KR20190119850A - Polishing device having separation drain function - Google Patents

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KR20190119850A
KR20190119850A KR1020180043312A KR20180043312A KR20190119850A KR 20190119850 A KR20190119850 A KR 20190119850A KR 1020180043312 A KR1020180043312 A KR 1020180043312A KR 20180043312 A KR20180043312 A KR 20180043312A KR 20190119850 A KR20190119850 A KR 20190119850A
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Abstract

The present invention relates to a polishing device having a separation discharge function. The purpose of the present invention is to implement a structure in which a discharge port is formed in the bottom plate of a lower table having a jig fixing a workpiece, and a trap, which is divided into a polishing solution trap and a water trap, is formed below the discharge port such that a collecting tank and a water tank are separated and connected to each other to solve the problem of environmental pollution due to the separation discharge of a polishing solution and water, thereby significantly increasing the functionality of the polishing device. To this end, the polishing device having a separation discharge function comprises: a lower table (10) having a jig (24); a y-axis carrier (12) mounted on a lower bed (6) having a water gun (88) thereon; an x-axis carrier (54) installed on an upper bed (4) positioned on an upper side of the lower bed (6); an upper table (8) vertically mounting a polishing cylinder (68) on an upper portion while being moved by the x-axis carrier (54); and a polishing portion (66) connected to a front end of a rod of the polishing cylinder (68). The lower table (10) has a box-shaped basket (22) having an open upper portion. A bottom plate (26) of a basket (22) has a discharge port (28) formed therethrough. The discharge port (28) has a trap (34) installed thereunder to allow the polishing solution or water to be separated and discharged therefrom. The trap (34) is connected to each of a collecting tank (48), in which a polishing solution pump (50) is installed, and a water tank (52).

Description

분리 배출 기능을 갖는 폴리싱 장치{POLISHING DEVICE HAVING SEPARATION DRAIN FUNCTION} Polishing device with separate discharge function {POLISHING DEVICE HAVING SEPARATION DRAIN FUNCTION}
본 발명은 분리 배출 기능을 갖는 폴리싱 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 워크를 고정하는 지그가 설치된 하부테이블의 바닥판에 배출구를 관통 형성하고, 상기 배출구 아래에는 연마액받이와 물받이를 분리 구성한 트랩을 설치하면서 각각 회수탱크와 물탱크를 분리하여 연결하는 구조로 만듦으로써, 연마작업 후 물로 세척 가능하게 하면서 연마액과 물의 원활한 분리배출을 실현하게 하여 환경 오염문제를 해결하는 동시에, 연마장치의 기능성을 획기적으로 향상시키고자 한 분리 배출 기능을 갖는 폴리싱 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a polishing apparatus having a separate discharge function, and more particularly, a through hole formed in a bottom plate of a lower table provided with a jig for fixing a work, and a trap configured to separate the polishing liquid tray and the drip tray under the discharge port. By constructing a structure that separates and connects the recovery tank and the water tank, respectively, it is possible to wash with water after polishing and to realize the separate separation and discharge of the polishing liquid and water to solve the environmental pollution problem, It relates to a polishing apparatus having a separate discharge function to significantly improve the.
일반적으로, 스마트폰과 테블릿 PC와 게임기 등의 전,후면 화면창에는 글라스나 크리스탈 등이 장착되어 사용 되는데, 이러한 화면창은 연마장치에서 연마패드를 사용하여 평면가공과 곡면가공을 하여서 완성 제품으로 만들어지게 된다. In general, the front and rear screen windows of smartphones, tablet PCs, and game consoles are equipped with glass or crystal, and these screen windows are completed by plane processing and curved processing using a polishing pad in a polishing apparatus. Will be made.
상기와 같은 연마장치는 화면창을 연마하기 위해서 물에 희석된 일정 농도의 연마액을 사용하게 되는데, 이 연마액으로 워크와 지그의 오염방지를 위해 주기적인 세척을 필요로 한다. 이러한 세척을 위해서는 별도의 물을 사용하게 되며, 이러한 연마액과 물은 분리시켜 배출해야 됨으로 구조적인 개선책이 요구되고 있는 실정이다. Such a polishing apparatus uses a polishing liquid of a certain concentration diluted in water to polish the screen window, which requires periodic cleaning to prevent contamination of the work and the jig with the polishing liquid. In order to perform such cleaning, separate water is used, and the polishing liquid and water have to be discharged separately, thus requiring structural improvement measures.
한편, 종래의 기술인 KR 10-1490458 B1 2015.1.30. "모바일 기기의 곡면 윈도우 글라스 내경 및 평면 연마기"를 도 1 에서 살펴보면 다음과 같다. Meanwhile, KR 10-1490458 B1 2015.1.30. The curved window glass inner diameter and the planar polishing machine of the mobile device will be described with reference to FIG. 1.
먼저, 연마기의 테이블(112) 위에는 글라스를 고정하는 지그(111)에 진공흡입관(62)이 연결되어 있고, 상기 지그(111) 위에는 승,하강하는 모터(221)가 연마치구(211)를 수직으로 배치하면서 설치되어 있으며, 상기 연마치구(211) 외측으로 연마액 분사노즐(32)이 배치되어 있다. First, the vacuum suction pipe 62 is connected to the jig 111 for fixing the glass on the table 112 of the polishing machine, and the motor 221 which moves up and down is vertically positioned on the jig 111. The polishing liquid injection nozzle 32 is disposed outside the polishing jig 211.
상기와 같이 설치되는 지그(111)에 글라스를 올려 놓고 진공압으로 고정시킨 다음, 상기 모터(221)를 작동시켜 연마치구(211)를 회전시키는 상태에서 글라스 전면으로 하강시키고, 동시에 상기 분사노즐(32)은 연마액을 글라스 위로 분사하게 된다. Place the glass on the jig 111 installed as described above and fix it with vacuum pressure, and then operate the motor 221 to lower the front surface of the glass while rotating the polishing jig 211 and at the same time the injection nozzle ( 32 sprays the polishing liquid onto the glass.
상기와 같은 상태에서 연마치구(211)는 연마액으로 글라스를 연마하게 된다. In the above state, the polishing jig 211 polishes the glass with the polishing liquid.
상기와 같은 종래의 기술은 분사노즐(32)로 부터 분사되는 연마액은 보통 배출통로로 배출되어 회수통으로 모이게 한 후 재순환시켜서 사용하고 있지만, 세척을 위해 사용되는 물을 배출하기 위한 별도의 통로가 함께 마련되어 있지 않음으로, 별도로 물 세척을 할 수 없거나 세척시 사용된 연마액과 물 등을 배출하면서 따르게 되는 환경오염의 문제가 제기되는 결점을 지닌다. In the prior art as described above, the abrasive liquid sprayed from the injection nozzle 32 is usually discharged into the discharge passage and collected into a collecting vessel, and then recycled. However, a separate passage for discharging water used for washing is provided. As it is not provided together, there is a drawback that it is not possible to wash the water separately or raises the problem of environmental pollution which is followed while discharging the polishing liquid and water used in the washing.
대한민국 등록특허번호 제10-1490458호 (2015.01.30. 등록)Republic of Korea Patent No. 10-1490458 (2015.01.30. Registration)
본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해소하기 위해 안출한 것으로써, 그 목적으로는 워크를 고정하는 지그가 설치된 하부테이블의 바닥판에 배출구를 관통 형성하고, 상기 배출구 아래에는 연마액받이와 물받이를 분리 구성한 트랩을 설치하면서 각각 회수탱크와 물탱크를 분리하여 연결하는 구조를 실현함으로써, 연마액과 물의 분리배출에 따르는 환경 오염문제를 해결하여 연마장치의 기능성을 획기적으로 향상시키고자 하는 데에 있다. The present invention has been made in order to solve the problems of the prior art as described above, the purpose of the through-hole formed in the bottom plate of the lower table provided with a jig for fixing the work, and the polishing liquid receiving and In order to improve the functionality of the polishing device by solving the environmental pollution problem caused by the separate discharge of the polishing liquid and water by realizing the structure that separates and connects the recovery tank and the water tank, respectively, while installing the trap that separates the drip tray. Is in.
본 발명은 첫째, 워크 고정용 지그(24) 하나 또는 다수개가 설치된 하부테이블(10)과, The present invention firstly, the lower table 10 is provided with one or a plurality of workpiece fixing jig 24,
상기 하부테이블(10)을 y축 방향으로 전,후진시키면서 워터건(88)을 장착한 하부베드(6) 위에 설치되는 y축이송장치(12)와, A y-axis feeder 12 installed on the lower bed 6 on which the water gun 88 is mounted while moving the lower table 10 forward and backward in the y-axis direction,
상기 하부베드(6)의 상측에 위치한 상부베드(4)에 설치되면서 x축 방향으로 이송 동력을 제공하는 x축이송장치(54)와, An x-axis feeder 54 installed on the upper bed 4 located above the lower bed 6 to provide a transfer power in the x-axis direction;
상기 x축이송장치(54)에 의해 x축 방향 좌,우로 이동하면서 연마실린더(68)를 상부에 수직으로 장착하는 상부테이블(8)과, An upper table 8 for vertically mounting the polishing cylinder 68 on the upper side while moving left and right in the x-axis direction by the x-axis feeder 54;
상기 연마실린더(68)의 로드 선단부에 연결 되면서 연마액펌프(50)로 부터 공급되는 연마액을 워크측으로 분사하며 연마하는 연마부(66),로 된 분리 배출 기능을 갖는 폴리싱 장치에 있어서, In the polishing apparatus having a separating and discharging function, the polishing unit 66 is connected to the rod end of the polishing cylinder 68 and sprays and polishes the polishing liquid supplied from the polishing liquid pump 50 to the work side.
상기 하부테이블(10)은 상부를 개방한 상자형 바스켓(22)으로 구성되고, 상기 바스켓(22)의 바닥판(26)에는 배출구(28)가 관통 형성되며, 상기 배출구(28) 아래에는 연마액 또는 물이 분리 배출되게 하는 트랩(34)이 설치되고, 상기 트랩(34)에는 연마액펌프(50)가 설치된 회수탱크(48)와 물탱크(52)가 각각 연결되는 것을 특징으로 한다. The lower table 10 is composed of a box basket 22 having an open top, and an outlet 28 penetrates through the bottom plate 26 of the basket 22, and is polished under the outlet 28. A trap 34 for separating and discharging the liquid or water is installed, and the trap 34 is characterized in that the recovery tank 48 and the water tank 52 in which the polishing liquid pump 50 is installed are connected to each other.
둘째, 상기 트랩(34)은 트레이형으로 구성되면서 중앙에 분리벽(40)이 수직으로 설치되고, 상기 분리벽(40) 양측으로는 연마액받이(42)와 물받이(44)가 분리 형성되며, 상기 연마액받이(42)와 물받이(44)의 바닥에는 배출관(30,32)이 각각 관통 결합되고, 상기 배출관(30,32)에는 회수탱크(48)와 물탱크(52)가 각각 연결되는 것을 특징으로 한다. Second, the trap 34 has a tray-like structure, the separation wall 40 is vertically installed at the center, and the polishing liquid receiver 42 and the water receiver 44 are separated from both sides of the separation wall 40. Discharge pipes 30 and 32 are respectively coupled to the bottom of the polishing liquid receiver 42 and the drip tray 44, and the recovery tank 48 and the water tank 52 are connected to the discharge pipes 30 and 32, respectively. It is characterized by.
셋째, 상기 연마액받이(42)의 상단부에는 슬러지 분리용 여과망(46)이 수평으로 설치되는 것을 특징으로 한다. Third, the sludge separation filter net 46 is horizontally installed on the upper end of the polishing liquid receiver 42.
본 발명은 워크를 고정하는 지그(24)가 설치된 하부테이블(10)의 바닥판(26)에 배출구(28)가 관통 형성되고, 상기 배출구(28) 아래에는 연마액받이(42)와 물받이(44)를 분리 구성한 트랩(34)이 설치되면서 각각 회수탱크(48)와 물탱크(52)를 분리하여 연결하는 구조로 되어 있는 관계로, 연마액과 물의 분리배출에 따르는 환경 오염문제를 해결할 수 있어서 연마장치의 기능성은 획기적으로 향상되는 효과가 있다. According to the present invention, a discharge port 28 is formed through the bottom plate 26 of the lower table 10 on which the jig 24 for fixing the work is formed, and below the discharge port 28, the polishing liquid receiver 42 and the drip tray ( As the trap 34 having the separation 44 is installed, the recovery tank 48 and the water tank 52 are separated and connected to each other, thereby solving the environmental pollution problem caused by the separate discharge of the polishing liquid and water. In this way, the functionality of the polishing apparatus is significantly improved.
도 1 은 종래의 기술을 나타낸 연마장치의 상태도.
도 2 는 본 발명의 실시예가 설치된 연마장치의 정면도.
도 3 은 본 발명의 실시예가 하부베드에 설치된 상태의 사시도.
도 4 는 본 발명의 실시예가 설치된 하부테이블의 측면도.
도 5a,5b 는 본 발명의 실시예가 설치된 하부테이블의 작용 상태도.
도 6 은 본 발명의 실시예가 하부테이블에 연결된 상태도.
도 7 은 본 발명의 실시예가 연마실린더에 연결된 상태도.
도 8 은 본 발명에 따른 제어부의 구성 블록도.
1 is a state diagram of a polishing apparatus showing a conventional technique.
2 is a front view of a polishing apparatus provided with an embodiment of the present invention.
Figure 3 is a perspective view of an embodiment of the present invention installed on the lower bed.
4 is a side view of a lower table in which an embodiment of the present invention is installed;
Figures 5a, 5b is a working state of the lower table in which an embodiment of the invention is installed.
6 is a state in which an embodiment of the present invention is connected to a lower table.
7 is a state in which an embodiment of the present invention is connected to a polishing cylinder.
8 is a block diagram of a control unit according to the present invention;
본 발명은 모바일용 글라스를 다량으로 연마하기 위해 사용되는 연마장치(2)에 관한 것으로, 그 구조를 도 2 내지 도 8 에서 살펴보면 다음과 같다. The present invention relates to a polishing apparatus (2) used for polishing a large amount of glass for mobile, the structure thereof is as follows in Figures 2 to 8.
먼저, 연마장치(2)(도2참조)에는 상,하부베드(4,6)가 2층 구조로 적층 되면서 각각 상,하부테이블(8,10)을 설치하고 있는데, 상기 하부베드(6)(도3참조)의 상부 중앙에는 y축이송장치(12)가 볼스크루(14)를 구비하면서 y축 방향으로 배치되고, 상기 볼스크루(14)에는 무브매스(16)가 결합되어 나사선 방향을 따라 전,후진하게 되며, 상기 y축이송장치(12)의 양측으로는 y축레일(18)이 평행하게 배치 되면서 받침매스(20)를 미끄럼 결합하게 된다. First, in the polishing apparatus 2 (see FIG. 2), upper and lower beds 4 and 6 are stacked in a two-layer structure, and upper and lower tables 8 and 10 are respectively installed. The lower bed 6 is provided. A y-axis feeder 12 is disposed in the y-axis direction with a ball screw 14 at the upper center of the upper portion of the upper portion of the ball screw 14, and a move mass 16 is coupled to the ball screw 14 to adjust the screw direction. Therefore, the front and the reverse, and the y-axis rails 18 on both sides of the y-axis transfer device 12 is arranged in parallel to slide the support mass 20.
상기 무브매스(16)는 하부테이블(10)을 구성하는 상자형 바스켓(basket)(22)의 저면 중앙에 결합 고정되고, 상기 받침매스(20)는 바스켓(22)의 양측에 결합 고정되며, 상기 바스켓(22) 내부에는 워크를 고정할 수 있도록 된 지그(24) 다수개가 설치된다. The move mass 16 is fixedly coupled to the center of the bottom surface of the box-shaped basket 22 constituting the lower table 10, the support mass 20 is fixedly coupled to both sides of the basket 22, In the basket 22, a plurality of jigs 24 are provided to fix the work.
따라서, 상기 y축이송장치(12)의 동력으로 볼스크루(14)가 회전하면서 무브매스(16)를 이동시키면, 상기 하부테이블(10)은 y축레일(18)을 따라 전,후진하게 된다. Therefore, when the moving mass 16 moves while the ball screw 14 rotates by the power of the y-axis feeder 12, the lower table 10 moves forward and backward along the y-axis rail 18. .
계속하여, 상기 바스켓(22)(도5a참조)의 바닥판(26) 일측에는 연마액 또는 물이 빠져 나가는 배출구(28)가 관통하여 형성되고, 상기 배출구(28)의 출구측에는 트랩(trap)(34)이 위치하면서 하부베드(6)의 일측에 고정 설치된다. Subsequently, one side of the bottom plate 26 of the basket 22 (refer to FIG. 5A) is formed with a discharge port 28 through which polishing liquid or water flows out, and a trap at the outlet side of the discharge port 28. While 34 is positioned is fixed to one side of the lower bed (6).
상기 트랩(34)(도3참조)은 트레이형으로 구성 되면서 상부에는 직사각형 모양의 테두리벽(36)이 설치되고, 상기 테두리벽(36)의 하부에는 경사지게 배치되는 바닥판(38)이 설치되며, 상기 테두리벽(36) 중앙에는 분리벽(40)이 수직으로 설치 되면서 바닥판(38)에 용접된다. The trap 34 (see FIG. 3) is configured in a tray shape, and a rectangular border wall 36 is installed at an upper portion thereof, and a bottom plate 38 inclinedly disposed is installed at a lower portion of the edge wall 36. In the center of the edge wall 36, the separating wall 40 is vertically welded to the bottom plate 38.
상기 분리벽(40) 양측으로는 연마액받이(42)와 물받이(44)가 분리되어 형성되고, 상기 연마액받이(42)의 상단부에는 슬러지 분리용 여과망(46)이 수평으로 설치되며, 상기 연마액받이(42)와 물받이(44)의 바닥판(38)에는 각각 배출관(30,32)이 관통하여 결합된다. Both sides of the separation wall 40 are formed by separating the polishing liquid receiver 42 and the water reservoir 44, and the sludge separation filter net 46 is horizontally installed at the upper end of the polishing liquid receiver 42. The discharge pipes 30 and 32 penetrate through the polishing plate 42 and the bottom plate 38 of the drip tray 44 respectively.
그리고, 상기 연마액받이(42)(도5a참조)의 배출관(30)에는 연마액펌프(50)를 설치하고 있는 회수탱크(48)가 연결되고, 상기 물받이(44)의 배출관(32)에는 물탱크(52)가 연결 되는데, 이때 물 배출라인을 연결할 수 있으며 한정하지는 않는다. In addition, a recovery tank 48 having a polishing liquid pump 50 is connected to the discharge pipe 30 of the polishing liquid receiver 42 (see FIG. 5A), and to the discharge pipe 32 of the drip tray 44. The water tank 52 is connected, but this can be connected to the water discharge line is not limited.
상기와 설치된 트랩(34)은 하부테이블(10)이 y축이송장치(12)에 의해 전,후진하는 과정에서 배출되는 연마액과 세척용 물을 분리하여 배출하게 되는데, 이러한 분리 배출과정은 후술한다. The trap 34 installed above is to separate and discharge the polishing liquid and the washing water discharged in the process of the lower table 10 is moved forward and backward by the y-axis transfer device 12, this separate discharge process will be described later do.
한편, 상기 상부베드(4)의 상단면에는 이송동력을 제공하는 x축이송장치(54)가 설치되고, 상기 x축이송장치(54)의 볼스크루(56)에는 무브매스(58)가 나사 결합되어 전,후진하게 되며, 상기 무브매스(58)는 상부테이블(8)의 저면 중앙에 고정 결합되고, 상기 상부테이블(8)은 상부베드(4)에 설치된 x축레일(2)에 전,후진 가능하게 설치된다. On the other hand, the upper surface of the upper bed (4) is provided with an x-axis feeder (54) for providing a transfer power, the move screw 58 of the ball screw 56 of the x-axis feeder 54 is screwed Combined to move forward and backward, the move mass 58 is fixedly coupled to the bottom center of the upper table 8, the upper table 8 is moved to the x-axis rail (2) installed in the upper bed (4) Installed reversibly.
상기 상부테이블(8)에는 지그(24)에 고정된 워크를 연마하는 연마부(66) 다수개가 배치되고, 상기 연마부(66)는 상부테이블(8)에 수직으로 설치된 연마실린더(68)에 의해 승,하강하게 되며, 상기 연마부(66)의 상측에는 로터리조인트(76)가 연결된다. The upper table 8 is provided with a plurality of polishing portions 66 for polishing the workpiece fixed to the jig 24, the polishing portion 66 is placed in the polishing cylinder 68 perpendicular to the upper table (8) It is raised and lowered by the rotary joint 76 is connected to the upper side of the polishing unit 66.
상기 연마부(66)에는 회전동력을 제공하는 연마모터(78)가 구성 되는데, 상기 연마모터(78)의 회전축(80)은 길이 방향을 따라 분사공(82)을 형성한 중공축으로 형성된다. The polishing unit 66 is composed of a polishing motor 78 to provide a rotational power, the rotating shaft 80 of the polishing motor 78 is formed of a hollow shaft forming the injection hole 82 along the longitudinal direction. .
상기 회전축(80)의 상단부에는 로터리조인트(76)가 결합 되면서 분사공(82)에 연결되고, 상기 로터리조인트(76)에는 연마액펌프(50)가 연결되며, 상기 회전축(80)의 하부에는 연마부재(84)가 결합 되면서 안내홀(86)을 분사공(82)에 연결하게 된다. The rotary joint 76 is coupled to the injection hole 82 while the rotary joint 76 is coupled to the upper end of the rotary shaft 80, and the polishing liquid pump 50 is connected to the rotary joint 76, and below the rotary shaft 80. As the polishing member 84 is coupled, the guide hole 86 is connected to the injection hole 82.
그리고, 상기 하부베드(6)(도2참조)의 타측에는 작업자가 하부테이블(10) 내부로 물을 분사하여 청소작업을 할 수 있도록 한 워터건(88)이 미 도시한 물펌프에 연결되면서 설치되어 있고, 상기 x,y축이송장치(12,54)와 연마실린더(68)와 연마모터(78)와 연마액펌프(50)에는 제어부(90)가 연결된다. On the other side of the lower bed 6 (see FIG. 2), a water gun 88 is connected to a water pump (not shown) so that an operator can spray water into the lower table 10 to perform a cleaning operation. The control unit 90 is connected to the x, y axis transfer device 12, 54, the polishing cylinder 68, the polishing motor 78 and the polishing liquid pump 50.
상기와 같이 구성되는 본 발명의 작용을 설명하면 다음과 같다. Referring to the operation of the present invention configured as described above are as follows.
먼저 작업자가 연마장치(2)(도2참조)의 미도시한 전원 스위치를 온 시키면, 상기 연마장치(2)에 설치된 제어부(90)의 명령으로 y축이송장치(12)(도3참조)가 작동 및 정지하면서 볼스크루(14)를 정회전시켜서 무브매스(16)를 도 5a 에 도시된 바와 같이 이동시키게 되고, 상기 무브매스(16)의 상단부에 고정된 하부테이블(10)은 y축레일(18)을 따라 후진하여 연마장치(2)의 외측으로 일부가 돌출하면서 정지하여 있게 된다. First, when the operator turns on the power switch (not shown) of the polishing apparatus 2 (see FIG. 2), the y-axis feeder 12 (see FIG. 3) is commanded by the control unit 90 installed in the polishing apparatus 2. Is moved and stopped to move the ball screw 14 forward to move the move the mass 16 as shown in Figure 5a, the lower table 10 fixed to the upper end of the move mass 16 is the y-axis It retracts along the rail 18, and it stops, with a part protruding outward of the grinding | polishing apparatus 2. As shown in FIG.
따라서, 워크를 지그(24)에 올려 놓기 이전의 준비 작업하는 대기상태가 된다. Therefore, the preparation work before the work is placed on the jig 24 is in a waiting state.
상기와 같은 상태에서 작업자는 하부테이블(10)에 설치된 각각의 지그(24)에 워크를 올려 놓으면서 고정하게 되고, 이후로 작업자가 제어부(90)에서 작업진행 모드를 선택하면, 상기 제어부(90)의 명령으로 y축이송장치(12)가 작동 및 정지하면서 볼스크루(14)를 역회전시켜서 무브매스(16)를 이동시키게 된다. In the state as described above, the worker is fixed while placing the work on each jig 24 installed in the lower table 10, and after the worker selects the work progress mode in the control unit 90, the control unit 90 The y-axis feeder 12 moves and moves the ball mass 14 by rotating the ball screw 14 in a reverse direction.
이때, 상기 무브매스(16)의 상단부에 고정된 하부테이블(10)은 y축레일(18)을 따라 전진하여서 연마장치(2)의 내부로 이동한 후 정지하게 되고, 동시에 상기 하부테이블(10)(도5a참조)의 저면에 있는 배출구(28)는 트랩(34)의 연마액받이(42) 위에 위치하여 있게 된다. At this time, the lower table 10 fixed to the upper end of the move mass 16 is moved along the y-axis rail 18 to move into the interior of the polishing apparatus 2 and stopped, and at the same time the lower table 10 A discharge port 28 at the bottom of the bottom surface (see FIG. 5A) is located above the polishing liquid receiver 42 of the trap 34.
상기와 같은 상태에서 제어부(90)의 명령으로 x축이송장치(54)(도3참조)가 작동 및 정지하면서 볼스크루(56)를 정회전시켜서 무브매스(58)를 이동시키면, 상기 무브매스(58)의 상단부에 고정된 상부테이블(8)은 x축레일(62)을 따라 우로 전진한 후 정지하게 되는데, 이때 상기 상부테이블(8)에 설치된 연마모터(78)(도7참조)의 회전축(80)에 결합된 연마부재(84)가 워크로 이동하여 위치하게 된다. When the move mass 58 is moved by forward rotation of the ball screw 56 while the x-axis feeder 54 (see FIG. 3) is operated and stopped by the command of the controller 90 in the above state, the move mass The upper table 8 fixed to the upper end of the 58 is moved forward along the x-axis rail 62 to the right and stops. At this time, the polishing motor 78 installed in the upper table 8 (see Fig. 7) The polishing member 84 coupled to the rotating shaft 80 is moved to the work position.
상기 이후로, 제어부(90)의 명령으로 연마모터(78)가 작동하면서 회전축(80)과 연마부재(84)를 회전시키고, 동시에 회수탱크(48)(도5a참조)에 저장된 연마액은 연마액펌프(50)에 의해 공급되어 로터리조인트(76)(도7참조)와 회전축(80)의 분사공(82)과 연마부재(84)의 안내홀(86)을 순차적으로 통과하여 워크로 분사되게 된다. After this, the polishing motor 78 is operated by the command of the controller 90 to rotate the rotating shaft 80 and the polishing member 84, and at the same time the polishing liquid stored in the recovery tank 48 (see Fig. 5A) is polished. It is supplied by the liquid pump 50 and sequentially passes through the rotary joint 76 (see FIG. 7), the injection hole 82 of the rotary shaft 80, and the guide hole 86 of the polishing member 84, to be sprayed onto the workpiece. Will be.
상기와 같이 분사된 연마액은 워크의 표면으로 분사 되면서 슬러지를 밀어내어 함께 바스켓(22)(도5a참조)의 바닥판(26)으로 낙하하게 되고, 이후로 연마액은 배출구(28)를 통하여 트랩(34)으로 빠져나가게 된다. The abrasive liquid sprayed as described above is pushed onto the surface of the workpiece to push out the sludge and fall together to the bottom plate 26 of the basket 22 (see FIG. 5A), and then the abrasive liquid is discharged through the outlet 28. Exit to trap 34.
상기 트랩(34)(도3참조)에 도달한 연마액은 여과망(46)을 통과하면서 슬러지가 걸러지게 되고, 이후로 연마액은 트랩(34)의 연마액받이(42)로 유입되어 바닥판(38)으로 낙하하면서 배출관(30)으로 빠져나가게 되며, 이후로 연마액은 회수탱크(48)로 이동한 후 연마액펌프(50)에 의해 재공급 되면서 순환하게 된다. The polishing liquid reaching the trap 34 (see FIG. 3) is filtered through the filter net 46, and then the polishing liquid flows into the polishing liquid receiver 42 of the trap 34 and the bottom plate. While falling to (38) and exits to the discharge pipe (30), after which the polishing liquid is moved to the recovery tank 48 and is circulated while being supplied again by the polishing liquid pump (50).
상기와 같이 공급되는 연마액이 순환하는 과정에서, 제어부(90)의 명령으로 연마실린더(68)(도7참조)가 작동하면서 로드를 전진시키면 연마부(66)가 하강하게 되고, 동시에 상기 연마모터(78)에 의해 회전축(80)과 연마부재(84)는 회전하면서 워크를 터치한 상태에서 연마하기 시작한다. In the process of circulating the polishing liquid supplied as described above, when the polishing cylinder 68 (see FIG. 7) is operated by the command of the controller 90 to advance the rod, the polishing unit 66 is lowered, and at the same time, the polishing is performed. The rotary shaft 80 and the polishing member 84 are rotated by the motor 78 and start to polish while the work is touched.
상기 이후로, 제어부(90)의 명령으로 x,y축이송장치(12,54)가 교대로 작동하면서 상,하부테이블(8,10)을 전,후진시키면, 상기 연마부재(84)는 워크 위에서 일정한 패턴으로 이동하면서 연마가공을 하게 된다. After the above, when the x, y axis transfer device (12, 54) alternately moves forward and backward by the command of the control unit 90, the polishing member 84 is a workpiece The grinding process is performed by moving from above to a certain pattern.
이때, 상기 연마부재(84)는 다양한 모양의 패턴으로 이동하면서 워크를 연마가공을 할 수 있음으로 한정하지는 않는다. At this time, the polishing member 84 is not limited to being able to polish the workpiece while moving in a pattern of various shapes.
한편, 상기 워크에 대한 연마 가공작업이 완료되면, 상기 제어부(90)의 명령으로 y축이송장치(12)가 작동하면서 볼스크루(14)를 정회전 및 정지 시키면, 상기 하부테이블(10)은 도 5b 에 도시된 바와 같이 y축레일(18)을 따라 후진하여 연마장치(2)의 외부로 일부가 돌출하면서 정지하게 된다. On the other hand, when the polishing operation for the workpiece is completed, the y-axis feeder 12 is operated by the command of the control unit 90 while rotating the ball screw 14 forward and stop, the lower table 10 is As shown in FIG. 5B, the vehicle reverses along the y-axis rail 18 to stop while a part protrudes out of the polishing apparatus 2.
이때, 상기 하부테이블(10)(도5a참조)의 저면에 있는 배출구(28)는 트랩(34)의 물받이(44) 위에 위치하여 있게 된다. At this time, the outlet 28 at the bottom of the lower table 10 (see FIG. 5A) is located above the drip tray 44 of the trap 34.
상기 이후로, 작업자는 지그(24)에 고정된 워크 및 하부테이블(10)의 내부에 대하여 청소작업을 실시하게 되는데, 이때 상기 하부베드(6)의 타측에 위치한 워터건(88)으로 물을 하부테이블(10)의 내부로 분사하여 세척하고, 동시에 상기 워크와 지그(24)에도 물을 분사하여 세척을 실시한다. After the above, the worker is to clean the inside of the work table and the lower table 10 fixed to the jig 24, wherein the water to the water gun 88 located on the other side of the lower bed (6) The lower table 10 is sprayed into the interior of the lower table 10, and at the same time, the workpiece and the jig 24 are sprayed with water to perform the cleaning.
상기와 같이 분사된 물은 바스켓(22)(도5a참조)의 바닥판(26)으로 낙하 하면서 배출구(28)를 통하여 트랩(34)으로 빠져 나가게 되고, 이후로 물은 트랩(34)의 물받이(44)로 유입 되면서 바닥판(38)으로 낙하한 다음, 상기 물은 배출관(32)을 통하여 물탱크(52)로 이동하게 된다. The water sprayed as described above falls out to the trap 34 through the outlet port 28 while falling to the bottom plate 26 of the basket 22 (see FIG. 5A), and then the water is received by the trap 34 of the trap 34. After falling into the bottom plate 38 while flowing into the 44, the water is moved to the water tank 52 through the discharge pipe 32.
상기 이후로, 작업자는 지그(24)에 고정된 워크를 분리한 다음 새로운 워크를 지그(24)에 고정한 후, 전술한 바와 같은 동일한 과정으로 연마 가공작업을 반복하여 실시한다. After the above, the worker separates the workpiece fixed to the jig 24, and then fixes a new workpiece to the jig 24, and repeats the polishing process in the same process as described above.
상기와 같은 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부된 도면에 의하여 상세히 설명하였지만, 본 발명은 여기에 기재된 실시 예에 한정되는 것이 아니고, 이 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 당업자라면 본 발명의 기술적 사상 및 범위를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양하게 수정 및 변형할 수 있을 것이다. Although the preferred embodiments of the present invention as described above in detail by the accompanying drawings, the present invention is not limited to the embodiments described herein, those skilled in the art having ordinary skill in the art Various modifications and variations can be made without departing from the scope.
2:연마장치 4:상부베드
6:하부베드 8:상부테이블
10:하부테이블 12:y축이송장치
14,56:볼스크루 16,58:무브매스
18:y축레일 20:받침매스
22:바스켓 24:지그
26,38:바닥판 28:배출구
30,32:배출관 34:트랩
36:테두리벽 40:분리벽
42:연마액받이 44:물받이
46:여과망 48:회수탱크
50:연마액펌프 52:물탱크
54:x축이송장치 62:x축레일
66:연마부 68:연마실린더
76:로터리조인트 78:연마모터
80:회전축 82:분사공
84:연마부재 86:안내홀
88:워터건 90:제어부
2: Polishing device 4: Upper bed
6: lower bed 8: upper table
10: lower table 12: y-axis feeder
14, 56: Ball screw 16, 58: Move mass
18: y-axis rail 20: Supporting mass
22: basket 24: jig
26, 38: sole 28: outlet
30, 32: discharge pipe 34: trap
36: Boundary wall 40: Separation wall
42: polishing pad 44: drip tray
46: Filtration network 48: Recovery tank
50: polishing liquid pump 52: water tank
54: x-axis feeder 62: x-axis rail
66: polishing part 68: polishing cylinder
76: rotary joint 78: polishing motor
80: rotating shaft 82: injection hole
84: polishing member 86: guide hole
88: water gun 90: control unit

Claims (8)

  1. 워크 고정용 지그(24) 하나 또는 다수개가 설치된 하부테이블(10)과,
    상기 하부테이블(10)을 y축 방향으로 전,후진시키면서 워터건(88)을 장착한 하부베드(6) 위에 설치되는 y축이송장치(12)와,
    상기 하부베드(6)의 상측에 위치한 상부베드(4)에 설치되면서 x축 방향으로 이송 동력을 제공하는 x축이송장치(54)와,
    상기 x축이송장치(54)에 의해 x축 방향 좌,우로 이동하면서 연마실린더(68)를 상부에 수직으로 장착하는 상부테이블(8)과,
    상기 연마실린더(68)의 로드 선단부에 연결 되면서 연마액펌프(50)로 부터 공급되는 연마액을 워크측으로 분사하며 연마하는 연마부(66),로 된 분리 배출 기능을 갖는 폴리싱 장치에 있어서,
    상기 하부테이블(10)은 상부를 개방한 상자형 바스켓(22)으로 구성되고,
    상기 바스켓(22)의 바닥판(26)에는 배출구(28)가 관통 형성되며,
    상기 배출구(28) 아래에는 연마액 또는 물이 분리 배출되게 하는 트랩(34)이 설치되고,
    상기 트랩(34)에는 연마액펌프(50)가 설치된 회수탱크(48)와 물탱크(52)가 각각 연결되는 것을 특징으로 한 분리 배출 기능을 갖는 폴리싱 장치.
    A lower table 10 provided with one or more workpiece fixing jigs 24,
    A y-axis feeder 12 installed on the lower bed 6 on which the water gun 88 is mounted while moving the lower table 10 forward and backward in the y-axis direction,
    An x-axis feeder 54 installed on the upper bed 4 located above the lower bed 6 to provide a transfer power in the x-axis direction;
    An upper table 8 for vertically mounting the polishing cylinder 68 on the upper side while moving left and right in the x-axis direction by the x-axis feeder 54;
    In the polishing apparatus having a separating and discharging function, the polishing unit 66 is connected to the rod end of the polishing cylinder 68 and sprays and polishes the polishing liquid supplied from the polishing liquid pump 50 to the work side.
    The lower table 10 is composed of a box basket 22 with an upper portion opened,
    Outlet 28 is formed through the bottom plate 26 of the basket 22,
    Below the outlet 28 is provided with a trap 34 to separate and discharge the polishing liquid or water,
    Polishing device having a separate discharge function, characterized in that the trap 34 is connected to each of the recovery tank 48 and the water tank 52 in which the abrasive liquid pump 50 is installed.
  2. 청구항 1 에 있어서,
    상기 트랩(34)은 트레이형으로 구성되면서 중앙에 분리벽(40)이 수직으로 설치되고,
    상기 분리벽(40) 양측으로는 연마액받이(42)와 물받이(44)가 분리 형성되며,
    상기 연마액받이(42)와 물받이(44)의 바닥에는 배출관(30,32)이 각각 관통 결합되고, 상기 배출관(30,32)에는 회수탱크(48)와 물탱크(52)가 각각 연결되는 것을 특징으로 한 분리 배출 기능을 갖는 폴리싱 장치.
    The method according to claim 1,
    The trap 34 is configured in a tray type, the separation wall 40 is installed vertically in the center,
    On both sides of the separation wall 40, the polishing liquid receiver 42 and the water receiver 44 are separated from each other.
    Discharge pipes 30 and 32 are respectively coupled to the bottom of the polishing liquid receiver 42 and the drip tray 44, and the recovery tank 48 and the water tank 52 are connected to the discharge pipes 30 and 32, respectively. Polishing apparatus having a separate discharge function, characterized in that.
  3. 청구항 2 에 있어서,
    상기 연마액받이(42)의 상단부에는 슬러지 분리용 여과망(46)이 수평으로 설치되는 것을 특징으로 한 분리 배출 기능을 갖는 폴리싱 장치.
    The method according to claim 2,
    Polishing apparatus having a separate discharge function, characterized in that the sludge separation filter net 46 is installed horizontally on the upper end of the polishing liquid receiving (42).
  4. 청구항 2 에 있어서,
    상기 하부테이블(10)이 y축레일(18)을 따라 전진하면 배출구(28)가 연마액받이(42) 위에 위치하는 것을 특징으로 한 분리 배출 기능을 갖는 폴리싱 장치.
    The method according to claim 2,
    Polishing device having a separate discharge function, characterized in that when the lower table (10) is advanced along the y-axis rail (18) the discharge port (28) is located on the polishing liquid receiving (42).
  5. 청구항 2 또는 4 에 있어서,
    상기 하부테이블(10)이 y축레일(18)을 따라 후진하면 배출구(28)가 물받이(44) 위에 위치하는 것을 특징으로 한 분리 배출 기능을 갖는 폴리싱 장치.
    The method according to claim 2 or 4,
    Polishing device having a separate discharge function, characterized in that the outlet 28 is located above the drip tray (44) when the lower table (10) is reversed along the y-axis rail (18).
  6. 청구항 5 에 있어서,
    상기 x,y축이송장치(12,54)와, 연마실린더(68)와, 연마모터(78)와, 연마액펌프(50)에는 제어부(90)가 연결되고,
    상기 제어부(90)의 명령에 의해 y축이송장치(12)가 작동하여 하부테이블(10)을 전진시키면,
    상기 연마액펌프(50)로 부터 공급되는 연마액은 연마부(66)를 통과하여 지그(24)에 고정된 워크쪽으로 분사되고,
    상기 분사된 연마액은 하부테이블(10)의 바닥판(26)으로 낙하한 다음, 배출구(28)를 통하여 순차적으로 연마액받이(42)와 배출관(30)과 회수탱크(48)로 이동한 후, 상기 연마액은 연마액펌프(50)에 의해 재 공급되면서 순환되게 하는 것을 특징으로 한 분리 배출 기능을 갖는 폴리싱 장치.
    The method according to claim 5,
    The control unit 90 is connected to the x, y axis transfer device 12, 54, the polishing cylinder 68, the polishing motor 78, and the polishing liquid pump 50,
    When the y-axis feeder 12 operates by the command of the controller 90 to advance the lower table 10,
    The polishing liquid supplied from the polishing liquid pump 50 passes through the polishing portion 66 and is injected toward the workpiece fixed to the jig 24,
    The sprayed abrasive liquid drops to the bottom plate 26 of the lower table 10, and then moves to the abrasive liquid receiver 42, the discharge pipe 30, and the recovery tank 48 sequentially through the outlet 28. After that, the polishing liquid is circulated while being supplied again by the polishing liquid pump 50, the polishing apparatus having a separate discharge function.
  7. 청구항 6 에 있어서,
    상기 제어부(90)의 명령에 의해 y축이송장치(12)가 작동하면서 하부테이블(10)을 후진시키면, 상기 제어부(90)는 연마액 공급용 연마액펌프(50)의 작동을 중지시키게 되고,
    이후로 하부테이블(10) 내부를 청소하기 위해서 작업자가 워터건(88)으로 물을 분사하면,
    상기 분사된 물은 바닥판(26)으로 낙하하면서 배출구(28)를 통하여 순차적으로 물받이(44)와 배출관(32)과 물탱크(52)로 이동하게 되는 것을 특징으로 한 분리 배출 기능을 갖는 폴리싱 장치.
    The method according to claim 6,
    When the y-axis feeder 12 is operated by the command of the control unit 90 and the lower table 10 is moved backward, the control unit 90 stops the operation of the polishing liquid supply polishing liquid pump 50. ,
    Then, when the worker sprays water with the water gun 88 to clean the inside of the lower table 10,
    The sprayed water falls to the bottom plate 26 and is sequentially moved through the outlet 28 through the outlet 44, the discharge pipe 32, and the water tank 52. Device.
  8. 직사각형 모양의 테두리벽(36)과,
    상기 테두리벽(36) 하부에 경사지게 설치되는 바닥판(38)과,
    상기 테두리벽(36) 중앙에 수직으로 설치되면서 바닥판(38)에 용접되는 분리벽(40)과,
    상기 분리벽(40) 양측에 위치한 어느 하나의 공간 상부에 수평으로 설치되면서 슬러지를 걸르는 여과망(46)과,
    상기 분리벽(40)의 양측에 위치한 바닥판(38)에 각각 관통하여 설치되는 배출관(30,32),으로 트랩(34)을 구성하는 것을 특징으로 한 분리 배출 기능을 갖는 폴리싱 장치.






    Rectangular border wall 36,
    A bottom plate 38 installed inclined under the edge wall 36;
    A separation wall 40 welded to the bottom plate 38 while being vertically installed at the center of the edge wall 36;
    A filtering net 46 for filtering sludge while horizontally installed in an upper portion of any one space located at both sides of the separation wall 40;
    Polishing apparatus having a separate discharge function, characterized in that the trap (34) is constituted by discharge pipes (30, 32), which are respectively installed through the bottom plate (38) located on both sides of the separation wall (40).






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