비티의 외부에 연통된다.

선행기술에 비해, 본 실시예에 따른 조리기 흄 처리 시스템은 밀봉 조리 캐비티를 설치하여 조리기의 조리 기기에 의해 생성된 흄이 상기 밀봉 조리 캐비티에 밀봉되도록 함으로써, 상기 제1 흄 처리 장치의 처리를 거쳐야만 환경에 배출되도록 하여 조리기의 흄이 환경에 대한 영향을 감소시킬 수 있다.

또한, 상기 제1 흄 처리 장치는 상기 밀봉 조리 캐비티와 연통되는 제2 흄 유입구를 더 포함한다. 상기 제1 흄 처리 장치에 상기 밀봉 조리 캐비티와 연통되는 제2 흄 유입구를 설치하여, 조리 기기로부터 상기 밀봉 조리 캐비티로 넘쳐나는 흄이 상기 제1 흄 처리 장치를 통해 정화 처리를 거친 후 배출되도록 함으로써, 환경에 대한 조리기의 흄의 오염을 감소시킨다.

또한, 제3 흄 유입구 및 제2 흄 배출구가 설치된 제2 흄 처리 장치를 더 포함하고, 상기 제3 흄 유입구는 상기 밀봉 조리 캐비티와 연통되며, 상기 제2 흄 배출구는 상기 밀봉 조리 캐비티의 외부에 연통된다. 상기 제2 흄 처리 장치를 설치하여 조리 기기로부터 상기 밀봉 조리 캐비티로 넘쳐나는 흄이 정화 처리를 거친 후 환경에 배출되도록 함으로써, 조리기의 흄이 환경에 대한 오염을 감소시킨다.

본 발명의 다른 실시예는 조리기 흄 처리 시스템을 제공하고, 상기 조리기 흄 처리 시스템은 밀봉 조리 캐비티, 조리 기기 및 제1 흄 처리 장치를 포함하며; 상기 조리 기기는 상기 밀봉 조리 캐비티 내에 설치되고; 상기 제1 흄 처리 장치에는 제1 흄 유입구 및 제1 흄 배출구가 설치되며, 상기 제1 흄 유입구는 상기 조리 기기와 연통되고, 상기 제1 흄 배출구는 상기 밀봉 조리 캐비티와 연통된다.

선행기술에 비해, 본 실시예에 따른 조리기 흄 처리 시스템은 상기 제1 흄 처리 장치의 제1 흄 배출구와 상기 밀봉 조리 캐비티를 연통시킴으로써, 조리기에 의해 생성된 흄을 순환 처리하여 환경에 배출시킬 필요가 없으므로, 흄이 환경에 대한 오염을 효과적으로 방지한다.

또한, 상기 제1 흄 처리 장치에는 제2 흄 유입구가 더 설치되고, 상기 제2 흄 유입구는 상기 밀봉 조리 캐비티와 연통된다. 상기 제1 흄 처리 장치에 상기 밀봉 조리 캐비티와 연통되는 제2 흄 유입구를 설치하여, 밀봉 조리 캐비티 중의 흄 및 제1 흄 처리 장치를 거친 후의 흄이 다시 순환되어 상기 제1 흄 처리 장치에서 처리되는데, 이러한 순환 방식을 통해, 조리기에 의해 생성된 흄을 환경에 배출시킬 필요가 없고, 제1 흄 처리 장치의 순환 처리를 거친 후의 흄은 대부분 액체로 전환되어 상기 밀봉 조리 캐비티로 배출됨으로써, 조리기의 흄이 환경에 대한 오염을 방지할 수 있다.

또한, 제2 흄 처리 장치를 더 포함하고; 상기 제2 흄 처리 장치에는 제3 흄 유입구 및 제2 흄 배출구가 설치되며, 상기 제3 흄 유입구는 상기 밀봉 조리 캐비티와 연통되고, 상기 제2 흄 배출구는 상기 밀봉 조리 캐비티의 외부에 연통된다.

또한, 상기 조리 기기는 냄비 본체, 및 상기 냄비 본체를 개폐하기 위한 냄비 뚜껑을 포함하고; 상기 냄비 뚜껑에는 배기홀이 설치되며, 상기 제1 흄 유입구는 상기 배기홀에 밀봉 연결되어 상기 조리 기기와 연통된다.

또한, 상기 조리 기기는 상기 냄비 본체를 적재하여 가열하기 위한 냄비 본체 가열 장치, 및 상기 냄비 본체가 회전하도록 제어하기 위한 냄비 본체 회전 장치를 더 포함한다.

또한, 상기 제1 흄 유입구는 흄 유입관을 통해 상기 배기홀에 밀봉 연결된다.

상기 제1 흄 처리 장치는 흄 가이드관, 응축관, 응축액 수집기 및 덕트팬을 포함하고; 상기 흄 가이드관의 공기 유입단은 상기 냄비 뚜껑의 배기홀과 연통되며, 상기 흄 가이드관의 배기단은 상기 응축관을 통해 상기 덕트팬과 연통되고, 상기 덕트팬은 상기 제1 흄 배출구 위치에 설치되며; 상기 응축관의 파이프 세그먼트는 상하로 분포되고, 상기 응축액 수집기는 상기 응축관의 하측에 설치되어 상기 응축관의 가장 낮은 위치와 연통된다.

또한, 상기 제2 흄 처리 장치는 흄 여과기 및 배기 팬을 포함하고; 상기 배기 팬의 바람 흡입구는 상기 제3 흄 유입구로서 상기 요리 영역과 연통되며, 상기 배기 팬의 바람 배출구는 상기 흄 여과기의 공기 유입구와 연통되고, 상기 흄 여과기의 공기 배출구는 상기 제2 흄 배출구이다.

또한, 상기 제1 흄 처리 장치는,

급수구가 설치되고, 내부에 흄 통로가 구비되며, 상기 흄 통로의 입구 및 출구가 각각 상기 제1 흄 유입구 및 상기 제1 흄 배출구와 연통되는 박스체;

흄을 상기 흄 통로의 입구로부터 상기 박스체 내로 흡입시켜 상기 흄 통로의 출구로부터 배출시키기 위한 송풍기;

상기 흄 통로 내에 설치된 흄 여과 어셈블리;

상기 흄 통로 내에 설치된 냉각부가 구비되는 소형 냉각기;

모두 상기 박스체 내의 상부에 위치하고 상기 흄 통로의 바로 상측에 위치하는 적어도 하나의 제1 출수구가 구비되고, 모두 상기 박스체 내의 하부에 위치하는 적어도 하나의 제1 입수구가 구비되는 물순환 배관; 및

상기 물순환 배관에 설치된 물 펌프를 포함한다.

또한, 상기 제1 흄 처리 장치는 복수의 분무홀이 설치된 분무판을 더 포함하고, 상기 분무판은 상기 흄 통로와 상기 박스체 내의 상단 사이에 설치되어 스페이서로서 작용하며, 상기 적어도 하나의 제1 출수구는 상기 분무판의 상측에 위치한다.

또한, 상기 제1 흄 처리 장치는 중공 구조인 냉각체를 더 포함하고, 상기 냉각체에 구비되는 제2 입수구는 상기 물순환 배관의 배수관 세그먼트와 연통되며, 상기 냉각체에 구비되는 제2 출수구는 상기 분무판의 상측에 위치하고; 상기 냉각체는 상기 소형 냉각기의 열전도부와 접촉된다.

또한, 상기 박스체의 상단에는 방열구가 설치되고, 상기 분무판의 상측에는 상기 방열구와 연통되는 수용 캐비티가 설치되며, 상기 소형 냉각기의 열전도부 및 상기 냉각체는 모두 상기 수용 캐비티에 설치된다.

또한, 상기 제1 흄 처리 장치는 흄 유입관 및 상단 개구의 분무 캐비티를 더 포함하고;

상기 분무 캐비티의 상단은 상기 분무판의 분무홀이 설치된 부위의 저부에 고정되며, 상기 분무 캐비티의 저부는 상기 박스체 내의 저부의 상측에 위치하고 통구가 설치되며;

상기 흄 유입관의 일단은 상기 박스체 내부의 방향을 따라 상기 흄 통로의 입구를 밀봉되게 관통하며, 상기 분무 캐비티 내로 밀봉되게 관통되고; 상기 분무 캐비티 내에서, 상기 흄 유입관의 상기 일단과 상기 통구 사이에는 연장된 흄 분무 통로가 형성되며, 상기 흄 분무 통로 내에는 적어도 한 층의 흄 여과층이 설치되고, 상기 흄 분무 통로의 각각의 세그먼트의 저부는 모두 상기 통구와 연통된다.

또한, 상기 소형 냉각기는 반도체 냉각기이고, 상기 소형 냉각기의 복수의 냉각 시트는 상기 분무 캐비티 내에 설치되며 상기 흄 분무 통로의 바로 상측에 분포된다.

또한, 상기 제1 흄 처리 장치는,

상기 분무판과 상기 박스체 내의 저부 사이에 종방향으로 설치되고, 저부와 상기 박스체 내의 저부에 흄 통로구가 형성되는 제1 종방향 격판;

상기 분무판과 상기 박스체 내의 저부 사이에 위치하고, 상기 제1 종방향 격판과 그와 대향되는 박스체의 측판 사이에 횡방향으로 설치된 횡방향 격판;

상기 제1 종방향 격판과 상기 박스체의 상기 측판 사이에 종방향으로 설치되고, 상단이 상기 분무판의 저부에 밀봉되게 연결되며, 저부가 상기 횡방향 격판의 상단과 이격 설치된 제2 종방향 격판; 및

상기 제2 종방향 격판과 상기 박스체의 상기 측판 사이에 종방향으로 설치되고, 상단이 상기 분무판의 저부와 이격 설치되며, 저부가 상기 횡방향 격판의 상단에 고정되어 상기 횡방향 격판과 슬릿이 형성되는 제3 종방향 격판을 더 포함하고,

여기서, 상기 흄 배출관의 상기 타단은 상기 제1 종방향 격판과 상기 제2 종방향 격판 사이에 위치하고; 상기 통구는 상기 횡방향 격판에 설치되며, 상기 제3 종방향 격판과 상기 박스체의 상기 측판 사이에 위치하고; 상기 흄 통로의 출구는 상기 박스체의 상기 측판과 대향되는 다른 측판에 개방 설치되며, 상기 분무판의 하측에 위치한다.

또한, 상기 제1 흄 처리 장치는 흄 입구 및 흄 출구가 개방 설치된 제1 여과 탱크를 더 포함하고, 상기 흄 입구와 상기 흄 출구 사이에는 적어도 한 층의 흄 여과층이 설치되며; 상기 흄 통로의 출구는 상기 제1 여과 탱크를 통해 상기 제1 흄 배출구와 연통되고, 상기 흄 통로의 출구는 상기 제1 여과 탱크의 흄 입구와 연통되며, 상기 제1 여과 탱크의 흄 출구는 상기 제1 흄 배출구와 연통된다.

또한, 상기 제1 흄 처리 장치는 배수관을 더 포함하고; 상기 제1 여과 탱크는 상기 박스체의 하측에 위치하며; 상기 흄 입구는 상기 제1 여과 탱크의 상단에 위치하고, 상기 흄 출구는 상기 제1 여과 탱크의 저부에 위치하며; 상기 배수관의 일단은 상기 제1 여과 탱크의 상단에 연결되고, 상기 배수관의 타단은 상기 박스체 내에서 상기 박스체 내의 저부에 대해 돌출된다.

또한, 상기 제1 흄 처리 장치는 흄 배출관 및 제2 여과 탱크를 더 포함하고; 상기 흄 통로의 출구는 상기 제2 여과 탱크를 통해 상기 제1 여과 탱크의 흄 입구와 연통되며, 제2 여과 탱크의 입구는 상기 송풍기를 통해 상기 흄 통로의 출구와 연통되고, 상기 제2 여과 탱크의 출구는 상기 흄 배출관을 통해 상기 제1 여과 탱크의 흄 입구와 연통되며; 상기 제2 여과 탱크 내에는 적어도 한 층의 흄 여과층이 설치된다.

또한, 상기 밀봉 조리 캐비티의 내부에는 재료투입 장치를 수용하는 재료투입 영역, 조리 기기를 수용하는 요리 영역, 및 요리 출력 장치를 수용하는 요리 출력 영역이 위로부터 아래로 순차적으로 설치된다.

또한, 상기 밀봉 조리 캐비티는 내부 하우징과 외부 하우징으로 조립되고; 상기 내부 하우징은 상기 외부 하우징 내에 고정 장착되며, 상기 내부 하우징과 상기 외부 하우징 사이에는 흄 처리 영역이 형성되고, 상기 흄 처리 영역은 상기 제1 흄 처리 장치 및 제2 흄 처리 장치를 수용한다.

또한, 상기 내부 하우징의 상기 요리 영역이 대향되는 측벽에는 흄 출구가 개방 설치되고, 상기 냄비 뚜껑은 흄 출구가 개방 설치된 상기 내부 하우징의 내측벽에 밀착되게 장착되며, 상기 냄비 뚜껑의 배기홀은 상기 흄 출구와 밀봉되게 연통된다.

또한, 상기 외부 하우징의 상단에는 개폐 가능한 상단 커버 문판이 설치되고, 상기 외부 하우징의 정면의 중간 부분에는 중간 문판이 설치되며, 상기 외부 하우징의 정면의 하부에는 개폐 가능한 보조재 문판이 설치되고, 상기 외부 하우징의 정면의 상부에는 인간 컴퓨터 인터페이스를 장착하기 위한 장착 패널이 개방 설치된다.

또한, 상기 중간 문판과 상기 보조재 문판은 일체로 성형된다.

또한, 상기 상단 커버 문판이 상기 내부 하우징을 향하는 단면에는 상기 내부 하우징 내에 장착된 로딩 장치를 세척하기 위한 로딩 장치 세척 분무헤드가 설치된다.

또한, 상기 내부 하우징의 상단에는 상기 상단 커버 문판을 장착하기 위한 상단 커버구가 장착되고; 상기 내부 하우징의 상기 흄 출구가 대향되는 측벽에는 상기 중간 문판을 장착하기 위한 장착구가 설치되며; 상기 내부 하우징의 상기 장착구가 인접하는 2개의 대향되는 측벽의 중간 부분에는 각각 제1 장착 위치가 설치되어 상기 냄비 본체 반전 기구를 상기 요리 영역에 장착하고; 상기 내부 하우징의 상기 장착구가 인접하는 2개의 대향되는 측벽의 상부에는 각각 제2 장착 위치가 설치되어 상기 로딩 장치를 상기 로딩 영역에 장착하며; 상기 내부 하우징의 저부에는 요리 출력 영역 오염물질 배출구가 설치된다.

또한, 상기 상단 커버구와 상기 장착구의 가장자리에는 모두 밀봉 스트립이 설치된다.

또한, 상기 제1 장착 위치는 장착 홈, 장착 프레임 또는 장착판이고; 상기 제2 장착 위치는 장착 홈, 장착 프레임 또는 장착판이다.

또한, 상기 냄비 뚜껑은 흄 출구가 개방 설치된 상기 내부 하우징의 내측벽에 밀착되게 장착되며, 상기 냄비 뚜껑의 배기홀은 상기 흄 출구와 밀봉되게 연통된다.

또한, 상기 내부 하우징의 상기 장착구 바로 상측에 위치한 측벽에 인간 컴퓨터 인터페이스 장착 장치를 장착하기 위한 제3 장착 위치가 설치되며; 상기 제2 장착 위치는 장착 홈 또는 장착판이다.

또한, 상기 내부 하우징의 저부에는 배수 통로 구조가 더 설치되고; 상기 배수 통로 구조는 중공 구조이며, 상기 배수 통로 구조의 상단에는 오수 수집구가 개방 설치되고, 상기 배수 통로 구조의 바닥단에는 배수구가 개방 설치된다.

또한, 상기 배수 통로 구조는 깔때기형 구조이다.

또한, 상기 내부 하우징의 저부에는 입수관 장착홀이 더 개방 설치된다.

또한, 상기 흄 처리 영역은 흄 입구가 개방 설치된 상기 내부 하우징의 측벽 밖에 위치한다.

상기 내부 하우징과 상기 외부 하우징 사이에는 보조재 장치를 수용하기 위한 보조재 첨가 영역이 더 형성되고, 상기 보조재 첨가 영역은 상기 내부 하우징의 저부 하측에 위치한다.

본 실시예는 내부 하우징을 상기 외부 하우징에 장착하여 하나의 밀봉 조리 캐비티를 형성하여, 조리기에 의해 생성된 흄이 상기 밀봉 조리 캐비티에 밀봉되도록 함으로써, 제1 흄 처리 장치 및/또는 제2 흄 처리 장치의 처리를 거쳐야만 환경에 배출되도록 하거나, 제1 흄 처리 장치 및/또는 제2 흄 처리 장치를 거쳐 처리된 후의 흄을 다시 밀봉 조리 캐비티로 배출시킴으로써, 흄의 제로 배출을 구현하여, 조리기의 흄이 환경에 대한 영향을 크게 감소시킨다.

본 발명의 또 다른 실시예는 상기 조리기 흄 처리 시스템을 포함하는 조리기를 제공한다.

또한, 상기 밀봉 조리 캐비티는 내부 하우징과 외부 하우징으로 조립되고, 상기 내부 하우징은 상기 외부 하우징 내에 고정 장착되며, 상기 내부 하우징과 상기 외부 하우징 사이에는 흄 처리 영역 및 보조재 첨가 영역이 형성되고, 상기 흄 처리 영역은 상기 내부 하우징의 후벽에 위치하며, 상기 보조재 첨가 영역은 상기 내부 하우징의 하측에 위치한다.

또한, 상기 조리기는 상기 밀봉 조리 캐비티에 설치된 재료투입 장치, 조리 기기, 요리 출력 장치, 및 상기 외부 하우징과 내부 하우징 사이에서 조리를 보조하는 보조 조리 기기와 제어 장치를 포함하고; 상기 조리 기기는 냄비 뚜껑, 냄비 본체, 냄비 본체 반전 기구, 냄비 본체 스테이션 제어 장치 및 냄비 본체 가열 장치를 포함하며, 상기 냄비 본체 반전 기구는 상기 냄비 본체가 회전하도록 제어하고, 상기 냄비 본체 스테이션 제어 장치는 상기 냄비 본체 반전 기구의 작동을 구동하는 것을 검출하며, 상기 냄비 본체 가열 장치는 상기 냄비 본체를 가열한다.

또한, 상기 보조 조리 기기는 냄비 본체 승강 장치, 냄비 본체 스테이션 변환 모터, 냄비 본체 스테이션 검출 장치, 재료투입 장치 스테이션 변환 모터 및 재료투입 장치 스테이션 검출 장치를 포함하고; 상기 냄비 본체 승강 장치, 냄비 본체 스테이션 변환 모터 및 냄비 본체 스테이션 검출 장치는 상기 요리 영역과 대향되는 상기 내부 하우징의 양 측벽에 설치되며 상기 조리 기기와 매칭되게 장착되고; 상기 재료투입 장치 스테이션 변환 모터 및 재료투입 장치 스테이션 검출 장치는 각각 상기 로딩 영역과 대향되는 상기 내부 하우징의 양 측벽에 설치되며 각각 상기 재료투입 장치와 매칭되게 장착된다.

또한, 상기 보조 조리 기기는, 상기 내부 하우징의 저부 하측에 설치되고 상기 내부 하우징의 오수 수집구로부터 멀리 떨어져 상기 조리 기기에 보조재를 제공하기 위한 보조재 장치를 더 포함한다.

또한, 상기 보조재 장치는 다수의 보조재 병, 보조재 파이프 및 보조재 펌프를 포함하고, 각각의 상기 보조재 병은 상기 보조재 파이프를 통해 상기 냄비 뚜껑의 보조재 첨가구와 연통되며, 상기 보조재 펌프는 상기 보조재 파이프에 설치되어 상기 보조재 병 중의 보조재를 상기 냄비 본체로 흡입시킨다.

또한, 상기 보조 조리 기기는, 상기 내부 하우징의 하측에 설치되고 상기 내부 하우징 저부 오수 수집구에 밀봉되게 연결된 쓰레기 처리기를 더 포함한다.

또한, 상기 보조 조리 기기는 전기, 전기회로, 전원, 전송선 및 도관 부재를 더 포함한다.

또한, 상기 제1 흄 처리 장치 또는 제2 흄 처리 장치는 모두 상기 내부 하우징과 상기 외부 하우징으로 형성된 공간에 설치되고 상기 내부 하우징의 후벽에 위치한다.

또한, 좌우 프레임을 더 포함하고, 상기 내부 하우징은 상기 좌우 프레임을 통해 상기 하우징의 내부에 고정 장착된다.

선행기술에 비해, 본 발명의 실시예에 따른 조리기는, 외부 하우징과 내부 하우징을 조립하여 내부 하우징에 의해 형성되는 공간을 하나의 밀봉 조리 캐비티로 제조하고, 상기 로딩 장치, 조리 기기 및 요리 출력 장치를 상기 상기 밀봉 조리 캐비티에 설치하며, 보조 조리 기기(냄비 본체 승강 장치, 냄비 본체 스테이션 변환 모터와 냄비 본체 스테이션 검출 장치, 재료투입 장치 스테이션 변환 모터와 재료투입 장치 스테이션 검출 장치, 전기, 전기회로, 전원 및 전송선, 및 관도 등 부재) 및 흄 처리 장치를 상기 밀봉 조리 캐비티 밖에 설치함으로써, 조리 기기에 의해 생성된 흄이 상기 내부 하우징에서의 흄 출구를 통해 흄 처리 장치로 배출되어 처리된 후에야만 환경에 배출되도록 하여, 조리기의 흄이 환경에 대한 영향을 효과적으로 방지한다. 이 밖에, 보조 조리 기기가 조리기의 요리 영역의 고온 다습, 고 산도/알칼리도의 환경의 영향을 받지 않도록 효과적으로 방지할 수 있으므로, 로딩 장치, 조리 기기 및 보조재 장치 등이 지속적으로 작업하도록 확보하고 조리된 식품의 안전을 확보한다.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 조리기 흄 처리 시스템의 구조 모식도이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 흄 처리 장치의 구조 모식도이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 다른 흄 처리 장치의 구조 모식도이다.
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 응축기의 구조 모식도이다.
도 5는 본 발명의 제2 실시예에 의해 제공되는 조리기 흄 처리 시스템의 구조 모식도이다.
도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 흄 처리 장치의 구조 모식도이다.
도 7은 본 발명의 제3 실시예에 의해 제공되는 조리기 흄 처리 시스템의 구조 모식도이다.
도 8은 본 발명의 제3 실시예에 따른 제1 흄 처리 장치의 구조 모식도이다.
도 9는 본 발명의 제3 실시예에 따른 제2 흄 처리 장치의 구조 모식도이다.
도 10은 본 발명의 제4 실시예에 의해 제공되는 조리기 흄 처리 시스템의 구조 모식도이다.
도 11은 본 발명의 제5 실시예에 의해 제공되는 조리기 흄 처리 시스템의 구조 모식도이다.
도 12는 본 발명의 제5 실시예에 따른 흄 처리 장치의 구조 모식도이다.
도 13은 본 발명의 제5 실시예에 따른 흄 처리 장치의 부분 단면도이다.
도 14는 본 발명의 제6 실시예에 의해 제공되는 조리기 흄 처리 시스템의 구조 모식도이다.
도 15는 본 발명의 제6 실시예에 의해 제공되는 흄 처리 장치의 구조 모식도이다.
도 16은 본 발명의 제7 실시예에 의해 제공되는 흄 처리 장치의 구조 모식도이다.
도 17은 본 발명의 제8 실시예에 의해 제공되는 흄 처리 장치의 구조 모식도이다.
도 18은 본 발명의 제9 실시예에 의해 제공되는 밀봉 조리 캐비티의 전측 모식도이다.
도 19는 본 발명의 제9 실시예에 의해 제공되는 밀봉 조리 캐비티의 후측 모식도이다.
도 20은 본 발명의 제9 실시예에 따른 상기 밀봉 조리 캐비티를 구비하는 조리기의 구조 모식도이다.
도 21은 본 발명의 제9 실시예에 따른 조리기의 제2 하우징의 구조 모식도이다.
도 22는 본 발명의 제10 실시예에 의해 제공되는 밀봉 조리 캐비티의 구조 모식도이다.
도 23은 본 발명의 제10 실시예상기 내부 하우징의 사시도이다.
도 24는 본 발명의 제10 실시예상기 내부 하우징의 저면도이다.
도 25는 본 발명의 제10 실시예상기 내부 하우징의 측면도이다.
도 26은 본 발명의 제10 실시예상기 내부 하우징의 배면도이다.
도 27 내지 도 32는 본 발명의 제11 실시예에 의해 제공되는 조리기의 구조 모식도 및 각 기능 조립의 구조 모식도이다.

이하, 본 발명의 실시예에 따른 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 기술적 해결수단을 명확하고 완전하게 설명한다. 물론 설명되는 실시예는 본 발명의 일부 실시예일 뿐 전체 실시예가 아니며, 본 발명의 실시예에 기반하여 당업자가 진보성 창출에 힘 쓸 필요없이 획득된 다른 모든 실시예는 모두 본 발명의 보호 범위 내에 속할 것이다.

본 발명의 실시예는 조리기 흄 처리 시스템을 제공하고, 상기 조리기 흄 처리 시스템은 하나의 밀봉 조리 캐비티를 형성하여 조리기의 조리 기기를 장착하여, 상기 조리 기기에 의해 생성된 흄이 상기 밀봉 캐비티 내에 모이도록 하므로 직접 조리기 밖으로 넘쳐나지 않는 동시에, 흄 처리 장치를 상기 조리 기기 및/또는 상기 밀봉 조리 캐비티와 연통시켜, 조리 기기에 의해 생성된 흄이 흄 처리 장치의 처리를 거쳐야만 환경에 배출되도록 하거나, 흄이 상기 밀봉 조리 캐비티 및 흄 처리 장치에서 끊임없이 순환되도록 하여 흄의 제로 배출을 구현함으로써, 조리기의 흄이 환경에 대한 영향을 크게 감소시킨다.

이하, 다양한 구체적인 실시예를 결부하여 본 발명에 의해 제공되는 조리기 흄 처리 시스템이 구체적인 실시 환경(예를 들어, 조리기)에 응용되는 구체적인 실시 구조, 구체적인 실시형태 및 작업 원리를 상세하게 설명하도록 한다.

실시예 1

도 1을 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 조리기 흄 처리 시스템의 구조 모식도이다.

본 실시예에서, 상기 조리기 흄 처리 시스템은 밀봉 조리 캐비티(A100) 및 제1 흄 처리 장치(A200)를 포함한다.

상기 밀봉 조리 캐비티(A100) 내에는 조리 기기(A101)가 설치된다. 상기 제1 흄 처리 장치(A200)에는 제1 흄 유입구(A201) 및 제1 흄 배출구(A202)가 설치된다. 상기 제1 흄 처리 장치(A200)의 제1 흄 유입구(A201)는 상기 조리 기기(A101)와 연통되고, 상기 제1 흄 처리 장치(A200)의 제1 흄 배출구(A202)는 상기 밀봉 조리 캐비티(A100)의 외부에 연통된다.

본 실시예에서, 상기 조리 기기(A101)는 냄비 본체(A1011) 및 냄비 뚜껑(A1012)을 포함하고, 상기 냄비 뚜껑(A1012)은 상기 냄비 본체(A1011)의 냄비입구와 협력하여, 상기 냄비 본체(A1011)를 개폐하며; 상기 냄비 뚜껑(A1012)에는 배기홀(A1012a)이 설치되고, 상기 제1 흄 처리 장치(A200)의 제1 흄 유입구(A201)는 흄 유입관을 통해 상기 배기홀(A1012a)에 밀봉 연결되어 상기 조리 기기(A101)와 연통된다.

도 2를 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 흄 처리 장치의 구조 모식도이다.

본 실시예에서, 상기 제1 흄 처리 장치(A200)는 순차적으로 연통된 제1 분무 캐비티(A203), 응축 캐비티(A204), 제2 분무 캐비티(A205)와 여과 캐비티(A206), 및 다수의 분무 헤드(A207), 분무도관(A208)과 분무 물 펌프(A209)를 포함한다.

상기 제1 분무 캐비티(A203)와 응축 캐비티(A204) 사이, 응축 캐비티(A204)와 제2 분무 캐비티(A205) 사이에는 각각 공통 측벽이 설치되고; 상기 다수의 분무 헤드(A207)는 상기 제1 분무 캐비티(A203)와 제2 분무 캐비티(A205)의 상단에 설치되고 모두 상기 분무도관(A208)을 통해 상기 분무 물 펌프(A209)에 연결되며; 상기 응축 캐비티(A204)의 내부 캐비티에는 응축기(A2041)가 설치되고; 상기 여과 캐비티(A206) 내에는 평행되게 분포된 다수의 여과망(A2061)이 설치된다.

상기 제1 흄 유입구(A201)는 상기 제1 분무 캐비티(A203)의 저부 또는 상기 제1 분무 캐비티(A203)에서 상기 응축 캐비티(A204)로부터 멀리 떨어진 측벽에 설치되고, 상기 제1 흄 배출구(A202)는 상기 여과 캐비티(A206)에서 상기 제2 분무 캐비티(A205)로부터 멀리 떨어진 측벽에 설치된다.

조리기가 작업할 시, 상기 냄비 뚜껑(A1012)과 상기 냄비 본체(A1011)는 닫히고, 상기 조리 기기(A101) 중의 흄 가스는 상기 냄비 뚜껑(A1012)의 배기홀(A1012a)을 거쳐 상기 제1 흄 처리 장치(A200)에 진입하며, 상기 제1 분무 캐비티(A203), 응축 캐비티(A204), 제2 분무 캐비티(A205) 및 여과 캐비티(A206)를 순차적으로 거쳐 분무, 응축, 재분무 및 여과의 계단식 처리 과정을 구현한다. 도 2에서의 화살표와 같이, 흄 가스는 먼저 상기 제1 분무 캐비티(A203)를 거쳐 분무 처리되어 초보적으로 온도를 낮추는 효과를 달성하고, 동시에 분무 수증기는 부분적 분진 과립 및 유해 물질을 흡착하여 초보적으로 흄 분리를 구현한다. 다음, 상기 응축 캐비티(A204)를 통해 상기 응축기(A2041)와 열교환을 수행하고, 흄 가스를 충분히 냉각시켜, 흄 가스 중의 유지가 유액으로 응결되도록 하여 흄 가스로부터 분리시키고, 그 중의 대부분의 유지를 제거할 수 있다. 그 다음, 상기 제2 분무 캐비티(A205)의 분무 수증기의 분무 작용을 통해 온도 하강 및 흡착 처리를 수행하는데, 이때, 흄 가스는 이미 완전히 냉각되어, 함유된 오일 과립, 분진 성분이 미미해지도록 한다. 마지막으로, 여과 캐비티(A206)에 진입하여 그 중 매 층의 여과망(A2061)을 거쳐 나머지 유지, 분진 등 대분자 물질을 여과할 수 있으므로, 흄 처리 능력을 크게 증강시키고, 조리 과정에서 생성되는 다량의 흄을 신속하고 효과적으로 처리함으로써, 제1 흄 배출구(A202)로부터 배출되는 기체가 신선한 공기의 성분과 거의 일치하도록 한다.

바람직하게는, 상기 제1 흄 처리 장치(A200)는 송풍기(A210), 물 저장탱크(A211), 다수의 세척 분무헤드(A212), 세척도관(A213) 및 세척 물 펌프(A214)를 더 포함한다.

도 3에 도시된 바와 같이, 상기 송풍기(A210)는 상기 제2 분무 캐비티(A205)와 상기 여과 캐비티(A206) 사이에 설치되어 상기 제2 분무 캐비티(A205)와 상기 여과 캐비티(A206)를 연통시키고; 상기 물 저장탱크(A211)는 상기 제2 분무 캐비티(A205)와 상기 응축 캐비티(A204)의 하측에 위치하며, 상기 물 저장탱크(A211)의 용량 수평면은 상기 제2 분무 캐비티(A205)의 측벽, 상단과 상기 제2 분무 캐비티(A205)의 내부 캐비티를 형성하며, 상기 물 저장탱크(A211)의 용량 수평면은 상기 응축 캐비티(A204)의 측벽, 상단과 상기 응축 캐비티(A204)의 내부 캐비티를 형성하고; 상기 물 저장탱크(A211)는 상기 분무 물 펌프(A209)와 연통되어 상기 제2 분무 캐비티(A205) 및 제1 분무 캐비티(A203)가 상기 물 저장탱크(A211) 내의 물과 순환 유동하도록 하며; 상기 제1 분무 캐비티(A203)와 응축 캐비티(A204) 사이, 상기 응축 캐비티(A204)와 제2 분무 캐비티(A205) 사이의 공통 측벽에도 응축기(A2041)가 설치된다.

상기 다수의 세척 분무헤드(A212)는 상기 응축 캐비티(A204)의 상단에 설치되고, 각각의 상기 세척 분무헤드(A212)는 세척도관(A213)을 통해 세척 물 펌프(A214)에 연결된다. 상기 여과 캐비티(A206)는 제1 분무 캐비티(A203)와 상기 응축 캐비티(A204)의 상측에 위치하고, 상기 여과 캐비티(A206), 상기 제1 분무 캐비티(A203) 및 상기 응축 캐비티(A204) 사이에 슬릿이 구비되어 상기 분무도관(A208)과 세척도관(A213)을 수용한다.

물 저장탱크(A211)를 상기 제2 분무 캐비티(A205)와 상기 응축 캐비티(A204)의 하측에 설치하고, 상기 물 저장탱크(A211)와 상기 분무 물 펌프(A209)를 연통시켜, 세정 후의 물과 흄 가스가 분무 수증기를 거쳐 응축 및 흡착된 후 액체 방물을 형성하여 직접 상기 물 저장탱크(A211)에 진입되도록 하고, 물 저장탱크(A211) 내의 액화수는 상기 분무 물 펌프(A209)를 거쳐 다시 분무 수증기로 변하여 흄 가스를 응축 및 흡착함으로써, 제1 흄 처리 장치(A200)의 내부 순환 시스템을 형성하여, 흄 가스를 효과적으로 처리하는 동시에 물 자원의 순환 이용을 구현하므로, 물 자원의 낭비를 방지한다. 상기 여과 캐비티(A206)는 제1 분무 캐비티(A203)와 응축 캐비티(A204)의 상측에 위치하고, 상기 여과 캐비티(A206), 제1 분무 캐비티(A203) 및 응축 캐비티(A204) 사이에는 슬릿이 구비되어 상기 분무도관(A208)과 세척도관(A213)을 수용하여, 상기 제1 흄 처리 장치(A200)의 구조가 더욱 치밀해지도록 하고, 공간을 절약하므로, 기기 소형화 및 고 효율화의 추세에 부합된다. 상기 송풍기(A210)는 상기 제2 분무 캐비티(A205)와 여과 캐비티(A206) 사이에 위치하여 상기 제2 분무 캐비티(A205)와 여과 캐비티(A206)를 연통시키고, 송풍기(A210)를 이용하여 제1 분무 캐비티(A203), 응축 캐비티(A204), 제2 분무 캐비티(A205) 및 여과 캐비티(A206) 내에 부압이 형성되도록 하며, 가열 후의 조리 기기(A101)가 정압이 되도록 하여, 흄이 조리 기기(A101)로부터 상기 제1 흄 처리 장치(A200)로 유동되도록 하고, 흄을 휴대한 열기류는 분무, 응축 및 여과 작용을 순차적으로 받아, 원활하게 유동하며, 대부분의 흄을 효과적으로 여과함으로써, 비교적 깨끗한 기체를 배출한다. 상기 응축 캐비티(A204)의 상단에 다수의 세척 분무헤드(A212)을 설치하여, 상기 공통 측벽 및 응축 캐비티(A204) 중의 응축기(A2041)를 세정하여, 응축기(A2041)를 깨끗하게 유지할 수 있음으로써, 오일 방울이 응축기(A2041)의 표면에 부착되어 응축 효과에 영향주는 것을 방지한다.

도 4를 참조하면, 본 실시예에서, 상기 응축기(A2041)는 다수의 방열 시트(A2041a) 및 응축관(A2041b)을 포함한다. 상기 방열 시트(A2041a) 사이의 슬릿은 상기 제1 분무 캐비티(A203)로부터 응축 캐비티(A204)까지, 응축 캐비티(A204)로부터 제2 분무 캐비티(A205)까지의 흄 가스의 통로를 형성하고, 상기 구조에 기반하여, 고열의 흄 가스는 응축기(A2041)의 방열 시트(A2041a)와 응축관(A2041b) 외부를 관통하여, 방열 시트(A2041a)와 응축관(A2041b)의 금속의 냉각 작용을 받아, 열교환을 충분히 수행함으로써, 흄 가스의 온도를 감소시키는 목적에 도달하여, 흄 가스 중의 유지가 유액으로 응결되도록 한다.

바람직하게는, 상기 응축기(A2041)는 방열 시트(A2041a)와 응축관(A2041b)이 서로 네스팅(nesting)되어 형성될 수 있고, 이러한 구조는 열 전달 및 교환에 더욱 유리하며, 응축 효과를 가속화시킨다.

본 실시예에서, 상기 응축관(A2041b)은 상기 세척도관(A213)을 통해 세척 물 펌프(A214) 및 세척 분무헤드(A212)에 각각 연결되고; 상기 세척 분무헤드(A212)가 세정 작업을 진행할 시 물의 유동은 상기 응축관(A2041b)에 의해 흡수된 흄 가스의 열을 가져가, 응축관(A2041b)의 온도를 감소시킴으로써, 응축관(A2041b)이 계속하여 흄 가스와 열교환을 진행하도록 하여, 흄 처리의 효율을 향상시킨다.

설명해야 할 것은, 본 실시예에 따른 상기 제1 흄 처리 장치는 하나의 예일 뿐, 다른 구조의 흄 처리 장치를 사용할 수도 있는데, 예를 들어, 본 실시예의 제1 흄 처리 장치는 이하 설명되는 실시예 3에서의 도 8에 도시된 구조를 사용하거나 다른 실시예에서 언급된 흄 처리 장치의 구조를 사용할 수도 있고, 마찬가지로, 본 발명의 실시예가 해결하고자 하는 기술적 과제를 해결할 수 있고 대응되는 기술적 효과를 얻을 수 있다.

선행기술에 비해, 본 실시예에 따른 조리기 흄 처리 시스템은 밀봉 조리 캐비티(A100)를 설치하여 조리기의 조리 기기(A101)에 의해 생성된 흄이 상기 밀봉 조리 캐비티(A100)에 밀봉되도록 함으로써, 상기 제1 흄 처리 장치(A200)의 처리를 거쳐야만 환경에 배출되도록 하여 조리기의 흄이 환경에 대한 영향을 감소시킬 수 있다.

실시예 2

도 5를 참조하면, 본 발명의 제2 실시예에 의해 제공되는 조리기 흄 처리 시스템의 구조 모식도이다.

본 실시예에서, 상기 조리기 흄 처리 시스템은 밀봉 조리 캐비티(B100) 및 제1 흄 처리 장치(B200)를 포함한다.

상기 밀봉 조리 캐비티(B100) 내에는 조리 기기(B101)가 설치되고, 상기 제1 흄 처리 장치(B200)에는 제1 흄 유입구(B201), 제2 흄 유입구(B201A) 및 제1 흄 배출구(B202)가 설치된다. 상기 제1 흄 처리 장치(B200)의 제1 흄 유입구(B201)는 상기 조리 기기(B101)와 연통되고, 상기 제2 흄 유입구(B201A)는 상기 밀봉 조리 캐비티(B100)와 연통되며, 상기 제1 흄 처리 장치(B200)의 제1 흄 배출구(B202)는 상기 밀봉 조리 캐비티(B100)의 외부에 연통된다.

본 실시예에서, 상기 조리 기기(B101)는 냄비 본체(B1011) 및 냄비 뚜껑(B1012)을 포함하고, 상기 냄비 뚜껑(B1012)은 상기 냄비 본체(B1011)의 냄비입구와 협력하여, 상기 냄비 본체(B1011)를 개폐하며; 상기 냄비 뚜껑(B1012)에는 배기홀(B1012a)이 설치되고, 상기 제1 흄 처리 장치(B200)의 제1 흄 유입구(B201)는 흄 유입관을 통해 상기 배기홀(B1012a)에 밀봉 연결되어 상기 조리 기기(B101)와 연통된다.

도 6을 참조하면, 본 발명의 제2 실시예에 의해 제공되는 흄 처리 장치의 구조 모식도이다.

본 실시예에서, 상기 제1 흄 처리 장치(B200)는 순차적으로 연통된 제1 분무 캐비티(B203), 응축 캐비티(B204), 제2 분무 캐비티(B205)와 여과 캐비티(B206), 및 다수의 분무 헤드(B207), 분무도관(B208), 분무 물 펌프(B209), 제1 송풍기(B210), 물 저장탱크(B211), 다수의 세척 분무헤드(B212), 세척도관(B213)과 세척 물 펌프(B214)를 포함한다.

상기 제1 분무 캐비티(B203)와 응축 캐비티(B204) 사이, 응축 캐비티(B204)와 제2 분무 캐비티(B205) 사이에는 각각 공통 측벽이 설치된다.

상기 제1 송풍기(B210)는 상기 제2 분무 캐비티(B205)와 여과 캐비티(B206) 사이에 설치되어 상기 제2 분무 캐비티(B205)와 여과 캐비티(B206)를 연통시킨다.

상기 물 저장탱크(B211)는 상기 제2 분무 캐비티(B205)와 상기 응축 캐비티(B204)의 하측에 위치하고, 상기 물 저장탱크(B211)의 용량 수평면은 상기 제2 분무 캐비티(B205)의 측벽, 상단과 상기 제2 분무 캐비티(B205)의 내부 캐비티를 형성하며, 상기 물 저장탱크(B211)의 용량 수평면은 상기 응축 캐비티(B204)의 측벽, 상단과 상기 응축 캐비티(B204)의 내부 캐비티를 형성한다.

상기 다수의 분무 헤드(B207)는 상기 제1 분무 캐비티(B203)와 제2 분무 캐비티(B205)의 상단에 설치되고 모두 상기 분무도관(B208)을 통해 상기 분무 물 펌프(B209)에 연결된다.

상기 다수의 세척 분무헤드(B212)는 상기 응축 캐비티(B204)의 상단에 설치되고, 각각의 상기 세척 분무헤드(B212)는 세척도관(B213)을 통해 세척 물 펌프(B214)에 연결된다. 상기 응축 캐비티(B204)의 내부 캐비티 및 상기 제1 분무 캐비티(B203)와 응축 캐비티(B204) 사이, 상기 응축 캐비티(B204)와 제2 분무 캐비티(B205) 사이의 공통 측벽에는 모두 응축기(B2041)가 설치된다.

상기 제2 분무 캐비티(B205) 및 제1 분무 캐비티(B203)가 상기 물 저장탱크(B211) 내의 물과 순환 유동하도록 상기 물 저장탱크(B211)는 상기 분무 물 펌프(B209)와 연통된다.

상기 여과 캐비티(B206)는 상기 제1 분무 캐비티(B203)와 상기 응축 캐비티(B204)의 상측에 위치하고, 상기 여과 캐비티(B206), 상기 제1 분무 캐비티(B203) 및 상기 응축 캐비티(B204) 사이에 슬릿이 구비되어 상기 분무도관(B208)과 세척도관(B213)을 수용한다. 상기 여과 캐비티(B206) 내에는 평행되게 분포된 다수의 여과망(B2061)이 설치된다.

본 실시예에서, 상기 제1 흄 유입구(B201)와 상기 제2 흄 유입구(B201A)는 상기 제1 분무 캐비티(B203)의 저부에 설치된다. 상기 제1 흄 유입구(B201)는 상기 냄비 뚜껑(B1012)의 배기홀(B1012a)과 연통되고, 상기 제2 흄 유입구(B201A)는 상기 밀봉 조리 캐비티(B100)와 연통된다. 상기 제1 흄 배출구(B202)는 상기 여과 캐비티(B206)에서 상기 제1 송풍기(B210)로부터 멀리 떨어진 측벽에 설치된다.

본 실시예에서, 상기 제1 분무 캐비티(B203) 내에는 거꾸로 된 V형의 통로구 보호 시트(B2031)가 더 설치된다. 상기 통로구 보호 시트(B2031)는 상기 제1 흄 유입구(B201)와 상기 제2 흄 유입구(B201A)의 상측에 위치하고, 상기 통로구 보호 시트(B2031)와 제1 분무 캐비티(B203)의 측벽 사이에는 슬릿이 구비되며; 상기 제1 분무 캐비티(B203)의 저부는 상기 물 저장탱크(B211)의 용량 수평면과 동일한 평면에 있고, 상기 제1 분무 캐비티(B203')의 저부에는 오버 플로우(B2032) 및 배수관(B2033)이 더 설치되며, 상기 오버 플로우(B2032)는 배수관(B2033)의 일단에 연결된다.

상기 구조에 기반하여, 조리기의 냄비 본체(B1011) 내 및 조리기의 밀봉 조리 캐비티(B100) 내의 흄은 각각 제1 흄 유입구(B201) 및 제2 흄 유입구(B201A)를 통해 제1 흄 처리 장치(B200)에 진입한다. 조리기의 냄비 본체(B1011) 내 및 조리기의 밀봉 조리 캐비티(B100) 내의 흄은 모두 흄 처리 장치를 통해 정화 처리된 후에야만 환경에 배출됨으로써, 흄이 환경에 대한 오염을 방지한다.

바람직하게는, 상기 제1 흄 처리 장치(B200)는 제1 흄 유입관(B215) 및 제2 흄 유입관(B216)을 더 포함한다. 상기 제1 흄 유입관(B215)의 일단은 상기 제1 흄 유입구(B201)를 관통하여 상기 통로구 보호 시트(B2031)의 바로 하측에 위치하고, 상기 제2 흄 유입관(B216)의 일단은 상기 제2 흄 유입구(B201A)를 관통하여 상기 통로구 보호 시트(B2031)의 바로 하측에 위치한다.

본 실시예에서, 상기 제1 분무 캐비티(B203) 내에는 거꾸로 된 V형의 통로구 보호 시트(B2031)가 설치되고, 상기 통로구 보호 시트(B2031)는 상기 제1 흄 유입구(B201)와 상기 제2 흄 유입구(B201A)의 상측에 위치하며, 상기 통로구 보호 시트(B2031)와 제1 분무 캐비티(B203)의 측벽 사이에 슬릿이 구비되어, 제1 분무 캐비티(B203) 내의 응축액이 조리 기기(B101)에 진입하여 오염과 폐쇄를 일으키는 것을 방지한다. 상기 제1 분무 캐비티(B203) 내의 분무 수증기가 흄 가스를 응축 및 흡착한 후 형성된 응축액이 거꾸로 된 V형의 통로 보호 시트(B2031)의 표면을 따라 구르도록 한 다음, 상기 통로구 보호 시트(B2031)와 제1 분무 캐비티(B203)의 측벽 사이의 슬릿으로부터 상기 제1 분무 캐비티(B203)의 저부에 도달하도록 한다. 상기 제1 분무 캐비티(B203)의 저부는 상기 물 저장탱크(B211)의 용량 수평면과 동일한 평면에 있고, 상기 제1 분무 캐비티(B203)의 저부에는 오버 플로우(B2032)가 더 설치되며, 물 저장탱크(B211)의 액면이 오버 플로우(B2032)보다 높을 경우, 나머지 물은 오버 플로우(B2032)로부터 배출됨으로써, 물 저장탱크(B211) 내의 액면이 용량 수평면과 동일한 평면을 유지하도록 한다. 상기 해결수단을 통해, 상기 흄 처리 장치의 기능은 더욱 완전해지고, 흄 가스를 효과적으로 처리할 수 있으며, 조리기 작업에 의해 생성된 대량의 흄 처리에 적용되고, 효과가 현저하다.

선행기술에 비해, 본 실시예에 따른 조리기 흄 처리 시스템은, 상기 제1 흄 처리 장치(B200)의 제1 흄 유입구(B201)를 상기 조리 기기(B101)와 연통시키고, 상기 제2 흄 유입구(B201A)를 상기 밀봉 조리 캐비티(B100)와 연통시키며, 상기 제1 흄 처리 장치(B200)의 제1 흄 배출구(B202)를 상기 밀봉 조리 캐비티(B100)의 외부에 연통시킴으로써, 상기 조리 기기(B101)와 상기 밀봉 조리 캐비티(B100) 중의 흄이 모두 상기 제1 흄 처리 장치(B200)를 거쳐 정화 처리된 후에야만 환경에 배출됨으로써, 흄이 환경에 대한 영향을 크게 감소시킨다.

실시예 3

도 7을 참조하면, 본 발명의 제3 실시예에 의해 제공되는 조리기 흄 처리 시스템의 구조 모식도이다.

본 실시예에서, 상기 조리기 흄 처리 시스템은 밀봉 조리 캐비티(C100), 제1 흄 처리 장치(C200) 및 제2 흄 처리 장치(C300)를 포함한다.

상기 밀봉 조리 캐비티(C100) 내에는 조리 기기(C101)가 설치된다. 상기 제1 흄 처리 장치(C200)에는 제1 흄 유입구(C201) 및 제1 흄 배출구(C202)가 설치된다. 상기 제1 흄 처리 장치(C200)의 제1 흄 유입구(C201)는 상기 조리 기기(C101)와 연통되고, 상기 제1 흄 처리 장치(C200)의 제1 흄 배출구(C202)는 상기 밀봉 조리 캐비티(C100)의 외부에 연통된다. 상기 제2 흄 처리 장치(C300)에는 제3 흄 유입구(C301) 및 제2 흄 배출구(C302)가 설치되고, 상기 제3 흄 유입구(C301)는 상기 밀봉 조리 캐비티(C100)와 연통되며, 상기 제2 흄 배출구(C302)는 상기 밀봉 조리 캐비티(C100)의 외부에 연통된다.

본 실시예에서, 상기 조리 기기(C101)는 냄비 본체(C1011) 및 냄비 뚜껑(C1012)을 포함하고, 상기 냄비 뚜껑(C1012)은 상기 냄비 본체(C1011)의 냄비입구와 협력하여, 상기 냄비 본체(C1011)를 개폐하며; 상기 냄비 뚜껑(C1012)에는 배기홀(C1012a)이 설치되고, 상기 제1 흄 처리 장치(C200)의 제1 흄 유입구(C201)는 상기 배기홀(C1012a)에 밀봉 연결되어 상기 조리 기기(C101)와 연통된다.

도 8을 참조하면, 본 발명의 제3 실시예에 따른 제1 흄 처리 장치의 구조 모식도이다.

본 실시예에서, 상기 제1 흄 처리 장치(C200)는 흄 가이드관(C203), 응축관(C204), 응축액 수집기(C205) 및 덕트팬(C206)을 포함한다.

상기 흄 가이드관(C203)의 공기 유입단은 상기 냄비 뚜껑(C1012)의 배기홀(C1012a)에 연결되고, 상기 흄 가이드관(C203)의 배기단은 상기 응축관(C204)의 공기 유입단에 연결되며, 상기 응축관(C204)의 배기단은 상기 덕트팬(C206)에 연결되고, 상기 덕트팬(C206)의 배기단은 환경에 연통되며; 상기 응축액 수집기(C205)는 상기 응축관(C204)의 중간 부분에 연결되고, 구체적으로, 상기 응축액 수집기(C205)는 상기 응축관(C204)의 중간 부분의 절단 위치 또는 개구에 연결된다. 상기 응축액 수집기(C205)의 설치 높이는 상기 응축관(C204)의 공기 유입단 및 배기단의 설치 높이보다 낮다. 바람직하게는, 상기 응축액 수집기(C205)는 액체 저장용기(C2051), 액체 배출 제어 밸브(미도시) 및 액체 배출관(C2052)을 포함할 수 있다.

본 실시예에서, 상기 흄 가이드관(C203)의 공기 유입단은 상기 제1 흄 처리 장치(C200)의 제1 흄 유입구(C201)이고, 상기 덕트팬(C206)의 배기단은 제1 흄 처리 장치(C200)의 제1 흄 배출구(C202)이다.

본 실시예에서, 상기 응축관(C204)은 수직 방향을 따라 설치된 제1 응축관(C2041) 및 제2 응축관(C2042)을 포함한다. 상기 제1 응축관(C2041)의 공기 유입단은 상기 흄 가이드관(C203)의 배기단에 연결되고, 상기 제1 응축관(C2041)의 배기단은 상기 제2 응축관(C2042)의 공기 유입단에 연결되며, 상기 제2 응축관(C2042)의 배기단은 상기 덕트팬(C206)의 공기 유입구에 연결되고, 상기 응축액 수집기(C205)는 상기 제1 응축관(C2041) 및 제2 응축관(C2042)의 연결 위치에 설치된다.

상기 제1 응축관(C2041) 및 제2 응축관(C2042)은 “S”자형 응축관이다. 바람직하게는, 상기 제1 응축관(C2041)과 제2 응축관(C2042)은 서로 교차되어 대칭되게 분포된다. 상기 제1 응축관(C2041)과 제2 응축관(C2042)은 상기 응축액 수집기(C205)에서 교차된다. 상기 응축액 수집기(C205)의 액체 배출관(C2053)은 수직으로 아래로 향해 연장되고, 응축액 수집기(C205)의 액체 저장용기(C2051)에 의해 수집된 응축 액체를 제1 흄 처리 장치(C200) 밖으로 배출시켜 처리한다.

사용 과정에서, 덕트팬(C206)을 통해 제1 응축관(C2041) 및 제2 응축관(C2042) 내에서 부압이 발생되도록 하고, 흄은 흄 가이드관(C203)을 거쳐 제1 응축관(C2041)에 진압하며, 일부분의 흄 가스는 액체 상태로 응축되어 응축액 수집기(C205)에 유입되고, 다른 일부분의 흄 가스는 부압의 작용 하에 계속하여 제2 응축관(C2042)에 진입하여 액체 상태로 응축되어 응축액 수집기(C205)에 유입되며; 이중 응축관의 설계를 통해, 응축 효율을 크게 향상시킨다. 상기 응축관(C204)은 금속 재질을 사용할 수 있고, 금속의 특성을 이용하여 신속하게 냉각시켜 온도를 감소시키고, 응축 효율이 높으며, 효과가 좋다.

상기 흄 가이드관(C203)은 플라스틱, 실리카겔, 나일론 등 열전도 및 방열이 늦고, 응축 효과가 낮은 재질을 사용할 수 있다. 상기 흄 가이드관(C203)의 기능 및 작용은 조리 기기(C101)와 응축관(C204)을 연결시키고, 양자 사이의 기류를 연결시키는 것이므로, 흄을 휴대한 열기류가 흄 가이드관(C203) 내에서 응축되는 말아야 한다. 상기 흄 가이드관(C203)은 수직 방향을 따라 연장되고, 상기 흄 가이드관(C203)의 공기 유입구는 조리 기기(C101)와 상접하며, 상기 흄 가이드관(C203)의 공기 배출구는 연결 부재를 통해 제2 응축관(C2042)과 상접하고, 상기 흄 가이드관(C203)의 공기 배출구는 공기 유입구보다 높다.

바람직하게는, 상기 제1 흄 처리 장치(C200)는 상기 응축관(C204)을 방열시키는 방열기(C207)를 더 포함한다. 상기 방열기(C207)는 방열 팬일 수 있고, 방열 팬을 통해 상기 응축관(C204)에 냉각풍을 제공하여, 상기 응축관(C204)에 대해 냉풍 방열 처리한다. 이 밖에, 상기 방열기(C207)는 액체 상태 냉각 매체가 가득 찬 응축 탱크일 수도 있고, 상기 응축관(C204)은 상기 냉각 매체에 침지되어, 상기 응축관(C204)이 냉각된 냉각 매체와 직접 접촉되도록 하여, 상기 응축관(C204)의 방열 속도를 가속화시킴으로써, 흄의 응축 효율을 향상시킨다.

도 9를 참조하면, 본 발명의 제3 실시예에 의해 제공되는 제2 흄 처리 장치의 구조 모식도이다.

본 실시예에서, 상기 제2 흄 처리 장치(C300)는 제2 송풍기(C303) 및 여과망 필터(C304)를 포함한다.

상기 제2 송풍기(C303)의 바람 유입구는 상기 밀봉 조리 캐비티(C100'')와 연통되고, 상기 제2 송풍기(C303)의 바람 배출구는 상기 여과망 필터(C304)의 바람 유입구에 연결되며, 상기 여과망 필터(C304)의 흄 배출구는 상기 밀봉 조리 캐비티(C100)의 외부에 연통된다.

상기 제2 송풍기(C303)는 상기 밀봉 조리 캐비티(C100) 내의 흄을 상기 여과망 필터(C304)로 흡입시켜 여과 처리한 후 환경에 배출시킨다.

본 실시예에서, 상기 제2 송풍기(C303)의 바람 유입구는 상기 제2 흄 처리 장치(C300)의 제3 흄 유입구(C301)이고, 상기 여과망 필터(C304)의 흄 배출구는 상기 제2 흄 처리 장치(C300)의 제2 흄 배출구(C302)이다.

상기 구조에 기반하여, 상기 밀봉 조리 캐비티(C100) 내의 흄은 상기 여과망 필터(C304)의 여과 처리를 거친 후 환경에 배출됨으로써, 흄이 환경에 대한 영향을 효과적으로 방지한다.

설명해야 할 것은, 본 실시예에 따른 상기 제2 흄 처리 장치의 구조는 예일 뿐, 상기 제2 흄 처리 장치는 제1 흄 처리 장치의 구조와 동일할 수도 있고, 다른 구조의 흄 처리 장치일 수도 있는데, 예를 들어, 실시예 1과 실시예 2의 흄 처리 장치일 수도 있으므로, 여기서 구체적으로 한정하지 않는다.

선행기술에 비해, 본 실시예에 따른 조리기 흄 처리 시스템은, 제1 흄 처리 장치(C200) 및 제2 흄 처리 장치(C300)를 설치하여 상기 조리 기기(C101) 중의 흄 및 밀봉 조리 캐비티(C100) 중의 흄에 대해 각각 정화 처리한 후 배출시킴으로써, 흄이 환경에 대한 오염을 효과적으로 감소시킨다.

실시예 4

도 10을 참조하면, 본 발명의 제4 실시예에 따른 조리기 흄 처리 시스템의 구조 모식도이다.

본 실시예에서, 상기 조리기 흄 처리 시스템은 밀봉 조리 캐비티(D100), 제1 흄 처리 장치(D200) 및 제2 흄 처리 장치(D300)를 포함한다.

상기 밀봉 조리 캐비티(D100) 내에는 조리 기기(D101)가 설치된다. 상기 제1 흄 처리 장치(D200)에는 제1 흄 유입구(D201) 및 제1 흄 배출구(D202)가 설치된다. 상기 제1 흄 처리 장치(D200)의 제1 흄 유입구(D201)는 상기 조리 기기(D101)와 연통되고, 상기 제1 흄 처리 장치(D200)의 제1 흄 배출구(D202)는 상기 밀봉 조리 캐비티(D100)와 연통된다. 상기 제2 흄 처리 장치(D300)에는 제3 흄 유입구(D301) 및 제2 흄 배출구(D302)가 설치되고, 상기 제3 흄 유입구(D301)는 상기 밀봉 조리 캐비티(D100)와 연통되며, 상기 제2 흄 배출구(D302)는 상기 밀봉 조리 캐비티(D100)의 외부에 연통된다.

본 실시예에서, 상기 조리 기기(D101)는 냄비 본체(D1011) 및 냄비 뚜껑(D1012)을 포함하고, 상기 냄비 뚜껑(D1012)은 상기 냄비 본체(D1011)의 냄비입구와 협력하여, 상기 냄비 본체(D1011)를 개폐하며; 상기 냄비 뚜껑(D1012)에는 배기홀(D1012a)이 설치되고, 상기 제1 흄 처리 장치(D200)의 제1 흄 유입구(D201)는 상기 배기홀(D1012a)에 밀봉 연결되어 상기 조리 기기(D101)와 연통된다.

본 실시예에서, 상기 제1 흄 처리 장치(D200)의 구조는 제3 실시예에 따른 제1 흄 처리 장치(C200)의 구조와 동일하고, 상기 제2 흄 처리 장치(D300)의 구조는 제3 실시예에 따른 제2 흄 처리 장치(C200)의 구조와 동일하다.

설명해야 할 것은, 상기 제1 흄 처리 장치(D200) 및 상기 제2 흄 처리 장치(D300)는 다른 구조의 흄 처리 장치일 수도 있는데, 예를 들어, 제1 실시예 및 제2 실시예에 따른 흄 처리 장치일 수도 있으므로, 여기서 구체적으로 한정하지 않는다.

선행기술에 비해, 본 실시예에 따른 조리기 흄 처리 시스템은, 상기 제1 흄 처리 장치(D200)의 제1 흄 유입구(D201)와 상기 조리 기기(D101)를 연통시키고, 상기 제1 흄 처리 장치(D200)의 제1 흄 배출구(D202)와 상기 밀봉 조리 캐비티(D100)를 연통시킴으로써, 제1 흄 처리 장치(D200)를 거쳐 처리된 후의 흄이 상기 밀봉 조리 캐비티(D100)로 배출되도록 하고; 동시에 제2 흄 처리 장치(D300)를 설치하여, 상기 제2 흄 처리 장치(D300)의 제3 흄 유입구(D301)와 상기 밀봉 조리 캐비티(D100)를 연통시키고, 상기 제2 흄 배출구(D302)를 상기 밀봉 조리 캐비티(D100)의 외부에 연통시켜, 제1 흄 처리 장치(D200)를 거쳐 처리된 후의 흄 및 상기 조리 기기(D101)로부터 넘쳐나온 흄이 제2 흄 처리 장치(D300)를 거쳐 처리된 후에야만 환경에 배출되도록 함으로써, 환경에 배출되는 흄을 효과적으로 정화시키고, 조리기의 흄이 환경에 대한 오염을 감소시킨다.

실시예 5

도 11을 참조하면, 본 발명의 제5 실시예에 따른 조리기 흄 처리 시스템의 구조 모식도이다.

본 실시예에서, 상기 조리기 흄 처리 시스템은 밀봉 조리 캐비티(E100) 및 제1 흄 처리 장치(E200)를 포함한다.

상기 밀봉 조리 캐비티(E100) 내에는 조리 기기(E101)가 설치된다. 상기 제1 흄 처리 장치(E200)에는 제1 흄 유입구(E201) 및 제1 흄 배출구(E202)가 설치된다. 상기 제1 흄 처리 장치(E200)의 제1 흄 유입구(E201)는 상기 조리 기기(E101)와 연통되고, 상기 제1 흄 처리 장치(E200)의 제1 흄 배출구(E202)는 상기 밀봉 조리 캐비티(E100)와 연통된다.

본 실시예에서, 상기 조리 기기(E101)는 냄비 본체(E1011) 및 냄비 뚜껑(E1012)을 포함하고, 상기 냄비 뚜껑(E1012)은 상기 냄비 본체(E1011)의 냄비입구와 협력하여, 상기 냄비 본체(E1011)를 개폐하며; 상기 냄비 뚜껑(E1012)에는 배기홀(E1012a)이 설치되고, 상기 제1 흄 처리 장치(E200)의 제1 흄 유입구(E201)는 상기 배기홀(E1012a)에 밀봉 연결되어 상기 조리 기기(E101)와 연통된다.

도 12 내지 도 13을 참조하면, 각각 본 발명의 제5 실시예에 의해 제공되는 제1 흄 처리 장치(E200)의 구조 모식도 및 상기 제1 흄 처리 장치(E200)의 부분 단면도이다.

본 실시예에서, 상기 제1 흄 처리 장치(E200)는 박스체(E204), 송풍기(E205), 흄 여과 어셈블리(E206), 소형 냉각기(E207), 물순환 배관(E208), 물 펌프(E209) 및 제어 장치(미도시)를 포함한다.

상기 박스체(E204)에는 총괄 급수구(E2041), 적어도 하나의 순환 입수구(E2042), 제1 흄 유입구(E201) 및 제1 흄 배출구(E202)가 개방 설치되고, 상기 박스체(E204)의 저부에는 배수구(E2043), 수위 제한 배수구(E2044) 및 적어도 하나의 순환 출수구(E2045)가 설치된다.

상기 박스체(E204)의 내부에는 상기 제1 흄 유입구(E201)와 상기 제1 흄 배출구(E202)를 연통시키는 흄 통로(E210)가 구비되고, 상기 제1 흄 유입구(E201)는 상기 조리 기기(E101)와 연통되며, 상기 제1 흄 배출구(E202)는 상기 밀봉 조리 캐비티(E100)와 연통된다.

상기 송풍기(E205)는 상기 제1 흄 배출구(E202) 위치에 설치되고, 흄을 상기 제1 흄 유입구(E201)로부터 상기 박스체(E204) 내로 흡입시켜 상기 제1 흄 배출구(E202)로부터 배출시킨다. 상기 흄 여과 어셈블리(E206)는 상기 흄 통로(E210) 내에 설치된다. 상기 소형 냉각기(E207)는 바람직하게 반도체 냉각기이고, 상기 소형 냉각기(E207)는 적어도 하나의 냉각 시트(E2071) 및 열전도부(E2072)를 포함하며, 상기 적어도 하나의 냉각 시트(E2071)는 상기 흄 통로(E210) 내에 설치된다. 상기 물순환 배관(E208)은 적어도 하나의 제1 출수구(E2081) 및 적어도 하나의 제1 입수구(E2082)를 포함하고; 각각의 상기 제1 출수구(E2081)는 각각의 상기 순환 입수구(E2042)와 각각 연통되며, 각각의 상기 제1 입수구(E2082)는 모두 상기 순환 출수구(E2045)에 연결된다. 상기 물 펌프(E209)는 상기 물 순환 도관(E208)에 설치되어, 박스체(E204) 하부의 물을 상기 물 순환 도관(E208)을 거쳐 상기 순환 입수구(E2042)로부터 상기 박스체(E204) 내로 펌핑하여 흄 도관(E210)에 대해 분무를 통해 온도 하강을 실행한다. 상기 송풍기(E205), 상기 소형 냉각기(E207) 및 상기 물 펌프(E209)는 모두 상기 제어 장치에 전기적으로 연결된다.

상기 조리기가 조리하는 과정에서, 상기 조리 기기(E101)의 내부에서 끊임없이 흄이 생성된다. 상기 송풍기(E205)의 증압 블로잉 작용 하에, 상기 조리 기기(E101) 내부의 흄은 상기 제1 흄 유입구(E201)를 통해 상기 흄 통로(E210)에 진입한 다음, 상기 흄 여과 어셈블리(E206)에 의해 여과 처리된다. 또한, 이 과정에서, 상기 소형 냉각기(E207)의 상기 냉각 시트(E2071)가 작업하여 상기 흄 통로(E210)의 온도를 하강시킴으로써, 상기 흄 통로(E210) 내에 진입한 흄을 응축시켜, 상기 흄 여과 어셈블리(E206)가 흄에 대해 더욱 효과적으로 여과 처리하도록 할 수 있다. 또한, 상기 물순환 배관(E208)은 상기 물 펌프(E209)의 작용 하에, 상기 제1 출수구(E2081)를 통해 상기 흄 통로(E210) 내에 위치한 상기 흄 여과 어셈블리(E206)를 향해 끊임없이 분수하여, 상기 흄 통로(E210) 내의 온도를 더 한층 하강시켜 흄을 효과적으로 응축시킬 수 있음으로써, 상기 흄 여과 어셈블리(E206)가 흄에 대해 더욱 효과적으로 여과 처리하도록 할 수 있다. 상기 박스체(E204) 내의 저부에 떨어진 물은 상기 물 펌프(E209)의 작용 하에 다시 상기 물순환 배관(E208)에 진입한다. 이 밖에, 상기 흄 배출구(202)는 밀봉 조리 캐비티(E100)와 연통되므로, 상기 조리 기기(E101) 중의 흄은 상기 제1 흄 유입구(E201)를 통해 상기 박스체(E204) 내에 진입하여 흄 처리를 거친 후, 나머지 흄은 다시 상기 제1 흄 배출구(E202)를 통해 상기 밀봉 조리 캐비티(E100)에 진입하는데, 상기 과정을 끊임없이 중복하여, 상기 조리 기기(E101) 내의 흄이 효과적으로 처리될 수 있고 상기 밀봉 조리 캐비티(E100) 밖으로 배출될 필요가 없음으로써, 흄의 제로 배출을 구현한다.

바람직하게는, 상기 제1 흄 처리 장치(E200)는 다수의 분무홀이 개방 설치된 분무 격판(E211)을 더 포함하고, 상기 분무 격판(E211)은 상기 흄 통로(E210)와 상기 박스체(E204) 내의 상단 사이에 설치되어 스페이서로서 작용하여, 상기 흄 통로(E210)와 상기 박스체(E204) 내의 상단을 이격시킨다.

상기 총괄 급수구(E2041) 및 적어도 하나의 순환 입수구(E2042)는 상기 분무 격판(E211)의 상측에 위치하여, 상기 순환 입수구(E2042)에 연결되는 제1 출수구(E2081)로부터 분사된 물은 상기 분무 격판(E211)에 떨어질 수 있고, 다음, 상기 분무 격판(E211)의 상기 복수의 분무홀을 거쳐 상기 흄 통로(E210) 내에 분산되게 떨어짐으로써, 균일한 분무 효과에 도달한다. 따라서, 상기 분무 격판(E211)을 설치하여, 상기 제1 출수구(E2081)로부터 분사된 물이 비교적 균일하게 상기 흄 통로(E210)에 분무될 수 있도록 함으로써, 상기 흄 통로(E210)의 온도를 효과적으로 하강시킬 수 있다.

바람직하게는, 상기 제1 흄 처리 장치(E200)는 중공 구조의 냉각체(E212)를 더 포함한다. 상기 박스체(E204)의 상단에는 방열구(E2046)가 개방 설치되고, 상기 박스체(E204)의 상단 및 상기 분무 격판(E211) 사이에는 상기 방열구(E2046)와 연통되는 수용 캐비티(E2047)가 설치된다. 상기 소형 냉각기(E207)의 열전도부(E2072) 및 상기 냉각체(E212)는 모두 상기 수용 캐비티(E2047)에 설치되어, 상기 소형 냉각기(E207)의 열전도부(E2072)에 의해 생성된 열을 상기 방열구(E2046)를 통해 배출시킬 수 있다.

상기 냉각체(E212)는 제2 입수구(E2121) 및 제2 출수구(E2122)를 구비하고, 상기 제2 입수구(E2121)는 상기 물순환 배관(E208)의 배수관 세그먼트와 연통되며, 상기 제2 출수구(E2122)는 상기 분무 격판(E211)의 상측에 위치하여, 상기 물순환 배관(E208)의 배수관 세그먼트의 물은 상기 제2 입수구(E2121)를 통해 상기 냉각체(E212) 내로 유입된 다음, 상기 제2 출수구(E2122)를 통해 상기 분무 격판(E211)에 분사될 수 있다.

상기 냉각체(E212)와 상기 소형 냉각기(E207)의 열전도부(E2072) 양자는 접촉되게 설치되어, 상기 냉각체(E207) 내에 끊임없이 유입된 냉수는 상기 열전도부(E2072)의 열을 끊임없이 가져가 상기 열전도부(E2072)를 냉각시킬 수 있음으로써, 상기 소형 냉각기(E207)가 더욱 효과적으로 냉각 작업을 수행할 수 있도록 한다. 설명해야 할 것은, 상기 냉각체(E207)는 박스체 구조일 수 있고, 굴곡된 파이프라인 구조일 수도 등일 수도 있으며, 여기서 구체적으로 한정하지 않는다.

바람직하게는, 상기 제1 흄 처리 장치(E200)는 흄 유입관(E213), 상단 개구의 분무 캐비티(E214), 횡방향 격판(E215), 제1 종방향 격판(E216), 제2 종방향 격판(E217), 제3 종방향 격판(E218), 배수관(E219), 흄 배출관(E220), 제1 여과 탱크(E221) 및 제2 여과 탱크(E222)를 더 포함한다.

상기 분무 캐비티(E214)의 상단은 상기 분무 격판(E211)에서 분무홀이 개방 설치된 부위의 저부에 고정되고, 상기 분무 캐비티(E214)의 저부는 상기 박스체(E204) 내의 저부의 상측에 위치하고 통구(E2141)가 개방 설치된다. 상기 흄 유입관(E213)의 일단은 상기 박스체(E204) 내부의 방향을 따라 상기 제1 흄 유입구(E201)를 밀폐되게 관통하고, 상기 분무 캐비티(E214) 내로 밀폐되게 관통되며, 상기 흄 유입관(E213)의 타단은 상기 조리 기기(E101)와 연통된다. 상기 송풍기(E205)의 작용 하에, 상기 조리 기기(E101) 중의 흄은 상기 흄 유입관(E213)을 통해 상기 분무 캐비티(E214)에 진입한 다음, 상기 통구(E2141)를 통해 상기 박스체(E204)와 상기 분무 캐비티(E214) 사이의 영역에 진입하고, 마지막으로, 상기 제1 흄 배출구(E202)를 통해 밀봉 조리 캐비티(E100)로 배출될 수 있다. 상기 분무 캐비티(E214) 내에서, 상기 흄 유입관(E213)의 상기 일단과 상기 통구(E2141) 사이에는 연장되게 설치된 흄 분무 통로가 형성되어, 상기 분무 캐비티(E214) 내에 진입한 흄이 지나가는 경로가 더욱 길어질 수 있으므로, 흄의 응축 및 여과에 유리하다. 여기서, 상기 흄 분무 통로 내에 적어도 한 층의 흄 여과층이 설치되고, 상기 적어도 하나의 냉각 시트(E2071)는 모두 상기 분무 캐비티(E214) 내에 설치되어 상기 흄 분무 통로의 바로 상측에 분포된다. 이 밖에, 상기 흄 분무 통로의 각각의 세그먼트의 저부는 모두 상기 통구(E2141)와 연통하여, 상기 분무 격판(E211)의 상기 분무홀로부터 상기 흄 분무 통로(E2142) 내로 분무되는 물은 상기 통구(E2141)를 통해 상기 박스체(E204) 내의 저부로 배출될 수 있다.

상기 제1 종방향 격판(E216)은 상기 분무 격판(E211)과 상기 박스체(E204) 내의 저부 사이에 종방향으로 설치됨으로써, 상기 분무 격판(E211)과 상기 박스체(E204) 내의 저부 사이의 영역을 2개 부분으로 나누고, 상기 제1 종방향 격판(E216)의 저부와 상기 박스체(E204) 내의 저부에는 흄 통로구(E2048)가 형성된다. 상기 횡방향 격판(E215)은 상기 분무 격판(E211)과 상기 박스체(E204) 내의 저부 사이에 위치하고, 상기 제1 종방향 격판(E216) 및 이와 대향되는 박스체(E204)의 측판 사이에 횡방향으로 설치되어, 상기 횡방향 격판(E215), 상기 제1 종방향 격판(E216), 상기 분무 격판(E211) 및 상기 박스체(E204)의 대응되는 내측벽으로 둘러싸여 상기 분무 캐비티(E214)를 형성한다.

상기 제2 종방향 격판(E217)은 상기 제1 종방향 격판(E216)과 상기 박스체(E204)의 대향되는 측판 사이에 종방향으로 설치되고, 상기 제2 종방향 격판(E217)의 상단은 상기 분무 격판(E211)의 저부에 밀봉되게 연결되며, 제2 종방향 격판(E217)의 저부는 상기 횡방향 격판(E215)의 상단과 이격 설치된다. 상기 제3 종방향 격판(E218)은 상기 제2 종방향 격판(E217)과 상기 박스체(E204)의 대향되는 측판 사이에 종방향으로 설치되고, 상기 제3 종방향 격판(E218)의 상단은 상기 분무 격판(E211)의 저부와 이격 설치되며, 상기 제3 종방향 격판(E218)의 저부는 상기 횡방향 격판(E215)의 상단에 고정된다. 이로써, 상기 제1 종방향 격판(E216)과 상기 제2 종방향 격판(E217) 사이에 위치하는 상기 흄 유입관(E213)에 의해 배출된 흄은 먼저 상기 제1 종방향 격판(E216)과 상기 제2 종방향 격판(E217) 사이의 영역을 통과한 다음, 상기 제2 종방향 격판(E217)과 상기 제3 종방향 격판(E218) 사이의 영역을 통과하고, 마지막으로, 상기 제3 종방향 격판(E218)과 대응되는 상기 박스체(E204)의 내측벽 사이의 영역을 통과할 수 있으므로, 흄이 박스체(E204)를 지나가는 거리를 연장시킨다. 이 밖에, 상기 제1 흄 배출구(E202)는 상기 박스체(E204)와 상기 제1 종방향 격판(E216)이 대향되는 다른 측판에 개방 설치되고, 상기 분무 격판(E211)의 하측에 위치하며, 상기 통구(E2141)는 상기 횡방향 격판(E215)에 개방 설치되고, 상기 통구(E2141)는 상기 제3 종방향 격판(E218)과 상기 박스체(E204)의 대향되는 측판(상기 제3 격판(E218)과 인접하고 대향됨) 사이에 위치하여, 상기 분무 캐비티(E214) 내에 진입한 흄은 상기 통구(E2141)를 통해 상기 횡방향 격판(E215)과 상기 박스체(E204)의 저부 사이에 배출된 다음, 상기 흄 통로구(E2048) 및 상기 제1 흄 배출구(E202)를 순차적으로 통해 배출될 수 있다. 이로부터 알 수 있는 바, 상기 박스체(E204) 내에 상기 격판을 설치하여, 상기 박스체(E204) 내에 진입한 흄의 통과 경로가 길어질 수 있도록 함으로써, 흄의 응축 및 여과에 더 유리하게 한다. 상기 제2 격판(E217)과 상기 제3 격판(E218) 사이에 분무된 물이 상기 통구(E2141)로 순조롭게 흐를 수 있도록, 상기 제3 격판(E218)의 저부와 상기 횡방향 격판(E215)에는 슬릿(E2181)이 형성된다.

상기 배수관(E219)의 일단은 상기 박스체(E204)의 배수구(E2043)에 연결되어, 상기 박스체(E204) 저부의 유액을 배출시킨다. 바람직하게는, 상기 배수관(E219)에는 배수 밸브(미도시)가 설치된다. 상기 수위 제한 배수구(E2044)의 출수단은 상기 박스체(E204)의 저부를 관통하며 상기 횡방향 격판(E215)하측에 위치하고, 상기 박스체(E204)의 저부보다 높다.

상기 제1 여과 탱크(E221) 및 상기 제2 여과 탱크(E222)에는 모두 흄 여과층이 설치되고, 상기 흄 여과층은 흄에 대해 우수한 흡착 능력을 구비하는 열전도성이 우수한 재료로 제조될 수 있는데, 예를 들어, 스틸와이어 또는 적층되게 설치된 금속와이어 메시 등일 수 있고, 여기서 구체적으로 한정하지 않는다.

상기 제1 여과 탱크(E221)는 흄 입구(E2211), 흄 출구(E2212) 및 분무 입수구(E2213)를 구비한다. 상기 제2 여과 탱크(E222)는 상기 송풍기(E205)를 통해 상기 박스체(E204)의 제1 흄 배출구(E202)에 연결되고, 상기 흄 배출관(E220)을 통해 상기 제1 여과 탱크(E221)의 흄 입구(E2211)에 연결된다.

상기 흄 출구(E2212)는 상기 제1 여과 탱크(E221)의 저부에 설치되고, 상기 분무 입수구(E2213)는 상기 제1 여과 탱크(E221)의 상단에 설치된다. 상기 제1 여과 탱크(E221)의 흄 출구(E2212)는 상기 밀봉 조리 캐비티(E100)와 연통된다. 상기 배수관(E219)의 출수단은 상기 제1 여과 탱크(E221)의 분무 입수구(E2213)에 연결되어, 필요시, 배수관(E219)을 통해 상기 제1 여과 탱크(E221)로 배수하여 상기 제1 여과 탱크(E221)의 온도를 하강시켜, 흄에 대해 더 한층 정화 처리를 수행한다.

설명해야 할 것은, 상기 분무 입수구(E2213)는 배수관(E219)을 통해 상기 수위 제한 배수구(E2044)에 연결될 수도 있고, 상기 박스체(E204)의 저부의 수위가 상기 수위 제한 배수구(E2044)보다 높을 경우, 상기 박스체(E204)의 저부의 물은 상기 수위 제한 배수구(E2044)로부터 넘쳐나 상기 제1 여과 탱크(E221)에 진입하여, 상기 제1 여과 탱크(E221)의 온도를 하강시킨다.

선행기술에 비해, 본 실시예에 따른 조리기 흄 처리 시스템은, 제1 흄 처리 장치(E200)의 제1 흄 유입구(E201)와 상기 조리 기기(E101)를 연결시키고, 상기 제1 흄 배출구(E202)와 상기 밀봉 조리 캐비티(F100)를 연결시킴으로써, 제1 흄 처리 장치(E200)를 거쳐 처리된 후의 흄을 상기 밀봉 조리 캐비티(F100)로 배출시키고, 상기 냄비 뚜껑과 상기 냄비 본체가 분리될 시, 상기 밀봉 조리 캐비티(F100) 중의 흄은 제1 흄 유입구(E201)를 통해 상기 제1 흄 처리 장치(E200)에 진입하여 정화 처리되어, 조리기의 흄에 대해 이러한 순환 방식으로 정화 처리함으로써, 조리기의 흄을 환경에 배출시킬 필요가 없고, 흄이 환경에 대한 오염을 방지한다.

실시예 6

도 14를 참조하면, 본 발명의 제6 실시예에 따른 조리기 흄 처리 시스템의 구조 모식도이다.

본 실시예에서, 상기 조리기 흄 처리 시스템은 밀봉 조리 캐비티(F100) 및 제1 흄 처리 장치(F200)를 포함한다.

상기 밀봉 조리 캐비티(F100) 내에는 조리 기기(F101)가 설치된다. 상기 제1 흄 처리 장치(F200)에는 제1 흄 유입구(F201), 제2 흄 유입구(F201A) 및 제1 흄 배출구(F202)가 설치된다. 상기 제1 흄 처리 장치(F200)의 제1 흄 유입구(F201)는 상기 조리 기기(F101)와 연통되고, 상기 제2 흄 유입구(F201A)는 상기 밀봉 조리 캐비티(F100)와 연통되며, 상기 제1 흄 처리 장치(F200)의 제1 흄 배출구(F202)는 상기 밀봉 조리 캐비티(F100)와 연통된다.

본 실시예에서, 상기 조리 기기(F101)는 냄비 본체(F1011) 및 냄비 뚜껑(F1012)을 포함하고, 상기 냄비 뚜껑(F1012)은 상기 냄비 본체(F1011)의 냄비입구와 협력하여, 상기 냄비 본체(F1011)를 개폐하며; 상기 냄비 뚜껑(F1012)에는 배기홀(F1012a)이 설치되고, 상기 제1 흄 처리 장치(F200)의 제1 흄 유입구(F201)는 흄 유입관을 통해 상기 배기홀(F1012a)에 밀봉 연결되어 상기 조리 기기(F101)와 연통된다.

본 실시예에서, 상기 밀봉 조리 캐비티(F100) 및 상기 조리 기기(F101) 중의 흄은 각각 제2 흄 유입구(F201A) 및 제1 흄 유입구(F201)를 통해 상기 제1 흄 처리 장치(F200)에 진입하여 정화 처리되고, 상기 제1 흄 처리 장치(F200)를 거쳐 정화 처리된 후의 흄은 상기 제1 흄 배출구(F202)를 통해 밀봉 조리 캐비티(F100)에 돌아가며, 이러한 방식으로 순환되어 조리기의 흄의 제로 배출을 구현한다.

도 15를 참조하면, 본 발명의 제6 실시예에 따른 흄 처리 장치의 구조 모식도이다.

본 실시예에서, 상기 제1 흄 처리 장치(F200)와 제5 실시예에 따른 흄 처리 장치의 상이점은 하기와 같다.

상기 제1 흄 처리 장치(F200)에는 제2 흄 유입구(F201A)가 더 설치되고, 상기 제2 흄 유입구(F201A)는 상기 밀봉 조리 캐비티(F100)와 연통된다.

설명해야 할 것은, 상기 제2 흄 유입구(F201A)는 상기 흄 유입관(E213)에 설치될 수 있고, 흄 가이드관을 통해 상기 밀봉 조리 캐비티(F100)와 연통되며; 이 밖에, 상기 제2 흄 유입구(F201A)는 상기 박스체(E204)에 설치될 수도 있고, 여기서 구체적으로 한정하지 않는다.

이 밖에, 본 실시예에 따른 제1 흄 처리 장치(F200)의 구조는 예시일 뿐이며, 상기 흄 처리 장치(F200)는 상기 실시예에 따른 흄 처리 장치의 구조와 동일할 수 있고, 다른 구조의 흄 처리 장치일 수도 있으며, 여기서 구체적으로 한정하지 않는다.

선행기술에 비해, 본 실시예에 의해 제공되는 조리기 흄 처리 시스템은, 제1 흄 처리 장치(F200)의 제1 흄 유입구(F201) 및 제2 흄 유입구(F201A)를 통해 상기 조리 기기(F101) 및 상기 밀봉 조리 캐비티(F100)와 각각 연결되고, 상기 제1 흄 배출구(F202)는 상기 밀봉 조리 캐비티(F100)에 연결되어, 상기 밀봉 조리 캐비티(F100) 및 상기 조리 기기(F101)의 흄이 모두 상기 제1 흄 처리 장치(F200)의 처리를 거친 다음 밀봉 조리 캐비티(F100)로 배출되어 순환 처리되도록 하고, 흄을 환경에 배출시킬 필요가 없으며; 제1 흄 처리 장치(F200)를 거쳐 순환 처리된 후의 흄을 대부분 액체로 전환시켜 상기 밀봉 조리 캐비티(F100)로 배출시킴으로써, 조리기의 흄이 환경에 대한 오염을 방지할 수 있다.

실시예 7

도 16을 참조하면, 본 발명의 제7 실시예에 따른 흄 처리 장치의 구조 모식도이다.

본 실시예에서, 상기 흄 처리 장치(G200)는 분무 캐비티(G201), 여과 캐비티(G202), 송풍기(G203), 도관 기구(G204) 및 흄 유입관(G205)을 포함한다.

상기 분무 캐비티(G201)는 흄 유입구(G2011), 분무 캐비티 출구(G2012), 상부 격판(G2013), 하부 격판(G2014) 및 입수구(G2015)를 포함한다. 본 실시예에서, 상기 상부 격판(G2013)의 개수는 1이고, 상기 하부 격판(G2014)의 개수는 2이며, 다른 경우에는, 상기 상부 격판(G2013) 및 상기 하부 격판(G2014)의 개수는 더 많거나 더 적을 수도 있으며, 본 발명에서 얻는 유리한 효과에 영향주지 않는다.

상기 여과 캐비티(G202)에는 필터(G2021)가 설치된다. 상기 여과 캐비티(G202)의 입구는 상기 분무 캐비티 출구(G2012)와 연통되고, 상기 여과 캐비티(G202)의 출구는 상기 송풍기(G203)의 바람 유입구와 연통되며, 상기 송풍기(G203)의 바람 배출구는 외부 또는 조리기의 밀봉 조리 캐비티와 연통된다.

설명해야 할 것은, 본 실시예에서, 상기 송풍기(G203)의 바람 배출구는 상기 흄 처리 장치의 흄 배출구이다.

설명해야 할 것은, 본 실시예에 따른 흄 처리 장치(G200)의 흄 유입구(G2011)는 2개일 수 있고, 상기 실시예에 따른 밀봉 조리 캐비티 중의 조리 기기와 각각 연통되고 상기 밀봉 조리 캐비티와 각각 연통된다.

상기 도관 기구(G204)는 순환 분무기(G2041), 분수 연결관(G2042) 및 순환 물 펌프(G2043)를 포함한다. 본 실시예에서, 상기 흄 처리 장치(G200)는 4개의 순환 분무기(G2041)를 포함하고, 다른 경우에는, 상기 흄 처리 장치가 포함하는 상기 분무기(G2041)의 개수는 더 많거나 더 적을 수도 있으며, 본 발명이 얻는 유리한 효과에 영향주지 않는다.

본 실시예에서, 상기 흄 유입구(G2011)는 상기 분무 캐비티(G201)의 측벽에 설치되고, 상기 흄 유입관(G205)의 일단은 상기 흄 유입구(G2011)를 밀봉되게 관통하여 흄을 상기 분무 캐비티(G201)에 도입시키며; 상기 상부 격판(G2013) 및 상기 하부 격판(G2014)은 상기 분무 캐비티(G201)의 내부에서 수직으로 번갈아 분포되고, 상기 상부 격판(G2013)의 상단은 상기 분무 캐비티(G201)의 상단에 장착되며, 상기 상부 격판(G2013)의 하단은 상기 분무 캐비티(G201)의 저부와 이격 설치되고, 상기 하부 격판(G2014)은 상기 분무 캐비티(G201)의 상단 및 저부 사이에 설치되며 상기 분무 캐비티(G201)의 상단 및 저부와 이격 설치되어, 상기 분무 캐비티(G201)의 내부 공간을 처음과 끝이 순차적으로 서로 연결된 복수의 분무 구간으로 분할하여, 다굴곡 흄 통로를 형성하여, 상기 분무 캐비티(G201)에서의 흄의 경로를 연장시킴으로써, 분무 여과의 효과를 증강시킨다.

본 실시예에서, 상기 분무 캐비티(G201)의 저부에는 물 저장탱크(G2016) 및 오버 플로우(G2017)가 설치된다. 상기 물 저장탱크(G2016)의 저장 수면은 상기 하부 격판(G2014)의 바닥단보다 높고 상기 상부 격판(G2013)의 바닥단보다 낮다. 상기 오버 플로우(G2017)의 출수단의 높이는 상기 하부 격판(G2014)의 바닥단보다 높고 상기 상부 격판(G2013)의 바닥단보다 낮아, 물 저장탱크(G2016)의 액면 높이를 유지한다.

하나의 상기 상부 격판(G2013) 및 2개의 상기 하부 격판(G2014)은 상기 분무 캐비티(G201)를 제1단 분무 구간, 제2단 분무 구간, 제3단 분무 구간 및 말단 분무 구간으로 분할하고, 상기 흄 유입구(G2011)는 상기 제1단 분무 구간에 설치되며, 상기 분무 캐비티 출구(G2012)는 상기 말단 분무 구간에 설치되고, 상기 분무 캐비티 출구(G2012)의 높이는 상기 물 저장탱크(G2015)의 저장 수면보다 높다.

본 실시예에서, 상기 4개의 순환 분무기(G2041)는 상기 제1단 분무 구간의 상단, 상기 제2단 분무 구간의 상단, 상기 제3단 분무 구간의 상단 및 상기 말단 분무 구간의 상단에 일대일로 대응되게 설치되고, 상기 순환 분무기(G2041)는 모두 상기 분수 연결관(G2042)에 연결되며, 상기 분수 연결관(G2042)은 상기 물 저장탱크(G2015)의 저부에 연결되고, 상기 분수 연결관(G2042)은 상기 순환 물 펌프에 연결되어, 분무용 물이 분무에 순환 사용될 수 있도록 함으로써, 분무 작업의 물 사용량을 절약한다.

바람직하게는, 상기 도관 기구(G204)는 입수관(G2044), 입수 펌프(G2045) 및 입수 분무기(G2046)를 더 포함한다. 상기 입수관(G2044)의 일단은 상기 분무 캐비티(G201)의 입수구(G2015)를 관통하여 상기 입수 분무기(G2046)에 연결되고, 상기 입수 펌프(G2045)는 상기 입수관(G2044)에 설치되며, 상기 입수관(G2044)의 타단은 외부 수원에 연결되어, 상기 물 저장탱크(G2016)에 충족한 물 양을 제공하여 분무 순환에 제공한다.

본 실시예에서, 상기 필터(G2021)는 다수의 여과망(G20211) 및 여과망 프레임(G20212)을 포함한다. 상기 여과망 프레임(G20212)은 분층 구조이고, 각 층의 중간에는 개구가 설치되며, 상기 여과망(G20211)은 상기 개구에 일대일로 대응되게 장착되어, 상기 여과망(G20211)의 세척 및 교체가 용이하고, 상기 흄 처리 장치의 내부 청결을 유지한다. 바람직하게는, 상기 여과 캐비티(G202)의 저부에는 액체 배출관 연결구(G2022), 및 상기 액체 배출관 연결구(G2022)에 연결되는 액체 배출관(G2023)이 설치된다.

본 실시예에서, 상기 여과망(G20211)은 모두 금속 여과망을 사용하고, 다른 경우에는, 상기 여과망(G20211)은 활성탄 여과망 또는 거즈 여과망 등을 사용할 수도 있으며, 복수의 상기 여과망(G20211)이 사용하는 재료는 동일하거나 상이할 수 있고, 모두 본 발명이 얻는 유리한 효과에 영향주지 않는다.

본 실시예에 따른 흄 처리 장치의 작업 과정은 하기와 같다.

상기 입수 펌프(G2045)가 작동되어 상기 외부 수원의 물을 흡입하여 상기 입수관(G2044)을 경유하여 상기 입수 분무기(G2046)로부터 분사되고, 상기 분무 캐비티(G201)의 저부에 위치한 물 저장탱크(G2016)에 유입된다. 상기 송풍기(G203)가 작동되어, 상기 분무 캐비티(G201) 내부에서 상기 제1단 분무 구간으로부터 상기 말단 분무 구간까지 순차적으로 흐르는 기류를 형성하고, 상기 기류는 상기 분무 캐비티(G201)로부터 상기 여과 캐비티(G202)에 진입하며, 마지막으로, 상기 송풍기(G203)를 통해 상기 흄 처리 장치로 배출된다.

흄은 상기 흄 유입구(G2011)로부터 상기 제1단 분무 구간에 유입되고, 상기 입수 분무기(G2046)는 흄에 대해 분무 온도 하강을 수행하여, 대부분의 흄 과립과 기체를 분리시키고, 대부분의 흄 과립이 물에 흡수되어 상기 물 저장탱크(G2016)의 고인 물에 용해되도록 한다.

상기 순환 물 펌프(G2043)는 상기 물 저장탱크(G2016) 중의 고인 물을 흡입하여, 상기 분수 연결관(G2042)을 통해, 상기 순환 분무기(G2041)로부터 분사하고, 제2단 분무 구간 중의 흄의 온도를 하강시키며, 일부분의 흄 과립은 상기 제2단 분무 구간 중의 상기 여과망(G20211)에 의해 여과되고, 일부분의 흄 과립은 상기 분무 캐비티(G201)의 저부에 떨어지며, 분무용 물이 상기 하부 격판(G2014)과 상기 분무 캐비티(G201)의 저부의 스릿으로부터 상기 물 저장탱크(G2016)에 유입됨에 따라, 나머지 흄 과립은 기류에 따라 다음 분무 구간에 진입되고, 다음 분무 구간에서 상기 과정을 반복한다. 나머지 흄 과립은 상기 기류에 따라, 상기 분무 캐비티 출구(G2012)로부터 상기 여과 캐비티(G202)에 진입되고, 상기 기류가 상기 여과망(G20211)의 저부로부터 상승함에 따라, 상기 여과망(G20211)의 저해를 받아 응축되어 액화되어, 흄 응축액을 형성하고, 상기 흄 응축액은 상기 액체 배출관(G2023)을 통해 상기 흄 처리 장치로 유출되며, 마지막으로, 분무 및 여과 처리를 거친 깨끗한 기체가 상기 송풍기(G203)의 바람 배출구로부터 상기 흄 처리 장치의 외부로 배출된다.

본 실시예에 의해 제공되는 흄 처리 장치는, 상기 송풍기(G203)에 의해 상기 흄 처리 장치에서 가이드 기류가 생성되고, 상기 도관 기구(G204)를 통해 상기 분무 캐비티(G201) 중의 흄에 대해 분무에 의한 온도 하강을 수행하는 동시에, 흄 과립을 흡수하며, 상기 분무 캐비티(G201)의 내부에서 다굴곡 통풍로를 분할함으로써, 흄 과립의 냉각 및 흡수 효과를 증강시키고, 다음, 상기 여과 캐비티(G202)는 잔여 흄 과립을 여과함으로써, 처리된 기체가 정제되어 배출될 수 있으므로, 상기 흄 처리 장치에 잔류하는 흄을 감소시키고, 흄을 신속하게 처리함으로써, 흄 중 흄 과립과 기체의 분리 효율을 향상시키고, 흄 처리의 원가를 절감한다.

전술한 실시예에 개시된 조리기 흄 처리 시스템 중의 제1 흄 처리 장치 또는 제2 흄 처리 장치는 상기 제7 실시예에 따른 흄 처리 장치의 구조를 사용할 수 있음을 이해할 수 있다.

실시예 8

도 17을 참조하면, 본 발명의 제8 실시예에 따른 흄 처리 장치의 구조 모식도이다.

본 실시예에서, 상기 흄 처리 장치(H200)는 분무 캐비티(H201), 다수의 여과망(H202), 물저장 캐비티(H203), 도관 기구(H204), 흄 유입관(H205), 여과 캐비티(H206) 및 송풍기(H207)를 포함한다.

상기 분무 캐비티(H201)에는 흄 유입구(H2011) 및 분무 캐비티 출구(H2012)가 설치되고, 상기 분무 캐비티(H201)의 내부에는 상기 흄 유입구(H2011)와 상기 분무 캐비티 출구(H2012)를 연통시키는 흄 통로가 구비되며; 상기 분무 캐비티(H201)의 상단에는 총괄 입수구(H2013) 및 적어도 하나의 순환 입수구(H2014)가 설치된다.

상기 다수의 여과망(H202)은 상기 흄 통로에 설치되어, 흄 통로 중의 흄에 대해 여과 처리를 한다.

상기 물저장 캐비티(H203)는 상기 분무 캐비티(H201)의 하측에 설치되며 상기 분무 캐비티 출구(H2012)와 연통된다. 상기 물저장 캐비티(H203)의 저부에는 적어도 하나의 순환 출수구(H2031) 및 수위 제한 배수구(H2032)가 설치되고, 상기 물저장 캐비티(H203)와 상기 분무 캐비티(H201) 사이에는 흄 배출 통로(H2033)가 설치된다.

상기 도관 기구(H204)는 분수 연결관(H2041), 다수의 순환 분무기(H2042), 분수 펌프(H2043), 입수 도관(H2044), 입수 분무기(H2045) 및 입수 펌프(H2046)를 포함한다. 상기 분수 연결관(H2041)은 적어도 하나의 출수구 및 적어도 하나의 입수구를 포함하고, 각각의 상기 출수구는 각각의 상기 순환 입수구(H2014)를 각각 대응되게 관통하여 각각의 상기 순환 분무기(H2042)에 각각 연결되고, 각각의 상기 입수구는 각각의 상기 순환 출수구(H2031)에 각각 연결되며, 상기 분수 펌프(H2043)는 상기 분수 연결관(H2041)에 설치된다. 상기 입수 도관(2H044)의 출수단은 상기 총괄 입수구(H2013)를 관통하여 상기 입수 분무기(H2045)에 연결되고, 상기 입수 도관(H2044)의 입수단은 외부 수원에 연결되며, 상기 입수 펌프(H2046)는 상기 입수 도관(H2044)에 설치된다.

상기 흄 유입구(H2011)는 상기 분무 캐비티(H201)의 저부에 설치되고, 상기 흄 유입관(H205)은 상기 흄 유입구(H2011)를 관통하여, 흄을 상기 분무 캐비티(H201)로 배출시킨다.

상기 여과 캐비티(H206)의 입구는 상기 물저장 캐비티(H203)의 흄 배출 통로(H2033)와 연통되고, 상기 여과 캐비티(H206)의 내부에는 복수의 상기 여과망(H202)과 같은 제2 여과망(H2061)이 설치되며, 상기 여과 캐비티(H206)의 출구는 상기 송풍기(H207)의 바람 유입구에 연결된다.

본 실시예에서, 상기 송풍기(H207)의 바람 배출구는 흄 배출구이다.

본 실시예에서, 상기 여과망(H202) 및 상기 제2 여과망(H2061)은 모두 금속 여과망을 사용하고, 다른 경우에는, 상기 여과망(H202) 및 상기 제2 여과망(H2061)은 활성탄 여과망 또는 거즈 여과망 등을 사용할 수도 있으며, 복수의 상기 여과망(H202)이 사용하는 재료는 동일하거나 상이할 수 있고, 복수의 상기 제2 여과망(H2061)이 사용하는 재료는 동일하거나 상이할 수 있고, 모두 본 실용신안이 얻는 유리한 효과에 영향주지 않는다.

바람직하게는, 상기 분무 캐비티(H201)의 내부에는 다수의 상부 격판(H2015) 및 다수의 하부 격판(H2016)이 설치된다. 상기 상부 격판(H2015) 및 상기 하부 격판(H2016)은 수직으로 번갈아 분포되고, 상기 상부 격판(H2015)의 상단은 모두 상기 분무 캐비티(H201)의 상단에 장착되며, 상기 상부 격판(H2015)의 하단은 상기 분무 캐비티(H201)의 저부와 이격 설치되고, 상기 하부 격판(H2016)은 상기 분무 캐비티(H201)의 상단과 저부 사이에 설치되며 상기 분무 캐비티(H201)의 상단과 이격 설치되고, 상기 하부 격판(H2016)의 하단은 모두 슬릿을 두고 상기 분무 캐비티(H201)의 저부에 근접하여, 상기 분무 캐비티(H201)의 내부 공간을 복수의 처음과 끝이 순차적으로 서로 연결된 분무 구간으로 분할하여, 다굴곡 흄 통로를 형성하여, 상기 분무 캐비티(H201)에서의 흄의 경로를 연장시킴으로써, 분무 여과의 효과를 증강시킨다.

본 실시예에서, 상기 상부 격판(H2015)의 개수는 2개이고, 상기 하부 격판(H2016)의 개수는 2개이다. 2개의 상기 상부 격판(H2015) 및 2개의 상기 하부 격판(H2016)은 상기 분무 캐비티(H201)를 제1단 분무 구간, 제2단 분무 구간, 제3단 분무 구간, 제4단 분무 구간 및 말단 분무 구간으로 분할한다. 상기 흄 유입구(H2011)는 상기 제1단 분무 구간의 저부에 설치되고, 상기 분무 캐비티 출구(H2012)는 상기 말단 분무 구간에 설치된다. 다른 경우에는, 상기 흄 처리 장치는 더 많거나 더 적은 상기 상부 격판(H2015)을 포함할 수도 있고, 더 많거나 더 적은 상기 하부 격판(H2016)을 포함할 수도 있으며, 실용신안이 얻는 유리한 효과에 영향주지 않는다. 바람직하게는, 상기 여과망(H202)은 모두 환형으로 둘러싸고, 복수의 상기 분무 구간에 탈착 가능하게 수직으로 장착되어, 흄을 여과하는 동시에, 상기 여과망(H202)에 응결되어 상기 흄 통로가 막히는 것을 방지한다.

본 실시예에서, 상기 순환 분무기(H2042)의 개수는 4개이고, 상기 4개의 순환 분무기(H2042)는 상기 제2단 분무 구간의 상단, 상기 제3단 분무 구간의 상단, 상기 제4단 분무 구간의 상단 및 상기 말단 분무 구간의 상단에 일대일로 대응되게 설치되고, 상기 순환 분무기(H2042)는 모두 상기 분수 연결관(H2042)에 연결된다.

상기 총괄 입수구(H2013)는 상기 제1단 분무 구간의 상단에 설치되고, 상기 입수 도관(H2044)의 출수단은 상기 총괄 입수구(H2013)를 관통하여 상기 제1단 분무 구간에 위치하며, 상기 흄 유입관(H205)의 흄 유입단은 상기 흄 유입구(H2011)를 관통하여 상기 제1단 분무 구간에 위치하고 상기 흄 유입관(H205)의 흄 유입단의 설치 높이는 상기 입수 도관(H2044)의 출수단보다 높다.

설명해야 할 것은, 본 실시예에 따른 흄 처리 장치(H200)의 흄 유입구(H2011)는 2개일 수 있고, 상기 실시예에 따른 밀봉 조리 캐비티 중의 조리 기기와 각각 연통되고 상기 밀봉 조리 캐비티와 각각 연통된다.

아래, 도 17을 결부하여, 본 실시예에 의해 제공되는 흄 처리 장치의 작업 과정을 상세하게 설명하도록 한다.

상기 입수 펌프(H2046)의 작동에 의해 상기 외부 수원의 물이 흡입되어, 상기 입수 도관(H2044)을 경유하여 상기 입수 분무기(H2045)로부터 분사되고 상기 하부 격판(H2016)과 상기 분무 캐비티(H201)의 저부의 슬릿으로부터 상기 분무 캐비티 출구(H2012)에 흐르며, 상기 물저장 캐비티(H203)에 진입하여, 물흐름이 상기 하부 격판(H2016)과 상기 분무 캐비티(H201)의 저부의 슬릿에 채워져, 흄이 상기 슬릿으로부터 넘쳐나는 것을 방지한다.

송풍기(H207)를 작동시켜, 상기 분무 캐비티(H201) 내부에서 상기 제1단 분무 구간으로부터 상기 말단 분무 구간까지 순차적으로 흐르는 기류를 형성하고, 상기 물저장 캐비티(H203)에서 상기 물저장 캐비티(H203)의 입구로부터 상기 물저장 캐비티(H203)의 출구까지 흐르는 기류를 형성하며, 상기 여과 캐비티(H206)에서 상기 여과 캐비티(H206)의 입구로부터 상기 여과 캐비티(H206)의 출구까지 흐르는 기류를 형성한다. 상기 흄 처리 장치 내부에서 상기 분무 캐비티(H201), 상기 물저장 캐비티(H203), 상기 여과 캐비티(H206) 및 상기 송풍기(H207)를 순차적으로 경유하고 마지막에 상기 흄 처리 장치에 배출되는 기류를 형성한다.

흄은 상기 흄 유입관(H205)으로부터 상기 제1단 분무 구간에 진입하고, 상기 입수 분무기(H2045)는 흄에 대해 분무에 의한 온도 하강을 수행함으로써, 일부분의 흄 과립은 상기 제1단 분무 구간의 상기 여과망(H202)에 의해 여과되고, 일부분의 흄 과립은 상기 분무 캐비티(H201)의 저부에 떨어지며, 분무용 물이 상기 하부 격판(H2016)과 상기 분무 캐비티(H201)의 저부의 슬릿으로부터 상기 물저장 캐비티(H203)로 유입됨에 따라, 잔여 흄 과립은 기류에 따라 상기 제2단 분무 구간에 진입한다.

상기 분수 펌프(H2043)는 상기 물저장 캐비티(H203) 중의 고인 물을 흡입하여, 상기 분수 연결관(H2041)을 통해, 상기 순환 분무기(H2042)로부터 분사하고, 제2단 분무 구간 중의 흄의 온도를 하강시키며, 일부분의 흄 과립은 상기 제2단 분무 구간 중의 상기 여과망(H202)에 의해 여과 및 제거되고, 일부분의 흄 과립은 상기 분무 캐비티(H201)의 저부에 떨어지며, 분무용 물이 상기 하부 격판(H2016)과 상기 분무 캐비티(H201)의 저부의 슬릿으로부터 상기 물저장 캐비티(H203)에 유입됨에 따라, 잔여 흄 과립은 기류를 따라 다음 분무 구간에 진입하고, 다음 분무 구간은 상기 과정을 반복한다. 여러 번의 분무 여과를 거친 후 잔류된 소부분의 흄 과립은 기류에 따라 상기 분무 캐비티 출구(H2012)로부터 상기 물저장 캐비티(H203)에 진입하여, 상기 물저장 캐비티(H203) 중의 고인 물에 의해 다시 흡수되며, 상기 여과 캐비티(H206)의 상기 여과망(H2061)을 거쳐 다시 여과된다. 처리 후의 기체는 상기 송풍기(H207)의 바람 배출구로부터 상기 흄 처리 장치로 배출된다.

본 실시예에 의해 제공되는 흄 처리 장치는, 상기 송풍기(H207)가 상기 흄 처리 장치에서 가이드 기류를 생성하고, 상기 도관 기구(H204)는 상기 분무 캐비티(H201)를 거친 흄에 대해 분무에 의한 온도 하강을 수행하는 동시에, 흄 과립을 흡수하며, 일부분의 흄 과립은 상기 분무 캐비티(H201) 중의 여과망(H202)에 의해 여과됨으로써, 처리된 기체가 깨끗한 상태로 배출될 수 있어, 상기 흄 처리 장치에 잔류되는 흄을 감소시키고, 흄에 대한 신속한 처리를 구현함으로써, 흄 중 흄 과립과 기체의 분리 효율을 향상시키고, 흄 처리의 원가를 절감시킨다.

전술한 실시예에 개시된 조리기 흄 처리 시스템 중의 제1 흄 처리 장치 또는 제2 흄 처리 장치는 상기 제8 실시예에 따른 흄 처리 장치의 구조를 사용할 수 있음을 이해할 수 있다.

실시예 9

도18 내지 도 21을 참조하면, 각각 본 발명의 제9 실시예에 의해 제공되는 밀봉 조리 캐비티의 전측 모식도, 배면 모식도 및 상기 밀봉 조리 캐비티를 구비하는 조리기의 구조 모식도이다.

본 실시예에서, 상기 밀봉 조리 캐비티(I100)는 제1 하우징(I101), 및 상기 제1 하우징(I101)에 설치된 제1 격판(I102)에 의해 이격되어 형성된다. 상기 제1 하우징(I101)은 외부 플레이트로 조합되어 형성되고, 직육면체 형태 또는 정육면체와 유사한 형태를 가지며; 상기 제1 격판(I102)은 상기 제1 하우징(I101)을 밀봉 조리 캐비티(I100)와 흄 처리 영역(I200)으로 이격시킨다.

본 실시예에서, 상기 밀봉 조리 캐비티(I100)는 위에서 아래로 순차적으로 재료투입 영역(I103), 요리 영역(I104) 및 요리 출력 영역(I105)을 구비하고, 상기 재료투입 영역(I103)에는 로딩 장치(I106)를 장착하며, 상기 요리 영역(I104)에는 조리 기기(I107)를 장착하고, 상기 요리 출력 영역(I105)에는 요리 출력 장치(I108)를 장착한다. 상기 흄 처리 영역(I200)에는 흄 처리 장치(I201)를 장착한다.

본 실시예에서,상기 흄 처리 장치(I201)의 흄 유입구가 상기 흄 출구(I1021)를 통해 상기 밀봉 조리 캐비티(I100) 중의 조리 기기(I107)와 연통되도록 상기 제1 격판(I102)에는 상기 흄 처리 영역(I200)과 연통되는 흄 출구(I1021)가 설치된다. 여기서, 상기 조리 기기(I107)는 냄비 본체 반전 기구(I1070)를 구비하는 냄비 본체(I1071) 및 이동 제어 기구를 구비하는 냄비 뚜껑(I1072)을 포함하고, 상기 냄비 뚜껑(I1072)의 이동 제어 장치는 베어링 및 중공의 냄비 뚜껑 축(I1072a)을 포함하며, 상기 베어링은 상기 제1 격판(I102)의 흄 출구(I1021) 내에 밀봉되게 장착되고, 구체적으로, 흄 출구(I1021)에 밀봉링을 설치하여 밀봉 장착을 구현할 수 있다. 상기 냄비 뚜껑 축(I1072a)의 일단은 상기 냄비 뚜껑(I1072)의 배기홀과 연통되고, 상기 냄비 뚜껑 축(I1072a)의 타단은 상기 흄 처리 장치(I201)의 흄 유입구와 연통된다.

본 실시예에 따른 로딩 장치(I106)는 재료투입 반전 기구(I1061)를 구비하는 재료실(I1062)을 포함하고, 상기 반전 기구(I1061)는 재료실(I1062) 양측에 위치한 재료실 지지대(미도시)를 포함한다.

본 실시예에서, 상기 밀봉 조리 캐비티(I100)의 요리 영역(I104)의 측변에는 자동 세척 장치를 장착하기 위한 세척 영역(미도시)이 설치되어, 상기 요리 영역(I104)에 장착된 냄비 본체(I1071)를 자동으로 세척한다.

바람직하게는, 상기 밀봉 조리 캐비티(I100)의 재료투입 영역(I103)과 요리 영역(I104) 사이, 요리 영역(I104)과 요리 출력 영역(I105) 사이, 및 요리 영역(I104)과 세척 영역 사이는 각각 내부 격판(I109)을 통해 이격되게 형성되고 각각의 상기 내부 격판(I109)에는 연결 통로가 설치되어, 상기 로딩 영역(I103) 중의 로딩 장치(I106), 요리 영역(I104) 중의 조리 기기(I107) 및 요리 출력 영역(I105) 중의 요리 출력 장치(I108)가 서로 협력하여 요리 과정을 완성할 수 있도록 하고, 상기 세척 영역 중의 자동 세척 장치가 상기 조리 기기(I107)의 냄비 본체를 자동으로 세척할 수 있도록 한다.

본 실시예에서, 제1 격판(I102)을 통해 상기 제1 하우징(I101)을 밀봉 조리 캐비티(I100)와 흄 처리 영역(I200)으로 이격시키고, 내부 격판(I108)을 통해 상기 밀봉 조리 캐비티(I100)를 상이한 기능 영역(구체적으로, 재료투입 영역(I103), 요리 영역(I104), 요리 출력 영역(I105) 및 세척 영역)으로 이격시켜, 요리 과정에 응용되는 상이한 기능의 장치가 조리정연하게 분포되고 서로 간섭하지 않도록 할 수 있으므로, 장치를 보수하는데 편리하다.

본 실시예에서, 상기 제1 하우징(I101)의 전측 또는 후측의 외부 플레이트에는 사용자가 재료투입하기 위한 재료투입구(I1011) 및 요리를 출력하기 위한 요리 출력구(I1012)가 설치되고; 상기 재료투입구(I1011) 및 요리 출력구(I1012)가 설치된 외부 플레이트 외측에는 개폐 가능한 커버 판(I1013)이 더 설치되며, 상기 커버 판(I1013)과 제1 하우징(I101)의 상접 위치에는 자흡식 밀봉 스트립이 설치되어, 흄 유출을 방지한다. 재료투입 또는 요리 출력을 수행할 경우, 사용자는 커버 판(I1013)을 개방하여, 재료투입구(I1011) 또는 요리 출력구(I1012)를 통해 재료투입 또는 요리 출력 동작을 수행할 수 있고, 재료투입 또는 요리 출력이 완료된 후, 요리 영역이 밀봉 상태가 되도록 커버 판(I1013)을 닫는다.

바람직하게는, 상기 제1 하우징(I101)의 상단에는 보수구(I110)가 설치되고, 상기 보수구(I110)의 외부 플레이트에는 개폐 가능한 상단 플레이트(I110a)가 설치된다. 상기 조리기 내부를 보수할 경우, 상기 상단 플레이트(I110a)를 개방하여 보수할 수 있다.

본 실시예에서, 상기 제1 하우징(I101)에서 상기 재료투입 영역(I103)에 대응되는 2개의 대향되는 측벽에는 각각 대칭되게 분포되는 재료투입 반전 기구 보호 쉘(I103a)이 설치되고; 상기 제1 하우징(I101)에서 상기 요리 영역(I104)에 대응되는 2개의 대향되는 측벽에는 각각 대칭되게 분포되는 냄비 본체 반전 기구 보호 쉘(I104a)이 설치되며; 상기 제1 하우징(I101)에서 상기 세척 영역에 대향되는 위치에는 자동 세척 장치 보호 쉘(I111)이 설치되어, 세척 과정에서 흩날리는 물보라 등이 상기 밀봉 조리 캐비티(I100) 중의 장치를 손상시키는 것을 방지한다. 상기 세척 영역의 하측에는 배수 장치, 및 상기 배수 장치(I112)에 연결되는 폐수 통로(I112a)가 설치되고, 상기 제1 하우징(I101)에는 상기 폐수 통로(I112a)를 고정하기 위한 가이드 판(I113)이 설치된다.

설명해야 할 것은, 상기 밀봉 조리 캐비티(I100)를 구비하는 조리기는 제2 하우징(I101a)을 포함하고, 상기 제1 하우징(I101)은 상기 제2 하우징(I101a) 내에 고정 설치된다. 상기 제1 하우징(I101)의 가이드 판(I113)의 하측에는 쓰레기 처리기(I114)가 설치된다.

도 21을 참조하면, 상기 제2 하우징(I101a)의 상단과 상기 제1 하우징(I101)의 보수구(I110)가 대응되는 위치에는 제2 보수구(I101a1) 개방 설치되고; 상기 제2 하우징(I101a)의 전측부에는 상기 제1 하우징(I101)의 커버 판(I1013)을 개폐하기 위한 개구(I101a2)가 설치된다. 상기 제1 하우징(I101)의 세척 영역의 하측에 대향되는 상기 제2 하우징(I101a)의 측벽에는 세척구(I101a3) 및 배수구(I101a4)가 개방 설치되고, 상기 세척구(I101a3)에는 개폐 가능한 세척문(I101a5)이 설치되며, 상기 밀봉 조리 캐비티(I100) 하측의 부재에 대해 세척 처리할 경우, 상기 세척문(I101a5)을 개방하여 대응되는 부재를 세척할 수 있다. 상기 제1 하우징(I101)의 흄 처리 영역에 대향되는 상기 제2 하우징(I101a)의 측벽에는 방열구 및/또는 흄 출구(I101a6)가 설치된다.

이 밖에, 상기 제1 하우징(I101)과 상기 제2 하우징(I101a)은 박스체 구조로 형성되고, 여기서, 상기 제2 하우징(I101a)의 하반부는 블록 형태의 구조이며, 상기 제2 하우징(I101a)의 상반부는 계단상 구조이고, 상기 계단상 구조의 경사면에는 인간 컴퓨터 인터페이스 장착 위치(I101a7)가 설치되어, 상기 조리기의 인간 컴퓨터 인터페이스를 상기 계단상 구조의 경사면에 설치함으로써, 사용자가 상기 인간 컴퓨터 인터페이스에 대한 조작이 용이하도록 한다.

설명해야 할 것은, 상기 제1 하우징(I101)에 흄 유입홀 및/또는 흄 배출홀을 설치하여, 상기 실시예에 따른 제1 흄 처리 장치 및/또는 제2 흄 처리 장치와 결합 연결시켜, 흄의 정화 및 조리기의 흄의 제로 배출을 극대화시킬 수 있다.

본 실시예에서, 제1 하우징(I101) 및 제1 격판(I102)을 이용하여 밀봉 조리 캐비티를 이격되게 형성하고, 밀봉링을 이용하여 밀봉 효과를 강화시키며, 내부 격판(I108)을 이용하여 밀봉 조리 캐비티를 다수의 기능 영역으로 이격시킴으로써, 요리 과정에 응용되는 상이한 기능의 장치가 조리정연하게 분포되고 서로 간섭하지 않도록 할 수 있으므로, 각 장치의 유지보수가 용이하고 공간을 충분히 이용하여, 조리기의 부피를 크게 감소시킬 수 있다.

물론, 전술한 실시예에 개시된 조리기 흄 처리 시스템 중의 밀봉 조리 캐비티는 제9 실시예에 의해 제공된 밀봉 조리 캐비티의 구조를 사용하여 구현될 수 있다. 하지만, 본 발명의 각 실시예에 개시된 조리기의 흄 처리 시스템 중의 밀봉 조리 캐비티는 밀봉 설치를 구현하여 본 발명의 실시예의 조리기 흄 처리 시스템의 흄 처리 기능을 구현할 수만 있으면 다른 구조를 사용할 수도 있다.

실시예 10

도 22를 참조하면, 본 발명의 제10 실시예에 의해 제공되는 밀봉 조리 캐비티의 구조 모식도이다.

본 실시예에서, 상기 밀봉 조리 캐비티(J100)는 내부 하우징(J101)과 외부 하우징(J102)으로 조립된다. 상기 내부 하우징(J101)은 외부 하우징(J102) 내에 설치되고, 상기 내부 하우징(J101) 및 상기 외부 하우징(J102) 사이에는 흄 처리 영역(J100a) 및 보조재 첨가 영역(J100b)이 형성된다. 상기 흄 처리 영역(J100a)은 상기 내부 하우징(J101)의 상부 외측에 위치하고, 상기 보조재 첨가 영역(J100b)은 상기 내부 하우징(J101)의 저부 하측에 위치한다.

상기 외부 하우징(J102)은 직사각형 비슷한 형태를 이루고, 상기 외부 하우징(J102)의 상단에는 개폐 가능한 상단 커버 문판(J1021)이 설치되며, 상기 외부 하우징(J102)의 정면의 중간 부분에는 중간 문판(J1022)이 설치되고, 상기 외부 하우징(J102)의 정면의 하부에는 개폐 가능한 보조재 문판(J1023)이 설치되며, 상기 외부 하우징(J102)의 정면의 상부에는 인간 컴퓨터 인터페이스를 장착하기 위한 장착 패널(J1024)이 개방 설치된다.

바람직하게는, 상기 내부 하우징(J101) 내에 장착된 로딩 장치를 세척하도록 상기 상단 커버 문판(J1021)에는 로딩 장치 세척 분무헤드(J1021a)가 설치된다.

도 23 내지 도 26을 참조하면, 각각 본 실시예에 따른 상기 내부 하우징(J101)의 사시도, 저면도, 측면도 및 배면도이다.

본 실시예에서, 상기 내부 하우징(J101) 내에는 요리 영역(J1011), 재료투입 영역(J1012) 및 요리 출력 영역(J1013)이 설치되고; 상기 요리 영역(J1011)은 상기 내부 하우징(J101)의 중간 부분에 위치하며, 상기 재료투입 영역(J1012)은 상기 내부 하우징(J101)의 상부에 위치하고, 상기 요리 출력 영역(J1013)은 상기 요리 영역(J1011)과 상기 내부 하우징(J101)의 저부 사이에 위치한다. 상기 요리 영역(J1011)에는 조리기의 조리 기기가 장착되고, 상기 재료투입 영역(J1012)에는 조리기의 재료투입 장치가 장착되며, 상기 요리 출력 영역(J1013)에는 요리 출력 장치가 장착된다. 여기서, 상기 조리 기기는 냄비 본체, 냄비 뚜껑, 냄비 본체 반전 기구 및 냄비 본체 가열 장치를 포함한다. 상기 냄비 뚜껑에는 배기홀 및 보조재 첨가구가 설치된다.

상기 내부 하우징(J101)의 상단에는 개폐 가능한 상단 커버 문판(미도시)을 장착하기 위한 상단 커버구(J1014)가 설치된다. 상기 내부 하우징(J101) 내의 장치(예를 들어, 냄비 본체 또는 냄비 본체 반전 기구 등)를 유지보수할 경우, 상기 상단 커버구(J1014) 위치에 설치된 상기 상단 커버 문판을 개방할 수 있다. 이로부터 알 수 있는 바, 상기 내부 하우징(J101)의 상단에 상기 상단 커버 문판을 장착하기 위한 상기 상단 커버구(J1014)를 개방 설치함으로써, 상기 조리기 내 장치의 유지보수가 용이할 수 있다.

상기 내부 하우징(J101)에서 상기 요리 영역(J1011)에 대향되는 측벽에는 흄 출구(J1015)가 개방 설치된다. 상기 흄 출구(J1015)에 대향되는 내부 하우징(J101) 내에 조리 기기의 냄비 뚜껑을 장착하여, 상기 냄비 뚜껑의 흄 배출구와 상기 내부 하우징(J101)의 흄 출구(J1015)가 밀봉되게 연통되도록 한다.

상기 내부 하우징(J101)에서 흄 출구(J1015)가 개방 설치된 면에는 개폐 가능한 중간 문판(J1022)을 장착하기 위한 장착구(J1016)가 개방 설치되고, 상기 장착구(J1016)의 변에는 밀봉 스트립(J1017)이 장착된다. 조리 기기를 인공적으로 세척하거나 상기 내부 하우징(J101)의 내부의 장치를 유지보수할 경우, 상기 장착구(J1016) 위치에 설치된 상기 중간 문판(J1022)을 개방할 수 있다. 이 밖에, 상기 장착구(J1016) 위치에 상기 밀봉 스트립(J1017)을 설치하여, 상기 중간 문판(J1022) 개폐 시, 상기 중간 문판(J1022)과 상기 내부 하우징(J101) 사이의 슬릿을 더 잘 밀봉할 수 있음으로써, 상기 내부 하우징(J101)이 보다 좋은 밀봉성을 가지도록 하여, 외부의 불순물(예를 들어, 먼지)이 상기 내부 하우징(J101)의 내부로 쉽게 들어가지 못하고 상기 내부 하우징(J101) 내의 흄이 유출되지 않도록 확보한다.

상기 내부 하우징(J101)에서 상기 장착구(J1016)와 인접한 2개의 측벽의 중간 부분에는 각각 상기 냄비 본체 반전 기구를 상기 요리 영역(J1011)에 장착하기 위한 제1 장착 위치(J1011a)가 설치된다. 바람직하게는, 상기 제1 장착 위치(J1011a)는 상기 내부 하우징(J101)의 양측에 개방 설치된, 상기 냄비 본체 반전 기구가 구비하는 회전축을 장착하기 위한 회전축 장착 홈, 또는 상기 내부 하우징(J101)의 양측변의 내측벽에 설치된, 상기 냄비 본체 반전 기구를 장착하기 위한 장착 프레임 또는 장착판 등일 수 있고, 여기서 구체적으로 한정하지 않는다.

상기 내부 하우징(J101)에서 상기 장착구(J1016)와 인접한 2개의 측벽의, 상기 재료투입 영역(J1012)에 대향되는 상부에는 상기 재료투입 장치를 상기 재료투입 영역(J1012)에 장착하기 위한 제2 장착 위치(J1012a)가 설치되어 있다. 여기서, 바람직하게는, 상기 제2 장착 위치(J1012a)는 상기 내부 하우징(J101)의 양측에 개방 설치된, 상기 재료투입 장치가 구비하는 회전축을 장착하기 위한 재료투입 회전축 장착 홈일 수 있다. 설명해야 할 것은, 상기 제2 장착 위치(J1012a)는 상기 내부 하우징(J101)의 양측변의 내측벽에 설치된, 상기 재료투입 장치를 장착하기 위한 장착 프레임 또는 장착판 등일 수도 있고, 여기서 구체적으로 한정하지 않는다.

상기 내부 하우징(J101)에서 상기 장착구(J1016)의 바로 상측에 위치하는 측벽에는 인간 컴퓨터 인터페이스 장착 장치를 장착하기 위한 제3 장착 위치(J1012b)가 설치되어 있다. 바람직하게는, 상기 제3 장착 위치(J1012b)에는 상기 인간 컴퓨터 인터페이스를 수용하기 위한 장착 홈, 또는 상기 인간 컴퓨터 인터페이스를 장착하기 위한 장착판 등이 개방 설치될 수 있고, 여기서 구체적으로 한정하지 않는다. 바람직하게는, 상기 제3 장착 위치(J1012b)는 상기 수평면과 일정한 각도를 이루어 그 위에 장착된 인간 컴퓨터 인터페이스가 상기 수평면과 일정한 각도를 이루도록 함으로써, 사용자의 사용 습관에 부합된다.

본 실시예에서, 상기 내부 하우징(J101)의 저부에는 상기 요리 출력 영역(J1013)에 떨어지는 오수를 배출시키기 위한 요리 출력 영역 오염물질 배출구(J1018) 및 배수 통로 구조(J1019)가 개방 설치된다. 상기 배수 통로 구조(J1019)는 중공 구조이고, 상기 배수 통로 구조(J1019)의 상단에는 오수 수집구(J1019a)가 개방 설치되며, 상기 배수 통로 구조(J1019)의 바닥단에는 배수구(J1019b)가 개방 설치된다. 오수가 상기 내부 하우징(J101) 내의 저부에 고일 경우, 상기 요리 출력 영역 오염물질 배출구(J1018)는 상기 내부 하우징(J101) 내의 저부의 오수를 배출시킬 수 있음으로써, 상기 조리기 내부의 위생을 확보한다. 상기 조리 기기를 세척할 경우, 상기 요리 시 떨어지는 오수는 상기 요리 출력 영역 오염물질 배출구(J1018)를 통해 상기 오수 수집구(J1019a)로부터 상기 배수 통로 구조(J1019) 내로 유입되어 상기 배수 통로 구조(J1019)에 의해 상기 배수구(J1019b)로 가이드되어 배출된다. 따라서, 본 실시예는 상기 배수 통로 구조(J1019)를 설치하여 상기 조리 기기의 세척에 의해 발생되는 오수 또는 흄 처리 장치를 거쳐 처리된 후의 유액을 배출시킬 수 있다.

바람직하게는, 상기 배수 통로 구조(J1019)는 깔때기형 구조의 가이드 하우징을 포함하여, 상기 조리 기기로부터 떨어진 오수를 상기 내부 하우징 밖으로 가이드시킨다. 설명해야 할 것은, 상기 배수 통로 구조(J1019)는 다른 구조일 수도 있는데, 예를 들어, 상기 배수 통로 구조(J1019)는 중공이고 상하 양단에 상기 오수 수집구(J1019a)와 상기 배수구(J1019b)가 각각 개방 설치된 원기둥체 구조일 수 있거나, 또는 상기 배수 통로 구조(J1019)는 중공이고 상하 양단에 상기 오수 수집구(J1019a)와 상기 배수구(J1019b)가 각각 개방 설치된 역 피라미드 구조 등일 수 있으며, 여기서 구체적으로 한정하지 않는다.

도 20을 참조하면, 상기 내부 하우징(J101)의 저부에는 입수관(미도시)이 상기 내부 하우징(J101)의 내부로 관통되도록 제공되는 입수관 장착홀(J1020)이 더 개방 설치되고; 상기 입수관 장착홀(J1020)을 통해 상기 내부 하우징(J101)의 내부로 관통되는 입수관은 상기 조리 기기의 세척에 사용된다.

설명해야 할 것은, 상기 내부 하우징(J101)에 흄 유입홀 및/또는 흄 배출홀을 설치하여, 상기 실시예에 따른 제1 흄 처리 장치 및/또는 제2 흄 처리 장치와 결합 연결시켜, 흄의 정화 및 조리기의 흄의 제로 배출을 극대화시킬 수 있다.

설명해야 할 것은, 본 실시예에 따른 냄비 본체 반전 기구, 상기 재료투입 장치 및 상기 요리 출력 장치는 모두 선행기술일 수 있고, 상기 냄비 본체 반전 기구, 상기 재료투입 장치 및 상기 요리 출력 장치의 작업 원리는 하기 내용을 참조한다. 음식 배합재료를 상기 재료투입 장치에 놓고, 상기 조리기가 조리 단계를 시작할 경우, 상기 조리기에 구비된 제어 장치는 상기 재료투입 장치가 내부의 음식 배합재료를 상기 냄비 본체에 투입하도록 제어하는데, 이때, 상기 제어 장치는 상기 조리기에 구비된 냄비 본체 가열 장치가 상기 냄비 본체를 가열하도록 제어하고, 상기 제어 장치는 또한 상기 냄비 본체 반전 기구가 냄비 본체를 반전시키도록 제어하며, 미리 설정된 조리 단계를 완성 한 후, 상기 냄비 본체 반전 기구가 냄비 본체를 반전시키도록 제어하여, 반전된 후의 상기 냄비 본체 내의 음식이 상기 냄비 본체 하측에 위치한 상기 요리 출력 장치의 요리를 담는 영역 내로 떨어지도록 함으로써, 요리 출력을 완성한다.

설명해야 할 것은, 로딩 장치, 조리 기기 및 보조재 장치 등 작업과 협력하여 구현되는 검출 제어 유닛(예를 들어, 전기, 전기회로, 전원, 전송선 및 도관 부재 등)은 모두 상기 내부 하우징(J101) 외측에 설치되어, 검출 제어 유닛이 조리기의 요리 영역의 고온 다습, 고 산도/알칼리도의 환경의 영향을 받지 않도록 방지하므로, 로딩 장치, 조리 기기 및 보조재 장치 등이 지속적으로 작업하도록 보장하고 조리된 식품의 안전을 확보한다.

설명해야 할 것은, 상기 밀봉 조리 캐비티(J100)의 형상은 예시일 뿐, 상기 밀봉 조리 캐비티(J100)는 다른 형상일 수도 있고, 여기서 한정하지 않는다.

선행기술에 비해, 본 실시예에 따른 밀봉 조리 캐비티는, 내부 하우징(J101)과 외부 하우징(J102)을 조립하여 내부 하우징(J101)에 의해 형성되는 공간을 하나의 밀봉된 캐비티로 제조하고, 상기 내부 하우징(J101)과 외부 하우징(J102) 사이에 흄 처리 영역(J100a) 및 보조재 첨가 영역(J100b)을 형성하여, 상기 밀봉된 캐비티에 설치된 조리 기기 및 상기 밀봉된 캐비티 중의 흄이 상기 흄 출구(J1015)를 통해 상기 흄 처리 영역(J100a) 내에 설치된 흄 처리 장치에 진입하여 처리된 후에야만 환경에 배출되거나 또는 상기 밀봉 조리 캐비티로 배출되어 순환 처리되어 흄의 제로 배출을 구현할 수 있음으로써, 조리기의 흄이 환경에 대한 영향을 감소시킨다.

물론, 전술한 실시예에 개시된 조리기 흄 처리 시스템 중의 밀봉 조리 캐비티는 제10 실시예에 의해 제공된 밀봉 조리 캐비티의 구조를 사용하여 구현될 수 있다. 하지만, 본 발명의 각 실시예에 개시된 조리기 흄 처리 시스템 중의 밀봉 조리 캐비티는 밀봉 설치를 구현하여 본 발명의 실시예의 조리기 흄 처리 시스템의 흄 처리 기능을 구현할 수만 있으면 다른 구조를 사용할 수도 있다.

실시예 11

도 27 내지 도 32를 참조하면, 본 발명의 제11 실시예에 의해 제공되는 조리기의 구조 모식도이다.

본 실시예에서, 상기 조리기는 내부 하우징(K10), 외부 하우징(K20), 상기 내부 하우징(K10)과 상기 외부 하우징(K20)으로 구축된 밀봉 조리 캐비티(K100)에 설치된 재료투입 장치(K101), 조리 기기(K102) 및 요리 출력 장치(K103), 상기 내부 하우징(K10)과 상기 외부 하우징(K20) 사이의 공간 영역 내에 설치된, 상기 재료투입 장치(K101), 조리 기기(K101) 및 요리 출력 장치(K101)의 요리 기능을 보조하는 보조 조리 기기, 흄 처리 장치(K104) 및 보조재 장치(K105)를 포함한다.

상기 내부 하우징(K10)의 구조 및 상기 흄 처리 장치(K104)의 구조는 전술한 관련 실시예에 대한 설명을 참조할 수 있으므로, 여기서 더 이상 설명하지 않는다.

본 실시예에서, 상기 재료투입 장치(K101)는 상기 밀봉 조리 캐비티(K100)의 상부에 장착되고, 상기 조리 기기(K102)는 상기 밀봉 조리 캐비티(K100)의 중간 부분에 설치되며, 상기 요리 출력 장치(K103)는 상기 밀봉 조리 캐비티(K100)의 하부에 장착된다.

상기 조리 기기(K102)는 냄비 뚜껑(K1021), 냄비 본체(K1022), 냄비 본체 반전 기구, 냄비 본체 스테이션 제어 장치 및 냄비 본체 가열 장치(미도시)를 포함한다. 상기 냄비 뚜껑(K1021)은 상기 냄비 본체(K1022)의 냄비입구와 협력하여, 상기 냄비 본체(K1022)를 개폐하고; 상기 냄비 본체 반전 기구는 상기 냄비 본체가 회전하도록 제어하며, 상기 냄비 본체 스테이션 제어 장치는 상기 냄비 본체 반전 기구의 작동을 구동하는 것을 검출하고, 상기 냄비 본체 가열 장치는 상기 냄비 본체(K1021)를 가열한다. 상기 냄비 뚜껑(K1021)에는 배기홀(미도시) 및 보조재료 첨가구(미도시)가 설치된다.

상기 보조 조리 기기는 냄비 본체 승강 장치(K301), 냄비 본체 스테이션 변환 모터(K302), 냄비 본체 스테이션 검출 장치(K303), 재료투입 장치 스테이션 변환 모터(K304), 재료투입 장치 스테이션 검출 장치(K305), 전기, 전기회로, 전원, 전송선 및 도관 부재를 포함한다.

도 24를 참조하면, 상기 외부 하우징(K20)은 좌측 프레임(K21) 및 우측 프레임(K22)을 포함하고, 상기 좌측 프레임(K22), 우측 프레임(K21)을 통해 상기 내부 하우징(K10)에 연결되어 상기 내부 하우징(K10)을 상기 외부 하우징(K20) 내부에 고정시킨다. 구체적으로, 상기 내부 하우징(K10)의 양 측벽 상단에는 상부 연결 에지 포트(K11)가 설치되고, 상기 좌우 프레임의 상단에는 상기 상부 연결 에지 포트(K11)에 대응되게 연결되는 제1 연결홀 위치(K23)가 각각 설치된다. 상기 내부 하우징(K10)의, 전단면과 인접한 양측에는 전면 연결 에지 포트(K12)가 각각 설치되고, 상기 좌우 프레임의 측부에는 상기 전면 연결 에지 포트(K12)에 대응되는 제2 연결홀 위치(K24)가 설치된다. 상기 상부 연결 에지 포트(K11)와 제1 연결홀 위치(K23)를 매칭되게 연결시키고, 상기 전면 연결 에지 포트(K12)와 제2 연결홀 위치(K24)를 매칭되게 연결시킴으로써, 상기 내부 하우징(K10)을 상기 좌측 프레임(K21) 및 우측 프레임(K22)에 고정시킨다.

상기 좌우 프레임에는 재료투입 장치 장착 위치(K25)가 각각 설치되고, 상기 재료투입 장치 장착 위치(K25)는 각각 상기 내부 하우징(K10)에 대응되며 상기 재료투입 장치(K101)를 상기 재료투입 영역의 제2 장착 위치(K1012a)에 장착한다. 상기 밀봉 조리 캐비티(K100)의 재료투입 영역에 설치된 재료투입 장치(K101)는 지지대/회전축을 통해 각각 상기 내부 하우징(K10)의 제2 장착 위치(K1012a) 및 좌우 프레임에서의 재료투입 장치 장착 위치(K25)를 관통하고, 각각 재료투입 장치 장착 위치(K25)에 설치된 재료투입 장치 스테이션 변환 모터(K304)는 재료투입 장치 스테이션 검출 장치(K305)에 연결된다.

상기 좌우 프레임에는 조리 기기 장착 위치(K26)가 각각 설치되고, 상기 조리 기기 장착 위치(K26)는 각각 상기 내부 하우징(K10)에 대응되며 상기 조리 기기(K102)를 상기 요리 영역의 제1 장착 위치(K1011a)에 장착한다.

상기 밀봉 조리 캐비티(K100)의 요리 영역에 설치된 조리 기기(K102)는 지지대/회전축 통해 각각 상기 내부 하우징(K10)의 제1 장착 위치(K1011a) 및 상기 조리 기기 장착 위치(K26)를 관통하고, 조리 기기 장착 위치(K26)에서의 냄비 본체 스테이션 변환 모터(K302) 및 냄비 본체 스테이션 검출 장치(K303)에 각각 설치된다. 이 밖에, 상기 좌우 프레임에서의 조리 기기 장착 위치(K26)는 또한, 상기 냄비 본체가 요리 영역에서 일정한 방향으로 이동하도록 제어하기 위한 냄비 본체 승강 장치(K301)를 고정 장착하고, 이 밖에, 상기 조리 기기 장착 위치(K26)에 근접하는 위치에는 냄비 본체 승강 위치제한 센서(K306)를 설치하기 위한 장착 위치가 더 설치된다.

상기 외부 하우징(K20)은 상기 좌우 프레임에 각각 연결 고정되는 바닥판(K27), 좌우 측판(미도시) 및 후측판(K28)을 더 포함한다. 상기 하우징(K20)은 상기 내부 하우징(K10)의 요리 박스 도입구(K29) 및 요리 출력구(K29a)를 개폐하기 위한 중간 문판(K29b), 상기 내부 하우징(K10)의 상단 커버구(K1014)를 개폐하기 위한 상단 커버 문판(K29c), 및 상기 내부 하우징(K10)과 상기 바닥판(K27) 사이에 구성된, 상기 보조재 장치(K105)를 수용하는 보조재 첨가 영역을 개폐하기 위한 보조재 문판(K1023)을 더 포함한다.

상기 상단 커버 문판(K29c)과 상기 내부 하우징(K10)의 상단면(K10A)이 접촉되는 위치에는 제1 밀봉 스트립(K29c')이 설치되고, 상기 중간 문판(K29b), 보조재 문판(K1023)과 상기 내부 하우징(K10)의 전단면이 접촉되는 위치에는 제2 밀봉 스트립 및 제3 밀봉 스트립이 대응되게 설치되어, 밀봉을 구현하고, 조리 캐비티 내부의 밀보성을 확보한다.

상기 중간 문판(K29b)과 상기 보조재 문판(K1023)은 일체로 성형될 수 있음을 이해할 수 있다. 이 밖에, 상기 내부 하우징(K10)의 전단면(K10B)의 상부에는 인간 컴퓨터 조작 패널을 장착하기 위한 제3 장착 위치(K1012b)가 설치되어, 사용자가 상기 인간 컴퓨터 조작 패널에 대한 조작이 용이하도록 한다.

이 밖에, 상기 조리기는 상기 밀봉 조리 캐비티(K100) 내부에 메인 조리 기기를 세정할 수 있는 분무 어셈블리를 더 설치하고, 여기서, 조리 캐비티 내 상단에 설치되어 재료투입 장치를 직접 세정하는 재료투입 장치 분무 부재(K106), 및 상기 밀봉 조리 캐비티(K100) 내의 측부 또는 저부에 설치되어 냄비 본체 내부를 직접 세정하는 냄비 본체 분무 부재(K107)를 포함한다.

상기 흄 처리 장치(K104)는 상기 외부 하우징(K20)과 내부 하우징(K10) 사이에 설치되고 상기 내부 하우징(K10)의 후단면의 상부에 위치하며, 상기 흄 처리 장치(K104)는 흄 파이프(K1041)를 통해 상기 조리 기기의 내부와 연통되고(구체적으로, 상기 냄비 본체와 연통되고, 상기 내부 하우징(K10)에서 냄비 뚜껑이 설치된 위치에는 흄 출구(K1015)가 설치됨), 상기 밀봉 조리 캐비티(K100)에 연결되며, 상기 밀봉 조리 캐비티(K100) 및 냄비 본체 내의 흄은 상기 흄 출구를 통해 상기 흄 처리 장치(K104)에 진입하여, 정화 처리된다. 상기 내부 하우징(K10)은 다른 위치에 상기 흄 처리 장치(K104)에 연결되는 흄 출구(미도시)를 설치하여, 밀봉 조리 캐비티(K100) 내의 흄을 직접 흄 출구를 통해 흄 처리 장치(K104)로 배출시켜 흄 처리를 수행할 수도 있음을 이해할 수 있다. 이 밖에, 상기 흄 처리 장치(K104)의 흄 배출구를 상기 밀봉 조리 캐비티(K100) 내부에 연통되도록 설치할 수 있음으로써, 흄 처리 장치(K104)를 거쳐 처리된 후의 흄이 상기 밀봉 조리 캐비티(K100)에 다시 돌아가도록 하여 순환 처리되어 흄 가스의 제로 배출을 구현한다. 상기 흄 처리 장치(K104)가 사용하는 구체적인 구조 및 처리 과정은 상기 실시예의 관련 설명을 참조할 수 있다.

상기 보조재 장치(K105)는 상기 외부 하우징(K20) 내에 설치되고 상기 내부 하우징(K10)의 하측에 위치하며 상기 내부 하우징(K10)으로부터 오수 수집구(K1019a)로부터 멀리 떨어지고, 상기 오수 수집구(K1019a)는 쓰레기 처리기(K108)에 연결되며, 상기 보조재 장치(K105)는 보조재 병(미도시)을 포함하고, 각각의 상기 보조재 병은 보조재 파이프 및 보조재 펌프를 통해 상기 밀봉 조리 캐비티 내의 냄비 본체와 연통되며, 구체적으로 냄비 뚜껑와 연통되는 보조재 첨가구를 통과한다. 상기 보조재 장치(K105)는 첨가 펌프를 통해, 보조재 파이프로 보조재 병을 연결하여 냄비 뚜껑 위치의 보조재 첨가구로부터 냄비 본체 내로 보조재를 첨가하도록 하고, 조리하는 전체 과정에서 모두 첨가할 수 있다. 상기 쓰레기 처리기(K108)는 상기 내부 하우징(K10)의 하측에 설치되고 쓰레기 처리기 연결 부재(K109)를 통해 상기 내부 하우징(K10)의 저부의 오수 수집구(K1019a)에 밀봉되게 연결된다.

선행기술에 비해, 본 발명의 실시예에 따른 조리기는, 외부 하우징(K20)과 내부 하우징(K10)을 조립하여 내부 하우징(K10)에 의해 형성되는 공간을 하나의 밀봉 조리 캐비티로 만들고, 상기 로딩 장치(K101), 조리 기기(K102) 및 요리 출력 장치(K103)를 상기 밀봉 조리 캐비티에 설치하며, 보조 조리 기기(냄비 본체 승강 장치(K301), 냄비 본체 스테이션 변환 모터(K302), 냄비 본체 스테이션 검출 장치(K303), 재료투입 장치 스테이션 변환 모터(K304), 재료투입 장치 스테이션 검출 장치(K305), 전기, 전기회로, 전원, 전송선 및 도관 부재) 및 흄 처리 장치를 상기 밀봉 조리 캐비티 밖에 설치함으로써, 조리 기기에 의해 생성된 흄이 상기 내부 하우징에서의 흄 출구를 통해 흄 처리 장치로 배출되어 처리된 후에야만 환경에 배출되도록 함으로써, 조리기의 흄이 환경에 대한 영향을 효과적으로 방지할 수 있다. 또한, 보조 조리 기기가 조리기의 요리 영역의 고온 다습, 고 산도/알칼리도의 환경의 영향을 받지 않도록 효과적으로 방지할 수 있으므로, 로딩 장치, 조리 기기 및 보조재 장치 등이 지속적으로 작업하도록 확보하고 조리된 식품의 안전을 확보한다.

본 실시예에 의해 제공되는 조리기는 전술한 임의의 실시예에 의해 제공되는 조리기 흄 처리 시스템을 사용하여 흄 처리 기능을 구현할 수 있음을 이해할 수 있다.

본 발명에의 설명에서, 용어 "중심”, "종방향”, "횡방향”, "길이”, "폭”, "두께”, "상”, "하”, "전”, "후”, "좌”, "우”, "수직”, "수평”, "상부”, "바닥”, "내”, "외”, "시계 방향”, "시계 반대 방향” 등이 지시하는 방위 또는 위치 관계는 도면에 도시된 방위 또는 위치 관계에 기반한 것으로, 본 발명의 설명 및 간소화 설명을 위한 것일 뿐, 언급된 장치 또는 소자가 반드시 특정된 방위를 구비하고 특정된 방위로 구성 및 동작하는 것으로 지시 또는 암시하지 않으므로, 본 발명에 대한 한정으로 이해해서는 아니된다.

이 밖에, 용어 "제1", "제2"는 설명의 목적으로 사용할 뿐, 상대적인 중요성을 지시 또는 암시하거나 언급된 기술특징의 개수를 은연중 명시하는 것으로 이해해서는 아니된다. 이로써, "제1", "제2"로 한정된 특징은 하나 또는 하나 이상의 상기 특징을 포함하는 것으로 명시 또는 은연중 포함할 수 있다. 본 발명의 설명에서, "복수”는 구체적으로 달리 명확하게 한정하지 않은 한, 적어도 2개, 예를 들어, 2개, 3개 등을 의미한다.

본 발명에서, 달리 명확하게 규정 및 한정하지 않은 한, "장착”, "서로 연결”, "연결”, "고정” 등 용어는 광의적으로 이해해야 하는데, 예를 들어, 고정되게 연결될 수 있거나, 탈착 가능하게 연결될 수 있거나, 일체로 형성될 수 있거나, 기계적으로 연결될 수 있거나, 전기적으로 연결될 수 있거나, 통신 가능하게 연결될 수 있거나, 직접적으로 연결될 수 있거나, 중간 매체를 통해 간접적으로 연결될 수 있거나, 2개의 소자 내부가 연통될 수 있거나, 2개의 소자의 상호 작용 관계일 수 있음을 이해해햐 한다. 당업자는 구체적인 상황에 따라 본 발명에서의 상기 용어들의 구체적인 의미를 이해할 수 있다.

상술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시형태이고, 당업자는 본 발명의 원리를 벗어나지 않는 전제 하에 여러 가지 개선 및 수정을 수행할 수 있고, 이러한 개선 및 수정도 본 발명의 보호범위 내에 속해야 한다.

Claims (42)

1. 조리기 흄 처리 시스템으로서,
   밀봉 조리 캐비티, 조리 기기 및 제1 흄 처리 장치를 포함하고; 상기 조리 기기는 상기 밀봉 조리 캐비티에 설치되며; 상기 제1 흄 처리 장치에는 제1 흄 유입구 및 제1 흄 배출구가 설치되고, 상기 제1 흄 유입구는 상기 조리 기기와 연통되며, 상기 제1 흄 배출구는 상기 밀봉 조리 캐비티의 외부와 연통되거나 상기 밀봉 조리 캐비티와 연통되는 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
2. 제1항에 있어서,
   상기 제1 흄 처리 장치는 상기 밀봉 조리 캐비티와 연통되는 제2 흄 유입구를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
3. 제1항에 있어서,
   제3 흄 유입구 및 제2 흄 배출구가 설치된 제2 흄 처리 장치를 더 포함하고, 상기 제3 흄 유입구는 상기 밀봉 조리 캐비티와 연통되며, 상기 제2 흄 배출구는 상기 밀봉 조리 캐비티의 외부에 연통되는 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 조리 기기는 냄비 본체, 및 상기 냄비 본체를 개폐하기 위한 냄비 뚜껑을 포함하고; 상기 냄비 뚜껑에는 배기홀이 설치되며, 상기 제1 흄 유입구는 상기 배기홀에 밀봉 연결되어 상기 조리 기기와 연통되는 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
5. 제4항에 있어서,
   상기 조리 기기는 상기 냄비 본체를 적재하여 가열하기 위한 냄비 본체 가열 장치, 및 상기 냄비 본체가 회전하도록 제어하기 위한 냄비 본체 회전 장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
6. 제4항에 있어서,
   상기 제1 흄 유입구는 흄 파이프를 통해 상기 배기홀에 밀봉되게 연결되는 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
7. 제4항에 있어서,
   상기 제1 흄 처리 장치는 흄 가이드관, 응축관, 응축액 수집기 및 덕트팬을 포함하고; 상기 흄 가이드관의 공기 유입단은 상기 냄비 뚜껑의 배기홀과 연통되며, 상기 흄 가이드관의 배기단은 상기 응축관을 통해 상기 덕트팬과 연통되고, 상기 덕트팬은 상기 제1 흄 배출구 위치에 설치되며; 상기 응축관의 파이프 세그먼트는 상하로 분포되고, 상기 응축액 수집기는 상기 응축관의 하측에 설치되어 상기 응축관의 가장 낮은 위치와 연통되는 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
8. 제3항에 있어서,
   상기 제2 흄 처리 장치는 흄 여과기 및 배기팬을 포함하고; 상기 배기팬의 바람 흡입구는 상기 제3 흄 유입구로서 상기 요리 영역과 연통되며, 상기 배기팬의 바람 배출구는 상기 흄 여과기의 공기 유입구와 연통되고, 상기 흄 여과기의 바람 배출구는 상기 제2 흄 배출구인 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
9. 제1항에 있어서,
   상기 제1 흄 처리 장치는,
   급수구가 설치되고, 내부에 흄 통로가 구비되며, 상기 흄 통로의 입구 및 출구가 각각 상기 제1 흄 유입구 및 상기 제1 흄 배출구와 연통된 박스체;
   흄을 상기 흄 통로의 입구로부터 상기 박스체 내로 흡입시켜 상기 흄 통로의 출구로부터 배출시키기 위한 송풍기;
   상기 흄 통로 내에 설치된 흄 여과 어셈블리;
   상기 흄 통로 내에 설치된 냉각부가 구비되는 소형 냉각기;
   모두 상기 박스체 내의 상부에 위치하고 상기 흄 통로의 바로 상측에 위치하는 적어도 하나의 제1 출수구가 구비되고, 모두 상기 박스체 내의 하부에 위치하는 적어도 하나의 제1 입수구가 구비되는 물순환 배관; 및
   상기 물순환 배관에 설치된 물 펌프를 포함하는 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
10. 제9항에 있어서,
    상기 제1 흄 처리 장치는 복수의 분무홀이 개방 설치된 분무판를 더 포함하고, 상기 분무판은 상기 흄 통로와 상기 박스체 내의 상단 사이에 설치되어 스페이서로서 작용하며, 상기 적어도 하나의 제1 출수구는 상기 분무판의 상측에 위치하는 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
11. 제10항에 있어서,
    상기 제1 흄 처리 장치는 중공 구조인 냉각체를 더 포함하고, 상기 냉각체에 구비되는 제2 입수구는 상기 물순환 배관의 배수관 세그먼트와 연통되며, 상기 냉각체에 구비되는 제2 출수구는 상기 분무판의 상측에 위치하고; 상기 냉각체는 상기 소형 냉각기의 열전도부와 접촉되는 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
12. 제11항에 있어서,
    상기 박스체의 상단에는 방열구가 개방 설치되고, 상기 분무판의 상측에는 상기 방열구와 연통되는 수용 캐비티가 설치되며, 상기 소형 냉각기의 열전도부 및 상기 냉각체는 모두 상기 수용 캐비티에 설치된 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
13. 제12항에 있어서,
    상기 제1 흄 처리 장치는 흄 유입관 및 상단 개구의 분무 캐비티를 더 포함하고;
    상기 분무 캐비티의 상단은 상기 분무판의 분무홀이 개방 설치된 부위의 저부에 고정되며, 상기 분무 캐비티의 저부는 상기 박스체 내의 저부의 상측에 위치하고 통구가 개방 설치되며;
    상기 흄 유입관의 일단은 상기 박스체 내부의 방향을 따라 상기 흄 통로의 입구를 밀봉되게 관통하며, 상기 분무 캐비티 내로 밀봉되게 관통되고; 상기 분무 캐비티 내에서, 상기 흄 유입관의 상기 일단과 상기 통구 사이에는 연장된 흄 분무 통로가 형성되며, 상기 흄 분무 통로 내에는 적어도 한 층의 흄 여과층이 설치되고, 상기 흄 분무 통로의 각각의 세그먼트의 저부는 모두 상기 통구와 연통되는 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
14. 제13항에 있어서,
    상기 소형 냉각기는 반도체 냉각기이고, 상기 소형 냉각기의 복수의 냉각 시트는 상기 분무 캐비티 내에 설치되며 상기 흄 분무 통로의 바로 상측에 분포되는 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
15. 제14항에 있어서,
    상기 제1 흄 처리 장치는,
    상기 분무판과 상기 박스체 내의 저부 사이에 종방향으로 설치되고, 저부와 상기 박스체 내의 저부에 흄 통로구가 형성된 제1 종방향 격판;
    상기 분무판과 상기 박스체 내의 저부 사이에 위치하고, 상기 제1 종방향 격판과 그와 대향되는 박스체의 측판 사이에 횡방향으로 설치된 횡방향 격판;
    상기 제1 종방향 격판과 상기 박스체의 상기 측판 사이에 종방향으로 설치되고, 상단이 상기 분무판의 저부에 밀봉되게 연결되며, 저부가 상기 횡방향 격판의 상단과 이격 설치된 제2 종방향 격판; 및
    상기 제2 종방향 격판과 상기 박스체의 상기 측판 사이에 종방향으로 설치되고, 상단이 상기 분무판의 저부와 이격 설치되며, 저부가 상기 횡방향 격판의 상단에 고정되어 상기 횡방향 격판과 슬릿이 형성되는 제3 종방향 격판을 더 포함하고,
    그중, 상기 흄 배출관의 상기 타단은 상기 제1 종방향 격판과 상기 제2 종방향 격판 사이에 위치하고; 상기 통구는 상기 횡방향 격판에 개방 설치되며, 상기 제3 종방향 격판과 상기 박스체의 상기 측판 사이에 위치하고; 상기 흄 통로의 출구는 상기 박스체의 상기 측판과 대향되는 다른 측판에 개방 설치되며, 상기 분무판의 하측에 위치하는 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
16. 제9항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 흄 처리 장치는 흄 입구 및 흄 출구가 개방 설치된 제1 여과 탱크를 더 포함하고, 상기 흄 입구와 상기 흄 출구 사이에는 적어도 한 층의 흄 여과층이 설치되며; 상기 흄 통로의 출구는 상기 제1 여과 탱크를 통해 상기 제1 흄 배출구와 연통되고, 상기 흄 통로의 출구는 상기 제1 여과 탱크의 흄 입구와 연통되며, 상기 제1 여과 탱크의 흄 출구는 상기 제1 흄 배출구와 연통되는 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
17. 제16항에 있어서,
    상기 제1 흄 처리 장치는 배수관을 더 포함하고; 상기 제1 여과 탱크는 상기 박스체의 하측에 위치하며; 상기 흄 입구는 상기 제1 여과 탱크의 상단에 위치하고, 상기 흄 출구는 상기 제1 여과 탱크의 저부에 위치하며; 상기 배수관의 일단은 상기 제1 여과 탱크의 상단에 연결되고, 상기 배수관의 타단은 상기 박스체 내에서 상기 박스체 내의 저부에 대해 돌출되는 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
18. 제16항에 있어서,
    상기 제1 흄 처리 장치는 흄 배출관 및 제2 여과 탱크를 더 포함하고; 상기 흄 통로의 출구는 상기 제2 여과 탱크를 통해 상기 제1 여과 탱크의 흄 입구와 연통되며, 제2 여과 탱크의 입구는 상기 송풍기를 통해 상기 흄 통로의 출구와 연통되고, 상기 제2 여과 탱크의 출구는 상기 흄 배출관을 통해 상기 제1 여과 탱크의 흄 입구와 연통되며; 상기 제2 여과 탱크 내에는 적어도 한 층의 흄 여과층이 설치되는 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
19. 제1항에 있어서,
    상기 밀봉 조리 캐비티의 내부에는 재료투입 장치를 수용하는 재료투입 영역, 조리 기기를 수용하는 요리 영역, 및 요리 출력 장치를 수용하는 요리 출력 영역이 위로부터 아래로 순차적으로 설치되는 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
20. 제1항에 있어서,
    상기 밀봉 조리 캐비티는 주로 내부 하우징과 외부 하우징으로 조립되어 형성되고; 상기 내부 하우징은 상기 외부 하우징 내에 고정 장착되며, 상기 내부 하우징과 상기 외부 하우징 사이에는 흄 처리 영역이 형성되고, 상기 흄 처리 영역은 상기 제1 흄 처리 장치 및 제2 흄 처리 장치를 수용하는 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
21. 제21항에 있어서,
    상기 내부 하우징의 상기 요리 영역이 대향되는 측벽에는 흄 출구가 개방 설치되고, 상기 냄비 뚜껑은 흄 출구가 개방 설치된 상기 내부 하우징의 내측벽에 밀착되게 장착되며, 상기 냄비 뚜껑의 배기홀은 상기 흄 출구와 밀봉되게 연통되는 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
22. 제21항에 있어서,
    상기 외부 하우징의 상단에는 개폐 가능한 상단 커버 문판이 설치되고, 상기 외부 하우징의 정면의 중간 부분에는 중간 문판이 설치되며, 상기 외부 하우징의 정면의 하부에는 개폐 가능한 보조재 문판이 설치되고, 상기 외부 하우징의 정면의 상부에는 인간 컴퓨터 인터페이스를 장착하기 위한 장착 패널이 개방 설치되는 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
23. 제22항에 있어서,
    상기 중간 문판과 상기 보조재 문판은 일체로 성형되는 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
24. 제22항에 있어서,
    상기 상단 커버 문판이 상기 내부 하우징을 향하는 단면에는 상기 내부 하우징 내에 장착된 로딩 장치를 세척하기 위한 로딩 장치 세척 분무헤드가 설치되는 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
25. 제22항에 있어서,
    상기 내부 하우징의 상단에는 상기 상단 커버 문판을 장착하기 위한 상단 커버구가 장착되고; 상기 내부 하우징과 상기 흄 출구가 대향되는 측벽에는 상기 중간 문판을 장착하기 위한 장착구가 설치되며; 상기 내부 하우징의 상기 장착구가 인접하는 2개의 대향되는 측벽의 중간 부분에는 각각 제1 장착 위치가 설치되어 상기 냄비 본체 반전 기구를 상기 요리 영역에 장착하고; 상기 내부 하우징의 상기 장착구가 인접하는 2개의 대향되는 측벽의 상부에는 각각 제2 장착 위치가 설치되어 상기 로딩 장치를 상기 로딩 영역에 장착하며; 상기 내부 하우징의 저부에는 요리 출력 영역 오염물질 배출구가 설치되는 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
26. 제25항에 있어서,
    상기 상단 커버구와 상기 장착구의 변에는 모두 밀봉 스트립이 설치되는 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
27. 제25항에 있어서,
    상기 제1 장착 위치는 장착 홈, 장착 프레임 또는 장착판이고; 상기 제2 장착 위치는 장착 홈, 장착 프레임 또는 장착판인 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
28. 제26항에 있어서,
    상기 내부 하우징의 상기 장착구 바로 상측에 위치한 측벽에는 인간 컴퓨터 인터페이스 장착 장치를 장착하기 위한 제3 장착 위치가 설치되며; 상기 제2 장착 위치는 장착 홈 또는 장착판인 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
29. 제24항에 있어서,
    상기 내부 하우징의 저부에는 배수 통로 구조가 더 설치되고; 상기 배수 통로 구조는 중공 구조이며, 상기 배수 통로 구조의 상단에는 오수 수집구가 개방 설치되고, 상기 배수 통로 구조의 바닥단에는 배수구가 개방 설치되는 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
30. 제29항에 있어서,
    상기 배수 통로 구조는 깔때기형 구조인 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
31. 제20항에 있어서,
    상기 흄 처리 영역은 흄 입구가 개방 설치된 상기 내부 하우징의 측벽 밖에 위치하는 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
32. 제20항에 있어서,
    상기 내부 하우징과 상기 외부 하우징 사이에는 보조재 장치를 수용하기 위한 보조재 첨가 영역이 더 형성되고, 상기 보조재 첨가 영역은 상기 내부 하우징의 저부 하측에 위치하는 것을 특징으로 하는 조리기 흄 처리 시스템.
33. 조리기로서,
    제1항 내지 제32항 중 어느 한 항에 따른 조리기 흄 처리 시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 조리기.
34. 제33항에 있어서,
    상기 밀봉 조리 캐비티는 내부 하우징과 외부 하우징으로 조립되어 형성되고, 상기 내부 하우징은 상기 외부 하우징 내에 고정 장착되며, 상기 내부 하우징과 상기 외부 하우징 사이에는 흄 처리 영역 및 보조재 첨가 영역이 형성되고, 상기 흄 처리 영역은 상기 내부 하우징의 후벽에 위치하며, 상기 보조재 첨가 영역은 상기 내부 하우징의 하측에 위치하는 것을 특징으로 하는 조리기.
35. 제34항에 있어서,
    상기 조리기는 상기 밀봉 조리 캐비티에 설치된 재료투입 장치, 조리 기기, 요리 출력 장치, 및 상기 외부 하우징과 내부 하우징 사이에서 조리를 보조하는 보조 조리 기기와 제어 장치를 포함하고; 상기 조리 기기는 냄비 뚜껑, 냄비 본체, 냄비 본체 반전 기구, 냄비 본체 스테이션 제어 장치 및 냄비 본체 가열 장치를 포함하며, 상기 냄비 본체 반전 기구는 상기 냄비 본체가 회전하도록 제어하고, 상기 냄비 본체 스테이션 제어 장치는 상기 냄비 본체 반전 기구의 작동을 구동하는 것을 검출하며, 상기 냄비 본체 가열 장치는 상기 냄비 본체를 가열하는 것을 특징으로 하는 조리기.
36. 제35항에 있어서,
    상기 보조 조리 기기는 냄비 본체 승강 장치, 냄비 본체 스테이션 변환 모터, 냄비 본체 스테이션 검출 장치, 재료투입 장치 스테이션 변환 모터 및 재료투입 장치 스테이션 검출 장치를 포함하고; 상기 냄비 본체 승강 장치, 냄비 본체 스테이션 변환 모터 및 냄비 본체 스테이션 검출 장치는 상기 요리 영역과 대향되는 상기 내부 하우징의 양 측벽에 설치되며 상기 조리 기기와 매칭되게 장착되고; 상기 재료투입 장치 스테이션 변환 모터 및 재료투입 장치 스테이션 검출 장치는 각각 상기 로딩 영역과 대향되는 상기 내부 하우징의 양 측벽에 설치되며 각각 상기 재료투입 장치와 매칭되게 장착되는 것을 특징으로 하는 조리기.
37. 제35항에 있어서,
    상기 보조 조리 기기는, 상기 내부 하우징의 저부 하측에 설치되고 상기 내부 하우징의 오수 수집구로부터 멀리 떨어져 상기 조리 기기에 보조재를 제공하기 위한 보조재 장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 조리기.
38. 제36항에 있어서,
    상기 보조재 장치는 다수의 보조재 병, 보조재 파이프 및 보조재 펌프를 포함하고, 각각의 상기 보조재 병은 상기 보조재 파이프를 통해 상기 냄비 뚜껑의 보조재 첨가구와 연통되며, 상기 보조재 펌프는 상기 보조재 파이프에 설치되어 상기 보조재 병 중의 보조재를 상기 냄비 본체로 흡입시키는 것을 특징으로 하는 조리기.
39. 제35항에 있어서,
    상기 보조 조리 기기는, 상기 내부 하우징의 하측에 설치되고 상기 내부 하우징 저부 오수 수집구에 밀봉되게 연결되는 쓰레기 처리기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 조리기.
40. 제35항 내지 제39항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 보조 조리 기기는 전기, 전기회로, 전원, 전송선 및 도관 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 조리기.
41. 제40항에 있어서,
    상기 제1 흄 처리 장치 또는 제2 흄 처리 장치는 모두 상기 내부 하우징과 상기 외부 하우징으로 형성된 공간에 설치되고 상기 내부 하우징의 후벽에 위치하는 것을 특징으로 하는 조리기.
42. 제34항에 있어서,
    좌우 프레임을 더 포함하고, 상기 내부 하우징은 상기 좌우 프레임을 통해 상기 외부 하우징의 내부에 고정 장착되는 것을 특징으로 하는 조리기.

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